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JP2016114409A - Substrate for sample analysis, sample analysis device, sample analysis system, and program for sample analysis system - Google Patents

Substrate for sample analysis, sample analysis device, sample analysis system, and program for sample analysis system Download PDF

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JP2016114409A
JP2016114409A JP2014251904A JP2014251904A JP2016114409A JP 2016114409 A JP2016114409 A JP 2016114409A JP 2014251904 A JP2014251904 A JP 2014251904A JP 2014251904 A JP2014251904 A JP 2014251904A JP 2016114409 A JP2016114409 A JP 2016114409A
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JP
Japan
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chamber
sample analysis
liquid
substrate
analysis substrate
Prior art date
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Application number
JP2014251904A
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Japanese (ja)
Inventor
房俊 岡本
Fusatoshi Okamoto
房俊 岡本
城野 政博
Masahiro Kino
政博 城野
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PHC Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Healthcare Holdings Co Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】より複雑な反応ステップを介して検体中の成分の分析が行われる分析法に対応できる試料分析用基板及び試料分析システムを提供する。
【解決手段】試料分析用基板は、回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、回転軸および所定の厚さを有する板形状を備えた基板100’と、基板内に位置し、液体を保持するための第1空間を有する第1チャンバー102と、基板内において、第1チャンバーから排出される液体を保持するための第2空間を有する第2チャンバー103と、基板内に位置しており、第1チャンバーおよび第2チャンバーを接続する経路を有する第1流路112と、第2チャンバーの第2空間内に配置され、第2チャンバー内に排出された液体の少なくとも一部を吸収することができる液体吸収部材121、122とを備える。
【選択図】図3B
Provided are a sample analysis substrate and a sample analysis system that can cope with an analysis method in which a component in a specimen is analyzed through more complicated reaction steps.
A sample analysis substrate is a sample analysis substrate that transfers liquid by rotational movement, and includes a substrate 100 ′ having a plate shape having a rotation axis and a predetermined thickness, and a position within the substrate. A first chamber 102 having a first space for holding the liquid, a second chamber 103 having a second space for holding the liquid discharged from the first chamber in the substrate, and the substrate. And a first flow path 112 having a path connecting the first chamber and the second chamber, and at least a part of the liquid disposed in the second space of the second chamber and discharged into the second chamber Liquid absorbing members 121, 122 capable of absorbing water.
[Selection] Figure 3B

Description

本願は、試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムに関する。   The present application relates to a sample analysis substrate, a sample analysis apparatus, a sample analysis system, and a sample analysis system program.

従来、尿や血液等の検体中の特定成分を分析するために試料分析用基板を用いる技術が知られている。例えば、特許文献1は、流路・チャンバー等が形成された円盤状の試料分析用基板を用い、試料分析用基板を回転等させることで、溶液の移送、分配、混合、検体溶液中の成分の分析等を行う技術を開示している。   Conventionally, a technique using a sample analysis substrate for analyzing a specific component in a specimen such as urine or blood is known. For example, Patent Document 1 uses a disk-shaped sample analysis substrate on which a channel, a chamber, and the like are formed, and rotates the sample analysis substrate to transfer, distribute, and mix the components in the sample solution. The technology which performs analysis etc. of this is disclosed.

特表平7−500910号公報JP 7-500910 Gazette

検体中の特定成分の分析には、酵素反応、免疫反応等を用い、複雑な反応ステップを介する分析法がある。このような複雑な反応ステップを介する分析法を試料分析用基板中で行うことができる技術が求められていた。   Analysis of a specific component in a specimen includes an analysis method using complicated reaction steps using an enzyme reaction, an immune reaction, or the like. There has been a demand for a technique capable of performing an analysis method through such a complicated reaction step in a sample analysis substrate.

本願の限定的ではない例示的な実施形態は、より複雑な反応ステップを介して検体中の成分の分析が行われる分析法に対応できる試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムを提供する。   Non-limiting exemplary embodiments of the present application provide a sample analysis substrate, a sample analysis apparatus, a sample analysis system, and a sample analysis that can be applied to an analysis method in which components in a specimen are analyzed through more complicated reaction steps. Provide system programs.

本開示の試料分析用基板は、回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、回転軸および所定の厚さを有する板形状を備えた基板と、前記基板内に位置し、液体を保持するための第1空間を有する第1チャンバーと、前記基板内において、前記第1チャンバーから排出される前記液体を保持するための第2空間を有する第2チャンバーと、前記基板内に位置しており、前記第1チャンバーおよび前記第2チャンバーを接続する経路を有する第1流路と、前記第2チャンバーの前記第2空間内に配置され、前記第2チャンバー内に排出された液体の少なくとも一部を吸収することができる液体吸収部材とを備える。   A sample analysis substrate according to the present disclosure is a sample analysis substrate that transfers a liquid by a rotational motion, the substrate having a plate shape having a rotation axis and a predetermined thickness, and located in the substrate. A first chamber having a first space for holding a liquid, a second chamber having a second space for holding the liquid discharged from the first chamber in the substrate, and the substrate A first channel having a path connecting the first chamber and the second chamber, and a liquid disposed in the second space of the second chamber and discharged into the second chamber A liquid absorbing member capable of absorbing at least a part of the liquid absorbing member.

本願の一態様に係る試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムによれば、複雑な反応ステップを介して検体中の成分の分析が行われる分析法に対応できる。   According to the sample analysis substrate, the sample analysis apparatus, the sample analysis system, and the sample analysis system program according to one aspect of the present application, it is possible to cope with an analysis method in which components in a specimen are analyzed through complicated reaction steps.

図1は、磁性粒子を用いたサンドイッチイムノアッセイ法を説明する模式図の一例である。FIG. 1 is an example of a schematic diagram illustrating a sandwich immunoassay method using magnetic particles. 図2は、実施形態の試料分析システムの構成を示す模式図の一例である。FIG. 2 is an example of a schematic diagram illustrating the configuration of the sample analysis system of the embodiment. 図3Aは、試料分析用基板の分解斜視図の一例である。FIG. 3A is an example of an exploded perspective view of a sample analysis substrate. 図3Bは、試料分析用基板の平面図の一例である。FIG. 3B is an example of a plan view of the sample analysis substrate. 図3Cは、図3Bにおける太い破線部分の断面における各チャンバーおよび流路の厚さを示す一例である。FIG. 3C is an example showing the thickness of each chamber and flow path in the cross section of the thick broken line portion in FIG. 3B. 図3Dは、反応チャンバー、B/F分離チャンバー、回収チャンバー、第2経路および第4経路の試料分析用基板上における回転軸からの配置関係を示す一例である。FIG. 3D is an example showing a positional relationship from the rotation axis on the sample analysis substrate in the reaction chamber, the B / F separation chamber, the recovery chamber, the second path, and the fourth path. 図4は、試料分析システムの動作を説明するフローチャートの一例である。FIG. 4 is an example of a flowchart for explaining the operation of the sample analysis system. 図5は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 5 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図6は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 6 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図7は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 7 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図8は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 8 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図9は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 9 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図10は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 10 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図11は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 11 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図12は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 12 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図13は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 13 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図14は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 14 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図15は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置を模式的に示す図の一例である。FIG. 15 is an example of a diagram schematically showing the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system. 図16Aは、液体吸収部材がない場合に、第1副チャンバーに反応液または洗浄液が残留する様子を示す模式図の一例である。FIG. 16A is an example of a schematic diagram illustrating a state in which the reaction liquid or the cleaning liquid remains in the first sub chamber when there is no liquid absorbing member. 図16Bは、液体吸収部材がない場合において、第2副チャンバーの反応液また洗浄液がB流路へ逆流する様子を示す模式図の一例である。FIG. 16B is an example of a schematic diagram illustrating a state in which the reaction liquid or the cleaning liquid in the second sub chamber flows back to the B flow path when there is no liquid absorbing member. 図17は、試料分析用基板の平面図の他の例である。FIG. 17 is another example of a plan view of the sample analysis substrate. 図18は、試料分析用基板の平面図の他の例である。FIG. 18 is another example of a plan view of the sample analysis substrate.

尿や血液等の検体の成分の分析法には、分析対象物であるアナライトと、アナライトと特異的に結合するリガンドとの結合反応が用いられる場合がある。このような分析法には、例えば、免疫測定法や遺伝子診断法が挙げられる。   As a method for analyzing a component of a specimen such as urine or blood, a binding reaction between an analyte as an analysis target and a ligand that specifically binds to the analyte may be used. Examples of such analysis methods include immunoassay methods and genetic diagnosis methods.

免疫測定法の一例として、競合法と非競合法(サンドイッチイムノアッセイ法)が挙げられる。また、遺伝子診断法の一例として、ハイブリダイゼーションによる遺伝子検出法が挙げられる。これら分析法の一例として、磁性粒子(「磁性ビーズ」、「磁気粒子」又は「磁気ビーズ」等と称することもある。)を用いたサンドイッチイムノアッセイ法で具体的に説明する。   As an example of the immunoassay method, there are a competitive method and a non-competitive method (sandwich immunoassay method). An example of a gene diagnosis method is a gene detection method by hybridization. As an example of these analysis methods, a sandwich immunoassay method using magnetic particles (sometimes referred to as “magnetic beads”, “magnetic particles” or “magnetic beads”) will be specifically described.

図1に示すように、まず、磁性粒子302の表面に固定化された一次抗体304(以下、「磁性粒子固定化抗体305」と称する。)と測定対象物である抗原306とを抗原抗体反応とにより結合させる。次に標識物質307が結合された2次抗体(以下、「標識抗体308」と称する。)と抗原306とを抗原抗体反応により結合させる。これにより、抗原306に対して磁性粒子固定化抗体305及び標識抗体308が結合した複合体310が得られる。   As shown in FIG. 1, first, an antigen-antibody reaction between a primary antibody 304 immobilized on the surface of a magnetic particle 302 (hereinafter referred to as “magnetic particle-immobilized antibody 305”) and an antigen 306 as a measurement object. And combine with. Next, the secondary antibody to which the labeling substance 307 is bound (hereinafter referred to as “labeled antibody 308”) and the antigen 306 are bound by an antigen-antibody reaction. As a result, a complex 310 in which the magnetic particle-immobilized antibody 305 and the labeled antibody 308 are bound to the antigen 306 is obtained.

この複合体310に結合した標識抗体308の標識物質307に基づくシグナルを検出し、検出したシグナルの量に応じて抗原濃度を測定する。標識物質307には、例えば、酵素(例えば、ペルオキシダーゼ、アルカリフォスファターゼ、ルシフェラーゼ等がある。)、化学発光物質、電気化学発光物質、蛍光物質等が挙げられ、それぞれの標識物質307に応じた色素、発光、蛍光等のシグナルを検出する。   A signal based on the labeling substance 307 of the labeled antibody 308 bound to the complex 310 is detected, and the antigen concentration is measured according to the amount of the detected signal. Examples of the labeling substance 307 include enzymes (for example, peroxidase, alkaline phosphatase, luciferase, etc.), chemiluminescent substances, electrochemiluminescent substances, fluorescent substances, etc., and dyes corresponding to the respective labeling substances 307, Signals such as luminescence and fluorescence are detected.

この一連の反応において、反応物である複合体310を得る上で、検体中の未反応物、磁性粒子等に非特異的に吸着した物質、複合体310の形成に関与しなかった標識抗体308等である未反応物とを分離する必要がある。この分離をB/F分離(Bound/Free Separation)と呼ぶ。競合法による免疫測定法やハイブリダイゼーションによる遺伝子検出法においても、同様に、B/F分離の工程が必要である。   In this series of reactions, in order to obtain the complex 310 as a reactant, an unreacted substance in the sample, a substance adsorbed non-specifically to magnetic particles, etc., a labeled antibody 308 that was not involved in the formation of the complex 310 It is necessary to separate unreacted substances that are equal to each other. This separation is called B / F separation (Bound / Free Separation). Similarly, the B / F separation step is necessary in the immunoassay method by the competitive method and the gene detection method by hybridization.

前述で、磁性粒子を用いたサンドイッチイムノアッセイ法を例に挙げて説明したが、B/F分離は、磁性粒子の使用の有無にかかわらず、競合法や非競合法による免疫測定法やハイブリダイゼーションによる遺伝子検出法を行う場合に必要となる。磁性粒子を用いない場合は、例えば、ポリスチレンやポリカーボネートといった素材で構成された固相へ固定化されたリガンド(物理吸着による固定化)、金等で構成された金属基板表面へ固定化(例えば、自己組織化単分子膜(SAM:self−Assembled Monolayer)を用いた固定化)されたリガンドを用いる場合等が挙げられる。   As described above, the sandwich immunoassay method using magnetic particles has been described as an example, but B / F separation is performed by immunoassay or hybridization using competitive or non-competitive methods regardless of the presence or absence of magnetic particles. Necessary for gene detection. When magnetic particles are not used, for example, a ligand immobilized on a solid phase composed of a material such as polystyrene or polycarbonate (immobilization by physical adsorption), a metal substrate surface composed of gold or the like (for example, Examples include the case of using a ligand that is self-assembled monolayer (immobilized using SAM: self-assembled monolayer).

B/F分離を十分に行うには、洗浄液で複合体310を含む磁性粒子を複数回洗浄することが好ましい。具体的には、まず、複合体310と、未反応の抗原306、標識抗体308等とを含む反応溶液において、磁石によって磁性粒子を含む複合体310を捕捉した状態で、反応溶液のみを除去する。その後、洗浄液を加えて複合体310を洗浄し、洗浄液を除去する。この洗浄を複数回繰り返し行うことによって、未反応物が十分に除去されたB/F分離が達成され得る。この点についても磁性粒子を用いた例で説明しているが、磁性粒子の使用の有無に拘わらず、サンドイッチ型のアッセイ全般に言えることである。   In order to sufficiently perform the B / F separation, it is preferable to wash the magnetic particles containing the composite 310 multiple times with a washing liquid. Specifically, first, in the reaction solution containing the complex 310, the unreacted antigen 306, the labeled antibody 308, and the like, only the reaction solution is removed while the complex 310 containing the magnetic particles is captured by the magnet. . Thereafter, a cleaning liquid is added to clean the composite 310, and the cleaning liquid is removed. By repeating this washing a plurality of times, B / F separation in which unreacted substances are sufficiently removed can be achieved. This point is also described in an example using magnetic particles, but this is true for sandwich-type assays in general, regardless of whether magnetic particles are used.

従来、このような複数回洗浄を行う操作は、分析器具を用いて操作者が手動で行ったり、複雑な機構を有する大型の分析機器によって実現されていた。このため、より簡単に複数回洗浄を行う技術が求められていた。   Conventionally, such an operation of performing multiple times of washing has been realized manually by an operator using an analytical instrument or a large analytical instrument having a complicated mechanism. For this reason, there has been a demand for a technique for performing cleaning more than once more easily.

本願発明者らは、特許文献1に開示されるような試料分析用基板を用いて、複数回の洗浄工程を可能にする技術を詳細に検討し、新規な試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムを想到した。本願の一態様に係る試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、以下の通りである。
[項目1]
回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、回転軸および所定の厚さを有する板形状を備えた基板と、前記基板内に位置し、液体を保持するための第1空間を有する第1チャンバーと、前記基板内において、前記第1チャンバーから排出される前記液体を保持するための第2空間を有する第2チャンバーと、前記基板内に位置しており、前記第1チャンバーおよび前記第2チャンバーを接続する経路を有する第1流路と、前記第2チャンバーの前記第2空間内に配置され、前記第2チャンバー内に排出された液体の少なくとも一部を吸収することができる液体吸収部材とを備えた試料分析用基板。この構成によれば、第2チャンバーに移送された液体を液体吸収部材が吸収することができるため、試料分析用基板が意図しない角度で停止した場合でも第2チャンバーの液体が第1チャンバーへ逆流するのを抑制することができる。
[項目2]
前記液体吸収部材は、前記第2空間内において、前記液体吸収部材と、前記第1流路と前記第2チャンバーとの接続部分との間に、所定の容積を有する第3空間を有するように配置された、項目1に記載の試料分析用基板。この構成によれば、前記第1流路から移送される液体が第3空間を通って第2チャンバー内に移動することができるため、第1チャンバーから複数回液体が移送される場合でも、液体を第2チャンバー内に確実に保持することができる。
[項目3]
前記第1流路は、毛細管現象により前記第1空間内に保持された液体を前記第1流路内に満たすことができる、項目1または2に記載の試料分析用基板。
[項目4]
前記第2チャンバーは、第1副チャンバー、第2副チャンバーおよび前記第1副チャンバーと前記第2副チャンバーとを接続する連結部を含み、
前記第2副チャンバーは、前記第1副チャンバーよりも前記回転軸から遠くに位置する、項目1から3のいずれかに記載の試料分析用基板。
[項目5]
前記液体吸収部材は、前記第1副チャンバーに配置された、項目4に記載の試料分析用基板。この構成によれば、第1副チャンバーに液体が残留する場合に、液体が第1流路へ逆流するのを抑制することができる。
[項目6]
前記液体吸収部材は、前記第2副チャンバーに配置された、項目4に記載の試料分析用基板。この構成によれば、第2副チャンバーに液体が残留する場合に、液体が第1流路へ逆流するのを抑制することができる。
[項目7]
前記基板内に位置し、液体を保持するための第3空間を有する第3チャンバーと、前記基板内に位置しており、前記第3チャンバーおよび前記第1チャンバーを接続する経路を有し、毛細管現象により前記第3空間内に保持された液体で満たすことが可能な第2流路とを備え、前記第2流路は第1開口および第2開口を有し、前記第1開口および前記第2開口がそれぞれ前記第3チャンバーおよび第1チャンバーに接続され、前記第1開口は、前記第2開口よりも回転軸に近い側に位置し、前記第1空間は第1領域および第2領域を有し、前記第1領域は前記第1開口と接続し、前記第1開口から前記回転軸より遠い側に向けて延伸する部分を含み、前記第2領域は、前記第1開口よりも前記回転軸から遠い位置において前記第1領域の前記延伸する部分と接続しており、前記第3チャンバーの前記第3空間は、前記第2流路の容積よりも大きい、項目1から6のいずれかに記載の試料分析用基板。この構成によれば、第3チャンバーに保持される液体を複数回に分けて第1チャンバーへ移動させ、更に第2チャンバーへ移動させる場合に、試料分析用基板が種々の角度位置で停止しても、第2チャンバー内の液体吸収部材が第2チャンバー内の液体の少なくとも一部を吸収するため、第2チャンバー内の液体が第1流路から第1チャンバーへ逆流するのを抑制することができる。
[項目8]
前記第1チャンバーに近接して位置する磁石をさらに備える項目1から7のいずれかに記載の試料分析用基板。
[項目9]
項目1から8のいずれかに記載の試料分析用基板と、前記回転軸を重力方向に対して0°以上90°以下の角度にした状態で、前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出器 、前記回転角度検出器の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御するドライバー、および演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出器、前記原点検出器および前記ドライバーの動作を制御する制御器を有する試料分析装置とを備えた試料分析システムであって、前記プログラムは、前記第1チャンバーに液体が充填された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、(a)前記試料分析用基板を回転させることで、前記第1チャンバー内の液体の少なくとも一部を、前記第1流路を介して前記第2チャンバーへ移送させる、試料分析システム。
[項目10]
項目1から8のいずれかに記載の試料分析用基板を、前記回転軸を重力方向に対して0°以上90°以下の角度にした状態で、前記回転軸周りに回転させるモータ、前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出器 、前記回転角度検出器の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御するドライバー、および、演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出器、前記原点検出器および前記ドライバーの動作を制御する制御器を有する試料分析装置とを備え、前記プログラムは、前記第1チャンバーに液体が充填された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、(a)前記試料分析用基板を回転させることで、前記第1チャンバー内の液体の少なくとも一部を、前記第1流路を介して前記第2チャンバーへ移送させる試料分析装置。
[項目11]
項目1から8のいずれかに記載の試料分析用基板と、前記回転軸を重力方向に対して0°以上90°以下の角度にした状態で、前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出器 、前記回転角度検出器の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御するドライバー、および、演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出器、前記原点検出器および前記ドライバーの動作を制御する制御器を有する試料分析装置とを備えた試料分析システム用プログラムであって、前記プログラムは、前記第1チャンバーに液体が充填された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、(a)前記試料分析用基板を回転させることで、前記第1チャンバー内の液体の少なくとも一部を、前記第1流路を介して前記第2チャンバーへ移送させる、試料分析システム用プログラム。
The inventors of the present application have studied in detail a technique that enables a plurality of cleaning steps using a sample analysis substrate as disclosed in Patent Document 1, and have developed a novel sample analysis substrate, a sample analysis device, A sample analysis system and a program for the sample analysis system were conceived. A sample analysis substrate, a sample analysis device, a sample analysis system, and a sample analysis system program according to an aspect of the present application are as follows.
[Item 1]
A sample analysis substrate for transferring a liquid by a rotational motion, the substrate having a plate shape having a rotation axis and a predetermined thickness, and a first space located in the substrate for holding the liquid A first chamber having a second space for holding the liquid discharged from the first chamber in the substrate, the first chamber being located in the substrate, A first flow path having a path connecting the second chamber and the second flow path disposed in the second space of the second chamber and absorbing at least part of the liquid discharged into the second chamber. A sample analysis substrate comprising a liquid absorbing member that can be formed. According to this configuration, since the liquid absorbing member can absorb the liquid transferred to the second chamber, the liquid in the second chamber flows back to the first chamber even when the sample analysis substrate stops at an unintended angle. Can be suppressed.
[Item 2]
The liquid absorbing member has a third space having a predetermined volume between the liquid absorbing member and a connection portion between the first flow path and the second chamber in the second space. Item 2. The sample analysis substrate according to Item 1, which is arranged. According to this configuration, since the liquid transferred from the first flow path can move into the second chamber through the third space, the liquid is transferred even when the liquid is transferred from the first chamber a plurality of times. Can be securely held in the second chamber.
[Item 3]
Item 3. The sample analysis substrate according to Item 1 or 2, wherein the first channel can fill the first channel with a liquid held in the first space by a capillary phenomenon.
[Item 4]
The second chamber includes a first sub chamber, a second sub chamber, and a connecting portion that connects the first sub chamber and the second sub chamber,
4. The sample analysis substrate according to any one of items 1 to 3, wherein the second sub chamber is located farther from the rotation axis than the first sub chamber.
[Item 5]
Item 5. The sample analysis substrate according to Item 4, wherein the liquid absorbing member is disposed in the first sub chamber. According to this structure, when a liquid remains in a 1st subchamber, it can suppress that a liquid flows backward to a 1st flow path.
[Item 6]
Item 5. The sample analysis substrate according to Item 4, wherein the liquid absorbing member is disposed in the second sub chamber. According to this structure, when a liquid remains in a 2nd subchamber, it can suppress that a liquid flows backward to a 1st flow path.
[Item 7]
A capillary chamber having a third chamber located in the substrate and having a third space for holding a liquid; and a path located in the substrate and connecting the third chamber and the first chamber; And a second flow path that can be filled with a liquid held in the third space due to a phenomenon, the second flow path has a first opening and a second opening, and the first opening and the first flow 2 openings are connected to the third chamber and the first chamber, respectively, the first opening is located closer to the rotation axis than the second opening, and the first space includes the first area and the second area. The first region includes a portion connected to the first opening and extending from the first opening toward a side farther from the rotation axis, and the second region rotates more than the first opening. The first region at a position far from the axis; Being connected to the portion of extension, said third space of the third chamber is greater than the volume of the second flow path, the substrate for sample analysis as described in any one of 1 to 6. According to this configuration, when the liquid held in the third chamber is moved to the first chamber in multiple steps and further moved to the second chamber, the sample analysis substrate is stopped at various angular positions. However, since the liquid absorbing member in the second chamber absorbs at least a part of the liquid in the second chamber, it is possible to prevent the liquid in the second chamber from flowing backward from the first flow path to the first chamber. it can.
[Item 8]
8. The sample analysis substrate according to any one of items 1 to 7, further comprising a magnet positioned in proximity to the first chamber.
[Item 9]
The sample analysis substrate according to any one of items 1 to 8 and the sample analysis substrate are rotated around the rotation axis in a state where the rotation axis is at an angle of 0 ° to 90 ° with respect to the direction of gravity. A rotation angle detector for detecting a rotation angle of a rotation shaft of the motor, a driver for controlling a rotation angle at the time of rotation and stop of the motor based on a detection result of the rotation angle detector, an arithmetic unit, and a memory And a controller stored in the memory and configured to be executable by the computing unit, and based on the program, a controller for controlling operations of the motor, the rotation angle detector, the origin detector, and the driver A sample analysis system comprising: a sample analysis system comprising: a sample analysis substrate in which the first chamber is filled with a liquid; (A) When the sample analysis substrate is rotated, at least a part of the liquid in the first chamber is transferred to the second chamber via the first flow path. Let the sample analysis system.
[Item 10]
A motor for rotating the sample analysis substrate according to any one of items 1 to 8 around the rotation axis in a state where the rotation axis is at an angle of 0 ° to 90 ° with respect to the direction of gravity. Rotation angle detector that detects the rotation angle of the rotation shaft, a driver that controls the rotation angle of the motor at the time of rotation and stop based on the detection result of the rotation angle detector, and an arithmetic unit, memory, and memory The sample analyzer includes a program configured to be executable by the computing unit, and includes a controller that controls operations of the motor, the rotation angle detector, the origin detector, and the driver based on the program And when the sample analysis substrate in which the liquid is filled in the first chamber is loaded in the sample analyzer, (a) Fee analytical substrate is rotated, said at least a portion of the liquid in the first chamber, the sample analyzing apparatus for transferring via the first passage to the second chamber.
[Item 11]
The sample analysis substrate according to any one of items 1 to 8 and the sample analysis substrate are rotated around the rotation axis in a state where the rotation axis is at an angle of 0 ° to 90 ° with respect to the direction of gravity. A rotation angle detector that detects the rotation angle of the rotation shaft of the motor, a driver that controls the rotation angle of the motor and the rotation angle when stopped based on the detection result of the rotation angle detector, and an arithmetic unit, A memory and a program stored in the memory and configured to be executable by the computing unit, and based on the program, control for controlling operations of the motor, the rotation angle detector, the origin detector, and the driver A sample analysis system program comprising a sample analysis device having a vessel, wherein the program is for sample analysis in which the first chamber is filled with a liquid When the plate is loaded in the sample analyzer, (a) by rotating the sample analysis substrate, at least a part of the liquid in the first chamber is allowed to pass through the first channel. Sample analysis system program to be transferred to two chambers.

以下、図面を参照しながら本実施形態の試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プラグラムを詳細に説明する。本実施形態の試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、1つのチャンバーに保持されている液体を、一定量秤量し、複数回に分けて、別のチャンバーへ移送することができる。実施形態では、液体が洗浄液であると説明するが、液体は洗浄液に限られず、試料分析に用いられる種々の液体であってもよい。   Hereinafter, a sample analysis substrate, a sample analysis device, a sample analysis system, and a sample analysis system program according to the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. The sample analysis substrate, sample analysis apparatus, sample analysis system, and sample analysis system program of this embodiment weigh a certain amount of liquid held in one chamber, divide it into multiple chambers, and transfer it to another chamber. Can be transported. In the embodiment, it is described that the liquid is a cleaning liquid, but the liquid is not limited to the cleaning liquid, and may be various liquids used for sample analysis.

図2は、試料分析システム501の全体の構成を示す模式図である。試料分析システム501は、試料分析用基板100と試料分析装置200とを含む。   FIG. 2 is a schematic diagram showing the overall configuration of the sample analysis system 501. The sample analysis system 501 includes a sample analysis substrate 100 and a sample analysis device 200.

(試料分析装置200の構成)
試料分析装置200は、モータ201と、原点検出器203と、角度検出器204と、制御器205と、ドライバー206と、光学測定器207とを備える。
(Configuration of sample analyzer 200)
The sample analyzer 200 includes a motor 201, an origin detector 203, an angle detector 204, a controller 205, a driver 206, and an optical measuring device 207.

モータ201は、ターンテーブル201aおよび重力方向に対して0°より大きく90°以下の角度θで重力方向から傾いた回転軸Aを有し、ターンテーブル201aに載置された試料分析用基板100を回転軸A周りに回転させる。回転軸Aが傾いていることにより、試料分析用基板100における溶液の移送に、回転による遠心力に加え、重力を利用することができる。モータ201は例えば、直流モータ、ブラシレスモータ等であってよい。   The motor 201 has a rotation axis A inclined from the direction of gravity at an angle θ of greater than 0 ° and 90 ° or less with respect to the turntable 201a and the direction of gravity, and the sample analysis substrate 100 placed on the turntable 201a. Rotate around the rotation axis A. Since the rotation axis A is inclined, gravity can be used in addition to centrifugal force due to rotation for transferring the solution on the sample analysis substrate 100. For example, the motor 201 may be a DC motor, a brushless motor, or the like.

原点検出器203は、モータ201に取り付けられた試料分析用基板100の原点を検出する。例えば、原点検出器203は、光源および受光素子を含み、光源と受光素子との間に試料分析用基板100が位置するように配置される。試料分析用基板100は特定の位置に光を遮光する遮光部を有する。試料分析用基板100がモータ201によって回転すると、試料分析用基板100の特定の角度において、原点検出器203の光源から出射した光が遮光部によって遮られる。このとき、受光素子は、検出した光の変化を出力する。これにより、試料分析用基板100の原点位置(試料分析用基板100の基準となる角度位置)を検出する。原点検出器203は、他の構成を備えていてもよい。例えば、試料分析用基板100に原点検出用の磁石を備え、原点検出器203はこの磁石の磁気を検出する磁気検出素子であってもよい。また、後述する磁性粒子を捕捉するための磁石を原点検出に用いてもよい。また、試料分析用基板100がターンテーブル201aに特定の角度でのみ取り付け可能である場合には、原点検出器203はなくてもよい。   The origin detector 203 detects the origin of the sample analysis substrate 100 attached to the motor 201. For example, the origin detector 203 includes a light source and a light receiving element, and is arranged such that the sample analysis substrate 100 is positioned between the light source and the light receiving element. The sample analysis substrate 100 has a light shielding portion that shields light at a specific position. When the sample analysis substrate 100 is rotated by the motor 201, the light emitted from the light source of the origin detector 203 is blocked by the light shielding unit at a specific angle of the sample analysis substrate 100. At this time, the light receiving element outputs a change in the detected light. As a result, the origin position of the sample analysis substrate 100 (the angular position serving as the reference of the sample analysis substrate 100) is detected. The origin detector 203 may have other configurations. For example, the sample analysis substrate 100 may include an origin detection magnet, and the origin detector 203 may be a magnetic detection element that detects the magnetism of the magnet. Moreover, you may use the magnet for catching the magnetic particle mentioned later for origin detection. When the sample analysis substrate 100 can be attached to the turntable 201a only at a specific angle, the origin detector 203 may not be provided.

角度検出器204は、モータ201の回転軸Aの角度を検出する。例えば、角度検出器204は回転軸Aに取り付けられたロータリーエンコーダであってもよい。モータ201がブラシレスモータである場合には、角度検出器204は、ブラシレスモータに備えられているホール素子であってもよい。   The angle detector 204 detects the angle of the rotation axis A of the motor 201. For example, the angle detector 204 may be a rotary encoder attached to the rotation axis A. When the motor 201 is a brushless motor, the angle detector 204 may be a Hall element provided in the brushless motor.

ドライバー206はモータ201を回転させる。具体的には、制御器からの指令に基づき、試料分析用基板100を時計方向または反時計方向に回転させる。また、角度検出器204および原点検出器203の検出結果および試料分析用基板100を制御器からの指令に基づき、揺動および回転の停止を行う。   The driver 206 rotates the motor 201. Specifically, the sample analysis substrate 100 is rotated clockwise or counterclockwise based on a command from the controller. Further, based on the detection results of the angle detector 204 and the origin detector 203 and the command from the controller, the sample analysis substrate 100 is stopped from swinging and rotating.

光学測定器207は、試料分析用基板100に保持された複合体310(図1)に結合した標識抗体308の標識物質307に応じたシグナル(例えば、色素、発光、蛍光等)を検出する。   The optical measuring device 207 detects a signal (eg, dye, luminescence, fluorescence, etc.) corresponding to the labeling substance 307 of the labeled antibody 308 bound to the complex 310 (FIG. 1) held on the sample analysis substrate 100.

制御器205は、演算器、メモリおよびメモリに記憶され、演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含む。制御器205は、プログラムに基づき、モータ201、原点検出器203、角度検出器204、ドライバー206および光学測定器207の動作を制御する。   The controller 205 includes a calculator, a memory, and a program stored in the memory and configured to be executable by the calculator. The controller 205 controls operations of the motor 201, the origin detector 203, the angle detector 204, the driver 206, and the optical measuring device 207 based on the program.

(試料分析用基板100)
図3Aは、試料分析用基板100の分解斜視図である。試料分析用基板100は、回転軸110および回転軸に沿って所定の厚さを有する板形状の基板100’を備える。本実施形態では、試料分析用基板100の基板100’は円形形状を有しているが、多角形形状や楕円形状を有していてもよい。また、本実施形態において、基板100’は、2つの主面が平行であって、所定の厚さ(2つの主面の間の距離)は同一の板版形状として説明しているが、これら2つの主面は、平行である必要はない。例えば、2つの主面の一部分が平行であってもよいし、全体的に非平行であってもよい。本実施形態では、試料分析用基板100の基板100’は、ベース基板100aとカバー基板100bによって構成されている。
(Sample analysis substrate 100)
FIG. 3A is an exploded perspective view of the sample analysis substrate 100. The sample analysis substrate 100 includes a rotating shaft 110 and a plate-shaped substrate 100 ′ having a predetermined thickness along the rotating shaft. In the present embodiment, the substrate 100 ′ of the sample analysis substrate 100 has a circular shape, but may have a polygonal shape or an elliptical shape. In the present embodiment, the substrate 100 ′ is described as having two main surfaces parallel to each other and a predetermined thickness (distance between the two main surfaces) being the same plate shape. The two major surfaces need not be parallel. For example, a part of two main surfaces may be parallel, or may be non-parallel as a whole. In the present embodiment, the substrate 100 ′ of the sample analysis substrate 100 is composed of a base substrate 100a and a cover substrate 100b.

図3Bは、ベース基板100aの平面図である。図3Bに示すように、試料分析用基板100は、基板100’内に位置する洗浄液チャンバー101(第3のチャンバー)と、B/F分離チャンバー(第1のチャンバー)102と、回収チャンバー103(第2のチャンバー)と、貯蔵チャンバー104と、反応チャンバー105とを有する。各チャンバーの形状は、以下において特に言及しない限り、制限はなく、任意の形状を有していてもよい。各チャンバーは、概ね、基板100’の2つの主面に平行な上面及び下面と、これらの間に位置する4つの側面とによって規定された空間を有する。上面、下面および側面のうちの隣接する2つの面は、明瞭な稜線によって分けられていなくてもよい。例えば、各チャンバーの形状は扁平な球あるいは、回転楕円体であってもよい。試料分析用基板100は、それぞれ基板100’内に位置するA流路111(第2流路)と、B流路(第1流路)112と、C流路113と、D流路114とを更に有する。A流路111は洗浄液チャンバー101とB/F分離チャンバー102とを接続する経路を有している。同様に、B流路112は、B/F分離チャンバー102と回収チャンバー103とを接続する経路を有している。C流路113は、貯蔵チャンバー104と洗浄液チャンバー101とを接続する経路を有している。D流路114は、反応チャンバー105とB/F分離チャンバー102とを接続する経路を有している。流路の名称の先頭に付したアルファベットAからDは、単に複数の流路を区別するための記号であり、流路の形状や流路の特性を意味してはいない。   FIG. 3B is a plan view of the base substrate 100a. As shown in FIG. 3B, the sample analysis substrate 100 includes a cleaning liquid chamber 101 (third chamber), a B / F separation chamber (first chamber) 102, a recovery chamber 103 ( A second chamber), a storage chamber 104, and a reaction chamber 105. The shape of each chamber is not limited as long as it is not specifically mentioned below, and may have any shape. Each chamber generally has a space defined by an upper surface and a lower surface parallel to the two major surfaces of the substrate 100 ′ and four side surfaces located therebetween. Two adjacent surfaces of the upper surface, the lower surface, and the side surface may not be separated by a clear ridge line. For example, the shape of each chamber may be a flat sphere or a spheroid. The sample analysis substrate 100 includes an A channel 111 (second channel), a B channel (first channel) 112, a C channel 113, and a D channel 114, which are located in the substrate 100 ′. It has further. The A channel 111 has a path connecting the cleaning liquid chamber 101 and the B / F separation chamber 102. Similarly, the B channel 112 has a path connecting the B / F separation chamber 102 and the recovery chamber 103. The C flow path 113 has a path connecting the storage chamber 104 and the cleaning liquid chamber 101. The D channel 114 has a path connecting the reaction chamber 105 and the B / F separation chamber 102. Alphabets A to D attached to the head of the names of the channels are simply symbols for distinguishing a plurality of channels, and do not mean the shape of the channels or the characteristics of the channels.

試料分析用基板100は、回収チャンバー103の空間内に配置された液体吸収部材121、122を更に備える。   The sample analysis substrate 100 further includes liquid absorbing members 121 and 122 arranged in the space of the recovery chamber 103.

洗浄液チャンバー101、B/F分離チャンバー102、回収チャンバー103、貯蔵チャンバー104および反応チャンバー105のそれぞれの空間はベース基板100a内に形成され、カバー基板100bでベース基板100aを覆うことにより、それぞれの空間の上部または下部が形成される。つまり、これらの空間は基板100’の内面によって規定されている。A流路111、B流路112、C流路113およびD流路114もベース基板100aに形成されており、カバー基板100bでベース基板100aを覆うことにより、これらの流路の空間の上部または下部が形成される。本実施形態では、ベース基板100aおよびカバー基板100bがそれぞれ上面および下面として使用される。基板100’は、例えば、アクリル、ポリカーボネート、ポリスチレン等の樹脂によって生成され得る。   The spaces of the cleaning liquid chamber 101, the B / F separation chamber 102, the recovery chamber 103, the storage chamber 104, and the reaction chamber 105 are formed in the base substrate 100a, and the base substrate 100a is covered with the cover substrate 100b. The upper part or the lower part is formed. That is, these spaces are defined by the inner surface of the substrate 100 '. The A channel 111, the B channel 112, the C channel 113, and the D channel 114 are also formed in the base substrate 100a, and by covering the base substrate 100a with the cover substrate 100b, A lower part is formed. In this embodiment, the base substrate 100a and the cover substrate 100b are used as the upper surface and the lower surface, respectively. The substrate 100 ′ can be made of a resin such as acrylic, polycarbonate, or polystyrene.

反応チャンバー105は、図1を参照して説明したように、磁性粒子固定化抗体305と、抗原306を含む検体と、標識抗体308とを同時に反応させて、複合体310を形成させる反応場である。   As described with reference to FIG. 1, the reaction chamber 105 is a reaction field in which a magnetic particle-immobilized antibody 305, a specimen containing an antigen 306, and a labeled antibody 308 are reacted simultaneously to form a complex 310. is there.

本実施の形態では、複合体310を形成させる反応場として、別途、反応チャンバー105を設ける構成を示したが、磁性粒子固定化抗体305、抗原306を含む検体および標識抗体308の反応チャンバー107への移送は、種々の手段を採り得る。   In this embodiment mode, the structure in which the reaction chamber 105 is separately provided as a reaction field for forming the complex 310 is shown. However, the magnetic particle-immobilized antibody 305, the specimen containing the antigen 306, and the labeled antibody 308 are supplied to the reaction chamber 107. Various means can be used for the transfer of the above.

例えば、予め磁性粒子固定化抗体305、抗原306を含む検体および標識抗体308を混合させた混合溶液を、試料分析用基板100内に分注して反応チャンバー105で複合体を形成させる手段を採り得る。   For example, a means is used in which a mixed solution in which a specimen containing the magnetic particle-immobilized antibody 305, the antigen 306, and the labeled antibody 308 is mixed in advance into the sample analysis substrate 100 to form a complex in the reaction chamber 105. obtain.

例えば、磁性粒子固定化抗体305、抗原306を含む検体および標識抗体308のそれぞれを保持するチャンバーと、それぞれのチャンバーと反応チャンバー105とが連結する流路(例えば、毛細管流路)を備え、それぞれのチャンバーから磁性粒子固定化抗体305、抗原306を含む検体および標識抗体308を反応チャンバー105に移送して、反応チャンバー105中で混合し、複合体310を形成させる手段を採り得る。   For example, a magnetic particle-immobilized antibody 305, a chamber holding each of the specimen containing the antigen 306 and the labeled antibody 308, and a flow path (for example, a capillary flow path) connecting each chamber and the reaction chamber 105, The sample containing the magnetic particle-immobilized antibody 305, the antigen 306, and the labeled antibody 308 can be transferred from the chamber to the reaction chamber 105 and mixed in the reaction chamber 105 to form a complex 310.

複合体310を含む溶液は、D流路114を介して、B/F分離チャンバー102へ移送される。   The solution containing the composite 310 is transferred to the B / F separation chamber 102 via the D channel 114.

貯蔵チャンバー104は、B/F分離の際の洗浄に用いる洗浄液を貯留する。以下において詳細に説明するように、本実施形態の試料分析システムでは、B/F分離の際、複合体310を複数回洗浄することができる。このため、貯蔵チャンバー104は、洗浄回数に応じた合計容量の洗浄液を保持し得る。   The storage chamber 104 stores a cleaning liquid used for cleaning at the time of B / F separation. As will be described in detail below, in the sample analysis system of the present embodiment, the complex 310 can be washed multiple times during the B / F separation. Therefore, the storage chamber 104 can hold a total volume of cleaning liquid corresponding to the number of cleanings.

洗浄液チャンバー101は、貯蔵チャンバー104に貯留されていた全洗浄液を保持する。その後、B/F分離チャンバー102で複合体310を洗浄するために、洗浄液の一部をB/F分離チャンバー102へ移送させ、残りを保持する。一回の洗浄に用いる洗浄液の量は以下において説明するように、A流路111によって秤量される。このため、洗浄液チャンバー101は、A流路111以上の容積を有しており、洗浄回数分の合計の洗浄液量以上の容積(例えば、2回の洗浄であればA流路111の2倍以上の容積、3回の洗浄であればA流路111の3倍以上の容積)を有している。   The cleaning liquid chamber 101 holds all the cleaning liquid stored in the storage chamber 104. Thereafter, in order to clean the composite 310 in the B / F separation chamber 102, a part of the cleaning liquid is transferred to the B / F separation chamber 102 and the rest is retained. The amount of the cleaning liquid used for one cleaning is weighed by the A channel 111 as described below. For this reason, the cleaning liquid chamber 101 has a volume larger than the A channel 111 and has a volume equal to or larger than the total amount of the cleaning liquid corresponding to the number of times of cleaning (for example, twice or more than the A channel 111 in the case of two cleanings). 3 volumes or more than 3 times the volume of the A channel 111 in the case of washing three times.

洗浄液チャンバー101の空間(第1空間)は第1領域101aと、第2領域101bとを含む。第1領域101aは以下において説明するA流路111の第1開口111cと接続している。第1領域101aは、第1開口111cから回転軸110より遠い側に向けて延伸する部分を含む。これにより、第1領域101aに位置する洗浄液を、A流路111を介してB/F分離チャンバー102へ移送することができる。第2領域101bは、第1開口111cよりも前記回転軸110から遠い位置において第1領域101a)と接続している。すなわち、第2領域101bは、第1領域101aよりも回転軸110から遠くに位置する部分を含み、第1領域101aと接続する第2領域101b部分は、第1領域101aよりも回転軸110から遠くに位置する部分である。また、1回の洗浄に用いる量よりも過剰な洗浄液は、第2領域101bに保持することが可能である。貯蔵チャンバー104から洗浄液を洗浄液チャンバー101移送するため、第2領域101bの少なくとも一部は貯蔵チャンバー104よりも回転軸110から遠くに位置している。   The space (first space) of the cleaning liquid chamber 101 includes a first region 101a and a second region 101b. The first region 101a is connected to a first opening 111c of the A channel 111 described below. The first region 101a includes a portion extending from the first opening 111c toward the side farther from the rotation shaft 110. Thereby, the cleaning liquid located in the first region 101 a can be transferred to the B / F separation chamber 102 via the A channel 111. The second region 101b is connected to the first region 101a) at a position farther from the rotation shaft 110 than the first opening 111c. That is, the second region 101b includes a portion located farther from the rotation axis 110 than the first region 101a, and the second region 101b portion connected to the first region 101a is further away from the rotation shaft 110 than the first region 101a. It is a part located far away. Moreover, it is possible to hold the cleaning liquid in excess in the amount used for one cleaning in the second region 101b. In order to transfer the cleaning liquid from the storage chamber 104 to the cleaning liquid chamber 101, at least a part of the second region 101 b is located farther from the rotating shaft 110 than the storage chamber 104.

以下において詳細に説明するように、A流路111へ円滑に洗浄液を移動させるため、第1領域101aは第1開口111cと接続する接続部101cを含んでいる。接続部101cは、第1領域101aの少なくとも一部であって、第1開口111cから回転軸110より遠い側に延伸する。接続部101cは、毛細管現象により、洗浄液チャンバー101に保持された洗浄液を吸引し、接続部101c内に保持することが可能である。これによって、より確実に洗浄液をA流路111へ移動させることが可能となる。   As will be described in detail below, the first region 101a includes a connection portion 101c connected to the first opening 111c in order to smoothly move the cleaning liquid to the A channel 111. The connecting portion 101c is at least a part of the first region 101a and extends from the first opening 111c to the side farther from the rotating shaft 110. The connecting part 101c can suck the cleaning liquid held in the cleaning liquid chamber 101 by capillary action and hold it in the connecting part 101c. This makes it possible to move the cleaning liquid to the A channel 111 more reliably.

B/F分離チャンバー102は、複合体310を含む溶液のB/F分離を行う場である。B/F分離のために、試料分析用基板100は、基板100’内に配置された磁石116を含む。磁石116は、試料分析用基板100内において、B/F分離チャンバー102の空間に近接して位置している。より具体的には、磁石116は、B/F分離チャンバー102の複数の側面のうち、回転軸から最も遠くに位置する側面102sに近接して配置されている。ただし、試料分析用基板100における磁石116は、B/F分離チャンバー102の側面102s以外の上面や下面に近接する位置に配置してもよい。すなわち、磁石116によって、B/F分離チャンバー102の壁面に磁性粒子を捕捉できれば、その位置は特に限定されない。磁石116はB/F分離に応じて取外しできるように構成されていてもよいし、基板100’に着脱不能に取り付けられていてもよいし、試料分析装置200側に設ける構成であってもよい。磁石116を試料分析装置200側に設ける場合には、例えば、試料分析装置200のターンテーブル201aに磁石116を備えた磁石ユニットを備えていてもよい。この場合、使用者が試料分析用基板100をターンテーブル201a(磁石ユニット)の所定の位置に配置すると、B/F分離チャンバー102の壁面に磁性粒子を捕捉できる位置に磁石116を配置される。また、例えば、試料分析装置200に、B/F分離に応じて試料分析用基板100内に磁石116を着脱することができる駆動機構を設けてもよい。   The B / F separation chamber 102 is a place where B / F separation of the solution containing the composite 310 is performed. For B / F separation, the sample analysis substrate 100 includes a magnet 116 disposed in the substrate 100 ′. The magnet 116 is positioned in the vicinity of the space of the B / F separation chamber 102 in the sample analysis substrate 100. More specifically, the magnet 116 is disposed in the vicinity of the side surface 102 s located farthest from the rotation axis among the plurality of side surfaces of the B / F separation chamber 102. However, the magnet 116 in the sample analysis substrate 100 may be disposed at a position close to the upper surface or the lower surface other than the side surface 102 s of the B / F separation chamber 102. That is, the position is not particularly limited as long as the magnetic particles can be captured on the wall surface of the B / F separation chamber 102 by the magnet 116. The magnet 116 may be configured to be removable according to B / F separation, may be attached to the substrate 100 ′ in a non-detachable manner, or may be configured to be provided on the sample analyzer 200 side. . When the magnet 116 is provided on the sample analyzer 200 side, for example, the turntable 201a of the sample analyzer 200 may include a magnet unit including the magnet 116. In this case, when the user arranges the sample analysis substrate 100 at a predetermined position of the turntable 201 a (magnet unit), the magnet 116 is arranged at a position where the magnetic particles can be captured on the wall surface of the B / F separation chamber 102. Further, for example, the sample analyzer 200 may be provided with a drive mechanism that can attach and detach the magnet 116 in the sample analysis substrate 100 in accordance with B / F separation.

反応液がD流路114を介して、B/F分離チャンバー102へ移送されると、反応液中の複合体310および未反応の磁性粒子固定化抗体305(以下、これら両方を指す場合には、単に磁性粒子311と呼ぶ)は、側面102sに近接して配置された磁石116の磁力によって、側面102s側に捕捉される。   When the reaction solution is transferred to the B / F separation chamber 102 via the D channel 114, the complex 310 in the reaction solution and the unreacted magnetic particle-immobilized antibody 305 (hereinafter, both of them are referred to) The magnetic particles 311 are simply captured on the side of the side surface 102s by the magnetic force of the magnet 116 disposed close to the side surface 102s.

磁性粒子311を除く反応液は、B流路112を介して回収チャンバー103へ移送される。また、一定量の洗浄液がA流路111からB/F分離チャンバー102へ移送され、B/F分離チャンバー102内において、捕捉された磁性粒子311が洗浄される。洗浄液は、B流路112を介して回収チャンバー103へ移送される。以下において詳細に説明するように、B/F分離チャンバー102の空間(第2空間)は第1領域102aおよび第2領域102bを含んでおり、第2領域102bは、毛細管現象により、B/F分離チャンバー102に保持された反応液または洗浄液を吸引し、第2領域102b内に保持することが可能である。側面102sは、第2領域102bに位置しており、B流路112が接続されている。   The reaction liquid excluding the magnetic particles 311 is transferred to the recovery chamber 103 via the B channel 112. A certain amount of cleaning liquid is transferred from the A channel 111 to the B / F separation chamber 102, and the captured magnetic particles 311 are washed in the B / F separation chamber 102. The cleaning liquid is transferred to the collection chamber 103 via the B channel 112. As will be described in detail below, the space (second space) of the B / F separation chamber 102 includes a first region 102a and a second region 102b. The second region 102b is formed by B / F by capillary action. The reaction solution or the cleaning solution held in the separation chamber 102 can be sucked and held in the second region 102b. The side surface 102s is located in the second region 102b, and the B channel 112 is connected to the side surface 102s.

回収チャンバー103は、B流路112を介してB/F分離チャンバー102から移送される磁性粒子311以外の反応液および使用済みの洗浄液を貯蔵する。これらの液体がより確実にB/F分離チャンバー102へ戻るのを抑制するため、本実施形態では、回収チャンバー103は第1副チャンバー103A、第2副チャンバー103Bおよび第1副チャンバー103Aと第2副チャンバー103Bとを接続する連結部115を含む。連結部115は、重量によって液体が移動可能な流路である。第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103Bは別の独立した空間によってそれぞれ構成されており、連結部115によって接続されている。つまり、回収チャンバー103の空間(第3空間)は、第1副チャンバー103Aの空間および第2副チャンバー103Bの空間を含む。本実施形態では、第2副チャンバー103Bは第1副チャンバー103Aよりも回転軸110から遠くに位置している。また、第1副チャンバー103AはB/F分離チャンバー102よりも回転軸110から遠くに位置している。つまり、回収チャンバー103は全体としてB/F分離チャンバー102よりも回転軸110から遠くに位置している。第1副チャンバー103Aの空間は、反応液の量と1回分の洗浄液の量との多い方よりも大きな容量を有している。第2副チャンバー103Bは、反応液と複数回分の洗浄液との合計よりも大きな容量を有している。   The recovery chamber 103 stores a reaction liquid other than the magnetic particles 311 transferred from the B / F separation chamber 102 via the B channel 112 and a used cleaning liquid. In order to prevent these liquids from returning to the B / F separation chamber 102 more reliably, in the present embodiment, the recovery chamber 103 includes the first sub chamber 103A, the second sub chamber 103B, the first sub chamber 103A, and the second sub chamber 103A. A connecting portion 115 for connecting the sub chamber 103B is included. The connection part 115 is a flow path in which the liquid can move depending on the weight. The first sub chamber 103 </ b> A and the second sub chamber 103 </ b> B are each constituted by another independent space, and are connected by a connecting portion 115. That is, the space (third space) of the recovery chamber 103 includes the space of the first sub chamber 103A and the space of the second sub chamber 103B. In the present embodiment, the second sub chamber 103B is located farther from the rotation shaft 110 than the first sub chamber 103A. Further, the first sub chamber 103 </ b> A is located farther from the rotation shaft 110 than the B / F separation chamber 102. That is, the collection chamber 103 is located farther from the rotation shaft 110 than the B / F separation chamber 102 as a whole. The space of the first sub chamber 103A has a larger capacity than the larger amount of the reaction liquid and the amount of the cleaning liquid for one time. The second sub chamber 103B has a capacity larger than the sum of the reaction liquid and the cleaning liquid for a plurality of times.

本実施形態では、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103Bはそれぞれ基板100’の円周方向に沿って伸びる空間を有しており、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103Bの空間内に液体吸収部材121および液体吸収部材122がそれぞれ配置されている。試料分析用基板100は、液体吸収部材121および液体吸収部材122のいずれか一方のみを備えていてもよい。   In the present embodiment, the first sub chamber 103A and the second sub chamber 103B each have a space extending along the circumferential direction of the substrate 100 ′, and the space inside the first sub chamber 103A and the second sub chamber 103B. The liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 are respectively disposed. The sample analysis substrate 100 may include only one of the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122.

試料分析用基板100は、液体吸収部材121および液体吸収部材122を備えることによって、回収チャンバー103へ移送された反応液または洗浄液がB流路112を介してB/F分離チャンバー102へ逆流するのを抑制する。つまり、回収チャンバー103へ移送された液体をより確実に内部に保持する。   The sample analysis substrate 100 includes the liquid absorption member 121 and the liquid absorption member 122, so that the reaction liquid or the cleaning liquid transferred to the recovery chamber 103 flows back to the B / F separation chamber 102 via the B channel 112. Suppress. That is, the liquid transferred to the recovery chamber 103 is more reliably held inside.

液体吸収部材121および液体吸収部材122は、反応液および使用済みの洗浄液等の液体を吸収する材料によって構成されている。例えば、ポリアクリル酸ナトリウムなどに代表される吸収性ポリマー、ポリビニルアルコールおよびウレタン等の合成樹脂または海綿等の天然材料からなるスポンジ、ろ紙等の吸水紙等を液体吸収部材121および液体吸収部材122に用いることができる。ここで吸収とは、少なくとも重力程度の力が働いても、その力によって液体が移動せずに液体吸収部材が液体を保持し得ることをいう。   The liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 are made of a material that absorbs a liquid such as a reaction liquid and a used cleaning liquid. For example, an absorbent polymer typified by sodium polyacrylate, a synthetic resin such as polyvinyl alcohol and urethane, or a sponge made of a natural material such as sponge, water absorbent paper such as filter paper, and the like are used as the liquid absorbent member 121 and the liquid absorbent member 122. Can be used. Here, absorption means that the liquid absorbing member can hold the liquid without moving the liquid due to the force even if a force of at least about gravity is applied.

液体吸収部材121および液体吸収部材122は、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103Bの円周方向に沿って伸びる空間の一端に配置されている。好ましくは、液体吸収部材121は、第1副チャンバー103Aの空間内において、液体吸収部材121と、B流路112と第1副チャンバー103Aとの接続部分との間に、所定の容積を有する空間103Aaを有するように配置されている。つまり、第1副チャンバー103Aに接続されたB流路112の開口を液体吸収部材121で塞がないように、液体吸収部材121が位置しない空間103Aaが設けられている。   The liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 are disposed at one end of a space extending along the circumferential direction of the first sub chamber 103A and the second sub chamber 103B. Preferably, the liquid absorbing member 121 is a space having a predetermined volume in the space of the first sub chamber 103A between the liquid absorbing member 121 and the connection portion between the B flow path 112 and the first sub chamber 103A. 103Aa. That is, the space 103 </ b> Aa in which the liquid absorbing member 121 is not provided is provided so that the opening of the B channel 112 connected to the first sub chamber 103 </ b> A is not blocked by the liquid absorbing member 121.

同様に、液体吸収部材122は、第2副チャンバー103Bの空間内において、液体吸収部材122と、連結部115と第2副チャンバー103Bとの接続部分との間に、所定の容積を有する空間103Baを有するように配置されている。つまり、第2副チャンバー103Bに接続された連結部115の開口を液体吸収部材122で塞がないように、液体吸収部材122が位置しない空間103Baが設けられている。   Similarly, in the space of the second sub chamber 103B, the liquid absorbing member 122 is a space 103Ba having a predetermined volume between the liquid absorbing member 122 and a connection portion between the connecting portion 115 and the second sub chamber 103B. It is arranged to have. That is, the space 103Ba in which the liquid absorbing member 122 is not provided is provided so that the opening of the coupling portion 115 connected to the second sub chamber 103B is not blocked by the liquid absorbing member 122.

好ましくは、液体吸収部材121は、第1副チャンバー103Aの空間内において、液体吸収部材121と、連結部115と第1副チャンバー103Aとの接続部分との間に、所定の容積を有する空間103Abを有するようにも配置されている。つまり、第1副チャンバー103Aに接続された連結部115の開口を液体吸収部材121で塞がないように、液体吸収部材121が位置しない空間103Abが設けられている。   Preferably, in the space of the first sub chamber 103A, the liquid absorbing member 121 is a space 103Ab having a predetermined volume between the liquid absorbing member 121 and a connection portion between the connecting portion 115 and the first sub chamber 103A. It is also arranged to have. That is, the space 103Ab in which the liquid absorbing member 121 is not provided is provided so that the opening of the connecting portion 115 connected to the first sub chamber 103A is not blocked by the liquid absorbing member 121.

空間103Aa、103Ab、103Baが設けられることによって、B流路112から移送される反応液および洗浄液が、液体吸収した液体吸収部材121に妨げられることなく第1副チャンバー103Aへ流入することができる。また、第1副チャンバー103A内の反応液および洗浄液が、液体吸収した液体吸収部材121および液体吸収した液体吸収部材122に妨げられることなく第2副チャンバー103Bへ流入することができる。   By providing the spaces 103Aa, 103Ab, and 103Ba, the reaction liquid and the cleaning liquid transferred from the B channel 112 can flow into the first sub chamber 103A without being blocked by the liquid absorbing member 121 that has absorbed the liquid. Further, the reaction liquid and the cleaning liquid in the first sub chamber 103A can flow into the second sub chamber 103B without being blocked by the liquid absorbing member 121 that has absorbed liquid and the liquid absorbing member 122 that has absorbed liquid.

試料分析用基板100の回転、あるいは、試料分析用基板100の角度位置によって、液体吸収部材121および液体吸収部材122が第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103Bの空間内で移動しないように、液体吸収部材121および液体吸収部材122は固定されているか、上述した空間103Aa、103Ab、103Baへ入りこまないように、液体吸収部材121および液体吸収部材122の移動が制限されていることが好ましい。例えば、液体吸収部材121および液体吸収部材122は、液体吸収部材121および液体吸収部材122は、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103Bの円周方向に沿って伸びる空間の一端において接着剤等によって固定されていてもよい。また、空間103Aa、103Ab、103Baの周囲に、液体吸収部材121および液体吸収部材122の侵入を防止し、液体が自由に移動し得るためのメッシュ状の仕切りや壁等が設けられていてもよい。   The liquid absorption member 121 and the liquid absorption member 122 are prevented from moving in the space of the first sub chamber 103A and the second sub chamber 103B depending on the rotation of the sample analysis substrate 100 or the angular position of the sample analysis substrate 100. It is preferable that the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 are fixed, or the movement of the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 is restricted so as not to enter the above-described spaces 103Aa, 103Ab, and 103Ba. For example, the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 are an adhesive or the like at one end of a space extending along the circumferential direction of the first sub chamber 103A and the second sub chamber 103B. It may be fixed by. Further, around the spaces 103Aa, 103Ab, and 103Ba, mesh-like partitions or walls that prevent the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 from entering and allow the liquid to move freely may be provided. .

液体吸収部材121および液体吸収部材122の大きさ(体積)に特に制限はなく、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103Bの空間内に上述した空間103Aa、103Ab、103Baを確保した状態で収容されればよい。液体吸収部材121および液体吸収部材122の少なくとも一方が配置される限り、回収チャンバー103へ移送された反応液または洗浄液の少なくとも一部が、液体吸収部材121または液体吸収部材122に吸収されるため、吸収量に応じた程度で、回収チャンバー103へ移送された液体がB流路112またはB流路112を介してB/F分離チャンバー102へ逆流するのを抑制することができる。また、吸収部材121および/または液体吸収部材122が、回収チャンバー103へ移送される反応液および洗浄液の全量を吸収し得る大きさを有していれば、上述したB流路112またはB/F分離チャンバー102への逆流をより確実に抑制し得る。したがって、液体吸収部材121および液体吸収部材122の大きさは、回収チャンバー103へ移送される反応液および洗浄液の量や、逆流をどの程度確実に抑制するべきであるか等の仕様や設計に基づき、任意に決定し得る。   The size (volume) of the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 is not particularly limited, and is accommodated in a state where the above-described spaces 103Aa, 103Ab, and 103Ba are secured in the spaces of the first sub chamber 103A and the second sub chamber 103B. It only has to be done. As long as at least one of the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 is disposed, at least a part of the reaction liquid or the cleaning liquid transferred to the recovery chamber 103 is absorbed by the liquid absorbing member 121 or the liquid absorbing member 122. It is possible to suppress the liquid transferred to the recovery chamber 103 from flowing back to the B / F separation chamber 102 via the B channel 112 or the B channel 112 to the extent corresponding to the absorption amount. Further, if the absorbing member 121 and / or the liquid absorbing member 122 have a size capable of absorbing the entire amount of the reaction liquid and the cleaning liquid transferred to the recovery chamber 103, the above-described B channel 112 or B / F The back flow to the separation chamber 102 can be more reliably suppressed. Therefore, the sizes of the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 are based on specifications and designs such as the amount of reaction liquid and cleaning liquid transferred to the recovery chamber 103 and how much backflow should be suppressed. Can be arbitrarily determined.

次に各流路を説明する。A流路111は、洗浄液チャンバー101に貯蔵された洗浄液をB/F分離チャンバー102へ移送させる。この時、洗浄液チャンバー101内の洗浄液の全量ではなく、A流路111が規定する空間の容量によって一回の洗浄液を秤量し、秤量された洗浄液をB/F分離チャンバー102へ移送する。A流路111は第1開口11cと第2開口111dとを含み、第1開口111cが洗浄液チャンバー101に接続され、第2開口111dがB/F分離チャンバー102に接続されている。より詳細には、A流路111は、第1開口111cを有する第1部分111aと、第2開口111dを有する第2部分111bとを含んでいる。第1部分111aと第2部分111bとは、それぞれ第1開口111cおよび第2開口111dが位置していない一端でそれぞれ接続されている。   Next, each flow path will be described. The A channel 111 transfers the cleaning liquid stored in the cleaning liquid chamber 101 to the B / F separation chamber 102. At this time, instead of the total amount of cleaning liquid in the cleaning liquid chamber 101, the cleaning liquid is weighed once based on the capacity of the space defined by the A channel 111, and the weighed cleaning liquid is transferred to the B / F separation chamber 102. The A channel 111 includes a first opening 11c and a second opening 111d, the first opening 111c is connected to the cleaning liquid chamber 101, and the second opening 111d is connected to the B / F separation chamber 102. More specifically, the A channel 111 includes a first portion 111a having a first opening 111c and a second portion 111b having a second opening 111d. The first portion 111a and the second portion 111b are respectively connected at one end where the first opening 111c and the second opening 111d are not located.

第1開口111cは、第2開口111dよりも回転軸110に近い側に位置している。A流路111の各部は、回転軸110から第1開口111cと同じ位置または、回転軸110から第1開口111cよりも遠くに位置していることが好ましい。これにより、A流路111に洗浄液が満たされた状態で洗浄液に遠心力が働くと、A流路111内のすべての洗浄液が洗浄液チャンバー101へ戻ることなく、B/F分離チャンバー102へ移送される。   The first opening 111c is located closer to the rotation shaft 110 than the second opening 111d. Each part of the A channel 111 is preferably located at the same position as the first opening 111c from the rotation shaft 110 or farther from the rotation shaft 110 than the first opening 111c. Thus, when a centrifugal force acts on the cleaning liquid in a state where the A channel 111 is filled with the cleaning liquid, all the cleaning liquid in the A channel 111 is transferred to the B / F separation chamber 102 without returning to the cleaning liquid chamber 101. The

第1部分111aと第2部分111bとの合計容量が一回分の洗浄液の量に相当し、A流路111の第1開口111cと第2開口111dとの間の空間が洗浄液でみたされることにより、一回分の洗浄液の秤量が行われる。A流路111の第1部分111aおよび第2部分111bは、いずれも毛細管現象によって、洗浄液チャンバー101に保持された洗浄で満たすこと可能である。図3Cは、図3Bにおいて太い破線で示すように、洗浄液チャンバー101の第1領域101aからA流路111の第1部分111a、第2部分111b、B/F分離チャンバー102の第1領域102aおよび第2領域102bを介してB流路112につながる経路における空間の、基板100’の厚さと平行な方向における厚さ(深さ)を示している。図3Cにおいて、横軸は第1領域101aの一端からの距離を示し、縦軸は厚さを示している。図3Cでは横軸は説明のための一例であって、正確には示されていない。同様に、縦軸は隣接する領域における相対的な厚さの大小関係を示しているが、厚さの値は正確には示されてはいない。   The total capacity of the first portion 111a and the second portion 111b corresponds to the amount of the cleaning liquid for one time, and the space between the first opening 111c and the second opening 111d of the A channel 111 is seen by the cleaning liquid. Thus, the washing liquid for one time is weighed. Both the first portion 111a and the second portion 111b of the A channel 111 can be filled with the cleaning held in the cleaning liquid chamber 101 by capillary action. 3C shows a first portion 111a and a second portion 111b of the A channel 111 from the first region 101a of the cleaning liquid chamber 101, the first region 102a of the B / F separation chamber 102, and The thickness (depth) in the direction parallel to the thickness of the substrate 100 ′ of the space in the path connected to the B flow path 112 via the second region 102b is shown. In FIG. 3C, the horizontal axis indicates the distance from one end of the first region 101a, and the vertical axis indicates the thickness. In FIG. 3C, the horizontal axis is an example for explanation, and is not shown accurately. Similarly, the vertical axis shows the relative thickness relationship between adjacent regions, but the thickness values are not accurately shown.

図3Cに示すように、本実施形態では、A流路111において第2部分111bの厚さが第1部分111aの厚さよりも小さく、第2部分111bは第1部分111aよりも大きな毛細管力を備える。このため、第1開口111cから洗浄液チャンバーの第1領域101aに保持された洗浄液がA流路111の第1部分111aに吸引されると、よりも大きな毛細管力が働く第2部分111bにまで洗浄液が行き渡る。これにより、A流路111全体が洗浄液で満たされる。   As shown in FIG. 3C, in the present embodiment, in the A channel 111, the thickness of the second portion 111b is smaller than the thickness of the first portion 111a, and the second portion 111b has a greater capillary force than the first portion 111a. Prepare. For this reason, when the cleaning liquid held in the first region 101a of the cleaning liquid chamber is sucked into the first portion 111a of the A channel 111 from the first opening 111c, the cleaning liquid reaches the second portion 111b on which a larger capillary force works. Go around. As a result, the entire A channel 111 is filled with the cleaning liquid.

また、洗浄液チャンバー101の第1領域101aにおいて、図3Cでは、接続部101cの厚さは、第1領域101aの他の部分の厚さより小さい。また、接続部101cの厚さは第1部分111aの厚さと同じである。これにより、接続部101cに毛細管力を働かせることが可能である。また、図3Bに示すように、接続部101cは、第1開口111cよりも大きな開口101d(太線で示す)を有し、開口101dで第1領域101aの残りの部分と接触する。このため、試料分析用基板100が種々の回転角度で停止した状態でも、接続部101cの開口101dの一部が洗浄液チャンバー101内の洗浄液と接触することにより、接続部101cは洗浄液を吸引し、接続部101cを洗浄液で満たすことができる。   In the first region 101a of the cleaning liquid chamber 101, in FIG. 3C, the thickness of the connection portion 101c is smaller than the thickness of the other portion of the first region 101a. Further, the thickness of the connecting portion 101c is the same as the thickness of the first portion 111a. Thereby, it is possible to make capillary force act on the connection part 101c. As shown in FIG. 3B, the connecting portion 101c has an opening 101d (shown by a thick line) larger than the first opening 111c, and contacts the remaining portion of the first region 101a through the opening 101d. For this reason, even when the sample analysis substrate 100 is stopped at various rotation angles, a part of the opening 101d of the connection part 101c comes into contact with the cleaning liquid in the cleaning liquid chamber 101, so that the connection part 101c sucks the cleaning liquid, The connecting portion 101c can be filled with the cleaning liquid.

なお、接続部101cの厚さは、第1部分111aと異なっていてもよい。また、洗浄液チャンバー101の第1領域101a全体が接続部101cであってもよいし、接続部101cを有していなくてもよい。   In addition, the thickness of the connection part 101c may differ from the 1st part 111a. Further, the entire first region 101a of the cleaning liquid chamber 101 may be the connection part 101c or may not have the connection part 101c.

A流路111の第1部分111aの毛細管力は、接続部101cの毛細管力よりも大きい。よって、接続部101cに保持された洗浄液は、A流路111の第1部分111aに吸引され、移動し得る。また、A流路111の第1開口111cよりも接続部101cの開口101dの方が大きいため、接続部101cが漏斗として機能し、多くの洗浄液が円滑に接続部101cを通ってA流路111に吸引され得る。   The capillary force of the first portion 111a of the A channel 111 is larger than the capillary force of the connecting portion 101c. Therefore, the cleaning liquid held in the connecting portion 101c can be sucked and moved by the first portion 111a of the A channel 111. Further, since the opening 101d of the connecting portion 101c is larger than the first opening 111c of the A channel 111, the connecting portion 101c functions as a funnel, and a large amount of cleaning liquid smoothly passes through the connecting portion 101c. Can be aspirated.

B流路112も毛細管現象によってB/F分離チャンバー102に保持された液体を吸引することが可能である。図3Cに示すように、B流路112の厚さは、B/F分離チャンバー102の第2領域102bの厚さよりも小さい。また、B/F分離チャンバー102において、第2領域102bは第1領域102aよりも小さく、かつ、B流路112よりも大きい厚さを有している。このため、第2領域102bに毛細管力を働かせることが可能であり、A流路111から移送された洗浄液は、毛細管現象によって、B/F分離チャンバー102の第2領域102bに吸引される。B流路112は、B/F分離チャンバー102の第2領域102bに接続されているため、B/F分離チャンバー102の第2領域102bよりも大きな毛細管力によって、洗浄液の一部は、B/F分離チャンバー102からB流路112へ吸引される。   The B channel 112 can also suck the liquid held in the B / F separation chamber 102 by capillary action. As shown in FIG. 3C, the thickness of the B channel 112 is smaller than the thickness of the second region 102 b of the B / F separation chamber 102. In the B / F separation chamber 102, the second region 102 b has a thickness smaller than that of the first region 102 a and larger than that of the B channel 112. Therefore, it is possible to apply a capillary force to the second region 102b, and the cleaning liquid transferred from the A channel 111 is sucked into the second region 102b of the B / F separation chamber 102 by a capillary phenomenon. Since the B flow path 112 is connected to the second region 102b of the B / F separation chamber 102, a part of the cleaning liquid becomes B / F due to a capillary force larger than that of the second region 102b of the B / F separation chamber 102. Suction is performed from the F separation chamber 102 to the B flow path 112.

C流路113およびD流路114も毛細管現象によって内部を液体で満たすことが可能である。具体的には、C流路113およびD流路114は、それぞれ、毛細管現象により、貯蔵チャンバー104および反応チャンバー105に満たされた液体で内部を満たすことができる。   The C channel 113 and the D channel 114 can also be filled with liquid by capillary action. Specifically, the C channel 113 and the D channel 114 can each be filled with a liquid filled in the storage chamber 104 and the reaction chamber 105 by capillary action.

B流路112およびD流路114は、更にサイフォンの原理によって、液体の移動を制御し得る。このためにB流路112は、第1屈曲部112aおよび第2屈曲部112bを有している。第1屈曲部112aは回転軸110と反対側に凸形状を有し、第2屈曲部112bは回転軸110側に凸形状を有する。第1屈曲部112aは、流路が接続するB/F分離チャンバー102と回収チャンバー103のうち、回転軸110に近い側に位置するB/F分離チャンバー102と、第2屈曲部112bとの間に位置している。同様に、D流路114は、第1屈曲部114aおよび第2屈曲部114bを有している。第1屈曲部114aは回転軸110と反対側に凸形状を有し、第2屈曲部114bは回転軸110側に凸形状を有する。第1屈曲部114aは、流路が接続する反応チャンバー105とB/F分離チャンバー102のうち、回転軸110に近い側に位置する反応チャンバー105と、第2屈曲部114bとの間に位置している。   The B channel 112 and the D channel 114 can further control the movement of the liquid by the siphon principle. For this purpose, the B channel 112 has a first bent portion 112a and a second bent portion 112b. The first bent portion 112a has a convex shape on the side opposite to the rotary shaft 110, and the second bent portion 112b has a convex shape on the rotary shaft 110 side. The first bent portion 112a is between the B / F separation chamber 102 located on the side closer to the rotation shaft 110 in the B / F separation chamber 102 and the recovery chamber 103 to which the flow path is connected and the second bent portion 112b. Is located. Similarly, the D channel 114 has a first bent portion 114a and a second bent portion 114b. The first bent portion 114a has a convex shape on the side opposite to the rotary shaft 110, and the second bent portion 114b has a convex shape on the rotary shaft 110 side. The first bent portion 114a is located between the reaction chamber 105 and the B / F separation chamber 102 to which the flow path is connected, between the reaction chamber 105 located on the side closer to the rotation shaft 110 and the second bent portion 114b. ing.

回転軸110と、回転軸110から遠くに位置するチャンバーの最も回転軸に近い側面との距離をR1とし、回転軸110から、第1屈曲部の最も回転軸110から遠い側に位置する点までの距離をR2とした場合、R1>R2(条件1)を満たすことが好ましい。   The distance between the rotation axis 110 and the side surface closest to the rotation axis of the chamber located far from the rotation axis 110 is R1, and from the rotation axis 110 to the point located farthest from the rotation axis 110 of the first bent portion When R2 is R2, it is preferable that R1> R2 (condition 1) is satisfied.

また、回転軸110と、回転軸110に近くに位置するチャンバーに保持された液体が、遠心力によって、側面に偏って保持されている場合において、回転軸から液体の液面までの距離をR4とし、回転軸110から、第2折曲部の最も回転軸110に近い側に位置する点までの距離をR3とした場合、R4>R3(条件2)を満たすことが好ましい。   In addition, when the liquid held in the rotation shaft 110 and the chamber located near the rotation shaft 110 is held biased to the side surface by centrifugal force, the distance from the rotation shaft to the liquid surface of the liquid is expressed as R4. When the distance from the rotating shaft 110 to the point located closest to the rotating shaft 110 of the second bent portion is R3, it is preferable that R4> R3 (condition 2) is satisfied.

図3Dに示すように、B流路112およびD流路114について、距離R1〜R4をそれぞれ、距離2R1〜2R4、4R1〜4R4とした場合、条件1、2は以下のように示される。
B流路112
条件1:2R1>2R2
条件2:2R4>2R3
D流路114
条件1:4R1>4R2
条件2:4R4>4R3
As shown in FIG. 3D, conditions 1 and 2 are expressed as follows when distances R1 to R4 are set to distances 2R1 to 2R4 and 4R1 to 4R4 for the B channel 112 and the D channel 114, respectively.
B channel 112
Condition 1: 2R1> 2R2
Condition 2: 2R4> 2R3
D channel 114
Condition 1: 4R1> 4R2
Condition 2: 4R4> 4R3

B流路112が条件1、2を満たしていることによって、反応チャンバー105から反応液をB/F分離チャンバー102へ遠心力によって移送させる場合に、あるいは、A流路111からB/F分離チャンバー102へ洗浄液を移送させる際、B/F分離チャンバー102へ移送された反応液または洗浄液がそのまま回収チャンバー103へ移送されるのを防止し得る。   When the B channel 112 satisfies the conditions 1 and 2, when the reaction solution is transferred from the reaction chamber 105 to the B / F separation chamber 102 by centrifugal force, or from the A channel 111 to the B / F separation chamber When the cleaning liquid is transferred to 102, the reaction liquid or the cleaning liquid transferred to the B / F separation chamber 102 can be prevented from being transferred to the recovery chamber 103 as it is.

また、D流路114が条件1、2を満たしていることによって、反応チャンバー105において、複合体310を形成させ、反応液がB/F分離チャンバー102へ移送させるのを防止し得る。   Further, when the D channel 114 satisfies the conditions 1 and 2, the composite 310 can be formed in the reaction chamber 105, and the reaction liquid can be prevented from being transferred to the B / F separation chamber 102.

毛細管現象を利用する場合、各流路あるいはチャンバーは、例えば、50μm〜300μmの厚さを有している。厚さの異なるチャンバーの領域や流路を形成する場合、例えば、ベース基板100aに設ける空間の深さを異ならせることによって、異なる厚さを実現することができる。あるいは、ベース基板100aに設ける空間の深さは一定にし、カバー基板100bの各チャンバーや流路に対応する位置に高さの異なる凸部を設けることにより、各流路およびチャンバーの厚さを異ならせてもよい。   When utilizing the capillary phenomenon, each flow path or chamber has a thickness of 50 μm to 300 μm, for example. In the case of forming chamber regions and flow paths having different thicknesses, for example, different thicknesses can be realized by changing the depths of the spaces provided in the base substrate 100a. Alternatively, the depth of the space provided in the base substrate 100a is made constant, and convex portions having different heights are provided at positions corresponding to the respective chambers and flow paths of the cover substrate 100b, so that the thicknesses of the respective flow paths and chambers are different. It may be allowed.

洗浄液チャンバー101、B/F分離チャンバー102、回収チャンバー103、貯蔵チャンバー104および反応チャンバー105のそれぞれには少なくとも1つの空気孔108が設けられている。これにより、各チャンバー内が環境下の気圧に保たれ、毛細管現象およびサイフォンの原理によって各流路を移動し得る。また、反応チャンバー105および貯蔵チャンバー104には、検体溶液、反応溶液、洗浄液等などの液体を注入するための開口109が設けられていてもよい。また、空気孔108は開口109を兼ねていてもよい。   Each of the cleaning liquid chamber 101, the B / F separation chamber 102, the recovery chamber 103, the storage chamber 104, and the reaction chamber 105 is provided with at least one air hole 108. Thereby, the inside of each chamber is maintained at atmospheric pressure, and each flow path can be moved by the capillary phenomenon and siphon principle. In addition, the reaction chamber 105 and the storage chamber 104 may be provided with an opening 109 for injecting a liquid such as a sample solution, a reaction solution, or a cleaning solution. The air hole 108 may also serve as the opening 109.

(試料分析システム501の動作)
試料分析システム501の動作を説明する。図4は、試料分析システム501の動作を示すフローチャートである。試料分析システム501を動作させるための、試料分析システム501の各部を制御する手順を規定したプログラムが、例えば制御器205のメモリに記憶されており、演算器によるプログラムの実行により、以下の動作が実現する。以下の工程に先立ち、試料分析用基板100を試料分析装置200に装填し、試料分析用基板100の原点を検出する。
(Operation of sample analysis system 501)
The operation of the sample analysis system 501 will be described. FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the sample analysis system 501. A program that defines the procedure for controlling each part of the sample analysis system 501 for operating the sample analysis system 501 is stored in, for example, the memory of the controller 205, and the following operations are performed by executing the program by the arithmetic unit. Realize. Prior to the following steps, the sample analysis substrate 100 is loaded into the sample analysis apparatus 200, and the origin of the sample analysis substrate 100 is detected.

[ステップS1]
まず、図5に示すように、洗浄液を試料分析用基板100の貯蔵チャンバー104に導入する。また、反応チャンバー105に、磁性粒子固定化抗体305と、抗原306を含む検体と、標識抗体308を導入する。例えば、反応チャンバー105に磁性粒子固定化抗体305を含む液体が保持されており、試料分析用基板100に設けられた図示しないチャンバーが抗原306および標識抗体308を含む液体をそれぞれ別々に保持しており、試料分析用基板100の回転による遠心力でこれらが反応チャンバー105へ移送されてもよい。反応チャンバー105において、磁性粒子固定化抗体305と、抗原306を含む検体と、標識抗体308とを抗原抗体反応により、同時に反応させて複合体310を形成させる。この時点でC流路113およびD流路114は、毛細管現象によって、それぞれ、洗浄液および複合体310を含む反応液で満たされている。
[Step S1]
First, as shown in FIG. 5, the cleaning liquid is introduced into the storage chamber 104 of the sample analysis substrate 100. In addition, the magnetic particle-immobilized antibody 305, the specimen containing the antigen 306, and the labeled antibody 308 are introduced into the reaction chamber 105. For example, a liquid containing the magnetic particle-immobilized antibody 305 is held in the reaction chamber 105, and a chamber (not shown) provided on the sample analysis substrate 100 holds the liquid containing the antigen 306 and the labeled antibody 308 separately. These may be transferred to the reaction chamber 105 by a centrifugal force generated by the rotation of the sample analysis substrate 100. In the reaction chamber 105, the magnetic particle-immobilized antibody 305, the specimen containing the antigen 306, and the labeled antibody 308 are simultaneously reacted by an antigen-antibody reaction to form a complex 310. At this time, the C channel 113 and the D channel 114 are filled with the reaction solution containing the cleaning solution and the complex 310, respectively, by capillary action.

[ステップS2]
複合体310が生成した後、試料分析用基板100を回転させ、複合体310を含む反応液をB/F分離チャンバー102へ移動させる。この際、D流路114は、毛細管現象によって、反応液で満たされている。このため、反応チャンバー105の複合体310を含む反応液に、回転による遠心力が働くと、反応液はB/F分離チャンバー102へ移送される。B/F分離チャンバー102へ移送された反応液は、試料分析用基板100が回転している状態では、続いて回収チャンバー103へ移送されることはない。前述したようにB流路112がサイフォンを構成しているため、遠心力に逆らって、液体がB流路112を回転軸110に向かう方向へ移動しないからである。B/F分離チャンバー102へ移送された複合体310を含む反応液のうち、磁性粒子311の多くは、磁石116の磁力により側面102sに捕捉される。
[Step S2]
After the complex 310 is generated, the sample analysis substrate 100 is rotated, and the reaction solution containing the complex 310 is moved to the B / F separation chamber 102. At this time, the D channel 114 is filled with the reaction solution by capillary action. For this reason, when the centrifugal force by rotation acts on the reaction liquid containing the complex 310 of the reaction chamber 105, the reaction liquid is transferred to the B / F separation chamber 102. The reaction liquid transferred to the B / F separation chamber 102 is not subsequently transferred to the recovery chamber 103 while the sample analysis substrate 100 is rotating. This is because, as described above, the B channel 112 forms a siphon, so that the liquid does not move in the direction toward the rotating shaft 110 against the centrifugal force against the centrifugal force. Of the reaction liquid containing the composite 310 transferred to the B / F separation chamber 102, most of the magnetic particles 311 are captured on the side surface 102 s by the magnetic force of the magnet 116.

試料分析用基板100の回転速度は、回転による遠心力が生じることにより、反応液等の液体が重力によって移動しないような速度が設定される。以下、遠心力を利用する回転には、この回転速度が設定される。   The rotation speed of the sample analysis substrate 100 is set such that a liquid such as a reaction liquid does not move due to gravity due to the centrifugal force generated by the rotation. Hereinafter, this rotation speed is set for rotation using centrifugal force.

反応液の移動と同時に、洗浄液が貯蔵チャンバー104からC流路113を通って、洗浄液チャンバー101へ移送される。   Simultaneously with the movement of the reaction liquid, the cleaning liquid is transferred from the storage chamber 104 to the cleaning liquid chamber 101 through the C channel 113.

反応液および洗浄液をそれぞれすべてB/F分離チャンバー102および洗浄液チャンバー101へ移送させた後、所定の角度で試料分析用基板100を停止させる。図6に示すように、所定の第1の角度とは、試料分析用基板100において、洗浄液チャンバー101へ移送された洗浄液が、洗浄液チャンバー101の接続部101cと接触せず、かつ、B/F分離チャンバー102へ移行された反応液が、B流路112の開口と接することのできる角度である。この角度は、洗浄液チャンバー101およびB/F分離チャンバー102の形状や基板100’内における位置、洗浄液および反応液の量、試料分析用基板100の傾斜角度θ等に依存する。例えば図6に示す例では、試料分析用基板100と平行な平面に投影された試料分析システム501における鉛直方向(矢印で示す)が、試料分析用基板100のδ1で示す角度範囲内にあればよい。   After the reaction solution and the cleaning solution are all transferred to the B / F separation chamber 102 and the cleaning solution chamber 101, the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined angle. As shown in FIG. 6, the predetermined first angle means that the cleaning liquid transferred to the cleaning liquid chamber 101 in the sample analysis substrate 100 does not come into contact with the connection portion 101 c of the cleaning liquid chamber 101, and B / F This is the angle at which the reaction solution transferred to the separation chamber 102 can come into contact with the opening of the B channel 112. This angle depends on the shape of the cleaning liquid chamber 101 and the B / F separation chamber 102, the position in the substrate 100 ', the amounts of the cleaning liquid and the reaction liquid, the inclination angle θ of the sample analysis substrate 100, and the like. For example, in the example shown in FIG. 6, if the vertical direction (indicated by an arrow) in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 is within the angle range indicated by δ1 of the sample analysis substrate 100. Good.

B/F分離チャンバー102内の反応液は、B流路112の開口と接することによって、毛細管現象により、B流路112を満たす。   The reaction liquid in the B / F separation chamber 102 fills the B channel 112 by capillary action by contacting the opening of the B channel 112.

[ステップS3(工程(a))]
試料分析用基板100を回転させる。回転にともない遠心力が発生し、B/F分離チャンバー102内の反応液および磁性粒子311(複合体310および未反応の磁性粒子固定化抗体305)に働く。この遠心力は、液体及び複合体がB/F分離チャンバー102の側面102s側へ移動するように働く。このため、図7に示すように、磁性粒子311は、側面102sに押し付けられる。
[Step S3 (Step (a))]
The sample analysis substrate 100 is rotated. A centrifugal force is generated with the rotation, and acts on the reaction solution and the magnetic particles 311 (complex 310 and unreacted magnetic particle-immobilized antibody 305) in the B / F separation chamber 102. This centrifugal force acts so that the liquid and the complex move toward the side surface 102s of the B / F separation chamber 102. For this reason, as shown in FIG. 7, the magnetic particles 311 are pressed against the side surface 102s.

遠心力を受けた反応液はB流路112から排出され、回収チャンバー103の第1副チャンバー103Aへ移送される。この時、反応液の一部が第1副チャンバー103Aに位置する液体吸収部材121と接触し、液体吸収部材121に吸収されてもよい。反応液はさらに、遠心力によって第1副チャンバー103Aに接続された連結部115の開口から連結部115を通って第2副チャンバー103Bへ移送される。第2副チャンバー103B移送された反応液の一部または全部は液体吸収部材122と接触し、吸収される。   The reaction solution that has received the centrifugal force is discharged from the B flow path 112 and transferred to the first sub chamber 103 </ b> A of the recovery chamber 103. At this time, a part of the reaction liquid may come into contact with the liquid absorbing member 121 located in the first sub chamber 103 </ b> A and be absorbed by the liquid absorbing member 121. The reaction solution is further transferred to the second sub chamber 103B through the connecting portion 115 from the opening of the connecting portion 115 connected to the first sub chamber 103A by centrifugal force. Part or all of the reaction liquid transferred to the second sub chamber 103B comes into contact with the liquid absorbing member 122 and is absorbed.

遠心力および磁石116の吸引力の和によって、磁性粒子311は側面102sに強く押し付けられ、捕捉される。その結果、反応液のみがB流路112から排出され、磁性粒子311はB/F分離チャンバー102にとどまる。洗浄液チャンバー101内の洗浄液は、回転による遠心力を受け、第2領域101bへ移動する。反応液の第2副チャンバー103Bへの移送が完了した後、試料分析用基板100の回転を停止させる。   Due to the sum of the centrifugal force and the attractive force of the magnet 116, the magnetic particles 311 are strongly pressed against the side surface 102s and captured. As a result, only the reaction solution is discharged from the B channel 112, and the magnetic particles 311 remain in the B / F separation chamber 102. The cleaning liquid in the cleaning liquid chamber 101 receives a centrifugal force due to rotation and moves to the second region 101b. After the transfer of the reaction liquid to the second sub chamber 103B is completed, the rotation of the sample analysis substrate 100 is stopped.

これにより、反応液と磁性粒子311とが分離される。具体的には、反応液は、回収チャンバー103の第2副チャンバー103Bへ移動し、磁性粒子311はB/F分離チャンバー102にとどまる。試料分析用基板100の回転が停止しても磁石116から受ける吸引力により、磁性粒子311は、側面102sに集まったままの状態を維持し得る。この時の停止角度は、第1の角度であってもよいし、次のステップの第2の角度であってもよく、他の角度であってもよい。   Thereby, the reaction solution and the magnetic particles 311 are separated. Specifically, the reaction liquid moves to the second sub chamber 103 </ b> B of the recovery chamber 103, and the magnetic particles 311 remain in the B / F separation chamber 102. Even when the rotation of the sample analysis substrate 100 stops, the magnetic particles 311 can remain in the state of being collected on the side surface 102s by the attractive force received from the magnet 116. The stop angle at this time may be the first angle, the second angle of the next step, or another angle.

[ステップS4]
図8に示すように、試料分析用基板100を少し回転させ、所定の第2の角度で停止させる。第2の角度は洗浄液チャンバー101へ移送された洗浄液が、洗浄液チャンバー101の接続部101cと接触する角度である。例えば図8に示す例では、試料分析用基板100のδ2で示す角度範囲内に鉛直方向が位置する角度である。
[Step S4]
As shown in FIG. 8, the sample analysis substrate 100 is slightly rotated and stopped at a predetermined second angle. The second angle is an angle at which the cleaning liquid transferred to the cleaning liquid chamber 101 comes into contact with the connection portion 101 c of the cleaning liquid chamber 101. For example, in the example illustrated in FIG. 8, the vertical direction is an angle within the angle range indicated by δ <b> 2 of the sample analysis substrate 100.

洗浄液は接続部101c、A流路111の第1部分111aおよび第2部分111bにおける毛細管力によって洗浄液チャンバー101から吸い込まれ、A流路111の第1部分111aおよび第2部分111bが洗浄液で満たされる。これにより、1回分の洗浄液が秤量される。   The cleaning liquid is sucked from the cleaning liquid chamber 101 by the capillary force in the connecting portion 101c, the first part 111a and the second part 111b of the A channel 111, and the first part 111a and the second part 111b of the A channel 111 are filled with the cleaning liquid. . Thereby, the washing | cleaning liquid for 1 time is weighed.

A流路111が確実に洗浄液で満たされるように、第2の角度を中心として、時計回りおよび反時計回りに交互に数度程度回転させる、つまり揺動させてもよい。A流路111には毛細管力が働くため、このとき、A流路111の第2部分111bからB/F分離チャンバー102へ洗浄液が移動することはない。   In order to ensure that the A channel 111 is filled with the cleaning liquid, it may be rotated by several degrees alternately, that is, swung around the second angle clockwise and counterclockwise. Since capillary force acts on the A channel 111, the cleaning liquid does not move from the second portion 111 b of the A channel 111 to the B / F separation chamber 102 at this time.

第2の角度における試料分析用基板100の停止によって、第2副チャンバー103Bへ移動した洗浄液が液体吸収部材122と接触する場合には、さらに洗浄液が液体吸収部材122に吸収されてもよい。   When the cleaning liquid moved to the second sub chamber 103B comes into contact with the liquid absorbing member 122 by stopping the sample analysis substrate 100 at the second angle, the cleaning liquid may be further absorbed by the liquid absorbing member 122.

[ステップS5]
続いて、試料分析用基板100を回転させる。回転による遠心力がA流路111および洗浄液チャンバー101内の洗浄液に働く。図9に示すように、A流路111内の洗浄液は、遠心力によってB/F分離チャンバー102へ移送される。一方、洗浄液チャンバー101内の第1領域101aに位置していた余分な洗浄液は、遠心力によって洗浄液チャンバー101内の第2領域101bへ移動する。よって、A流路111によって秤量された洗浄液だけがB/F分離チャンバー102へ移送される。B/F分離チャンバー102へ移送された洗浄液にも遠心力が働くため、洗浄液はB流路112において回転軸110方向に移動せず、洗浄液は実質的にB/F分離チャンバー102内にとどまる。これにより、B/F分離チャンバー102内の磁性粒子311が洗浄液と接触し、1回目の洗浄が行われる。
[Step S5]
Subsequently, the sample analysis substrate 100 is rotated. The centrifugal force due to the rotation acts on the cleaning liquid in the A channel 111 and the cleaning liquid chamber 101. As shown in FIG. 9, the cleaning liquid in the A channel 111 is transferred to the B / F separation chamber 102 by centrifugal force. On the other hand, the excess cleaning liquid located in the first area 101a in the cleaning liquid chamber 101 moves to the second area 101b in the cleaning liquid chamber 101 by centrifugal force. Therefore, only the cleaning liquid weighed by the A channel 111 is transferred to the B / F separation chamber 102. Since the centrifugal force also acts on the cleaning liquid transferred to the B / F separation chamber 102, the cleaning liquid does not move in the direction of the rotation axis 110 in the B channel 112, and the cleaning liquid substantially remains in the B / F separation chamber 102. Thereby, the magnetic particles 311 in the B / F separation chamber 102 come into contact with the cleaning liquid, and the first cleaning is performed.

図10に示すように、A流路111内の洗浄液がB/F分離チャンバー102へすべて移動した後、所定の第3の角度で試料分析用基板100を停止させる。第3の角度は、洗浄液チャンバー101の洗浄液が、接続部101cと接触せず、かつ、B/F分離チャンバー102へ移行された洗浄液が、B流路112の開口と接することのできる角度である。例えば図10に示す例では、試料分析用基板100と平行な平面に投影された試料分析システム501における鉛直方向が、試料分析用基板100上においてδ3で示す角度範囲内にあればよい。   As shown in FIG. 10, after all the cleaning liquid in the A channel 111 has moved to the B / F separation chamber 102, the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined third angle. The third angle is an angle at which the cleaning liquid in the cleaning liquid chamber 101 does not come into contact with the connection part 101 c and the cleaning liquid transferred to the B / F separation chamber 102 can come into contact with the opening of the B flow path 112. . For example, in the example shown in FIG. 10, the vertical direction in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 may be within the angle range indicated by δ3 on the sample analysis substrate 100.

B/F分離チャンバー102内の洗浄液は、B流路112の開口と接することによって、毛細管現象により、B流路112を満たす。   The cleaning liquid in the B / F separation chamber 102 contacts the opening of the B channel 112 and fills the B channel 112 by capillary action.

[ステップS6]
試料分析用基板100を回転させる。回転にともない遠心力が発生し、B/F分離チャンバー102内の洗浄液および磁性粒子311に働く。この遠心力は、洗浄液及び磁性粒子311がB/F分離チャンバー102の側面102s側へ移動するように働き、磁性粒子311は遠心力および磁石116による吸引力によって側面102sにおいて捕捉される。
[Step S6]
The sample analysis substrate 100 is rotated. A centrifugal force is generated with the rotation, and acts on the cleaning liquid and the magnetic particles 311 in the B / F separation chamber 102. This centrifugal force acts so that the cleaning liquid and the magnetic particles 311 move to the side surface 102 s of the B / F separation chamber 102, and the magnetic particles 311 are captured on the side surface 102 s by the centrifugal force and the attractive force by the magnet 116.

遠心力を受けた洗浄液はB流路112から排出され、回収チャンバー103の第1副チャンバー103Aへ移送される。この時、洗浄液の一部が第1副チャンバー103Aに位置する液体吸収部材121と接触し、液体吸収部材121に吸収されてもよい。さらに、洗浄液は連結部115を通って第2副チャンバー103Bへ移送される。液体吸収部材122の容量が大きく、液体を吸収可能な空間が残っている場合には、移送された洗浄液の一部または全部はさらに、液体吸収部材122に吸収される。   The cleaning liquid that has received the centrifugal force is discharged from the B flow path 112 and transferred to the first sub chamber 103 </ b> A of the recovery chamber 103. At this time, a part of the cleaning liquid may come into contact with the liquid absorbing member 121 located in the first sub chamber 103 </ b> A and be absorbed by the liquid absorbing member 121. Further, the cleaning liquid is transferred to the second sub chamber 103B through the connecting portion 115. When the capacity of the liquid absorbing member 122 is large and a space capable of absorbing the liquid remains, a part or all of the transferred cleaning liquid is further absorbed by the liquid absorbing member 122.

このため、図11に示すように、洗浄液のみがB流路112から排出され、磁性粒子311はB/F分離チャンバー102にとどまる。洗浄液チャンバー101内の洗浄液は、回転による遠心力を受け、第2領域101bへ移動する。洗浄液の第2副チャンバー103Bへの移送が完了した後、試料分析用基板100の回転を停止させる。これにより、洗浄液と磁性粒子311とが分離される。具体的には、洗浄液は、回収チャンバー103の第2副チャンバー103Bへ移動し、磁性粒子311はB/F分離チャンバー102にとどまる。試料分析用基板100の回転が停止しても磁石116から受ける吸引力により、磁性粒子311は、側面102sに集まったままの状態を維持し得る。この時の停止角度は、第3の角度であってもよいし、次のステップの第4の角度であってもよい。   For this reason, as shown in FIG. 11, only the cleaning liquid is discharged from the B channel 112, and the magnetic particles 311 remain in the B / F separation chamber 102. The cleaning liquid in the cleaning liquid chamber 101 receives a centrifugal force due to rotation and moves to the second region 101b. After the transfer of the cleaning liquid to the second sub chamber 103B is completed, the rotation of the sample analysis substrate 100 is stopped. As a result, the cleaning liquid and the magnetic particles 311 are separated. Specifically, the cleaning liquid moves to the second sub chamber 103 </ b> B of the recovery chamber 103, and the magnetic particles 311 remain in the B / F separation chamber 102. Even when the rotation of the sample analysis substrate 100 stops, the magnetic particles 311 can remain in the state of being collected on the side surface 102s by the attractive force received from the magnet 116. The stop angle at this time may be the third angle or the fourth angle of the next step.

[ステップS7(工程(e))]
図12に示すように、試料分析用基板100を少し回転させ、所定の第4の角度で停止させる。第4の角度は洗浄液チャンバー101へ移送された洗浄液が、洗浄液チャンバー101の接続部101cと接触する角度である。例えば図12に示す例では、試料分析用基板100のδ4で示す角度範囲内に鉛直方向が位置する角度である。ステップS4における洗浄液チャンバー101内に残っている洗浄液の量が異なるため、角度範囲δ4は角度範囲δ2と異なり得る。
[Step S7 (Process (e))]
As shown in FIG. 12, the sample analysis substrate 100 is slightly rotated and stopped at a predetermined fourth angle. The fourth angle is an angle at which the cleaning liquid transferred to the cleaning liquid chamber 101 comes into contact with the connection portion 101 c of the cleaning liquid chamber 101. For example, in the example shown in FIG. 12, the vertical direction is an angle within the angle range indicated by δ4 of the sample analysis substrate 100. Since the amount of the cleaning liquid remaining in the cleaning liquid chamber 101 in step S4 is different, the angle range δ4 may be different from the angle range δ2.

洗浄液は接続部101c、A流路111の第1部分111aおよび第2部分111bにおける毛細管力によって洗浄液チャンバー101から吸い込まれ、A流路111の第1部分111aおよび第2部分111bが洗浄液で満たされる。これにより再度1回分の洗浄液が秤量される。   The cleaning liquid is sucked from the cleaning liquid chamber 101 by the capillary force in the connecting portion 101c, the first part 111a and the second part 111b of the A channel 111, and the first part 111a and the second part 111b of the A channel 111 are filled with the cleaning liquid. . Thereby, the cleaning liquid for one time is weighed again.

A流路111が確実に洗浄液で満たされるように、第2の角度を中心として、試料分析用基板100を揺動させてもよい。A流路111には毛細管力が働くため、このとき、A流路111の第2部分111bからB/F分離チャンバー102へ洗浄液が移動することはない。   The sample analysis substrate 100 may be swung around the second angle so that the A channel 111 is reliably filled with the cleaning liquid. Since capillary force acts on the A channel 111, the cleaning liquid does not move from the second portion 111 b of the A channel 111 to the B / F separation chamber 102 at this time.

[ステップS8]
続いて、試料分析用基板100を回転させる。回転による遠心力がA流路111および洗浄液チャンバー101内の洗浄液に働く。図13に示すように、A流路111内の洗浄液は、遠心力によってB/F分離チャンバー102へ移送される。一方、洗浄液チャンバー101内の第1領域101aに位置していた余分な洗浄液は、遠心力によって洗浄液チャンバー101内の第2領域101bへ移動する。よって、A流路111によって秤量された洗浄液だけがB/F分離チャンバー102へ移送される。B/F分離チャンバー102へ移送された洗浄液にも遠心力が働くため、洗浄液はB流路112において回転軸110方向に移動せず、洗浄液は実質的にB/F分離チャンバー102内にとどまる。これにより、B/F分離チャンバー102内の磁性粒子311が洗浄液と接触し、2回目の洗浄が行われる。
[Step S8]
Subsequently, the sample analysis substrate 100 is rotated. The centrifugal force due to the rotation acts on the cleaning liquid in the A channel 111 and the cleaning liquid chamber 101. As shown in FIG. 13, the cleaning liquid in the A channel 111 is transferred to the B / F separation chamber 102 by centrifugal force. On the other hand, the excess cleaning liquid located in the first area 101a in the cleaning liquid chamber 101 moves to the second area 101b in the cleaning liquid chamber 101 by centrifugal force. Therefore, only the cleaning liquid weighed by the A channel 111 is transferred to the B / F separation chamber 102. Since the centrifugal force also acts on the cleaning liquid transferred to the B / F separation chamber 102, the cleaning liquid does not move in the direction of the rotation axis 110 in the B channel 112, and the cleaning liquid substantially remains in the B / F separation chamber 102. Thereby, the magnetic particles 311 in the B / F separation chamber 102 come into contact with the cleaning liquid, and the second cleaning is performed.

A流路111内の洗浄液がB/F分離チャンバー102へすべて移動した後、図14に示すように、所定の第5の角度で試料分析用基板100を停止させる。第5の角度は、洗浄液チャンバー101の洗浄液が、接続部101cと接触せず、かつ、B/F分離チャンバー102へ移行された洗浄液が、B流路112の開口と接することのできる角度である。例えば図14示す例では、試料分析用基板100と平行な平面に投影された試料分析システム501における鉛直方向が、試料分析用基板100上においてδ5で示す角度範囲内にあればよい。   After all the cleaning liquid in the A channel 111 has moved to the B / F separation chamber 102, the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined fifth angle as shown in FIG. The fifth angle is an angle at which the cleaning liquid in the cleaning liquid chamber 101 does not come into contact with the connection portion 101 c and the cleaning liquid transferred to the B / F separation chamber 102 can come into contact with the opening of the B flow path 112. . For example, in the example illustrated in FIG. 14, the vertical direction in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 may be within the angle range indicated by δ5 on the sample analysis substrate 100.

B/F分離チャンバー102内の洗浄液は、B流路112の開口と接することによって、毛細管現象により、B流路112を満たす。   The cleaning liquid in the B / F separation chamber 102 contacts the opening of the B channel 112 and fills the B channel 112 by capillary action.

[ステップS9]
試料分析用基板100を回転させる。回転にともない遠心力が発生し、B/F分離チャンバー102内の洗浄液および磁性粒子311に働く。この遠心力は、洗浄液及び磁性粒子311がB/F分離チャンバー102の側面102s側へ移動するように働き、磁性粒子311は遠心力および磁石116による吸引力によって側面102sにおいて捕捉される。
[Step S9]
The sample analysis substrate 100 is rotated. A centrifugal force is generated with the rotation, and acts on the cleaning liquid and the magnetic particles 311 in the B / F separation chamber 102. This centrifugal force acts so that the cleaning liquid and the magnetic particles 311 move to the side surface 102 s of the B / F separation chamber 102, and the magnetic particles 311 are captured on the side surface 102 s by the centrifugal force and the attractive force by the magnet 116.

遠心力を受けた洗浄液はB流路112から排出され、回収チャンバー103の第1副チャンバー103Aへ移送される。さらに、洗浄液は連結部115を通って第2副チャンバー103Bへ移送される。   The cleaning liquid that has received the centrifugal force is discharged from the B flow path 112 and transferred to the first sub chamber 103 </ b> A of the recovery chamber 103. Further, the cleaning liquid is transferred to the second sub chamber 103B through the connecting portion 115.

このため、図15に示すように、洗浄液のみがB流路112から排出され、磁性粒子311はB/F分離チャンバー102にとどまる。洗浄液チャンバー101内の洗浄液は、回転による遠心力を受け、第2領域101bへ移動する。洗浄液の第2副チャンバー103Bへの移送が完了した後、試料分析用基板100の回転を停止させる。これにより、洗浄液と磁性粒子311とが分離される。具体的には、洗浄液は、回収チャンバー103の第2副チャンバー103Bへ移動し、磁性粒子311はB/F分離チャンバー102にとどまる。試料分析用基板100の回転が停止しても磁石116から受ける吸引力により、磁性粒子311は、側面102sに集まったままの状態を維持し得る。   For this reason, as shown in FIG. 15, only the cleaning liquid is discharged from the B channel 112, and the magnetic particles 311 remain in the B / F separation chamber 102. The cleaning liquid in the cleaning liquid chamber 101 receives a centrifugal force due to rotation and moves to the second region 101b. After the transfer of the cleaning liquid to the second sub chamber 103B is completed, the rotation of the sample analysis substrate 100 is stopped. As a result, the cleaning liquid and the magnetic particles 311 are separated. Specifically, the cleaning liquid moves to the second sub chamber 103 </ b> B of the recovery chamber 103, and the magnetic particles 311 remain in the B / F separation chamber 102. Even when the rotation of the sample analysis substrate 100 stops, the magnetic particles 311 can remain in the state of being collected on the side surface 102s by the attractive force received from the magnet 116.

この時、洗浄液の一部が第1副チャンバー103Aに位置する液体吸収部材121と接触し、液体吸収部材121に吸収されてもよい。さらに、第2副チャンバー103Bにおいて、移送された洗浄液の一部または全部はさらに、液体吸収部材122に吸収されてもよい。   At this time, a part of the cleaning liquid may come into contact with the liquid absorbing member 121 located in the first sub chamber 103 </ b> A and be absorbed by the liquid absorbing member 121. Further, in the second sub chamber 103 </ b> B, a part or all of the transferred cleaning liquid may be further absorbed by the liquid absorbing member 122.

以上の工程によって、B/F分離、具体的には、磁性粒子311と種々の未反応物および洗浄液とが分離される。   Through the above steps, B / F separation, specifically, the magnetic particles 311 and various unreacted substances and cleaning liquid are separated.

その後、光学測定器207を用いて、磁性粒子311に含まれる複合体310に結合した標識抗体308の標識物質307に応じた色素、発光、蛍光等のシグナルを検出する。これにより、抗原306の検出、抗原306の濃度の定量等を行うことができる。   Thereafter, a signal such as a dye, luminescence, or fluorescence corresponding to the labeling substance 307 of the labeled antibody 308 bound to the complex 310 included in the magnetic particle 311 is detected using the optical measuring device 207. Thereby, detection of the antigen 306, quantification of the concentration of the antigen 306, and the like can be performed.

(液体吸収部材)
上述した試料分析用基板100における反応液および洗浄液の移動において、液体吸収部材121、122の機能を説明する。図16Aは、液体吸収部材121、122を備えない試料分析基板において、第2副チャンバー103Bに反応液および洗浄液の少なくも一方が移送された状態を示している。この反応液および洗浄液は、まず第1副チャンバー103Aへ移送され、続いて第2副チャンバー103Bへ移送される。この時、何らかの理由によって、第1副チャンバー103Aに反応液または洗浄液の一部が残留する場合がある。また、連結部115は重力によって液体が移動可能であるため、試料分析用基板100の停止角度位置によっては、第2副チャンバー103B内の反応液または洗浄液が、連結部115を介して第1副チャンバー103Aへ逆流する場合がある。
(Liquid absorbing member)
The functions of the liquid absorbing members 121 and 122 in the movement of the reaction solution and the cleaning solution in the sample analysis substrate 100 described above will be described. FIG. 16A shows a state in which at least one of the reaction liquid and the cleaning liquid is transferred to the second sub chamber 103B in the sample analysis substrate that does not include the liquid absorbing members 121 and 122. The reaction liquid and the cleaning liquid are first transferred to the first sub chamber 103A, and then transferred to the second sub chamber 103B. At this time, a part of the reaction liquid or the cleaning liquid may remain in the first sub chamber 103A for some reason. Further, since the liquid can move in the connecting portion 115 by gravity, depending on the stop angle position of the sample analysis substrate 100, the reaction liquid or the cleaning liquid in the second sub chamber 103B may be transferred via the connecting portion 115. There is a case where the gas flows backward to the chamber 103A.

この場合、図16Bに示すように、B流路112と第1副チャンバー103Aとの接続部分が鉛直方向の下方に位置するように試料分析用基板100が停止すると、第1副チャンバー103A内の反応液および洗浄液が毛細管力によってB流路112を満たす。このため、B/F分離チャンバー102内の反応液または洗浄液を回収チャンバー103の第1副チャンバー103Aへ移送させることができなくなる可能性がある。   In this case, as shown in FIG. 16B, when the sample analysis substrate 100 is stopped so that the connection portion between the B channel 112 and the first sub chamber 103A is positioned below the vertical direction, the inside of the first sub chamber 103A is stopped. The reaction solution and the cleaning solution fill the B channel 112 by capillary force. For this reason, there is a possibility that the reaction liquid or the cleaning liquid in the B / F separation chamber 102 cannot be transferred to the first sub chamber 103 </ b> A of the recovery chamber 103.

これに対し、図3Bに示すように、第1副チャンバー103Aに液体吸収部材121を備える場合には、第1副チャンバー103Aに残留している反応液または洗浄液の少なくとも一部を液体吸収部材121が吸収する。このため、第1副チャンバー103A内の反応液または洗浄液がB流路112へ逆流する可能性を小さくすることができる。   On the other hand, as shown in FIG. 3B, when the first sub chamber 103A includes the liquid absorbing member 121, at least a part of the reaction liquid or the cleaning liquid remaining in the first sub chamber 103A is removed from the liquid absorbing member 121. Absorbs. For this reason, it is possible to reduce the possibility that the reaction liquid or the cleaning liquid in the first sub chamber 103 </ b> A flows backward to the B channel 112.

また、第2副チャンバー103Bに液体吸収部材122を備える場合には、第2副チャンバー103B内の反応液または洗浄液の少なくとも一部を液体吸収部材121が吸収する。このため、第2副チャンバー103B内の反応液または洗浄液が連結部115を通って第1副チャンバー103Aへ移動し、更にB流路112へ逆流する可能性を小さくすることができる。   When the liquid absorption member 122 is provided in the second sub chamber 103B, the liquid absorption member 121 absorbs at least a part of the reaction liquid or the cleaning liquid in the second sub chamber 103B. For this reason, it is possible to reduce the possibility that the reaction liquid or the cleaning liquid in the second sub chamber 103B moves to the first sub chamber 103A through the connecting portion 115 and further flows back to the B flow path 112.

つまり、液体吸収部材121および液体吸収部材122は、回収チャンバー103へ移送された液体をより確実に内部に保持する。この機能は、本実施形態の試料分析用基板100の他の特徴と独立して発揮され得るが、反応液、洗浄液等を2回以上に分けて回収チャンバー103へ移動させる場合に、好適に用いられる。回収チャンバー103に反応液または洗浄液が複数回移送される場合、反応液または1回目の洗浄液が回収チャンバー103へ移動した後に、試料分析用基板100が種々の角度位置で停止することがあり、停止した角度位置によっては上述したように反応液または洗浄液がB/F分離チャンバー102へ逆流する可能性が生じるからである。   That is, the liquid absorbing member 121 and the liquid absorbing member 122 hold the liquid transferred to the recovery chamber 103 more reliably inside. This function can be exhibited independently of other features of the sample analysis substrate 100 of the present embodiment, but is preferably used when the reaction solution, the cleaning solution, etc. are moved to the collection chamber 103 in two or more steps. It is done. When the reaction liquid or the cleaning liquid is transferred to the recovery chamber 103 a plurality of times, the sample analysis substrate 100 may stop at various angular positions after the reaction liquid or the first cleaning liquid has moved to the recovery chamber 103. This is because the reaction liquid or the cleaning liquid may flow back to the B / F separation chamber 102 as described above depending on the angle position.

このように本実施形態の試料分析用基板、試料分析装置及び試料分析システムによれば、同じチャンバーに、液体を複数回に分けて、導入することができる。このため、試料分析用基板を用いてB/F分離をする場合、十分な洗浄を行うことができる。液体を秤量する際、毛細管力を発現する流路を利用するため、各秤量をより確実にかつより正確に行うことが可能である。また、この動作は、試料分析用基板の回転および停止の制御と、停止時の角度の制御によって、実現し得る。このため、大型の分析機器を用いたり、操作者が手動で操作することなく、B/F分離を含む複雑な反応ステップを介して検体中の成分の分析が行われる分析法に好適に適用可能である。   As described above, according to the sample analysis substrate, sample analysis apparatus, and sample analysis system of the present embodiment, the liquid can be introduced into the same chamber in a plurality of times. For this reason, when performing B / F separation using the sample analysis substrate, sufficient cleaning can be performed. When the liquid is weighed, a flow path that develops a capillary force is used, so that each weighing can be performed more reliably and accurately. This operation can be realized by controlling the rotation and stop of the sample analysis substrate and controlling the angle at the time of stop. For this reason, it can be suitably applied to analysis methods in which components in a sample are analyzed through complex reaction steps including B / F separation without using a large analytical instrument or manually operated by an operator. It is.

なお、上記実施形態で図示した試料分析用基板の各チャンバーおよび流路の形状や配置は一例であり、種々の改変が可能である。例えば図17に示す試料分析用基板150は、第1領域101a’と第2領域101bとを含む洗浄液チャンバー101を有している。第1領域101a’は図3Bに示す試料分析用基板100とは異なり、接続部101cを有しておらず、第1の領域の第1開口111cから回転軸110より遠い側に向けて延伸する部分のみを含んでいる。第1領域101a’は全体が毛細管現象により第2領域101b内に保持された液体を吸引すること可能である。全体が毛細管現象により、洗浄液チャンバー101に保持された洗浄液を吸引し、保持することが可能である。第1領域101a’の一端はA流路111の第1開口111cと接続されており、第2領域101bは、第1開口111cよりも回転軸110から遠い位置において第1領域101aと接続している。試料分析用基板150も上述したように、A流路111によって一回分の洗浄液を秤量することができる。試料分析用基板150によれば、第1領域101a’の第2領域101bと接続する部分が洗浄液と接していれば、毛細管力により、第1領域101a’およびA流路111を洗浄液で満たすことができる。このため、試料分析用基板100よりも広い回転角度範囲で、A流路111に洗浄液を満たすことが可能となり、第1の角度範囲δ1、第2の角度範囲δ2が広くなる。よって、試料分析システムにおける制御の自由度が高められる。   In addition, the shape and arrangement of each chamber and flow path of the sample analysis substrate illustrated in the above embodiment are merely examples, and various modifications can be made. For example, the sample analysis substrate 150 shown in FIG. 17 has a cleaning liquid chamber 101 including a first region 101a 'and a second region 101b. Unlike the sample analysis substrate 100 shown in FIG. 3B, the first region 101a ′ does not have the connection portion 101c and extends from the first opening 111c in the first region toward the side farther from the rotation shaft 110. Contains only part. The entire first region 101a 'can suck the liquid held in the second region 101b by capillary action. The cleaning liquid held in the cleaning liquid chamber 101 can be sucked and held by the capillary action as a whole. One end of the first region 101a ′ is connected to the first opening 111c of the A channel 111, and the second region 101b is connected to the first region 101a at a position farther from the rotation shaft 110 than the first opening 111c. Yes. As described above, the sample analysis substrate 150 can weigh the cleaning liquid for one time by the A channel 111. According to the sample analysis substrate 150, if the portion of the first region 101a ′ connected to the second region 101b is in contact with the cleaning liquid, the first region 101a ′ and the A channel 111 are filled with the cleaning liquid by capillary force. Can do. For this reason, it becomes possible to fill the A channel 111 with the cleaning liquid in a rotation angle range wider than that of the sample analysis substrate 100, and the first angle range δ1 and the second angle range δ2 become wide. Therefore, the degree of freedom of control in the sample analysis system is increased.

また、図18に示すように、試料分析用基板160は、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー13Bにそれぞれ位置する液体吸収部材121’、122’を更に備えていてもよい。   As shown in FIG. 18, the sample analysis substrate 160 may further include liquid absorbing members 121 'and 122' located in the first sub chamber 103A and the second sub chamber 13B, respectively.

液体吸収部材121’は、第1副チャンバー103A内の空間において、回転軸から遠い側に位置する壁面103Asに沿って、かつ、空間103Abを残すように、液体吸収部材121’が設けられている。同様に、液体吸収部材122’は、第2副チャンバー103B内の空間において、回転軸から遠い側に位置する壁面103Bsに沿って液体吸収部材122’が設けられている。   The liquid absorbing member 121 ′ is provided in the space in the first sub chamber 103A so as to leave the space 103Ab along the wall surface 103As located on the side far from the rotation axis. . Similarly, the liquid absorbing member 122 'is provided along the wall surface 103Bs located on the far side from the rotation axis in the space in the second sub chamber 103B.

この構成によれば、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー13Bに移送された反応液および洗浄液の一部は、確実に液体吸収部材121’および形態吸収部材、122’と接触し、吸収される。よって、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー103B内の反応液または洗浄液がB流路112へ逆流する可能性をより小さくすることができる。   According to this configuration, the reaction liquid and a part of the cleaning liquid transferred to the first sub chamber 103A and the second sub chamber 13B are surely brought into contact with and absorbed by the liquid absorbing member 121 ′ and the shape absorbing member 122 ′. The Therefore, the possibility that the reaction liquid or the cleaning liquid in the first sub chamber 103 </ b> A and the second sub chamber 103 </ b> B flows backward to the B channel 112 can be further reduced.

さらに、図3Bおよび図18に示す形態では、第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー13Bに配置する液体吸収部材の数はそれぞれ1であるが、2以上の液体吸収部材を第1副チャンバー103Aおよび第2副チャンバー13Bの一方または両方において、隣接した位置または異なる位置に配置してもよい。   3B and FIG. 18, the number of liquid absorbing members arranged in the first sub chamber 103A and the second sub chamber 13B is one, but two or more liquid absorbing members are arranged in the first sub chamber 103A. In one or both of the second sub chamber 13B and the second sub chamber 13B, the second sub chamber 13B may be disposed at an adjacent position or a different position.

なお、本実施形態では、磁性粒子を用いた測定系を想定した説明を行ったが、本願の一態様に係る試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、磁性粒子を用いた測定系に限定されるものではない。例えば、1次抗体が固定化される対象は、磁性粒子に替えて、チャンバー内の壁面であってもよい。すなわち、チャンバーがポリスチレンやポリカーボネートといった素材で構成されている場合には、チャンバー内の壁面に物理吸着により1次抗体を固定化させることができ、チャンバー内で抗原や標識抗体とのサンドイッチ型の結合反応をせしめることができる。また、チャンバー内の壁面に金属基板を備える構成であれば、例えば、SAMを用いて1次抗体を金属基板に結合して固定化させることができ、チャンバー内で抗原や標識抗体とのサンドイッチ型の結合反応をせしめることができる。一次抗体をチャンバー壁面に物理吸着で固定化させる場合は、主に色素、化学発光または蛍光のシグナルを検出する系に使用される。一方、一次抗体を金属基板に固定化させる場合は、シグナルとして、主に電気化学的シグナル(例えば、電流)、電気化学発光のシグナルを検出する系に使用される。この場合、図3Bに示した磁石116は不要である。また、複合体310形成の反応場は反応チャンバー105ではなく、B/F分離チャンバー102になる。したがって、一次抗体は、B/F分離チャンバー102の壁面に固定化する必要がある。   In the present embodiment, the measurement system using magnetic particles has been described. However, the sample analysis substrate, the sample analysis apparatus, the sample analysis system, and the sample analysis system program according to one embodiment of the present application are magnetic. It is not limited to a measurement system using particles. For example, the target to which the primary antibody is immobilized may be a wall surface in the chamber instead of the magnetic particles. That is, when the chamber is made of a material such as polystyrene or polycarbonate, the primary antibody can be immobilized on the wall surface in the chamber by physical adsorption, and sandwiched with antigen or labeled antibody in the chamber. The reaction can be triggered. Moreover, if it is the structure which equips the wall surface in a chamber with a metal substrate, a primary antibody can be couple | bonded and fixed to a metal substrate using SAM, for example, and it is a sandwich type with an antigen and a labeled antibody in a chamber. It is possible to cause a binding reaction. When the primary antibody is immobilized on the wall surface of the chamber by physical adsorption, it is mainly used in a system for detecting a dye, chemiluminescent or fluorescent signal. On the other hand, when the primary antibody is immobilized on a metal substrate, it is mainly used as a signal in a system for detecting an electrochemical signal (for example, current) or an electrochemiluminescence signal. In this case, the magnet 116 shown in FIG. 3B is unnecessary. The reaction field for forming the composite 310 is not the reaction chamber 105 but the B / F separation chamber 102. Therefore, the primary antibody needs to be immobilized on the wall surface of the B / F separation chamber 102.

上記実施形態では、B/F分離の洗浄の例を説明したが、本実施形態の試料分析用基板、試料分析装置及び試料分析システムは、洗浄液以外の溶液を、上述したように複数回に分けて同じチャンバーへ導入する種々の試料分析方法へ適用可能である。また、上記実施形態では、液体のチャンバーへの導入を続けて行っているが、試料分析用基板の回転および停止の制御と、停止時の角度の制御を適切に行うことにより、間に他の工程を含めることも可能である。   In the above embodiment, an example of cleaning for B / F separation has been described. However, the sample analysis substrate, the sample analysis apparatus, and the sample analysis system of this embodiment divide a solution other than the cleaning liquid into a plurality of times as described above. It is applicable to various sample analysis methods introduced into the same chamber. In the above embodiment, the liquid is continuously introduced into the chamber. However, by appropriately controlling the rotation and stop of the sample analysis substrate and the angle at the time of stop, the other can be performed in between. It is also possible to include a process.

また、上記実施形態では2回洗浄を行っているが、必要に応じて3回以上行ってもよい。   In the above embodiment, the cleaning is performed twice, but may be performed three or more times as necessary.

また、上記実施形態のでは、試料分析用基板は、回収チャンバー103に位置する液体吸収部材を備えているが、上述したように、液体吸収部材を備える構成と、秤量機能を備えるA流路の構成等とは独立して実施可能である。例えば、試料分析用基板は液体吸収部材を備えていなくてもよいし、試料分析用基板は、液体吸収部材を備えるが、秤量機能を備えるA流路の構成等を備えていいなくてもよい。この場合、B/F分離チャンバー102から回収チャンバー103への反応液または洗浄液の移動は、重力によらず遠心力のみによって行うことでき、これにより、回収チャンバー103内の液体吸収部材121、122が反応液または洗浄液を保持することが可能である。よって、試料分析用基板は、回転軸110を重力方向に対して0°以上90°以下の角度にした状態で、回転軸周りに回転させてもよい。   In the above embodiment, the sample analysis substrate includes the liquid absorbing member positioned in the recovery chamber 103. However, as described above, the configuration including the liquid absorbing member and the A channel including the weighing function are provided. It can be implemented independently of the configuration and the like. For example, the sample analysis substrate may not include the liquid absorption member, and the sample analysis substrate may include the liquid absorption member, but may not include the configuration of the A channel having the weighing function. . In this case, the reaction liquid or the cleaning liquid can be moved from the B / F separation chamber 102 to the recovery chamber 103 only by centrifugal force without depending on the gravity, so that the liquid absorbing members 121 and 122 in the recovery chamber 103 can be moved. It is possible to hold a reaction solution or a washing solution. Therefore, the sample analysis substrate may be rotated around the rotation axis in a state where the rotation axis 110 is at an angle of 0 ° to 90 ° with respect to the direction of gravity.

本願に開示された試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、種々の反応を利用した検体中の特定成分の分析に適用可能である。   The sample analysis substrate, sample analysis apparatus, sample analysis system, and sample analysis system program disclosed in the present application can be applied to analysis of a specific component in a specimen using various reactions.

100、150、160 試料分析用基板
100’ 基板
100a ベース基板
100b カバー基板
101 洗浄液チャンバー
101a 第1領域
101a’ 第1領域
101b 第2領域
101c 接続部
101d 開口
102 B/F分離チャンバー
102a 第1領域
102b 第2領域
102s 側面
103 回収チャンバー
103A 第1副チャンバー
103B 第2副チャンバー
104 貯蔵チャンバー
105 反応チャンバー
108 空気孔
109 開口
110 回転軸
111 A流路
111a 第1部分
111b 第2部分
111c 第1開口
111d 第2開口
112 B流路
112a 第1屈曲部
112b 第2屈曲部
113 C流路
114 D流路
114a 第1屈曲部
114b 第2屈曲部
115 連結部
116 磁石
121、122 液体吸収部材
200 試料分析装置
201 モータ
201a ターンテーブル
203 原点検出器
204 角度検出器
205 制御器
206 ドライバー
207 光学測定器
302 磁性粒子
304 一次抗体
305 磁性粒子固定化抗体
306 抗原
307 標識物質
308 標識抗体
310 複合体
311 磁性粒子
501 試料分析システム
100, 150, 160 Sample analysis substrate 100 ′ Substrate 100a Base substrate 100b Cover substrate 101 Cleaning liquid chamber 101a First region 101a ′ First region 101b Second region 101c Connection portion 101d Opening 102 B / F separation chamber 102a First region 102b Second region 102s Side surface 103 Recovery chamber 103A First sub chamber 103B Second sub chamber 104 Storage chamber 105 Reaction chamber 108 Air hole 109 Opening 110 Rotating shaft 111 A Flow path 111a First portion 111b Second portion 111c First opening 111d First 2 opening 112 B flow path 112a 1st bending part 112b 2nd bending part 113 C flow path 114 D flow path 114a 1st bending part 114b 2nd bending part 115 Connection part 116 Magnet 121,122 Liquid absorption member 200 Sample analyzer 201 Motor 201a Turntable 203 Origin detector 204 Angle detector 205 Controller 206 Driver 207 Optical measuring device 302 Magnetic particle 304 Primary antibody 305 Magnetic particle immobilized antibody 306 Antigen 307 Labeled substance 308 Labeled antibody 310 Complex 311 Magnetic particle 501 Sample Analysis system

Claims (11)

回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、
回転軸および所定の厚さを有する板形状を備えた基板と、
前記基板内に位置し、液体を保持するための第1空間を有する第1チャンバーと、
前記基板内において、前記第1チャンバーから排出される前記液体を保持するための第2空間を有する第2チャンバーと、
前記基板内に位置しており、前記第1チャンバーおよび前記第2チャンバーを接続する経路を有する第1流路と、
前記第2チャンバーの前記第2空間内に配置され、前記第2チャンバー内に排出された液体の少なくとも一部を吸収することができる液体吸収部材と、
を備えた試料分析用基板。
A sample analysis substrate that transfers liquid by a rotational motion,
A substrate having a plate shape having a rotation axis and a predetermined thickness;
A first chamber located within the substrate and having a first space for holding a liquid;
A second chamber having a second space for holding the liquid discharged from the first chamber in the substrate;
A first flow path located in the substrate and having a path connecting the first chamber and the second chamber;
A liquid absorbing member disposed in the second space of the second chamber and capable of absorbing at least part of the liquid discharged into the second chamber;
A substrate for sample analysis comprising:
前記液体吸収部材は、前記第2空間内において、前記液体吸収部材と、前記第1流路と前記第2チャンバーとの接続部分との間に、所定の容積を有する第3空間を有するように配置された、請求項1に記載の試料分析用基板。   The liquid absorbing member has a third space having a predetermined volume between the liquid absorbing member and a connection portion between the first flow path and the second chamber in the second space. The sample analysis substrate according to claim 1, which is arranged. 前記第1流路は、毛細管現象により前記第1空間内に保持された液体を前記第1流路内に満たすことができる、請求項1または2に記載の試料分析用基板。   The sample analysis substrate according to claim 1 or 2, wherein the first channel can fill the first channel with a liquid held in the first space by capillary action. 前記第2チャンバーは、第1副チャンバー、第2副チャンバーおよび前記第1副チャンバーと前記第2副チャンバーとを接続する連結部を含み、
前記第2副チャンバーは、前記第1副チャンバーよりも前記回転軸から遠くに位置する、請求項1から3のいずれかに記載の試料分析用基板。
The second chamber includes a first sub chamber, a second sub chamber, and a connecting portion that connects the first sub chamber and the second sub chamber,
4. The sample analysis substrate according to claim 1, wherein the second sub chamber is located farther from the rotation axis than the first sub chamber. 5.
前記液体吸収部材は、前記第1副チャンバーに配置された、請求項4に記載の試料分析用基板。   The sample analysis substrate according to claim 4, wherein the liquid absorbing member is disposed in the first sub chamber. 前記液体吸収部材は、前記第2副チャンバーに配置された、請求項4に記載の試料分析用基板。   The sample analysis substrate according to claim 4, wherein the liquid absorbing member is disposed in the second sub chamber. 前記基板内に位置し、液体を保持するための第3空間を有する第3チャンバーと、
前記基板内に位置しており、前記第3チャンバーおよび前記第1チャンバーを接続する経路を有し、毛細管現象により前記第3空間内に保持された液体で満たすことが可能な第2流路と、
を備え、
前記第2流路は第1開口および第2開口を有し、前記第1開口および前記第2開口がそれぞれ前記第3チャンバーおよび第1チャンバーに接続され、前記第1開口は、前記第2開口よりも回転軸に近い側に位置し、
前記第1空間は第1領域および第2領域を有し、前記第1領域は前記第1開口と接続し、前記第1開口から前記回転軸より遠い側に向けて延伸する部分を含み、前記第2領域は、前記第1開口よりも前記回転軸から遠い位置において前記第1領域の前記延伸する部分と接続しており、
前記第3チャンバーの前記第3空間は、前記第2流路の容積よりも大きい、請求項1から6のいずれかに記載の試料分析用基板。
A third chamber located in the substrate and having a third space for holding a liquid;
A second flow path located in the substrate, having a path connecting the third chamber and the first chamber, and capable of being filled with a liquid held in the third space by capillary action; ,
With
The second flow path has a first opening and a second opening, and the first opening and the second opening are connected to the third chamber and the first chamber, respectively, and the first opening is the second opening. Located closer to the axis of rotation than
The first space includes a first region and a second region, and the first region includes a portion connected to the first opening and extending from the first opening toward a side farther from the rotation axis, The second region is connected to the extending portion of the first region at a position farther from the rotation axis than the first opening,
The sample analysis substrate according to claim 1, wherein the third space of the third chamber is larger than a volume of the second flow path.
前記第1チャンバーに近接して位置する磁石をさらに備える請求項1から7のいずれかに記載の試料分析用基板。   The sample analysis substrate according to claim 1, further comprising a magnet positioned in proximity to the first chamber. 請求項1から8のいずれかに記載の試料分析用基板と、
前記回転軸を重力方向に対して0°以上90°以下の角度にした状態で、前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、
前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出器 、
前記回転角度検出器の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御するドライバー、および
演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出器、前記原点検出器および前記ドライバーの動作を制御する制御器
を有する試料分析装置と、
を備えた試料分析システムであって、
前記プログラムは、
前記第1チャンバーに液体が充填された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
(a)前記試料分析用基板を回転させることで、前記第1チャンバー内の液体の少なくとも一部を、前記第1流路を介して前記第2チャンバーへ移送させる、
試料分析システム。
The sample analysis substrate according to any one of claims 1 to 8,
A motor that rotates the sample analysis substrate around the rotation axis in a state where the rotation axis is at an angle of 0 ° to 90 ° with respect to the direction of gravity;
A rotation angle detector for detecting a rotation angle of the rotation shaft of the motor;
Based on the detection result of the rotation angle detector, a driver that controls the rotation angle of the motor when rotating and stopping, and an arithmetic unit, a memory, and a program stored in the memory and configured to be executable by the arithmetic unit A sample analyzer having a controller for controlling operations of the motor, the rotation angle detector, the origin detector, and the driver, based on the program,
A sample analysis system comprising:
The program is
When the sample analysis substrate in which the liquid in the first chamber is filled is loaded in the sample analysis device,
(A) By rotating the sample analysis substrate, at least a part of the liquid in the first chamber is transferred to the second chamber via the first channel;
Sample analysis system.
請求項1から8のいずれかに記載の試料分析用基板を、前記回転軸を重力方向に対して0°以上90°以下の角度にした状態で、前記回転軸周りに回転させるモータ、
前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出器 、
前記回転角度検出器の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御するドライバー、および
演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出器、前記原点検出器および前記ドライバーの動作を制御する制御器
を有する試料分析装置と、
を備え、
前記プログラムは、
前記第1チャンバーに液体が充填された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
(a)前記試料分析用基板を回転させることで、前記第1チャンバー内の液体の少なくとも一部を、前記第1流路を介して前記第2チャンバーへ移送させる
試料分析装置。
A motor that rotates the sample analysis substrate according to any one of claims 1 to 8 around the rotation axis in a state where the rotation axis is at an angle of 0 ° to 90 ° with respect to the direction of gravity.
A rotation angle detector for detecting a rotation angle of the rotation shaft of the motor;
Based on the detection result of the rotation angle detector, a driver that controls the rotation angle of the motor when rotating and stopping, and an arithmetic unit, a memory, and a program stored in the memory and configured to be executable by the arithmetic unit A sample analyzer having a controller for controlling operations of the motor, the rotation angle detector, the origin detector, and the driver, based on the program,
With
The program is
When the sample analysis substrate in which the liquid in the first chamber is filled is loaded in the sample analysis device,
(A) A sample analyzer that transfers at least a part of the liquid in the first chamber to the second chamber via the first flow path by rotating the sample analysis substrate.
請求項1から8のいずれかに記載の試料分析用基板と、
前記回転軸を重力方向に対して0°以上90°以下の角度にした状態で、前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、
前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出器 、
前記回転角度検出器の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御するドライバー、および
演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出器、前記原点検出器および前記ドライバーの動作を制御する制御器
を有する試料分析装置と、
を備えた試料分析システム用プログラムであって、
前記プログラムは、
前記第1チャンバーに液体が充填された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
(a)前記試料分析用基板を回転させることで、前記第1チャンバー内の液体の少なくとも一部を、前記第1流路を介して前記第2チャンバーへ移送させる、
試料分析システム用プログラム。
The sample analysis substrate according to any one of claims 1 to 8,
A motor that rotates the sample analysis substrate around the rotation axis in a state where the rotation axis is at an angle of 0 ° to 90 ° with respect to the direction of gravity;
A rotation angle detector for detecting a rotation angle of the rotation shaft of the motor;
Based on the detection result of the rotation angle detector, a driver that controls the rotation angle of the motor when rotating and stopping, and an arithmetic unit, a memory, and a program stored in the memory and configured to be executable by the arithmetic unit A sample analyzer having a controller for controlling operations of the motor, the rotation angle detector, the origin detector, and the driver, based on the program,
A sample analysis system program comprising:
The program is
When the sample analysis substrate in which the liquid in the first chamber is filled is loaded in the sample analysis device,
(A) By rotating the sample analysis substrate, at least a part of the liquid in the first chamber is transferred to the second chamber via the first channel;
Sample analysis system program.
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