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JP2016126348A - Optical laminate - Google Patents

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JP2016126348A
JP2016126348A JP2015256601A JP2015256601A JP2016126348A JP 2016126348 A JP2016126348 A JP 2016126348A JP 2015256601 A JP2015256601 A JP 2015256601A JP 2015256601 A JP2015256601 A JP 2015256601A JP 2016126348 A JP2016126348 A JP 2016126348A
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JP
Japan
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layer
meth
metal
group
resin
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Pending
Application number
JP2015256601A
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Japanese (ja)
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悠司 淺津
Yuji Asazu
悠司 淺津
智煕 柳
Zhi Xi Yu
智煕 柳
将司 藤長
Shoji Fujinaga
将司 藤長
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical laminate comprising a polarizing plate which can prevent the corrosion of a metal layer.SOLUTION: The present invention provides an optical laminate comprising a polarizing plate comprising a polarizer, an antistatic layer, an adhesive layer, and a metal-containing layer in the stated order. Preferably, the metal-containing layer comprises at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, iron, tin, nickel and indium.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、偏光板を含む光学積層体に関する。   The present invention relates to an optical laminate including a polarizing plate.

近年、スマートフォンやタブレット型携帯情報端末等を中心に、タッチ入力式の液晶表示装置が急速に普及してきている。タッチ入力式液晶表示装置には各種の方式があり、その一例は、液晶セルの視認側にタッチ入力素子を積層し、その上に偏光板を配置することによってタッチ入力素子を液晶パネル内に組み込んだ、いわゆる「オンセル」方式である(例えば特許文献1)。   2. Description of the Related Art In recent years, touch-input type liquid crystal display devices are rapidly spreading mainly in smartphones and tablet-type portable information terminals. There are various types of touch input type liquid crystal display devices. For example, a touch input element is stacked on the viewing side of a liquid crystal cell, and a polarizing plate is disposed on the touch input element. However, it is a so-called “on-cell” system (for example, Patent Document 1).

特開2012−043394号公報JP 2012-043394 A

オンセル方式のタッチ入力式液晶表示装置に用いられるタッチ入力素子も含めて、一般的に、タッチ入力素子は、2枚の光透過性基材のそれぞれ表面にスズドープ酸化インジウム(ITO)からなる透明導電膜を設け、これらをスペーサーを介して、透明導電膜同士が対向するように配置して形成されている。しかし、近年のインジウム価格の高騰や、透明導電膜の低抵抗化の要求を反映して、ITOの代替技術が求められている。代替技術の一つとして、メタルメッシュの開発が進められている。メタルメッシュは、透明基板上にメタルをメッシュ状に微細に加工して形成される。メタルメッシュは、優れた導電率及び透光性を有するとともに、タッチ入力素子の製造コストを低減できるため、次世代透明導電膜として注目が高まっている。   In general, including touch input elements used in on-cell touch input type liquid crystal display devices, the touch input elements are transparent conductive materials made of tin-doped indium oxide (ITO) on the surfaces of two light-transmitting substrates. A film is provided, and these are formed so that the transparent conductive films face each other with a spacer interposed therebetween. However, reflecting the recent increase in price of indium and the demand for lower resistance of the transparent conductive film, an alternative technology for ITO is required. Development of metal mesh is underway as one of the alternative technologies. The metal mesh is formed by finely processing a metal into a mesh shape on a transparent substrate. The metal mesh has excellent electrical conductivity and translucency, and can reduce the manufacturing cost of the touch input element, and thus has attracted attention as a next-generation transparent conductive film.

一方、本発明者らは、タッチ入力素子において、透明導電膜としてITOに代えてメタルメッシュからなる金属含有層を使用すると、タッチ入力式液晶表示装置の使用に伴い、金属含有層が腐食するという新たな課題を見出した。腐食のうちでも孔食は、メタルメッシュに対して、断線などの大きな影響を与える。   On the other hand, in the touch input element, when using a metal-containing layer made of a metal mesh instead of ITO as the transparent conductive film, the metal-containing layer corrodes with the use of the touch-input type liquid crystal display device. I found a new problem. Among corrosion, pitting corrosion has a great influence on the metal mesh, such as disconnection.

本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、偏光板を含む光学積層体であって、金属含有層の腐食を防止できる光学積層体を提供することである。   This invention is made | formed in view of the said subject, The objective is an optical laminated body containing a polarizing plate, Comprising: It is providing the optical laminated body which can prevent corrosion of a metal containing layer.

本発明は、以下に示す光学積層体を提供する。
[1] 偏光子を含む偏光板と、帯電防止層と、粘着剤層と、金属含有層とを前記の順で含む、光学積層体。
The present invention provides the following optical laminate.
[1] An optical laminate including a polarizing plate including a polarizer, an antistatic layer, an adhesive layer, and a metal-containing layer in the order described above.

[2] 前記金属含有層は、アルミニウム、銅、銀、鉄、スズ、ニッケル及びインジウムからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含む、[1]に記載の光学積層体。   [2] The optical laminate according to [1], wherein the metal-containing layer includes at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, iron, tin, nickel, and indium.

[3] 前記粘着剤層と前記金属含有層との間に、オーバーコート層をさらに備える、[1]又は[2]に記載の光学積層体。   [3] The optical laminate according to [1] or [2], further comprising an overcoat layer between the pressure-sensitive adhesive layer and the metal-containing layer.

本発明によれば、金属含有層の腐食を防止できる光学積層体を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the optical laminated body which can prevent the corrosion of a metal containing layer.

本発明に係る光学積層体の層構成の一例を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically an example of the layer structure of the optical laminated body which concerns on this invention. 本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically another example of the layer structure of the optical laminated body which concerns on this invention. 本発明に係る光学積層体の層構成のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically another example of the layer structure of the optical laminated body which concerns on this invention.

[光学積層体]
(1)光学積層体の構成
図1に示されるように、本発明の一実施形態である光学積層体400は、偏光子11を含む偏光板10と、帯電防止層30と、粘着剤層40と、金属含有層60とを前記の順で含む。なお、光学積層体400は、金属含有層60の粘着剤層40の積層された表面と反対側の表面上に配置された透光性基板70を含むことができる。光学積層体400は、偏光板10と、帯電防止層30と、粘着剤層40とを含む、粘着剤層付帯電防止性偏光板300の粘着剤層40を、透光性基板70の表面に形成された金属含有層60の表面に貼り合わせて形成することができる。この光学積層体400において金属含有層60は、透光性基板70の全面にわたって形成されている。帯電防止性偏光板100は、偏光板10と、その一方の表面に積層される帯電防止層30とを備えるものである。
[Optical laminate]
(1) Configuration of Optical Laminate As shown in FIG. 1, an optical laminate 400 according to an embodiment of the present invention includes a polarizing plate 10 including a polarizer 11, an antistatic layer 30, and an adhesive layer 40. And the metal-containing layer 60 in the order described above. In addition, the optical laminated body 400 can contain the translucent board | substrate 70 arrange | positioned on the surface on the opposite side to the surface where the adhesive layer 40 of the metal containing layer 60 was laminated | stacked. The optical layered body 400 includes the pressure-sensitive adhesive layer 40 of the antistatic polarizing plate 300 with the pressure-sensitive adhesive layer including the polarizing plate 10, the antistatic layer 30, and the pressure-sensitive adhesive layer 40 on the surface of the translucent substrate 70. It can be formed by bonding to the surface of the formed metal-containing layer 60. In the optical laminated body 400, the metal-containing layer 60 is formed over the entire surface of the translucent substrate 70. The antistatic polarizing plate 100 includes a polarizing plate 10 and an antistatic layer 30 laminated on one surface thereof.

また、図2に示されるように、光学積層体500は、粘着剤層40と金属含有層60との間に、オーバーコート層50を含んでいてもよい。この場合、光学積層体500は、粘着剤層付帯電防止性偏光板300の粘着剤層40を、金属含有層60の表面に積層されたオーバーコート層50の表面に貼り合わせて形成することができる。この光学積層体500において金属含有層60は透光性基材70の全面にわたって形成されている。   In addition, as shown in FIG. 2, the optical laminate 500 may include an overcoat layer 50 between the pressure-sensitive adhesive layer 40 and the metal-containing layer 60. In this case, the optical layered body 500 may be formed by bonding the pressure-sensitive adhesive layer 40 of the antistatic polarizing plate 300 with the pressure-sensitive adhesive layer to the surface of the overcoat layer 50 laminated on the surface of the metal-containing layer 60. it can. In the optical laminated body 500, the metal-containing layer 60 is formed over the entire surface of the translucent substrate 70.

偏光板10の他方の表面、すなわち帯電防止層30とは反対側の表面は、特に限定されないが、例えば、さらに帯電防止層31が積層されていてもよい。   The other surface of the polarizing plate 10, that is, the surface opposite to the antistatic layer 30, is not particularly limited. For example, an antistatic layer 31 may be further laminated.

(2)偏光板
偏光板10とは、少なくとも偏光子11を含む偏光素子であり、通常はその片面又は両面に貼合される保護フィルム21,22をさらに含む。図示を省略しているが、偏光子11と保護フィルム21,22との貼合は、接着剤を用いて行うことができる。
(2) Polarizing plate The polarizing plate 10 is a polarizing element including at least the polarizer 11, and usually further includes protective films 21 and 22 bonded to one or both sides thereof. Although illustration is abbreviate | omitted, bonding with the polarizer 11 and the protective films 21 and 22 can be performed using an adhesive agent.

偏光板10は、保護フィルム21,22に加えて、偏光子11とは異なる光学機能を有するフィルムのような他の光学フィルムや、光学層のようなフィルム上に付加される層を含むこともできる。保護フィルムを含む各種光学フィルムは、接着剤層又は粘着剤を介して貼合することができる。   In addition to the protective films 21 and 22, the polarizing plate 10 may include other optical films such as a film having an optical function different from that of the polarizer 11, and a layer added on the film such as an optical layer. it can. Various optical films including a protective film can be bonded via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive.

(2−1)偏光子
偏光子11は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する(透過軸と平行な)振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する吸収型の偏光子であることができ、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させた偏光フィルムを好適に用いることができる。偏光子11は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程;ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程;二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程;及び、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を含む方法によって製造できる。
(2-1) Polarizer The polarizer 11 absorbs linearly polarized light having a vibration plane parallel to the absorption axis and transmits linearly polarized light having a vibration plane orthogonal to the absorption axis (parallel to the transmission axis). A polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin film can be suitably used. The polarizer 11 is, for example, a step of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol resin film; a step of adsorbing a dichroic dye by dyeing the polyvinyl alcohol resin film with a dichroic dye; and a dichroic dye adsorbed It can be produced by a method comprising a step of treating a polyvinyl alcohol resin film with an aqueous boric acid solution; and a step of washing with water after the treatment with the boric acid aqueous solution.

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体の例は、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド類等を含む。   As the polyvinyl alcohol resin, a saponified polyvinyl acetate resin can be used. Examples of the polyvinyl acetate resin include, in addition to polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, copolymers with other monomers copolymerizable with vinyl acetate. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, (meth) acrylamides having ammonium groups, and the like.

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は通常、85〜100mol%程度であり、98mol%以上が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は通常、1000〜10000程度であり、1500〜5000程度が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726に準拠して求めることができる。   The saponification degree of the polyvinyl alcohol resin is usually about 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol resin is usually about 1000 to 10000, preferably about 1500 to 5000. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol resin can be determined according to JIS K 6726.

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光子11(偏光フィルム)の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が採用される。ポリビニルアルコール系原反フィルムの厚みは、例えば10〜150μm程度である。   What formed such a polyvinyl alcohol-type resin into a film is used as a raw film of the polarizer 11 (polarizing film). The method for forming the polyvinyl alcohol-based resin into a film is not particularly limited, and a known method is employed. The thickness of the polyvinyl alcohol-based raw film is, for example, about 10 to 150 μm.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前又はホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。   Uniaxial stretching of the polyvinyl alcohol-based resin film can be performed before, simultaneously with, or after dyeing the dichroic dye. When uniaxial stretching is performed after dyeing, this uniaxial stretching may be performed before boric acid treatment or during boric acid treatment. Moreover, you may uniaxially stretch in these several steps.

一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤や水を用いてポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は通常、3〜8倍程度である。   In uniaxial stretching, it may be uniaxially stretched between rolls having different peripheral speeds, or may be uniaxially stretched using a hot roll. Further, the uniaxial stretching may be dry stretching in which stretching is performed in the air, or may be wet stretching in which stretching is performed in a state where a polyvinyl alcohol-based resin film is swollen using a solvent or water. The draw ratio is usually about 3 to 8 times.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、該フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としては、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。   As a method for dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye, for example, a method of immersing the film in an aqueous solution containing the dichroic dye is employed. As the dichroic dye, iodine or a dichroic organic dye is used. In addition, it is preferable that the polyvinyl alcohol-type resin film performs the immersion process to water before a dyeing process.

ヨウ素による染色処理としては通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水100重量部あたり0.01〜1重量部程度であることができる。ヨウ化カリウムの含有量は、水100重量部あたり0.5〜20重量部程度であることができる。また、この水溶液の温度は、20〜40℃程度であることができる。一方、二色性有機染料による染色処理としては通常、二色性有機染料を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法が採用される。二色性有機染料を含有する水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含有していてもよい。この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水100重量部あたり1×10-4〜10重量部程度であることができる。この水溶液の温度は、20〜80℃程度であることができる。 As the dyeing treatment with iodine, a method of immersing a polyvinyl alcohol resin film in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide is usually employed. The iodine content in the aqueous solution can be about 0.01 to 1 part by weight per 100 parts by weight of water. The content of potassium iodide can be about 0.5 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of water. Moreover, the temperature of this aqueous solution can be about 20-40 degreeC. On the other hand, as a dyeing treatment with a dichroic organic dye, a method of immersing a polyvinyl alcohol-based resin film in an aqueous solution containing a dichroic organic dye is usually employed. The aqueous solution containing the dichroic organic dye may contain an inorganic salt such as sodium sulfate as a dyeing assistant. The content of the dichroic organic dye in this aqueous solution can be about 1 × 10 −4 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of water. The temperature of the aqueous solution can be about 20 to 80 ° C.

二色性色素による染色後のホウ酸処理としては通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液は、ヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の量は、水100重量部あたり2〜15重量部程度であることができる。この水溶液におけるヨウ化カリウムの量は、水100重量部あたり0.1〜15重量部程度であることができる。この水溶液の温度は、50℃以上であることができ、例えば50〜85℃である。   As boric acid treatment after dyeing with a dichroic dye, a method of immersing a dyed polyvinyl alcohol-based resin film in a boric acid-containing aqueous solution is usually employed. When iodine is used as the dichroic dye, the boric acid-containing aqueous solution preferably contains potassium iodide. The amount of boric acid in the boric acid-containing aqueous solution can be about 2 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of water. The amount of potassium iodide in this aqueous solution can be about 0.1 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of water. The temperature of this aqueous solution can be 50 ° C. or higher, for example, 50 to 85 ° C.

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬することにより行うことができる。水洗処理における水の温度は通常、5〜40℃程度である。   The polyvinyl alcohol resin film after the boric acid treatment is usually washed with water. The water washing treatment can be performed, for example, by immersing a boric acid-treated polyvinyl alcohol resin film in water. The temperature of water in the water washing treatment is usually about 5 to 40 ° C.

水洗後に乾燥処理を施して、偏光子11が得られる。乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。偏光子11の厚みは、帯電防止性偏光板の薄型化の観点から、25μm以下であることが好ましく、15μm以下であることがより好ましく、10μm以下であることがさらに好ましい。偏光子11の厚みは通常、2μm以上である。   A polarizer 11 is obtained by performing a drying process after washing with water. The drying process can be performed using a hot air dryer or a far infrared heater. The thickness of the polarizer 11 is preferably 25 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 10 μm or less from the viewpoint of reducing the thickness of the antistatic polarizing plate. The thickness of the polarizer 11 is usually 2 μm or more.

偏光子11は、基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、乾燥させてポリビニルアルコール系樹脂層を形成し、このポリビニルアルコール系樹脂層が形成された基材フィルムをポリビニルアルコール系樹脂層と共に延伸し、次いで二色性色素による染色処理を施し、基材フィルムを剥離除去する方法によっても、製造することができる。基材フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などの熱可塑性樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。延伸処理は通常、一軸延伸である。この方法は、厚みの薄い、例えば厚み7μm以下の偏光子を容易に作製し得る点で、好ましい。   The polarizer 11 is a base film in which a coating liquid containing a polyvinyl alcohol resin is applied on a base film and dried to form a polyvinyl alcohol resin layer, and the polyvinyl alcohol resin layer is formed. Can also be produced by a method of stretching the film together with the polyvinyl alcohol-based resin layer, then performing a dyeing treatment with a dichroic dye, and peeling and removing the base film. Examples of the base film include thermoplastic resins such as polyester resins such as polyethylene terephthalate, polycarbonate resins, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyolefin resins such as norbornene resins, and thermoplastic resins such as polystyrene resins. A film can be used. The stretching process is usually uniaxial stretching. This method is preferable in that a polarizer having a small thickness, for example, a thickness of 7 μm or less can be easily produced.

(2−2)保護フィルム
偏光子11の片面又は両面に積層することができる保護フィルム21,22は、透光性を有する(好ましくは光学的に透明な)熱可塑性樹脂、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂(ポリプロピレン系樹脂等)、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂等)のようなポリオレフィン系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;メタクリル酸メチル系樹脂のような(メタ)アクリル系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリ塩化ビニル系樹脂;アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂;アクリロニトリル・スチレン系樹脂;ポリ酢酸ビニル系樹脂;ポリ塩化ビニリデン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリアセタール系樹脂;変性ポリフェニレンエーテル系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリアミドイミド系樹脂;ポリイミド系樹脂等からなるフィルムであることができる。なお本明細書において「(メタ)アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂及びメタクリル系樹脂よりなる群から選ばれる少なくとも1種を表す。その他の「(メタ)」を付した用語においても同様である。
(2-2) Protective Film The protective films 21 and 22 that can be laminated on one or both sides of the polarizer 11 are light-transmitting (preferably optically transparent) thermoplastic resins such as chain polyolefins. -Based resins (polypropylene resins, etc.), polyolefin-based resins such as cyclic polyolefin resins (norbornene-based resins, etc.); cellulose-based resins such as triacetyl cellulose and diacetyl cellulose; Resin; Polycarbonate resin; (Meth) acrylic resin such as methyl methacrylate resin; Polystyrene resin; Polyvinyl chloride resin; Acrylonitrile butadiene styrene resin; Acrylonitrile styrene resin; Polyvinyl acetate resin ; Po Vinylidene chloride resin; polyamide resin; polyacetal resin; modified polyphenylene ether resin; polysulfone resin; polyethersulfone resin; polyarylate resin; polyamideimide resin; Can do. In this specification, “(meth) acrylic resin” represents at least one selected from the group consisting of acrylic resins and methacrylic resins. The same applies to other terms with “(meta)”.

鎖状ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂のような鎖状オレフィンの単独重合体のほか、2種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体を挙げることができる。   Examples of the chain polyolefin-based resin include a homopolymer of a chain olefin such as a polyethylene resin and a polypropylene resin, and a copolymer composed of two or more chain olefins.

環状ポリオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称である。環状ポリオレフィン系樹脂の具体例を挙げれば、環状オレフィンの開環(共)重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレンのような鎖状オレフィンとの共重合体(代表的にはランダム共重合体)、及びこれらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、並びにそれらの水素化物等である。中でも、環状オレフィンとしてノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等のノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂が好ましく用いられる。   Cyclic polyolefin resin is a general term for resins that are polymerized using a cyclic olefin as a polymerization unit. Specific examples of cyclic polyolefin resins include ring-opening (co) polymers of cyclic olefins, addition polymers of cyclic olefins, copolymers of cyclic olefins and chain olefins such as ethylene and propylene (typically Are random copolymers), graft polymers obtained by modifying them with unsaturated carboxylic acids or derivatives thereof, and hydrides thereof. Among these, norbornene resins using norbornene monomers such as norbornene and polycyclic norbornene monomers as cyclic olefins are preferably used.

セルロース系樹脂とは、綿花リンタや木材パルプ(広葉樹パルプ、針葉樹パルプ)等の原料セルロースから得られるセルロースの水酸基における水素原子の一部又は全部がアセチル基、プロピオニル基及び/又はブチリル基で置換された、セルロース有機酸エステル又はセルロース混合有機酸エステルをいう。例えば、セルロースの酢酸エステル、プロピオン酸エステル、酪酸エステル、及びそれらの混合エステル等からなるものが挙げられる。中でも、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましい。   Cellulosic resins are those in which some or all of the hydrogen atoms in the hydroxyl groups of cellulose obtained from raw material cellulose such as cotton linter and wood pulp (hardwood pulp, conifer pulp) are substituted with acetyl groups, propionyl groups and / or butyryl groups. Further, it refers to a cellulose organic acid ester or a cellulose mixed organic acid ester. For example, cellulose acetate, propionate, butyrate, and mixed esters thereof can be used. Among these, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate are preferable.

(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル系モノマー由来の構成単位を含む重合体である。該重合体は、典型的にはメタクリル酸エステルを含む重合体である。好ましくはメタクリル酸エステルに由来する構成単位の割合が、全構成単位に対して、50重量%以上含む重合体である。(メタ)アクリル系樹脂は、メタクリル酸エステルの単独重合体であってもよいし、他の重合性モノマー由来の構成単位を含む共重合体であってもよい。この場合、他の重合性モノマー由来の構成単位の割合は、好ましくは全構成単位に対して、50%以下である。   The (meth) acrylic resin is a polymer containing a structural unit derived from a (meth) acrylic monomer. The polymer is typically a polymer containing a methacrylic acid ester. Preferably, it is a polymer in which the proportion of structural units derived from methacrylic acid esters is 50% by weight or more based on the total structural units. The (meth) acrylic resin may be a methacrylic acid ester homopolymer or a copolymer containing structural units derived from other polymerizable monomers. In this case, the proportion of structural units derived from other polymerizable monomers is preferably 50% or less with respect to the total structural units.

(メタ)アクリル系樹脂を構成し得るメタクリル酸エステルとしては、メタクリル酸アルキルエステルが好ましい。メタクリル酸アルキルエステルとしては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチルのようなアルキル基の炭素数が1〜8であるメタクリル酸アルキルエステルが挙げられる。メタクリル酸アルキルエステルに含まれるアルキル基の炭素数は、好ましくは1〜4である。(メタ)アクリル系樹脂において、メタクリル酸エステルは、1種のみを単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。   The methacrylic acid ester that can constitute the (meth) acrylic resin is preferably an alkyl methacrylate. Examples of alkyl methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate. And alkyl methacrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group, such as 2-hydroxyethyl methacrylate. Carbon number of the alkyl group contained in the methacrylic acid alkyl ester is preferably 1 to 4. In the (meth) acrylic resin, methacrylic acid esters may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル系樹脂を構成し得る上記他の重合性モノマーとしては、アクリル酸エステル、及びその他の分子内に重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物を挙げることができる。他の重合性モノマーは、1種のみを単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。アクリル酸エステルとしては、アクリル酸アルキルエステルが好ましい。アクリル酸アルキルエステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2−ヒドロキシエチルのようなアルキル基の炭素数が1〜8であるアクリル酸アルキルエステルなどが挙げられる。アクリル酸アルキルエステルに含まれるアルキル基の炭素数は、好ましくは1〜4である。(メタ)アクリル系樹脂において、アクリル酸エステルは、1種のみを単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。   As said other polymerizable monomer which can comprise a (meth) acrylic-type resin, the compound which has a polymerizable carbon-carbon double bond in an acrylate ester and another molecule | numerator can be mentioned. Other polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more. As the acrylic acid ester, an acrylic acid alkyl ester is preferable. Examples of the alkyl acrylate ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and cyclohexyl acrylate. And alkyl acrylates having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate. Carbon number of the alkyl group contained in the acrylic acid alkyl ester is preferably 1 to 4. In the (meth) acrylic resin, acrylic acid esters may be used alone or in combination of two or more.

その他の分子内に重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、エチレン、プロピレン、スチレン等のビニル系化合物や、アクリロニトリルのようなビニルシアン化合物が挙げられる。その他の分子内に重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物は、1種のみを単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。   Other compounds having a polymerizable carbon-carbon double bond in the molecule include vinyl compounds such as ethylene, propylene and styrene, and vinylcyan compounds such as acrylonitrile. Other compounds having a polymerizable carbon-carbon double bond in the molecule may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル樹脂は、保護フィルムの耐久性を高め得ることから、主鎖に環構造を有していてもよい。環構造は、無水グルタル酸構造及び無水コハク酸構造等の環状酸無水物構造;グルタルイミド構造及びコハクイミド構造等の環状イミド構造;ブチロラクトン及びバレロラクトン等ラクトン環構造等が好ましい。   Since the (meth) acrylic resin can improve the durability of the protective film, the main chain may have a ring structure. The ring structure is preferably a cyclic acid anhydride structure such as a glutaric anhydride structure and a succinic anhydride structure; a cyclic imide structure such as a glutarimide structure and a succinimide structure; a lactone ring structure such as butyrolactone and valerolactone.

保護フィルム21,22は、位相差フィルムのような光学機能を併せ持つ保護フィルムであることもできる。例えば、上記熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸(一軸延伸又は二軸延伸等)したり、該フィルム上に液晶層等を形成したりすることにより、任意の位相差値が付与された位相差フィルムとすることができる。また、位相差発現層の少なくとも一方に熱可塑性樹脂(例えば、(メタ)アクリル樹脂)を積層し、延伸したものも位相差フィルムとすることもできる。保護フィルム21,22の少なくともいずれか一方は、その外面(偏光子11とは反対側の面)に、ハードコート層、防眩層、光拡散層、位相差層(1/4波長の位相差値を持つ位相差層等)、反射防止層、防汚層のような表面処理層(コーティング層)又は光学層を備えるものであってもよい。   The protective films 21 and 22 can also be protective films having an optical function such as a retardation film. For example, a retardation film provided with an arbitrary retardation value by stretching a film made of the thermoplastic resin (uniaxial stretching or biaxial stretching) or by forming a liquid crystal layer or the like on the film. It can be. A retardation film can also be obtained by laminating a thermoplastic resin (for example, (meth) acrylic resin) on at least one of the retardation developing layers and stretching it. At least one of the protective films 21 and 22 has a hard coat layer, an antiglare layer, a light diffusing layer, a retardation layer (a quarter wavelength retardation) on the outer surface (the surface opposite to the polarizer 11). A retardation layer having a value), an antireflection layer, a surface treatment layer (coating layer) such as an antifouling layer, or an optical layer.

保護フィルム21,22の厚みは1〜100μm程度であることができるが、強度や取扱性等の観点から5〜60μmであることが好ましく、5〜50μmであることがより好ましい。この範囲内の厚みであれば、偏光子11を機械的に保護し、湿熱環境下に曝されても偏光子11が収縮せず、安定した光学特性を保つことができる。   Although the thickness of the protective films 21 and 22 can be about 1-100 micrometers, it is preferable that it is 5-60 micrometers from viewpoints, such as intensity | strength and handleability, and it is more preferable that it is 5-50 micrometers. When the thickness is within this range, the polarizer 11 is mechanically protected, and the polarizer 11 does not contract even when exposed to a moist heat environment, and stable optical characteristics can be maintained.

保護フィルムは、偏光子11の片面のみに貼合されていてもよいし、偏光子11の両面に貼合されていてもよい。   The protective film may be bonded to only one surface of the polarizer 11 or may be bonded to both surfaces of the polarizer 11.

偏光子11の両面に保護フィルム21,22が貼合される場合においてこれらの保護フィルムは、同種の熱可塑性樹脂で構成されていてもよいし、異種の熱可塑性樹脂で構成されていてもよい。また、厚みが同じであってもよいし、異なっていてもよい。さらに、同じ位相差特性を有していてもよいし、異なる位相差特性を有していてもよい。   In the case where the protective films 21 and 22 are bonded to both surfaces of the polarizer 11, these protective films may be made of the same kind of thermoplastic resin or different kinds of thermoplastic resins. . Moreover, the thickness may be the same or different. Furthermore, they may have the same phase difference characteristics or different phase difference characteristics.

保護フィルム21,22は、例えば接着剤層を介して偏光子11に貼合することができる。接着剤層を形成する接着剤としては、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤又は熱硬化性接着剤を用いることができ、好ましくは水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤である。   The protective films 21 and 22 can be bonded to the polarizer 11 through an adhesive layer, for example. As the adhesive forming the adhesive layer, a water-based adhesive, an active energy ray-curable adhesive, or a thermosetting adhesive can be used, and a water-based adhesive and an active energy ray-curable adhesive are preferable.

水系接着剤としては、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂やウレタン樹脂を用いた接着剤組成物が挙げられる。   Examples of the water-based adhesive include an adhesive composition using a polyvinyl alcohol resin or a urethane resin as a main component.

水系接着剤の主成分としてポリビニルアルコール系樹脂を用いる場合、ポリビニルアルコール系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体などが例示される。酢酸ビニルに共重合される他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン、ビニルエーテル、アンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。接着剤に用いられるポリビニルアルコール系樹脂は、適度の重合度を有していることが好ましく、例えば、4重量%濃度の水溶液としたときに、粘度が4〜50mPa・secの範囲内、さらには6〜30mPa・secの範囲内にあることがより好ましい。   When a polyvinyl alcohol resin is used as the main component of the water-based adhesive, the polyvinyl alcohol resin is a vinyl alcohol homopolymer obtained by saponifying polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, Examples thereof include copolymers with other monomers that can be copolymerized. Examples of other monomers copolymerized with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acid, unsaturated sulfonic acid, olefin, vinyl ether, and (meth) acrylamide having an ammonium group. The polyvinyl alcohol resin used for the adhesive preferably has an appropriate degree of polymerization. For example, when the aqueous solution has a concentration of 4% by weight, the viscosity is in the range of 4 to 50 mPa · sec. More preferably, it is in the range of 6 to 30 mPa · sec.

また、変性されたポリビニルアルコール系樹脂も好ましく用いることができる。好適な変性ポリビニルアルコール系樹脂として、アセトアセチル基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、アニオン変性されたポリビニルアルコール系樹脂、カチオン変性されたポリビニルアルコール系樹脂などが挙げられる。このような変性されたポリビニルアルコール系樹脂を用いれば、接着剤層の耐水性を向上させる効果が得られやすい。   A modified polyvinyl alcohol resin can also be preferably used. Suitable modified polyvinyl alcohol resins include acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol resins, anion-modified polyvinyl alcohol resins, and cation-modified polyvinyl alcohol resins. If such a modified polyvinyl alcohol resin is used, the effect of improving the water resistance of the adhesive layer can be easily obtained.

本発明に用いられる水系接着剤はもちろん、上記した変性ポリビニルアルコール系樹脂を2種以上含むものであってもよく、また、未変性のポリビニルアルコール系樹脂(具体的には、ポリ酢酸ビニルの完全又は部分ケン化物)及び上記した変性ポリビニルアルコール系樹脂の両方を含むものであってもよい。   Of course, the water-based adhesive used in the present invention may contain two or more kinds of the above-mentioned modified polyvinyl alcohol resins, and may be an unmodified polyvinyl alcohol resin (specifically, a complete polyvinyl acetate resin). Or a partially saponified product) and the modified polyvinyl alcohol resin described above.

水系接着剤を構成するポリビニルアルコール系樹脂は、市販品の中から適宜選択して使用することができる。具体的には、例えば、(株)クラレから販売されている“PVA−117H”、“KL−318、“KM−118”及び“CM−318”、日本合成化学工業(株)から販売されている“ゴーセノール NH−20”、“ゴーセファイマーZ”シリーズ、“ゴーセファイマー K−210”及び“ゴーセナール T−330”(以上、いずれも商品名)などを挙げることができる。   The polyvinyl alcohol resin constituting the water-based adhesive can be appropriately selected from commercially available products. Specifically, for example, “PVA-117H”, “KL-318”, “KM-118” and “CM-318” sold by Kuraray Co., Ltd., sold by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Examples include “GOHSENOL NH-20”, “GOHSEPHIMER Z” series, “GOHSEPIMAR K-210” and “GOHSENAL T-330” (all are trade names).

ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする水系接着剤には、架橋剤を含有させることができる。架橋剤となりうる化合物を官能基別に掲げると、イソシアナト基(−NCO)を分子内に少なくとも2個有するイソシアネート化合物;エポキシ基(橋かけの−O−)を分子内に少なくとも2個有するエポキシ化合物;モノ−又はジ−アルデヒド;有機チタン化合物;マグネシウム、カルシウム、鉄、ニッケル、亜鉛及びアルミニウムの如き二価又は三価金属の無機塩;グリオキシル酸の金属塩;メチロールメラミンなどがある。   A water-based adhesive mainly composed of a polyvinyl alcohol resin can contain a crosslinking agent. When compounds capable of forming a crosslinking agent are listed by functional group, an isocyanate compound having at least two isocyanato groups (—NCO) in the molecule; an epoxy compound having at least two epoxy groups (crosslinked —O—) in the molecule; Mono- or di-aldehydes; organic titanium compounds; inorganic salts of divalent or trivalent metals such as magnesium, calcium, iron, nickel, zinc and aluminum; metal salts of glyoxylic acid; methylol melamine.

これらの架橋剤のなかでも、上述した水溶性のポリアミドエポキシ樹脂をはじめとするエポキシ化合物や、アルデヒド類、メチロールメラミン、グリオキシル酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩などが好適に用いられる。   Among these crosslinking agents, epoxy compounds including the above-mentioned water-soluble polyamide epoxy resins, aldehydes, methylol melamine, alkali metal or alkaline earth metal salts of glyoxylic acid, and the like are preferably used.

架橋剤は、ポリビニルアルコール系樹脂とともに水に溶解して接着剤を形成していることが好ましい。ただ、以下に述べるとおり、水溶液中での架橋剤量はわずかでよいので、水に対して例えば、少なくとも0.1重量%程度の溶解度を有するものであれば、架橋剤として使用できる。もちろん、一般に水溶性と呼ばれる程度の水に対する溶解度を有する化合物のほうが、本発明に用いる架橋剤としては好適である。   The crosslinking agent is preferably dissolved in water together with the polyvinyl alcohol resin to form an adhesive. However, since the amount of the crosslinking agent in the aqueous solution may be small as described below, any crosslinking agent having a solubility of, for example, at least about 0.1% by weight in water can be used. Of course, a compound having a solubility in water of a level generally called water solubility is more suitable as a crosslinking agent used in the present invention.

架橋剤の配合量は、ポリビニルアルコール系樹脂の種類などに応じて適宜設計されるものであるが、ポリビニルアルコール系樹脂100重量部に対して、通常5〜60重量部程度、好ましくは10〜50重量部である。この範囲で架橋剤を配合すると、良好な接着性が得られる。架橋剤の配合量が多くなりすぎると、架橋剤の反応が短時間で進行し、接着剤が早期にゲル化する傾向にあり、その結果、ポットライフが極端に短くなって工業的な使用が困難になる。   The amount of the crosslinking agent is appropriately designed according to the type of the polyvinyl alcohol resin and the like, but is usually about 5 to 60 parts by weight, preferably 10 to 50 parts per 100 parts by weight of the polyvinyl alcohol resin. Parts by weight. When the crosslinking agent is blended within this range, good adhesiveness can be obtained. If the amount of the cross-linking agent is too large, the reaction of the cross-linking agent proceeds in a short time and the adhesive tends to gel early, resulting in extremely short pot life and industrial use. It becomes difficult.

水系接着剤には、本発明の効果を阻害しない範囲で、例えば、シランカップリング剤、可塑剤、帯電防止剤、微粒子など、従来公知の適宜の添加剤を配合することもできる。   In the water-based adhesive, conventionally known appropriate additives such as a silane coupling agent, a plasticizer, an antistatic agent, and fine particles can be blended as long as the effects of the present invention are not impaired.

水系接着剤の主成分としてウレタン樹脂を用いる場合、適当な接着剤の例として、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とグリシジルオキシ基を有する化合物との混合物を挙げることができる。ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂は、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分(親水成分)が導入されたものである。かかるアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに直接、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系接着剤に好適に用いられる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を偏光子と保護フィルムの間の接着剤層に用いることは、例えば、特開2005−070140号公報、特許第4432487号公報及び特開2005−208456号公報に記載されている。   When a urethane resin is used as the main component of the water-based adhesive, an example of a suitable adhesive is a mixture of a polyester ionomer type urethane resin and a compound having a glycidyloxy group. The polyester ionomer type urethane resin here is a urethane resin having a polyester skeleton, into which a small amount of ionic component (hydrophilic component) is introduced. Such an ionomer type urethane resin is suitably used for an aqueous adhesive because it is emulsified directly in water without using an emulsifier to form an emulsion. The use of a polyester-based ionomer type urethane resin in an adhesive layer between a polarizer and a protective film is described in, for example, JP-A-2005-070140, JP-A-4432487, and JP-A-2005-208456. Yes.

上記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することで硬化する接着剤をいう。硬化性接着剤は、その硬化様式により分類すると、上記硬化性化合物としてカチオン重合性化合物を含むカチオン重合型接着剤、上記硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含むラジカル重合型接着剤、カチオン重合性化合物及びラジカル重合性化合物の双方を含むハイブリッド型硬化性接着剤等が挙げられる。カチオン重合性化合物の具体例は、分子内に1個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、分子内に1個以上のオキセタン環を有するオキセタン化合物、ビニル化合物を含む。また、ラジカル重合性化合物の具体例は、分子内に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系化合物、ビニル化合物を含む。活性エネルギー線硬化性接着剤には、本発明の効果を阻害しない範囲で、増感剤、増感助剤、レベリング剤、シランカップリング剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、熱重合開始剤などの従来公知の適宜の添加剤を配合することができる。   The active energy ray-curable adhesive refers to an adhesive that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. The curable adhesive is classified according to its curing mode, a cationic polymerization adhesive containing a cationic polymerizable compound as the curable compound, a radical polymerizable adhesive containing a radical polymerizable compound as the curable compound, and cationic polymerizable. Examples thereof include a hybrid curable adhesive containing both a compound and a radical polymerizable compound. Specific examples of the cationically polymerizable compound include an epoxy compound having one or more epoxy groups in the molecule, an oxetane compound having one or more oxetane rings in the molecule, and a vinyl compound. Specific examples of the radical polymerizable compound include a (meth) acrylic compound and a vinyl compound having one or more (meth) acryloyl groups in the molecule. The active energy ray-curable adhesive has a sensitizer, a sensitization aid, a leveling agent, a silane coupling agent, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a thermal polymerization initiator, etc., as long as the effects of the present invention are not impaired. Conventionally known appropriate additives can be blended.

活性エネルギー線硬化性接着剤を用いる場合は、偏光子11と保護フィルム21,22とを貼合した後、必要に応じて乾燥工程を行い、次いで活性エネルギー線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤を硬化させる硬化工程を行う。従って、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いる場合、接着剤層はその硬化物層である。活性エネルギー線の光源は特に限定されないが、波長400nm以下に発光分布を有する紫外線が好ましく、具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等を用いることができる。   When using an active energy ray-curable adhesive, the polarizer 11 and the protective films 21 and 22 are bonded together, and then a drying process is performed as necessary, followed by irradiation with active energy rays to cure the active energy ray. A curing step for curing the adhesive is performed. Therefore, when an active energy ray-curable adhesive is used, the adhesive layer is the cured product layer. The light source of the active energy ray is not particularly limited, but ultraviolet light having a light emission distribution at a wavelength of 400 nm or less is preferable. A wave excitation mercury lamp, a metal halide lamp, etc. can be used.

乾燥又は硬化後に得られる接着剤層の厚さは、通常0.01〜5μm程度であるが、水系接着剤を用いた場合は1μm以下とすることができる。一方、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いた場合でも、3μm以下とするのが好ましく、2μm以下とするのがより好ましく、1μm以下とするのがさらに好ましい。接着剤層が薄すぎると、接着が不十分になるおそれがあり、一方で接着剤層が厚すぎると、偏光板の外観不良を生じる可能性がある。   The thickness of the adhesive layer obtained after drying or curing is usually about 0.01 to 5 μm, but can be 1 μm or less when an aqueous adhesive is used. On the other hand, even when an active energy ray-curable adhesive is used, it is preferably 3 μm or less, more preferably 2 μm or less, and even more preferably 1 μm or less. If the adhesive layer is too thin, the adhesion may be insufficient. On the other hand, if the adhesive layer is too thick, the appearance of the polarizing plate may be poor.

偏光子11と保護フィルム21,22とを貼合するにあたっては、接着性を高めるために、これらの少なくともいずれか一方の貼合面にケン化処理、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理等を施すことができる。   In pasting the polarizer 11 and the protective films 21 and 22, in order to enhance the adhesiveness, saponification treatment, corona treatment, plasma treatment, flame treatment, and primer treatment are performed on at least one of the pasting surfaces. , Anchor coating treatment and the like can be performed.

偏光子11の両面に保護フィルムが貼合される場合においてこれらの保護フィルムを貼合するための接着剤は、同種の接着剤あってもよいし異種の接着剤であってもよい。   In the case where protective films are bonded to both sides of the polarizer 11, the adhesive for bonding these protective films may be the same type of adhesive or different types of adhesives.

(2−3)他の光学フィルム
帯電防止性偏光板100は、偏光子11及び保護フィルム21,22以外の他の光学フィルムを含むことができ、その代表例は輝度向上フィルム及び位相差フィルムである。他の光学フィルムは、粘着剤層や接着剤層を介して積層することができる。
(2-3) Other optical films The antistatic polarizing plate 100 can contain optical films other than the polarizer 11 and the protective films 21 and 22, and the representative examples are a brightness enhancement film and a retardation film. is there. Other optical films can be laminated via an adhesive layer or an adhesive layer.

(3)帯電防止層
帯電防止層30は、静電気による光学積層体400,500の性能への影響を抑制するなどの目的で用いられる。帯電防止層30を形成する材料としては、例えば、導電性ポリマー、金属微粒子、金属酸化物微粒子、又は金属等をコーティングした微粒子のような、導電性の微粒子、電解質塩とオルガノポリシロキサンからなるイオン導電性組成物、イオン性化合物、各種の界面活性剤(カチオン性、アニオン性及び両性の界面活性剤)、などが挙げられる。帯電防止層30がこれらの材料を含むことにより、帯電防止層30の電気抵抗が低下するので、帯電防止層30、ひいては光学積層体400,500に帯電防止性能を付与することができる。
(3) Antistatic layer The antistatic layer 30 is used for the purpose of suppressing the influence of the static electricity on the performance of the optical laminates 400 and 500. Examples of the material for forming the antistatic layer 30 include conductive fine particles such as conductive polymer, metal fine particles, metal oxide fine particles, or fine particles coated with metal, ions made of an electrolyte salt and an organopolysiloxane. Examples thereof include conductive compositions, ionic compounds, and various surfactants (cationic, anionic and amphoteric surfactants). When the antistatic layer 30 contains these materials, the electric resistance of the antistatic layer 30 is lowered, and thus the antistatic layer 30 and, consequently, the optical laminates 400 and 500 can be provided with antistatic performance.

導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン、パラ位もしくはメタ位で結合したポリフェニレン、2価の基を介してフェニル基が繋がった高分子(例えば、−CH=CH−を介してフェニル基が繋がったポリフェニレンビニレン、−S−を介してフェニル基が繋がったポリフェニレンサルファイド、−O−を介してフェニル基が繋がったポリフェニレンオキサイドが挙げられる。)、五員環を構成する元素がCとH以外の元素を一つ含み2,5位で繋がった高分子(例えば、NHを含む五員環が2,5位で繋がったポリピロール、Sを含む五員環が2,5位で繋がったポリチオフェン、Oを含む五員環が2,5位で繋がったポリフラン、Seを含む五員環が2,5位で繋がったポリセレノフェン、Teを含む五員環が2,5位で繋がったポリテルロフェンが挙げられる。)、芳香族アミン類を重合して得られる高分子(例えば、ポリアニリン、ポリアミノピレンが挙げられる。)、ポリスチレンスルホン酸などが挙げられる。これらのなかで好ましくは、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールであり、より好ましくは、ポリアニリン、ポリチオフェンである。導電性ポリマーの市販品としては、例えば、ナガセケムテックス(株)製の「デナトロン」(登録商標)、日産化学工業(株)製の「ORMECON」(登録商標)、H.C.Stark(株)製の「CLEVIOUS」、信越ポリマー(株)製の「セプルジーダ」(登録商標)、バイエル(株)製の「バイトロン」などがある。   Examples of the conductive polymer include polyacetylene, polyphenylene bonded in the para-position or meta-position, and a polymer in which a phenyl group is connected through a divalent group (for example, polyphenylene vinylene in which a phenyl group is connected through -CH = CH-. , Polyphenylene sulfide in which a phenyl group is connected through —S—, and polyphenylene oxide in which a phenyl group is connected through —O—.) The elements constituting the five-membered ring are elements other than C and H. Polymers containing two and five-positions (for example, polypyrrole in which a NH-containing five-membered ring is connected in the second and fifth positions, polythiophene in which a five-membered ring containing S is connected in the second and fifth positions, and five containing O Polyfuran with member rings connected in the 2nd and 5th positions, Polyselenophene with 5 membered rings including Se connected in the 2nd and 5th positions, Polyter with 5 membered rings including Te connected in the 2nd and 5th positions Lofen), polymers obtained by polymerizing aromatic amines (for example, polyaniline and polyaminopyrene), polystyrene sulfonic acid and the like. Of these, polyaniline, polythiophene, and polypyrrole are preferable, and polyaniline and polythiophene are more preferable. Examples of commercially available conductive polymers include “Denatron” (registered trademark) manufactured by Nagase ChemteX Corporation, “ORMECON” (registered trademark) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. C. There are “CLEVIOUS” manufactured by Stark Co., “Seprugida” (registered trademark) manufactured by Shin-Etsu Polymer Co., Ltd., “Vitron” manufactured by Bayer Co., Ltd. and the like.

導電性の微粒子としては、例えば、銀粉、銅粉、ニッケル粉、酸化亜鉛(ZnO)、酸化錫(SnO)、アンチモンドープした酸化錫(ATO)、スズドープした酸化インジウム(ITO)などを用いることができる。 Examples of the conductive fine particles include silver powder, copper powder, nickel powder, zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), antimony-doped tin oxide (ATO), and tin-doped indium oxide (ITO). Can do.

イオン導電性組成物は、例えば、電解質塩と下記式で示されるオルガノポリシロキサンからなる。   The ion conductive composition is made of, for example, an electrolyte salt and an organopolysiloxane represented by the following formula.

Figure 2016126348
Figure 2016126348

式中、R11は1価の有機基、R12〜R14はアルキレン基、R15は水素又は1価の有機基を表す。mは0〜100の整数、nは1〜100の整数である。−(−Si(R1111)O−)−単位と−(−Si(R1112)O−)−単位の配列順序は任意である。a及びbはそれぞれ0〜100の整数であり、同時に0であることはない。−(−R13O−)−と−(−R14O−)−の配列順序は任意である。 In the formula, R 11 represents a monovalent organic group, R 12 to R 14 represent an alkylene group, and R 15 represents hydrogen or a monovalent organic group. m is an integer of 0 to 100, and n is an integer of 1 to 100. - (- Si (R 11 R 11) O -) - units and - (- Si (R 11 R 12) O -) - sequence the sequence of units is arbitrary. a and b are each an integer of 0 to 100 and are not 0 at the same time. The arrangement order of-(-R < 13 > O-)-and-(-R < 14 > O-)-is arbitrary.

電解質塩としては、その陽イオンが周期律表第I族又は第II族に属する金属の陽イオンである電解質塩が挙げられる。陽イオンとしては、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム等の陽イオンが挙げられる。   Examples of the electrolyte salt include an electrolyte salt whose cation is a cation of a metal belonging to Group I or Group II of the Periodic Table. Examples of the cation include cations such as lithium, sodium, potassium, magnesium, calcium, and barium.

イオン性化合物は、例えば、無機カチオン又は有機カチオンと、無機アニオン又は有機アニオンとを有する化合物である。   The ionic compound is, for example, a compound having an inorganic cation or an organic cation and an inorganic anion or an organic anion.

無機カチオンとしては、例えば、リチウムカチオン〔Li+〕、ナトリウムカチオン〔Na+〕、カリウムカチオン〔K+〕のようなアルカリ金属イオンや、ベリリウムカチオン〔Be2+〕、マグネシウムカチオン〔Mg2+〕、カルシウムカチオン〔Ca2+〕のようなアルカリ土類金属イオン等が挙げられる。 Examples of the inorganic cation include alkali metal ions such as lithium cation [Li + ], sodium cation [Na + ], and potassium cation [K + ], beryllium cation [Be 2+ ], and magnesium cation [Mg 2+ ]. And alkaline earth metal ions such as calcium cation [Ca 2+ ].

有機カチオンとしては、例えば、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン等が挙げられる。   Examples of the organic cation include an imidazolium cation, a pyridinium cation, a pyrrolidinium cation, an ammonium cation, a sulfonium cation, a phosphonium cation, and a piperidinium cation.

無機アニオンとしては、例えば、クロライドアニオン〔Cl-〕、ブロマイドアニオン〔Br-〕、ヨーダイドアニオン〔I-〕、テトラクロロアルミネートアニオン〔AlCl4 -〕、ヘプタクロロジアルミネートアニオン〔Al2Cl7 -〕、テトラフルオロボレートアニオン〔BF4 -〕、ヘキサフルオロホスフェートアニオン〔PF6 -〕、パークロレートアニオン〔ClO4 -〕、ナイトレートアニオン〔NO3 -〕、ヘキサフルオロアーセネートアニオン〔AsF6 -〕、ヘキサフルオロアンチモネートアニオン〔SbF6 -〕、ヘキサフルオロニオベートアニオン〔NbF6 -〕、ヘキサフルオロタンタレートアニオン〔TaF6 -〕、ジシアナミドアニオン〔(CN)2-〕等が挙げられる。 Examples of inorganic anions include chloride anions [Cl ], bromide anions [Br ], iodide anions [I ], tetrachloroaluminate anions [AlCl 4 ], heptachlorodialuminate anions [Al 2 Cl 7 ], tetrafluoroborate anion [BF 4 ], hexafluorophosphate anion [PF 6 ], perchlorate anion [ClO 4 ], nitrate anion [NO 3 ], hexafluoroarsenate anion [AsF 6] - ], Hexafluoroantimonate anion [SbF 6 ], hexafluoro niobate anion [NbF 6 ], hexafluoro tantalate anion [TaF 6 ], dicyanamide anion [(CN) 2 N ] and the like. It is done.

有機アニオンとしては、例えば、アセテートアニオン〔CH3COO-〕、トリフルオロアセテートアニオン〔CF3COO-〕、メタンスルホネートアニオン〔CH3SO3 -〕、トリフルオロメタンスルホネートアニオン〔CF3SO3 -〕、p−トルエンスルホネートアニオン〔p−CH364SO3 -〕、ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン〔(FSO22-〕、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン〔(CF3SO22-〕、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタニドアニオン〔(CF3SO23-〕、ジメチルホスフィネートアニオン〔(CH32POO-〕、(ポリ)ハイドロフルオロフルオライドアニオン〔F(HF)n -〕(nは1〜3程度)、チオシアンアニオン〔SCN-〕、パーフルオロブタンスルホネートアニオン〔C49SO3 -〕、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドアニオン〔(C25SO22-〕、パーフルオロブタノエートアニオン〔C37COO-〕、(トリフルオロメタンスルホニル)(トリフルオロメタンカルボニル)イミドアニオン〔(CF3SO2)(CF3CO)N-〕、パーフルオロプロパン−1,3−ジスルホネートアニオン〔-3S(CF23SO3 -〕、カーボネートアニオン〔CO3 2-〕等が挙げられる。上記したアニオン成分の中でも、フッ素原子を含むアニオン成分は、帯電防止性の点で有利である。 Examples of the organic anion include acetate anion [CH 3 COO ], trifluoroacetate anion [CF 3 COO ], methanesulfonate anion [CH 3 SO 3 ], trifluoromethanesulfonate anion [CF 3 SO 3 ], p-toluenesulfonate anion [p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 ], bis (fluorosulfonyl) imide anion [(FSO 2 ) 2 N ], bis (trifluoromethanesulfonyl) imide anion [(CF 3 SO 2 ) 2 N ], tris (trifluoromethanesulfonyl) methanide anion [(CF 3 SO 2 ) 3 C ], dimethyl phosphinate anion [(CH 3 ) 2 POO ], (poly) hydrofluorofluoride anion [ F (HF) n ] (n is about 1 to 3), thiocyan anion [SC N -], perfluorobutane sulfonate anion [C 4 F 9 SO 3 -], bis (pentafluoroethane sulfonyl) imide anion [(C 2 F 5 SO 2) 2 N - ], perfluoro butanoate anion [C 3 F 7 COO ], (trifluoromethanesulfonyl) (trifluoromethanecarbonyl) imide anion [(CF 3 SO 2 ) (CF 3 CO) N ], perfluoropropane-1,3-disulfonate anion [ O 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 ], carbonate anion [CO 3 2− ] and the like. Among the anionic components described above, anionic components containing fluorine atoms are advantageous in terms of antistatic properties.

イオン性化合物の具体例は、上記カチオン成分とアニオン成分の組み合わせから適宜選択することができる。有機カチオンを有するイオン性化合物の例を有機カチオンの構造ごとに分類して掲げると、次のようなものが挙げられる。   Specific examples of the ionic compound can be appropriately selected from a combination of the cation component and the anion component. Examples of ionic compounds having an organic cation are listed below according to the structure of the organic cation.

ピリジニウム塩:
N−ヘキシルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、
N−オクチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、
N−オクチル−4−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、
N−ブチル−4−メチルルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、
N−デシルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ドデシルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−テトラデシルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ヘキサデシルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ドデシル−4−メチルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−テトラデシル−4−メチルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ヘキサデシル−4−メチルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ベンジル−2−メチルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ベンジル−4−メチルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ヘキシルピリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
N−オクチルピリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
N−オクチル−4−メチルピリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
N−ブチル−4−メチルルピリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド。
Pyridinium salt:
N-hexylpyridinium hexafluorophosphate,
N-octylpyridinium hexafluorophosphate,
N-octyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate,
N-butyl-4-methylrupyridinium hexafluorophosphate,
N-decylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-dodecylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-tetradecylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-hexadecylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-dodecyl-4-methylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-tetradecyl-4-methylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-hexadecyl-4-methylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-benzyl-2-methylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-benzyl-4-methylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-hexylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
N-octylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
N-octyl-4-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
N-butyl-4-methyllpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.

イミダゾリウム塩:
1−エチル−3−メチルイミダゾリウム ヘキサフルオロホスフェート、
1−エチル−3−メチルイミダゾリウム p−トルエンスルホネート、
1−エチル−3−メチルイミダゾリウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
1−エチル−3−メチルイミダゾリウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム メタンスルホネート、
1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム ビス(フルオロスルホニル)イミド。
Imidazolium salt:
1-ethyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate,
1-ethyl-3-methylimidazolium p-toluenesulfonate,
1-ethyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonyl) imide,
1-ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
1-butyl-3-methylimidazolium methanesulfonate,
1-butyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonyl) imide.

ピロリジニウム塩:
N−ブチル−N−メチルピロリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、
N−ブチル−N−メチルピロリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
N−ブチル−N−メチルピロリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド。
Pyrrolidinium salt:
N-butyl-N-methylpyrrolidinium hexafluorophosphate,
N-butyl-N-methylpyrrolidinium bis (fluorosulfonyl) imide,
N-butyl-N-methylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.

4級アンモニウム塩:
テトラブチルアンモニウム ヘキサフルオロホスフェート、
テトラブチルアンモニウム p−トルエンスルホネート、
(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウム ジメチルホスフィネート。
Quaternary ammonium salt:
Tetrabutylammonium hexafluorophosphate,
Tetrabutylammonium p-toluenesulfonate,
(2-hydroxyethyl) trimethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
(2-Hydroxyethyl) trimethylammonium dimethylphosphinate.

また、無機カチオンを有するイオン性化合物の例を挙げると、次のものがある。
リチウム ブロマイド、
リチウム ヨーダイド、
リチウム テトラフルオロボレート、
リチウム ヘキサフルオロホスフェート、
リチウム チオシアネート、
リチウム パークロレート、
リチウム トリフルオロメタンスルホネート、
リチウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
リチウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
リチウム ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド、
リチウム トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタニド、
リチウム p−トルエンスルホネート、
ナトリウム ヘキサフルオロホスフェート、
ナトリウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
ナトリウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ナトリウム p−トルエンスルホネート、
カリウム ヘキサフルオロホスフェート、
カリウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、
カリウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
カリウム p−トルエンスルホネート。
Examples of ionic compounds having inorganic cations are as follows.
Lithium bromide,
Lithium iodide,
Lithium tetrafluoroborate,
Lithium hexafluorophosphate,
Lithium thiocyanate,
Lithium perchlorate,
Lithium trifluoromethanesulfonate,
Lithium bis (fluorosulfonyl) imide,
Lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
Lithium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide,
Lithium tris (trifluoromethanesulfonyl) methanide,
Lithium p-toluenesulfonate,
Sodium hexafluorophosphate,
Sodium bis (fluorosulfonyl) imide,
Sodium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
Sodium p-toluenesulfonate,
Potassium hexafluorophosphate,
Potassium bis (fluorosulfonyl) imide,
Potassium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,
Potassium p-toluenesulfonate.

これらのイオン性化合物は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   These ionic compounds may be used alone or in combination of two or more.

帯電防止層30は、例えば、イオン性化合物、導電性微粒子、導電性高分子などをそれぞれ単独で、又は2種以上組み合わせて用いることができる。またもちろん、イオン性化合物に分類される帯電防止剤を2種以上組み合わせて用いることもできるし、導電性微粒子に分類される帯電防止剤を2種以上組み合わせて用いることもできるし、導電性高分子に分類される帯電防止剤を2種以上組み合わせて用いることもできる。   For the antistatic layer 30, for example, ionic compounds, conductive fine particles, conductive polymers and the like can be used alone or in combination of two or more. Of course, two or more kinds of antistatic agents classified as ionic compounds can be used in combination, or two or more kinds of antistatic agents classified as conductive fine particles can be used in combination. Two or more kinds of antistatic agents classified into molecules can be used in combination.

帯電防止層30は、帯電防止剤として加水分解性有機珪素化合物及びその縮重合体の少なくとも一方を含むことができる。帯電防止層30が、帯電防止剤として加水分解性有機珪素化合物及びその縮重合体の少なくとも一方を含むことによっても、帯電防止層30は帯電防止性能を有することができる。   The antistatic layer 30 can contain at least one of a hydrolyzable organosilicon compound and a condensation polymer thereof as an antistatic agent. The antistatic layer 30 can also have antistatic performance when the antistatic layer 30 contains at least one of a hydrolyzable organosilicon compound and a condensation polymer thereof as an antistatic agent.

加水分解性有機珪素化合物は、非加水分解性の有機基と加水分解性の有機又は無機の基がケイ素原子に結合した化合物であるか、加水分解性の有機基がケイ素原子に結合した化合物であり、ここで、有機基は、炭素原子が結合位置にあるものであってもよいし、他の原子が結合位置にあるものであってもよい。加水分解性有機珪素化合物は、具体的には、次の式:
Si(T)(T)4−q
で示すことができる。式中、Tは水素原子又は非加水分解性の有機基を表し、Tは加水分解性の基を表し、qは0〜3の整数を表す。
The hydrolyzable organosilicon compound is a compound in which a non-hydrolyzable organic group and a hydrolyzable organic or inorganic group are bonded to a silicon atom, or a compound in which a hydrolyzable organic group is bonded to a silicon atom. In this case, the organic group may have a carbon atom at the bonding position, or may have another atom at the bonding position. Specifically, the hydrolyzable organosilicon compound has the following formula:
Si (T 1 ) q (T 2 ) 4-q
Can be shown. In the formula, T 1 represents a hydrogen atom or a non-hydrolyzable organic group, T 2 represents a hydrolyzable group, and q represents an integer of 0 to 3.

上記式においてTで表される非加水分解性の有機基として、典型的には、炭素数1〜4程度のアルキル基、炭素数2〜4程度のアルケニル基、フェニル基のようなアリール基などが挙げられる。またTで表される加水分解性の基としては、例えば、メトキシ基やエトキシ基のような炭素数1〜5程度のアルコキシ基、アセトキシ基やプロピオニルオキシ基のようなアシロキシ基、塩素原子や臭素原子のようなハロゲン原子、トリメチルシリルアミノ基のような置換シリルアミノ基などが挙げられる。加水分解性有機珪素化合物は、具体的には、アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合物、アシロキシシラン化合物、シラザン化合物などであることができる。これらの加水分解性有機珪素化合物は、上記式におけるT又はTの一部として、アリール基、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フルオロアルキル基などの置換基を有していてもよい。 As the non-hydrolyzable organic group represented by T 1 in the above formula, typically, an alkyl group having about 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having about 2 to 4 carbon atoms, or an aryl group such as a phenyl group. Etc. Examples of the hydrolyzable group represented by T 2 include an alkoxy group having about 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, an acyloxy group such as an acetoxy group and a propionyloxy group, a chlorine atom, Examples thereof include a halogen atom such as a bromine atom and a substituted silylamino group such as a trimethylsilylamino group. Specifically, the hydrolyzable organosilicon compound can be an alkoxysilane compound, a halogenated silane compound, an acyloxysilane compound, a silazane compound, or the like. These hydrolyzable organosilicon compounds are aryl groups, vinyl groups, allyl groups, (meth) acryloyloxy groups, epoxy groups, amino groups, mercapto groups, fluoroalkyls as part of T 1 or T 2 in the above formula. It may have a substituent such as a group.

具体的な加水分解性有機珪素化合物としては、例えば、メチルトリクロロシランのようなハロゲン化シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランのようなアルコキシシラン化合物、ヘキサメチルジシラザンのようなシラザン化合物などが挙げられる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上混合して用いることができる。   Specific hydrolyzable organosilicon compounds include, for example, halogenated silane compounds such as methyltrichlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and dimethyldimethoxy. Silane, dimethyldiethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -Γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypro Methyl dimethoxy silane, .gamma.-glycidoxypropyltrimethoxysilane, .gamma. alkoxysilane compounds such as glycidoxypropyl methyl dimethoxy silane, silazane compounds such as hexamethyldisilazane and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

加水分解性有機珪素化合物として、上記のような加水分解性有機珪素化合物が部分的に加水分解された加水分解生成物を用いてもよい。また、加水分解性有機珪素化合物として、前記加水分解生成物を縮合して、オリゴマー又はポリマーとなった多量体を用いてもよい。これらの加水分解生成物や多量体は、加水分解性有機珪素化合物に、塩酸、リン酸、酢酸、硫酸のような酸、又は水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウムのような塩基を加えることにより、生成させることができる。   As the hydrolyzable organosilicon compound, a hydrolysis product obtained by partially hydrolyzing the hydrolyzable organosilicon compound as described above may be used. Further, as the hydrolyzable organosilicon compound, a multimer obtained by condensing the hydrolysis product into an oligomer or polymer may be used. These hydrolysis products and multimers are produced by adding an acid such as hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid or sulfuric acid, or a base such as sodium hydroxide or sodium acetate to a hydrolyzable organosilicon compound. be able to.

帯電防止剤として、上記のような加水分解性有機珪素化合物を加水分解、重縮合反応させて得られる縮重合体を用いてもよい。前記加水分解性有機珪素化合物を加水分解する方法は、従来法に従えばよい。即ち、所定量の有機溶媒中に加水分解性有機珪素化合物を、所定の固形分濃度が要求される量を溶解して均一な溶液とし、触媒の存在下に加水分解すればよい。また、有機溶媒を使用しない場合は、水と触媒の均一溶液に、加水分解性有機珪素化合物を所定の固形分濃度が要求される量を添加して加水分解すればよい。一般的には、酸又はアルカリ触媒の存在下に、所望の加水分解率に要求される量の水を添加して加水分解すればよい。前記した加水分解用の触媒としては、塩酸、リン酸、硫酸、酢酸のような酸、例えばLiOH、NaOH、KOHなどの塩基性の水酸化物触媒があり、加水分解性有機珪素化合物に対して0.01〜10重量%が使用される。加水分解の反応温度は、室温から50℃の温度で十分であり、また反応時間は反応温度、触媒量により異なるが、一般には1〜24時間である。以上の加水分解反応により加水分解性有機珪素化合物の縮重合体が調製される。なお、周知のように加水分解性有機珪素化合物の縮重合体は塗布面でゲル化するとき、表面に水酸基を含有するシラノール基(Si−OH)を多く有するようになり、これが静電防止性能の発現に有効なものとなる。また、加水分解性有機珪素化合物の縮重合体は加水分解により調製されるため、該縮重合体の末端基にはOH基が含まれ、これも静電防止性能の発現に有効なものとなる。   As the antistatic agent, a condensation polymer obtained by hydrolyzing and polycondensing a hydrolyzable organosilicon compound as described above may be used. The method for hydrolyzing the hydrolyzable organosilicon compound may be a conventional method. That is, the hydrolyzable organosilicon compound may be hydrolyzed in the presence of a catalyst by dissolving a hydrolyzable organosilicon compound in a predetermined amount of an organic solvent and dissolving the amount required for a predetermined solid content concentration into a uniform solution. In the case where an organic solvent is not used, the hydrolyzable organosilicon compound may be hydrolyzed by adding an amount that requires a predetermined solid content concentration to a uniform solution of water and catalyst. In general, hydrolysis may be performed by adding an amount of water required for a desired hydrolysis rate in the presence of an acid or alkali catalyst. Examples of the hydrolysis catalyst include acids such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and acetic acid, for example, basic hydroxide catalysts such as LiOH, NaOH, and KOH. 0.01 to 10% by weight is used. The reaction temperature for hydrolysis is from room temperature to 50 ° C., and the reaction time varies depending on the reaction temperature and the amount of catalyst, but is generally 1 to 24 hours. A condensation polymer of a hydrolyzable organosilicon compound is prepared by the above hydrolysis reaction. As is well known, when a condensation polymer of a hydrolyzable organosilicon compound is gelled on the coated surface, it has a lot of silanol groups (Si-OH) containing hydroxyl groups on the surface, which is antistatic performance. It becomes effective for the expression of. Further, since the condensation polymer of the hydrolyzable organosilicon compound is prepared by hydrolysis, the end group of the condensation polymer contains an OH group, which is also effective for the development of antistatic performance. .

加水分解性有機珪素化合物及びその縮重合体は、それぞれ単独で用いてもよいし、加水分解性有機珪素化合物とその縮合体との混合物の状態で用いてもよい。帯電防止剤として使用し得る加水分解性有機珪素化合物やその縮合体は、例えばコルコート(株)から販売されている。   The hydrolyzable organosilicon compound and its condensation polymer may be used alone or in the form of a mixture of the hydrolyzable organosilicon compound and its condensate. Hydrolyzable organosilicon compounds and their condensates that can be used as antistatic agents are commercially available from, for example, Colcoat Co., Ltd.

帯電防止層30の厚みは、10nm以上1000nm以下であることができるが、帯電防止性偏光板100の薄膜化の観点から、好ましくは、800nm以下である。帯電防止層30の厚みが10nm未満であると、密着性、帯電防止性、強度が十分でないことがあり、1000nmを超えると、密着性や透明性が十分でなく、ひび割れなどの不良が発生する可能性もある。   Although the thickness of the antistatic layer 30 can be 10 nm or more and 1000 nm or less, it is preferably 800 nm or less from the viewpoint of reducing the thickness of the antistatic polarizing plate 100. When the thickness of the antistatic layer 30 is less than 10 nm, the adhesion, antistatic property and strength may not be sufficient. When the thickness exceeds 1000 nm, the adhesion and transparency are not sufficient, and defects such as cracks occur. There is a possibility.

帯電防止層30は、例えば、帯電防止剤を含む塗工液を偏光板10の表面に塗布することによって形成できる。塗工液には通常、帯電防止剤や溶剤(水も含む)、必要に応じて(メタ)アクリル化合物のような熱又は活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂が含まれる。偏光板10の表面には、必要に応じて、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理などの活性化処理を行っても良い。これにより、帯電防止層30と偏光板10の密着性の向上や、塗工液の偏光板10への濡れ性が良好となる。   The antistatic layer 30 can be formed, for example, by applying a coating liquid containing an antistatic agent to the surface of the polarizing plate 10. The coating liquid usually contains an antistatic agent, a solvent (including water), and, if necessary, a curable resin that is cured by irradiation with heat or active energy rays such as a (meth) acrylic compound. If necessary, the surface of the polarizing plate 10 may be subjected to activation treatment such as corona treatment, plasma treatment, primer treatment, anchor coating treatment and the like. Thereby, the adhesiveness improvement of the antistatic layer 30 and the polarizing plate 10 and the wettability to the polarizing plate 10 of a coating liquid become favorable.

溶剤は、塗工液の濃度や粘度、塗工層の膜厚などを調整するために使用される。用いる溶剤は、適宜選択すればよいが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノールのようなアルコール類、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、3−メトキシプロパノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノールのようなアルコキシアルコール類、ジアセトンアルコールのようなケトール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶剤の使用量は、偏光板10の材質、形状、塗布方法、目的とする被膜の膜厚などに応じて適宜選択されるが、通常は、帯電防止剤の合計量100重量部に対し、20〜10000重量部程度である。   A solvent is used in order to adjust the density | concentration and viscosity of a coating liquid, the film thickness of a coating layer, etc. The solvent to be used may be appropriately selected. For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, 2-butanol, isobutanol and tert-butanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol , Alkoxy alcohols such as 3-methoxypropanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, ketols such as diacetone alcohol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, and the like. The amount of the solvent used is appropriately selected according to the material, shape, coating method, target film thickness, etc. of the polarizing plate 10, but usually 20 parts per 100 parts by weight of the total amount of the antistatic agent. About 10000 parts by weight.

偏光板10の表面に塗工液を塗布する方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコート法、フローコート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写法、スプレーコート法などが挙げられる。   Examples of the method for applying the coating liquid to the surface of the polarizing plate 10 include a micro gravure coating method, a roll coating method, a dipping coating method, a flow coating method, a spin coating method, a die coating method, a cast transfer method, and a spray coating method. Is mentioned.

次いで、塗工層を乾燥させてもよい。乾燥温度は、溶剤や被着体の種類によるが、通常、25〜120℃、より好ましくは30〜110℃程度である。また、乾燥後又は乾燥前の塗工層を加熱することにより、加水分解性有機珪素化合物を加水分解、縮合させてもよい。加熱温度は通常50〜120℃程度であり、また加熱時間は通常1分〜5時間程度である。塗工層が溶剤を含有する場合、加熱処理は、塗膜が溶剤を含有した状態のまま行ってもよいし、溶剤を揮発させた後に行ってもよい。   Next, the coating layer may be dried. The drying temperature depends on the type of the solvent and the adherend, but is usually about 25 to 120 ° C, more preferably about 30 to 110 ° C. Further, the hydrolyzable organosilicon compound may be hydrolyzed and condensed by heating the coating layer after drying or before drying. The heating temperature is usually about 50 to 120 ° C., and the heating time is usually about 1 minute to 5 hours. When the coating layer contains a solvent, the heat treatment may be performed while the coating film contains the solvent or after the solvent is volatilized.

(4)粘着剤層
粘着剤層40は、帯電防止性偏光板100を隣接する部材(金属含有層60やオーバーコート層50等)に貼着するための役割を果たす。
(4) Pressure-sensitive adhesive layer The pressure-sensitive adhesive layer 40 plays a role for adhering the antistatic polarizing plate 100 to adjacent members (such as the metal-containing layer 60 and the overcoat layer 50).

粘着剤層40を形成するために用いる粘着剤組成物としては、例えば、(メタ)アクリル系粘着剤組成物、ウレタン系粘着剤組成物、シリコーン系粘着剤組成物、ポリエステル系粘着剤組成物、ポリアミド系粘着剤組成物、ポリエーテル系粘着剤組成物、フッ素系粘着剤組成物、ゴム系粘着剤組成物等が挙げられる。中でも、透明性、粘着力、信頼性、リワーク性等の観点から、(メタ)アクリル系樹脂をベースポリマーとする(メタ)アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。   Examples of the pressure-sensitive adhesive composition used for forming the pressure-sensitive adhesive layer 40 include a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive composition, a urethane-based pressure-sensitive adhesive composition, a silicone-based pressure-sensitive adhesive composition, a polyester-based pressure-sensitive adhesive composition, Examples thereof include a polyamide-based pressure-sensitive adhesive composition, a polyether-based pressure-sensitive adhesive composition, a fluorine-based pressure-sensitive adhesive composition, and a rubber-based pressure-sensitive adhesive composition. Of these, a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive having a (meth) acrylic resin as a base polymer is preferably used from the viewpoints of transparency, adhesive strength, reliability, reworkability, and the like.

(メタ)アクリル系粘着剤組成物のベースポリマーとして好適に用いることができる(メタ)アクリル系樹脂の具体例は、下記式(I):   Specific examples of the (meth) acrylic resin that can be suitably used as the base polymer of the (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive composition include the following formula (I):

Figure 2016126348
Figure 2016126348

で表される(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位を主成分とする(50重量%以上含有する)重合体である(メタ)アクリル系樹脂(A−1)である。 It is a (meth) acrylic resin (A-1) which is a polymer containing as a main component (containing 50% by weight or more) a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester represented by:

式(I)において、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1〜10のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1〜14のアルキル基、又は炭素数1〜10のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数7〜21のアラルキル基を表す。R2は、炭素数1〜10のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1〜14のアルキル基であることが好ましい。 In Formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or 1 to 10 carbon atoms. Represents an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group. R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.

式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げられ、その具体例は、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸ラウリルのようなアルキル部分が直鎖状のアクリル酸アルキルエステル;アクリル酸イソプロピル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソオクチルのようなアルキル部分が分枝状のアクリル酸アルキルエステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸ラウリルのようなアルキル部分が直鎖状のメタクリル酸アルキルエステル;メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸イソオクチルのようなアルキル部分が分枝状のメタクリル酸アルキルエステル等を含む。(メタ)アクリル酸アルキルエステルにおけるアルキル部分の炭素数は、好ましくは1〜8であり、より好ましくは1〜6である。   Examples of the (meth) acrylic acid ester represented by the formula (I) include (meth) acrylic acid alkyl ester, and specific examples thereof include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, and n-butyl acrylate. Alkyl acrylates in which the alkyl moiety is linear, such as n-octyl acrylate and lauryl acrylate; branched alkyl moieties such as isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and isooctyl acrylate Methacrylic acid alkyl ester; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, n-octyl methacrylate, methacrylic acid alkyl ester having linear alkyl moiety such as lauryl methacrylate; Isopropyl acid, Methacrylic acid isobutyl, 2-ethylhexyl methacrylate, methacrylic acid alkyl ester the alkyl moiety is branched, such as methacrylic acid isooctyl and the like. Carbon number of the alkyl part in (meth) acrylic acid alkyl ester becomes like this. Preferably it is 1-8, More preferably, it is 1-6.

2がアルコキシ基で置換されたアルキル基である場合、すなわち、R2がアルコキシアルキル基である場合における式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステルの具体例は、アクリル酸2−メトキシエチル、アクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸2−メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル等を含む。上記アルコキシアルキル基におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1〜8であり、より好ましくは1〜6である。上記アルコキシアルキル基におけるアルコキシ基の炭素数は、好ましくは1〜8であり、より好ましくは1〜4である。R2が炭素数7〜21のアラルキル基である場合における式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステルの具体例は、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル等を含む。上記アラルキル基の炭素数は、好ましくは7〜11である。 When R 2 is an alkyl group substituted with an alkoxy group, i.e., specific examples of the (meth) acrylic acid ester represented by formula (I) when R 2 is an alkoxyalkyl group are acrylic acid 2- Including methoxyethyl, ethoxymethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate and the like. Carbon number of the alkyl group in the said alkoxyalkyl group becomes like this. Preferably it is 1-8, More preferably, it is 1-6. Carbon number of the alkoxy group in the said alkoxyalkyl group becomes like this. Preferably it is 1-8, More preferably, it is 1-4. Specific examples of the (meth) acrylic acid ester represented by the formula (I) when R 2 is an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms include benzyl acrylate, benzyl methacrylate and the like. Carbon number of the aralkyl group is preferably 7-11.

式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステルは、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。中でも、(メタ)アクリル酸エステルは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含むことが好ましく、アクリル酸アルキルエステルを含むことがより好ましく、アクリル酸n−ブチルを含むことがさらに好ましい。(メタ)アクリル系樹脂(A−1)は、これを構成する全単量体中、アクリル酸n−ブチルを50重量%以上含むことが好ましい。勿論、アクリル酸n−ブチルに加えて、それ以外の式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステルを併用することもできる。   The (meth) acrylic acid ester represented by the formula (I) may be used alone or in combination of two or more. Among them, the (meth) acrylic acid ester preferably includes a (meth) acrylic acid alkyl ester, more preferably includes an acrylic acid alkyl ester, and further preferably includes n-butyl acrylate. The (meth) acrylic resin (A-1) preferably contains 50% by weight or more of n-butyl acrylate in all monomers constituting the (meth) acrylic resin (A-1). Of course, in addition to n-butyl acrylate, other (meth) acrylic acid esters represented by the formula (I) may be used in combination.

(メタ)アクリル系樹脂(A−1)は通常、上記式(I)の(メタ)アクリル酸エステルと、極性官能基を有する単量体に代表される少なくとも1つの他の単量体との共重合体である。極性官能基を有する単量体は、極性官能基を有する(メタ)アクリル酸系化合物であることが好ましい。極性官能基としては、遊離カルボキシル基、水酸基、アミノ基、エポキシ基をはじめとする複素環基等を挙げることができる。   The (meth) acrylic resin (A-1) is usually composed of (meth) acrylic acid ester of the above formula (I) and at least one other monomer represented by a monomer having a polar functional group. It is a copolymer. The monomer having a polar functional group is preferably a (meth) acrylic acid compound having a polar functional group. Examples of polar functional groups include free carboxyl groups, hydroxyl groups, amino groups, and heterocyclic groups including epoxy groups.

極性官能基を有する単量体の具体例は、(メタ)アクリル酸、β−カルボキシエチル(メタ)アクリレートのような遊離カルボキシル基を有する単量体;(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−又は3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルのような(メタ)アクリル酸の水酸基含有アルキルエステルや、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートのような多官能アルコールと(メタ)アクリル酸との不完全エステル化物等の水酸基を有する単量体;アクリロイルモルホリン、ビニルカプロラクタム、N−ビニル−2−ピロリドン、ビニルピリジン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,5−ジヒドロフランのような複素環基を有する単量体;アミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレートのような複素環とは異なるアミノ基を有する単量体等を含む。極性官能基を有する単量体は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the monomer having a polar functional group include (meth) acrylic acid, a monomer having a free carboxyl group such as β-carboxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl, ( 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- or 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate (Meth) acrylic acid hydroxyl group-containing alkyl esters and dihydroxy glycol mono (meth) acrylates and other incomplete esterification products of polyfunctional alcohols such as (meth) acrylic acid; monomers having a hydroxyl group; acryloylmorpholine , Vinyl caprolactam, N-vinyl-2-pyrrolidone, vinyl pyridine, tetra Monomers having a heterocyclic group such as drofurfuryl (meth) acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,5-dihydrofuran; amino It includes a monomer having an amino group different from a heterocyclic ring, such as ethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and dimethylaminopropyl (meth) acrylate. The monomer which has a polar functional group may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記の中でも、(メタ)アクリル系樹脂(A−1)の反応性の観点から、(メタ)アクリル系樹脂(A−1)を構成する極性官能基含有単量体の1つとして、水酸基を有する単量体を用いることが好ましい。水酸基を有する単量体に加えて、他の極性官能基を有する単量体、例えば、遊離カルボキシル基を有する単量体を併用することも有効である。粘着剤層40と帯電防止性偏光板100との密着性や粘着剤層40の耐久性の観点から、水酸基を有する単量体は、水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルであることが好ましく、(メタ)アクリル酸の水酸基含有アルキルエステルであることがより好ましい。(メタ)アクリル酸の水酸基含有アルキルエステルにおけるアルキル部分の炭素数は、好ましくは1〜8であり、より好ましくは1〜6である。   Among the above, from the viewpoint of the reactivity of the (meth) acrylic resin (A-1), as one of the polar functional group-containing monomers constituting the (meth) acrylic resin (A-1), a hydroxyl group is used. It is preferable to use the monomer which has. In addition to the monomer having a hydroxyl group, it is also effective to use a monomer having another polar functional group, for example, a monomer having a free carboxyl group. From the viewpoint of adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer 40 and the antistatic polarizing plate 100 and durability of the pressure-sensitive adhesive layer 40, the monomer having a hydroxyl group is preferably a (meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group, More preferred is a hydroxyl group-containing alkyl ester of (meth) acrylic acid. The carbon number of the alkyl moiety in the hydroxyl group-containing alkyl ester of (meth) acrylic acid is preferably 1-8, more preferably 1-6.

(メタ)アクリル系樹脂(A−1)は、分子内に1個のオレフィン性二重結合と少なくとも1個の芳香環とを有する単量体(ただし、上記式(I)で表される単量体及び上記極性官能基を有する単量体に該当するものは除く。)に由来する構成単位をさらに含んでいてもよい。好適な例として芳香環を有する(メタ)アクリル酸系化合物を挙げることができる。芳香環を有する(メタ)アクリル酸系化合物の好適な例は、下記式(II):   The (meth) acrylic resin (A-1) is a monomer having one olefinic double bond and at least one aromatic ring in the molecule (however, a single monomer represented by the above formula (I)). A constituent unit derived from a monomer and a monomer having a polar functional group is excluded. Preferable examples include (meth) acrylic acid compounds having an aromatic ring. Suitable examples of the (meth) acrylic acid compound having an aromatic ring include the following formula (II):

Figure 2016126348
Figure 2016126348

で表されるフェノキシエチル基含有(メタ)アクリル酸エステルのようなアリールオキシアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルである。フェノキシエチル基含有(メタ)アクリル酸エステル等の分子内に1個のオレフィン性二重結合と少なくとも1個の芳香環とを有する単量体は、1種のみを単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。 A (meth) acrylic acid ester having an aryloxyalkyl group such as a phenoxyethyl group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the formula: A monomer having one olefinic double bond and at least one aromatic ring in the molecule, such as a phenoxyethyl group-containing (meth) acrylic acid ester, may be used alone or 2 More than one species may be used in combination.

上記式(II)において、R3は水素原子又はメチル基を表し、nは1〜8の整数を表し、R4は水素原子、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表す。R4がアルキル基である場合、その炭素数は1〜9程度であることができ、アラルキル基である場合、その炭素数は7〜11程度、またアリール基である場合、その炭素数は6〜10程度であることができる。 In the above formula (II), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, n represents an integer of 1 to 8, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group. When R 4 is an alkyl group, the carbon number can be about 1 to 9, and when it is an aralkyl group, the carbon number is about 7 to 11, and when it is an aryl group, the carbon number is 6 Can be on the order of -10.

式(II)中のR4を構成する炭素数1〜9のアルキル基としては、メチル、ブチル、ノニル等が、炭素数7〜11のアラルキル基としては、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル等が、炭素数6〜10のアリール基としては、フェニル、トリル、ナフチル等が、それぞれ挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 9 carbon atoms constituting R 4 in the formula (II) include methyl, butyl and nonyl, and examples of the aralkyl group having 7 to 11 carbon atoms include benzyl, phenethyl and naphthylmethyl. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include phenyl, tolyl, naphthyl and the like.

式(II)で表されるフェノキシエチル基含有(メタ)アクリル酸エステルの具体例は、(メタ)アクリル酸2−フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2−(2−フェノキシエトキシ)エチル、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールの(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸2−(o−フェニルフェノキシ)エチル等を含む。中でも、フェノキシエチル基含有(メタ)アクリル酸エステルは、(メタ)アクリル酸2−フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2−(o−フェニルフェノキシ)エチル及び/又は(メタ)アクリル酸2−(2―フェノキシエトキシ)エチルを含むことが好ましい。   Specific examples of the phenoxyethyl group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the formula (II) are: (meth) acrylic acid 2-phenoxyethyl, (meth) acrylic acid 2- (2-phenoxyethoxy) ethyl, ethylene oxide (Meth) acrylic acid ester of modified nonylphenol, 2- (o-phenylphenoxy) ethyl (meth) acrylate, and the like. Among them, phenoxyethyl group-containing (meth) acrylic acid esters include 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2- (o-phenylphenoxy) ethyl (meth) acrylate and / or 2- (2) (meth) acrylic acid. -Phenoxyethoxy) ethyl is preferably included.

(メタ)アクリル系樹脂(A−1)は、その固形分全体量を基準に、上記式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位を、好ましくは60〜99.9重量%、より好ましくは80〜99.6重量%の割合で含有し、極性官能基を有する単量体に由来する構成単位を、好ましくは0.1〜20重量%、より好ましくは0.4〜10重量%の割合で含有し、分子内に1個のオレフィン性二重結合と少なくとも1個の芳香環とを有する単量体に由来する構成単位を、好ましくは0〜40重量%、より好ましくは6〜12重量%の割合で含有することができる。   The (meth) acrylic resin (A-1) is a structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester represented by the above formula (I), preferably 60 to 99. It is contained in a proportion of 9% by weight, more preferably 80 to 99.6% by weight, and the structural unit derived from the monomer having a polar functional group is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.8. 4 to 10% by weight of a constituent unit derived from a monomer having one olefinic double bond and at least one aromatic ring in the molecule, preferably 0 to 40% by weight, More preferably, it can contain in the ratio of 6-12 weight%.

(メタ)アクリル系樹脂(A−1)は、式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステル、極性官能基を有する単量体、及び分子内に1個のオレフィン性二重結合と少なくとも1個の芳香環とを有する単量体以外の単量体(以下、「その他の単量体」ともいう。)に由来する構成単位を含んでいてもよい。その他の単量体の具体例は、分子内に脂環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位、スチレン系単量体に由来する構成単位、ビニル系単量体に由来する構成単位、分子内に複数の(メタ)アクリロイル基を有する単量体に由来する構成単位、(メタ)アクリルアミドモノマーに由来する構成単位等を含む。その他の単量体は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   The (meth) acrylic resin (A-1) includes a (meth) acrylic acid ester represented by the formula (I), a monomer having a polar functional group, and one olefinic double bond in the molecule. A structural unit derived from a monomer other than the monomer having at least one aromatic ring (hereinafter also referred to as “other monomer”) may be included. Specific examples of other monomers are derived from structural units derived from (meth) acrylic acid esters having an alicyclic structure in the molecule, structural units derived from styrene monomers, and vinyl monomers. The structural unit includes a structural unit derived from a monomer having a plurality of (meth) acryloyl groups in the molecule, a structural unit derived from a (meth) acrylamide monomer, and the like. Other monomers may be used alone or in combination of two or more.

脂環式構造は、炭素数が通常5以上、好ましくは5〜7程度である。脂環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例は、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸シクロドデシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸tert−ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルフェニル、α−エトキシアクリル酸シクロヘキシル等を含む。   The alicyclic structure usually has 5 or more carbon atoms, preferably about 5 to 7 carbon atoms. Specific examples of the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic structure include isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, ( (Meth) acrylic acid methyl cyclohexyl, (meth) acrylic acid trimethyl cyclohexyl, (meth) acrylic acid tert-butyl cyclohexyl, (meth) acrylic acid cyclohexyl phenyl, α-ethoxyacrylic acid cyclohexyl and the like.

スチレン系単量体の具体例は、スチレン;メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレンのようなアルキルスチレン;フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレンのようなハロゲン化スチレン;ニトロスチレン、アセチルスチレン、メトキシスチレン、ジビニルベンゼン等を含む。   Specific examples of the styrenic monomer include styrene; alkyl styrene such as methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, triethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, heptyl styrene, octyl styrene; Halogenated styrene such as fluorostyrene, chlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene; nitrostyrene, acetylstyrene, methoxystyrene, divinylbenzene and the like.

ビニル系単量体の具体例は、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、2−エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニルのような脂肪酸ビニルエステル;塩化ビニル、臭化ビニルのようなハロゲン化ビニル;塩化ビニリデンのようなハロゲン化ビニリデン;ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールのような含窒素芳香族ビニル;ブタジエン、イソプレン、クロロプレンのような共役ジエン単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等を含む。   Specific examples of vinyl monomers include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl 2-ethylhexanoate, vinyl laurate, and other fatty acid vinyl esters; vinyl chloride, vinyl halides such as vinyl bromide; Examples include vinylidene halides such as vinylidene chloride; nitrogen-containing aromatic vinyls such as vinylpyridine, vinylpyrrolidone and vinylcarbazole; conjugated diene monomers such as butadiene, isoprene and chloroprene; acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.

分子内に複数の(メタ)アクリロイル基を有する単量体の具体例は、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートのような分子内に2個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートのような分子内に3個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体等を含む。   Specific examples of monomers having a plurality of (meth) acryloyl groups in the molecule include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and 1,9-nonanediol. 2 (meth) in the molecule such as di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate A monomer having an acryloyl group; a monomer having three (meth) acryloyl groups in the molecule such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate.

(メタ)アクリルアミド化合物の具体例は、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシプロピル)(メタ)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシブチル)(メタ)アクリルアミド、N−(5−ヒドロキシペンチル)(メタ)アクリルアミド、N−(6−ヒドロキシヘキシル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−(3−ジメチルアミノプロピル)(メタ)アクリルアミド、N−(1,1−ジメチル−3−オキソブチル)(メタ)アクリルアミド、N−〔2−(2−オキソ−1−イミダゾリジニル)エチル〕(メタ)アクリルアミド、2−アクリロイルアミノ−2−メチル−1−プロパンスルホン酸、N−(メトキシメチル)アクリルアミド、N−(エトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N−(プロポキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N−(1−メチルエトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N−(1−メチルプロポキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N−(2−メチルプロポキシメチル)(メタ)アクリルアミド〔別名:N−(イソブトキシメチル)(メタ)アクリルアミド〕、N−(ブトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N−(1,1−ジメチルエトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N−(2−メトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N−(2−エトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N−(2−プロポキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N−〔2−(1−メチルエトキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミド、N−〔2−(1−メチルプロポキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミド、N−〔2−(2−メチルプロポキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミド〔別名:N−(2−イソブトキシエチル)(メタ)アクリルアミド〕、N−(2−ブトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N−〔2−(1,1−ジメチルエトキシ)エチル〕(メタ)アクリルアミド等を含む。   Specific examples of the (meth) acrylamide compound include N-methylol (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide, N- (3-hydroxypropyl) (meth) acrylamide, and N- (4-hydroxy). Butyl) (meth) acrylamide, N- (5-hydroxypentyl) (meth) acrylamide, N- (6-hydroxyhexyl) (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meta) ) Acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N- (3-dimethylaminopropyl) (meth) acrylamide, N- (1,1-dimethyl-3-oxobutyl) (meth) acrylamide, N- [2- (2 -Oxo-1-imidazolidinyl) ethyl] (meth) acrylamide, -Acryloylamino-2-methyl-1-propanesulfonic acid, N- (methoxymethyl) acrylamide, N- (ethoxymethyl) (meth) acrylamide, N- (propoxymethyl) (meth) acrylamide, N- (1-methyl) Ethoxymethyl) (meth) acrylamide, N- (1-methylpropoxymethyl) (meth) acrylamide, N- (2-methylpropoxymethyl) (meth) acrylamide [also known as N- (isobutoxymethyl) (meth) acrylamide] N- (butoxymethyl) (meth) acrylamide, N- (1,1-dimethylethoxymethyl) (meth) acrylamide, N- (2-methoxyethyl) (meth) acrylamide, N- (2-ethoxyethyl) ( (Meth) acrylamide, N- (2-propoxyethyl) (meth) Kurylamide, N- [2- (1-methylethoxy) ethyl] (meth) acrylamide, N- [2- (1-methylpropoxy) ethyl] (meth) acrylamide, N- [2- (2-methylpropoxy) ethyl ] (Meth) acrylamide [Alternative name: N- (2-isobutoxyethyl) (meth) acrylamide], N- (2-butoxyethyl) (meth) acrylamide, N- [2- (1,1-dimethylethoxy) ethyl ] (Meth) acrylamide and the like.

(メタ)アクリル系樹脂(A−1)は、その固形分全体の量を基準に、その他の単量体に由来する構成単位を、通常0〜20重量%、好ましくは0〜10重量%の割合で含有する。   The (meth) acrylic resin (A-1) is based on the amount of the entire solid content, and is usually 0 to 20% by weight, preferably 0 to 10% by weight, of structural units derived from other monomers. Contains in proportions.

粘着剤層と隣接する部材との密着性の観点から、(メタ)アクリル系樹脂(A−1)は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が50万以上であることが好ましく、60万以上であることがより好ましい。(メタ)アクリル系樹脂(A−1)のMwは、通常170万以下である。   From the viewpoint of the adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer and the adjacent member, the (meth) acrylic resin (A-1) has a weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene of 50 by gel permeation chromatography (GPC). It is preferably 10,000 or more, more preferably 600,000 or more. The Mw of the (meth) acrylic resin (A-1) is usually 1.7 million or less.

(メタ)アクリル系粘着剤組成物のベースポリマーは、(メタ)アクリル系樹脂(A−1)を2種以上含んでいてもよい。また当該ベースポリマーは、(メタ)アクリル系樹脂(A−1)に加えて、これとは異なる(メタ)アクリル系樹脂、例えば、式(I)の(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位を有し、かつ極性官能基を有さない(メタ)アクリル系樹脂(A−2)や、上記式(I)で示される(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位を主成分とし、Mwが0.5万〜12万の範囲にある(メタ)アクリル系樹脂(A−3)等を含むことができる。   The base polymer of the (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive composition may contain two or more kinds of (meth) acrylic resins (A-1). In addition to the (meth) acrylic resin (A-1), the base polymer is a structural unit derived from a (meth) acrylic resin different from this, for example, a (meth) acrylic acid ester of the formula (I) And a structural unit derived from the (meth) acrylic resin (A-2) having no polar functional group and the (meth) acrylic acid ester represented by the above formula (I) as a main component, Mw (Meth) acrylic resin (A-3) etc. in the range of 50,000-120,000.

粘着剤組成物は、架橋剤(B)をさらに含有していてもよい。架橋剤は、(メタ)アクリル系樹脂のようなベースポリマー中の特に極性官能基含有単量体に由来する構成単位と反応し、ベースポリマーを架橋させる化合物である。具体的には、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、金属キレート系化合物等が例示される。これらのうち、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物及びアジリジン系化合物は、ベースポリマー中の極性官能基と反応し得る官能基を分子内に少なくとも2個有する。架橋剤(B)は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The pressure-sensitive adhesive composition may further contain a crosslinking agent (B). The crosslinking agent is a compound that reacts with a structural unit derived from a polar functional group-containing monomer in the base polymer such as a (meth) acrylic resin to crosslink the base polymer. Specific examples include isocyanate compounds, epoxy compounds, aziridine compounds, metal chelate compounds, and the like. Among these, the isocyanate compound, the epoxy compound, and the aziridine compound have at least two functional groups that can react with the polar functional group in the base polymer. Only 1 type may be used for a crosslinking agent (B) individually, and 2 or more types may be used together.

イソシアネート系化合物は、分子内に少なくとも2個のイソシアナト基(−NCO)を有する化合物である。イソシアネート系化合物の具体例は、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等を含む。また、これらのイソシアネート化合物に、グリセロールやトリメチロールプロパンのようなポリオールを反応させたアダクト体や、イソシアネート化合物を二量体、三量体等にしたものも架橋剤(B)となり得る。   An isocyanate compound is a compound having at least two isocyanato groups (—NCO) in the molecule. Specific examples of the isocyanate compound include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate and the like. In addition, adducts obtained by reacting these isocyanate compounds with polyols such as glycerol and trimethylolpropane, and those obtained by converting isocyanate compounds into dimers, trimers, and the like can also serve as the crosslinking agent (B).

エポキシ系化合物は、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ系化合物の具体例は、ビスフェノールA型のエポキシ樹脂、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、N,N−ジグリシジルアニリン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N’−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン等を含む。   The epoxy compound is a compound having at least two epoxy groups in the molecule. Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A type epoxy resin, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, and trimethylolpropane. Including triglycidyl ether, N, N-diglycidylaniline, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N′-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, etc. .

アジリジン系化合物は、エチレンイミンとも呼ばれる1個の窒素原子と2個の炭素原子とからなる3員環の骨格を分子内に少なくとも2個有する化合物である。アジリジン系化合物の具体例は、ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキサミド)、トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキサミド)、トリエチレンメラミン、イソフタロイルビス−1−(2−メチルアジリジン)、トリス−1−アジリジニルホスフィンオキサイド、ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキサミド)、トリメチロールプロパン−トリス−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリス−β−アジリジニルプロピオネート等を含む。   An aziridine-based compound is a compound having at least two 3-membered ring skeletons composed of one nitrogen atom and two carbon atoms, also called ethyleneimine. Specific examples of the aziridine compound include diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxamide), toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide), triethylenemelamine, isophthaloylbis-1- (2 -Methylaziridine), tris-1-aziridinylphosphine oxide, hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane-tris-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tris -Β-aziridinyl propionate and the like.

金属キレート化合物の具体例は、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロム及びジルコニウム等の多価金属に、アセチルアセトンやアセト酢酸エチルが配位した化合物等を含む。   Specific examples of metal chelate compounds include compounds in which acetylacetone or ethyl acetoacetate is coordinated to a polyvalent metal such as aluminum, iron, copper, zinc, tin, titanium, nickel, antimony, magnesium, vanadium, chromium and zirconium. Including.

架橋剤(B)は、ベースポリマー(2種以上用いる場合はそれらの合計)の固形分100重量部に対して、通常0.05〜5重量部、好ましくは0.1〜5重量部の割合で含有される。架橋剤(B)の含有量が0.05重量部以上であると、粘着剤層の耐久性が向上する傾向にある。   The crosslinking agent (B) is usually in a proportion of 0.05 to 5 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the base polymer (total of two or more if used) Contained. When the content of the crosslinking agent (B) is 0.05 parts by weight or more, the durability of the pressure-sensitive adhesive layer tends to be improved.

粘着剤層40は、帯電防止剤を含み得る。帯電防止剤として、金属微粒子、金属酸化物微粒子、又は金属等をコーティングした微粒子のような、導電性の微粒子、電解質塩とオルガノポリシロキサンからなるイオン導電性組成物、イオン性化合物などを用いることができる。   The pressure-sensitive adhesive layer 40 can contain an antistatic agent. As an antistatic agent, conductive fine particles such as metal fine particles, metal oxide fine particles, or fine particles coated with metal, an ionic conductive composition composed of an electrolyte salt and an organopolysiloxane, an ionic compound, or the like is used. Can do.

粘着剤層40がイオン性化合物を含む場合、イオン性化合物は、ベースポリマー(2種以上用いる場合はそれらの合計)の固形分100重量部に対して、好ましくは0.1〜8重量部、より好ましくは0.2〜5重量部の割合で配合される。イオン性化合物の含有量が0.2重量部以上であることは、帯電防止性の向上に有利であり、8重量部以下であることは、粘着剤層の耐久性向上に有利である。ただし、粘着剤層付帯電防止性偏光板300をオンセル方式のタッチ入力式液晶表示装置に適用する場合には、粘着剤層40に含まれるイオン性化合物に起因するタッチ入力素子の金属含有層の腐食を抑制するために、イオン性化合物の含有量は、ベースポリマーの固形分100重量部に対して、0.2重量部以下とすることが好ましく、より好ましくは0.1重量部以下、さらに好ましくは0.05重量部以下、特に好ましくは0.01重量部以下である。   When the pressure-sensitive adhesive layer 40 contains an ionic compound, the ionic compound is preferably 0.1 to 8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the base polymer (when two or more are used), More preferably, it mix | blends in the ratio of 0.2-5 weight part. The content of the ionic compound being 0.2 parts by weight or more is advantageous for improving the antistatic property, and the content of 8 parts by weight or less is advantageous for improving the durability of the pressure-sensitive adhesive layer. However, when the antistatic polarizing plate 300 with an adhesive layer is applied to an on-cell touch input type liquid crystal display device, the metal-containing layer of the touch input element resulting from the ionic compound contained in the adhesive layer 40 is used. In order to suppress corrosion, the content of the ionic compound is preferably 0.2 parts by weight or less, more preferably 0.1 parts by weight or less, and more preferably 0.1 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the solid content of the base polymer. Preferably it is 0.05 weight part or less, Most preferably, it is 0.01 weight part or less.

粘着剤組成物には、必要に応じて、他の成分を配合することもできる。配合し得る他の成分として、シランカップリング剤、架橋触媒、耐候安定剤、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、染料、顔料、無機フィラー、ベースポリマー以外の樹脂、有機ビーズ等の光拡散性微粒子、防錆剤などが挙げられる。また、粘着剤組成物に紫外線硬化性化合物を配合し、粘着剤層を形成した後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い粘着剤層とすることも有用である。   The pressure-sensitive adhesive composition may contain other components as necessary. Other components that can be blended include silane coupling agents, cross-linking catalysts, weathering stabilizers, tackifiers, plasticizers, softeners, dyes, pigments, inorganic fillers, resins other than base polymers, and light diffusing fine particles such as organic beads. And rust preventives. It is also useful to blend an ultraviolet curable compound into the pressure-sensitive adhesive composition and form a pressure-sensitive adhesive layer and then cure it by irradiating with ultraviolet rays to form a harder pressure-sensitive adhesive layer.

防錆剤としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、その他のトリアゾール系化合物;ベンゾチアゾール系化合物、その他のチアゾール系化合物;ベンゾイミダゾール系化合物、その他のイミダゾール系化合物;イミダゾリン系化合物;キノリン系化合物;ピリジン系化合物;ピリミジン系化合物;インドール系化合物;アミン系化合物;ウレア系化合物;ナトリウムベンゾエート;ベンジルメルカプト系化合物;ジ−sec−ブチルスルフィド;フェニルスルホキサイドなどが挙げられる。   Examples of the rust preventive include benzotriazole compounds, other triazole compounds; benzothiazole compounds, other thiazole compounds; benzimidazole compounds, other imidazole compounds; imidazoline compounds; quinoline compounds; Compound; pyrimidine compound; indole compound; amine compound; urea compound; sodium benzoate; benzyl mercapto compound; di-sec-butyl sulfide;

粘着剤組成物は、防錆剤を含有していてもよいが、その含有量はできるだけ少ないことが好ましく、粘着剤組成物を構成するベースポリマー(2種以上用いる場合はそれらの合計)の固形分100重量部に対する防錆剤の含有量は、通常15重量部以下であり、0.01重量部以下、理想的には0(ゼロ)であることが好ましい。   The pressure-sensitive adhesive composition may contain a rust preventive agent, but its content is preferably as small as possible, and the solids of the base polymers (the total of them when two or more are used) constituting the pressure-sensitive adhesive composition The content of the rust inhibitor with respect to 100 parts by weight per minute is usually 15 parts by weight or less, preferably 0.01 parts by weight or less, and ideally 0 (zero).

粘着剤組成物は通常、有機溶剤を含有させることによって配合成分を溶解又は分散させた粘着剤液として調製される。有機溶剤は、ベースポリマーの種類に応じて選択されることが好ましい。有機溶剤の具体例は、トルエン、キシレンのような芳香族系炭化水素;ヘキサン、ヘプタン、ペンタンのような脂肪族系炭化水素、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類を含む。粘着剤液中のベースポリマーの濃度は、通常3〜40重量%である。   The pressure-sensitive adhesive composition is usually prepared as a pressure-sensitive adhesive liquid in which a compounding component is dissolved or dispersed by containing an organic solvent. The organic solvent is preferably selected according to the type of the base polymer. Specific examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and pentane; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ethyl acetate and butyl acetate. Including various esters. The concentration of the base polymer in the adhesive liquid is usually 3 to 40% by weight.

粘着剤層40を帯電防止層30上に形成する方法としては、例えば、基材としてセパレートフィルムを用い、上記の粘着剤組成物を塗布して粘着剤層40を形成し、得られる粘着剤層40を帯電防止層30の表面に移設する方法、帯電防止層30の表面に上記の粘着剤組成物を直接塗布して粘着剤層40を形成し、その粘着剤40の外面にセパレートフィルムを貼り合わせる方法などが採用される。また、1枚のセパレートフィルム上に粘着剤層40を形成した後、さらにその粘着剤層40の上に別のセパレートフィルムを貼合して、両面セパレートフィルム型粘着剤シートとすることもできる。このような粘着剤シートは、必要な時期に片側のセパレートフィルムを剥がし、帯電防止層30へ貼合される。   As a method for forming the pressure-sensitive adhesive layer 40 on the antistatic layer 30, for example, a separate film is used as a base material, and the pressure-sensitive adhesive layer 40 is formed by applying the above pressure-sensitive adhesive composition. 40 is transferred to the surface of the antistatic layer 30, the pressure-sensitive adhesive composition is directly applied to the surface of the antistatic layer 30 to form the pressure-sensitive adhesive layer 40, and a separate film is attached to the outer surface of the pressure-sensitive adhesive 40. A method of matching is adopted. Moreover, after forming the adhesive layer 40 on one sheet of separate film, another separate film may be bonded on the adhesive layer 40 to form a double-sided separate film type adhesive sheet. Such a pressure-sensitive adhesive sheet is peeled off one side of the separate film at a necessary time and bonded to the antistatic layer 30.

セパレートフィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリプロピレン又はポリエチレンのような各種の樹脂から構成され得るフィルムを基材とし、この基材の粘着剤層40との接合面に、シリコーン処理のような離型処理が施されたものであることができる。   The separate film has, as a base material, a film that can be composed of various resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyarylate, polypropylene, or polyethylene. In addition, a release treatment such as a silicone treatment can be performed.

粘着剤液を塗布し、溶剤を乾燥させて得られる粘着剤層40は、例えば、温度23℃、相対湿度65%の環境下で1〜20日程度熟成され、架橋剤の反応が十分に進行した後、液晶セルやタッチ入力素子等への貼着に用いられる。   The pressure-sensitive adhesive layer 40 obtained by applying the pressure-sensitive adhesive liquid and drying the solvent is aged for about 1 to 20 days in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%, for example, and the reaction of the crosslinking agent proceeds sufficiently. After that, it is used for sticking to a liquid crystal cell, a touch input element or the like.

粘着剤層40の厚みは、10〜45μmであるのが好ましく、さらには15〜35μmであるのがより好ましい。粘着剤層40の厚みが45μm以下であることは、隣接する部材との密着性に有利である。またその厚みが10μm以上であると、隣接する部材の寸法変化に対する粘着剤層40の追随性が良好となる。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 40 is preferably 10 to 45 μm, and more preferably 15 to 35 μm. That the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 40 is 45 μm or less is advantageous for adhesion with an adjacent member. Moreover, the followability of the adhesive layer 40 with respect to the dimensional change of an adjacent member becomes favorable as the thickness is 10 micrometers or more.

(5)金属含有層
金属含有層60としては、ITO(インジウム・錫の酸化物)、錫・アンチモンの酸化物等の薄膜や、アルミニウム、金、銀、銅、チタン、パラジウム、クロム、ニッケル、タングステン、白金、鉄、インジウム、スズ、イリジウム、ロジウム、ネオジウム、モリブデン、又はこれらの合金などの金属の薄膜からなる金属含有層を用いることができる。中でも、優れた導電率及び低コストの観点から、アルミニウム、金、銀、銅、チタン、パラジウム、クロム、ニッケル、タングステン、白金、鉄、インジウム、スズ、イリジウム、ロジウム、ネオジウム、モリブデン、又はこれらの合金などの金属の薄膜からなる金属含有層を用いることが好ましい。金属含有層60は、透光性基板70上の全面にわたって形成された連続膜であってもよいし、メタルメッシュで構成される金属配線層であってもよい。
(5) Metal-containing layer As the metal-containing layer 60, thin films such as ITO (indium / tin oxide), tin / antimony oxide, aluminum, gold, silver, copper, titanium, palladium, chromium, nickel, A metal-containing layer formed of a thin film of metal such as tungsten, platinum, iron, indium, tin, iridium, rhodium, neodymium, molybdenum, or an alloy thereof can be used. Among these, from the viewpoint of excellent conductivity and low cost, aluminum, gold, silver, copper, titanium, palladium, chromium, nickel, tungsten, platinum, iron, indium, tin, iridium, rhodium, neodymium, molybdenum, or these It is preferable to use a metal-containing layer made of a metal thin film such as an alloy. The metal-containing layer 60 may be a continuous film formed over the entire surface of the translucent substrate 70 or a metal wiring layer formed of a metal mesh.

金属含有層60の形成方法は特に限定されず、透光性基板70の表面に、真空蒸着法、イオンビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を利用して形成することができる。また、金属含有層60の形成方法として、インクジェット印刷法、グラビア印刷法も挙げられる。金属含有層60は、金属箔を加工して得られた金属含有層60を設けることにより形成することもできる。   The formation method of the metal containing layer 60 is not specifically limited, It can form on the surface of the translucent board | substrate 70 using a vacuum evaporation method, an ion beam evaporation method, sputtering method, an ion plating method etc. Examples of the method for forming the metal-containing layer 60 include an inkjet printing method and a gravure printing method. The metal-containing layer 60 can also be formed by providing a metal-containing layer 60 obtained by processing a metal foil.

スパッタリング法により形成された金属含有層60は、例えば金属箔を加工して得られた金属含有層60に比べて一般に、耐腐食性に劣る傾向にあるが、本発明の光学積層体は、このようなスパッタリング法により形成された金属含有層であっても、腐食を抑制できる。このため、本発明の光学積層体は、金属含有層60がスパッタリング法により形成されたものである場合に、特に有効である。   The metal-containing layer 60 formed by sputtering is generally inferior in corrosion resistance as compared with the metal-containing layer 60 obtained by processing a metal foil, for example. Even a metal-containing layer formed by such a sputtering method can suppress corrosion. For this reason, the optical layered body of the present invention is particularly effective when the metal-containing layer 60 is formed by a sputtering method.

金属含有層60の厚みは、薄型化の点で、好ましくは3μm以下、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.8μm以下であり、通常は0.01μm以上である。このような厚みの金属含有層60であっても、本発明の光学積層体では金属含有層60の腐食を抑えることができる。   The thickness of the metal-containing layer 60 is preferably 3 μm or less, more preferably 1 μm or less, still more preferably 0.8 μm or less, and usually 0.01 μm or more in terms of thinning. Even with the metal-containing layer 60 having such a thickness, corrosion of the metal-containing layer 60 can be suppressed in the optical laminate of the present invention.

金属含有層60がメタルメッシュで構成される金属含有配線層である場合、その線幅は通常、10μm以下、好ましくは5μm以下、さらに好ましくは3μm以下であり、通常は0.5μm以上である。このような線幅の狭い金属含有層60であっても、本発明の光学積層体は金属含有層60の腐食を抑えることができる。   When the metal-containing layer 60 is a metal-containing wiring layer composed of a metal mesh, the line width is usually 10 μm or less, preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, and usually 0.5 μm or more. Even with such a metal-containing layer 60 having a narrow line width, the optical layered body of the present invention can suppress corrosion of the metal-containing layer 60.

本発明の光学積層体によれば、金属含有層60が、例えば厚み3μm以下であり線幅10μm以下である金属含有配線層(メタルメッシュ)や、厚み3μm以下であり線幅10μm以下であり、スパッタリング法により形成された金属含有配線層(メタルメッシュ)であっても、その腐食を抑えることができる。   According to the optical laminate of the present invention, the metal-containing layer 60 is, for example, a metal-containing wiring layer (metal mesh) having a thickness of 3 μm or less and a line width of 10 μm or less, or a thickness of 3 μm or less and a line width of 10 μm or less. Even a metal-containing wiring layer (metal mesh) formed by a sputtering method can suppress corrosion.

また、光学積層体400,500をオンセル方式のタッチ入力式液晶表示装置などに適用する場合、金属含有層60として、透光性基板70上に、金属を微細なメッシュ状に加工して形成されるメタルメッシュを用いることもできる。メタルメッシュを形成する金属としては、アルミニウム、金、銀、銅、チタン、パラジウム、クロム、ニッケル、タングステン、白金、鉄、インジウム、スズ、イリジウム、ロジウム、ネオジウム、モリブデン、又はこれらの合金等を用いることができる。   When the optical laminates 400 and 500 are applied to an on-cell touch input type liquid crystal display device or the like, the metal-containing layer 60 is formed on the light-transmitting substrate 70 by processing a metal into a fine mesh. A metal mesh can also be used. As the metal forming the metal mesh, aluminum, gold, silver, copper, titanium, palladium, chromium, nickel, tungsten, platinum, iron, indium, tin, iridium, rhodium, neodymium, molybdenum, or an alloy thereof is used. be able to.

メタルメッシュを形成する金属として、これらの金属の中でも、優れた導電性及びコストの点から、アルミニウム、銅、銀、又はこれらから選択される1種以上の金属を含む合金が好ましい。メタルメッシュを構成する金属成分は、アルミニウム、銅及び/又は銀が主成分であること、すなわち、これらの合計含有量が30重量%以上、さらには50重量%以上であることが好ましい。   Of these metals, the metal forming the metal mesh is preferably aluminum, copper, silver, or an alloy containing one or more metals selected from these from the viewpoint of excellent conductivity and cost. It is preferable that the metal component which comprises a metal mesh has aluminum, copper, and / or silver as a main component, ie, these total content is 30 weight% or more, Furthermore, it is preferable that it is 50 weight% or more.

金属含有層60がメタルメッシュである場合、金属含有層60は単層構造であってもよいし、2層又は3層以上の多層構造であってもよい。多層構造の金属含有層(メタルメッシュ)としては、例えばモリブデン/アルミニウム/モリブデンで示される3層構造の金属含有層(メタルメッシュ)が挙げられる。   When the metal-containing layer 60 is a metal mesh, the metal-containing layer 60 may have a single layer structure or a multilayer structure of two layers or three or more layers. Examples of the metal-containing layer (metal mesh) having a multilayer structure include a metal-containing layer (metal mesh) having a three-layer structure represented by molybdenum / aluminum / molybdenum.

金属含有層60とともに、ITO等の金属酸化物からなる透明電極層を有していてもよい。   You may have the transparent electrode layer which consists of metal oxides, such as ITO, with the metal containing layer 60. FIG.

図3に示す光学積層体600のように、金属含有層60が、所定の形状にパターンニングされた金属配線層(メタルメッシュ)である場合において、この金属配線層の上に直接、粘着剤層40を積層するときには、粘着剤層40は、金属含有層60に接触せずに、その下の透光性基板70に直接接触する部分を有していてもよい。   In the case where the metal-containing layer 60 is a metal wiring layer (metal mesh) patterned into a predetermined shape as in the optical laminated body 600 shown in FIG. 3, an adhesive layer directly on the metal wiring layer. When laminating 40, the pressure-sensitive adhesive layer 40 may have a portion that does not contact the metal-containing layer 60 but directly contacts the light-transmitting substrate 70 below.

金属含有層60が、アルミニウム、銅、銀、鉄、スズ、ニッケル及びインジウムからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含む場合、イオン性化合物を含む粘着剤層40とともに用いられると、光学積層体400,500,600の使用に伴い、金属含有層60が腐食するおそれがある。本発明に係る光学積層体400,500,600によれば、帯電防止層30を含むため、粘着剤層40がイオン性化合物を含まない構成としたり、粘着剤層40中のイオン性化合物の含有量を大幅に低減したりことができ、これにより金属含有層60の腐食を防止することが可能となる。   When the metal-containing layer 60 includes at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, iron, tin, nickel, and indium, when used with the pressure-sensitive adhesive layer 40 including an ionic compound, With the use of the optical laminate 400, 500, 600, the metal-containing layer 60 may corrode. According to the optical laminates 400, 500, and 600 according to the present invention, since the antistatic layer 30 is included, the pressure-sensitive adhesive layer 40 does not include an ionic compound, or the ionic compound is contained in the pressure-sensitive adhesive layer 40. The amount of the metal-containing layer 60 can be prevented from being corroded.

(6)オーバーコート層
オーバーコート層50は、透明電極層60を保護する機能を有する。オーバーコート層50は、透明電極層60の性能を損なわないものであれば、公知の硬化性樹脂のいずれも用いることができる。オーバーコート層50を構成する樹脂としては、例えば、保護フィルム21,22と偏光子11との間の接着剤層に用いられる、活性エネルギー線硬化性接着剤と同様の樹脂が挙げられる。具体的には、多官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物から構成することができる。
(6) Overcoat layer The overcoat layer 50 has a function of protecting the transparent electrode layer 60. As long as the overcoat layer 50 does not impair the performance of the transparent electrode layer 60, any known curable resin can be used. As resin which comprises the overcoat layer 50, resin similar to the active energy ray hardening adhesive used for the adhesive bond layer between the protective films 21 and 22 and the polarizer 11 is mentioned, for example. Specifically, it can be comprised from hardened | cured material of active energy ray curable resin, such as polyfunctional (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate.

(7)透光性基板
透光性基板70としては、ガラス基板を用いることができる。ガラス基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラスなどがある。透光性基板70は、タッチ入力式液晶表示装置における液晶セルを構成する透明基板であることができる。
(7) Translucent Substrate As the translucent substrate 70, a glass substrate can be used. Examples of the material for the glass substrate include soda lime glass, low alkali glass, and non-alkali glass. The translucent substrate 70 can be a transparent substrate constituting a liquid crystal cell in the touch input type liquid crystal display device.

(8)液晶表示装置
本発明に係る光学積層体は、タッチ入力式液晶表示装置に組み込んで使用することができる。タッチ入力式液晶表示装置は、アウトセル型であってもよいし、オンセル型であってもよいし、インセル型であってもよい。タッチ入力の動作方式は、抵抗膜方式であってもよいし、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式などの静電容量方式であってもよい。本発明の光学積層体は、タッチ入力式液晶表示装置を構成する液晶セルの視認側に配置されていてもよいし、背面側(通常はバックライト側)に配置されていてもよく、視認側及び背面側の両方に配置されていてもよい。液晶セルの駆動方式は特に限定されるものではなく、TN方式、VA方式、IPS方式、マルチドメイン方式、OCD方式などが挙げられる。
(8) Liquid Crystal Display Device The optical laminate according to the present invention can be used by being incorporated in a touch input type liquid crystal display device. The touch input type liquid crystal display device may be an out-cell type, an on-cell type, or an in-cell type. The operation method of touch input may be a resistive film method, or may be a capacitance method such as a surface capacitance method or a projection capacitance method. The optical layered body of the present invention may be disposed on the viewing side of the liquid crystal cell constituting the touch input type liquid crystal display device, or may be disposed on the back side (usually the backlight side). And it may be arranged on both the back side. The driving method of the liquid crystal cell is not particularly limited, and examples thereof include a TN method, a VA method, an IPS method, a multi-domain method, and an OCD method.

本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。ただし、これらの実施例により本発明が限定されるものではない。以下、使用量ないし含有量を表す「部」及び「%」は、特に断りのない限り重量基準である。   The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. Hereinafter, “parts” and “%” representing amounts used or contents are based on weight unless otherwise specified.

[光学積層体の作製]
(偏光子の作製)
厚み30μmのポリビニルアルコールフィルム(平均重合度約2400、ケン化度99.9モル%以上)を乾式延伸により約5倍に縦一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、60℃の純水に1分間浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の重量比が0.05/5/100である28℃の水溶液に60秒間浸漬した。その後、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の重量比が8.5/8.5/100である72℃の水溶液に300秒間浸漬した。引き続き26℃の純水で20秒間洗浄した後、65℃で乾燥処理を行って、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み11μmの偏光子を得た。
[Production of optical laminate]
(Production of polarizer)
A 30 μm-thick polyvinyl alcohol film (average polymerization degree of about 2400, saponification degree of 99.9 mol% or more) is about 5 times longitudinally uniaxially stretched by dry stretching and further maintained in a 60 ° C. pure water while maintaining tension. After being immersed for 1 minute, it was immersed for 60 seconds in a 28 ° C. aqueous solution having a weight ratio of iodine / potassium iodide / water of 0.05 / 5/100. Then, it was immersed for 300 seconds in 72 degreeC aqueous solution whose weight ratio of potassium iodide / boric acid / water is 8.5 / 8.5 / 100. Subsequently, after washing with pure water at 26 ° C. for 20 seconds, drying treatment was performed at 65 ° C. to obtain a 11 μm thick polarizer in which iodine was adsorbed and oriented on the polyvinyl alcohol film.

<保護フィルムの用意>
保護フィルムA:日本ゼオン(株)製の環状ポリオレフィン系樹脂フィルム(厚み23μm)を用意した。
<Preparation of protective film>
Protective film A: A cyclic polyolefin resin film (thickness: 23 μm) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. was prepared.

保護フィルムB:表面にケン化処理が施された、コニカミノルタオプト(株)製のトリアセチルセルロースフィルム(厚み25μm)を用意した。   Protective film B: A triacetyl cellulose film (thickness 25 μm) manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd., whose surface was saponified was prepared.

<帯電防止層用塗工液の用意>
帯電防止層用塗工液#1:加水分解性有機珪素化合物を含む塗工液(コルコート(株)製の「コルコートN−103X」、固形分濃度2重量%、溶媒:2−プロパノール(40重量%)、1−ブタノール(50重量%)、エタノール(4重量%)、水(4重量%))を用意した。
<Preparation of coating solution for antistatic layer>
Coating solution for antistatic layer # 1: Coating solution containing hydrolyzable organosilicon compound ("Colcoat N-103X" manufactured by Colcoat Co., Ltd., solid content concentration 2% by weight, solvent: 2-propanol (40% by weight) %), 1-butanol (50 wt%), ethanol (4 wt%), water (4 wt%)).

帯電防止層用塗工液#2:ポリチオフェン系導電性ポリマーを含む溶液(綜研化学(株)製の「ベラゾールWED−SM」、固形分濃度1.5%、溶媒は水)と、ポリビニルアルコール水溶液(固形分濃度6.2%)を、1:3の割合で混合して塗工液を作製した。塗工液中の固形分濃度は2.5%である。   Antistatic layer coating solution # 2: solution containing polythiophene-based conductive polymer (“VERAZOL WED-SM” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., solid content concentration 1.5%, solvent is water), and polyvinyl alcohol aqueous solution (Solid content concentration of 6.2%) was mixed at a ratio of 1: 3 to prepare a coating solution. The solid content concentration in the coating liquid is 2.5%.

帯電防止層用塗工液#3:ポリチオフェン系導電性ポリマーを含む溶液(ナガセケムテックス(株)製の「デナトロンP−502RG」、固形分濃度4%、溶媒は水)を、希釈液(水と2−プロパノールとを体積比2:8で含む)に、11倍希釈となるように混合して塗工液を作製した。塗工液中の固形分濃度は0.36%である。   Antistatic layer coating solution # 3: A solution containing polythiophene-based conductive polymer (“Denatron P-502RG” manufactured by Nagase ChemteX Corporation, solid content concentration 4%, solvent is water) is diluted with water (water). And 2-propanol in a volume ratio of 2: 8) were mixed so as to be 11 times diluted to prepare a coating solution. The solid content concentration in the coating solution is 0.36%.

<粘着剤層の用意>
粘着剤層#7:両面にセパレートフィルムが貼合された粘着剤層(リンテック(株)製、厚み25μm)を用意した。
<Preparation of adhesive layer>
Pressure-sensitive adhesive layer # 7: A pressure-sensitive adhesive layer (produced by Lintec Co., Ltd., thickness: 25 μm) having a separate film bonded on both sides was prepared.

粘着剤層#A:粘着剤層#Aを以下の手順で用意した。
冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル81.8部、アクリル酸ブチル70.4部、アクリル酸メチル20.0部、アクリル酸2−フェノキシエチル8.0部、アクリル酸2−ヒドロキシエチル1.0部、及びアクリル酸0.6部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら、内温を55℃に上げた。その後、重合開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル0.14部を酢酸エチル10部に溶かした溶液を全量添加した。開始剤添加1時間後に、アクリル樹脂の濃度が35%になるよう、添加速度17.3部/hrで酢酸エチルを連続的に反応容器内へ加えながら、内温54〜56℃で12時間保温し、最後に酢酸エチルを加えて、アクリル樹脂の濃度が20%となるように調節した。得られたアクリル樹脂は、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwが142万、Mw/Mnが5.2であった。これをアクリル樹脂Aとする。
Adhesive layer #A: Adhesive layer #A was prepared by the following procedure.
In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirrer, 81.8 parts of ethyl acetate, 70.4 parts of butyl acrylate, 20.0 parts of methyl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate 8.0 Part of the mixture, 1.0 part of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.6 part of acrylic acid were charged, and the internal temperature was raised to 55 ° C. while substituting the air in the apparatus with nitrogen gas to eliminate oxygen. It was. Thereafter, a total amount of a solution obtained by dissolving 0.14 part of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator in 10 parts of ethyl acetate was added. One hour after the addition of the initiator, the temperature was maintained at 54 to 56 ° C. for 12 hours while ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts / hr so that the concentration of the acrylic resin was 35%. Finally, ethyl acetate was added to adjust the acrylic resin concentration to 20%. The obtained acrylic resin had a polystyrene-reduced weight average molecular weight Mw by GPC of 1,420,000 and Mw / Mn of 5.2. This is designated as acrylic resin A.

上記アクリル樹脂Aの固形分100部に対し、以下のイオン性化合物2.0部、架橋剤0.5部(固形分)及びシラン系化合物0.5部をそれぞれそこに示す量混合し、さらに固形分濃度が13%となるように酢酸エチルを添加して、粘着剤組成物とした。   With respect to 100 parts of the solid content of the acrylic resin A, 2.0 parts of the following ionic compound, 0.5 part of the cross-linking agent (solid part) and 0.5 part of the silane compound are mixed in the amounts shown therein, respectively. Ethyl acetate was added so that the solid concentration was 13% to obtain a pressure-sensitive adhesive composition.

(イオン性化合物)
N−オクチル−4−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート(下式の構造を有し、融点44℃である。)。
(Ionic compound)
N-octyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate (having the structure of the following formula, melting point: 44 ° C.).

Figure 2016126348
Figure 2016126348

(架橋剤)
コロネートL:日本ポリウレタン(株)社製のトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75%)。
(Crosslinking agent)
Coronate L: Ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd. (solid content concentration 75%).

(シラン系化合物)
KBM−403:信越化学工業(株)社製の3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(液体)。
(Silane compounds)
KBM-403: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (liquid) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

得られた粘着剤組成物を、離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック(株)社製の「PLR−382052」;以下、セパレートフィルムとも記す。)の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚さが20μmとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥して、シート状の粘着剤層#Aを得た。   The obtained pressure-sensitive adhesive composition was subjected to a release treatment on a release-treated polyethylene terephthalate film ("PLR-382052" manufactured by Lintec Co., Ltd .; hereinafter also referred to as a separate film) using an applicator. It apply | coated so that the thickness after drying might be set to 20 micrometers, and it dried at 100 degreeC for 1 minute, and obtained sheet-like adhesive layer #A.

<水系接着剤の調製>
アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製の「ゴーセファイマーZ−200」、4%水溶液の粘度=12.4mPa・sec、ケン化度=99.1モル%)を純水に溶解し、10%濃度の水溶液を調製した。このアセトアセチル基変性ポリビニルアルコール水溶液と、架橋剤となるグリオキシル酸ナトリウムとを、前者:後者の固形分重量比が 1:0.1となるように混合し、さらに水100部に対してアセトアセチル基変性ポリビニルアルコールが2.5部となるように純水で希釈して、水系接着剤を調製した。
<Preparation of aqueous adhesive>
Pure water with acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol (“Gosefimer Z-200” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., viscosity of 4% aqueous solution = 12.4 mPa · sec, degree of saponification = 99.1 mol%) And a 10% strength aqueous solution was prepared. This aqueous solution of acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol and sodium glyoxylate serving as a cross-linking agent are mixed so that the weight ratio of the former: latter solids is 1: 0.1, and acetoacetyl is added to 100 parts of water. A water-based adhesive was prepared by diluting with pure water so that the group-modified polyvinyl alcohol was 2.5 parts.

<金属含有層付透光性基板の用意>
ガラス基板の表面に、厚み500nmのアルミニウム層が形成されたものを用意した。
<Preparation of translucent substrate with metal-containing layer>
A glass substrate having a 500 nm thick aluminum layer formed thereon was prepared.

<実施例1>
次の手順で、図1と同様の層構成を有する光学積層体400を作製した。まず、偏光子11の両面に、上記水系接着剤を23℃の雰囲気下で塗布し、一方の接着剤塗布面には、コロナ処理を施した保護フィルムAを、他方の接着剤塗布面には、コロナ処理を施した保護フィルムBを、それぞれのコロナ処理面が偏光子11との貼合面となるように、貼付装置(フジプラ(株)製の「LPA3301」)を用いて貼合した。これを80℃で5分乾燥して、偏光板を作製した。
<Example 1>
The optical layered body 400 having the same layer configuration as that shown in FIG. First, the above water-based adhesive is applied to both surfaces of the polarizer 11 in an atmosphere of 23 ° C., the protective film A subjected to corona treatment is applied to one adhesive application surface, and the other adhesive application surface is applied to the other adhesive application surface. The protective film B subjected to the corona treatment was pasted using a pasting device (“LPA3301” manufactured by Fuji Plastics Co., Ltd.) so that each corona-treated surface becomes a pasting surface with the polarizer 11. This was dried at 80 ° C. for 5 minutes to produce a polarizing plate.

次に、保護フィルムAの露出表面にコロナ処理を施し、上記帯電防止層用塗工液を、乾燥後厚みが180nmとなるように塗工機(バーコーター、第一理化(株)製)を用いて塗工後、カプトン粘着テープを用いてガラスに貼合した。これを、庫内温度120℃のオーブンに1分間投入した後、オーブンから取り出して、温度23℃、相対湿度50%の条件下で24時間静置した。これにより、保護フィルムAの表面に帯電防止層30が形成された。   Next, the exposed surface of the protective film A is subjected to corona treatment, and the coating solution for the antistatic layer is coated with a coating machine (bar coater, manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd.) so that the thickness after drying is 180 nm. After coating using, it was bonded to glass using Kapton adhesive tape. This was put into an oven having an internal temperature of 120 ° C. for 1 minute, then removed from the oven, and allowed to stand for 24 hours under conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. Thereby, the antistatic layer 30 was formed on the surface of the protective film A.

次に、粘着剤層40として粘着剤層#7のセパレートフィルムの一方を剥離除去した後、剥離によって露出した粘着剤層40の表面に、上記の帯電防止層30を貼合して、粘着剤層付帯電防止性偏光板300を作製した。   Next, after peeling and removing one of the separate layers of the pressure-sensitive adhesive layer # 7 as the pressure-sensitive adhesive layer 40, the above-described antistatic layer 30 is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 40 exposed by peeling, and the pressure-sensitive adhesive A layered antistatic polarizing plate 300 was prepared.

次に、粘着剤層#7のもう一方のセパレートフィルムを剥離除去した後、剥離によって露出した粘着剤層40の表面に上記の金属含有層付透光性基板(主面にアルミニウム層である金属含有層60が形成された透光性基板70)を、その金属含有層60側で貼合し、温度50℃、圧力5kg/cm(490.3kPa)で20分間圧着処理を行って、光学積層体を作製した。 Next, after the other separate film of the pressure-sensitive adhesive layer # 7 is peeled and removed, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 40 exposed by peeling is coated with the above-described translucent substrate with a metal-containing layer (a metal having an aluminum layer on the main surface) The translucent substrate 70) on which the containing layer 60 is formed is bonded on the metal-containing layer 60 side, and subjected to a pressure-bonding treatment at a temperature of 50 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 (490.3 kPa) for 20 minutes. A laminate was produced.

<実施例2>
帯電防止層用塗工液#1に代えて、帯電防止層用塗工液#2を、乾燥後厚みが225nmとなるように塗工した他は、実施例1と同様の方法で光学積層体を作製した。
<Example 2>
The optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the antistatic layer coating solution # 2 was applied so that the thickness after drying was 225 nm instead of the antistatic layer coating solution # 1. Was made.

<実施例3>
帯電防止層用塗工液#1に代えて、帯電防止層用塗工液#3を、乾燥後厚みが324nmとなるように塗工した他は、実施例1と同様の方法で光学積層体を作製した。
<Example 3>
The optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the antistatic layer coating solution # 3 was applied so that the thickness after drying was 324 nm instead of the antistatic layer coating solution # 1. Was made.

<実施例4>
次の手順で、図2と同様の層構成を有する光学積層体500を作製した。実施例1と同様の方法で、粘着剤層付帯電防止性偏光板300を作製した。金属含有層付透光性基板(主面にアルミニウム層である金属含有層60が形成された透光性基板70)の金属含有層60上に、厚み2μmのアクリル系樹脂からなるオーバーコート層を形成し、透光性基板70と金属含有層60とオーバーコート層50との積層体を得た。
<Example 4>
The optical layered body 500 having the same layer configuration as that shown in FIG. In the same manner as in Example 1, an antistatic polarizing plate 300 with an adhesive layer was produced. An overcoat layer made of an acrylic resin having a thickness of 2 μm is formed on the metal-containing layer 60 of the light-transmitting substrate with a metal-containing layer (the light-transmitting substrate 70 on which the metal-containing layer 60 that is an aluminum layer is formed on the main surface). Thus, a laminated body of the translucent substrate 70, the metal-containing layer 60, and the overcoat layer 50 was obtained.

粘着剤層#7のもう一方のセパレートフィルムを剥離除去した後、剥離によって露出した粘着剤層40の表面に上記の積層体を、そのオーバーコート層50側で貼合し、温度50℃、圧力5kg/cm(490.3kPa)で20分間圧着処理を行って、光学積層体を作製した。 After the other separate film of the pressure-sensitive adhesive layer # 7 is peeled and removed, the above laminate is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 40 exposed by peeling on the overcoat layer 50 side, and the temperature is 50 ° C. and the pressure A pressure-bonding treatment was performed at 5 kg / cm 2 (490.3 kPa) for 20 minutes to produce an optical laminate.

<比較例1>
実施例1と同様の方法で偏光板を作製した。次に、偏光板の保護フィルムAの表面に、粘着剤層#Aのセパレートフィルムと反対側の面(粘着剤面)をラミネーターにより貼り合わせたのち、温度23℃、相対湿度65%の条件で7日間養生して、粘着剤層付偏光板を得た。
<Comparative Example 1>
A polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1. Next, the surface opposite to the separate film of the adhesive layer #A (adhesive surface) is bonded to the surface of the protective film A of the polarizing plate with a laminator, and then the temperature is 23 ° C. and the relative humidity is 65%. After curing for 7 days, a polarizing plate with an adhesive layer was obtained.

次に、粘着剤層#Aのセパレートフィルムを剥離除去した後、剥離によって露出した粘着剤層の表面に上記の金属含有層付透光性基板(主面にアルミニウム層である金属含有層60が形成された透光性基板70)を、その金属含有層60側で貼合し、温度50℃、圧力5kg/cm(490.3kPa)で20分間圧着処理を行って、光学積層体を作製した。 Next, after separating and removing the separate film of the pressure-sensitive adhesive layer #A, the above-described translucent substrate with a metal-containing layer (the metal-containing layer 60 that is an aluminum layer on the main surface is formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer exposed by peeling). The formed light-transmitting substrate 70) is bonded on the metal-containing layer 60 side, and subjected to a pressure-bonding treatment at a temperature of 50 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 (490.3 kPa) for 20 minutes to produce an optical laminate. did.

<比較例2>
保護フィルム22の表面に帯電防止層30を形成しない他は、実施例1と同様の方法で積層体を作製した。
<Comparative example 2>
A laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the antistatic layer 30 was not formed on the surface of the protective film 22.

[評価]
(表面抵抗)
粘着剤層40を貼合する前の偏光板の表面(帯電防止層30の表面又は保護フィルム22の表面)、及び粘着剤層40を貼合した後であって金属含有層付透光性基板を貼合する前の粘着剤層付偏光板の表面(セパレートフィルムを剥がした状態の粘着剤層40の表面)について、三菱化学アナリテック社製「Hirest−up MCP−HT450」を用いて表面抵抗値を測定した。測定温度は23℃、相対湿度は50%とした。結果を表1に示す。
[Evaluation]
(Surface resistance)
The surface of the polarizing plate before bonding the pressure-sensitive adhesive layer 40 (the surface of the antistatic layer 30 or the surface of the protective film 22) and the light-transmitting substrate with a metal-containing layer after the pressure-sensitive adhesive layer 40 is bonded. About the surface of the polarizing plate with the pressure-sensitive adhesive layer (the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 40 in a state where the separate film is peeled off) before bonding the film, the surface resistance is measured using “Hirest-up MCP-HT450” manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. The value was measured. The measurement temperature was 23 ° C. and the relative humidity was 50%. The results are shown in Table 1.

(アルミニウム層の腐食)
実施例1〜4及び比較例1〜2で得られた光学積層体を庫内温度80℃、相対湿度90%のオーブンに72時間投入した。光学積層体を取り出した後、アルミニウム層(金属含有層)から粘着剤層付偏光板を剥離除去し、アルミニウム層の腐食を目視にて確認した。アルミニウム層の表面が白濁又は孔食が発生しているものを腐食と判断した。結果を表1に示す。
(Aluminum layer corrosion)
The optical laminates obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 2 were put into an oven having an internal temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 90% for 72 hours. After taking out the optical laminated body, the polarizing plate with an adhesive layer was peeled and removed from the aluminum layer (metal-containing layer), and corrosion of the aluminum layer was visually confirmed. When the surface of the aluminum layer was cloudy or pitting corrosion was judged as corrosion. The results are shown in Table 1.

Figure 2016126348
Figure 2016126348

実施例1〜4においては、アルミニウム層の腐食が防止され、かつ表面抵抗値が比較例1と同程度まで低減された。   In Examples 1 to 4, corrosion of the aluminum layer was prevented, and the surface resistance value was reduced to the same level as in Comparative Example 1.

<実施例5>
金属含有層付透光性基板として無アルカリガラス基板の表面に厚み約200nmのアルミニウム層(金属含有層)をスパッタリング法により積層させたガラス基板(ジオマテック社製)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、光学積層体を作製した。
<Example 5>
Example 1 except that a glass substrate (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) in which an aluminum layer (metal-containing layer) having a thickness of about 200 nm was laminated on the surface of a non-alkali glass substrate by a sputtering method was used as the translucent substrate with a metal-containing layer. In the same manner as described above, an optical laminate was produced.

<実施例6>
金属含有層付透光性基板として無アルカリガラス基板の表面に厚み約200nmのアルミニウム層(金属含有層)をスパッタリング法により積層させたガラス基板(ジオマテック社製)を用いたこと以外は実施例2と同様にして、光学積層体を作製した。
<Example 6>
Example 2 except that a glass substrate (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) in which an aluminum layer (metal-containing layer) having a thickness of about 200 nm was laminated on the surface of a non-alkali glass substrate by a sputtering method was used as the translucent substrate with a metal-containing layer. In the same manner as described above, an optical laminate was produced.

<実施例7>
金属含有層付透光性基板として無アルカリガラス基板の表面に厚み約200nmのアルミニウム層(金属含有層)をスパッタリング法により積層させたガラス基板(ジオマテック社製)を用いたこと以外は実施例3と同様にして、光学積層体を作製した。
<Example 7>
Example 3 except that a glass substrate (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) in which an aluminum layer (metal-containing layer) having a thickness of about 200 nm was laminated on the surface of a non-alkali glass substrate by a sputtering method was used as the translucent substrate with a metal-containing layer. In the same manner as described above, an optical laminate was produced.

<比較例3>
金属含有層付透光性基板として無アルカリガラス基板の表面に厚み約200nmのアルミニウム層(金属含有層)をスパッタリング法により積層させたガラス基板(ジオマテック社製)を用いたこと以外は比較例1と同様にして、光学積層体を作製した。
<Comparative Example 3>
Comparative Example 1 except that a glass substrate (manufactured by Geomat Co.) in which an aluminum layer (metal-containing layer) having a thickness of about 200 nm was laminated on the surface of a non-alkali glass substrate by a sputtering method as a translucent substrate with a metal-containing layer was used. In the same manner as described above, an optical laminate was produced.

<実施例8>
金属含有層付透光性基板として無アルカリガラス基板の表面に厚み約200nmの銀合金(銀を主成分とし、パラジウム及び銅を含む合金、APC)層(金属含有層)をスパッタリング法により積層させたガラス基板(ジオマテック社製)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、光学積層体を作製した。
<Example 8>
As a translucent substrate with a metal-containing layer, a silver alloy layer (metal-containing layer, which is mainly composed of silver and contains palladium and copper, APC) layer having a thickness of about 200 nm is laminated on the surface of a non-alkali glass substrate by a sputtering method. An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a glass substrate (manufactured by Geomat Co.) was used.

<実施例9>
金属含有層付透光性基板として無アルカリガラス基板の表面に厚み約200nmの銀合金(銀を主成分とする合金)層(金属含有層)をスパッタリング法により積層させたガラス基板(ジオマテック社製)を用いたこと以外は実施例2と同様にして、光学積層体を作製した。
<Example 9>
As a translucent substrate with a metal-containing layer, a glass substrate (manufactured by Geomat Co., Ltd.) obtained by laminating a silver alloy (alloy containing silver as a main component) layer (metal-containing layer) with a thickness of about 200 nm on the surface of a non-alkali glass substrate. ) Was used in the same manner as in Example 2 except that an optical laminate was produced.

<実施例10>
金属含有層付透光性基板として無アルカリガラス基板の表面に厚み約200nmの銀合金(銀を主成分とする合金)層(金属含有層)をスパッタリング法により積層させたガラス基板(ジオマテック社製)を用いたこと以外は実施例3と同様にして、光学積層体を作製した。
<Example 10>
As a translucent substrate with a metal-containing layer, a glass substrate (manufactured by Geomat Co., Ltd.) obtained by laminating a silver alloy (alloy containing silver as a main component) layer (metal-containing layer) with a thickness of about 200 nm on the surface of a non-alkali glass substrate. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 3 except that.

(金属含有層の腐食の評価)
(1)実施例5〜実施例7及び比較例3で得られた光学積層体を庫内温度80℃、相対湿度90%のオーブン中に72時間投入した。その後、光学積層体を大気中に取り出し、放冷させ、背面側からバックライトで照明しながら目視(肉眼)により、光学積層体の金属含有層の状態を観察して、金属含有層に孔食、すなわち、0.1mm以上の径の孔の発生が見られないものを腐食「なし」として、孔食(0.1mm以上の径の孔の発生)が見られたものを腐食「あり」として、それぞれ評価した。結果を表2に示す。
(Evaluation of corrosion of metal-containing layers)
(1) The optical layered bodies obtained in Examples 5 to 7 and Comparative Example 3 were put into an oven having an internal temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 90% for 72 hours. Then, the optical layered body is taken out into the atmosphere, allowed to cool, and visually observed (with naked eyes) while illuminating with a backlight from the back side, the state of the metal-containing layer of the optical layered body is observed, and pitting corrosion occurs in the metal-containing layer. That is, the case where no generation of a hole having a diameter of 0.1 mm or more is observed is regarded as “no corrosion”, and the case where pitting corrosion (the generation of a hole having a diameter of 0.1 mm or more) is observed is determined as “the presence of corrosion”. Each was evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2016126348
Figure 2016126348

(2)実施例8〜実施例10で得られた光学積層体を庫内温度80℃、相対湿度90%のオーブン中に160時間投入し、その後、大気中に取り出し、放冷させ、背面側からバックライトで照明しながら目視(肉眼)により、光学積層体の金属含有層の状態を観察して、金属含有層に孔食、即ち0.1mm以上の径の孔の発生が見られないものを腐食「なし」として、孔食(0.1mm以上の径の孔の発生)が見られたものを腐食「あり」として、それぞれ評価した。結果を表3に示す。   (2) The optical laminates obtained in Examples 8 to 10 were put into an oven having an internal temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 90% for 160 hours, then taken out into the atmosphere, allowed to cool, and back side The state of the metal-containing layer of the optical laminate is observed visually (with the naked eye) while illuminating with a backlight, and no pitting corrosion, that is, generation of a hole with a diameter of 0.1 mm or more is not observed in the metal-containing layer The case where pitting corrosion (occurrence of a hole having a diameter of 0.1 mm or more) was observed was evaluated as “corrosion“ present ”. The results are shown in Table 3.

Figure 2016126348
Figure 2016126348

10 偏光板、11 偏光子、21,22 保護フィルム、30,31 帯電防止層、40 粘着剤層、50 オーバーコート層、60 金属含有層、70 透光性基板、100 帯電防止性偏光板、300 粘着剤層付帯電防止性偏光板、400,500,600 光学積層体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Polarizing plate, 11 Polarizer, 21, 22 Protective film, 30, 31 Antistatic layer, 40 Adhesive layer, 50 Overcoat layer, 60 Metal-containing layer, 70 Translucent substrate, 100 Antistatic polarizing plate, 300 Antistatic polarizing plate with pressure-sensitive adhesive layer, 400, 500, 600 optical laminate.

Claims (3)

偏光子を含む偏光板と、帯電防止層と、粘着剤層と、金属含有層とを前記の順で含む、光学積層体。   An optical laminate including a polarizing plate including a polarizer, an antistatic layer, an adhesive layer, and a metal-containing layer in the order described above. 前記金属含有層は、アルミニウム、銅、銀、鉄、スズ、ニッケル及びインジウムからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含む、請求項1に記載の光学積層体。   The optical laminate according to claim 1, wherein the metal-containing layer contains at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, iron, tin, nickel, and indium. 前記粘着剤層と前記金属含有層との間に、オーバーコート層をさらに備える、請求項1又は請求項2に記載の光学積層体。   The optical laminate according to claim 1 or 2, further comprising an overcoat layer between the pressure-sensitive adhesive layer and the metal-containing layer.
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