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JP2016124958A - Curable resin composition and cured article thereof, and semiconductor device - Google Patents

Curable resin composition and cured article thereof, and semiconductor device Download PDF

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JP2016124958A
JP2016124958A JP2014266214A JP2014266214A JP2016124958A JP 2016124958 A JP2016124958 A JP 2016124958A JP 2014266214 A JP2014266214 A JP 2014266214A JP 2014266214 A JP2014266214 A JP 2014266214A JP 2016124958 A JP2016124958 A JP 2016124958A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition enabling a material excellent in particularly barrier property to a corrosive gas to be formed by being cured.SOLUTION: There is provided the curable resin composition containing: polysiloxane (A) being at least one kind selected from a group consisting of polyorganosiloxane (A1) having two or more alkenyl groups in a molecule and polyorganosiloxy silalkylene (A2) having two or more alkenyl groups in a molecule; polysiloxane (B) being at least one kind selected from a group consisting of polyorganosiloxane (B1) having two hydroxyl groups in a molecule and polyorganosiloxy silalkylene (B2) having two or more hydrosilyl groups in a molecule; and a heterocyclic compound (C), the (C) heterocyclic compound being a heterocyclic compound (C) excluding an isocyanurate compound and having a heterocycle having at least one nitrogen atom, no sulfur atom and no nitrogen atom directly binding to hydrogen atom.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物及びその硬化物、上記硬化性樹脂組成物を使用した封止剤、並びに上記封止剤を使用して半導体素子(特に光半導体素子)を封止して得られる半導体装置(特に光半導体装置)に関する。   The present invention is obtained by sealing a curable resin composition and a cured product thereof, a sealing agent using the curable resin composition, and a semiconductor element (particularly an optical semiconductor element) using the sealing agent. The present invention relates to a semiconductor device (especially an optical semiconductor device).

半導体装置において半導体素子を被覆して保護するための封止材としては、各種の樹脂材料が使用されている。特に、光半導体装置における封止材には、SOXやH2S等の硫黄化合物を代表とする腐食性ガスに対するバリア性に優れることが求められる。 Various resin materials are used as a sealing material for covering and protecting a semiconductor element in a semiconductor device. In particular, a sealing material in an optical semiconductor device is required to have excellent barrier properties against corrosive gases typified by sulfur compounds such as SO x and H 2 S.

光半導体装置における封止材として、特に照明用途には、耐熱性の優れるメチルシリコーン(メチルシリコーン系封止材)が主流で使用されている。例えば、メチルシリコーンにラダー型シルセスキオキサン、イソシアヌレート化合物、及びシランカップリング剤を配合した樹脂組成物を封止剤として用いることで、SOXに対する耐硫化性が向上することが知られている(例えば、特許文献1参照)。 As a sealing material in an optical semiconductor device, methylsilicone (methylsilicone-based sealing material) having excellent heat resistance is mainly used for lighting applications. For example, it is known that sulfur resistance against SO X is improved by using as a sealant a resin composition in which a ladder type silsesquioxane, an isocyanurate compound, and a silane coupling agent are blended with methyl silicone. (For example, refer to Patent Document 1).

国際公開第2014/109349号International Publication No. 2014/109349

しかしながら、上記特許文献1に記載の樹脂組成物は、従来使用されていたメチルシリコーン系封止材に比べると腐食性ガスに対するバリア性は高いものの、その特性は未だ不十分である。   However, although the resin composition described in Patent Document 1 has a higher barrier property against corrosive gas than a conventionally used methylsilicone-based sealing material, its characteristics are still insufficient.

従って、本発明の目的は、硬化させることにより特に腐食性ガス(例えば、SOxガス)に対するバリア性に優れた材料(硬化物)を形成できる硬化性樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、特に腐食性ガスに対するバリア性に優れた材料(硬化物)を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、上記硬化性樹脂組成物を使用した封止剤、及び該封止剤を使用して半導体素子(特に光半導体素子)を封止することにより得られる、品質と耐久性に優れた半導体装置(特に光半導体装置)を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable resin composition that can form a material (cured product) excellent in barrier properties against a corrosive gas (for example, SOx gas) by curing.
Another object of the present invention is to provide a material (cured product) having an excellent barrier property against a corrosive gas.
Furthermore, another object of the present invention is a quality obtained by sealing a sealing element using the curable resin composition, and sealing a semiconductor element (particularly an optical semiconductor element) using the sealing agent. Another object of the present invention is to provide a semiconductor device (particularly an optical semiconductor device) having excellent durability.

本発明者は、分子内に2個以上のアルケニル基を有する特定のポリシロキサンと、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有する特定のポリシロキサンと、特定の複素環式化合物とを必須成分として含む硬化性樹脂組成物によると、硬化させることにより特に腐食性ガスに対するバリア性に優れた硬化物を形成できることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventor uses, as essential components, a specific polysiloxane having two or more alkenyl groups in the molecule, a specific polysiloxane having two or more hydrosilyl groups in the molecule, and a specific heterocyclic compound. According to the curable resin composition to be included, it was found that a cured product having an excellent barrier property against corrosive gas can be formed by curing, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキサン(A1)及び分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリシロキサン(A)と、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサン(B1)及び分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリシロキサン(B)と、複素環式化合物(C)とを含み、前記複素環式化合物(C)が、少なくとも1個の窒素原子を有し、硫黄原子を有さず、且つ水素原子と直接結合した窒素原子を有しない複素環を有する複素環式化合物(C)(但し、イソシアヌレート化合物を除く)であることを特徴とする硬化性樹脂組成物を提供する。   That is, the present invention is selected from the group consisting of a polyorganosiloxane (A1) having two or more alkenyl groups in the molecule and a polyorganosiloxysilalkylene (A2) having two or more alkenyl groups in the molecule. From at least one polysiloxane (A), a polyorganosiloxane (B1) having two or more hydrosilyl groups in the molecule, and a polyorganosiloxysilalkylene (B2) having two or more hydrosilyl groups in the molecule At least one selected from the group consisting of a polysiloxane (B) and a heterocyclic compound (C), the heterocyclic compound (C) having at least one nitrogen atom, and sulfur Heterocyclic compound (C) having a heterocycle having no atoms and having no nitrogen atom directly bonded to a hydrogen atom (provided that Providing a curable resin composition characterized in that it is except for rate compound).

さらに、前記複素環式化合物(C)として、ピリジン、オキサゾール、ピラジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、ベンゾ[c]シンノリン、ピリミジン、これらの誘導体、ピロリジン誘導体、ピロール誘導体、ピペリジン誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、イミダゾリン誘導体、モルホリン誘導体、インドール誘導体、イソインドール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、プリン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、及びベンゾトリアゾール誘導体からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含む前記の硬化性樹脂組成物を提供する。   Furthermore, as the heterocyclic compound (C), pyridine, oxazole, pyrazine, triazine, quinoline, isoquinoline, quinoxaline, cinnoline, pteridine, acridine, benzo [c] cinnoline, pyrimidine, derivatives thereof, pyrrolidine derivatives, pyrrole derivatives, At least one selected from the group consisting of piperidine derivatives, imidazole derivatives, pyrazole derivatives, imidazoline derivatives, morpholine derivatives, indole derivatives, isoindole derivatives, benzimidazole derivatives, purine derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, and benzotriazole derivatives The curable resin composition comprising the compound is provided.

さらに、前記複素環式化合物(C)が、下記式(1a)

Figure 2016124958
[式(1a)中、R31は、水素原子、又は式(1a−I)で表される基を示す。R32は、式(1a−I)で表される基、又は式(1a−II)で表される基を示す。
Figure 2016124958
[式(1a−I)中、R33は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。]
Figure 2016124958
[式(1a−II)中、R34は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。pは、1〜20の整数を示す。]]
で表される化合物、下記式(1b)
Figure 2016124958
[式(1b)中、R35は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。R36及びR37は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。]
で表される化合物、下記式(1c)
Figure 2016124958
[式(1c)中、R38は、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。R39は、二価の有機基を示す。R40は、置換基を有していてもよい有機基を示す。]
で表される化合物、下記式(1d)
Figure 2016124958
[式(1d)中、R41は、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。R42及びR43は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。]
で表される化合物、下記式(1e)
Figure 2016124958
[式(1e)中、R44、R45、及びR46は、同一又は異なって、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。]
で表される化合物、及び下記式(1f)
Figure 2016124958
[式(1f)中、R47及びR48は、同一又は異なって、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。]
で表される化合物からなる群より選択される1種以上の化合物である前記の硬化性樹脂組成物を提供する。 Furthermore, the heterocyclic compound (C) is represented by the following formula (1a)
Figure 2016124958
[In the formula (1a), R 31 represents a hydrogen atom or a group represented by the formula (1a-I). R 32 represents a group represented by the formula (1a-I) or a group represented by the formula (1a-II).
Figure 2016124958
[In the formula (1a-I), R 33 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may have a substituent. ]
Figure 2016124958
[In the formula (1a-II), R 34 represents a hydrocarbon group which may have a substituent. p shows the integer of 1-20. ]]
A compound represented by formula (1b):
Figure 2016124958
[In the formula (1b), R 35 represents a hydrocarbon group which may have a substituent. R 36 and R 37 are the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. ]
A compound represented by formula (1c):
Figure 2016124958
[In the formula (1c), R 38 represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. R 39 represents a divalent organic group. R 40 represents an organic group which may have a substituent. ]
A compound represented by formula (1d):
Figure 2016124958
[In the formula (1d), R 41 represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. R 42 and R 43 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may have a substituent. ]
A compound represented by formula (1e):
Figure 2016124958
[In the formula (1e), R 44 , R 45 and R 46 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. ]
And a compound represented by the following formula (1f)
Figure 2016124958
[In formula (1f), R 47 and R 48 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. ]
The curable resin composition is one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by:

さらに、ヒドロシリル化触媒を含む前記の硬化性樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable resin composition containing a hydrosilylation catalyst is provided.

さらに、ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン及び下記式(2)

Figure 2016124958
[式(2)中、Rf、Rg、及びRhは、同一又は異なって、式(2a)で表される基、又は式(2b)で表される基を示す。但し、Rf、Rg、及びRhのうち少なくとも1個は、式(2b)で表される基である。
Figure 2016124958
[式(2a)中、Riは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。]
Figure 2016124958
[式(2b)中、Rjは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。]]
で表されるイソシアヌレート化合物(D)からなる群より選択される少なくとも1種を含む前記の硬化性樹脂組成物を提供する。 Furthermore, ladder-type polyorganosilsesquioxane and the following formula (2)
Figure 2016124958
[In Formula (2), R f , R g , and R h are the same or different and represent a group represented by Formula (2a) or a group represented by Formula (2b). However, at least one of R f , R g , and R h is a group represented by the formula (2b).
Figure 2016124958
[In Formula (2a), R i represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]
Figure 2016124958
[In the formula (2b), R j represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]]
The said curable resin composition containing at least 1 sort (s) selected from the group which consists of isocyanurate compound (D) represented by these is provided.

さらに、下記式(3)

Figure 2016124958
[式(3)中、Ra、Rb、及びRcは、同一又は異なって、式(3a)で表される基、式(3b)で表される基、水素原子、又はアルキル基を示す。但し、Ra、Rb、及びRcのうち少なくとも1個は、式(3a)で表される基である。
Figure 2016124958
[式(3a)中、Rdは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。sは2〜10の整数を示す。]
Figure 2016124958
[式(3b)中、Reは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。tは1〜10の整数を示す。]]
で表されるイソシアヌレート化合物(E)を含む前記の硬化性樹脂組成物を提供する。 Further, the following formula (3)
Figure 2016124958
[In the formula (3), R a , R b and R c are the same or different and represent a group represented by the formula (3a), a group represented by the formula (3b), a hydrogen atom or an alkyl group. Show. However, at least one of R a , R b and R c is a group represented by the formula (3a).
Figure 2016124958
[In the formula (3a), R d represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. s shows the integer of 2-10. ]
Figure 2016124958
[In formula (3b), R e represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. t shows the integer of 1-10. ]]
The said curable resin composition containing the isocyanurate compound (E) represented by these is provided.

さらに、前記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとして、ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の一部又は全部に、下記式(V)

Figure 2016124958
[式(V)中、R6は、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基を示す。]
で表される単位構造及び下記式(VI)
Figure 2016124958
[式(VI)中、R7は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。]
で表される単位構造を含むポリオルガノシルセスキオキサン残基を有するラダー型シルセスキオキサン(G)を含む前記の硬化性樹脂組成物を提供する。 Furthermore, as the ladder-type polyorganosilsesquioxane, a part or all of the molecular chain terminals of the polyorganosilsesquioxane having a ladder structure may be represented by the following formula (V):
Figure 2016124958
[In the formula (V), R 6 represents a group having an aliphatic carbon-carbon double bond. ]
The unit structure represented by the following formula (VI)
Figure 2016124958
[In Formula (VI), R 7 is the same or different and represents a hydrocarbon group. ]
The curable resin composition comprising a ladder-type silsesquioxane (G) having a polyorganosilsesquioxane residue containing a unit structure represented by the formula:

さらに、前記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとして、ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の一部又は全部に、下記式(VII)

Figure 2016124958
[式(VII)中、Xは単結合、二価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、カーボネート基、アミド基、又は、これらが複数個連結した基を示す。R8及びR9は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、エポキシ基、シアノ基、イソシアナート基、カルバモイル基、イソチオシアナート基、ヒドロキシ基、ヒドロパーオキシ基、スルホ基、アミノ基若しくは置換アミノ基、メルカプト基、スルホ基、又は下記式(s)
Figure 2016124958
[式(s)中、R51は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、エポキシ基、シアノ基、イソシアナート基、カルバモイル基、イソチオシアナート基、ヒドロキシ基、ヒドロパーオキシ基、スルホ基、アミノ基若しくは置換アミノ基、メルカプト基、又はスルホ基を示す。]
で表される基を示す。nは1〜100の整数を示す。]
で表される単位構造及び下記式(VIII)
Figure 2016124958
[式(VIII)中、R10は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。]
で表される単位構造を含むポリオルガノシルセスキオキサン残基を有するラダー型シルセスキオキサン(H)を含む前記の硬化性樹脂組成物を提供する。 Furthermore, as the ladder-type polyorganosilsesquioxane, a part or all of the molecular chain terminals of the polyorganosilsesquioxane having a ladder structure may be represented by the following formula (VII):
Figure 2016124958
[In Formula (VII), X represents a single bond, a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether group, a thioether group, an ester group, a carbonate group, an amide group, or a group in which a plurality of these are linked. R 8 and R 9 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyloxy group, an alkylthio group, an alkenylthio group. Group, arylthio group, aralkylthio group, carboxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, epoxy group, cyano group, isocyanate group, carbamoyl group, isothiocyanate group, hydroxy group, hydroperoxy Group, sulfo group, amino group or substituted amino group, mercapto group, sulfo group, or the following formula (s)
Figure 2016124958
[In formula (s), R 51 is the same or different and is a hydrogen atom, halogen atom, substituted or unsubstituted hydrocarbon group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyloxy group, alkylthio group. Group, alkenylthio group, arylthio group, aralkylthio group, carboxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, epoxy group, cyano group, isocyanate group, carbamoyl group, isothiocyanate group, hydroxy group , A hydroperoxy group, a sulfo group, an amino group or a substituted amino group, a mercapto group, or a sulfo group. ]
The group represented by these is shown. n shows the integer of 1-100. ]
A unit structure represented by the following formula (VIII)
Figure 2016124958
[In formula (VIII), R 10 is the same or different and represents a hydrocarbon group. ]
The curable resin composition comprising a ladder-type silsesquioxane (H) having a polyorganosilsesquioxane residue containing a unit structure represented by the formula:

さらに、前記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンが、側鎖の一部又は全部が置換若しくは無置換のアリール基のラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンである前記の硬化性樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the curable resin composition is provided wherein the ladder-type polyorganosilsesquioxane is a ladder-type polyorganosilsesquioxane having a substituted or unsubstituted aryl group in part or all of the side chains.

さらに、シランカップリング剤(F)を含む前記の硬化性樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable resin composition containing a silane coupling agent (F) is provided.

また、本発明は、前記の硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物を提供する。   Moreover, this invention provides the hardened | cured material obtained by hardening the said curable resin composition.

さらに、封止剤である前記の硬化性樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable resin composition which is a sealing agent is provided.

また、本発明は、半導体素子と、該半導体素子を封止する封止材とを有する半導体装置であって、前記封止材が、前記の硬化性樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする半導体装置を提供する。   Further, the present invention is a semiconductor device having a semiconductor element and a sealing material for sealing the semiconductor element, wherein the sealing material is a cured product of the curable resin composition. A semiconductor device is provided.

さらに、光半導体装置である前記の半導体装置を提供する。   Furthermore, the semiconductor device which is an optical semiconductor device is provided.

本発明の硬化性樹脂組成物は上記構成を有するため、硬化させることによって、特に腐食性ガス(例えば、SOxガス)に対するバリア性に優れた硬化物を形成できる。このため、上記硬化物を半導体装置における半導体素子の封止材として使用した場合、上記半導体装置の電極の腐食が高度に抑制され、上記半導体装置の耐久性が著しく向上する。従って、本発明の硬化性樹脂組成物は、特に光半導体装置における光半導体素子(LED素子)の封止材を形成するための材料(封止剤)として好ましく使用することができる。本発明の硬化性樹脂組成物を封止剤として使用して得られる光半導体装置は、優れた品質と耐久性とを備える。   Since the curable resin composition of the present invention has the above-described configuration, it is possible to form a cured product having excellent barrier properties against a corrosive gas (for example, SOx gas) by curing. For this reason, when the said hardened | cured material is used as a sealing material of the semiconductor element in a semiconductor device, corrosion of the electrode of the said semiconductor device is suppressed highly, and durability of the said semiconductor device improves remarkably. Therefore, the curable resin composition of the present invention can be preferably used as a material (sealing agent) for forming a sealing material for an optical semiconductor element (LED element) in an optical semiconductor device. The optical semiconductor device obtained by using the curable resin composition of the present invention as a sealant has excellent quality and durability.

本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置の一実施形態を示す概略図である。左側の図(a)は斜視図であり、右側の図(b)は断面図である。It is the schematic which shows one Embodiment of the optical semiconductor device by which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the curable resin composition of this invention. The left figure (a) is a perspective view, and the right figure (b) is a sectional view.

<硬化性樹脂組成物>
本発明の硬化性樹脂組成物は、分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキサン(A1)及び分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリシロキサン(A)(単に「ポリシロキサン(A)」と称する場合がある)と、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサン(B1)及び分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリシロキサン(B)(単に「ポリシロキサン(B)」と称する場合がある)と、複素環式化合物(C)とを必須成分として含むことを特徴とする硬化性組成物である。なお、上記複素環式化合物(C)は、少なくとも1個の窒素原子を有し、硫黄原子を有さず、且つ水素原子と直接結合した窒素原子を有しない複素環を有する複素環式化合物(C)(但し、イソシアヌレート化合物を除く)である。本明細書において、上記「少なくとも1個の窒素原子を有し、硫黄原子を有さず、且つ水素原子と直接結合した窒素原子を有しない複素環を有する複素環式化合物(C)(但し、イソシアヌレート化合物を除く)」を、単に「複素環式化合物(C)」と称する場合がある。本発明の硬化性樹脂組成物は、上述の必須成分以外にも、さらに例えば、後述のヒドロシリル化触媒等のその他の成分を含んでいてもよい。
<Curable resin composition>
The curable resin composition of the present invention comprises a group consisting of a polyorganosiloxane (A1) having two or more alkenyl groups in the molecule and a polyorganosiloxysilalkylene (A2) having two or more alkenyl groups in the molecule. A polysiloxane (A) that is at least one selected from the above (sometimes referred to simply as “polysiloxane (A)”), a polyorganosiloxane (B1) having two or more hydrosilyl groups in the molecule, and a molecule Polysiloxane (B) which is at least one selected from the group consisting of polyorganosiloxysilalkylene (B2) having two or more hydrosilyl groups therein (may be simply referred to as “polysiloxane (B)”) And a heterocyclic compound (C) as essential components. The heterocyclic compound (C) is a heterocyclic compound having a heterocyclic ring having at least one nitrogen atom, no sulfur atom, and no nitrogen atom directly bonded to a hydrogen atom ( C) (excluding isocyanurate compounds). In the present specification, the above-mentioned “heterocyclic compound (C) having a heterocyclic ring having at least one nitrogen atom, no sulfur atom, and no nitrogen atom directly bonded to a hydrogen atom (provided that "Except for isocyanurate compounds)" may be simply referred to as "heterocyclic compound (C)". The curable resin composition of the present invention may further contain other components such as a hydrosilylation catalyst described later, in addition to the above-described essential components.

[ポリシロキサン(A)]
本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分であるポリシロキサン(A)は、上述のように、分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリシロキサンである。即ち、ポリシロキサン(A)は、アルケニル基を有するポリシロキサンであり、ヒドロシリル基を有する成分(例えば、後述のポリシロキサン(B)等)とヒドロシリル化反応を生じる成分である。但し、ポリシロキサン(A)には、後述の「ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン」に当たるものは含まれない。
[Polysiloxane (A)]
The polysiloxane (A), which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, is a polysiloxane having two or more alkenyl groups in the molecule as described above. That is, the polysiloxane (A) is a polysiloxane having an alkenyl group, and a component that causes a hydrosilylation reaction with a component having a hydrosilyl group (for example, polysiloxane (B) described later). However, the polysiloxane (A) does not include those corresponding to “ladder type polyorganosilsesquioxane” described later.

ポリシロキサン(A)は、分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキサン(A1)(単に「ポリオルガノシロキサン(A1)」と称する場合がある)及び分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)(単に「ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)」と称する場合がある)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリシロキサンである。   The polysiloxane (A) includes a polyorganosiloxane (A1) having two or more alkenyl groups in the molecule (sometimes simply referred to as “polyorganosiloxane (A1)”) and two or more alkenyl groups in the molecule. A polysiloxane which is at least one selected from the group consisting of polyorganosiloxysilalkylene (A2) having the formula (sometimes referred to simply as “polyorganosiloxysilalkylene (A2)”).

本明細書におけるポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)とは、主鎖として−Si−O−Si−(シロキサン結合)に加えて、−Si−RA−Si−(シルアルキレン結合:RAはアルキレン基を示す)を含むポリオルガノシロキサンである。そして、本明細書におけるポリオルガノシロキサン(A1)は、主鎖として上記シルアルキレン結合を含まないポリオルガノシロキサンである。 In this specification, the polyorganosiloxysilalkylene (A2) means -Si-O-Si- (siloxane bond) as a main chain, -Si- RA -Si- (silalkylene bond: RA is alkylene) A polyorganosiloxane containing a group). And polyorganosiloxane (A1) in this specification is polyorganosiloxane which does not contain the said silalkylene bond as a principal chain.

(ポリオルガノシロキサン(A1))
ポリオルガノシロキサン(A1)としては、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、分岐鎖状、網目状の分子構造を有するものが挙げられる。なお、ポリオルガノシロキサン(A1)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。具体的には、分子構造が異なるポリオルガノシロキサン(A1)の2種以上を併用することができ、例えば、直鎖状のポリオルガノシロキサン(A1)と分岐鎖状のポリオルガノシロキサン(A1)とを併用することもできる。
(Polyorganosiloxane (A1))
Examples of the polyorganosiloxane (A1) include those having a linear, partially branched linear, branched, or network molecular structure. In addition, polyorganosiloxane (A1) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. Specifically, two or more polyorganosiloxanes (A1) having different molecular structures can be used in combination, for example, a linear polyorganosiloxane (A1) and a branched polyorganosiloxane (A1) Can also be used together.

ポリオルガノシロキサン(A1)が分子内に有するアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等の置換又は無置換アルケニル基が挙げられる。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基等が挙げられる。中でも、ビニル基が好ましい。また、ポリオルガノシロキサン(A1)は、1種のみのアルケニル基を有するものであってもよいし、2種以上のアルケニル基を有するものであってもよい。ポリオルガノシロキサン(A1)が有するアルケニル基は、特に限定されないが、ケイ素原子に結合したものであることが好ましい。   Examples of the alkenyl group in the molecule of the polyorganosiloxane (A1) include substituted or unsubstituted alkenyl groups such as a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, and a carboxy group. Among these, a vinyl group is preferable. The polyorganosiloxane (A1) may have only one alkenyl group or may have two or more alkenyl groups. Although the alkenyl group which polyorganosiloxane (A1) has is not specifically limited, It is preferable that it is a thing couple | bonded with the silicon atom.

ポリオルガノシロキサン(A1)が有するアルケニル基以外の基は、特に限定されないが、例えば、水素原子、有機基等が挙げられる。有機基としては、例えば、アルキル基[例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等]、シクロアルキル基[例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基等]、アリール基[例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等]、シクロアルキル−アルキル基[例えば、シクロへキシルメチル基、メチルシクロヘキシル基等]、アラルキル基[例えば、ベンジル基、フェネチル基等]、炭化水素基における1以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化炭化水素基[例えば、クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等]等の一価の置換又は無置換炭化水素基等が挙げられる。なお、本明細書において「ケイ素原子に結合した基」とは、通常、ケイ素原子を含まない基を指すものとする。   Although groups other than the alkenyl group which polyorganosiloxane (A1) has are not specifically limited, For example, a hydrogen atom, an organic group, etc. are mentioned. Examples of the organic group include alkyl groups [eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.], cycloalkyl groups [eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. , Cyclododecyl group, etc.], aryl group [eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, etc.], cycloalkyl-alkyl group [eg, cyclohexylmethyl group, methylcyclohexyl group, etc.], aralkyl group [eg, A benzyl group, a phenethyl group, etc.], a halogenated hydrocarbon group in which one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group are substituted with a halogen atom [for example, chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoro Monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon groups such as halogenated alkyl groups such as propyl groups] And the like. In the present specification, the “group bonded to a silicon atom” usually means a group not containing a silicon atom.

また、ポリオルガノシロキサン(A1)は、ケイ素原子に結合した基として、ヒドロキシ基、アルコキシ基を有していてもよい。   The polyorganosiloxane (A1) may have a hydroxy group or an alkoxy group as a group bonded to a silicon atom.

ポリオルガノシロキサン(A1)の性状は、特に限定されず、液状であってもよいし、固体状であってもよい。   The property of the polyorganosiloxane (A1) is not particularly limited, and may be liquid or solid.

ポリオルガノシロキサン(A1)としては、下記平均単位式:
(R1SiO3/2a1(R1 2SiO2/2a2(R1 3SiO1/2a3(SiO4/2a4(X11/2a5
で表されるポリオルガノシロキサンが好ましい。上記平均単位式中、R1は、同一又は異なって、一価の置換又は無置換炭化水素基であり、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)、及び上述のアルケニル基が挙げられる。但し、R1の一部はアルケニル基(特にビニル基)であり、その割合は、分子内に2個以上となる範囲に制御される。例えば、R1の全量(100モル%)に対するアルケニル基の割合は、0.1〜40モル%が好ましい。アルケニル基の割合を上記範囲に制御することにより、硬化性樹脂組成物の硬化性がより向上する傾向がある。また、アルケニル基以外のR1としては、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。
As polyorganosiloxane (A1), the following average unit formula:
(R 1 SiO 3/2) a1 ( R 1 2 SiO 2/2) a2 (R 1 3 SiO 1/2) a3 (SiO 4/2) a4 (X 1 O 1/2) a5
The polyorganosiloxane represented by these is preferable. In the above average unit formula, R 1 is the same or different and is a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Specific examples of the above monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group (for example, alkyl group, aryl Group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group and the like) and the above-mentioned alkenyl group. However, a part of R 1 is an alkenyl group (particularly a vinyl group), and the ratio thereof is controlled within a range of 2 or more in the molecule. For example, the ratio of the alkenyl group to the total amount of R 1 (100 mol%) is preferably 0.1 to 40 mol%. By controlling the ratio of the alkenyl group to the above range, the curability of the curable resin composition tends to be further improved. As R 1 other than the alkenyl group, an alkyl group (particularly a methyl group) and an aryl group (particularly a phenyl group) are preferable.

上記平均単位式中、X1は、水素原子又はアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、特にメチル基であることが好ましい。 In the above average unit formula, X 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and a methyl group is particularly preferable.

上記平均単位式中、a1は0又は正数、a2は0又は正数、a3は0又は正数、a4は0又は正数、a5は0又は正数であり、かつ、(a1+a2+a3)は正数である。   In the above average unit formula, a1 is 0 or positive number, a2 is 0 or positive number, a3 is 0 or positive number, a4 is 0 or positive number, a5 is 0 or positive number, and (a1 + a2 + a3) is positive Is a number.

ポリオルガノシロキサン(A1)の一例としては、例えば、分子内に2個以上のアルケニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンが挙げられる。この直鎖状ポリオルガノシロキサンが有するアルケニル基としては、上述のアルケニル基の具体例が挙げられるが、中でもビニル基が好ましい。なお、1種のみのアルケニル基を有するものであってもよいし、2種以上のアルケニル基を有するものであってもよい。また、上記直鎖状ポリオルガノシロキサンにおけるアルケニル基以外のケイ素原子に結合した基としては、例えば、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基が挙げられるが、中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。   An example of the polyorganosiloxane (A1) is a linear polyorganosiloxane having two or more alkenyl groups in the molecule. Specific examples of the alkenyl group described above can be given as examples of the alkenyl group of the linear polyorganosiloxane, and among them, a vinyl group is preferable. In addition, you may have only 1 type of alkenyl group, and you may have 2 or more types of alkenyl groups. In addition, examples of the group bonded to the silicon atom other than the alkenyl group in the linear polyorganosiloxane include the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group described above, among which an alkyl group (particularly a methyl group). ) Or an aryl group (particularly a phenyl group).

上記直鎖状ポリオルガノシロキサンにおける、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルケニル基の割合は、特に限定されないが、0.1〜40モル%が好ましい。また、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合は、特に限定されないが、1〜20モル%が好ましい。さらに、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合は、特に限定されないが、30〜90モル%が好ましい。特に、上記直鎖状ポリオルガノシロキサンとして、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合が40モル%以上(例えば、45〜80モル%)であるものを使用することにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。また、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合が90モル%以上(例えば、95〜99モル%)であるものを使用することにより、硬化物の耐熱衝撃性がより向上する傾向がある。   Although the ratio of the alkenyl group with respect to the total amount (100 mol%) of the groups bonded to the silicon atom in the linear polyorganosiloxane is not particularly limited, it is preferably 0.1 to 40 mol%. Moreover, the ratio of the alkyl group (especially methyl group) with respect to the total amount (100 mol%) of the group bonded to the silicon atom is not particularly limited, but is preferably 1 to 20 mol%. Furthermore, the ratio of the aryl group (especially phenyl group) to the total amount (100 mol%) of the groups bonded to the silicon atom is not particularly limited, but is preferably 30 to 90 mol%. In particular, as the linear polyorganosiloxane, the ratio of aryl groups (particularly phenyl groups) to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms is 40 mol% or more (for example, 45 to 80 mol%). By using a thing, there exists a tendency for the barrier property with respect to the corrosive gas of hardened | cured material to improve more. Moreover, a cured product is obtained by using a material in which the ratio of alkyl groups (particularly methyl groups) is 90 mol% or more (for example, 95 to 99 mol%) with respect to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms. There is a tendency that the thermal shock resistance of is improved.

上記直鎖状ポリオルガノシロキサンは、例えば、下記式(I−1)で表される。

Figure 2016124958
[上記式中、R11は、同一又は異なって、一価の置換又は無置換炭化水素基である。但し、R11の少なくとも2個はアルケニル基である。m1は、5〜1000の整数である。] The linear polyorganosiloxane is represented by the following formula (I-1), for example.
Figure 2016124958
[In the above formula, R 11 are the same or different and each represents a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. However, at least two of R 11 are alkenyl groups. m1 is an integer of 5 to 1000. ]

ポリオルガノシロキサン(A1)の他の例としては、分子内に2個以上のアルケニル基を有し、RSiO3/2で表されるシロキサン単位(T単位)を有する分岐鎖状ポリオルガノシロキサンが挙げられる。但し、上述のように、当該分岐鎖状ポリオルガノシロキサンには、後述の「ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン」に当たるものは含まれない。なお、Rは、一価の置換又は無置換炭化水素基である。この分岐鎖状ポリオルガノシロキサンが有するアルケニル基としては、上述のアルケニル基の具体例が挙げられるが、中でもビニル基が好ましい。なお、1種のみのアルケニル基を有するものであってもよいし、2種以上のアルケニル基を有するものであってもよい。また、上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンにおけるアルケニル基以外のケイ素原子に結合した基としては、例えば、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基が挙げられるが、中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。さらに、上記T単位中のRとしては、中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。 Another example of the polyorganosiloxane (A1) is a branched polyorganosiloxane having a siloxane unit (T unit) having two or more alkenyl groups in the molecule and represented by RSiO 3/2. It is done. However, as described above, the branched polyorganosiloxane does not include what is described later as “ladder type polyorganosilsesquioxane”. R is a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Specific examples of the alkenyl group described above can be given as examples of the alkenyl group of the branched polyorganosiloxane. Among them, a vinyl group is preferable. In addition, you may have only 1 type of alkenyl group, and you may have 2 or more types of alkenyl groups. Examples of the group bonded to the silicon atom other than the alkenyl group in the branched polyorganosiloxane include the above-mentioned monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group, and among them, an alkyl group (particularly a methyl group). ) Or an aryl group (particularly a phenyl group). Furthermore, as R in the T unit, an alkyl group (particularly a methyl group) and an aryl group (particularly a phenyl group) are preferable.

上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンにおける、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルケニル基の割合は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物の硬化性の観点で、0.1〜40モル%が好ましい。また、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合は、特に限定されないが、10〜40モル%が好ましい。さらに、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合は、特に限定されないが、5〜70モル%が好ましい。特に、上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンとして、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合が40モル%以上(例えば、45〜60モル%)であるものを使用することにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。また、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合が50モル%以上(例えば、60〜99モル%)であるものを使用することにより、硬化物の耐熱衝撃性がより向上する傾向がある。   In the branched polyorganosiloxane, the ratio of alkenyl groups to the total amount of groups bonded to silicon atoms (100 mol%) is not particularly limited, but is 0.1 to 0.1 from the viewpoint of curability of the curable resin composition. 40 mol% is preferred. Moreover, the ratio of the alkyl group (especially methyl group) to the total amount (100 mol%) of the groups bonded to the silicon atom is not particularly limited, but is preferably 10 to 40 mol%. Furthermore, the ratio of the aryl group (especially phenyl group) to the total amount (100 mol%) of the groups bonded to the silicon atom is not particularly limited, but is preferably 5 to 70 mol%. In particular, as the branched polyorganosiloxane, the ratio of aryl groups (particularly phenyl groups) to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms is 40 mol% or more (for example, 45 to 60 mol%). By using a thing, there exists a tendency for the barrier property with respect to the corrosive gas of hardened | cured material to improve more. Moreover, a cured product can be obtained by using a compound in which the ratio of alkyl groups (particularly methyl groups) is 50 mol% or more (for example, 60 to 99 mol%) with respect to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms. There is a tendency that the thermal shock resistance of is improved.

上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンは、a1が正数である上記平均単位式で表すことができる。この場合、特に限定されないが、a2/a1は0〜10の数、a3/a1は0〜0.5の数、a4/(a1+a2+a3+a4)は0〜0.3の数、a5/(a1+a2+a3+a4)は0〜0.4の数であることが好ましい。また、上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンの分子量は特に限定されないが、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜1万であることが好ましく、より好ましくは700〜3000である。   The branched polyorganosiloxane can be represented by the above average unit formula in which a1 is a positive number. In this case, although not particularly limited, a2 / a1 is a number from 0 to 10, a3 / a1 is a number from 0 to 0.5, a4 / (a1 + a2 + a3 + a4) is a number from 0 to 0.3, and a5 / (a1 + a2 + a3 + a4) is The number is preferably 0 to 0.4. The molecular weight of the branched polyorganosiloxane is not particularly limited, but the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene is preferably 500 to 10,000, more preferably 700 to 3000.

ポリオルガノシロキサン(A1)のさらに他の例としては、例えば、上記平均単位式中、a1及びa2が0であり、X1が水素原子である下記平均単位式:
(R1a 21bSiO1/2a6(R1a 3SiO1/2a7(SiO4/2a8(HO1/2a9
で表されるポリオルガノシロキサンが挙げられる。上記平均単位式中、R1aは、同一又は異なって、炭素数1〜10のアルキル基(C1-10アルキル基)を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられ、中でもメチル基が好ましい。また、R1bは、同一又は異なって、アルケニル基を示し、中でもビニル基が好ましい。さらに、a6、a7、a8及びa9はいずれも、a6+a7+a8=1、a6/(a6+a7)=0.15〜0.35、a8/(a6+a7+a8)=0.53〜0.62、a9/(a6+a7+a8)=0.005〜0.03を満たす正数である。但し、a7は0であってもよい。硬化性樹脂組成物の硬化性の観点で、a6/(a6+a7)は0.2〜0.3であることが好ましい。また、硬化物の硬度や機械強度の観点で、a8/(a6+a7+a8)は0.55〜0.60であることが好ましい。さらに、硬化物の接着性や機械強度の観点で、a9/(a6+a7+a8)は0.01〜0.025であることが好ましい。このようなポリオルガノシロキサンとしては、例えば、SiO4/2単位と(CH32(CH2=CH)SiO1/2単位とで構成されるポリオルガノシロキサン、SiO4/2単位と(CH32(CH2=CH)SiO1/2単位と(CH33SiO1/2単位とで構成されるポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
As yet another example of a polyorganosiloxane (A1), for example, in the above average unit formula, a1 and a2 are 0, the following average unit formula X 1 is a hydrogen atom:
(R 1a 2 R 1b SiO 1/2 ) a6 (R 1a 3 SiO 1/2 ) a7 (SiO 4/2 ) a8 (HO 1/2 ) a9
The polyorganosiloxane represented by these is mentioned. In the above average unit formula, R 1a is the same or different and represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (C 1-10 alkyl group), for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group , A hexyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Among them, a methyl group is preferable. R 1b is the same or different and represents an alkenyl group, and among them, a vinyl group is preferable. Further, a6, a7, a8 and a9 are all a6 + a7 + a8 = 1, a6 / (a6 + a7) = 0.15 to 0.35, a8 / (a6 + a7 + a8) = 0.53 to 0.62, a9 / (a6 + a7 + a8) = A positive number satisfying 0.005 to 0.03. However, a7 may be 0. From the viewpoint of curability of the curable resin composition, a6 / (a6 + a7) is preferably 0.2 to 0.3. Moreover, it is preferable that a8 / (a6 + a7 + a8) is 0.55-0.60 from the viewpoint of the hardness and mechanical strength of the cured product. Furthermore, it is preferable that a9 / (a6 + a7 + a8) is 0.01-0.025 from the viewpoint of the adhesiveness and mechanical strength of the cured product. Examples of such polyorganosiloxanes include polyorganosiloxanes composed of SiO 4/2 units and (CH 3 ) 2 (CH 2 ═CH) SiO 1/2 units, SiO 4/2 units and (CH 3 ) Polyorganosiloxane composed of 2 (CH 2 ═CH) SiO 1/2 units and (CH 3 ) 3 SiO 1/2 units.

(ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2))
ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)は、上述のように、分子内に2個以上のアルケニル基を有し、主鎖としてシロキサン結合に加えて、シルアルキレン結合−Si−RA−Si−(シルアルキレン結合:RAはアルキレン基を示す)を含むポリオルガノシロキサンである。即ち、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)には、上述のポリオルガノシロキサン(A1)のようなシルアルキレン結合を有しないポリオルガノシロキサンは含まれない。本発明の硬化性樹脂組成物はこのようなポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)を含むと、腐食性ガスに対するバリア性と耐熱衝撃性により優れた硬化物を形成できる。
(Polyorganosiloxysilalkylene (A2))
As described above, the polyorganosiloxysilalkylene (A2) has two or more alkenyl groups in the molecule, and in addition to the siloxane bond as the main chain, the silalkylene bond-Si-R A -Si- (sil It is a polyorganosiloxane containing an alkylene bond: R A represents an alkylene group. That is, the polyorganosiloxysilalkylene (A2) does not include a polyorganosiloxane having no silalkylene bond such as the above-mentioned polyorganosiloxane (A1). When the curable resin composition of the present invention contains such a polyorganosiloxysilalkylene (A2), a cured product excellent in barrier properties against thermal corrosive gas and thermal shock resistance can be formed.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)が分子内に有するシルアルキレン結合におけるアルキレン基(RA)としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の直鎖又は分岐鎖状のC1-12アルキレン基等が挙げられ、中でも、C2-4アルキレン基(特に、エチレン基)が好ましい。上記ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)は、ポリオルガノシロキサン(A1)と比較して製造工程において低分子量の環を生じ難く、また、加熱等により分解してシラノール基(−SiOH)を生じ難いため、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)を使用した場合、硬化性樹脂組成物の硬化物の表面粘着性が低減され、より黄変し難くなる傾向がある。 Examples of the alkylene group (R A ) in the silalkylene bond of the polyorganosiloxysilalkylene (A2) in the molecule include linear or branched C 1-12 alkylene such as methylene group, ethylene group and propylene group. A C 2-4 alkylene group (particularly an ethylene group) is preferable. The polyorganosiloxysilalkylene (A2) is less likely to produce a low molecular weight ring in the production process than the polyorganosiloxane (A1), and is not easily decomposed by heating or the like to produce a silanol group (—SiOH). When polyorganosiloxysilalkylene (A2) is used, the surface tackiness of the cured product of the curable resin composition is reduced, and it tends to be more difficult to yellow.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)としては、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、分岐鎖状、網目状の分子構造を有するものが挙げられる。なお、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。具体的には、分子構造が異なるポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)の2種以上を併用することができ、例えば、直鎖状のポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)と分岐鎖状のポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)とを併用することもできる。   Examples of the polyorganosiloxysylalkylene (A2) include those having a linear, partially branched linear, branched, or network molecular structure. In addition, polyorganosiloxysil alkylene (A2) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. Specifically, two or more kinds of polyorganosiloxysilalkylene (A2) having different molecular structures can be used in combination, for example, linear polyorganosiloxysilalkylene (A2) and branched polyorganosiloxy. Silalkylene (A2) can also be used in combination.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)が分子内に有するアルケニル基としては、上述の置換又は無置換アルケニル基が挙げられ、中でも、ビニル基が好ましい。また、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)は、1種のみのアルケニル基を有するものであってもよいし、2種以上のアルケニル基を有するものであってもよい。ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)が有するアルケニル基は、特に限定されないが、ケイ素原子に結合したものであることが好ましい。   Examples of the alkenyl group that the polyorganosiloxysilalkylene (A2) has in the molecule include the above-mentioned substituted or unsubstituted alkenyl groups, and among them, a vinyl group is preferable. The polyorganosiloxysilalkylene (A2) may have only one alkenyl group or may have two or more alkenyl groups. The alkenyl group of the polyorganosiloxysilalkylene (A2) is not particularly limited, but is preferably bonded to a silicon atom.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)が有するアルケニル基以外のケイ素原子に結合した基は、特に限定されないが、例えば、水素原子、有機基等が挙げられる。有機基としては、例えば、上述の有機基(例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シクロアルキル−アルキル基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等の置換又は無置換炭化水素等)が挙げられる。   Although the group couple | bonded with silicon atoms other than the alkenyl group which polyorganosiloxysil alkylene (A2) has is not specifically limited, For example, a hydrogen atom, an organic group, etc. are mentioned. Examples of the organic group include the above-described organic groups (for example, substituted or unsubstituted hydrocarbons such as an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a cycloalkyl-alkyl group, an aralkyl group, and a halogenated hydrocarbon group). It is done.

また、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)は、ケイ素原子に結合した基として、ヒドロキシ基、アルコキシ基を有していてもよい。   The polyorganosiloxysilalkylene (A2) may have a hydroxy group or an alkoxy group as a group bonded to a silicon atom.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)の性状は、特に限定されず、例えば25℃において、液状であってもよいし、固体状であってもよい。   The property of the polyorganosiloxysilalkylene (A2) is not particularly limited, and may be liquid or solid at 25 ° C., for example.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)としては、下記平均単位式:
(R2 2SiO2/2b1(R2 3SiO1/2b2(R2SiO3/2b3(SiO4/2b4(RAb5(X21/2b6
で表されるポリオルガノシロキシシルアルキレンが好ましい。上記平均単位式中、R2は、同一又は異なって、一価の置換又は無置換炭化水素基であり、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)、及び上述のアルケニル基が挙げられる。但し、R2の一部はアルケニル基(特にビニル基)であり、その割合は、分子内に2個以上となる範囲に制御される。例えば、R2の全量(100モル%)に対するアルケニル基の割合は、0.1〜40モル%が好ましい。アルケニル基の割合を上記範囲に制御することにより、硬化性樹脂組成物の硬化性がより向上する傾向がある。また、アルケニル基以外のR2としては、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。
As polyorganosiloxysilalkylene (A2), the following average unit formula:
(R 2 2 SiO 2/2 ) b 1 (R 2 3 SiO 1/2 ) b 2 (R 2 SiO 3/2 ) b 3 (SiO 4/2 ) b 4 (R A ) b 5 (X 2 O 1/2 ) b 6
A polyorganosiloxysilalkylene represented by the formula is preferred. In the above average unit formula, R 2 is the same or different and is a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Specific examples of the above monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group (for example, alkyl group, aryl Group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group and the like) and the above-mentioned alkenyl group. However, a part of R 2 is an alkenyl group (particularly a vinyl group), and the ratio thereof is controlled within a range of 2 or more in the molecule. For example, the ratio of the alkenyl group to the total amount of R 2 (100 mol%) is preferably 0.1 to 40 mol%. By controlling the ratio of the alkenyl group to the above range, the curability of the curable resin composition tends to be further improved. R 2 other than the alkenyl group is preferably an alkyl group (particularly a methyl group) or an aryl group (particularly a phenyl group).

上記平均単位式中、RAは、上述のようにアルキレン基である。特にエチレン基が好ましい。 In the average unit formula, R A is an alkylene group as described above. An ethylene group is particularly preferable.

上記平均単位式中、X2は、上記X1と同じく、水素原子又はアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、特にメチル基であることが好ましい。 In the average unit formula, X 2 is a hydrogen atom or an alkyl group as in X 1 above. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and a methyl group is particularly preferable.

上記平均単位式中、b1は正数、b2は正数、b3は0又は正数、b4は0又は正数、b5は正数、b6は0又は正数である。中でも、b1は1/(b1+b2+b3+b4+b5)〜200/(b1+b2+b3+b4+b5)が好ましく、b2は1/(b1+b2+b3+b4+b5)〜200/(b1+b2+b3+b4+b5)が好ましく、b3は0/(b1+b2+b3+b4+b5)〜10/(b1+b2+b3+b4+b5)が好ましく、b4は0/(b1+b2+b3+b4+b5)〜5/(b1+b2+b3+b4+b5)が好ましく、b5は1/(b1+b2+b3+b4+b5)〜100/(b1+b2+b3+b4+b5)が好ましい。特に、(b3+b4)が正数の場合には、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)が分岐鎖(分岐状の主鎖)を有し、硬化物の機械強度がより向上する傾向がある。   In the above average unit formula, b1 is a positive number, b2 is a positive number, b3 is 0 or a positive number, b4 is 0 or a positive number, b5 is a positive number, b6 is 0 or a positive number. Among them, b1 is preferably 1 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5) to 200 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5), b2 is preferably 1 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5) to 200 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5), and b3 is preferably 0 / (5 + 4 + b3 + b4 + b3). b4 is preferably 0 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5) to 5 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5), and b5 is preferably 1 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5) to 100 / (b1 + b2 + b3 + b4 + b5). In particular, when (b3 + b4) is a positive number, the polyorganosiloxysilalkylene (A2) has a branched chain (branched main chain), and the mechanical strength of the cured product tends to be further improved.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)としては、より具体的には、例えば、下記式(I−2)で表される構造を有するポリオルガノシロキシシルアルキレンが挙げられる。

Figure 2016124958
More specifically, examples of the polyorganosiloxysilalkylene (A2) include polyorganosiloxysilalkylene having a structure represented by the following formula (I-2).
Figure 2016124958

上記式(I−2)中、R12は、同一又は異なって、水素原子、又は一価の置換若しくは無置換炭化水素基である。R12としては、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)、及び上述のアルケニル基が挙げられる。但し、R12の少なくとも2個はアルケニル基(特にビニル基)である。また、アルケニル基以外のR12としては、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。 In the above formula (I-2), R 12 is the same or different and is a hydrogen atom or a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Examples of R 12 include the specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group described above (for example, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogenated hydrocarbon group, etc.) and the above-described alkenyl group. However, at least two of R 12 are alkenyl groups (particularly vinyl groups). R 12 other than the alkenyl group is preferably an alkyl group (particularly a methyl group) or an aryl group (particularly a phenyl group).

上記式(I−2)中、RAは、上記と同じく、アルキレン基を示し、中でも、C2-4アルキレン基(特に、エチレン基)が好ましい。なお、複数のRAが存在する場合、これらは同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In the formula (I-2), R A represents an alkylene group as described above, and among them, a C 2-4 alkylene group (particularly an ethylene group) is preferable. In addition, when several RA exists, these may be the same and may differ.

上記式(I−2)中、r1は1以上の整数(例えば、1〜100)を示す。なお、r1が2以上の整数の場合、r1が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (I-2), r1 shows an integer greater than or equal to 1 (for example, 1-100). In addition, when r1 is an integer greater than or equal to 2, the structure in the parenthesis attached | subjected to r1 may be the same respectively, and may differ.

上記式(I−2)中、r2は1以上の整数(例えば、1〜400)を示す。なお、r2が2以上の整数の場合、r2が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (I-2), r2 shows an integer greater than or equal to 1 (for example, 1-400). In addition, when r2 is an integer greater than or equal to 2, the structure in the bracket | parenthesis which attached | subjected r2 may be respectively the same, and may differ.

上記式(I−2)中、r3は0又は1以上の整数(例えば、0〜50)を示す。なお、r3が2以上の整数の場合、r3が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (I-2), r3 shows 0 or an integer greater than or equal to 1 (for example, 0-50). When r3 is an integer of 2 or more, the structures in parentheses to which r3 is attached may be the same or different.

上記式(I−2)中、r4は0又は1以上の整数(例えば、0〜50)を示す。なお、r4が2以上の整数の場合、r4が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (I-2), r4 shows 0 or an integer greater than or equal to 1 (for example, 0-50). When r4 is an integer of 2 or more, the structures in parentheses to which r4 is attached may be the same or different.

上記式(I−2)中、r5は0又は1以上の整数(例えば、0〜50)を示す。なお、r5が2以上の整数の場合、r5が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (I-2), r5 shows 0 or an integer greater than or equal to 1 (for example, 0-50). When r5 is an integer of 2 or more, the structures in parentheses to which r5 is attached may be the same or different.

また、上記式(I−2)における各構造単位の付加形態は特に限定されず、ランダム型であってもよいし、ブロック型であってもよい。また、各構造単位の配列の順番も特に限定されない。   Moreover, the addition form of each structural unit in the said Formula (I-2) is not specifically limited, A random type may be sufficient and a block type may be sufficient. Further, the order of arrangement of each structural unit is not particularly limited.

式(I−2)で表される構造を有するポリオルガノシロキシシルアルキレンの末端構造は、特に限定されないが、例えば、シラノール基、アルコキシシリル基、トリアルキルシリル基(例えば、r5が付された括弧内の構造、トリメチルシリル基等)等が挙げられる。上記ポリオルガノシロキシシルアルキレンの末端には、アルケニル基やヒドロシリル基等の各種の基が導入されていてもよい。   The terminal structure of the polyorganosiloxysilalkylene having the structure represented by the formula (I-2) is not particularly limited. For example, a silanol group, an alkoxysilyl group, a trialkylsilyl group (for example, parenthesis with r5 attached) Internal structure, trimethylsilyl group, etc.). Various groups such as an alkenyl group and a hydrosilyl group may be introduced at the terminal of the polyorganosiloxysilalkylene.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)は公知乃至慣用の方法により製造することができ、その製造方法は特に限定されないが、例えば、特開2012−140617号公報に記載の方法により製造できる。また、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)を含む製品として、例えば、商品名「ETERLED GD1130」、「ETERLED GD1125」、「ETERLED GS5145」、「ETERLED GS5135」、「ETERLED GS5120」(いずれも長興材料工業製)等が入手可能である。   The polyorganosiloxysylalkylene (A2) can be produced by a known or conventional method, and the production method is not particularly limited. For example, it can be produced by the method described in JP2012-140617A. Moreover, as a product containing polyorganosiloxysilalkylene (A2), for example, trade names “ETERLED GD1130”, “ETERLED GD1125”, “ETERLED GS5145”, “ETERLED GS5135”, “ETERLED GS5120” (all manufactured by Changko Material Industries) ) Etc. are available.

なお、本発明の硬化性樹脂組成物においてポリシロキサン(A)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In addition, in the curable resin composition of this invention, polysiloxane (A) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

なお、ポリシロキサン(A)は、分子内に2個以上のアルケニル基を有していればよく、さらにヒドロシリル基を有していてもよい。この場合、ポリシロキサン(A)は、後述のポリシロキサン(B)でもあり得る。   In addition, polysiloxane (A) should just have two or more alkenyl groups in a molecule | numerator, and also may have a hydrosilyl group. In this case, the polysiloxane (A) may be a polysiloxane (B) described later.

本発明の硬化性樹脂組成物におけるポリシロキサン(A)の含有量(配合量)(総量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物の全量(100重量%)に対して、50〜99重量%が好ましく、より好ましくは60〜97重量%、さらに好ましくは70〜95重量%である。含有量を50重量%以上とすることにより、硬化物の強靭性、透明性がより向上する傾向がある。   The content (blending amount) (total amount) of the polysiloxane (A) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 50 to 99 with respect to the total amount (100% by weight) of the curable resin composition. % By weight is preferable, more preferably 60 to 97% by weight, and still more preferably 70 to 95% by weight. By setting the content to 50% by weight or more, the toughness and transparency of the cured product tend to be further improved.

本発明の硬化性樹脂組成物におけるポリシロキサン(A)としては、ポリオルガノシロキサン(A1)のみを使用することもできるし、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)のみを使用することもできるし、また、ポリオルガノシロキサン(A1)とポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)とを併用することもできる。ポリオルガノシロキサン(A1)とポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)とを併用する場合、これらの割合は特に限定されず、適宜設定可能である。   As polysiloxane (A) in the curable resin composition of the present invention, only polyorganosiloxane (A1) can be used, or only polyorganosiloxysilalkylene (A2) can be used. Polyorganosiloxane (A1) and polyorganosiloxysilalkylene (A2) can also be used in combination. When the polyorganosiloxane (A1) and the polyorganosiloxysilalkylene (A2) are used in combination, these ratios are not particularly limited and can be appropriately set.

[ポリシロキサン(B)]
本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分であるポリシロキサン(B)は、上述のように、分子内に2個以上のヒドロシリル基(Si−H)を有するポリオルガノシロキサンである。即ち、ポリシロキサン(B)は、ヒドロシリル基を有するポリシロキサンであり、アルケニル基を有する成分(例えば、ポリシロキサン(A)等)とヒドロシリル化反応を生じる成分である。但し、ポリシロキサン(B)には、後述の「ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン」に当たるものは含まれない。
[Polysiloxane (B)]
The polysiloxane (B), which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, is a polyorganosiloxane having two or more hydrosilyl groups (Si—H) in the molecule as described above. That is, the polysiloxane (B) is a polysiloxane having a hydrosilyl group, and is a component that causes a hydrosilylation reaction with a component having an alkenyl group (for example, polysiloxane (A)). However, the polysiloxane (B) does not include those described later as “ladder type polyorganosilsesquioxane”.

ポリシロキサン(B)は、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサン(B1)(単に「ポリオルガノシロキサン(B1)」と称する場合がある)及び分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)(単に「ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)」と称する場合がある)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリオルガノシロキサンである。   The polysiloxane (B) is composed of a polyorganosiloxane (B1) having two or more hydrosilyl groups in the molecule (sometimes simply referred to as “polyorganosiloxane (B1)”) and two or more hydrosilyl groups in the molecule. A polyorganosiloxane having at least one selected from the group consisting of polyorganosiloxysilalkylene (B2) (sometimes simply referred to as “polyorganosiloxysilalkylene (B2)”).

本明細書におけるポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)とは、主鎖として−Si−O−Si−(シロキサン結合)に加えて、−Si−RA−Si−(シルアルキレン結合:RAはアルキレン基を示す)を含むポリオルガノシロキサンである。そして、本明細書におけるポリオルガノシロキサン(B1)は、主鎖として上記シルアルキレン結合を含まないポリオルガノシロキサンである。なお、上記シルアルキレン結合におけるRA(アルキレン基)としては、上記と同じく、例えば、直鎖又は分岐鎖状のC1-12アルキレン基が挙げられ、好ましくは直鎖又は分岐鎖状のC2-4アルキレン基(特に、エチレン基)である。 In this specification, the polyorganosiloxysilalkylene (B2) means -Si-O-Si- (siloxane bond) as a main chain, -Si- RA -Si- (silalkylene bond: RA is alkylene) A polyorganosiloxane containing a group). And polyorganosiloxane (B1) in this specification is polyorganosiloxane which does not contain the said silalkylene bond as a principal chain. In addition, examples of R A (alkylene group) in the silalkylene bond include a linear or branched C 1-12 alkylene group as described above, and preferably a linear or branched C 2. -4 alkylene group (especially ethylene group).

(ポリオルガノシロキサン(B1))
ポリオルガノシロキサン(B1)としては、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、分岐鎖状、網目状の分子構造を有するものが挙げられる。なお、ポリオルガノシロキサン(B1)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。具体的には、分子構造が異なるポリオルガノシロキサン(B1)の2種以上を併用することができ、例えば、直鎖状のポリオルガノシロキサン(B1)と分岐鎖状のポリオルガノシロキサン(B1)とを併用することもできる。
(Polyorganosiloxane (B1))
Examples of the polyorganosiloxane (B1) include those having a linear, partially branched linear, branched, and network molecular structure. In addition, polyorganosiloxane (B1) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. Specifically, two or more polyorganosiloxanes (B1) having different molecular structures can be used in combination, for example, a linear polyorganosiloxane (B1) and a branched polyorganosiloxane (B1). Can also be used together.

ポリオルガノシロキサン(B1)が有するケイ素原子に結合した基の中でも水素原子以外の基は、特に限定されないが、例えば、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基、より詳しくは、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等が挙げられる。中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。また、ポリオルガノシロキサン(B1)は、水素原子以外のケイ素原子に結合した基として、アルケニル基(例えばビニル基)を有していてもよいし、有していなくてもよい。   Among the groups bonded to the silicon atom of the polyorganosiloxane (B1), a group other than a hydrogen atom is not particularly limited. For example, the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group described above, more specifically, an alkyl group, An aryl group, an aralkyl group, a halogenated hydrocarbon group, etc. are mentioned. Of these, an alkyl group (particularly a methyl group) and an aryl group (particularly a phenyl group) are preferable. The polyorganosiloxane (B1) may or may not have an alkenyl group (for example, a vinyl group) as a group bonded to a silicon atom other than a hydrogen atom.

ポリオルガノシロキサン(B1)の性状は、特に限定されず、液状であってもよいし、固体状であってもよい。中でも液状であることが好ましく、25℃における粘度が0.1〜10億mPa・sの液状であることがより好ましい。   The property of the polyorganosiloxane (B1) is not particularly limited, and may be liquid or solid. Among these, a liquid is preferable, and a viscosity at 25 ° C. of 0.1 to 1 billion mPa · s is more preferable.

ポリオルガノシロキサン(B1)としては、下記平均単位式:
(R3SiO3/2c1(R3 2SiO2/2c2(R3 3SiO1/2c3(SiO4/2c4(X31/2c5
で表されるポリオルガノシロキサンが好ましい。上記平均単位式中、R3は、同一又は異なって、水素原子、又は、一価の置換若しくは無置換炭化水素基であり、水素原子、上述の一価の置換若しくは無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基等)、及び上述のアルケニル基が挙げられる。但し、R3の一部は水素原子(ヒドロシリル基を構成する水素原子)であり、その割合は、ヒドロシリル基が分子内に2個以上となる範囲に制御される。例えば、R3の全量(100モル%)に対する水素原子の割合は、0.1〜40モル%が好ましい。水素原子の割合を上記範囲に制御することにより、硬化性樹脂組成物の硬化性がより向上する傾向がある。また、水素原子以外のR3としては、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。
As polyorganosiloxane (B1), the following average unit formula:
(R 3 SiO 3/2 ) c 1 (R 3 2 SiO 2/2 ) c 2 (R 3 3 SiO 1/2 ) c 3 (SiO 4/2 ) c 4 (X 3 O 1/2 ) c 5
The polyorganosiloxane represented by these is preferable. In the above average unit formula, R 3 is the same or different and is a hydrogen atom or a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Specific examples of the hydrogen atom and the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group described above Examples (for example, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogenated alkyl group, etc.) and the above-mentioned alkenyl group are mentioned. However, a part of R 3 is a hydrogen atom (hydrogen atom constituting a hydrosilyl group), and the ratio thereof is controlled in a range where two or more hydrosilyl groups are present in the molecule. For example, the ratio of hydrogen atoms to the total amount of R 3 (100 mol%) is preferably 0.1 to 40 mol%. By controlling the proportion of hydrogen atoms within the above range, the curability of the curable resin composition tends to be further improved. R 3 other than a hydrogen atom is preferably an alkyl group (particularly a methyl group) or an aryl group (particularly a phenyl group).

上記平均単位式中、X3は、水素原子又はアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、特にメチル基であることが好ましい。 In the average unit formula, X 3 is a hydrogen atom or an alkyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and a methyl group is particularly preferable.

上記平均単位式中、c1は0又は正数、c2は0又は正数、c3は0又は正数、c4は0又は正数、c5は0又は正数であり、かつ、(c1+c2+c3)は正数である。   In the above average unit formula, c1 is 0 or positive number, c2 is 0 or positive number, c3 is 0 or positive number, c4 is 0 or positive number, c5 is 0 or positive number, and (c1 + c2 + c3) is positive Is a number.

ポリオルガノシロキサン(B1)の一例としては、例えば、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンが挙げられる。上記直鎖状ポリオルガノシロキサンにおける水素原子以外のケイ素原子に結合した基としては、例えば、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基及び上述のアルケニル基が挙げられるが、中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。   An example of the polyorganosiloxane (B1) is a linear polyorganosiloxane having two or more hydrosilyl groups in the molecule. Examples of the group bonded to a silicon atom other than a hydrogen atom in the linear polyorganosiloxane include the above-mentioned monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group and the above-mentioned alkenyl group. Among them, an alkyl group ( In particular, a methyl group) and an aryl group (particularly a phenyl group) are preferable.

上記直鎖状ポリオルガノシロキサンにおける、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対する水素原子(ケイ素原子に結合した水素原子)の割合は、特に限定されないが、0.1〜40モル%が好ましい。また、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合は、特に限定されないが、20〜99モル%が好ましい。さらに、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合は、特に限定されないが、40〜80モル%が好ましい。特に、上記直鎖状ポリオルガノシロキサンとして、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合が40モル%以上(例えば、45〜70モル%)であるものを使用することにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。また、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合が90モル%以上(例えば、95〜99モル%)であるものを使用することにより、硬化物の耐熱衝撃性がより向上する傾向がある。   The ratio of hydrogen atoms (hydrogen atoms bonded to silicon atoms) to the total amount of groups bonded to silicon atoms (100 mol%) in the linear polyorganosiloxane is not particularly limited, but is 0.1 to 40 mol%. Is preferred. Moreover, the ratio of the alkyl group (especially methyl group) with respect to the total amount (100 mol%) of the group bonded to the silicon atom is not particularly limited, but is preferably 20 to 99 mol%. Furthermore, the ratio of the aryl group (particularly phenyl group) to the total amount (100 mol%) of the groups bonded to the silicon atom is not particularly limited, but is preferably 40 to 80 mol%. In particular, as the linear polyorganosiloxane, the ratio of aryl groups (particularly phenyl groups) to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms is 40 mol% or more (for example, 45 to 70 mol%). By using a thing, there exists a tendency for the barrier property with respect to the corrosive gas of hardened | cured material to improve more. Moreover, a cured product is obtained by using a material in which the ratio of alkyl groups (particularly methyl groups) is 90 mol% or more (for example, 95 to 99 mol%) with respect to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms. There is a tendency that the thermal shock resistance of is improved.

上記直鎖状ポリオルガノシロキサンは、例えば、下記式(II−1)で表される。

Figure 2016124958
[上記式中、R21は、同一又は異なって、水素原子、又は、一価の置換若しくは無置換炭化水素基である。但し、R21の少なくとも2個は水素原子である。m2は、5〜1000の整数である。] The linear polyorganosiloxane is represented by, for example, the following formula (II-1).
Figure 2016124958
[In the above formula, R 21 s are the same or different and each represents a hydrogen atom or a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. However, at least two of R 21 are hydrogen atoms. m2 is an integer of 5 to 1000. ]

ポリオルガノシロキサン(B1)の他の例としては、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有し、RSiO3/2で表されるシロキサン単位(T単位)を有する分岐鎖状ポリオルガノシロキサンが挙げられる。但し、上述のように、当該分岐鎖状ポリオルガノシロキサンには、後述の「ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン」に当たるものは含まれない。なお、Rは、水素原子、又は、一価の置換若しくは無置換炭化水素基である。上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンにおける水素原子以外のケイ素原子に結合した基としては、例えば、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基、及び上述のアルケニル基が挙げられるが、中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。さらに、上記T単位中のRとしては、水素原子、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基、及び上述のアルケニル基が挙げられるが、中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。上記T単位中のRの全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合は、特に限定されないが、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性の観点で、30モル%以上が好ましい。 Another example of the polyorganosiloxane (B1) is a branched polyorganosiloxane having two or more hydrosilyl groups in the molecule and having a siloxane unit (T unit) represented by RSiO 3/2. It is done. However, as described above, the branched polyorganosiloxane does not include what is described later as “ladder type polyorganosilsesquioxane”. R is a hydrogen atom or a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Examples of the group bonded to a silicon atom other than a hydrogen atom in the branched polyorganosiloxane include the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group described above and the alkenyl group described above. (Especially methyl group) and aryl group (particularly phenyl group) are preferable. Furthermore, examples of R in the T unit include a hydrogen atom, the above-described monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group, and the above-described alkenyl group. Among them, an alkyl group (particularly a methyl group), an aryl group ( Particularly preferred is a phenyl group. The ratio of the aryl group (particularly phenyl group) to the total amount of R in the T unit (100 mol%) is not particularly limited, but is preferably 30 mol% or more from the viewpoint of the barrier property against the corrosive gas of the cured product.

上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンにおける、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合は、特に限定されないが、70〜95モル%が好ましい。さらに、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合は、特に限定されないが、10〜70モル%が好ましい。特に、上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンとして、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアリール基(特にフェニル基)の割合が10モル%以上(例えば、10〜70モル%)であるものを使用することにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。また、ケイ素原子に結合した基の全量(100モル%)に対するアルキル基(特にメチル基)の割合が50モル%以上(例えば、50〜90モル%)であるものを使用することにより、硬化物の耐熱衝撃性がより向上する傾向がある。   The ratio of alkyl groups (particularly methyl groups) to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms in the branched polyorganosiloxane is not particularly limited, but is preferably 70 to 95 mol%. Furthermore, the ratio of the aryl group (particularly phenyl group) to the total amount (100 mol%) of the groups bonded to the silicon atom is not particularly limited, but is preferably 10 to 70 mol%. In particular, as the branched polyorganosiloxane, the ratio of aryl groups (particularly phenyl groups) to the total amount (100 mol%) of groups bonded to silicon atoms is 10 mol% or more (for example, 10 to 70 mol%). By using a thing, there exists a tendency for the barrier property with respect to the corrosive gas of hardened | cured material to improve more. Moreover, a cured product is obtained by using a compound in which the ratio of the alkyl group (particularly methyl group) to the total amount (100 mol%) of the groups bonded to the silicon atom is 50 mol% or more (for example, 50 to 90 mol%). There is a tendency that the thermal shock resistance of is improved.

上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンは、例えば、c1が正数である上記平均単位式で表すことができる。この場合、特に限定されないが、c2/c1は0〜10の数、c3/c1は0〜0.5の数、c4/(c1+c2+c3+c4)は0〜0.3の数、c5/(c1+c2+c3+c4)は0〜0.4の数であることが好ましい。また、上記分岐鎖状ポリオルガノシロキサンの分子量は特に限定されないが、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が300〜1万であることが好ましく、より好ましくは500〜3000である。   The branched polyorganosiloxane can be represented by, for example, the average unit formula in which c1 is a positive number. In this case, although not particularly limited, c2 / c1 is a number from 0 to 10, c3 / c1 is a number from 0 to 0.5, c4 / (c1 + c2 + c3 + c4) is a number from 0 to 0.3, and c5 / (c1 + c2 + c3 + c4) is The number is preferably 0 to 0.4. The molecular weight of the branched polyorganosiloxane is not particularly limited, but the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene is preferably 300 to 10,000, more preferably 500 to 3000.

(ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2))
ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)は、上述のように、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有し、主鎖としてシロキサン結合に加えて、シルアルキレン結合を含むポリオルガノシロキサンである。なお、上記シルアルキレン結合におけるアルキレン基としては、例えば、C2-4アルキレン基(特に、エチレン基)が好ましい。上記ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)は、ポリオルガノシロキサン(B1)と比較して製造工程において低分子量の環を生じ難く、また、加熱等により分解してシラノール基(−SiOH)を生じ難いため、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)を使用した場合、硬化性樹脂組成物の硬化物の表面粘着性が低減され、より黄変し難くなる傾向がある。
(Polyorganosiloxysilalkylene (B2))
As described above, the polyorganosiloxysilalkylene (B2) is a polyorganosiloxane having two or more hydrosilyl groups in the molecule and containing a silalkylene bond as a main chain in addition to a siloxane bond. In addition, as an alkylene group in the said silalkylene bond, a C2-4 alkylene group (especially ethylene group) is preferable, for example. The polyorganosiloxysilalkylene (B2) is less likely to produce a low molecular weight ring in the production process than the polyorganosiloxane (B1), and is not easily decomposed by heating or the like to produce a silanol group (—SiOH). When polyorganosiloxysilalkylene (B2) is used, the surface tackiness of the cured product of the curable resin composition is reduced, and it tends to be more difficult to yellow.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)としては、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、分岐鎖状、網目状の分子構造を有するものが挙げられる。なお、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。具体的には、分子構造が異なるポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)の2種以上を併用することができ、例えば、直鎖状のポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)と分岐鎖状のポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)とを併用することもできる。   Examples of the polyorganosiloxysilalkylene (B2) include those having a linear, partially branched, linear, branched or network molecular structure. In addition, polyorgano siloxysil alkylene (B2) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. Specifically, two or more kinds of polyorganosiloxysilalkylene (B2) having different molecular structures can be used in combination, for example, linear polyorganosiloxysilalkylene (B2) and branched polyorganosiloxy. Silalkylene (B2) can also be used in combination.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)が有する水素原子以外のケイ素原子に結合した基は、特に限定されないが、例えば、有機基等が挙げられる。有機基としては、例えば、上述の一価の置換又は無置換炭化水素基及び上述のアルケニル基等が挙げられる。中でも、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。また、ポリオルガノシロキサン(B2)は、水素原子以外のケイ素原子に結合した基として、アルケニル基(例えばビニル基)を有していてもよいし、有していなくてもよい。   Although the group couple | bonded with silicon atoms other than the hydrogen atom which polyorganosiloxysil alkylene (B2) has is not specifically limited, For example, an organic group etc. are mentioned. As an organic group, the above-mentioned monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group, the above-mentioned alkenyl group, etc. are mentioned, for example. Of these, an alkyl group (particularly a methyl group) and an aryl group (particularly a phenyl group) are preferable. The polyorganosiloxane (B2) may or may not have an alkenyl group (for example, a vinyl group) as a group bonded to a silicon atom other than a hydrogen atom.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)の性状は、特に限定されず、例えば25℃において、液状であってもよいし、固体状であってもよい。   The property of the polyorganosiloxysilalkylene (B2) is not particularly limited, and may be liquid or solid at 25 ° C., for example.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)としては、下記平均単位式:
(R4 2SiO2/2d1(R4 3SiO1/2d2(R4SiO3/2d3(SiO4/2d4(RAd5(X4O)d6
で表されるポリオルガノシロキシシルアルキレンが好ましい。上記平均単位式中、R4は、同一又は異なって、水素原子、又は一価の置換若しくは無置換炭化水素基であり、水素原子、上述の一価の置換若しくは無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基等)、及び上述のアルケニル基等が挙げられる。但し、R4の一部は水素原子であり、その割合は、分子内に2個以上となる範囲に制御される。例えば、R4の全量(100モル%)に対する水素原子の割合は、0.1〜50モル%が好ましく、より好ましくは5〜35モル%である。水素原子の割合を上記範囲に制御することにより、硬化性樹脂組成物の硬化性がより向上する傾向がある。また、水素原子以外のR4としては、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。
As polyorganosiloxysilalkylene (B2), the following average unit formula:
(R 4 2 SiO 2/2) d1 (R 4 3 SiO 1/2) d2 (R 4 SiO 3/2) d3 (SiO 4/2) d4 (R A) d5 (X 4 O) d6
A polyorganosiloxysilalkylene represented by the formula is preferred. In the above average unit formula, R 4 s are the same or different and each represents a hydrogen atom or a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Specific examples of the hydrogen atom and the above monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group (For example, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogenated alkyl group, etc.) and the above-mentioned alkenyl group. However, a part of R 4 is a hydrogen atom, and the ratio thereof is controlled within a range of 2 or more in the molecule. For example, the proportion of hydrogen atoms with respect to the total amount of R 4 (100 mol%) is preferably 0.1 to 50 mol%, more preferably 5 to 35 mol%. By controlling the proportion of hydrogen atoms within the above range, the curability of the curable resin composition tends to be further improved. R 4 other than a hydrogen atom is preferably an alkyl group (particularly a methyl group) or an aryl group (particularly a phenyl group).

上記平均単位式中、RAは、上述のようにアルキレン基である。特にエチレン基が好ましい。 In the average unit formula, R A is an alkylene group as described above. An ethylene group is particularly preferable.

上記平均単位式中、X4は、上記X3と同じく、水素原子又はアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、特にメチル基であることが好ましい。 In the average unit formula, X 4 is a hydrogen atom or an alkyl group as in X 3 above. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and a methyl group is particularly preferable.

上記平均単位式中、d1は正数、d2は正数、d3は0又は正数、d4は0又は正数、d5は正数、d6は0又は正数である。中でも、d1は1/(d1+d2+d3+d4+d5)〜50/(d1+d2+d3+d4+d5)が好ましく、d2は1/(d1+d2+d3+d4+d5)〜50/(d1+d2+d3+d4+d5)が好ましく、d3は0/(d1+d2+d3+d4+d5)〜10/(d1+d2+d3+d4+d5)が好ましく、d4は0/(d1+d2+d3+d4+d5)〜5/(d1+d2+d3+d4+d5)が好ましく、d5は1/(d1+d2+d3+d4+d5)〜30/(d1+d2+d3+d4+d5)が好ましい。   In the above average unit formula, d1 is a positive number, d2 is a positive number, d3 is 0 or a positive number, d4 is 0 or a positive number, d5 is a positive number, d6 is 0 or a positive number. Among them, d1 is preferably 1 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5) to 50 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5), d2 is preferably 1 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5) to 50 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5), and d3 is preferably 0 / (d3 + d + d + d4 + d4 + d3). d4 is preferably 0 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5) to 5 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5), and d5 is preferably 1 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5) to 30 / (d1 + d2 + d3 + d4 + d5).

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)としては、より具体的には、例えば、下記式(II−2)で表される構造を有するポリオルガノシロキシシルアルキレンが挙げられる。

Figure 2016124958
More specifically, examples of the polyorganosiloxysilalkylene (B2) include polyorganosiloxysilalkylene having a structure represented by the following formula (II-2).
Figure 2016124958

上記式(II−2)中、R22は、同一又は異なって、水素原子、又は一価の置換若しくは無置換炭化水素基である。R22としては、水素原子、上述の一価の置換若しくは無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)、及び上述のアルケニル基が挙げられる。但し、R22の少なくとも2個は水素原子である。また、水素原子以外のR22としては、アルキル基(特にメチル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。 In said formula (II-2), R <22> is the same or different, and is a hydrogen atom or a monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Examples of R 22 include a hydrogen atom, specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group described above (eg, alkyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group, etc.), and the above alkenyl group. It is done. However, at least two of R 22 are hydrogen atoms. R 22 other than a hydrogen atom is preferably an alkyl group (particularly a methyl group) or an aryl group (particularly a phenyl group).

上記式(II−2)中、RAは、式(I−2)におけるRAと同じく、アルキレン基を示し、中でも、C2-4アルキレン基(特に、エチレン基)が好ましい。なお、複数のRAが存在する場合、これらは同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In the formula (II-2), R A, like R A in formula (I-2), an alkylene group, among them, C 2-4 alkylene group (in particular, an ethylene group) is preferable. In addition, when several RA exists, these may be the same and may differ.

上記式(II−2)中、q1は1以上の整数(例えば、1〜100)を示す。なお、q1が2以上の整数の場合、q1が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (II-2), q1 shows an integer greater than or equal to 1 (for example, 1-100). In addition, when q1 is an integer greater than or equal to 2, the structure in the bracket | parenthesis which attached | subjected q1 may each be the same, and may differ.

上記式(II−2)中、q2は1以上の整数(例えば、1〜400)を示す。なお、q2が2以上の整数の場合、q2が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In the above formula (II-2), q2 represents an integer of 1 or more (for example, 1 to 400). In addition, when q2 is an integer greater than or equal to 2, the structure in the bracket | parenthesis which attached | subjected q2 may each be the same, and may differ.

上記式(II−2)中、q3は0又は1以上の整数(例えば、0〜50)を示す。なお、q3が2以上の整数の場合、q3が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (II-2), q3 shows 0 or an integer greater than or equal to 1 (for example, 0-50). In addition, when q3 is an integer greater than or equal to 2, the structure in the bracket | parenthesis which attached | subjected q3 may be respectively the same, and may differ.

上記式(II−2)中、q4は0又は1以上の整数(例えば、0〜50)を示す。なお、q4が2以上の整数の場合、q4が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (II-2), q4 shows 0 or an integer greater than or equal to 1 (for example, 0-50). In addition, when q4 is an integer greater than or equal to 2, the structure in the parenthesis which attached | subjected q4 may be the same respectively, and may differ.

上記式(II−2)中、q5は0又は1以上の整数(例えば、0〜50)を示す。なお、q5が2以上の整数の場合、q5が付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In said formula (II-2), q5 shows 0 or an integer greater than or equal to 1 (for example, 0-50). In addition, when q5 is an integer greater than or equal to 2, the structure in the bracket | parenthesis which attached | subjected q5 may each be the same, and may differ.

また、上記式(II−2)における各構造単位の付加形態は特に限定されず、ランダム型であってもよいし、ブロック型であってもよい。。   Moreover, the addition form of each structural unit in the formula (II-2) is not particularly limited, and may be a random type or a block type. .

式(II−2)で表される構造を有するポリオルガノシロキシシルアルキレンの末端構造は、特に限定されないが、例えば、シラノール基、アルコキシシリル基、トリアルキルシリル基(例えば、q5が付された括弧内の構造、トリメチルシリル基等)等が挙げられる。上記ポリオルガノシロキシシルアルキレンの末端には、ヒドロシリル基等の各種の基が導入されていてもよい。   The terminal structure of the polyorganosiloxysilalkylene having the structure represented by the formula (II-2) is not particularly limited. For example, a silanol group, an alkoxysilyl group, a trialkylsilyl group (for example, a bracket with q5 attached) Internal structure, trimethylsilyl group, etc.). Various groups such as a hydrosilyl group may be introduced at the terminal of the polyorganosiloxysilalkylene.

ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)は公知乃至慣用の方法により製造することができ、その製造方法は特に限定されないが、例えば、特開2012−140617号公報に記載の方法により製造できる。   The polyorganosiloxysilalkylene (B2) can be produced by a known or conventional method, and the production method is not particularly limited. For example, it can be produced by the method described in JP2012-140617A.

なお、本発明の硬化性樹脂組成物においてポリシロキサン(B)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In addition, in the curable resin composition of this invention, polysiloxane (B) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

本発明の硬化性樹脂組成物におけるポリシロキサン(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、ポリシロキサン(A)の全量100重量部に対して、1〜200重量部が好ましい。ポリシロキサン(B)の含有量を上記範囲に制御することにより、硬化性樹脂組成物の硬化性がより向上し、効率的に硬化物を形成することができる傾向がある。ポリシロキサン(B)の含有量が上記範囲内であると、硬化反応が十分に進行すること等により、硬化物の耐熱性、耐熱衝撃性、耐リフロー性等の特性がより向上する傾向がある。   Although content (blending amount) of the polysiloxane (B) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, it is preferably 1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polysiloxane (A). By controlling the content of polysiloxane (B) within the above range, the curability of the curable resin composition tends to be further improved and a cured product can be efficiently formed. When the content of the polysiloxane (B) is within the above range, the curing reaction proceeds sufficiently, and thus the properties of the cured product, such as heat resistance, thermal shock resistance, and reflow resistance, tend to be further improved. .

本発明の硬化性樹脂組成物におけるポリシロキサン(B)としては、ポリオルガノシロキサン(B1)のみを使用することもできるし、ポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)のみを使用することもできるし、また、ポリオルガノシロキサン(B1)とポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)とを併用することもできる。ポリオルガノシロキサン(B1)とポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)とを併用する場合、これらの割合は特に限定されず、適宜設定可能である。   As polysiloxane (B) in the curable resin composition of the present invention, only polyorganosiloxane (B1) can be used, or only polyorganosiloxysilalkylene (B2) can be used. Polyorganosiloxane (B1) and polyorganosiloxysilalkylene (B2) can also be used in combination. In the case where the polyorganosiloxane (B1) and the polyorganosiloxysilalkylene (B2) are used in combination, these ratios are not particularly limited and can be appropriately set.

本発明の硬化性樹脂組成物(100重量%)におけるポリシロキサン(A)とポリシロキサン(B)の含有量の合計(合計含有量)は、特に限定されないが、60〜99重量%が好ましく、より好ましくは70〜96重量%、さらに好ましくは80〜90重量%である。上記合計含有量を上記範囲に制御することにより、硬化物の強靭性、耐熱性、透明性がより向上する傾向がある。   The total content (total content) of the polysiloxane (A) and the polysiloxane (B) in the curable resin composition (100% by weight) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 60 to 99% by weight, More preferably, it is 70 to 96 weight%, More preferably, it is 80 to 90 weight%. By controlling the total content within the above range, the toughness, heat resistance and transparency of the cured product tend to be further improved.

[複素環式化合物(C)]
本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分である複素環式化合物(C)は、少なくとも1個の窒素原子を有し、硫黄原子を有さず、且つ水素原子と直接結合した窒素原子を有しない複素環を有する化合物である。なお、本明細書において、「複素環」とは、複素環そのものをいい、複素環に結合した置換基等を含まないものをいう。また、本明細書において、上記「少なくとも1個の窒素原子を有し、硫黄原子を有さず、且つ水素原子と直接結合した窒素原子を有しない複素環」を、「窒素原子含有複素環(c)」と称する場合がある。従って、窒素原子含有複素環(c)には、チアゾール等の窒素原子及び硫黄原子を有する複素環や、ピロリジン等の水素原子と直接結合した窒素原子を有する複素環は含まれない。なお、上記複素環式化合物(C)には、イソシアヌレート環を有する化合物(「イソシアヌレート化合物」と称する場合がある)は含まれない。本発明の硬化性樹脂組成物は複素環式化合物(C)を必須成分として含むことにより、複素環式化合物として、窒素原子含有複素環(c)を有する複素環式化合物(C)を用いることにより、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化阻害を起こりにくくすることによるものと推測されるが、腐食性ガスに対するバリア性に優れた硬化物を形成できる。
[Heterocyclic Compound (C)]
The heterocyclic compound (C), which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, has at least one nitrogen atom, does not have a sulfur atom, and has a nitrogen atom directly bonded to a hydrogen atom. It is a compound having a heterocyclic ring that does not. In the present specification, “heterocycle” refers to a heterocycle itself and does not include a substituent or the like bonded to the heterocycle. In the present specification, the above-mentioned “heterocycle having at least one nitrogen atom, no sulfur atom, and no nitrogen atom directly bonded to a hydrogen atom” is referred to as “nitrogen atom-containing heterocycle ( c) ". Therefore, the nitrogen atom-containing heterocycle (c) does not include a heterocycle having a nitrogen atom and a sulfur atom such as thiazole, or a heterocycle having a nitrogen atom directly bonded to a hydrogen atom such as pyrrolidine. The heterocyclic compound (C) does not include a compound having an isocyanurate ring (sometimes referred to as “isocyanurate compound”). The curable resin composition of the present invention uses the heterocyclic compound (C) having a nitrogen atom-containing heterocyclic ring (c) as the heterocyclic compound by including the heterocyclic compound (C) as an essential component. By this, it is presumed that it is caused by making it difficult to inhibit the curing when the curable resin composition is cured, but a cured product having an excellent barrier property against corrosive gas can be formed.

窒素原子含有複素環(c)としては、例えば、ピロリジン環、ピロール環、ピペリジン環、ピリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、トリアジン環、モルホリン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、カルバゾール環、ベンゾ[c]シンノリン環、ピリミジン環、トリアゾール環等が挙げられる。中でも、ピリミジン環、トリアジン環、ピラゾール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、ピペリジン環、ベンゾトリアゾール環が好ましい。なお、複素環式化合物(C)中の窒素原子含有複素環(c)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。また、上記複素環式化合物(C)中の窒素原子含有複素環(c)の数は1であってもよいし、同一又は異なる2以上であってもよい。   Examples of the nitrogen atom-containing heterocyclic ring (c) include pyrrolidine ring, pyrrole ring, piperidine ring, pyridine ring, imidazole ring, pyrazole ring, oxazole ring, imidazoline ring, pyrazine ring, triazine ring, morpholine ring, indole ring, Indole ring, benzimidazole ring, purine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, cinnoline ring, pteridine ring, acridine ring, carbazole ring, benzo [c] cinnoline ring, pyrimidine ring, triazole ring and the like can be mentioned. Among these, a pyrimidine ring, a triazine ring, a pyrazole ring, a benzimidazole ring, a purine ring, a piperidine ring, and a benzotriazole ring are preferable. In addition, only 1 type may be sufficient as the nitrogen atom containing heterocyclic ring (c) in a heterocyclic compound (C), and 2 or more types may be sufficient as it. Further, the number of nitrogen atom-containing heterocycles (c) in the heterocyclic compound (C) may be one, or may be two or more identical or different.

複素環式化合物(C)としては、例えば、ピリジン、オキサゾール、ピラジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、ベンゾ[c]シンノリン、ピリミジン、これらの誘導体、ピロリジン誘導体、ピロール誘導体、ピペリジン誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、イミダゾリン誘導体、モルホリン誘導体、インドール誘導体、イソインドール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、プリン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体等が挙げられる。中でも、ピリミジン、ピリミジン誘導体、トリアジン、トリアジン誘導体、ピラゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、プリン誘導体、ピペリジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体が好ましい。この場合、ポリシロキサン(A)及びポリシロキサン(B)との相溶性、樹脂組成物中の溶解性が向上する傾向がある。   Examples of the heterocyclic compound (C) include pyridine, oxazole, pyrazine, triazine, quinoline, isoquinoline, quinoxaline, cinnoline, pteridine, acridine, benzo [c] cinnoline, pyrimidine, derivatives thereof, pyrrolidine derivatives, pyrrole derivatives, Examples include piperidine derivatives, imidazole derivatives, pyrazole derivatives, imidazoline derivatives, morpholine derivatives, indole derivatives, isoindole derivatives, benzimidazole derivatives, purine derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, and benzotriazole derivatives. Of these, pyrimidine, pyrimidine derivatives, triazine, triazine derivatives, pyrazole derivatives, benzimidazole derivatives, purine derivatives, piperidine derivatives, and benzotriazole derivatives are preferable. In this case, the compatibility with the polysiloxane (A) and the polysiloxane (B) and the solubility in the resin composition tend to be improved.

複素環式化合物(C)としては、中でも、下記式(1a)〜(1f)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物であることが好ましい。この場合、ポリシロキサン(A)及びポリシロキサン(B)との相溶性、樹脂組成物中の溶解性がより向上する傾向がある。

Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958
The heterocyclic compound (C) is preferably at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (1a) to (1f). In this case, the compatibility with the polysiloxane (A) and the polysiloxane (B) and the solubility in the resin composition tend to be further improved.
Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958
Figure 2016124958

上記式(1a)中、R31は、水素原子、又は下記式(1a−I)で表される基を示す。

Figure 2016124958
In the above formula (1a), R 31 represents a hydrogen atom or a group represented by the following formula (1a-I).
Figure 2016124958

上記式(1a−I)中、R33(3つのR33)は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。R33における置換基を有していてもよい炭化水素基としては、アルキル基[例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等]、シクロアルキル基[例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基等]、アルケニル基[例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等]、アリール基[例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等]、シクロアルキル−アルキル基[例えば、シクロへキシルメチル基、メチルシクロヘキシル基等]、アラルキル基[例えば、ベンジル基、フェネチル基等]、炭化水素基における1以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化炭化水素基[例えば、クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等]等の一価の置換又は無置換炭化水素基等が挙げられる。また、置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基等が挙げられる。また、上記置換基としては、上記一価の置換又は無置換炭化水素基の2以上が、エーテル結合(−O−)、チオエーテル結合(−S−)、エステル結合(−CO−O−)、アミド結合(−CO−NH−)、カルボニル基(−CO−)等の連結基を介して結合した基も挙げられる。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、中でも、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基(直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基)、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基が好ましい。炭素数6〜10のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。即ち、上記R33としては、中でも、直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に、直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基)、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。 In the above formula (1a-I), R 33 (three R 33 ) are the same or different and represent a hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group optionally having a substituent for R 33 include an alkyl group [eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.], cycloalkyl group [eg, cyclohexane Propyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclododecyl group, etc.], alkenyl group [eg, vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, etc.], aryl group [eg, phenyl group, tolyl group] , Xylyl group, naphthyl group, etc.], cycloalkyl-alkyl group [eg, cyclohexylmethyl group, methylcyclohexyl group, etc.], aralkyl group [eg, benzyl group, phenethyl group, etc.], one or more hydrogen atoms in a hydrocarbon group A halogenated hydrocarbon group substituted with a halogen atom [for example, a chloromethyl group, - chloropropyl group, such monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group of a halogenated alkyl group or the like] such as 3,3,3-trifluoropropyl groups. Examples of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent include a halogen atom, a hydroxy group, and a carboxy group. In addition, as the substituent, two or more of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon groups are an ether bond (—O—), a thioether bond (—S—), an ester bond (—CO—O—), A group bonded through a linking group such as an amide bond (—CO—NH—) or a carbonyl group (—CO—) is also included. Examples of the hydrocarbon group which may have the above-described substituent include a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (a linear or branched C 1-10 alkyl group), carbon, among others. An aryl group of several 6 to 10 is preferable. Examples of the linear or branched C 1-10 alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, and hexyl. Group, heptyl group, octyl group, ethylhexyl group and the like. Among the above alkyl groups, linear or branched C 1-3 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group and a naphthyl group. That is, as R 33 , a linear or branched C 1-10 alkyl group (particularly, a linear or branched C 1-3 alkyl group) and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms are among others. preferable.

上記式(1a−I)で表される基としては、中でも、t−ブチル基、(1−メチル−1−フェニル)エチル基が好ましい。即ち、上記R31としては、水素原子、t−ブチル基、(1−メチル−1−フェニル)エチル基が好ましい。 Among them, the group represented by the formula (1a-I) is preferably a t-butyl group or a (1-methyl-1-phenyl) ethyl group. That is, R 31 is preferably a hydrogen atom, a t-butyl group, or a (1-methyl-1-phenyl) ethyl group.

上記式(1a)中、R32は、上記式(1a−I)で表される基、又は下記式(1a−II)で表される基を示す。

Figure 2016124958
In the above formula (1a), R 32 represents a group represented by the above formula (1a-I) or a group represented by the following formula (1a-II).
Figure 2016124958

上記式(1a−II)中、R34は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。R34における置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。また、置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基の具体例が挙げられる。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基(直鎖又は分岐鎖状のC1-20アルキル基)が好ましく、より好ましくは直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基である。また、式(1a−II)中、pは、1〜20の整数(好ましくは1〜8の整数、より好ましくは1〜6の整数)を示す。 In the above formula (1a-II), R 34 represents a hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group which may have a substituent in R 34 include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, , Halogenated hydrocarbon groups and the like. Examples of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent include specific examples of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent as R 33 described above. Examples of the hydrocarbon group which may have a substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Group, heptyl group, octyl group, ethylhexyl group, decyl group, dodecyl group and the like, preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (linear or branched C 1-20 alkyl group). More preferably, it is a linear or branched C 1-10 alkyl group. In formula (1a-II), p represents an integer of 1 to 20 (preferably an integer of 1 to 8, more preferably an integer of 1 to 6).

32としての式(1a−I)で表される基におけるR33は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR31としての式(1a−I)で表される基中のR33における置換基を有していてもよい炭化水素基の具体例が挙げられる。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、中でも、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基(直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基)、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基が好ましい。炭素数6〜10のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。即ち、上記R33としては、中でも、直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に、直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基)、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。 R 33 in the group represented by the formula (1a-I) as R 32 is the same or different and represents a hydrocarbon group which may have a substituent. As the hydrocarbon group which may have the above substituent, the hydrocarbon group which may have a substituent in R 33 in the group represented by the formula (1a-I) as R 31 described above Specific examples are given. Examples of the hydrocarbon group which may have the above-described substituent include a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (a linear or branched C 1-10 alkyl group), carbon, among others. An aryl group of several 6 to 10 is preferable. Of the linear or branched C 1-10 alkyl groups, linear or branched C 1-3 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group and a naphthyl group. That is, as R 33 , a linear or branched C 1-10 alkyl group (particularly, a linear or branched C 1-3 alkyl group) and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms are among others. preferable.

上記式(1a)で表される化合物としては、中でも、R31が、水素原子、又はR33が直鎖若しくは分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に、直鎖若しくは分岐鎖状のC1-3アルキル基)若しくは炭素数6〜10のアリール基である式(1a−I)で表される基であり、R32が、R33が直鎖若しくは分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に、直鎖若しくは分岐鎖状のC1-3アルキル基)若しくは炭素数6〜10のアリール基である式(1a−I)で表される基、又はR34が直鎖若しくは分岐鎖状のC1-20アルキル基でありpが1〜8(好ましくは1〜6)の整数である式(1a−II)で表される基である化合物が特に好ましい。 Among the compounds represented by the above formula (1a), R 31 is a hydrogen atom, or R 33 is a linear or branched C 1-10 alkyl group (particularly, a linear or branched C 1 1-3 is an alkyl group) or a group represented by formula (1a-I) is an aryl group having a carbon number of 6 to 10, R 32 is, R 33 is a linear or branched C 1-10 alkyl A group represented by the formula (1a-I) which is a group (particularly a linear or branched C 1-3 alkyl group) or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or R 34 is a linear or branched chain The compound which is a group represented by the formula (1a-II), which is a C 1-20 alkyl group in the form of an integer of 1 to 8 (preferably 1 to 6), is particularly preferable.

上記式(1a)で表される化合物の具体例としては、下記式(1a−III)〜(1a−VII)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(1a−V)及び(1a−VI)中、Phはフェニル基を示す。上記式(1a)で表される化合物の具体例としては、その他にも、3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)骨格を有するカルボン酸とポリエチレングリコールとの反応生成物[例えば、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートとポリエチレングリコール300の反応生成物等]等が挙げられる。

Figure 2016124958
Specific examples of the compound represented by the above formula (1a) include compounds represented by the following formulas (1a-III) to (1a-VII). In the following formulas (1a-V) and (1a-VI), Ph represents a phenyl group. Other specific examples of the compound represented by the formula (1a) include a 3- (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) skeleton. Reaction product of carboxylic acid and polyethylene glycol [for example, reaction product of methyl 3- (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and polyethylene glycol 300 Etc.].
Figure 2016124958

上記式(1b)中、R35は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。R35における置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。中でも、アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基、デシル基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基(直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基)がより好ましく、直鎖又は分岐鎖状のC1-8アルキル基がさらに好ましい。また、上記置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基の具体例が挙げられる。中でも、ヒドロキシ基、アルコキシ基(より好ましくは炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基、さらに好ましくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基)が好ましい。従って、R35は、ヒドロキシ基及び/又はアルコキシ基を有していてもよいアルキル基が好ましい。 In the above formula (1b), R 35 represents a hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group which may have a substituent in R 35 include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, , Halogenated hydrocarbon groups and the like. Among them, an alkyl group is preferable, and a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, an ethylhexyl group, A linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a decyl group (a linear or branched C 1-10 alkyl group) is more preferable, and a linear or branched C 1-8 alkyl group is more preferable. More preferred are groups. Examples of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent include specific examples of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent as R 33 described above. Among these, a hydroxy group and an alkoxy group (more preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, and still more preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms) are preferable. Therefore, R 35 is preferably an alkyl group which may have a hydroxy group and / or an alkoxy group.

上記式(1b)中、R36及びR37は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。上記置換基を有していてもよいアリール基が有する芳香環としては、芳香族炭化水素環(例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等)、芳香族複素環(例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環等)等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素環が好ましく、より好ましくはベンゼン環、ナフタレン環、さらに好ましくはベンゼン環である。上記置換基を有していてもよいアリール基が有する置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基の他、連結基を含んでいてもよい炭化水素等が挙げられる。上記炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。また、連結基を含む炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の2以上が、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基等の連結基を介して結合した基が挙げられる。上記置換基を有していてもよいアリール基が有する置換基としては、中でも、直鎖又は分岐鎖状のC1-8アルキル基、ヒドロキシ基、炭素数1〜8のアルコキシ基(C1-8アルコキシ基)が好ましい。また、上記置換基を有していてもよいアリール基における置換基の結合位置は、特に限定されないが、上記式(1b)中のトリアジン環に結合する位置に対してオルト位及び/又はパラ位が好ましく、より好ましくはオルト位及びパラ位である。また、上記置換基を有していてもよいアリール基における置換基の数も特に限定されない。 In the above formula (1b), R 36 and R 37 are the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. Examples of the aromatic ring of the aryl group which may have a substituent include an aromatic hydrocarbon ring (for example, a benzene ring and a naphthalene ring), an aromatic heterocyclic ring (for example, a furan ring, a thiophene ring, and a pyrrole ring). Etc.). Among them, an aromatic hydrocarbon ring is preferable, a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable, and a benzene ring is more preferable. Examples of the substituent that the aryl group that may have the above-described substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a carboxy group, and a hydrocarbon that may include a linking group. Examples of the hydrocarbon group include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group, etc.). . As the hydrocarbon group containing a linking group, two or more of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon groups in R 33 described above are linking groups such as an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, and a carbonyl group. And a group bonded via the. Examples of the substituent that the aryl group which may have the above substituent include a linear or branched C 1-8 alkyl group, a hydroxy group, and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (C 1- 8 alkoxy groups) are preferred. In addition, the bonding position of the substituent in the aryl group which may have the substituent is not particularly limited, but is in the ortho position and / or the para position with respect to the position bonded to the triazine ring in the formula (1b). Are more preferable, and ortho-position and para-position are more preferable. Further, the number of substituents in the aryl group which may have the above substituent is not particularly limited.

上記式(1b)中のR36及びR37の具体例としては、特に限定されないが、キシリル基(特に、2,4−キシリル基)、4−(C1-8アルコキシ)−2−ヒドロキシフェニル基、2,4−ジ(C1-8アルコキシ)フェニル基が好ましい。 Specific examples of R 36 and R 37 in the above formula (1b) are not particularly limited, but include xylyl group (particularly 2,4-xylyl group), 4- (C 1-8 alkoxy) -2-hydroxyphenyl. The group 2,4-di (C 1-8 alkoxy) phenyl is preferred.

上記式(1b)で表される化合物としては、中でも、R35が、ヒドロキシ基及び/又はアルコキシ基を有していてもよいアルキル基であり、R36及びR37が、同一又は異なって、キシリル基(特に、2,4−キシリル基)、4−(C1-8アルコキシ)−2−ヒドロキシフェニル基、又は2,4−ジ(C1-8アルコキシ)フェニル基である化合物が特に好ましい。 Among the compounds represented by the above formula (1b), among others, R 35 is an alkyl group optionally having a hydroxy group and / or an alkoxy group, and R 36 and R 37 are the same or different, Particularly preferred are compounds that are xylyl groups (particularly 2,4-xylyl groups), 4- (C 1-8 alkoxy) -2-hydroxyphenyl groups, or 2,4-di (C 1-8 alkoxy) phenyl groups. .

上記式(1b)で表される化合物の具体例としては、下記式(1b−I)〜(1b−III)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 2016124958
Specific examples of the compound represented by the formula (1b) include compounds represented by the following formulas (1b-I) to (1b-III).
Figure 2016124958

上記式(1c)中、R38は、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。上記炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。また、連結基を含む炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の2以上が、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基等の連結基を介して結合した基が挙げられる。中でも、R38は、C1-10アルキル基(特に、C1-8アルキル基)、炭素数1〜10のアルコキシ基(特に、炭素数1〜8のアルコキシ基)が好ましい。 In the above formula (1c), R 38 represents a hydrocarbon group that may contain a linking group. Examples of the hydrocarbon group include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group, etc.). . As the hydrocarbon group containing a linking group, two or more of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon groups in R 33 described above are linking groups such as an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, and a carbonyl group. And a group bonded via the. Among them, R 38 is preferably a C 1-10 alkyl group (particularly a C 1-8 alkyl group) or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms (particularly an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms).

上記式(1c)中、R39は、二価の有機基を示す。上記二価の有機基は、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン等のアルキレン基(特に、炭素数が1〜20のアルキレン基);ビニレン等のアルケニレン基(特に、炭素数が2〜20のアルケニレン基);シクロペンチレン、シクロヘキシレン基等のシクロアルケニレン基;フェニレン基等のアリーレン基;これらの2以上が、直接又は連結基(例えば、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基等)を介して結合した二価の有機基等が挙げられる。これらの例示された基は置換基を有していてもよい。また、これらの例示された基は、ハロゲン原子(特にフッ素原子)で置換されていてもよい。 In the above formula (1c), R 39 represents a divalent organic group. Examples of the divalent organic group include alkylene groups such as methylene, ethylene, propylene, and butylene (particularly alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms); alkenylene groups such as vinylene (particularly those having 2 to 20 carbon atoms). Alkenylene group); cycloalkenylene group such as cyclopentylene and cyclohexylene group; arylene group such as phenylene group; two or more of these are directly or a linking group (for example, ether bond, thioether bond, ester bond, amide bond, carbonyl) A divalent organic group bonded via a group or the like). These exemplified groups may have a substituent. In addition, these exemplified groups may be substituted with a halogen atom (particularly a fluorine atom).

上記式(1c)中、R40は、置換基を有していてもよい有機基を示す。R40における置換基を有していてもよい有機基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)、及び置換又は無置換複素環基等が挙げられる。また、置換基を有していてもよい有機基における置換基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基の具体例が挙げられる。 In the above formula (1c), R 40 represents an organic group which may have a substituent. Examples of the organic group which may have a substituent in R 40 include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, Halogenated hydrocarbon groups, etc.), and substituted or unsubstituted heterocyclic groups. Moreover, as a substituent in the organic group which may have a substituent, the specific example of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent as the above-mentioned R <33 > is mentioned.

上記置換又は無置換複素環基における複素環としては、ピロリジン環、ピロール環、ピペリジン環、ピリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、トリアジン環、モルホリン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、カルバゾール環、ベンゾ[c]シンノリン環、ピリミジン環、トリアゾール環等の窒素原子含有複素環が好ましく、より好ましくは窒素原子含有複素環(c)である。上記複素環としては、中でも、ピペリジン環が好ましい。即ち、上記置換基又は無置換複素環基としては、ピペリジニル基(例えば、2−ピペリジニル基、3−ピペリジニル基、4−ピペリジニル基等)が好ましい。なお、上記ピペリジニル基は、置換基を有していてもよい。また、上記ピペリジニル基における置換基の結合位置は、窒素原子上であってもよいし、炭素原子上であってもよい。   As the heterocyclic ring in the substituted or unsubstituted heterocyclic group, pyrrolidine ring, pyrrole ring, piperidine ring, pyridine ring, imidazole ring, pyrazole ring, oxazole ring, imidazoline ring, pyrazine ring, triazine ring, morpholine ring, indole ring, Nitrogen-containing heterocycles such as isoindole ring, benzimidazole ring, purine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, cinnoline ring, pteridine ring, acridine ring, carbazole ring, benzo [c] cinnoline ring, pyrimidine ring, triazole ring A ring is preferable, and a nitrogen atom-containing heterocyclic ring (c) is more preferable. Among the above heterocyclic rings, a piperidine ring is preferable. That is, the above-mentioned substituent or unsubstituted heterocyclic group is preferably a piperidinyl group (for example, 2-piperidinyl group, 3-piperidinyl group, 4-piperidinyl group, etc.). The piperidinyl group may have a substituent. The bonding position of the substituent in the piperidinyl group may be on a nitrogen atom or a carbon atom.

上記式(1c)で表される化合物としては、中でも、R38が、C1-10アルキル基(特に、C1-8アルキル基)、又は炭素数1〜10のアルコキシ基(特に、炭素数1〜8のアルコキシ基)であり、R40が、置換基を有していてもよいピペリジニル基である化合物を少なくとも含むことが好ましい。 Among the compounds represented by the above formula (1c), R 38 is a C 1-10 alkyl group (particularly a C 1-8 alkyl group) or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms (particularly a carbon number). 1 to 8 alkoxy groups), and R 40 preferably includes at least a piperidinyl group optionally having a substituent.

上記式(1c)で表される化合物の具体例としては、下記式(1c−I)〜(1c−IV)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 2016124958
Specific examples of the compound represented by the formula (1c) include compounds represented by the following formulas (1c-I) to (1c-IV).
Figure 2016124958

上記式(1d)中、R41は、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。上記炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。また、連結基を含む炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の2以上が、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基等の連結基を介して結合した基が挙げられる。 In the above formula (1d), R 41 represents an may contain a linking group hydrocarbon group. Examples of the hydrocarbon group include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group, etc.). . As the hydrocarbon group containing a linking group, two or more of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon groups in R 33 described above are linking groups such as an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, and a carbonyl group. And a group bonded via the.

41における上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、具体的には、例えば、置換基を有していてもよい炭化水素基、炭化水素基置換カルバモイル基(アミド結合(−CO−NH−)を介して置換基を有していてもよい炭化水素基が結合した基)、炭化水素基置換オキシカルボニル基(エステル結合(−CO−O−)を介して置換基を有していてもよい炭化水素基が結合した基)、炭化水素基置換オキシ基(エーテル結合(−O−)を介して置換基を有していてもよい炭化水素基が結合した基)等が挙げられる。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基の具体例が挙げられる。上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、中でも、炭化水素基置換カルバモイル基が好ましい。 Specific examples of the hydrocarbon group that may contain the linking group in R 41 include, for example, a hydrocarbon group that may have a substituent, a hydrocarbon group-substituted carbamoyl group (amide bond (—CO A group to which a hydrocarbon group which may have a substituent is bonded via —NH—), a hydrocarbon group-substituted oxycarbonyl group (having a substituent via an ester bond (—CO—O—)). And a hydrocarbon group-substituted oxy group (a group to which a hydrocarbon group which may have a substituent is bonded via an ether bond (—O—)) and the like. It is done. Specific examples of the hydrocarbon group which may have a substituent include the above-described hydrocarbon groups which may have a substituent as R 33 . As the hydrocarbon group which may contain the linking group, a hydrocarbon group-substituted carbamoyl group is particularly preferable.

上記炭化水素基置換カルバモイル基における炭化水素基としては、上述のR33としての一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられ、中でも、アルキル基(特に、C1-8アルキル基)が好ましい。即ち、上記炭化水素基置換カルバモイル基は、アルキル基(特に、C1-8アルキル基)置換カルバモイル基が好ましい。また、上記置換基を有していてもよいアルキル基置換カルバモイル基におけるアルキル基は置換基を有していてもよく、当該置換基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基の具体例が挙げられ、中でも、アシルオキシ基が好ましい。上記アシルオキシ基は、(−O−CO−R)で表され、Rは置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。上記アシルオキシ基中の置換基を有していてもよい炭化水素基としては、例えば、アルキル基等の飽和脂肪族炭化水素基;アルケニル基等の不飽和脂肪族炭化水素基;アリール基、アラルキル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられ、中でも、不飽和脂肪族炭化水素基(例えば、ビニル基、イソプロペニル基のアルケニル基等)が好ましく、より好ましくはアルケニル基である。即ち、上記アシルオキシ基は、不飽和脂肪族アシルオキシ基が好ましい。従って、R41は、アミド結合を介して不飽和脂肪族アシルオキシ基置換アルキル基が結合した基が好ましい。 Examples of the hydrocarbon group in the hydrocarbon group-substituted carbamoyl group include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group as R 33 described above (for example, alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated group). Hydrocarbon group, etc.), among which an alkyl group (particularly a C 1-8 alkyl group) is preferred. That is, the hydrocarbon group-substituted carbamoyl group is preferably an alkyl group (particularly a C 1-8 alkyl group) -substituted carbamoyl group. In addition, the alkyl group in the substituted carbamoyl group optionally having the substituent may have a substituent, and the substituent has the substituent as R 33 described above. Specific examples of the substituent in the good hydrocarbon group are mentioned, and among them, an acyloxy group is preferable. The acyloxy group is represented by (—O—CO—R), and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group which may have a substituent in the acyloxy group include saturated aliphatic hydrocarbon groups such as alkyl groups; unsaturated aliphatic hydrocarbon groups such as alkenyl groups; aryl groups and aralkyl groups. An aromatic hydrocarbon group such as an unsaturated aliphatic hydrocarbon group (for example, an alkenyl group such as a vinyl group or an isopropenyl group) is preferable, and an alkenyl group is more preferable. That is, the acyloxy group is preferably an unsaturated aliphatic acyloxy group. Therefore, R 41 is preferably a group in which an unsaturated aliphatic acyloxy group-substituted alkyl group is bonded via an amide bond.

上記式(1d)中、R42及びR43は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR33としての一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。また、置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基における置換基の具体例が挙げられる。R42及びR43は、中でも、C1-8アルキル基(特にC1-3アルキル基)が好ましい。 In the above formula (1d), R 42 and R 43 are the same or different and represent a hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group which may have the above-described substituent include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group as R 33 described above (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, Halogenated hydrocarbon group, etc.). Examples of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent include specific examples of the substituent in the hydrocarbon group which may have a substituent as R 33 described above. Among these, R 42 and R 43 are preferably a C 1-8 alkyl group (particularly a C 1-3 alkyl group).

上記式(1d)で表される化合物としては、中でも、R41が、アミド結合を介して不飽和脂肪族アシルオキシ基置換アルキル基が結合した基であり、R42及びR43が、同一又は異なって、C1-8アルキル基(特にC1-3アルキル基)である化合物が好ましい。 Among the compounds represented by the above formula (1d), R 41 is a group in which an unsaturated aliphatic acyloxy group-substituted alkyl group is bonded via an amide bond, and R 42 and R 43 are the same or different. A compound having a C 1-8 alkyl group (particularly a C 1-3 alkyl group) is preferred.

上記式(1d)で表される化合物の具体例としては、下記式(1d−I)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 2016124958
Specific examples of the compound represented by the formula (1d) include compounds represented by the following formula (1d-I).
Figure 2016124958

上記式(1e)中、R44、R45、及びR46は、同一又は異なって、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。上記炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。また、連結基を含む炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の2以上が、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基等の連結基を介して結合した基が挙げられる。 In the above formula (1e), R 44 , R 45 and R 46 are the same or different and represent a hydrocarbon group which may contain a linking group. Examples of the hydrocarbon group include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group, etc.). . As the hydrocarbon group containing a linking group, two or more of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon groups in R 33 described above are linking groups such as an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, and a carbonyl group. And a group bonded via the.

44における上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、具体的には、例えば、置換基を有していてもよい炭化水素基等が挙げられる。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基の具体例が挙げられる。上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、中でも、アシル基を有する脂肪族炭化水素基が好ましく、より好ましくはアシル基を有する飽和脂肪族炭化水素基である。上記飽和脂肪族炭化水素基としては、直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基が好ましい。また、上記アシル基としては、飽和脂肪族アシル基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等の炭素数1〜10の飽和脂肪族アシル基がより好ましい。従って、R44は、飽和脂肪族アシル基(特に、炭素数1〜10の飽和脂肪族アシル基)を有していてもよい直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基が好ましい。 Specific examples of the hydrocarbon group that may contain the linking group for R 44 include a hydrocarbon group that may have a substituent. Specific examples of the hydrocarbon group which may have a substituent include the above-described hydrocarbon groups which may have a substituent as R 33 . As the hydrocarbon group which may contain the linking group, an aliphatic hydrocarbon group having an acyl group is preferable, and a saturated aliphatic hydrocarbon group having an acyl group is more preferable. The saturated aliphatic hydrocarbon group is preferably a linear or branched C 1-10 alkyl group. Moreover, as said acyl group, a saturated aliphatic acyl group is preferable and C1-C10 saturated aliphatic acyl groups, such as an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, are more preferable. Accordingly, R 44 is preferably a linear or branched C 1-10 alkyl group which may have a saturated aliphatic acyl group (particularly a saturated aliphatic acyl group having 1 to 10 carbon atoms).

45及びR46における上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、具体的には、例えば、置換基を有していてもよい炭化水素基等が挙げられる。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基の具体例が挙げられる。上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、中でも、直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に、直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基)が好まし。 Specific examples of the hydrocarbon group that may contain the linking group in R 45 and R 46 include a hydrocarbon group that may have a substituent. Specific examples of the hydrocarbon group which may have a substituent include the above-described hydrocarbon groups which may have a substituent as R 33 . As the hydrocarbon group which may contain the linking group, a linear or branched C 1-10 alkyl group (particularly, a linear or branched C 1-3 alkyl group) is particularly preferable. .

上記式(1e)で表される化合物としては、中でも、R44が、飽和脂肪族アシル基(特に、炭素数1〜10の飽和脂肪族アシル基)を有していてもよい直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基であり、R45及びR46が、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基)である化合物が好ましい。 As the compound represented by the above formula (1e), among them, R 44 may have a saturated aliphatic acyl group (particularly a saturated aliphatic acyl group having 1 to 10 carbon atoms), which may be a straight chain or branched. A linear C 1-10 alkyl group, and R 45 and R 46 are the same or different and are each a linear or branched C 1-10 alkyl group (particularly a linear or branched C 1-3 alkyl group). The compound which is an alkyl group) is preferable.

上記式(1e)で表される化合物の具体例としては、下記式(1e−I)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 2016124958
Specific examples of the compound represented by the formula (1e) include compounds represented by the following formula (1e-I).
Figure 2016124958

上記式(1f)中、R47及びR48は、同一又は異なって、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。上記炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の具体例(例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化炭化水素基等)が挙げられる。また、連結基を含む炭化水素基としては、上述のR33における一価の置換又は無置換炭化水素基の2以上が、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基等の連結基を介して結合した基が挙げられる。 In the above formula (1f), R 47 and R 48 are the same or different and represent a hydrocarbon group which may contain a linking group. Examples of the hydrocarbon group include specific examples of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon group in R 33 described above (for example, alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated hydrocarbon group, etc.). . As the hydrocarbon group containing a linking group, two or more of the monovalent substituted or unsubstituted hydrocarbon groups in R 33 described above are linking groups such as an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, and a carbonyl group. And a group bonded via the.

47及びR48における上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、具体的には、例えば、置換基を有していてもよい炭化水素基等が挙げられる。上記置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上述のR33としての置換基を有していてもよい炭化水素基の具体例が挙げられる。上記連結基を含んでいてもよい炭化水素基としては、中でも、直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に、直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基)が好ましい。従って、上記式(1f)で表される化合物としては、R47及びR48が、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基)である化合物が好ましい。 Specific examples of the hydrocarbon group that may contain the linking group in R 47 and R 48 include a hydrocarbon group that may have a substituent. Specific examples of the hydrocarbon group which may have a substituent include the above-described hydrocarbon groups which may have a substituent as R 33 . As the hydrocarbon group which may contain the linking group, a linear or branched C 1-10 alkyl group (particularly, a linear or branched C 1-3 alkyl group) is particularly preferable. Accordingly, in the compound represented by the above formula (1f), R 47 and R 48 are the same or different and each represents a linear or branched C 1-10 alkyl group (particularly a linear or branched C 1 1-3 alkyl groups) are preferred.

上記式(1f)で表される化合物の具体例としては、下記式(1f−I)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 2016124958
Specific examples of the compound represented by the formula (1f) include compounds represented by the following formula (1f-I).
Figure 2016124958

複素環式化合物(C)は、特に限定されないが、水素原子が直接結合した窒素原子を含む複素環を有しないことが好ましい。この場合、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化阻害を起こりにくくする傾向がある。   The heterocyclic compound (C) is not particularly limited, but preferably does not have a heterocyclic ring containing a nitrogen atom to which a hydrogen atom is directly bonded. In this case, there is a tendency that the inhibition of curing at the time of curing the curable resin composition hardly occurs.

複素環式化合物(C)は、特に限定されないが、硫黄原子を含む複素環を有しないことが好ましい。この場合、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化阻害を起こりにくくする傾向がある。   The heterocyclic compound (C) is not particularly limited, but preferably does not have a heterocyclic ring containing a sulfur atom. In this case, there is a tendency that the inhibition of curing at the time of curing the curable resin composition hardly occurs.

本発明の硬化性樹脂組成物において複素環式化合物(C)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、複素環式化合物(C)は、商品名「TINUVIN PS」、「TINUVIN 99−2」、「TINUVIN 384−2」、「TINUVIN 900」、「TINUVIN 928」、「TINUVIN 1130」(以上、式(1a)で表される化合物)、「TINUVIN 400」、「TINUVIN 405」、「TINUVIN 460」(以上、式(1b)で表される化合物)、「TINUVIN 123」、「TINUVIN 292」、「TINUVIN 144」(以上、式(1c)で表される化合物)(以上、BASFジャパン(株)製)、「カレンズMOI−BP」(昭和電工(株)製、式(1d)で表される化合物)等の市販品を入手することもできる。   In the curable resin composition of the present invention, the heterocyclic compound (C) can be used alone or in combination of two or more. Further, the heterocyclic compound (C) has the trade names “TINUVIN PS”, “TINUVIN 99-2”, “TINUVIN 384-2”, “TINUVIN 900”, “TINUVIN 928”, “TINUVIN 1130” (formula, (Compound represented by (1a)), “TINUVIN 400”, “TINUVIN 405”, “TINUVIN 460” (the compound represented by formula (1b) above), “TINUVIN 123”, “TINUVIN 292”, “TINUVIN” 144 "(compound represented by formula (1c) above) (above, manufactured by BASF Japan Ltd.)," Karenz MOI-BP "(produced by Showa Denko KK, compound represented by formula (1d)) Commercial products such as these can also be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物が複素環式化合物(C)を含むことにより、その硬化物が腐食性ガスに対するバリア性を発揮できるのは、複素環式化合物(C)に含まれる窒素原子上の非共有電子対が半導体装置の電極表面の銀原子へ配位結合することによって、電極と腐食性ガスとの反応を防ぐためであると推測される。   When the curable resin composition of the present invention contains the heterocyclic compound (C), the cured product can exhibit a barrier property against corrosive gas on the nitrogen atom contained in the heterocyclic compound (C). This is presumed to prevent the reaction between the electrode and the corrosive gas by coordinate bonding of the unshared electron pairs to silver atoms on the electrode surface of the semiconductor device.

本発明の硬化性樹脂組成物における複素環式化合物(C)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.001〜10重量%が好ましく、より好ましくは0.005〜5重量%、さらに好ましくは0.01〜1重量%である。複素環式化合物(C)の含有量を0.001重量%以上とすることにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。一方、複素環式化合物(C)の含有量を10重量%以下とすることにより、硬化物の耐熱性が向上する傾向がある。   The content (blending amount) of the heterocyclic compound (C) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 0.001 to 10 weights with respect to the curable resin composition (100 wt%). % Is preferable, more preferably 0.005 to 5% by weight, and still more preferably 0.01 to 1% by weight. By setting the content of the heterocyclic compound (C) to 0.001% by weight or more, the barrier property against the corrosive gas of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the content of the heterocyclic compound (C) is 10% by weight or less, the heat resistance of the cured product tends to be improved.

[イソシアヌレート化合物(D)]
本発明の硬化性樹脂組成物は、下記式(2)で表されるイソシアヌレート化合物(「イソシアヌレート化合物(D)」と称する場合がある)を含んでいてもよい。本発明の硬化性樹脂組成物がイソシアヌレート化合物(D)を含む場合には、硬化物の被着体に対する密着性がいっそう向上し、さらに、腐食性ガスに対するバリア性がより高くなる傾向がある。

Figure 2016124958
[Isocyanurate Compound (D)]
The curable resin composition of the present invention may contain an isocyanurate compound represented by the following formula (2) (sometimes referred to as “isocyanurate compound (D)”). When the curable resin composition of the present invention contains an isocyanurate compound (D), the adhesion of the cured product to the adherend is further improved, and the barrier property against corrosive gas tends to be higher. .
Figure 2016124958

式(2)中、Rf、Rg、及びRhは、同一又は異なって、式(2a)で表される基、又は式(2b)で表される基を示す。但し、Rf、Rg、及びRhのうち少なくとも1個は、式(2b)で表される基である。

Figure 2016124958
Figure 2016124958
In Formula (2), R f , R g , and R h are the same or different and represent a group represented by Formula (2a) or a group represented by Formula (2b). However, at least one of R f , R g , and R h is a group represented by the formula (2b).
Figure 2016124958
Figure 2016124958

式(2a)中、Riは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基(直鎖若しくは分岐鎖状のC1-8アルキル基)を示す。直鎖若しくは分岐鎖状のC1-8アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖若しくは分岐鎖状のC1-3アルキル基が好ましい。中でもRiとしては、水素原子が特に好ましい。 In formula (2a), R i represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (a linear or branched C 1-8 alkyl group). Examples of the linear or branched C 1-8 alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, An octyl group, an ethylhexyl group, etc. are mentioned. Among the above alkyl groups, linear or branched C 1-3 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable. Among these, as R i , a hydrogen atom is particularly preferable.

なお、式(2)におけるRf、Rg、及びRhのうち2個が式(2a)で表される基である場合、これらの式(2a)で表される基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、イソシアヌレート化合物(D)は、式(2a)で表される基を有していなくてもよい。 In addition, when two of R f , R g , and R h in the formula (2) are groups represented by the formula (2a), these groups represented by the formula (2a) are the same. It may be different or different. Further, the isocyanurate compound (D) may not have the group represented by the formula (2a).

式(2b)中、Rjは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基(直鎖若しくは分岐鎖状のC1-8アルキル基)を示す。直鎖若しくは分岐鎖状のC1-8アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖若しくは分岐鎖状のC1-3アルキル基が好ましい。中でもRjとしては、水素原子が特に好ましい。 In the formula (2b), R j represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (a linear or branched C 1-8 alkyl group). Examples of the linear or branched C 1-8 alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, An octyl group, an ethylhexyl group, etc. are mentioned. Among the above alkyl groups, linear or branched C 1-3 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable. Among these, as R j , a hydrogen atom is particularly preferable.

なお、式(2)におけるRf、Rg、及びRhのうち2個又は3個が式(2b)で表される基である場合、これらの式(2b)で表される基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In addition, when two or three of R f , R g , and R h in the formula (2) are groups represented by the formula (2b), the groups represented by these formulas (2b) are: They may be the same or different.

イソシアヌレート化合物(D)としては、例えば、式(2)におけるRf、Rg、及びRhのうち1個が式(2b)で表される基である化合物(「モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物」と称する場合がある)、式(2)におけるRf、Rg、及びRhのうち2個が式(2b)で表される化合物(「ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート化合物」と称する場合がある)、式(2)におけるRf、Rg、及びRhの全てが式(2b)で表される化合物(「トリアリルイソシアヌレート化合物」と称する場合がある)が挙げられる。 As the isocyanurate compound (D), for example, one of R f , R g , and R h in the formula (2) is a group represented by the formula (2b) (“monoallyl diglycidyl isocyanurate”). 2) out of R f , R g , and R h in formula (2) (sometimes referred to as a “diallyl monoglycidyl isocyanurate compound”). And a compound in which R f , R g and R h in formula (2) are all represented by formula (2b) (sometimes referred to as “triallyl isocyanurate compound”).

上記モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物としては、具体的には、例えば、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、1−アリル−3,5−ビス(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート、1−(2−メチルプロペニル)−3,5−ジグリシジルイソシアヌレート、1−(2−メチルプロペニル)−3,5−ビス(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Specific examples of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound include monoallyl diglycidyl isocyanurate, 1-allyl-3,5-bis (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, and 1- (2-methyl). Propenyl) -3,5-diglycidyl isocyanurate, 1- (2-methylpropenyl) -3,5-bis (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, and the like.

上記ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート化合物としては、具体的には、例えば、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジアリル−5−(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート、1,3−ビス(2−メチルプロペニル)−5−グリシジルイソシアヌレート、1,3−ビス(2−メチルプロペニル)−5−(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Specific examples of the diallyl monoglycidyl isocyanurate compound include diallyl monoglycidyl isocyanurate, 1,3-diallyl-5- (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, and 1,3-bis (2-methyl). And propenyl) -5-glycidyl isocyanurate, 1,3-bis (2-methylpropenyl) -5- (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, and the like.

上記トリアリルイソシアヌレート化合物としては、具体的には、例えば、トリアリルイソシアヌレート、トリス(2−メチルプロペニル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Specific examples of the triallyl isocyanurate compound include triallyl isocyanurate and tris (2-methylpropenyl) isocyanurate.

本発明の硬化性樹脂組成物においてイソシアヌレート化合物(D)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。なお、イソシアヌレート化合物(D)は、例えば、市販品として入手することが可能である。   In the curable resin composition of the present invention, the isocyanurate compound (D) can be used alone or in combination of two or more. The isocyanurate compound (D) can be obtained as a commercial product, for example.

イソシアヌレート化合物(D)が式(2a)で表される基を有するものである場合は、例えば、アルコールや酸無水物等のエポキシ基と反応する化合物と反応させて、変性した上で使用することもできる。   When the isocyanurate compound (D) has a group represented by the formula (2a), it is used after being modified by reacting with a compound that reacts with an epoxy group such as an alcohol or an acid anhydride. You can also.

イソシアヌレート化合物(D)は式(2b)で表される基を有するため、例えば、ヒドロシリル基を有する化合物とあらかじめ反応(ヒドロシリル化反応)させた上で使用することもできる。例えば、上記モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物と後述のラダー型シルセスキオキサン(H)とをヒドロシリル化触媒の存在下で反応させたものを、本発明の硬化性樹脂組成物の構成成分として使用することもできる。   Since the isocyanurate compound (D) has a group represented by the formula (2b), for example, it can be used after previously reacting with a compound having a hydrosilyl group (hydrosilylation reaction). For example, a product obtained by reacting the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound with a ladder-type silsesquioxane (H) described below in the presence of a hydrosilylation catalyst is used as a constituent of the curable resin composition of the present invention. You can also

イソシアヌレート化合物(D)は、他の成分との相溶性を向上させる観点から、後述のように、シランカップリング剤(F)とあらかじめ混合してから、他の成分に配合することもできる。   From the viewpoint of improving the compatibility with other components, the isocyanurate compound (D) can be mixed with the silane coupling agent (F) in advance and then blended with other components as described later.

本発明の硬化性樹脂組成物がイソシアヌレート化合物(D)を含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物におけるイソシアヌレート化合物(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.01〜6重量%が好ましく、より好ましくは0.05〜4重量%、さらに好ましくは0.08〜3重量%である。イソシアヌレート化合物(D)の含有量を0.01重量%以上とすることにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性、被着体に対する密着性がより向上する傾向がある。一方、イソシアヌレート化合物(D)の含有量を6重量%以下とすることにより、硬化性樹脂組成物においてイソシアヌレート化合物(D)に起因する固体の析出が抑制されやすくなる傾向がある。   When the curable resin composition of the present invention contains an isocyanurate compound (D), the content (blending amount) of the isocyanurate compound (D) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is curable. 0.01-6 weight% is preferable with respect to a resin composition (100 weight%), More preferably, it is 0.05-4 weight%, More preferably, it is 0.08-3 weight%. By setting the content of the isocyanurate compound (D) to 0.01% by weight or more, there is a tendency that the barrier property against the corrosive gas of the cured product and the adhesion to the adherend are further improved. On the other hand, by setting the content of the isocyanurate compound (D) to 6% by weight or less, solid precipitation due to the isocyanurate compound (D) tends to be suppressed in the curable resin composition.

[イソシアヌレート化合物(E)]
本発明の硬化性樹脂組成物は、下記式(3)で表されるイソシアヌレート化合物(「イソシアヌレート化合物(E)」と称する場合がある)を含んでいてもよい。本発明の硬化性樹脂組成物がイソシアヌレート化合物(E)を含む場合には、腐食性ガスに対するバリア性により優れた硬化物を形成できる。また、イソシアヌレート化合物(E)は、本発明の硬化性樹脂組成物における溶解性が良好であるためと考えられるが、増量した場合や硬化性樹脂組成物を加熱しない場合にも、固体として析出を生じにくくなる。

Figure 2016124958
[Isocyanurate compound (E)]
The curable resin composition of the present invention may contain an isocyanurate compound represented by the following formula (3) (sometimes referred to as “isocyanurate compound (E)”). When the curable resin composition of this invention contains an isocyanurate compound (E), the hardened | cured material excellent in the barrier property with respect to corrosive gas can be formed. Moreover, although it is thought that the isocyanurate compound (E) has good solubility in the curable resin composition of the present invention, it is precipitated as a solid even when the amount is increased or when the curable resin composition is not heated. Is less likely to occur.
Figure 2016124958

式(3)中、Ra、Rb、及びRcは、同一又は異なって、式(3a)で表される基、式(3b)で表される基、水素原子、又はアルキル基を示す。但し、Ra、Rb、及びRcのうち少なくとも1個は、式(3a)で表される基である。

Figure 2016124958
Figure 2016124958
In formula (3), R a , R b , and R c are the same or different and represent a group represented by formula (3a), a group represented by formula (3b), a hydrogen atom, or an alkyl group. . However, at least one of R a , R b and R c is a group represented by the formula (3a).
Figure 2016124958
Figure 2016124958

式(3a)中、Rdは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基(直鎖又は分岐鎖状のC1-8アルキル基)を示す。直鎖又は分岐鎖状のC1-8アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基が好ましい。中でもRdとしては、水素原子が特に好ましい。 In the formula (3a), R d represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (a linear or branched C 1-8 alkyl group). Examples of the linear or branched C 1-8 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, an s-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, An octyl group, an ethylhexyl group, etc. are mentioned. Among the above alkyl groups, linear or branched C 1-3 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable. Among these, as R d , a hydrogen atom is particularly preferable.

式(3a)中、sは、2〜10の整数を示す。中でも、2〜8の整数が好ましく、より好ましくは2〜6の整数、さらに好ましくは2〜4の整数である。sが上記範囲にあることにより、硬化性樹脂組成物における固体析出の抑制と、硬化物の腐食性ガスに対する優れたバリア性とが、より高いレベルで両立される傾向がある。   In formula (3a), s represents an integer of 2 to 10. Especially, the integer of 2-8 is preferable, More preferably, it is an integer of 2-6, More preferably, it is an integer of 2-4. When s is in the above range, suppression of solid precipitation in the curable resin composition and excellent barrier properties against the corrosive gas of the cured product tend to be compatible at a higher level.

なお、式(3)におけるRa、Rb、及びRcのうち2個又は3個が式(3a)で表される基である場合、これらの式(3a)で表される基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In addition, when two or three of R a , R b and R c in the formula (3) are groups represented by the formula (3a), the groups represented by these formulas (3a) are: They may be the same or different.

式(3b)中、Reは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基(直鎖又は分岐鎖状のC1-8アルキル基)を示す。直鎖又は分岐鎖状のC1-8アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖又は分岐鎖状のC1-3アルキル基が好ましい。中でもReとしては、水素原子が特に好ましい。 In formula (3b), R e represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (a linear or branched C 1-8 alkyl group). Examples of the linear or branched C 1-8 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, an s-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, An octyl group, an ethylhexyl group, etc. are mentioned. Among the above alkyl groups, linear or branched C 1-3 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable. Of these examples of R e, hydrogen atom is particularly preferred.

式(3b)におけるtは、1〜10の整数を示す。中でも1〜6の整数が好ましい。   T in Formula (3b) represents an integer of 1 to 10. Among these, an integer of 1 to 6 is preferable.

なお、式(3)におけるRa、Rb、及びRcのうち2個が式(3b)で表される基である場合、これらの式(3b)で表される基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、イソシアヌレート化合物(E)は、式(3b)で表される基を有していなくてもよい。 In addition, when two of R a , R b and R c in the formula (3) are groups represented by the formula (3b), the groups represented by the formula (3b) are the same. It may be different or different. Further, the isocyanurate compound (E) may not have the group represented by the formula (3b).

a、Rb、及びRcとしてのアルキル基は、直鎖、分岐鎖、環状のいずれであってもよく、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基(例えば、直鎖又は分岐鎖状のC1-8アルキル基);シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基等の環状のアルキル基(シクロアルキル基)等が挙げられる。 The alkyl group as R a , R b and R c may be linear, branched or cyclic, and is not particularly limited. For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, butyl Group, isobutyl group, s-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, ethylhexyl group and the like linear or branched alkyl groups (for example, linear or branched C 1-8 alkyl Group); cyclic alkyl groups (cycloalkyl groups) such as a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, and a dimethylcyclohexyl group.

本発明の硬化性樹脂組成物がイソシアヌレート化合物(E)を含む場合、その硬化物が腐食性ガスに対するバリア性を発揮できるのは、他の成分と反応した状態及び未反応の状態に関わらず、硬化物中でイソシアヌレート化合物(E)におけるイソシアヌレート骨格がSOxガス等の腐食性ガスをトラップするためであると推測される。   When the curable resin composition of the present invention contains an isocyanurate compound (E), the cured product can exhibit a barrier property against a corrosive gas regardless of a state reacted with other components and an unreacted state. The isocyanurate skeleton in the isocyanurate compound (E) is supposed to trap corrosive gases such as SOx gas in the cured product.

イソシアヌレート化合物(E)としては、例えば、式(3)におけるRa、Rb、及びRcのうち1個が式(3a)で表される基である化合物、式(3)におけるRa、Rb、及びRcのうち2個が式(3a)で表される基である化合物、式(3)におけるRa、Rb、及びRcの全てが式(3a)で表される基である化合物が挙げられる。特に固体析出の問題が生じにくい点で、式(3)におけるRa、Rb、及びRcのうち2個又は3個が式(3a)で表される基である化合物が好ましく、より好ましくは式(3)におけるRa、Rb、及びRcの全てが式(3a)で表される基である化合物である。 Examples of the isocyanurate compound (E) include a compound in which one of R a , R b and R c in the formula (3) is a group represented by the formula (3a), and R a in the formula (3) , R b , and R c are compounds in which two are groups represented by the formula (3a), and all of R a , R b , and R c in the formula (3) are represented by the formula (3a) The compound which is group is mentioned. In particular, a compound in which two or three of R a , R b , and R c in the formula (3) are groups represented by the formula (3a) is preferable in that solid precipitation is less likely to occur. Is a compound in which all of R a , R b and R c in the formula (3) are groups represented by the formula (3a).

イソシアヌレート化合物(E)は、分子内に上述の式(3a)で表される基を必須の基として有するものであるためと推測されるが、当該基を有しないもの(例えば、トリグリシジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート等)と同等以上の腐食性ガスに対するバリア性の向上効果を有しながら、上記基を有しないものに比べて、本発明の硬化性樹脂組成物における他の成分(特に、ポリシロキサン(A)、ポリシロキサン(B))との相溶性が非常に良好であり、その結果、硬化性樹脂組成物における固体析出の問題が生じることなく、また、調製時にも他の成分に対して容易に溶解させることができる。このため、硬化性樹脂組成物の生産性が向上する。また、イソシアヌレート化合物(E)の含有量を多くした場合であっても上述の固体析出の問題が生じないため、イソシアヌレート化合物(E)の増量による硬化物の腐食性ガスに対するバリア性の著しい向上が可能となる。   The isocyanurate compound (E) is presumed to have a group represented by the above formula (3a) as an essential group in the molecule, but does not have the group (for example, triglycidyl isocyanate). Other components in the curable resin composition of the present invention compared with those not having the above group, while having an effect of improving the barrier property against corrosive gas equivalent to or better than that of nurate, monoallyl diglycidyl isocyanurate, etc. (In particular, the compatibility with polysiloxane (A) and polysiloxane (B)) is very good. As a result, there is no problem of solid precipitation in the curable resin composition. It can be easily dissolved in these components. For this reason, the productivity of the curable resin composition is improved. In addition, even when the content of the isocyanurate compound (E) is increased, the above-described problem of solid precipitation does not occur. Therefore, the barrier property against the corrosive gas of the cured product due to the increased amount of the isocyanurate compound (E) is remarkable. Improvement is possible.

イソシアヌレート化合物(E)は、例えば、アルコールや酸無水物等のエポキシ基と反応する化合物と反応させて、変性した上で使用することもできる。   The isocyanurate compound (E) can be used after being modified by reacting with a compound that reacts with an epoxy group such as alcohol or acid anhydride.

イソシアヌレート化合物(E)が式(3b)で表される基を有するものである場合は、例えば、ヒドロシリル基を有する化合物とあらかじめ反応(ヒドロシリル化反応)させた上で使用することもできる。例えば、後述のラダー型シルセスキオキサン(H)とともにヒドロシリル化触媒の存在下で反応させたものを、本発明の硬化性樹脂組成物の構成成分として使用することもできる。   When the isocyanurate compound (E) has a group represented by the formula (3b), for example, it can be used after previously reacting with a compound having a hydrosilyl group (hydrosilylation reaction). For example, what was made to react with the ladder type silsesquioxane (H) mentioned later in presence of a hydrosilylation catalyst can also be used as a structural component of the curable resin composition of this invention.

本発明の硬化性樹脂組成物においてイソシアヌレート化合物(E)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、イソシアヌレート化合物(E)は、商品名「TEPIC−VL」(日産化学工業(株)製)等の市販品を入手することもできる。   In the curable resin composition of the present invention, the isocyanurate compound (E) can be used alone or in combination of two or more. The isocyanurate compound (E) can also be obtained from commercial products such as trade name “TEPIC-VL” (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).

本発明の硬化性樹脂組成物がイソシアヌレート化合物(E)を含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物におけるイソシアヌレート化合物(E)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.01〜10重量%が好ましく、より好ましくは0.03〜5重量%、さらに好ましくは0.05〜3重量%、特に好ましくは0.1〜2重量%である。イソシアヌレート化合物(E)の含有量を0.01重量%以上とすることにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。一方、イソシアヌレート化合物(E)の含有量を10重量%以下とすることにより、耐熱性、強靭性、透明性等により優れる硬化物が得られる傾向がある。   When the curable resin composition of the present invention contains the isocyanurate compound (E), the content (blending amount) of the isocyanurate compound (E) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is curable. The amount is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.03 to 5% by weight, still more preferably 0.05 to 3% by weight, particularly preferably 0.1 to the resin composition (100% by weight). ~ 2% by weight. By setting the content of the isocyanurate compound (E) to 0.01% by weight or more, the barrier property against the corrosive gas of the cured product tends to be further improved. On the other hand, by setting the content of the isocyanurate compound (E) to 10% by weight or less, a cured product that is superior in heat resistance, toughness, transparency, and the like tends to be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物がイソシアヌレート化合物(D)及びイソシアヌレート化合物(E)を含む場合、イソシアヌレート化合物(D)とイソシアヌレート化合物(E)の含有量の合計(合計含有量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に対して、0.01〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜10重量%、さらに好ましくは0.2〜3重量%、特に好ましくは0.3〜2重量%である。上記合計含有量を0.01重量%以上とすることにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性が著しく向上する傾向がある。一方、上記合計含有量の含有量を15重量%以下とすることにより、硬化性樹脂組成物における固体析出の問題がより抑制される傾向がある。   When the curable resin composition of the present invention contains the isocyanurate compound (D) and the isocyanurate compound (E), the total content (total content) of the isocyanurate compound (D) and the isocyanurate compound (E) is Although not particularly limited, it is preferably 0.01 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, still more preferably 0.2 to 3% by weight, particularly preferably, based on the curable resin composition. 0.3 to 2% by weight. By making the total content 0.01% by weight or more, the barrier property against the corrosive gas of the cured product tends to be remarkably improved. On the other hand, by setting the content of the total content to 15% by weight or less, the problem of solid precipitation in the curable resin composition tends to be further suppressed.

[シランカップリング剤(F)]
本発明の硬化性樹脂組成物は、シランカップリング剤(F)を含んでいてもよい。シランカップリング剤(F)を含む場合には、特に、硬化物の被着体に対する密着性がいっそう向上する傾向がある。さらに、シランカップリング剤(F)は、イソシアヌレート化合物(D)(特に、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物)やラダー型シルセスキオキサン(H)等との相溶性が良好であるため、特に、イソシアヌレート化合物(D)等のその他の成分に対する相溶性を向上させることを可能とする。具体的には、例えば、イソシアヌレート化合物(D)を使用する場合には、あらかじめイソシアヌレート化合物(D)とシランカップリング剤(F)との組成物を形成した上で、その他の成分と配合させると、均一な硬化性樹脂組成物が得られやすい。
[Silane coupling agent (F)]
The curable resin composition of the present invention may contain a silane coupling agent (F). When the silane coupling agent (F) is included, the adhesion of the cured product to the adherend tends to be further improved. Furthermore, since the silane coupling agent (F) has good compatibility with the isocyanurate compound (D) (particularly monoallyl diglycidyl isocyanurate compound), ladder type silsesquioxane (H), etc. It is possible to improve the compatibility with other components such as the isocyanurate compound (D). Specifically, for example, when the isocyanurate compound (D) is used, a composition of the isocyanurate compound (D) and the silane coupling agent (F) is formed in advance and then blended with other components. When it is made, a uniform curable resin composition is easy to be obtained.

シランカップリング剤(F)としては、公知乃至慣用のシランカップリング剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基含有シランカップリング剤;N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン等のアミノ基含有シランカップリング剤;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス(メトキシエトキシシラン)、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メルカプトプロピレントリメトキシシラン、メルカプトプロピレントリエトキシシラン、アルコキシオリゴマー(例えば、商品名「X−41−1053」、「X−41−1059A」、「X−41−1056」、「X−41−1085」、「X−41−1818」、「X−41−1810」、「X−40−2651」、「X−40−2665A」、「KR−513」、「KC−89S」、「KR−500」、「X−40−9225」、「X−40−9246」、「X−40−9250」;以上、信越化学工業(株)製)等が挙げられる。中でも、エポキシ基含有シランカップリング剤(特に、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)を好ましく使用できる。   As the silane coupling agent (F), a known or conventional silane coupling agent can be used, and is not particularly limited. For example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxy) (Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, epoxy group-containing silane coupling agent such as 3-glycidoxypropyltriethoxysilane; N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyl Methyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyl Triethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3 Dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, N- (β-aminoethyl) -Amino group-containing silane coupling agent such as γ-aminopropylmethyldiethoxysilane; tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxy Silane, vinyltris (methoxyethoxysilane), phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxy Propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, mercaptopropylenetrimethoxysilane, mercaptopropylenetriethoxysilane, alkoxy oligomer (for example, “ X-41-1053, X-41-1059A, X-41-1056, X-41-1085, X-41-1818, X-41-1810, X- 40-2651 "," X-40-2665A "," KR-513 "," KC-89S "," KR-500 "," X-40-9225 "," X-40-9246 "," X- 40-9250 "; Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Among these, an epoxy group-containing silane coupling agent (particularly 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) can be preferably used.

本発明の硬化性樹脂組成物においてシランカップリング剤(F)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、シランカップリング剤(F)としては、市販品を使用することもできる。   In the curable resin composition of this invention, a silane coupling agent (F) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. Moreover, a commercial item can also be used as a silane coupling agent (F).

本発明の硬化性樹脂組成物がシランカップリング剤(F)を含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物におけるシランカップリング剤(F)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.01〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜10重量%、さらに好ましくは0.5〜5重量%である。シランカップリング剤(F)の含有量を0.01重量%以上とすることにより、硬化物の被着体に対する密着性がより向上する傾向がある。また、イソシアヌレート化合物(D)の硬化性樹脂組成物中での溶解性を向上させることができるため、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性のさらなる向上が可能となる場合がある。一方、シランカップリング剤(F)の含有量を15重量%以下とすることにより、十分に硬化反応が進行し、硬化物の靱性、耐熱性、腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。   When the curable resin composition of the present invention contains a silane coupling agent (F), the content (blending amount) of the silane coupling agent (F) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, 0.01-15 weight% is preferable with respect to curable resin composition (100 weight%), More preferably, it is 0.1-10 weight%, More preferably, it is 0.5-5 weight%. By setting the content of the silane coupling agent (F) to 0.01% by weight or more, the adhesiveness of the cured product to the adherend tends to be further improved. Moreover, since the solubility in the curable resin composition of an isocyanurate compound (D) can be improved, the further improvement of the barrier property with respect to the corrosive gas of hardened | cured material may be attained. On the other hand, when the content of the silane coupling agent (F) is 15% by weight or less, the curing reaction proceeds sufficiently, and the toughness, heat resistance, and barrier property against corrosive gas of the cured product tend to be further improved. is there.

[ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン]
本発明の硬化性樹脂組成物は、ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンを含んでいてもよい。本発明の硬化性樹脂組成物がラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンを含む場合には、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより高くなる傾向がある。上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンは、実験式(基本構造式)RSiO1.5で表されるポリシロキサンであって、分子内にラダー状のSi−O−Si構造(ラダー構造)を少なくとも含むポリオルガノシルセスキオキサンである。
[Ladder type polyorganosilsesquioxane]
The curable resin composition of the present invention may contain a ladder type polyorganosilsesquioxane. When the curable resin composition of this invention contains ladder type polyorgano silsesquioxane, there exists a tendency for the barrier property with respect to the corrosive gas of hardened | cured material to become higher. The ladder-type polyorganosilsesquioxane is a polysiloxane represented by the empirical formula (Basic Structure) RSiO 1.5, including at least a ladder-like Si-O-Si structure (ladder structure) in a molecule of poly Organosilsesquioxane.

上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとしては、上記構造を有する公知乃至慣用のポリオルガノシルセスキオキサンを使用することができ、特に限定されないが、分子内に1以上(特に2以上)の脂肪族炭素−炭素二重結合を有するもの、分子内に1以上(特に2以上)のヒドロシリル基を有するものが好ましい。また、上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとしては、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性の観点で、側鎖[主骨格(主鎖)であるラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサン骨格(Si−O結合で形成された骨格)から枝分かれしている部分]の一部又は全部が、置換若しくは無置換のアリール基(芳香族炭化水素基)であるものが好ましい。置換若しくは無置換のアリール基としては、例えば、後述のR5として例示する置換若しくは無置換のアリール基等が挙げられる。 As the ladder-type polyorganosilsesquioxane, known or conventional polyorganosilsesquioxane having the above structure can be used, and is not particularly limited, but one or more (particularly two or more) fats in the molecule. Those having a group carbon-carbon double bond and those having one or more (particularly two or more) hydrosilyl groups in the molecule are preferred. The ladder-type polyorganosilsesquioxane is a side chain [polyorganosilsesquioxane skeleton having a ladder structure that is a main skeleton (main chain) from the viewpoint of barrier properties against the corrosive gas of the cured product ( A part or all of a portion branched from a skeleton formed by a Si—O bond is preferably a substituted or unsubstituted aryl group (aromatic hydrocarbon group). Examples of the substituted or unsubstituted aryl group include a substituted or unsubstituted aryl group exemplified as R 5 described later.

中でも、上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとしては、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性、機械強度等の観点で、以下に説明するラダー型シルセスキオキサン(G)、ラダー型シルセスキオキサン(H)が特に好ましい。   Among these, as the ladder-type polyorganosilsesquioxane, ladder-type silsesquioxane (G) and ladder-type silsesquioxane, which will be described below, from the viewpoints of barrier properties against corrosive gas of cured products, mechanical strength, and the like. Sun (H) is particularly preferred.

(ラダー型シルセスキオキサン(G))
上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとしてのラダー型シルセスキオキサン(G)は、ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサン(ポリオルガノシルセスキオキサン骨格)の分子鎖末端の一部又は全部に、後述の式(V)で表される単位構造及び式(VI)で表される単位構造を含むポリオルガノシルセスキオキサン残基(「ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)」と称する場合がある)を有するポリオルガノシルセスキオキサンである。
(Ladder type silsesquioxane (G))
The ladder-type silsesquioxane (G) as the ladder-type polyorganosilsesquioxane is a part or all of the molecular chain terminal of the polyorganosilsesquioxane (polyorganosilsesquioxane skeleton) having a ladder structure. And a polyorganosilsesquioxane residue (“polyorganosilsesquioxane residue (a)”) containing a unit structure represented by the following formula (V) and a unit structure represented by the formula (VI): A polyorganosilsesquioxane having a composition).

ラダー型シルセスキオキサン(G)におけるポリオルガノシルセスキオキサン(ポリオルガノシルセスキオキサン骨格)は、実験式(基本構造式)R5SiO1.5で表されるポリシロキサンである。なお、R5は、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示し、R5(上記ポリオルガノシルセスキオキサン中のR5)の少なくとも一部は、一価の有機基である。上記ポリオルガノシルセスキオキサン中のR5は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 The polyorganosilsesquioxane (polyorganosilsesquioxane skeleton) in the ladder-type silsesquioxane (G) is a polysiloxane represented by an empirical formula (basic structural formula) R 5 SiO 1.5 . Incidentally, R 5 is a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen-containing group, and monovalent nitrogen-containing group, or a sulfur atom-containing monovalent radical, R 5 (the poly At least a part of R 5 ) in the organosilsesquioxane is a monovalent organic group. R 5 in the polyorganosilsesquioxane may be the same or different.

上記R5におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。上記R5における一価の有機基としては、例えば、置換又は無置換の炭化水素基(一価の炭化水素基)、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、エポキシ基、シアノ基、イソシアナート基、カルバモイル基、イソチオシアナート基等が挙げられる。 Examples of the halogen atom in R 5 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the monovalent organic group in R 5 include a substituted or unsubstituted hydrocarbon group (monovalent hydrocarbon group), an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyloxy group, and an alkylthio group. Groups, alkenylthio groups, arylthio groups, aralkylthio groups, carboxy groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, aralkyloxycarbonyl groups, epoxy groups, cyano groups, isocyanate groups, carbamoyl groups, isothiocyanate groups, etc. It is done.

上記R5における炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらが2以上結合した基が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group for R 5 include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group in which two or more of these are bonded.

上記R5における脂肪族炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、デシル基、ドデシル基等のC1-20アルキル基(好ましくはC1-10アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基)等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、メタリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基等のC2-20アルケニル基(好ましくはC2-10アルケニル基、さらに好ましくはC2-4アルケニル基)等が挙げられる。アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基等のC2-20アルキニル基(好ましくはC2-10アルキニル基、さらに好ましくはC2-4アルキニル基)等が挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 5 include an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Examples of the alkyl group include C 1-20 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, isooctyl group, decyl group and dodecyl group (preferably C 1- 10 alkyl group, more preferably C 1-4 alkyl group). Examples of the alkenyl group include a vinyl group, allyl group, methallyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, C 2-20 alkenyl groups (preferably C 2-10 alkenyl groups, more preferably C 2-4 alkenyl groups) such as 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkynyl group include C 2-20 alkynyl groups such as ethynyl group and propynyl group (preferably C 2-10 alkynyl group, more preferably C 2-4 alkynyl group).

上記R5における脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基等のC3-12のシクロアルキル基;シクロヘキセニル基等のC3-12のシクロアルケニル基;ビシクロヘプタニル基、ビシクロヘプテニル基等のC4-15の架橋環式炭化水素基等が挙げられる。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group in R 5 include C 3-12 cycloalkyl groups such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclododecyl group; and C 3− groups such as a cyclohexenyl group. 12 cycloalkenyl groups; C 4-15 bridged cyclic hydrocarbon groups such as bicycloheptanyl group and bicycloheptenyl group.

上記R5における芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等のアリール基(例えば、C6-14アリール基、特にC6-10アリール基)等が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon group for R 5 include aryl groups such as phenyl group and naphthyl group (for example, C 6-14 aryl group, particularly C 6-10 aryl group).

また、上記R5における脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが結合した基としては、例えば、シクロへキシルメチル基、メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等のC7-18アラルキル基(特に、C7-10アラルキル基)、シンナミル基等のC6-10アリール−C2-6アルケニル基、トリル基等のC1-4アルキル置換アリール基、スチリル基等のC2-4アルケニル置換アリール基等が挙げられる。 In addition, examples of the group in which the aliphatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group in R 5 are bonded to each other include a cyclohexylmethyl group, a methylcyclohexyl group, and the like. Examples of the group in which the aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group are bonded include, for example, C 7-18 aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group (particularly C 7-10 aralkyl groups), and C such as cinnamyl group. Examples thereof include C 1-4 alkyl-substituted aryl groups such as 6-10 aryl-C 2-6 alkenyl groups and tolyl groups, and C 2-4 alkenyl-substituted aryl groups such as styryl groups.

上記R5における炭化水素基は置換基を有する炭化水素基(置換炭化水素基)であってもよい。上記置換炭化水素基における置換基の炭素数は0〜20が好ましく、より好ましくは0〜10である。該置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;ヒドロキシ基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等のアルコキシ基(好ましくはC1-6アルコキシ基、より好ましくはC1-4アルコキシ基);アリルオキシ基等のアルケニルオキシ基(好ましくはC2-6アルケニルオキシ基、より好ましくはC2-4アルケニルオキシ基);フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の、芳香環にC1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、ハロゲン原子、C1-4アルコキシ基等の置換基を有していてもよいアリールオキシ基(好ましくはC6-14アリールオキシ基);ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアラルキルオキシ基(好ましくはC7-18アラルキルオキシ基);アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基(好ましくはC1-12アシルオキシ基);メルカプト基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基(好ましくはC1-6アルキルチオ基、より好ましくはC1-4アルキルチオ基);アリルチオ基等のアルケニルチオ基(好ましくはC2-6アルケニルチオ基、より好ましくはC2-4アルケニルチオ基);フェニルチオ基、トリルチオ基、ナフチルチオ基等の、芳香環にC1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、ハロゲン原子、C1-4アルコキシ基等の置換基を有していてもよいアリールチオ基(好ましくはC6-14アリールチオ基);ベンジルチオ基、フェネチルチオ基等のアラルキルチオ基(好ましくはC7-18アラルキルチオ基);カルボキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基(好ましくはC1-6アルコキシ−カルボニル基);フェノキシカルボニル基、トリルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基(好ましくはC6-14アリールオキシ−カルボニル基);ベンジルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基(好ましくはC7-18アラルキルオキシ−カルボニル基);アミノ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基(好ましくはモノ又はジ−C1-6アルキルアミノ基);アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基(好ましくはC1-11アシルアミノ基);グリシジルオキシ基等のエポキシ基含有基;エチルオキセタニルオキシ基等のオキセタニル基含有基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基;オキソ基;これらの2以上が必要に応じてC1-6アルキレン基を介して結合した基等が挙げられる。置換炭化水素基が有する置換基の数は、特に限定されない。 The hydrocarbon group in R 5 may be a hydrocarbon group having a substituent (substituted hydrocarbon group). As for carbon number of the substituent in the said substituted hydrocarbon group, 0-20 are preferable, More preferably, it is 0-10. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; hydroxy group; alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropyloxy group, butoxy group and isobutyloxy group (Preferably C 1-6 alkoxy group, more preferably C 1-4 alkoxy group); alkenyloxy group such as allyloxy group (preferably C 2-6 alkenyloxy group, more preferably C 2-4 alkenyloxy group) The aromatic ring may have a substituent such as a C 1-4 alkyl group, a C 2-4 alkenyl group, a halogen atom, a C 1-4 alkoxy group, such as a phenoxy group, a tolyloxy group, or a naphthyloxy group; Aryloxy groups (preferably C 6-14 aryloxy groups); aralkyloxy groups such as benzyloxy groups and phenethyloxy groups (preferably C 7-1 8 aralkyloxy groups); acyloxy groups such as acetyloxy groups, propionyloxy groups, (meth) acryloyloxy groups, and benzoyloxy groups (preferably C 1-12 acyloxy groups); mercapto groups; alkylthio groups such as methylthio groups and ethylthio groups Group (preferably C 1-6 alkylthio group, more preferably C 1-4 alkylthio group); alkenylthio group such as allylthio group (preferably C 2-6 alkenylthio group, more preferably C 2-4 alkenylthio group) ); Aromatic ring such as phenylthio group, tolylthio group, naphthylthio group and the like may have a substituent such as C 1-4 alkyl group, C 2-4 alkenyl group, halogen atom, C 1-4 alkoxy group, etc. Arylthio groups (preferably C 6-14 arylthio groups); aralkylthio groups such as benzylthio groups and phenethylthio groups (preferably C 7-1 8 aralkylthio group); carboxy group; alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group (preferably C 1-6 alkoxy-carbonyl group); phenoxycarbonyl group, tolyloxycarbonyl group An aryloxycarbonyl group such as a naphthyloxycarbonyl group (preferably a C 6-14 aryloxy-carbonyl group); an aralkyloxycarbonyl group such as a benzyloxycarbonyl group (preferably a C 7-18 aralkyloxy-carbonyl group); Groups: mono- or dialkylamino groups (preferably mono- or di-C 1-6 alkylamino groups) such as methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group, diethylamino group; acetylamino group, propionylamino group, benzoylamino An acylamino group such as a cyano group (preferably a C 1-11 acylamino group); an epoxy group-containing group such as a glycidyloxy group; an oxetanyl group-containing group such as an ethyloxetanyloxy group; an acyl group such as an acetyl group, a propionyl group, or a benzoyl group An oxo group; a group in which two or more of these are bonded via a C 1-6 alkylene group as necessary. The number of substituents that the substituted hydrocarbon group has is not particularly limited.

上記R5における一価の酸素原子含有基としては、例えば、ヒドロキシ基、ヒドロパーオキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、イソシアナート基、スルホ基、カルバモイル基等が挙げられる。上記一価の窒素原子含有基としては、例えば、アミノ基又は置換アミノ基(モノ又はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基等)、シアノ基、イソシアナート基、イソチオシアナート基、カルバモイル基等が挙げられる。また、上記一価の硫黄原子含有基としては、例えば、メルカプト基(チオール基)、スルホ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、イソチオシアナート基等が挙げられる。なお、上述の一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、一価の硫黄原子含有基は、相互に重複し得る。 Examples of the monovalent oxygen atom-containing group in R 5 include a hydroxy group, a hydroperoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyloxy group, an isocyanate group, a sulfo group, and a carbamoyl group. Can be mentioned. Examples of the monovalent nitrogen atom-containing group include an amino group or a substituted amino group (mono or dialkylamino group, acylamino group, etc.), a cyano group, an isocyanate group, an isothiocyanate group, a carbamoyl group, and the like. Examples of the monovalent sulfur atom-containing group include a mercapto group (thiol group), a sulfo group, an alkylthio group, an alkenylthio group, an arylthio group, an aralkylthio group, and an isothiocyanate group. The monovalent organic group, the monovalent oxygen atom-containing group, the monovalent nitrogen atom-containing group, and the monovalent sulfur atom-containing group described above can overlap each other.

さらに、上記R5としては、下記式(s)で表される基が挙げられる。

Figure 2016124958
Furthermore, as said R < 5 >, group represented by a following formula (s) is mentioned.
Figure 2016124958

上記式(s)中のR51(3つのR51)は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示し、これらの基としては、上記R5として例示したものと同様の基が挙げられる。 The formula R 51 (3 one R 51) in (s) are the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen-containing group, Alternatively, a monovalent sulfur atom-containing group is shown, and examples of these groups include the same groups as those exemplified as R 5 above.

上記式(s)で表される基において、各R51としては、それぞれ、水素原子;C1-10アルキル基(特に、C1-4アルキル基);C2-10アルケニル基(特に、C2-4アルケニル基);C3-12シクロアルキル基;C3-12シクロアルケニル基;芳香環にC1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、ハロゲン原子、C1-4アルコキシ基等の置換基を有していてもよいC6-14アリール基;C7-18アラルキル基;C6-10アリール−C2-6アルケニル基;ヒドロキシ基;C1-6アルコキシ基;ハロゲン原子が好ましい。 In the group represented by the formula (s), each R 51 is a hydrogen atom; a C 1-10 alkyl group (particularly a C 1-4 alkyl group); a C 2-10 alkenyl group (particularly a C 1 2-4 alkenyl group); C 3-12 cycloalkyl group; C 3-12 cycloalkenyl group; C 1-4 alkyl group, C 2-4 alkenyl group, halogen atom, C 1-4 alkoxy group, etc. on the aromatic ring A C 6-14 aryl group which may have a substituent of C 6-18 aralkyl group; a C 6-10 aryl-C 2-6 alkenyl group; a hydroxy group; a C 1-6 alkoxy group; preferable.

上記の中でも、R5としては、水素原子、又は、置換若しくは無置換の炭化水素基が好ましく、より好ましくは置換又は無置換の炭化水素基、さらに好ましくは脂肪族炭化水素基(特に、アルキル基)、芳香族炭化水素基(特に、フェニル基)である。 Among the above, R 5 is preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, more preferably a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, still more preferably an aliphatic hydrocarbon group (particularly an alkyl group). ), An aromatic hydrocarbon group (particularly a phenyl group).

一般に、ポリオルガノシルセスキオキサンの構造としては、ラダー状のSi−O−Si構造(ラダー構造)、カゴ状のSi−O−Si構造(カゴ構造)、ランダム状のSi−O−Si構造(ランダム構造)等が挙げられるが、ラダー型シルセスキオキサン(G)におけるポリオルガノシルセスキオキサンは、上記ラダー構造を少なくとも含むポリオルガノシルセスキオキサン(ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサン)である。   Generally, polyorganosilsesquioxane has a ladder-like Si—O—Si structure (ladder structure), a cage-like Si—O—Si structure (cage structure), and a random-like Si—O—Si structure. (Random structure) and the like. The polyorganosilsesquioxane in the ladder-type silsesquioxane (G) is a polyorganosilsesquioxane containing at least the ladder structure (polyorganosilsesquioxane having a ladder structure). Sun).

ラダー型シルセスキオキサン(G)におけるポリオルガノシルセスキオキサンは、例えば、下記式(L)で表される。

Figure 2016124958
The polyorganosilsesquioxane in ladder type silsesquioxane (G) is represented by the following formula (L), for example.
Figure 2016124958

上記式(L)において、vは1以上の整数(例えば、1〜5000)を表し、好ましくは1〜2000の整数、さらに好ましくは1〜1000の整数である。式(L)中のR5は、上記R5と同じものを示す。Tは末端基を示す。 In the above formula (L), v represents an integer of 1 or more (for example, 1 to 5000), preferably an integer of 1 to 2000, and more preferably an integer of 1 to 1000. R 5 in the formula (L) represents the same as R 5 described above. T represents a terminal group.

ラダー型シルセスキオキサン(G)におけるポリオルガノシルセスキオキサン中のケイ素原子に直接結合した基(上記実験式におけるR5、例えば、式(L)におけるR5(側鎖))は、特に限定されないが、上記基の全量(100モル%)に対する置換又は無置換の炭化水素基の占める割合が50モル%以上であることが好ましく、より好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上である。特に、上記基の全量(100モル%)に対する、置換又は無置換の直鎖又は分岐鎖状のC1-10アルキル基(特に、メチル基、エチル基等の直鎖又は分岐鎖状のC1-4アルキル基)、置換又は無置換のC6-10アリール基(特に、フェニル基)、置換又は無置換のC7-10アラルキル基(特に、ベンジル基)の合計量が、50モル%以上であることが好ましく、より好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上である。 In the ladder-type silsesquioxane (G), a group directly bonded to a silicon atom in the polyorganosilsesquioxane (R 5 in the above empirical formula, for example, R 5 (side chain) in the formula (L)) is particularly Although not limited, the ratio of the substituted or unsubstituted hydrocarbon group to the total amount (100 mol%) of the above group is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, still more preferably 90 mol%. That's it. In particular, a substituted or unsubstituted linear or branched C 1-10 alkyl group (especially a linear or branched C 1 such as a methyl group or an ethyl group) with respect to the total amount (100 mol%) of the above group. -4 alkyl group), substituted or unsubstituted C 6-10 aryl group (particularly phenyl group), substituted or unsubstituted C 7-10 aralkyl group (particularly benzyl group) is 50 mol% or more More preferably, it is 80 mol% or more, More preferably, it is 90 mol% or more.

特に、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性の観点で、ラダー型シルセスキオキサン(G)は、側鎖[主骨格(主鎖)であるラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサン骨格から枝分かれしている部分、例えば、上記式(L)におけるR5]の一部又は全部が置換若しくは無置換のアリール基(芳香族炭化水素基)であることが好ましい。 In particular, from the viewpoint of the barrier property against the corrosive gas of the cured product, the ladder-type silsesquioxane (G) is branched from a polyorganosilsesquioxane skeleton having a ladder structure that is a side chain [main skeleton (main chain)]. For example, part or all of R 5 ] in the above formula (L) is preferably a substituted or unsubstituted aryl group (aromatic hydrocarbon group).

ラダー型シルセスキオキサン(G)は、上記ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の一部又は全部に、ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)を少なくとも有する。上記ポリオルガノシルセスキオキサンが上記式(L)で表される場合、ラダー型シルセスキオキサン(G)は、式(L)中のTの一部又は全部が以下のポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)で置換された構造を有する。   The ladder-type silsesquioxane (G) has at least a polyorganosilsesquioxane residue (a) at a part or all of the molecular chain ends of the polyorganosilsesquioxane having the ladder structure. When the polyorganosilsesquioxane is represented by the above formula (L), the ladder-type silsesquioxane (G) is a polyorganosilsesquioxane in which a part or all of T in the formula (L) is It has a structure substituted with a sun residue (a).

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)は、下記式(V)

Figure 2016124958
で表される単位構造(シロキサン単位構造)及び下記式(VI)
Figure 2016124958
で表される単位構造(シロキサン単位構造)を少なくとも含む残基である。 The polyorganosilsesquioxane residue (a) is represented by the following formula (V)
Figure 2016124958
The unit structure represented by (siloxane unit structure) and the following formula (VI)
Figure 2016124958
Is a residue containing at least a unit structure represented by (siloxane unit structure).

上記式(V)中のR6は、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基を示す。上記脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基としては、例えば、ビニル基、アリル基、メタリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基等のC2-20アルケニル基(好ましくはC2-10アルケニル基、さらに好ましくはC2-4アルケニル基);シクロヘキセニル基等のC3-12のシクロアルケニル基;ビシクロヘプテニル基等のC4-15架橋環式不飽和炭化水素基;スチリル基等のC2-4アルケニル置換アリール基;シンナミル基等が挙げられる。なお、上記脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基には、上記式(s)で表される基において、3つのR51のうち少なくとも1つが上記のC2-20アルケニル基、C3-12のシクロアルケニル基、C4-15の架橋環式不飽和炭化水素基、C2-4アルケニル置換アリール基、シンナミル基等である基も含まれる。中でも、R6としては、アルケニル基が好ましく、より好ましくはC2-20アルケニル基、さらに好ましくはビニル基である。 R 6 in the above formula (V) represents a group having an aliphatic carbon-carbon double bond. Examples of the group having an aliphatic carbon-carbon double bond include a vinyl group, allyl group, methallyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, C 2-20 alkenyl groups (preferably C 2-10 alkenyl groups, more preferably C 2-4 alkenyl groups) such as 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group and 5-hexenyl group Group); C 3-12 cycloalkenyl group such as cyclohexenyl group; C 4-15 bridged cyclic unsaturated hydrocarbon group such as bicycloheptenyl group; C 2-4 alkenyl-substituted aryl group such as styryl group; cinnamyl Groups and the like. In the group having an aliphatic carbon-carbon double bond, in the group represented by the above formula (s), at least one of three R 51 is the above C 2-20 alkenyl group, C 3- Also included are groups such as 12 cycloalkenyl groups, C 4-15 bridged cyclic unsaturated hydrocarbon groups, C 2-4 alkenyl substituted aryl groups, cinnamyl groups, and the like. Among them, R 6 is preferably an alkenyl group, more preferably a C 2-20 alkenyl group, and still more preferably a vinyl group.

上記式(VI)中のR7は、同一又は異なって、炭化水素基(一価の炭化水素基)を示す。上記炭化水素基としては、上記R5として例示したものと同様の炭化水素基が例示される。中でも、R7としては、C1-20アルキル基が好ましく、より好ましくはC1-10アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基、特に好ましくはメチル基である。特に、式(VI)中のR7がいずれもメチル基であることが好ましい。 R 7 in the above formula (VI) is the same or different and represents a hydrocarbon group (monovalent hydrocarbon group). Examples of the hydrocarbon group include the same hydrocarbon groups as those exemplified as R 5 above. Among them, R 7 is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-10 alkyl group, still more preferably a C 1-4 alkyl group, and particularly preferably a methyl group. In particular, it is preferable that all R 7 in the formula (VI) is a methyl group.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)は、式(V)で表される単位構造と式(VI)で表される単位構造以外にも、例えば、下記式(V’)

Figure 2016124958
で表される単位構造(シロキサン単位構造)を有していてもよい。 In addition to the unit structure represented by the formula (V) and the unit structure represented by the formula (VI), the polyorganosilsesquioxane residue (a) includes, for example, the following formula (V ′):
Figure 2016124958
It may have a unit structure represented by (siloxane unit structure).

上記式(V’)中のR6’は、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基を除く一価の基を示す。具体的には、例えば、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基を除く一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基等が挙げられる。 R 6 ′ in the above formula (V ′) represents a monovalent group excluding a group having an aliphatic carbon-carbon double bond. Specifically, for example, a monovalent organic group excluding a hydrogen atom, a halogen atom, a group having an aliphatic carbon-carbon double bond, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or one And valent sulfur atom-containing groups.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)における式(V)に表された3つの酸素原子が結合したケイ素原子の量は、特に限定されないが、ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)を構成するケイ素原子の全量(100モル%)に対して、20〜80モル%が好ましく、より好ましくは25〜60モル%である。含有量が20モル%未満であると、ラダー型シルセスキオキサン(G)が有する脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)の量が不十分となって、硬化物の硬度が十分得られない場合がある。一方、含有量が80モル%を超えると、ラダー型シルセスキオキサン(G)中にシラノール基や加水分解性シリル基が多く残存するため、ラダー型シルセスキオキサン(G)が液状で得られない場合がある。さらに縮合反応が進行して分子量が変化しやすくなるため、保存安定性が悪化する場合がある。   The amount of the silicon atom bonded to the three oxygen atoms represented by the formula (V) in the polyorganosilsesquioxane residue (a) is not particularly limited, but the polyorganosilsesquioxane residue (a) The amount is preferably 20 to 80 mol%, more preferably 25 to 60 mol%, based on the total amount of silicon atoms (100 mol%). If the content is less than 20 mol%, the amount of aliphatic carbon-carbon double bonds (particularly alkenyl groups) possessed by the ladder-type silsesquioxane (G) becomes insufficient, and the hardness of the cured product is reduced. You may not get enough. On the other hand, when the content exceeds 80 mol%, since many silanol groups and hydrolyzable silyl groups remain in the ladder-type silsesquioxane (G), the ladder-type silsesquioxane (G) is obtained in a liquid state. It may not be possible. Furthermore, since the condensation reaction proceeds and the molecular weight easily changes, the storage stability may deteriorate.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)における式(VI)に表された1つの酸素原子が結合したケイ素原子の量は、特に限定されないが、ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)を構成するケイ素原子の全量(100モル%)に対して、20〜85モル%が好ましく、より好ましくは30〜75モル%である。含有量が20モル%未満であると、ラダー型シルセスキオキサン(G)中にシラノール基や加水分解性シリル基が残存しやすく、ラダー型シルセスキオキサン(G)が液状で得られない場合がある。さらに縮合反応が進行して分子量が変化しやすくなるため、保存安定性が悪化する場合がある。一方、含有量が85モル%を超えると、ラダー型シルセスキオキサン(G)が有する脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)の量が不十分となって、硬化物の硬度が十分得られない場合がある。   The amount of silicon atom bonded to one oxygen atom represented by the formula (VI) in the polyorganosilsesquioxane residue (a) is not particularly limited, but the polyorganosilsesquioxane residue (a) It is preferably 20 to 85 mol%, more preferably 30 to 75 mol%, based on the total amount (100 mol%) of silicon atoms constituting the. If the content is less than 20 mol%, silanol groups and hydrolyzable silyl groups are likely to remain in the ladder-type silsesquioxane (G), and the ladder-type silsesquioxane (G) cannot be obtained in liquid form. There is a case. Furthermore, since the condensation reaction proceeds and the molecular weight easily changes, the storage stability may deteriorate. On the other hand, if the content exceeds 85 mol%, the amount of aliphatic carbon-carbon double bonds (particularly alkenyl groups) possessed by the ladder-type silsesquioxane (G) becomes insufficient, and the hardness of the cured product May not be sufficient.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)が有するSi−O−Si構造(骨格)としては、特に限定されず、例えば、ラダー構造、カゴ構造、ランダム構造等が挙げられる。   The Si—O—Si structure (skeleton) of the polyorganosilsesquioxane residue (a) is not particularly limited, and examples thereof include a ladder structure, a cage structure, and a random structure.

ラダー型シルセスキオキサン(G)は、例えば、下記式(La)で表すことができる。式(La)中のv、R5としては、上記式(L)と同様のものが例示される。式(La)中のAは、ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)、又は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、若しくはアシルオキシ基を示し、Aの一部又は全部はポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)である。なお、式(La)中の複数(2〜4個)のAがポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)である場合、それぞれのAは互いに又は他の式(La)で表される分子が有するAと1以上のSi−O−Si結合を介して結合していてもよい。

Figure 2016124958
Ladder type silsesquioxane (G) can be represented by the following formula (L a ), for example. V in the formula (L a), as is R 5, those similar to the above formula (L) can be exemplified. A in the formula (L a ) represents a polyorganosilsesquioxane residue (a), or a hydroxy group, a halogen atom, an alkoxy group, or an acyloxy group. Oxan residue (a). Incidentally, represented by formula If (L a) A plurality (two to four) in is polyorganosilsesquioxane residues (a), each A is each other or other formula (L a) May be bonded to A of one molecule through one or more Si—O—Si bonds.
Figure 2016124958

なお、ラダー型シルセスキオキサン(G)におけるポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)は、さらに、後述のラダー型シルセスキオキサン(H)における式(VII)で表される単位構造を有するものであってもよい。この場合、ラダー型シルセスキオキサン(G)は、ラダー型シルセスキオキサン(H)として使用することも可能な場合がある。   The polyorganosilsesquioxane residue (a) in the ladder-type silsesquioxane (G) further has a unit structure represented by the formula (VII) in the ladder-type silsesquioxane (H) described later. You may have. In this case, the ladder-type silsesquioxane (G) may be used as the ladder-type silsesquioxane (H).

ラダー型シルセスキオキサン(G)の製造方法は、特に限定されないが、例えば、ラダー構造を有し、分子鎖末端にシラノール基及び/又は加水分解性シリル基(シラノール基及び加水分解性シリル基のいずれか一方又は両方)を有するポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端に対して、上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(a)を形成する方法が挙げられる。具体的には、国際公開第2013/176238号等の文献に開示された方法等により製造できる。   The method for producing the ladder-type silsesquioxane (G) is not particularly limited. For example, the ladder-type silsesquioxane (G) has a ladder structure and has a silanol group and / or a hydrolyzable silyl group (silanol group and hydrolyzable silyl group at the molecular chain terminal). The method of forming the said polyorgano silsesquioxane residue (a) with respect to the molecular chain terminal of the polyorgano silsesquioxane which has any one or both of these is mentioned. Specifically, it can be produced by a method disclosed in a document such as International Publication No. 2013/176238.

ラダー型シルセスキオキサン(G)における、分子内の脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)の数は、特に限定されないが、2個以上(例えば、2〜50個)が好ましく、より好ましくは2〜30個である。上述の範囲で脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)を有することにより、耐熱性等の各種物性、耐クラック性、腐食性ガスに対するバリア性に優れた硬化物が得られやすい傾向がある。   In the ladder-type silsesquioxane (G), the number of aliphatic carbon-carbon double bonds (particularly alkenyl groups) in the molecule is not particularly limited, but is preferably 2 or more (for example, 2 to 50). More preferably, it is 2-30. By having an aliphatic carbon-carbon double bond (especially an alkenyl group) within the above-mentioned range, a cured product excellent in various physical properties such as heat resistance, crack resistance, and barrier properties against corrosive gas tends to be obtained. There is.

ラダー型シルセスキオキサン(G)中の脂肪族炭素−炭素二重結合の含有量は、特に限定されないが、0.7〜5.5mmol/gが好ましく、より好ましくは1.1〜4.4mmol/gである。また、ラダー型シルセスキオキサン(G)に含まれる脂肪族炭素−炭素二重結合の割合(重量基準)は、特に限定されないが、ビニル基換算で、2.0〜15.0重量%が好ましく、より好ましくは3.0〜12.0重量%である。   Although content of the aliphatic carbon-carbon double bond in ladder type silsesquioxane (G) is not specifically limited, 0.7-5.5 mmol / g is preferable, More preferably, 1.1-4. 4 mmol / g. Moreover, the ratio (weight basis) of the aliphatic carbon-carbon double bond contained in the ladder-type silsesquioxane (G) is not particularly limited, but is 2.0 to 15.0% by weight in terms of vinyl group. Preferably, it is 3.0 to 12.0% by weight.

ラダー型シルセスキオキサン(G)の分子量は、特に限定されないが、100〜80万が好ましく、より好ましくは200〜10万、さらに好ましくは300〜1万、特に好ましくは500〜8000である。ラダー型シルセスキオキサン(G)の分子量がこの範囲にあると、室温で液体となりやすく、なおかつその粘度が比較的低くなりやすいため、取り扱いが容易となる傾向がある。なお、ラダー型シルセスキオキサン(G)は、上記範囲の種々の分子量を有するものの混合物であってもよい。なお、上記分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量として測定される。   The molecular weight of the ladder-type silsesquioxane (G) is not particularly limited, but is preferably 100 to 800,000, more preferably 200 to 100,000, still more preferably 300 to 10,000, and particularly preferably 500 to 8,000. If the molecular weight of the ladder-type silsesquioxane (G) is in this range, it tends to be liquid at room temperature and its viscosity tends to be relatively low, and therefore it tends to be easy to handle. The ladder-type silsesquioxane (G) may be a mixture of those having various molecular weights within the above range. The molecular weight is measured as a molecular weight in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography.

ラダー型シルセスキオキサン(G)の重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、100〜80万が好ましく、より好ましくは200〜10万、さらに好ましくは300〜1万、特に好ましくは500〜8000である。重量平均分子量が100以上であると、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、分子量が80万以下であると、他の成分との相溶性が向上する傾向がある。なお、上記重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量より算出される。   The weight average molecular weight (Mw) of the ladder type silsesquioxane (G) is not particularly limited, but is preferably 100 to 800,000, more preferably 200 to 100,000, still more preferably 300 to 10,000, and particularly preferably 500. ~ 8000. There exists a tendency for the heat resistance of hardened | cured material to improve that a weight average molecular weight is 100 or more. On the other hand, when the molecular weight is 800,000 or less, the compatibility with other components tends to be improved. In addition, the said weight average molecular weight is computed from the molecular weight of standard polystyrene conversion by gel permeation chromatography.

ラダー型シルセスキオキサン(G)は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。より具体的には、ラダー型シルセスキオキサン(G)の23℃における粘度は、100〜10万mPa・sが好ましく、より好ましくは500〜1万mPa・s、さらに好ましくは1000〜8000mPa・sである。粘度が100mPa・s以上であると、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、粘度が10万mPa・s以下であると、硬化性樹脂組成物の調製や取り扱いが容易となる傾向がある。なお、23℃における粘度は、レオーメーター(商品名「PhysicaUDS−200」、AntonPaar社製)とコーンプレート(円錐直径:16mm、テーパ角度=0°)を用いて、温度:23℃、回転数:20rpmの条件で測定される。   The ladder type silsesquioxane (G) is not particularly limited, but is preferably liquid at room temperature (about 25 ° C.). More specifically, the viscosity of the ladder-type silsesquioxane (G) at 23 ° C. is preferably 100 to 100,000 mPa · s, more preferably 500 to 10,000 mPa · s, and still more preferably 1000 to 8000 mPa · s. s. There exists a tendency for the heat resistance of hardened | cured material to improve that a viscosity is 100 mPa * s or more. On the other hand, when the viscosity is 100,000 mPa · s or less, the curable resin composition tends to be easily prepared and handled. The viscosity at 23 ° C. was measured using a rheometer (trade name “PhysicaUDS-200”, manufactured by Anton Paar) and a cone plate (cone diameter: 16 mm, taper angle = 0 °), temperature: 23 ° C., rotational speed: It is measured at 20 rpm.

本発明の硬化性樹脂組成物においてラダー型シルセスキオキサン(G)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In the curable resin composition of the present invention, the ladder-type silsesquioxane (G) can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物がラダー型シルセスキオキサン(G)を含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物におけるラダー型シルセスキオキサン(G)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、1〜40重量%が好ましく、より好ましくは5〜30重量%、さらに好ましくは10〜20重量%である。含有量を1重量%以上とすることにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。一方、含有量を40重量%以下とすることにより、硬化物が硬くなりすぎず、柔軟性に優れる硬化物が得られる傾向がある。   When the curable resin composition of the present invention contains a ladder-type silsesquioxane (G), the content (blending amount) of the ladder-type silsesquioxane (G) in the curable resin composition of the present invention is particularly Although not limited, 1-40 weight% is preferable with respect to curable resin composition (100 weight%), More preferably, it is 5-30 weight%, More preferably, it is 10-20 weight%. By making the content 1% by weight or more, the barrier property against the corrosive gas of the cured product tends to be further improved. On the other hand, by setting the content to 40% by weight or less, the cured product does not become too hard, and a cured product having excellent flexibility tends to be obtained.

(ラダー型シルセスキオキサン(H))
本発明の硬化性樹脂組成物におけるラダー型シルセスキオキサン(H)は、ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサン(ポリオルガノシルセスキオキサン骨格)の分子鎖末端の一部又は全部に、後述の式(VII)で表される単位構造及び式(VIII)で表される単位構造を含むポリオルガノシルセスキオキサン残基(「ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)」と称する場合がある)を有するポリオルガノシルセスキオキサンである。
(Ladder type silsesquioxane (H))
The ladder-type silsesquioxane (H) in the curable resin composition of the present invention is a part or all of the molecular chain terminal of the polyorganosilsesquioxane (polyorganosilsesquioxane skeleton) having a ladder structure. A polyorganosilsesquioxane residue containing a unit structure represented by the formula (VII) and a unit structure represented by the formula (VIII) (hereinafter referred to as “polyorganosilsesquioxane residue (b)”) Is a polyorganosilsesquioxane.

ラダー型シルセスキオキサン(H)におけるポリオルガノシルセスキオキサンは、実験式(基本構造式)R5SiO1.5で表されるポリシロキサンである。ラダー型シルセスキオキサン(H)におけるポリオルガノシルセスキオキサンとしては、ラダー型シルセスキオキサン(G)におけるポリオルガノシルセスキオキサン(例えば、上記式(L)で表されるポリオルガノシルセスキオキサン)と同様のものが例示される。 The polyorganosilsesquioxane in the ladder-type silsesquioxane (H) is a polysiloxane represented by an empirical formula (basic structural formula) R 5 SiO 1.5 . Examples of the polyorganosilsesquioxane in the ladder type silsesquioxane (H) include polyorganosilsesquioxanes in the ladder type silsesquioxane (G) (for example, polyorganosyl represented by the above formula (L)). Examples thereof are similar to those of sesquioxane).

ラダー型シルセスキオキサン(H)は、ラダー型シルセスキオキサン(G)と同様に、特に、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性の観点で、側鎖の一部又は全部が置換若しくは無置換のアリール基であることが好ましい。   The ladder-type silsesquioxane (H) is similar to the ladder-type silsesquioxane (G), particularly in terms of the barrier property against the corrosive gas of the cured product, in which part or all of the side chain is substituted or absent. It is preferably a substituted aryl group.

上記ポリオルガノシルセスキオキサンが上記式(L)で表される場合、ラダー型シルセスキオキサン(H)は、式(L)中のTの一部又は全部が以下のポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)で置換された構造を有する。   When the polyorganosilsesquioxane is represented by the above formula (L), the ladder-type silsesquioxane (H) is a polyorganosilsesquioxane in which a part or all of T in the formula (L) is It has a structure substituted with a sun residue (b).

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)は、下記式(VII)

Figure 2016124958
で表される単位構造(シロキサン単位構造)及び下記式(VIII)
Figure 2016124958
で表される単位構造(シロキサン単位構造)を少なくとも含む残基である。なお、上記式(VII)で表される単位構造中の有機基(−X−CHR8−CR8 2−[SiR9 2−O−]n−SiHR9 2)を、「SiH含有基」と称する場合がある。 The polyorganosilsesquioxane residue (b) is represented by the following formula (VII)
Figure 2016124958
The unit structure represented by (siloxane unit structure) and the following formula (VIII)
Figure 2016124958
Is a residue containing at least a unit structure represented by (siloxane unit structure). The organic group (—X—CHR 8 —CR 8 2 — [SiR 9 2 —O—] n —SiHR 9 2 ) in the unit structure represented by the above formula (VII) is referred to as “SiH containing group”. Sometimes called.

上記式(VII)中、Xは、単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル基(エーテル結合)、チオエーテル基(チオエーテル結合)、エステル基(エステル結合)、カーボネート基(カーボネート結合)、アミド基(アミド結合)、これらが複数個連結した基等が挙げられる。   In the above formula (VII), X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether group (ether bond), a thioether group (thioether bond), an ester group (ester bond), a carbonate group (carbonate bond), and an amide group (amide). Bond), a group in which a plurality of these are linked, and the like.

上記二価の炭化水素基としては、例えば、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned, for example. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclohexene group. And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as a silylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.

上記式(VII)におけるR8は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。R8としては、上記R5として例示したものと同様の基が挙げられる。中でも、R8としては、それぞれ、水素原子、又は、置換若しくは無置換の炭化水素基が好ましく、より好ましくは水素原子である。 R 8 in the above formula (VII) is the same or different and contains a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent sulfur atom. Indicates a group. Examples of R 8 include the same groups as those exemplified as R 5 above. Among them, each R 8 is preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom.

上記式(VII)におけるR9は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。R9としては、上記R5として例示したものと同様の基が挙げられる。なお、式(VII)中のnが2以上の整数の場合、nが付された各括弧内におけるR9は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 R 9 in the above formula (VII) is the same or different and contains a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent sulfur atom Indicates a group. Examples of R 9 include the same groups as those exemplified as R 5 above. When n in the formula (VII) is an integer of 2 or more, R 9 in each parenthesis to which n is attached may be the same or different.

上記の中でも、R9としては、それぞれ、水素原子、又は、置換若しくは無置換の炭化水素基が好ましく、より好ましくは置換又は無置換の炭化水素基、さらに好ましくは脂肪族炭化水素基(特に、メチル基)、芳香族炭化水素基(特に、フェニル基)である。 Among the above, each R 9 is preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, more preferably a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, still more preferably an aliphatic hydrocarbon group (particularly, Methyl group) and aromatic hydrocarbon group (particularly phenyl group).

上記式(VII)におけるnは、1〜100の整数を示し、好ましくは1〜30の整数、より好ましくは1〜10の整数、さらに好ましくは1〜5の整数である。nが大きすぎる場合、硬化物のガス(特に、腐食性ガス)に対するバリア性が低下する傾向があるため、例えば、光半導体素子の封止剤としては適さない場合がある。   N in the formula (VII) represents an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 30, more preferably an integer of 1 to 10, and further preferably an integer of 1 to 5. When n is too large, the barrier property against the gas (particularly corrosive gas) of the cured product tends to be lowered, and therefore, for example, it may not be suitable as a sealant for an optical semiconductor element.

上記式(VIII)におけるR10は、同一又は異なって、炭化水素基(一価の炭化水素基)を示す。上記炭化水素基としては、上記R5において例示したものと同様の炭化水素基が例示される。中でも、R10としては、C1-20アルキル基が好ましく、より好ましくはC1-10アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基、特に好ましくはメチル基である。特に、式(VIII)中のR10がいずれもメチル基であることが好ましい。 R 10 in the above formula (VIII) is the same or different and represents a hydrocarbon group (monovalent hydrocarbon group). As said hydrocarbon group, the hydrocarbon group similar to what was illustrated in said R < 5 > is illustrated. Among them, R 10 is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-10 alkyl group, still more preferably a C 1-4 alkyl group, and particularly preferably a methyl group. In particular, it is preferred that all of R 10 in formula (VIII) are methyl groups.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)は、式(VII)で表される単位構造と式(VIII)で表される単位構造以外にも、例えば、上記式(V’)で表される単位構造等を有していてもよい。   The polyorganosilsesquioxane residue (b) is represented by, for example, the above formula (V ′) in addition to the unit structure represented by the formula (VII) and the unit structure represented by the formula (VIII). It may have a unit structure.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)における式(VII)中の3つの酸素原子が結合したケイ素原子(SiH含有基中のケイ素原子は含まない)の量は、特に限定されないが、ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)を構成するケイ素原子の全量(100モル%)に対して、20〜80モル%が好ましく、より好ましくは25〜60モル%である。含有量が20モル%未満であると、ラダー型シルセスキオキサン(H)が有するヒドロシリル基の量が不十分となって、硬化物の十分な硬度が得られない場合がある。一方、含有量が80モル%を超えると、ラダー型シルセスキオキサン(H)中にシラノール基や加水分解性シリル基が多く残存するため、ラダー型シルセスキオキサン(H)が液状で得られない場合がある。さらに縮合反応が進行して分子量が変化しやすくなるため、保存安定性が悪化する場合がある。   The amount of silicon atoms (not including silicon atoms in the SiH-containing group) to which the three oxygen atoms in formula (VII) are bonded in the polyorganosilsesquioxane residue (b) is not particularly limited. 20-80 mol% is preferable with respect to the total amount (100 mol%) of the silicon atom which comprises an organosilsesquioxane residue (b), More preferably, it is 25-60 mol%. If the content is less than 20 mol%, the amount of hydrosilyl group contained in the ladder-type silsesquioxane (H) becomes insufficient, and sufficient hardness of the cured product may not be obtained. On the other hand, when the content exceeds 80 mol%, since many silanol groups and hydrolyzable silyl groups remain in the ladder-type silsesquioxane (H), the ladder-type silsesquioxane (H) is obtained in a liquid state. It may not be possible. Furthermore, since the condensation reaction proceeds and the molecular weight easily changes, the storage stability may deteriorate.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)における式(VIII)中の1つの酸素原子が結合したケイ素原子の量は、特に限定されないが、ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)を構成するケイ素原子の全量(100モル%)に対して、20〜85モル%が好ましく、より好ましくは30〜75モル%である。含有量が20モル%未満であると、ラダー型シルセスキオキサン(H)中にシラノール基や加水分解性シリル基が残存しやすく、ラダー型シルセスキオキサン(H)が液状で得られない場合がある。さらに縮合反応が進行して分子量が変化しやすくなるため、保存安定性が悪化する場合がある。一方、含有量が85モル%を超えると、ラダー型シルセスキオキサン(H)が有するヒドロシリル基の量が不十分となって、硬化物の硬度が十分得られない場合がある。   The amount of the silicon atom bonded to one oxygen atom in the formula (VIII) in the polyorganosilsesquioxane residue (b) is not particularly limited, but constitutes the polyorganosilsesquioxane residue (b). The amount is preferably 20 to 85 mol%, more preferably 30 to 75 mol%, based on the total amount of silicon atoms (100 mol%). When the content is less than 20 mol%, silanol groups and hydrolyzable silyl groups are likely to remain in the ladder-type silsesquioxane (H), and the ladder-type silsesquioxane (H) cannot be obtained in liquid form. There is a case. Furthermore, since the condensation reaction proceeds and the molecular weight easily changes, the storage stability may deteriorate. On the other hand, if the content exceeds 85 mol%, the amount of hydrosilyl group contained in the ladder-type silsesquioxane (H) becomes insufficient, and the hardness of the cured product may not be sufficiently obtained.

上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)が有するSi−O−Si構造(骨格)としては、特に限定されず、例えば、ラダー構造、カゴ構造、ランダム構造等が挙げられる。   The Si—O—Si structure (skeleton) of the polyorganosilsesquioxane residue (b) is not particularly limited, and examples thereof include a ladder structure, a cage structure, and a random structure.

ポリオルガノシルセスキオキサン(H)は、例えば、下記式(Lb)で表すことができる。式(Lb)中のv、R5としては、上記式(L)と同様のものが例示される。式(Lb)中のBは、ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)、又は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、若しくはアシルオキシ基を示し、式(Lb)中のBの一部又は全部はポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)である。なお、式(Lb)中の複数(2〜4個)のRbがポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)である場合、それぞれのBは互いに又は他の式(Lb)で表される分子が有するBと1以上のSi−O−Si結合を介して結合していてもよい。

Figure 2016124958
Polyorganosilsesquioxane (H) can be represented by the following formula (L b ), for example. Examples of v and R 5 in the formula (L b ) are the same as those in the above formula (L). B in the formula (L b ) represents a polyorganosilsesquioxane residue (b), or a hydroxy group, a halogen atom, an alkoxy group, or an acyloxy group, and a part of B in the formula (L b ) Or all are polyorganosilsesquioxane residues (b). Note that Table in formula (L b) a plurality of in case R b in (2-4) is a polyorganosilsesquioxane residues (b), each B is each other or other formula (L b) May be bonded to B of the molecule to be bonded through one or more Si—O—Si bonds.
Figure 2016124958

なお、ラダー型シルセスキオキサン(H)におけるポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)は、さらに、上述のラダー型シルセスキオキサン(G)における式(V)で表される単位構造を有するものであってもよい。この場合、ラダー型シルセスキオキサン(H)は、ラダー型シルセスキオキサン(G)として使用することも可能な場合がある。   The polyorganosilsesquioxane residue (b) in the ladder-type silsesquioxane (H) further has a unit structure represented by the formula (V) in the ladder-type silsesquioxane (G). You may have. In this case, the ladder-type silsesquioxane (H) may be used as the ladder-type silsesquioxane (G).

ラダー型シルセスキオキサン(H)の製造方法は、特に限定されないが、例えば、ラダー構造を有し、分子鎖末端にシラノール基及び/又は加水分解性シリル基を有するポリオルガノシルセスキオキサン(原料ラダーポリマー)の分子鎖末端に対して、上記ポリオルガノシルセスキオキサン残基(b)を形成する方法が挙げられる。具体的には、国際公開第2013/176238号等の文献に開示された方法等により製造できる。   Although the manufacturing method of ladder type silsesquioxane (H) is not specifically limited, For example, polyorgano silsesquioxane which has a ladder structure and has a silanol group and / or a hydrolyzable silyl group at the molecular chain terminal ( The method of forming the said polyorgano silsesquioxane residue (b) with respect to the molecular chain terminal of (raw material ladder polymer) is mentioned. Specifically, it can be produced by a method disclosed in a document such as International Publication No. 2013/176238.

ラダー型シルセスキオキサン(H)における、分子内(一分子中)の上記SiH含有基の数は、特に限定されないが、2個以上(例えば、2〜50個)が好ましく、より好ましくは2〜30個である。上述の範囲で上記SiH含有基を有することにより、硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱性が向上する傾向がある。   In the ladder type silsesquioxane (H), the number of the SiH-containing groups in the molecule (in one molecule) is not particularly limited, but is preferably 2 or more (for example, 2 to 50), more preferably 2 ~ 30. By having the SiH-containing group within the above range, the heat resistance of the cured product of the curable resin composition tends to be improved.

ラダー型シルセスキオキサン(H)が有するヒドロシリル基の含有量は、特に限定されないが、0.01〜0.5mmol/gが好ましく、より好ましくは0.08〜0.28mmol/gである。また、ラダー型シルセスキオキサン(H)が有するヒドロシリル基の重量基準の含有量は、特に限定されないが、ヒドロシリル基におけるH(ヒドリド)の重量換算(H換算)で、0.01〜0.50重量%が好ましく、より好ましくは0.08〜0.28重量%である。ヒドロシリル基の含有量が少なすぎると(例えば、0.01mmol/g未満、H換算で0.01重量%未満の場合)、硬化性樹脂組成物の硬化が進行しない場合がある。一方、ヒドロシリル基の含有量が多すぎると(例えば、0.50mmol/gを超える、H換算で0.50重量%を超える場合)、硬化物の硬度が高くなり、割れやすくなる場合がある。なお、ラダー型シルセスキオキサン(H)におけるヒドロシリル基の含有量は、例えば、1H−NMRスペクトル測定等により算出することができる。 Although content of the hydrosilyl group which ladder type silsesquioxane (H) has is not specifically limited, 0.01-0.5 mmol / g is preferable, More preferably, it is 0.08-0.28 mmol / g. In addition, the content of the hydrosilyl group based on the weight of the ladder-type silsesquioxane (H) is not particularly limited, but is 0.01 to 0. 50 weight% is preferable, More preferably, it is 0.08 to 0.28 weight%. If the content of the hydrosilyl group is too small (for example, less than 0.01 mmol / g and less than 0.01% by weight in terms of H), curing of the curable resin composition may not proceed. On the other hand, if the content of the hydrosilyl group is too large (for example, exceeding 0.50 mmol / g, exceeding 0.50% by weight in terms of H), the hardness of the cured product becomes high and may be easily cracked. The content of hydrosilyl group in the ladder-type silsesquioxane (H), for example, can be calculated by 1 H-NMR spectrum measurement and the like.

なお、ラダー型シルセスキオキサン(H)が有するヒドロシリル基の全量(100モル%)に対するSiH含有基の割合は、特に限定されないが、硬化度の観点で、50〜100モル%が好ましく、より好ましくは80〜100モル%である。   In addition, the ratio of the SiH-containing group with respect to the total amount (100 mol%) of the hydrosilyl group of the ladder-type silsesquioxane (H) is not particularly limited, but is preferably 50 to 100 mol% from the viewpoint of the degree of curing. Preferably it is 80-100 mol%.

ラダー型シルセスキオキサン(H)の分子量は、特に限定されないが、100〜80万が好ましく、より好ましくは200〜10万、さらに好ましくは300〜1万、特に好ましくは500〜9000である。ラダー型シルセスキオキサン(H)の分子量がこの範囲にあると、室温で液体となりやすく、なおかつその粘度が比較的低くなりやすいため、取り扱いが容易となる傾向がある。なお、ラダー型シルセスキオキサン(H)は、上記範囲の種々の分子量を有するものの混合物であってもよい。なお、上記分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量として測定される。   The molecular weight of the ladder-type silsesquioxane (H) is not particularly limited, but is preferably 100 to 800,000, more preferably 200 to 100,000, still more preferably 300 to 10,000, and particularly preferably 500 to 9000. When the molecular weight of the ladder-type silsesquioxane (H) is within this range, it tends to be liquid at room temperature and its viscosity tends to be relatively low, so that it tends to be easy to handle. The ladder-type silsesquioxane (H) may be a mixture of those having various molecular weights within the above range. The molecular weight is measured as a molecular weight in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography.

ラダー型シルセスキオキサン(H)の重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、100〜80万が好ましく、より好ましくは200〜10万、さらに好ましくは300〜1万、特に好ましくは500〜9000である。重量平均分子量が100以上であると、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、分子量が80万以下であると、他の成分との相溶性が向上する傾向がある。なお、上記重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量より算出される。   The weight average molecular weight (Mw) of the ladder type silsesquioxane (H) is not particularly limited, but is preferably 100 to 800,000, more preferably 200 to 100,000, still more preferably 300 to 10,000, and particularly preferably 500. ~ 9000. There exists a tendency for the heat resistance of hardened | cured material to improve that a weight average molecular weight is 100 or more. On the other hand, when the molecular weight is 800,000 or less, the compatibility with other components tends to be improved. In addition, the said weight average molecular weight is computed from the molecular weight of standard polystyrene conversion by gel permeation chromatography.

ラダー型シルセスキオキサン(H)は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。より具体的には、ラダー型シルセスキオキサン(H)の23℃における粘度は、100〜10万mPa・sが好ましく、より好ましくは500〜1万mPa・s、さらに好ましくは1000〜8000mPa・sである。粘度が100mPa・s以上であると、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、粘度が10万mPa・s以下であると、硬化性樹脂組成物の調製や取り扱いが容易となる傾向がある。なお、23℃における粘度は、ラダー型シルセスキオキサン(G)の粘度と同様の方法により測定される。   The ladder type silsesquioxane (H) is not particularly limited, but is preferably liquid at room temperature (about 25 ° C.). More specifically, the viscosity of the ladder-type silsesquioxane (H) at 23 ° C. is preferably 100 to 100,000 mPa · s, more preferably 500 to 10,000 mPa · s, and still more preferably 1000 to 8000 mPa · s. s. There exists a tendency for the heat resistance of hardened | cured material to improve that a viscosity is 100 mPa * s or more. On the other hand, when the viscosity is 100,000 mPa · s or less, the curable resin composition tends to be easily prepared and handled. The viscosity at 23 ° C. is measured by the same method as that for the ladder type silsesquioxane (G).

なお、本発明の硬化性樹脂組成物においてラダー型シルセスキオキサン(H)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In addition, ladder type silsesquioxane (H) can also be used individually by 1 type in the curable resin composition of this invention, and can also be used in combination of 2 or more type.

本発明の硬化性樹脂組成物がラダー型シルセスキオキサン(H)を含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物におけるラダー型シルセスキオキサン(H)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、1〜30重量%が好ましく、より好ましくは3〜20重量%、さらに好ましくは5〜15重量%である。含有量を1重量%以上とすることにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。また、硬化性樹脂組成物におけるヒドロシリル基の量が多くなり、硬化反応が十分に進行することでより硬度の高い硬化物が得られる傾向がある。一方、含有量を30重量%以下とすることにより、硬化物が硬くなりすぎず、柔軟性に優れる硬化物が得られる傾向がある。   When the curable resin composition of the present invention contains a ladder-type silsesquioxane (H), the content (blending amount) of the ladder-type silsesquioxane (H) in the curable resin composition of the present invention is particularly Although not limited, 1-30 weight% is preferable with respect to curable resin composition (100 weight%), More preferably, it is 3-20 weight%, More preferably, it is 5-15 weight%. By making the content 1% by weight or more, the barrier property against the corrosive gas of the cured product tends to be further improved. Moreover, there exists a tendency for the hardened | cured material with higher hardness to be obtained because the quantity of the hydrosilyl group in curable resin composition increases and hardening reaction fully advances. On the other hand, by setting the content to 30% by weight or less, the cured product does not become too hard, and a cured product having excellent flexibility tends to be obtained.

(その他のラダー型シルセスキオキサン)
上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとしては、上述のラダー型シルセスキオキサン(G)、ラダー型シルセスキオキサン(H)以外のラダー型シルセスキオキサン(「その他のラダー型シルセスキオキサン」と称する場合がある)を使用することもできる。特に、上記その他のラダー型シルセスキオキサンは、ラダー型シルセスキオキサン(G)やラダー型シルセスキオキサン(H)と併用することが好ましい。
(Other ladder-type silsesquioxanes)
Examples of the ladder-type polyorganosilsesquioxane include ladder-type silsesquioxanes (G) and ladder-type silsesquioxanes other than the ladder-type silsesquioxane (H) (“other ladder-type silsesquioxanes”). May also be used). In particular, the other ladder-type silsesquioxane is preferably used in combination with ladder-type silsesquioxane (G) or ladder-type silsesquioxane (H).

上記その他のラダー型シルセスキオキサンとしては、例えば、25℃において固体であり、なおかつ脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)を有するラダー型シルセスキオキサン(「ラダー型シルセスキオキサン(S1)」と称する場合がある);25℃において固体であり、なおかつヒドロシリル基を有するラダー型シルセスキオキサン(「ラダー型シルセスキオキサン(S2)」と称する場合がある)が挙げられる。本発明の硬化性樹脂組成物がラダー型シルセスキオキサン(S1)及び/又は(S2)を含む場合には、特に、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性が向上し、さらに、強靭性(特に、耐クラック性)が向上する傾向がある。   Examples of the other ladder-type silsesquioxanes include ladder-type silsesquioxanes (“ladder-type silsesquioxanes” which are solid at 25 ° C. and have an aliphatic carbon-carbon double bond (particularly an alkenyl group). Oxane (S1) ”); a ladder-type silsesquioxane that is solid at 25 ° C. and has a hydrosilyl group (sometimes referred to as“ ladder-type silsesquioxane (S2) ”). Can be mentioned. When the curable resin composition of the present invention contains ladder-type silsesquioxane (S1) and / or (S2), the barrier property against the corrosive gas of the cured product is improved, and the toughness ( In particular, the crack resistance tends to be improved.

ラダー型シルセスキオキサン(S1)における、分子内の脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)の数は、特に限定されないが、2個以上(例えば、2〜50個)が好ましく、より好ましくは2〜30個である。また、ラダー型シルセスキオキサン(S1)における脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)の位置は、特に限定されず、側鎖であってもよいし、末端であってもよい。   In the ladder-type silsesquioxane (S1), the number of aliphatic carbon-carbon double bonds (particularly alkenyl groups) in the molecule is not particularly limited, but is preferably 2 or more (for example, 2 to 50). More preferably, it is 2-30. Further, the position of the aliphatic carbon-carbon double bond (particularly, alkenyl group) in the ladder-type silsesquioxane (S1) is not particularly limited, and may be a side chain or a terminal. .

ラダー型シルセスキオキサン(S2)における、分子内のヒドロシリル基の数は、特に限定されないが、2個以上(例えば、2〜50個)が好ましく、より好ましくは2〜30個である。また、ラダー型シルセスキオキサン(S2)におけるヒドロシリル基の位置は、特に限定されず、側鎖であってもよいし、末端であってもよい。   The number of hydrosilyl groups in the molecule in the ladder-type silsesquioxane (S2) is not particularly limited, but is preferably 2 or more (for example, 2 to 50), more preferably 2 to 30. In addition, the position of the hydrosilyl group in the ladder-type silsesquioxane (S2) is not particularly limited, and may be a side chain or a terminal.

ラダー型シルセスキオキサン(S1)、(S2)のそれぞれの重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、2000〜80万が好ましく、より好ましくは6000〜10万である。重量平均分子量が2000以上であると、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。一方、分子量が80万以下であると、他の成分との相溶性が向上する傾向がある。なお、上記重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量より算出される。   Although each weight average molecular weight (Mw) of ladder type silsesquioxane (S1) and (S2) is not specifically limited, 2000-800,000 are preferable, More preferably, it is 6000-100,000. When the weight average molecular weight is 2000 or more, the barrier property against the corrosive gas of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the molecular weight is 800,000 or less, the compatibility with other components tends to be improved. In addition, the said weight average molecular weight is computed from the molecular weight of standard polystyrene conversion by gel permeation chromatography.

ラダー型シルセスキオキサン(S1)、(S2)は、公知乃至慣用のラダー型シルセスキオキサンの製造方法(例えば、3官能シラン化合物を原料としたゾルゲル法)により製造することができる。   Ladder-type silsesquioxanes (S1) and (S2) can be produced by a known or conventional method for producing ladder-type silsesquioxanes (for example, a sol-gel method using a trifunctional silane compound as a raw material).

本発明の硬化性樹脂組成物がラダー型シルセスキオキサン(S1)を含む場合、ラダー型シルセスキオキサン(S1)の含有量は、特に限定されず、例えば、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.1〜30重量%の範囲で適宜調整可能である。また、本発明の硬化性樹脂組成物がラダー型シルセスキオキサン(S2)を含む場合のラダー型シルセスキオキサン(S2)の含有量も、特に限定されず、例えば、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.1〜30重量%の範囲で適宜調整可能である。   When the curable resin composition of the present invention includes a ladder-type silsesquioxane (S1), the content of the ladder-type silsesquioxane (S1) is not particularly limited. For example, the curable resin composition (100 % By weight) can be appropriately adjusted within a range of 0.1 to 30% by weight. Further, the content of the ladder-type silsesquioxane (S2) when the curable resin composition of the present invention contains the ladder-type silsesquioxane (S2) is not particularly limited, and for example, the curable resin composition It can be suitably adjusted in the range of 0.1 to 30% by weight with respect to (100% by weight).

上記その他のラダー型シルセスキオキサンとしては、例えば、国際公開第2013/176238号に開示された、分子内に2個以上の脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)又は分子内に2個以上のヒドロシリル基を有し、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が500〜1500、分子量分散度(Mw/Mn)が1.00〜1.40であるラダー型シルセスキオキサン等も使用できる。このようなラダー型シルセスキオキサンを使用することによって、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性が著しく向上する傾向がある。上記ラダー型シルセスキオキサンの含有量は、特に限定されず、例えば、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.1〜15重量%の範囲で適宜調整可能である。   Examples of the other ladder-type silsesquioxanes include, for example, two or more aliphatic carbon-carbon double bonds (particularly, alkenyl groups) or intramolecularly disclosed in International Publication No. 2013/176238. Having a number average molecular weight (Mn) of 500 to 1500 in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography, and a molecular weight dispersity (Mw / Mn) of 1.00 to 1.40. Ladder type silsesquioxane or the like can also be used. By using such ladder-type silsesquioxane, there is a tendency that the barrier property against the corrosive gas of the cured product is remarkably improved. Content of the said ladder type silsesquioxane is not specifically limited, For example, it can adjust suitably in 0.1-15 weight% with respect to curable resin composition (100 weight%).

本発明の硬化性樹脂組成物においてラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンは、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。特に、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性の観点で、ラダー型シルセスキオキサン(G)及びラダー型シルセスキオキサン(H)を併用することが好ましい   In the curable resin composition of the present invention, the ladder-type polyorganosilsesquioxane can be used alone or in combination of two or more. In particular, it is preferable to use a ladder type silsesquioxane (G) and a ladder type silsesquioxane (H) in combination from the viewpoint of the barrier property against the corrosive gas of the cured product.

本発明の硬化性樹脂組成物がラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンを含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物におけるラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンの含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、1〜50重量%が好ましく、より好ましくは5〜40重量%、さらに好ましくは10〜30重量%である。ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を1重量%以上とすることにより、硬化物の腐食性ガスに対するバリア性がより向上する傾向がある。一方、ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を50重量%以下とすることにより、硬化物の靱性等の機械強度がより向上する傾向がある。   When the curable resin composition of the present invention contains a ladder-type polyorganosilsesquioxane, the content (blending amount) of the ladder-type polyorganosilsesquioxane in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited. However, it is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 40% by weight, and still more preferably 10 to 30% by weight with respect to the curable resin composition (100% by weight). By setting the content of the ladder-type polyorganosilsesquioxane to 1% by weight or more, the barrier property against the corrosive gas of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the content of the ladder-type polyorganosilsesquioxane is 50% by weight or less, the mechanical strength such as toughness of the cured product tends to be further improved.

本発明の硬化性樹脂組成物は、特に硬化物の腐食性ガスに対するバリア性を著しく高くする観点で、上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン及びイソシアヌレート化合物(D)からなる群より選択される少なくとも1種(上記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン及び/又はイソシアヌレート化合物(D))を含むことが好ましい。   The curable resin composition of the present invention is selected from the group consisting of the ladder-type polyorganosilsesquioxane and the isocyanurate compound (D), particularly from the viewpoint of significantly increasing the barrier property against the corrosive gas of the cured product. It is preferable to include at least one (the ladder-type polyorganosilsesquioxane and / or isocyanurate compound (D)).

[ヒドロシリル化触媒]
本発明の硬化性樹脂組成物は、ヒドロシリル化触媒を含んでいてもよい。本発明の硬化性樹脂組成物がヒドロシリル化触媒を含むことにより、加熱することで、硬化性樹脂組成物中の脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)とヒドロシリル基の間のヒドロシリル化反応をより効率的に進行させることができる傾向がある。
[Hydrosilylation catalyst]
The curable resin composition of the present invention may contain a hydrosilylation catalyst. When the curable resin composition of the present invention contains a hydrosilylation catalyst, the hydrosilyl group between the aliphatic carbon-carbon double bond (particularly, alkenyl group) and the hydrosilyl group in the curable resin composition is heated by heating. There is a tendency that the chemical reaction can proceed more efficiently.

上記ヒドロシリル化触媒としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒等の周知のヒドロシリル化反応用触媒が例示され、具体的には、白金微粉末、白金黒、白金担持シリカ微粉末、白金担持活性炭、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金のオレフィン錯体、白金−カルボニルビニルメチル錯体等の白金のカルボニル錯体、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体や白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体等の白金ビニルメチルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体等の白金系触媒、並びに上記白金系触媒において白金原子の代わりにパラジウム原子又はロジウム原子を含有するパラジウム系触媒又はロジウム系触媒が挙げられる。中でも、ヒドロシリル化触媒としては、白金−ビニルメチルシロキサン錯体や白金−カルボニルビニルメチル錯体や塩化白金酸とアルコール、アルデヒドとの錯体が、反応速度が良好であるため好ましい。   Examples of the hydrosilylation catalyst include known hydrosilylation reaction catalysts such as platinum-based catalysts, rhodium-based catalysts, and palladium-based catalysts. Specifically, platinum fine powder, platinum black, platinum-supported silica fine powder, platinum Supported activated carbon, chloroplatinic acid, complexes of chloroplatinic acid with alcohols, aldehydes, ketones, platinum olefin complexes, platinum carbonyl complexes such as platinum-carbonylvinylmethyl complexes, platinum-divinyltetramethyldisiloxane complexes and platinum- Platinum-based catalysts such as platinum-vinylmethylsiloxane complexes such as cyclovinylmethylsiloxane complexes, platinum-phosphine complexes, platinum-phosphite complexes, etc., and palladium-based catalysts containing palladium atoms or rhodium atoms instead of platinum atoms in the platinum-based catalysts A catalyst or a rhodium-type catalyst is mentioned. Among them, as the hydrosilylation catalyst, a platinum-vinylmethylsiloxane complex, a platinum-carbonylvinylmethyl complex, or a complex of chloroplatinic acid, an alcohol, and an aldehyde is preferable because the reaction rate is good.

なお、本発明の硬化性樹脂組成物においてヒドロシリル化触媒は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In the curable resin composition of the present invention, the hydrosilylation catalyst can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物がヒドロシリル化触媒を含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物におけるヒドロシリル化触媒の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれる脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)の全量1モルに対して、1×10-8〜1×10-2モルが好ましく、より好ましくは1.0×10-6〜1.0×10-3モルである。含有量を1×10-8モル以上とすることにより、より効率的に硬化物を形成させることができる傾向がある。一方、含有量を1×10-2モル以下とすることにより、より色相に優れた(着色の少ない)硬化物を得ることができる傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention includes a hydrosilylation catalyst, the content (blending amount) of the hydrosilylation catalyst in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is included in the curable resin composition. 1 × 10 −8 to 1 × 10 −2 mol is preferable with respect to 1 mol of the total amount of aliphatic carbon-carbon double bonds (particularly alkenyl groups), and more preferably 1.0 × 10 −6 to 1. 0 × 10 −3 mol. By setting the content to 1 × 10 −8 mol or more, there is a tendency that a cured product can be formed more efficiently. On the other hand, when the content is 1 × 10 −2 mol or less, there is a tendency that a cured product having a more excellent hue (less coloring) can be obtained.

また、本発明の硬化性樹脂組成物におけるヒドロシリル化触媒の含有量(配合量)は、特に限定されないが、例えば、ヒドロシリル化触媒中の白金、パラジウム、又はロジウムが重量単位で、0.01〜1000ppmの範囲内となる量が好ましく、0.1〜500ppmの範囲内となる量がさらに好ましい。ヒドロシリル化触媒の含有量がこのような範囲にあると、より効率的に硬化物を形成させることができ、また、より色相に優れた硬化物を得ることができる傾向がある。   Further, the content (blending amount) of the hydrosilylation catalyst in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, platinum, palladium, or rhodium in the hydrosilylation catalyst is 0.01 to An amount that falls within the range of 1000 ppm is preferred, and an amount that falls within the range of 0.1 to 500 ppm is more preferred. When the content of the hydrosilylation catalyst is in such a range, a cured product can be formed more efficiently, and a cured product having a more excellent hue tends to be obtained.

さらに、本発明の硬化性樹脂組成物は、上述の成分以外の成分(「その他の成分」と称する場合がある)を含んでいてもよい。その他の成分としては、特に限定されないが、例えば、ポリシロキサン(A)及び(B)以外のシロキサン化合物(例えば、環状シロキサン化合物、低分子量直鎖又は分岐鎖状シロキサン化合物等)、ヒドロシリル化反応抑制剤、溶媒、各種添加剤等が挙げられる。添加剤としては、例えば、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;上述以外のシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、溶剤、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤等)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤等)、難燃助剤、補強材(他の充填剤等)、核剤、カップリング剤、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃性改良剤、色相改良剤、流動性改良剤、着色剤(染料、顔料等)、分散剤、消泡剤、脱泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、蛍光体等が挙げられる。これらのその他の成分は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。なお、その他の成分の含有量(配合量)は、本発明の効果を損なわない範囲で適宜選択することが可能である。   Furthermore, the curable resin composition of the present invention may contain components other than the above-mentioned components (sometimes referred to as “other components”). Other components are not particularly limited. For example, siloxane compounds other than polysiloxanes (A) and (B) (for example, cyclic siloxane compounds, low molecular weight linear or branched siloxane compounds, etc.), hydrosilylation reaction inhibition Agents, solvents, various additives and the like. Examples of the additive include precipitated silica, wet silica, fumed silica, calcined silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, calcium carbonate, carbon black, silicon carbide, silicon nitride, Inorganic fillers such as boron nitride, inorganic fillers obtained by treating these fillers with organosilicon compounds such as organohalosilanes, organoalkoxysilanes, organosilazanes; organic resins such as silicone resins, epoxy resins, and fluororesins other than those described above Fine powder: Filler such as conductive metal powder such as silver and copper, solvent, stabilizer (antioxidant, ultraviolet absorber, light stabilizer, heat stabilizer, etc.), flame retardant (phosphorous flame retardant, Halogen flame retardants, inorganic flame retardants, etc.), flame retardant aids, reinforcing materials (other fillers, etc.), nucleating agents, coupling agents, lubricants, waxes, Plasticizer, mold release agent, impact resistance improver, hue improver, fluidity improver, colorant (dye, pigment, etc.), dispersant, antifoaming agent, defoaming agent, antibacterial agent, preservative, viscosity adjustment Agents, thickeners, phosphors and the like. These other components can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. In addition, it is possible to select suitably content (blending amount) of another component in the range which does not impair the effect of this invention.

本発明の硬化性樹脂組成物における、(A)〜(H)成分以外の、硫黄原子を含有する複素環を有する化合物の含有量は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、1重量%以下(例えば、0〜1重量%)が好ましく、より好ましくは0.5重量%以下(例えば、0〜0.5重量%)、さらに好ましくは0.1重量%以下(例えば、0〜0.1重量%)、特に好ましくは0.05重量%以下(例えば、0〜0.05重量%)である。上記含有量を1重量%以下とすることにより、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化阻害が起こりにくくなる傾向がある。   In the curable resin composition of the present invention, the content of the compound having a heterocyclic ring containing a sulfur atom other than the components (A) to (H) is not particularly limited, but the curable resin composition (100% by weight) ) Is preferably 1% by weight or less (for example, 0 to 1% by weight), more preferably 0.5% by weight or less (for example, 0 to 0.5% by weight), and still more preferably 0.1% by weight. Or less (for example, 0 to 0.1% by weight), particularly preferably 0.05% by weight or less (for example, 0 to 0.05% by weight). When the content is 1% by weight or less, there is a tendency that curing inhibition is difficult to occur when the curable resin composition is cured.

本発明の硬化性樹脂組成物における、(A)〜(H)成分以外の、水素原子が直接結合した窒素原子を含有する複素環を有する化合物の含有量は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、1重量%以下(例えば、0〜1重量%)が好ましく、より好ましくは0.5重量%以下(例えば、0〜0.5重量%)、さらに好ましくは0.1重量%以下(例えば、0〜0.1重量%)、特に好ましくは0.05重量%以下(例えば、0〜0.05重量%)である。上記含有量を1重量%以下とすることにより、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化阻害が起こりにくくなる傾向がある。   In the curable resin composition of the present invention, the content of the compound having a heterocyclic ring containing a nitrogen atom to which a hydrogen atom is directly bonded, other than the components (A) to (H), is not particularly limited. 1% by weight or less (for example, 0 to 1% by weight) is preferable with respect to the composition (100% by weight), more preferably 0.5% by weight or less (for example, 0 to 0.5% by weight), and still more preferably. Is 0.1 wt% or less (for example, 0 to 0.1 wt%), particularly preferably 0.05 wt% or less (for example, 0 to 0.05 wt%). When the content is 1% by weight or less, there is a tendency that curing inhibition is difficult to occur when the curable resin composition is cured.

本発明の硬化性樹脂組成物は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物中に存在するヒドロシリル基1モルに対して、脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)が0.2〜4モルとなるような組成(配合組成)であることが好ましく、より好ましくは0.5〜3.0モル、さらに好ましくは0.8〜2.0モルである。ヒドロシリル基と脂肪族炭素−炭素二重結合(特に、アルケニル基)との割合を上記範囲に制御することにより、硬化物の耐熱性、透明性、耐熱衝撃性及び耐リフロー性、並びに腐食性ガス(例えば、SOxガス等)に対するバリア性がより向上する傾向がある。   The curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but an aliphatic carbon-carbon double bond (particularly an alkenyl group) is 0.2 with respect to 1 mol of a hydrosilyl group present in the curable resin composition. It is preferable that it is a composition (formulation composition) which will be -4 mol, More preferably, it is 0.5-3.0 mol, More preferably, it is 0.8-2.0 mol. By controlling the ratio of hydrosilyl group and aliphatic carbon-carbon double bond (especially alkenyl group) within the above range, the heat resistance, transparency, thermal shock resistance, reflow resistance and corrosive gas of the cured product There is a tendency that the barrier property against (for example, SOx gas) is further improved.

本発明の硬化性樹脂組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で撹拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性樹脂組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。   Although the curable resin composition of this invention is not specifically limited, It can prepare by stirring and mixing said each component at room temperature. In addition, the curable resin composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance, for example, two or more stored separately. It can also be used as a multi-component (for example, two-component) composition in which the components are mixed at a predetermined ratio before use.

本発明の硬化性樹脂組成物は、固体、液体のいずれの状態を有するものであってもよく、特に限定されないが、通常、常温(約25℃)で液体である。   The curable resin composition of the present invention may have either a solid state or a liquid state, and is not particularly limited, but is usually liquid at room temperature (about 25 ° C.).

本発明の硬化性樹脂組成物の23℃における粘度は、特に限定されないが、300〜2万mPa・sが好ましく、より好ましくは500〜1万mPa・s、さらに好ましくは1000〜8000mPa・sである。上記粘度を300mPa・s以上とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、上記粘度を2万mPa・s以下とすることにより、硬化性樹脂組成物の調製がしやすく、その生産性や取り扱い性がより向上し、また、硬化物に気泡が残存しにくくなるため、硬化物(特に、封止材)の生産性や品質がより向上する傾向がある。なお、硬化性樹脂組成物の粘度は、上述のラダー型シルセスキオキサン(G)の粘度と同じ方法によって測定される。   The viscosity at 23 ° C. of the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 300 to 20,000 mPa · s, more preferably 500 to 10,000 mPa · s, and still more preferably 1000 to 8000 mPa · s. is there. There exists a tendency for the heat resistance of hardened | cured material to improve more by making the said viscosity into 300 mPa * s or more. On the other hand, by setting the viscosity to 20,000 mPa · s or less, it is easy to prepare a curable resin composition, the productivity and handleability are further improved, and bubbles are less likely to remain in the cured product. The productivity and quality of the cured product (especially the sealing material) tend to be further improved. In addition, the viscosity of curable resin composition is measured by the same method as the viscosity of the above-mentioned ladder type silsesquioxane (G).

<硬化物>
本発明の硬化性樹脂組成物を硬化(特に、ヒドロシリル化反応により硬化)させることによって、硬化物(「本発明の硬化物」と称する場合がある)が得られる。硬化(特に、ヒドロシリル化反応による硬化)の際の条件は、特に限定されず、従来公知の条件より適宜選択することができるが、例えば、反応速度の点から、温度(硬化温度)は25〜180℃(より好ましくは60〜150℃)が好ましく、時間(硬化時間)は5〜720分が好ましい。なお、硬化は一段階で実施することもできるし、多段階で実施することもできる。本発明の硬化物は、ポリシロキサン系材料特有の高い耐熱性及び透明性を有するのみならず、特に、腐食性ガス(例えば、SOxガス等)に対するバリア性に優れる。
<Hardened product>
By curing the curable resin composition of the present invention (particularly, curing by hydrosilylation reaction), a cured product (sometimes referred to as “cured product of the present invention”) is obtained. Conditions for curing (particularly, curing by hydrosilylation reaction) are not particularly limited and can be appropriately selected from conventionally known conditions. For example, from the viewpoint of reaction rate, the temperature (curing temperature) is 25 to 25. 180 ° C. (more preferably 60 to 150 ° C.) is preferable, and the time (curing time) is preferably 5 to 720 minutes. Curing can be performed in one stage or in multiple stages. The cured product of the present invention not only has high heat resistance and transparency unique to polysiloxane materials, but is particularly excellent in barrier properties against corrosive gases (for example, SOx gas).

<封止剤>
本発明の硬化性樹脂組成物は、半導体装置における半導体素子の封止用の組成物(封止剤)(「本発明の封止剤」と称する場合がある)として好ましく使用することができる。具体的には、本発明の封止剤は、光半導体装置における光半導体素子(LED素子)の封止用途に(即ち、光半導体用封止剤として)特に好ましく使用できる。本発明の封止剤を硬化させることにより得られる封止材(硬化物)は、ポリシロキサン系材料特有の高い耐熱性及び透明性を有するのみならず、特に、腐食性ガス(例えば、SOxガス等)に対するバリア性に優れる。このため、本発明の封止剤は、特に、高輝度、短波長の光半導体素子の封止剤等として好ましく使用できる。
<Sealant>
The curable resin composition of the present invention can be preferably used as a composition (sealing agent) for sealing a semiconductor element in a semiconductor device (sometimes referred to as “sealing agent of the present invention”). Specifically, the sealing agent of the present invention can be particularly preferably used for sealing an optical semiconductor element (LED element) in an optical semiconductor device (that is, as an optical semiconductor sealing agent). The encapsulant (cured product) obtained by curing the encapsulant of the present invention has not only high heat resistance and transparency peculiar to polysiloxane materials, but particularly corrosive gas (for example, SOx gas). Etc.). For this reason, the sealing agent of this invention can be preferably used especially as a sealing agent etc. of a high-intensity, short wavelength optical semiconductor element.

<半導体装置>
本発明の封止剤を使用して半導体素子を封止することにより、半導体装置(「本発明の半導体装置」と称する場合がある)が得られる。即ち、本発明の半導体装置は、半導体素子とこれを封止する封止材とを少なくとも有する半導体装置であって、上記封止材が本発明の封止剤の硬化物である半導体装置である。本発明の半導体装置の製造は、公知乃至慣用の方法により実施でき、特に限定されないが、例えば、本発明の封止剤を所定の成形型内に注入し、所定の条件で加熱硬化して実施できる。硬化温度と硬化時間は、特に限定されないが、硬化物の調製時と同様の範囲で設定することができる。本発明の封止剤は、上記半導体装置が光半導体装置である場合、即ち、光半導体装置における光半導体素子の封止剤(光半導体用封止剤)として使用する場合には、特に上述の有利な効果を効果的に発揮できる。本発明の封止剤を光半導体用封止剤として使用することにより、光半導体装置(「本発明の光半導体装置」と称する場合がある)が得られる。本発明の光半導体装置の一例を図1に示す。図1において、100はリフレクター(光反射用樹脂組成物)、101は金属配線(電極)、102は光半導体素子、103はボンディングワイヤ、104は硬化物(封止材)を示す。
<Semiconductor device>
By sealing the semiconductor element using the sealing agent of the present invention, a semiconductor device (sometimes referred to as “the semiconductor device of the present invention”) is obtained. That is, the semiconductor device of the present invention is a semiconductor device having at least a semiconductor element and a sealing material for sealing the semiconductor element, and the sealing material is a cured product of the sealing agent of the present invention. . The production of the semiconductor device of the present invention can be carried out by a known or commonly used method, and is not particularly limited. it can. The curing temperature and the curing time are not particularly limited, but can be set in the same range as in the preparation of the cured product. The encapsulant of the present invention is particularly suitable for the case where the semiconductor device is an optical semiconductor device, that is, when used as an encapsulant for an optical semiconductor element (an encapsulant for optical semiconductors) in an optical semiconductor device. An advantageous effect can be exhibited effectively. By using the sealing agent of the present invention as an optical semiconductor sealing agent, an optical semiconductor device (sometimes referred to as “optical semiconductor device of the present invention”) is obtained. An example of the optical semiconductor device of the present invention is shown in FIG. In FIG. 1, 100 is a reflector (light reflecting resin composition), 101 is a metal wiring (electrode), 102 is an optical semiconductor element, 103 is a bonding wire, and 104 is a cured product (sealing material).

特に、本発明の硬化性樹脂組成物は、従来の樹脂材料では対応することが困難であった、高輝度・短波長の光半導体装置において光半導体素子を被覆する封止材を形成するための封止剤、高耐熱・高耐電圧の半導体装置(パワー半導体等)において半導体素子を被覆する封止材を形成するための封止剤等の用途に好ましく使用できる。   In particular, the curable resin composition of the present invention is for forming a sealing material that covers an optical semiconductor element in an optical semiconductor device having a high luminance and a short wavelength, which has been difficult to cope with with a conventional resin material. It can be preferably used for applications such as an encapsulant and an encapsulant for forming an encapsulant covering a semiconductor element in a semiconductor device (such as a power semiconductor) having high heat resistance and high withstand voltage.

本発明の硬化性樹脂組成物は、上述の封止剤用途(特に、光半導体素子の封止剤用途)に限定されず、例えば、機能性コーティング剤、耐熱プラスチックレンズ、透明機器、接着剤(耐熱透明接着剤等)、電気絶縁材(絶縁膜等)、積層板、コーティング、インク、塗料、シーラント、レジスト、複合材料、透明基材、透明シート、透明フィルム、光学素子、光学レンズ、光学部材、光造形、電子ペーパー、タッチパネル、太陽電池基板、光導波路、導光板、ホログラフィックメモリ等の光学関連や半導体関連の用途にも好ましく使用できる。   The curable resin composition of the present invention is not limited to the above-described encapsulant application (particularly, an encapsulant application for an optical semiconductor element). For example, a functional coating agent, a heat-resistant plastic lens, a transparent device, an adhesive ( Heat-resistant transparent adhesives, etc.), electrical insulating materials (insulating films, etc.), laminates, coatings, inks, paints, sealants, resists, composite materials, transparent substrates, transparent sheets, transparent films, optical elements, optical lenses, optical members , Optical modeling, electronic paper, touch panel, solar cell substrate, optical waveguide, light guide plate, holographic memory, and other optical and semiconductor applications.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

生成物及び製品の1H−NMR分析は、JEOL ECA500(500MHz)により行った。また、生成物並びに製品の数平均分子量及び重量平均分子量の測定は、Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)、Refractive Index Detector 2414(Waters製)、カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)、ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)、カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)、溶媒:THF、測定条件:40℃、により行った。 1 H-NMR analysis of the product and product was performed by JEOL ECA500 (500 MHz). In addition, the number average molecular weight and the weight average molecular weight of the product and the product are measured by Alliance HPLC system 2695 (manufactured by Waters), Refractive Index Detector 2414 (manufactured by Waters), column: Tskel GMH HR- M × 2 (Tosoh Corp.) Manufactured), guard column: Tskel guard column H HR L (manufactured by Tosoh Corp.), column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai), solvent: THF, measurement conditions: 40 ° C.

製造例1
[末端にビニル基とトリメチルシリル基(TMS基)とを有するラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンの合成]
200ml四つ口フラスコに、メチルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製)40.10g、フェニルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製)3.38g、及びメチルイソブチルケトン(MIBK)17.69gを仕込み、これらの混合物を10℃まで冷却した。上記混合物に水240ミリモル(4.33g)及び5Nの塩酸0.48g(塩化水素として2.4ミリモル)を1時間かけて同時に滴下した。滴下後、これらの混合物を10℃で1時間保持した。その後、MIBKを80.0g添加して、反応溶液を希釈した。
次に、反応容器の温度を70℃まで昇温し、70℃になった時点で水606ミリモル(10.91g)を添加し、同温度で重縮合反応を窒素下で9時間行った。さらに、ビニルトリエトキシシラン6.25gを添加し、同温度で3時間反応(熟成)を行った。
続いて、得られた反応溶液にヘキサメチルジシロキサン15.0gを添加して、シリル化反応を70℃で3時間行った。その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、その後、上層液を分取した。次に、当該上層液から、1mmHg、60℃の条件で溶媒を留去し、末端にビニル基とTMS基とを有するラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンを無色透明の液状の生成物として19.0g得た。なお、製造例1で得られたラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンは、上述のラダー型シルセスキオキサン(G)にあたる。
上記末端にビニル基とTMS基とを有するラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンの重量平均分子量(Mw)は3000、1分子当たりのビニル基の含有量(平均含有量)は4.00重量%であり、フェニル基/メチル基/ビニル基(モル比)は5/80/15であった。
(末端にビニル基とTMS基とを有するラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンの1H−NMRスペクトル)
1H−NMR(JEOL ECA500(500MHz、CDCl3)):δ−0.3−0.3ppm(br)、5.7−6.2ppm(br)、7.1−7.7ppm(br)
Production Example 1
[Synthesis of Ladder Type Polyorganosilsesquioxane Having Vinyl Group and Trimethylsilyl Group (TMS Group) at Terminal]
In a 200 ml four-necked flask, 40.10 g of methyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3.38 g of phenyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 17.17 g of methyl isobutyl ketone (MIBK). 69 g was charged and the mixture was cooled to 10 ° C. To the above mixture, 240 mmol (4.33 g) of water and 0.48 g of 5N hydrochloric acid (2.4 mmol as hydrogen chloride) were simultaneously added dropwise over 1 hour. After the addition, these mixtures were kept at 10 ° C. for 1 hour. Thereafter, 80.0 g of MIBK was added to dilute the reaction solution.
Next, the temperature of the reaction vessel was raised to 70 ° C., and when the temperature reached 70 ° C., 606 mmol (10.91 g) of water was added, and polycondensation reaction was performed at the same temperature under nitrogen for 9 hours. Furthermore, 6.25 g of vinyltriethoxysilane was added, and a reaction (aging) was performed at the same temperature for 3 hours.
Subsequently, 15.0 g of hexamethyldisiloxane was added to the obtained reaction solution, and a silylation reaction was performed at 70 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled, washed with water until the lower layer solution became neutral, and then the upper layer solution was collected. Next, the solvent is distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 60 ° C., and a ladder-type polyorganosilsesquioxane having a vinyl group and a TMS group at the end is used as a colorless and transparent liquid product. 0 g was obtained. The ladder type polyorganosilsesquioxane obtained in Production Example 1 corresponds to the ladder type silsesquioxane (G) described above.
The ladder type polyorganosilsesquioxane having a vinyl group and a TMS group at the terminal has a weight average molecular weight (Mw) of 3000, and a vinyl group content (average content) per molecule of 4.00% by weight. Yes, and the phenyl group / methyl group / vinyl group (molar ratio) was 5/80/15.
(1 H-NMR spectrum of ladder-type polyorganosilsesquioxane having a vinyl group and a TMS group at the terminal)
1 H-NMR (JEOL ECA500 (500 MHz, CDCl 3 )): δ-0.3-0.3 ppm (br), 5.7-6.2 ppm (br), 7.1-7.7 ppm (br)

ポリオルガノシロキサン(A1)、ポリオルガノシロキサン(B1)としては、次の製品を使用した。
KER−2500A:信越化学工業(株)製、製品の総量(100重量%)に対するビニル基含有量1.53重量%、メチル基含有量94.29重量%、フェニル基含有量0重量%、ヒドロシリル基含有量(ヒドリド換算)0.03重量%、数平均分子量4453、重量平均分子量19355、ヒドロシリル化触媒を含む。
KER−2500B:信越化学工業(株)製、製品の総量(100重量%)に対するビニル基含有量1.08重量%、メチル基含有量95.63重量%、フェニル基含有量0重量%、ヒドロシリル基含有量(ヒドリド換算)0.13重量%、数平均分子量4636、重量平均分子量18814
ETERLED GD1012A:長興材料工業製、製品の総量(100重量%)に対するビニル基含有量1.33重量%、メチル基含有量96.34重量%、フェニル基含有量0重量%、ヒドロシリル基含有量(ヒドリド換算)0重量%、数平均分子量5108、重量平均分子量23385、ヒドロシリル化触媒を含む。
ETERLED GD1012B:長興材料工業製、製品の総量(100重量%)に対するビニル基含有量1.65重量%、メチル基含有量91.16重量%、フェニル基含有量0重量%、ヒドロシリル基含有量(ヒドリド換算)0.19重量%、数平均分子量4563、重量平均分子量21873
The following products were used as polyorganosiloxane (A1) and polyorganosiloxane (B1).
KER-2500A: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., vinyl group content 1.53% by weight, methyl group content 94.29% by weight, phenyl group content 0% by weight, hydrosilyl based on the total amount (100% by weight) of the product Group content (in terms of hydride) 0.03% by weight, number average molecular weight 4453, weight average molecular weight 19355, and hydrosilylation catalyst.
KER-2500B: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., vinyl group content 1.08% by weight, methyl group content 95.63% by weight, phenyl group content 0% by weight, hydrosilyl with respect to the total amount (100% by weight) of the product Group content (in terms of hydride) 0.13% by weight, number average molecular weight 4636, weight average molecular weight 18814
ETERLED GD1012A: manufactured by Changxing Materials Industrial Co., Ltd., vinyl group content 1.33% by weight, methyl group content 96.34% by weight, phenyl group content 0% by weight, hydrosilyl group content (100% by weight) (Hydride conversion) 0% by weight, number average molecular weight 5108, weight average molecular weight 23385, and hydrosilylation catalyst.
ETERLED GD1012B: manufactured by Changxing Materials Co., Ltd., vinyl group content 1.65% by weight, methyl group content 91.16% by weight, phenyl group content 0% by weight, hydrosilyl group content (based on the total amount (100% by weight) of the product ( Hydride conversion) 0.19% by weight, number average molecular weight 4563, weight average molecular weight 21873

複素環式化合物(C)としては、次の化合物を使用した。
MOI−BP:昭和電工(株)製、商品名「カレンズMOI−BP」、[ピラゾール誘導体]
Pentoxifilline:ペントキシフィリン[プリン誘導体](下記式で表される化合物)

Figure 2016124958
1,3−Dimethylburbituric Acid:1,3−ジメチルバルビツール酸[ピリミジン誘導体](下記式で表される化合物)
Figure 2016124958
TINUVIN 384−2:BASFジャパン(株)製、商品名「TINUVIN 384−2」[ベンゾトリアゾール誘導体]
TINUVIN 400:BASFジャパン(株)製、商品名「TINUVIN 400」[トリアジン誘導体]
TINUVIN 123:BASFジャパン(株)製、商品名「TINUVIN 123」[ピペリジン誘導体]
TINUVIN 292:BASFジャパン(株)製、商品名「TINUVIN 292」[ピペリジン誘導体] The following compounds were used as the heterocyclic compound (C).
MOI-BP: manufactured by Showa Denko KK, trade name “Karenz MOI-BP”, [pyrazole derivative]
Pentoxylline: Pentoxifylline [purine derivative] (compound represented by the following formula)
Figure 2016124958
1,3-Dimethylburbituric Acid: 1,3-dimethylbarbituric acid [pyrimidine derivative] (compound represented by the following formula)
Figure 2016124958
TINUVIN 384-2: BASF Japan K.K., trade name “TINUVIN 384-2” [benzotriazole derivative]
TINUVIN 400: manufactured by BASF Japan, trade name “TINUVIN 400” [triazine derivative]
TINUVIN 123: manufactured by BASF Japan Ltd., trade name “TINUVIN 123” [piperidine derivative]
TINUVIN 292: manufactured by BASF Japan Ltd., trade name “TINUVIN 292” [piperidine derivative]

イソシアヌレート化合物(D)としては、次の化合物を使用した。
MA−DGIC:四国化成工業(株)製、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート(下記式で表される化合物)

Figure 2016124958
As the isocyanurate compound (D), the following compound was used.
MA-DGIC: manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., monoallyl diglycidyl isocyanurate (compound represented by the following formula)
Figure 2016124958

イソシアヌレート化合物(E)としては、次の化合物を使用した。
TEPIC−VL:日産化学工業(株)製(下記式で表される化合物)

Figure 2016124958
As the isocyanurate compound (E), the following compound was used.
TEPIC-VL: Nissan Chemical Industries, Ltd. (compound represented by the following formula)
Figure 2016124958

シランカップリング剤としては、商品名「Z−6040」(東レ・ダウコーニング(株)製)を使用した。   As a silane coupling agent, the brand name "Z-6040" (made by Toray Dow Corning Co., Ltd.) was used.

実施例1
[硬化性樹脂組成物の製造]
まず、表1に示すように、ETERLED GD1012A(50重量部)、及びMOI−BP(0.1重量部)を混合し、80℃で1時間撹拌して、A剤を調製した。
次に、上記で得たA剤(50.1重量部)に対して、B剤としてのETERLED GD1012B(50重量部)を混合し、室温で10分間撹拌したところ、均一な液体である硬化性樹脂組成物が得られた。
Example 1
[Production of curable resin composition]
First, as shown in Table 1, ETERLED GD1012A (50 parts by weight) and MOI-BP (0.1 parts by weight) were mixed and stirred at 80 ° C. for 1 hour to prepare agent A.
Next, E agent LED GD1012B (50 parts by weight) as agent B was mixed with agent A (50.1 parts by weight) obtained above and stirred at room temperature for 10 minutes. A resin composition was obtained.

[光半導体装置の製造]
図1に示す態様のLEDパッケージ(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に、上記で得られた硬化性樹脂組成物を注入し、100℃で1時間、続いて150℃で5時間加熱することで、上記硬化性樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を製造した。
[Manufacture of optical semiconductor devices]
The curable resin composition obtained above is injected into the LED package (InGaN element, 3.5 mm × 2.8 mm) of the embodiment shown in FIG. 1 and heated at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 5 hours. Thus, an optical semiconductor device in which the optical semiconductor element was sealed with the cured product of the curable resin composition was manufactured.

実施例2〜30、比較例1〜4
硬化性樹脂組成物の配合組成を表1〜3に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物及び光半導体装置を製造した。
Examples 2-30, Comparative Examples 1-4
A curable resin composition and an optical semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the curable resin composition was changed as shown in Tables 1 to 3.

(評価)
上記で得られた光半導体装置について、下記の評価を行った。評価結果を表1〜3に示す。なお、比較例2及び3については、硬化物が得られなかったため、光半導体装置を用いた下記の評価は実施しなかった。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the optical semiconductor device obtained above. The evaluation results are shown in Tables 1-3. In Comparative Examples 2 and 3, since no cured product was obtained, the following evaluation using an optical semiconductor device was not performed.

[硫黄腐食試験]
上記で製造した各光半導体装置を試料として用いた。
まず、上記試料について、全光束測定機(オプトロニックラボラトリーズ社製、マルチ分光放射測定システム「OL771」)を用いて、20mAの電流を流した際の全光束(単位:lm)を測定し、これを「試験前の全光束」とした。
次に、上記試料と硫黄粉末(キシダ化学(株)製)0.3gとを450mlのガラス瓶に入れ、さらに上記ガラス瓶をアルミ製の箱の中に入れた。続いて、上記アルミ製の箱を80℃のオーブン(ヤマト科学(株)製、型番「DN−64」)に入れ、8時間後に取り出した。このようにして得られた試料について、上記と同様に全光束(単位:lm)を測定し、これを「試験後の全光束」とした。
上記で測定した全光束の値から、次式に従って光度維持率を算出した。
光度維持率(%)=(試験後の全光束/試験前の全光束)×100
光度維持率が高いほど、硬化物(封止材)が腐食性ガスに対するバリア性に優れることを示す。
なお、硬化性樹脂組成物ごとに(各実施例・比較例ごとに)10個の光半導体装置について光度維持率を測定・算出し、表1〜3にはこれらの光度維持率の平均値(N=10)を示した。
[Sulfur corrosion test]
Each optical semiconductor device manufactured above was used as a sample.
First, with respect to the above sample, the total luminous flux (unit: lm) when a current of 20 mA was passed was measured using a total luminous flux measuring machine (manufactured by Optronic Laboratories, Inc., multispectral radiation measurement system “OL771”). Was defined as “total luminous flux before test”.
Next, the sample and 0.3 g of sulfur powder (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) were placed in a 450 ml glass bottle, and the glass bottle was further placed in an aluminum box. Subsequently, the aluminum box was placed in an oven at 80 ° C. (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., model number “DN-64”) and taken out after 8 hours. With respect to the sample thus obtained, the total luminous flux (unit: lm) was measured in the same manner as described above, and this was designated as “total luminous flux after test”.
From the value of the total luminous flux measured above, the luminous intensity maintenance factor was calculated according to the following formula.
Luminance maintenance rate (%) = (total luminous flux after test / total luminous flux before test) × 100
It shows that hardened | cured material (sealing material) is excellent in the barrier property with respect to corrosive gas, so that a luminous intensity maintenance factor is high.
In addition, for each curable resin composition (for each example / comparative example), the luminous intensity maintenance rate was measured and calculated for 10 optical semiconductor devices, and Tables 1 to 3 show the average values of these luminous intensity maintenance rates ( N = 10).

Figure 2016124958
Figure 2016124958

Figure 2016124958
Figure 2016124958

Figure 2016124958
Figure 2016124958

100:リフレクター(光反射用樹脂組成物)
101:金属配線(電極)
102:光半導体素子
103:ボンディングワイヤ
104:硬化物(封止材)
100: Reflector (resin composition for light reflection)
101: Metal wiring (electrode)
102: Optical semiconductor element 103: Bonding wire 104: Cured material (sealing material)

Claims (14)

分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキサン(A1)及び分子内に2個以上のアルケニル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(A2)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリシロキサン(A)と、分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサン(B1)及び分子内に2個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキシシルアルキレン(B2)からなる群より選択される少なくとも1種であるポリシロキサン(B)と、複素環式化合物(C)とを含み、前記複素環式化合物(C)が、少なくとも1個の窒素原子を有し、硫黄原子を有さず、且つ水素原子と直接結合した窒素原子を有しない複素環を有する複素環式化合物(C)(但し、イソシアヌレート化合物を除く)であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。   A poly at least one selected from the group consisting of a polyorganosiloxane (A1) having two or more alkenyl groups in the molecule and a polyorganosiloxysilalkylene (A2) having two or more alkenyl groups in the molecule Selected from the group consisting of siloxane (A), polyorganosiloxane (B1) having two or more hydrosilyl groups in the molecule, and polyorganosiloxysilalkylene (B2) having two or more hydrosilyl groups in the molecule Comprising at least one polysiloxane (B) and a heterocyclic compound (C), wherein the heterocyclic compound (C) has at least one nitrogen atom and no sulfur atom; And a heterocyclic compound (C) having a heterocyclic ring which does not have a nitrogen atom directly bonded to a hydrogen atom (excluding an isocyanurate compound) Curable resin composition characterized in that it. 前記複素環式化合物(C)として、ピリジン、オキサゾール、ピラジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、ベンゾ[c]シンノリン、ピリミジン、これらの誘導体、ピロリジン誘導体、ピロール誘導体、ピペリジン誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、イミダゾリン誘導体、モルホリン誘導体、インドール誘導体、イソインドール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、プリン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、及びベンゾトリアゾール誘導体からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含む請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。   Examples of the heterocyclic compound (C) include pyridine, oxazole, pyrazine, triazine, quinoline, isoquinoline, quinoxaline, cinnoline, pteridine, acridine, benzo [c] cinnoline, pyrimidine, derivatives thereof, pyrrolidine derivatives, pyrrole derivatives, piperidine derivatives. At least one compound selected from the group consisting of imidazole derivatives, pyrazole derivatives, imidazoline derivatives, morpholine derivatives, indole derivatives, isoindole derivatives, benzimidazole derivatives, purine derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, and benzotriazole derivatives The curable resin composition according to claim 1. 前記複素環式化合物(C)が、下記式(1a)
Figure 2016124958
[式(1a)中、R31は、水素原子、又は式(1a−I)で表される基を示す。R32は、式(1a−I)で表される基、又は式(1a−II)で表される基を示す。
Figure 2016124958
[式(1a−I)中、R33は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。]
Figure 2016124958
[式(1a−II)中、R34は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。pは、1〜20の整数を示す。]]
で表される化合物、下記式(1b)
Figure 2016124958
[式(1b)中、R35は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。R36及びR37は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。]
で表される化合物、下記式(1c)
Figure 2016124958
[式(1c)中、R38は、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。R39は、二価の有機基を示す。R40は、置換基を有していてもよい有機基を示す。]
で表される化合物、下記式(1d)
Figure 2016124958
[式(1d)中、R41は、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。R42及びR43は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。]
で表される化合物、下記式(1e)
Figure 2016124958
[式(1e)中、R44、R45、及びR46は、同一又は異なって、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。]
で表される化合物、及び下記式(1f)
Figure 2016124958
[式(1f)中、R47及びR48は、同一又は異なって、連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示す。]
で表される化合物からなる群より選択される1種以上の化合物である請求項1又は2に記載の硬化性樹脂組成物。
The heterocyclic compound (C) is represented by the following formula (1a)
Figure 2016124958
[In the formula (1a), R 31 represents a hydrogen atom or a group represented by the formula (1a-I). R 32 represents a group represented by the formula (1a-I) or a group represented by the formula (1a-II).
Figure 2016124958
[In the formula (1a-I), R 33 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may have a substituent. ]
Figure 2016124958
[In the formula (1a-II), R 34 represents a hydrocarbon group which may have a substituent. p shows the integer of 1-20. ]]
A compound represented by formula (1b):
Figure 2016124958
[In the formula (1b), R 35 represents a hydrocarbon group which may have a substituent. R 36 and R 37 are the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. ]
A compound represented by formula (1c):
Figure 2016124958
[In the formula (1c), R 38 represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. R 39 represents a divalent organic group. R 40 represents an organic group which may have a substituent. ]
A compound represented by formula (1d):
Figure 2016124958
[In the formula (1d), R 41 represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. R 42 and R 43 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may have a substituent. ]
A compound represented by formula (1e):
Figure 2016124958
[In the formula (1e), R 44 , R 45 and R 46 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. ]
And a compound represented by the following formula (1f)
Figure 2016124958
[In formula (1f), R 47 and R 48 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may contain a linking group. ]
The curable resin composition according to claim 1, wherein the curable resin composition is one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by:
さらに、ヒドロシリル化触媒を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the curable resin composition of any one of Claims 1-3 containing a hydrosilylation catalyst. さらに、ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサン及び下記式(2)
Figure 2016124958
[式(2)中、Rf、Rg、及びRhは、同一又は異なって、式(2a)で表される基、又は式(2b)で表される基を示す。但し、Rf、Rg、及びRhのうち少なくとも1個は、式(2b)で表される基である。
Figure 2016124958
[式(2a)中、Riは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。]
Figure 2016124958
[式(2b)中、Rjは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。]]
で表されるイソシアヌレート化合物(D)からなる群より選択される少なくとも1種を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
Furthermore, ladder-type polyorganosilsesquioxane and the following formula (2)
Figure 2016124958
[In Formula (2), R f , R g , and R h are the same or different and represent a group represented by Formula (2a) or a group represented by Formula (2b). However, at least one of R f , R g , and R h is a group represented by the formula (2b).
Figure 2016124958
[In Formula (2a), R i represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]
Figure 2016124958
[In the formula (2b), R j represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]]
The curable resin composition of any one of Claims 1-4 containing at least 1 sort (s) selected from the group which consists of isocyanurate compound (D) represented by these.
さらに、下記式(3)
Figure 2016124958
[式(3)中、Ra、Rb、及びRcは、同一又は異なって、式(3a)で表される基、式(3b)で表される基、水素原子、又はアルキル基を示す。但し、Ra、Rb、及びRcのうち少なくとも1個は、式(3a)で表される基である。
Figure 2016124958
[式(3a)中、Rdは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。sは2〜10の整数を示す。]
Figure 2016124958
[式(3b)中、Reは、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。tは1〜10の整数を示す。]]
で表されるイソシアヌレート化合物(E)を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
Further, the following formula (3)
Figure 2016124958
[In the formula (3), R a , R b and R c are the same or different and represent a group represented by the formula (3a), a group represented by the formula (3b), a hydrogen atom or an alkyl group. Show. However, at least one of R a , R b and R c is a group represented by the formula (3a).
Figure 2016124958
[In the formula (3a), R d represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. s shows the integer of 2-10. ]
Figure 2016124958
[In formula (3b), R e represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. t shows the integer of 1-10. ]]
The curable resin composition of any one of Claims 1-5 containing the isocyanurate compound (E) represented by these.
前記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとして、ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の一部又は全部に、下記式(V)
Figure 2016124958
[式(V)中、R6は、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基を示す。]
で表される単位構造及び下記式(VI)
Figure 2016124958
[式(VI)中、R7は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。]
で表される単位構造を含むポリオルガノシルセスキオキサン残基を有するラダー型シルセスキオキサン(G)を含む請求項5又は6に記載の硬化性樹脂組成物。
As the ladder-type polyorganosilsesquioxane, a part or all of the molecular chain terminals of the polyorganosilsesquioxane having a ladder structure may be represented by the following formula (V):
Figure 2016124958
[In the formula (V), R 6 represents a group having an aliphatic carbon-carbon double bond. ]
The unit structure represented by the following formula (VI)
Figure 2016124958
[In Formula (VI), R 7 is the same or different and represents a hydrocarbon group. ]
The curable resin composition of Claim 5 or 6 containing the ladder type silsesquioxane (G) which has the polyorgano silsesquioxane residue containing the unit structure represented by these.
前記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとして、ラダー構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の一部又は全部に、下記式(VII)
Figure 2016124958
[式(VII)中、Xは単結合、二価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、カーボネート基、アミド基、又は、これらが複数個連結した基を示す。R8及びR9は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、エポキシ基、シアノ基、イソシアナート基、カルバモイル基、イソチオシアナート基、ヒドロキシ基、ヒドロパーオキシ基、スルホ基、アミノ基若しくは置換アミノ基、メルカプト基、スルホ基、又は下記式(s)
Figure 2016124958
[式(s)中、R51は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、エポキシ基、シアノ基、イソシアナート基、カルバモイル基、イソチオシアナート基、ヒドロキシ基、ヒドロパーオキシ基、スルホ基、アミノ基若しくは置換アミノ基、メルカプト基、又はスルホ基を示す。]
で表される基を示す。nは1〜100の整数を示す。]
で表される単位構造及び下記式(VIII)
Figure 2016124958
[式(VIII)中、R10は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。]
で表される単位構造を含むポリオルガノシルセスキオキサン残基を有するラダー型シルセスキオキサン(H)を含む請求項5〜7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
As the ladder-type polyorganosilsesquioxane, a part or all of the molecular chain terminals of the polyorganosilsesquioxane having a ladder structure may be represented by the following formula (VII):
Figure 2016124958
[In Formula (VII), X represents a single bond, a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether group, a thioether group, an ester group, a carbonate group, an amide group, or a group in which a plurality of these are linked. R 8 and R 9 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyloxy group, an alkylthio group, an alkenylthio group. Group, arylthio group, aralkylthio group, carboxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, epoxy group, cyano group, isocyanate group, carbamoyl group, isothiocyanate group, hydroxy group, hydroperoxy Group, sulfo group, amino group or substituted amino group, mercapto group, sulfo group, or the following formula (s)
Figure 2016124958
[In formula (s), R 51 is the same or different and is a hydrogen atom, halogen atom, substituted or unsubstituted hydrocarbon group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyloxy group, alkylthio group. Group, alkenylthio group, arylthio group, aralkylthio group, carboxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, epoxy group, cyano group, isocyanate group, carbamoyl group, isothiocyanate group, hydroxy group , A hydroperoxy group, a sulfo group, an amino group or a substituted amino group, a mercapto group, or a sulfo group. ]
The group represented by these is shown. n shows the integer of 1-100. ]
A unit structure represented by the following formula (VIII)
Figure 2016124958
[In formula (VIII), R 10 is the same or different and represents a hydrocarbon group. ]
The curable resin composition of any one of Claims 5-7 containing the ladder type silsesquioxane (H) which has a polyorgano silsesquioxane residue containing the unit structure represented by these.
前記ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンが、側鎖の一部又は全部が置換若しくは無置換のアリール基のラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンである請求項5〜8のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   9. The ladder type polyorganosilsesquioxane according to claim 5, wherein the ladder type polyorganosilsesquioxane is a ladder type polyorganosilsesquioxane having a substituted or unsubstituted aryl group in a part or all of the side chain. Curable resin composition. さらに、シランカップリング剤(F)を含む請求項1〜9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the curable resin composition of any one of Claims 1-9 containing a silane coupling agent (F). 請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物。   Hardened | cured material obtained by hardening the curable resin composition of any one of Claims 1-10. 封止剤である請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   It is a sealing agent, The curable resin composition of any one of Claims 1-10. 半導体素子と、該半導体素子を封止する封止材とを有する半導体装置であって、
前記封止材が、請求項12に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする半導体装置。
A semiconductor device having a semiconductor element and a sealing material for sealing the semiconductor element,
The semiconductor device, wherein the sealing material is a cured product of the curable resin composition according to claim 12.
光半導体装置である請求項13に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 13, which is an optical semiconductor device.
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