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JP2016108799A - Glass panel unit - Google Patents

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JP2016108799A
JP2016108799A JP2014246118A JP2014246118A JP2016108799A JP 2016108799 A JP2016108799 A JP 2016108799A JP 2014246118 A JP2014246118 A JP 2014246118A JP 2014246118 A JP2014246118 A JP 2014246118A JP 2016108799 A JP2016108799 A JP 2016108799A
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JP
Japan
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glass
glass panel
seal
panel unit
space
Prior art date
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Pending
Application number
JP2014246118A
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Japanese (ja)
Inventor
将 石橋
Susumu Ishibashi
将 石橋
瓜生 英一
Hidekazu Uryu
英一 瓜生
阿部 裕之
Hiroyuki Abe
裕之 阿部
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Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
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  • Wing Frames And Configurations (AREA)
  • Securing Of Glass Panes Or The Like (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)

Abstract

【課題】真空空間を安定して形成できるガラスパネルユニットを提供する。
【解決手段】ガラスパネルユニット10は、第1ガラスパネル20と、第2ガラスパネル30と、シール40と、真空空間50とを備える。第2ガラスパネル30は、第1ガラスパネル20と対向するように配置される。シール40は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とを枠状に気密に接合する。真空空間50は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とシール40とで囲まれている。シール40は、低融点金属を含むガラスで形成されている、
【選択図】図1
A glass panel unit capable of stably forming a vacuum space is provided.
A glass panel unit includes a first glass panel, a second glass panel, a seal, and a vacuum space. The second glass panel 30 is disposed so as to face the first glass panel 20. The seal 40 joins the first glass panel 20 and the second glass panel 30 in a frame shape in an airtight manner. The vacuum space 50 is surrounded by the first glass panel 20, the second glass panel 30, and the seal 40. The seal 40 is made of glass containing a low melting point metal,
[Selection] Figure 1

Description

ガラスパネルユニットが開示される。より詳しくは、一対のガラスパネルの間に真空空間を備えたガラスパネルユニットが開示される。   A glass panel unit is disclosed. More specifically, a glass panel unit having a vacuum space between a pair of glass panels is disclosed.

2枚以上のガラスパネルを間をあけて重ねて密閉した空間を形成し、その空間を真空にしたガラスパネルユニットが知られている。このようなガラスパネルユニットは、複層ガラスとも呼ばれている。このようなガラスパネルユニットは、真空断熱ガラスとも呼ばれている。ガラスパネルユニットは断熱性が高い。ガラスパネルユニットでは、真空が維持されることが重要である。   2. Description of the Related Art A glass panel unit is known in which two or more glass panels are overlapped with a space to form a sealed space, and the space is evacuated. Such a glass panel unit is also called a multi-layer glass. Such a glass panel unit is also called vacuum heat insulating glass. The glass panel unit has high heat insulation. In the glass panel unit, it is important that a vacuum is maintained.

ガラスパネルユニットでは、2枚のガラスパネルがシールによって接着される(特許文献1参照)。シールは、真空空間を枠状に囲み、真空を維持する機能を有する。   In the glass panel unit, two glass panels are bonded by a seal (see Patent Document 1). The seal surrounds the vacuum space in a frame shape and has a function of maintaining a vacuum.

米国特許第6,541,084号US Pat. No. 6,541,084

シールとして、ガラスを含む材料が用いられる場合がある。特許文献1では、ガラス材料でシールが形成されている。しかしながら、ガラスパネルユニットでは、シールの近傍において強度が低下しやすい。   As the seal, a material containing glass may be used. In Patent Document 1, a seal is formed of a glass material. However, in the glass panel unit, the strength tends to decrease in the vicinity of the seal.

本開示の目的は、強度の高いガラスパネルユニットを提供することである。   An object of the present disclosure is to provide a glass panel unit having high strength.

ガラスパネルユニットが開示される。前記ガラスパネルユニットは、第1ガラスパネルと、第2ガラスパネルと、シールと、真空空間とを備える。前記第2ガラスパネルは、前記第1ガラスパネルと対向するように配置される。前記シールは、前記第1ガラスパネルと前記第2ガラスパネルとを枠状に気密に接合する。前記真空空間は、前記第1ガラスパネルと前記第2ガラスパネルと前記シールとで囲まれている。前記シールは、低融点金属を含むガラスで形成されている。   A glass panel unit is disclosed. The glass panel unit includes a first glass panel, a second glass panel, a seal, and a vacuum space. The second glass panel is disposed to face the first glass panel. The seal joins the first glass panel and the second glass panel in a frame shape in an airtight manner. The vacuum space is surrounded by the first glass panel, the second glass panel, and the seal. The seal is made of glass containing a low melting point metal.

本開示のガラスパネルユニットによれば、強度を効果的に向上することができる。   According to the glass panel unit of the present disclosure, the strength can be effectively improved.

ガラスパネルユニットの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of a glass panel unit. ガラスパネルユニットの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of a glass panel unit. ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacture example of a glass panel unit. ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacture example of a glass panel unit. ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacture example of a glass panel unit. ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacture example of a glass panel unit. ガラスパネルユニット用の組立て品の概略平面図である。It is a schematic plan view of the assembly for glass panel units. ガラスパネルユニット用の組立て品の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the assembly for glass panel units. ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacture example of a glass panel unit. ガラスパネルユニットの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of a glass panel unit.

図1及び図2は、ガラスパネルユニット10の一実施形態を示す。本実施形態のガラスパネルユニット10は、真空断熱ガラスユニットである。真空断熱ガラスユニットは、少なくとも一対のガラスパネルを備える複層ガラスパネルの一種であって、一対のガラスパネル間に真空空間50を有している。なお、図2では、内部構造が理解しやすいよう、第1ガラスパネル20の一部(左下)を破断して、描画している。   1 and 2 show an embodiment of the glass panel unit 10. The glass panel unit 10 of this embodiment is a vacuum heat insulating glass unit. The vacuum heat insulating glass unit is a kind of multilayer glass panel including at least a pair of glass panels, and has a vacuum space 50 between the pair of glass panels. In FIG. 2, a part (lower left) of the first glass panel 20 is broken and drawn so that the internal structure can be easily understood.

ガラスパネルユニット10は、第1ガラスパネル20と、第2ガラスパネル30と、シール40と、真空空間50とを備える。第2ガラスパネル30は、第1ガラスパネル20と対向するように配置される。シール40は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とを枠状に気密に接合する。真空空間50は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とシール40とで囲まれている。シール40は、低融点金属を含むガラスで形成されている。   The glass panel unit 10 includes a first glass panel 20, a second glass panel 30, a seal 40, and a vacuum space 50. The second glass panel 30 is disposed so as to face the first glass panel 20. The seal 40 joins the first glass panel 20 and the second glass panel 30 in a frame shape in an airtight manner. The vacuum space 50 is surrounded by the first glass panel 20, the second glass panel 30, and the seal 40. The seal 40 is made of glass containing a low melting point metal.

ガラスパネルユニット10は、シール40が低融点金属を含むガラスで形成されるため、2つのガラスパネル及びシール40による熱膨張差で発生する応力が緩和される。そのため、強度の高いガラスパネルユニット10を得ることができる。   In the glass panel unit 10, since the seal 40 is formed of glass containing a low melting point metal, the stress generated by the difference in thermal expansion between the two glass panels and the seal 40 is relieved. Therefore, the glass panel unit 10 with high strength can be obtained.

第1ガラスパネル20は、第1ガラスパネル20の平面形状を定める本体21と、コーティング22と、を備える。本体21は、矩形状であり、互いに平行な厚み方向の第1面(外面;図1における上面)及び第2面(内面;図1における下面)を有する。本体21の第1面及び第2面はいずれも平面である。第1ガラスパネル20の本体21の材料は、たとえば、ソーダライムガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。なお、第1ガラスパネル20は、コーティング22を有さなくてもよい。第1ガラスパネル20は、本体21のみから構成されてもよい。   The first glass panel 20 includes a main body 21 that defines a planar shape of the first glass panel 20 and a coating 22. The main body 21 has a rectangular shape and has a first surface (outer surface; upper surface in FIG. 1) and a second surface (inner surface; lower surface in FIG. 1) parallel to each other in the thickness direction. Both the first surface and the second surface of the main body 21 are flat surfaces. The material of the main body 21 of the first glass panel 20 is, for example, soda lime glass, soda glass, borosilicate glass, high strain point glass, chemically tempered glass, alkali-free glass, quartz glass, neoceram, or physically tempered glass. Note that the first glass panel 20 may not have the coating 22. The first glass panel 20 may be configured only from the main body 21.

コーティング22は、本体21の第2面に形成される。コーティング22は、好ましくは、赤外線反射膜である。なお、コーティング22は、赤外線反射膜に限定されず、所望の物理特性を有する膜であってもよい。   The coating 22 is formed on the second surface of the main body 21. The coating 22 is preferably an infrared reflecting film. The coating 22 is not limited to the infrared reflecting film, and may be a film having desired physical characteristics.

第2ガラスパネル30は、第2ガラスパネル30の平面形状を定める本体31を備える。本体31は、矩形状であり、互いに平行な厚み方向の第1面(内面;図1における上面)及び第2面(外面;図1における下面)を有する。本体31の第1面及び第2面はいずれも平面である。第2ガラスパネル30の本体31の材料は、たとえば、ソーダライムガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。本体31の材料は、本体21の材料と同じであってよい。本体31の平面形状は、本体21と同じである。つまり、第2ガラスパネル30の平面形状は、第1ガラスパネル20と同じである。   The second glass panel 30 includes a main body 31 that defines the planar shape of the second glass panel 30. The main body 31 is rectangular and has a first surface (inner surface; upper surface in FIG. 1) and a second surface (outer surface; lower surface in FIG. 1) in the thickness direction parallel to each other. Both the first surface and the second surface of the main body 31 are flat surfaces. The material of the main body 31 of the second glass panel 30 is, for example, soda lime glass, soda glass, borosilicate glass, high strain point glass, chemically tempered glass, alkali-free glass, quartz glass, neoceram, or physically tempered glass. The material of the main body 31 may be the same as the material of the main body 21. The planar shape of the main body 31 is the same as that of the main body 21. That is, the planar shape of the second glass panel 30 is the same as that of the first glass panel 20.

第2ガラスパネル30は、本体31のみで構成されている。つまり、本体31そのものが第2ガラスパネル30である。第2ガラスパネル30は、コーティングを有していてもよい。コーティングは、本体31の第1面に形成され得る。このコーティングは、第1ガラスパネル20のコーティング22と同じであってよい。   The second glass panel 30 is composed only of the main body 31. That is, the main body 31 itself is the second glass panel 30. The second glass panel 30 may have a coating. The coating can be formed on the first surface of the body 31. This coating may be the same as the coating 22 of the first glass panel 20.

第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とは、本体21の第2面と本体31の第1面とが互いに平行かつ対向するように配置されている。つまり、本体21の第1面はガラスパネルユニット10の外側に向けられ、本体21の第2面はガラスパネルユニット10の内側に向けられる。また、本体31の第1面はガラスパネルユニット10の内側に向けられ、本体31の第2面はガラスパネルユニット10の外側に向けられる。   The first glass panel 20 and the second glass panel 30 are arranged so that the second surface of the main body 21 and the first surface of the main body 31 are parallel to and opposed to each other. That is, the first surface of the main body 21 is directed to the outside of the glass panel unit 10, and the second surface of the main body 21 is directed to the inside of the glass panel unit 10. Further, the first surface of the main body 31 is directed to the inside of the glass panel unit 10, and the second surface of the main body 31 is directed to the outside of the glass panel unit 10.

第1ガラスパネル20の厚みは、特に限定されるものではないが、たとえば、1〜10mmの範囲内である。第2ガラスパネル30の厚みは、特に限定されるものではないが、たとえば、1〜10mmの範囲内である。第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とは、厚みが同じであってもよいし、厚みが異なっていてもよい。第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との厚みが同じであると、ガラスパネルユニット10の形成が容易になる。第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とは、平面視における外縁が揃っている。   Although the thickness of the 1st glass panel 20 is not specifically limited, For example, it exists in the range of 1-10 mm. Although the thickness of the 2nd glass panel 30 is not specifically limited, For example, it exists in the range of 1-10 mm. The first glass panel 20 and the second glass panel 30 may have the same thickness or different thicknesses. When the thickness of the 1st glass panel 20 and the 2nd glass panel 30 is the same, formation of the glass panel unit 10 becomes easy. The first glass panel 20 and the second glass panel 30 have the same outer edge in plan view.

図1及び図2では、ガラスパネルユニット10は、ガス吸着体60をさらに備える。ガス吸着体60は、真空空間50内に配置される。本実施形態では、ガス吸着体60は、長尺状である。ガス吸着体60は、第2ガラスパネル30の長さ方向の第2端側(図2における左端側)に、第2ガラスパネル30の幅方向に沿って形成されている。つまり、ガス吸着体60は、真空空間50の端に配置される。このようにすれば、ガス吸着体60を目立たなくすることができる。また、ガラスパネルにガス吸着体60を直接配置するようにすると、ガス吸着体60の配置が容易になる。なお、ガス吸着体60は、真空空間50の任意の場所に設けられ得る。   1 and 2, the glass panel unit 10 further includes a gas adsorber 60. The gas adsorber 60 is disposed in the vacuum space 50. In the present embodiment, the gas adsorber 60 has a long shape. The gas adsorber 60 is formed along the width direction of the second glass panel 30 on the second end side in the length direction of the second glass panel 30 (left end side in FIG. 2). That is, the gas adsorber 60 is disposed at the end of the vacuum space 50. In this way, the gas adsorber 60 can be made inconspicuous. Further, if the gas adsorber 60 is directly arranged on the glass panel, the gas adsorber 60 can be easily arranged. Note that the gas adsorber 60 can be provided at any location in the vacuum space 50.

ガス吸着体60は、不要なガス(残留ガス等)を吸着するために用いられる。不要なガスは、たとえば、シール40が形成される際に放出されるガスである。あるいは、不要なガスは、シール40の隙間から内部に侵入するガスである。ガスが増加すると、真空度が低下し、断熱性が低下し得る。   The gas adsorber 60 is used to adsorb unnecessary gas (residual gas or the like). The unnecessary gas is, for example, a gas released when the seal 40 is formed. Alternatively, unnecessary gas is gas that enters the inside through the gap of the seal 40. When the gas increases, the degree of vacuum decreases and the heat insulating property may decrease.

ガス吸着体60は、ゲッタを有する。ゲッタは、所定の大きさより小さい分子を吸着する性質を有する材料である。ゲッタは、たとえば、蒸発型ゲッタである。蒸発型ゲッタは、たとえば、ゼオライトまたはイオン交換されたゼオライトである。   The gas adsorber 60 has a getter. A getter is a material that has the property of adsorbing molecules smaller than a predetermined size. The getter is, for example, an evaporation type getter. The evaporative getter is, for example, a zeolite or an ion exchanged zeolite.

ガラスパネルユニット10は、少なくとも1つのスペーサ70をさらに備えることが好ましい。スペーサ70は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間に配置される。   The glass panel unit 10 preferably further includes at least one spacer 70. The spacer 70 is disposed between the first glass panel 20 and the second glass panel 30.

図1及び図2では、ガラスパネルユニット10は、複数のスペーサ70を備える。複数のスペーサ70は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間隔を所定間隔に維持するために用いられる。スペーサ70により、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とのスペースがより確実に確保される。スペーサ70は1つでもよいが、ガラスパネル間の厚みを確保するためには2つ以上の方が好ましい。複数のスペーサ70が用いられると、ガラスパネルユニット10の強度が高まる。スペーサ70は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間に配置される。   1 and 2, the glass panel unit 10 includes a plurality of spacers 70. The plurality of spacers 70 are used to maintain the distance between the first glass panel 20 and the second glass panel 30 at a predetermined distance. The space between the first glass panel 20 and the second glass panel 30 is more reliably secured by the spacer 70. Although the number of the spacers 70 may be one, in order to ensure the thickness between glass panels, two or more are preferable. When the plurality of spacers 70 are used, the strength of the glass panel unit 10 is increased. The spacer 70 is disposed between the first glass panel 20 and the second glass panel 30.

複数のスペーサ70は、真空空間50内に配置されている。具体的には、複数のスペーサ70は、仮想的な矩形状の格子の交差点に配置されている。たとえば、複数のスペーサ70の間隔は、1〜10cmの範囲内であり、具体的には2cmであり得る。ただし、スペーサ70の大きさ、スペーサ70の数、スペーサ70の間隔、スペーサ70の配置パターンは、適宜選択することができる。   The plurality of spacers 70 are arranged in the vacuum space 50. Specifically, the plurality of spacers 70 are arranged at intersections of virtual rectangular grids. For example, the interval between the plurality of spacers 70 is in the range of 1 to 10 cm, specifically 2 cm. However, the size of the spacers 70, the number of the spacers 70, the interval between the spacers 70, and the arrangement pattern of the spacers 70 can be selected as appropriate.

スペーサ70は、上記所定間隔(第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間隔)とほぼ等しい高さを有する円柱状である。たとえば、スペーサ70は、直径が0.1〜10mmの範囲内であり、高さが10〜1000μmの範囲内であってよい。具体的には、スペーサ70は、直径が0.5mmで高さが100μmであり得る。なお、各スペーサ70は、角柱状や球状などの所望の形状であってもよい。スペーサ70の高さは、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間の距離、すなわち、真空空間50の厚みを規定する。真空空間50の厚みは、たとえば、10〜1000μmの範囲内であってよい。真空空間50の厚みは、具体的には、100μmであり得る。   The spacer 70 has a cylindrical shape having a height substantially equal to the predetermined interval (the interval between the first glass panel 20 and the second glass panel 30). For example, the spacer 70 may have a diameter in the range of 0.1 to 10 mm and a height in the range of 10 to 1000 μm. Specifically, the spacer 70 may have a diameter of 0.5 mm and a height of 100 μm. Each spacer 70 may have a desired shape such as a prismatic shape or a spherical shape. The height of the spacer 70 defines the distance between the first glass panel 20 and the second glass panel 30, that is, the thickness of the vacuum space 50. The thickness of the vacuum space 50 may be in the range of 10 to 1000 μm, for example. Specifically, the thickness of the vacuum space 50 may be 100 μm.

スペーサ70は、透明な材料を用いて形成される。それにより、スペーサ70が目立たなくなる。ただし、各スペーサ70は、十分に小さければ、不透明な材料を用いて形成されていてもよい。スペーサ70の材料は、後述する第1溶融工程、排気工程、第2溶融工程において、スペーサ70が変形しないように選択される。たとえば、スペーサ70の材料は、第1熱接着剤の第1軟化点及び第2熱接着剤の第2軟化点よりも高い軟化点(軟化温度)を有するように選択される。   The spacer 70 is formed using a transparent material. Thereby, the spacer 70 becomes inconspicuous. However, each spacer 70 may be formed using an opaque material as long as it is sufficiently small. The material of the spacer 70 is selected so that the spacer 70 is not deformed in a first melting process, an exhaust process, and a second melting process, which will be described later. For example, the material of the spacer 70 is selected to have a softening point (softening temperature) that is higher than the first softening point of the first thermal adhesive and the second softening point of the second thermal adhesive.

複数のスペーサ70は、フィルムで形成されてもよい。フィルムが、スペーサ70の形状に合わせて切り取られることでスペーサ70が形成され得る。フィルムは、樹脂の積層体であってもよい。   The plurality of spacers 70 may be formed of a film. The spacer 70 can be formed by cutting the film according to the shape of the spacer 70. The film may be a laminate of resin.

シール40は、真空空間50を完全に囲むとともに、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とを気密に接合する。シール40は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間に配置される。シール40は、矩形の枠状である。真空空間50は、真空度が所定値以下である。所定値は、たとえば、0.1Paである。真空空間50は、排気により形成され得る。排気は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30とシール40のうちの少なくとも一つに排気するための孔を形成して、内部の気体を吸引することで行われ得る。ただし、後述する排気が行われて、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との両方に、排気口が存在していないことが好ましい。それにより、外観のよいガラスパネルユニット10を得ることができる。図1では、第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30は、排気口を有していない。   The seal 40 completely surrounds the vacuum space 50 and bonds the first glass panel 20 and the second glass panel 30 in an airtight manner. The seal 40 is disposed between the first glass panel 20 and the second glass panel 30. The seal 40 has a rectangular frame shape. The degree of vacuum in the vacuum space 50 is a predetermined value or less. The predetermined value is, for example, 0.1 Pa. The vacuum space 50 can be formed by exhaust. Exhaust can be performed by forming a hole for exhausting at least one of the first glass panel 20, the second glass panel 30, and the seal 40, and sucking the gas inside. However, it is preferable that exhaust air to be described later is performed and no exhaust port exists in both the first glass panel 20 and the second glass panel 30. Thereby, the glass panel unit 10 with a good appearance can be obtained. In FIG. 1, the 1st glass panel 20 and the 2nd glass panel 30 do not have an exhaust port.

真空空間50は、加熱しながら排気することによって真空が形成され得る。加熱により真空性が高まる。また、加熱によって、シール40が形成され得る。真空を形成する際の加熱の温度は、300℃以上であってよい。それにより、真空性がさらに向上する。真空空間50の形成の具体的な手法は後述する。   A vacuum can be formed in the vacuum space 50 by evacuating while heating. Vacuum is enhanced by heating. Further, the seal 40 can be formed by heating. The heating temperature for forming the vacuum may be 300 ° C. or higher. Thereby, the vacuum property is further improved. A specific method for forming the vacuum space 50 will be described later.

シール40は、低融点金属を含むガラスで形成されている。シール40は、母体がガラスであり、母体の中に低融点金属が存在していてよい。シール40内では、低融点金属は、分散して配置され得る。シール40は、ガラスを主体とする熱接着剤で形成され得る。熱接着剤は、たとえば、ガラスフリットを含む。ガラスフリットは、ガラス粒子であってよい。ガラス粒子は、原料において、粉末の形状となり得る。シール40の中の低融点金属は、低融点金属粒子を由来としている。低融点金属粒子は、原料において、粉末の形状となり得る。熱接着剤は、ガラスフリットと低融点金属粒子とを含むガラスフリット組成物であってよい。シール40は、ガラスフリット組成物から形成される。ガラスフリットは、たとえば、低融点ガラスフリットである。ガラスフリットとしては、たとえば、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。シール40は、後述のように、複数の熱接着剤で形成されてもよい。   The seal 40 is made of glass containing a low melting point metal. The base of the seal 40 is glass, and a low melting point metal may be present in the base. Within the seal 40, the low melting point metal may be distributed. The seal 40 can be formed of a thermal adhesive mainly composed of glass. The thermal adhesive includes, for example, glass frit. The glass frit may be glass particles. The glass particles can be in the form of powder in the raw material. The low melting point metal in the seal 40 is derived from low melting point metal particles. The low melting point metal particles can be in the form of powder in the raw material. The thermal adhesive may be a glass frit composition comprising glass frit and low melting point metal particles. The seal 40 is formed from a glass frit composition. The glass frit is, for example, a low melting point glass frit. Examples of the glass frit include bismuth glass frit, lead glass frit, and vanadium glass frit. The seal 40 may be formed of a plurality of thermal adhesives as will be described later.

ここで、従来、シールの材料として、接着強度や気密安定性の観点から、低融点ガラスが使用されることがある。シールの材料となるガラスは、ガラスパネルよりも融点が低いことが好ましい。そのため、シールの材料として低融点ガラスは好ましい。そして、低融点ガラスは、接着性が高い。しかしながら、低融点ガラスをシールに使用した場合、ガラスパネルとシールとの熱膨張性が合わなくなることがある。ガラスパネルは熱膨張性ができるだけ低いガラスが好ましく用いられるのに対し、シールの材料となる低融点ガラスは熱膨張性が高くなる傾向にあり、熱膨張性の違いが大きくなるのである。ガラスパネルとシールとの熱膨張性が合わないと、ガラスパネルユニットの製造中に破壊が生じたり、ガラスパネルに反りが発生したり、ガラスパネルユニットの強度が低下したりしやすくなる。これらの要因は、シールとガラスパネルとの接触部分の近傍に残留応力が発生するためと推測される。特に、ソーダガラスなどの熱膨張係数(α)が8〜9ppm/℃の材料でガラスパネルを形成した場合、ガラスパネルユニットの一方の面と他方の面とでの温度差が大きくなると、2枚のガラスパネルの熱膨張差により内部応力が発生しやすくなる。熱膨張差による応力は、極端な場合には、ガラスパネルユニットを破壊に至らせる。そのため、シールの材料として、熱膨張性と接着性とを考慮したガラスを使用することが求められ、使用するガラスに制約を受ける。また、ガラスパネルについても、同様に、使用するガラスに制約を受ける。シールの熱膨張性を小さくする手法として、低熱膨張性のセラミックスフィラーをシールに含ませ、その含有率を増やすことも考えられるが、その場合、シールの材料(熱接着剤)の軟化点が上昇しやすくなる。シールの材料(熱接着剤)の軟化点が、ガラスパネルの歪点付近に至ってしまうと、ガラスパネルに悪影響を及ぼしやすくなる。このように、従来のシールを用いた場合、ガラスパネルユニットの強度が十分に向上しにくい。   Here, conventionally, a low-melting glass may be used as a sealing material from the viewpoint of adhesive strength and hermetic stability. It is preferable that the glass used as the seal material has a lower melting point than the glass panel. Therefore, a low melting point glass is preferable as a seal material. And low melting glass has high adhesiveness. However, when low melting point glass is used for the seal, the thermal expansion properties of the glass panel and the seal may not match. The glass panel is preferably made of glass having as low a thermal expansion as possible, whereas the low-melting glass used as a sealing material tends to have a high thermal expansion, resulting in a large difference in thermal expansion. If the thermal expansion properties of the glass panel and the seal do not match, the glass panel unit is likely to be broken during manufacturing, the glass panel is warped, or the strength of the glass panel unit is reduced. These factors are presumed to be because residual stress is generated in the vicinity of the contact portion between the seal and the glass panel. In particular, when a glass panel is formed of a material having a thermal expansion coefficient (α) such as soda glass of 8 to 9 ppm / ° C., when the temperature difference between one surface and the other surface of the glass panel unit increases, two sheets Internal stress is likely to occur due to the difference in thermal expansion of the glass panel. In extreme cases, the stress due to the difference in thermal expansion causes the glass panel unit to break. Therefore, it is required to use glass that takes into consideration thermal expansion and adhesion as a material for the seal, and the glass to be used is restricted. Similarly, the glass panel is restricted by the glass used. One way to reduce the thermal expansion of the seal is to include a low thermal expansion ceramic filler in the seal and increase its content. In this case, however, the softening point of the seal material (thermal adhesive) increases. It becomes easy to do. If the softening point of the seal material (thermal adhesive) reaches the vicinity of the strain point of the glass panel, the glass panel tends to be adversely affected. Thus, when a conventional seal is used, the strength of the glass panel unit is not sufficiently improved.

一方、本開示のガラスパネルユニット10は、上記のように、低融点金属を含むシール40を備えている。上記のシール40は、低融点金属を含むガラスで形成されているため、ガラス部分と低融点金属部分とを含む。シール40は、気密性と接着強度とがガラスの部分で高まり、2つのガラスパネル及びシール40による熱膨張差で発生する応力が低融点金属の部分で緩和される。そのため、シール40に用いるガラスの熱膨張性と、ガラスパネルの熱膨張性との違いが大きくなっても、強度高く2つのガラスパネルをシール40で接着することが可能になる。また、低融点金属が、熱膨張差で発生する応力を緩和するため、ガラスパネルユニット10の製造中での破壊や、ガラスパネルの反りや、ガラスパネルユニット10の強度の低下を抑制することができる。また、シール40に使用するガラスに選択の幅が広がり、熱膨張性がより低いガラスを使用することが可能になる。そのため、ガラスパネルとシール40との熱膨張差をさらに低減することができ、ガラスパネルユニット10の強度をより高めることができる。また、ガラスパネル(第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30)に使用するガラスにも選択の幅が広がり、熱膨張性がより低いガラスでガラスパネルを形成することができ、ガラスパネルユニット10の強度がさらに向上し得る。また、ガラスパネルユニット10は、ガラスパネルユニット10の一方の側(表側)と他方の側(裏側)とで温度差が大きい環境下でも、使用することが可能になる。   On the other hand, the glass panel unit 10 of this indication is equipped with the seal | sticker 40 containing a low melting metal as mentioned above. Since the seal 40 is made of glass containing a low melting point metal, the seal 40 includes a glass portion and a low melting point metal portion. In the seal 40, airtightness and adhesive strength are increased in the glass portion, and the stress generated by the difference in thermal expansion between the two glass panels and the seal 40 is relaxed in the low melting point metal portion. Therefore, even if the difference between the thermal expansibility of the glass used for the seal 40 and the thermal expansibility of the glass panel is increased, the two glass panels can be bonded with the seal 40 with high strength. Further, since the low melting point metal relieves stress generated due to the difference in thermal expansion, it can suppress the breakage during the manufacturing of the glass panel unit 10, the warp of the glass panel, and the decrease in the strength of the glass panel unit 10. it can. In addition, the glass used for the seal 40 has a wide range of selection, and it is possible to use a glass having lower thermal expansion. Therefore, the difference in thermal expansion between the glass panel and the seal 40 can be further reduced, and the strength of the glass panel unit 10 can be further increased. In addition, the glass used for the glass panels (the first glass panel 20 and the second glass panel 30) has a wide range of choice, and the glass panel can be formed of glass having a lower thermal expansibility. The strength of can be further improved. Further, the glass panel unit 10 can be used even in an environment where there is a large temperature difference between one side (front side) and the other side (back side) of the glass panel unit 10.

低融点金属は、たとえば、亜鉛(Zn)、スズ(Sn)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、ビスマス(Bi)、鉛(Pb)、アンチモン(Sb)、銀(Ag)、銅(Cu)から選ばれる1つ以上の金属を含んでいてよい。低融点金属は、合金であってよい。低融点金属は、低融点合金となり得る。低融点金属は、はんだに使用される金属であってよい。低融点金属粒子は、はんだ粒子であり得る。環境の観点からは、低融点金属は、鉛フリー(鉛非含有)であることが好ましい。低融点金属として、Sn−Pb系、Pb−Sn−Sb系、Sn−Sb系、Sn−Pb−Bi系、Bi−Sn系、Sn−Cu系、Sn−Pb−Cu系、Sn−In系、Sn−Ag系、Sn−Pb−Ag、及びPb−Ag系の合金が例示される。   Low melting point metals include, for example, zinc (Zn), tin (Sn), indium (In), gallium (Ga), bismuth (Bi), lead (Pb), antimony (Sb), silver (Ag), copper (Cu ) May be included. The low melting point metal may be an alloy. The low melting point metal can be a low melting point alloy. The low melting point metal may be a metal used for solder. The low melting point metal particles can be solder particles. From the viewpoint of the environment, the low melting point metal is preferably lead-free (lead-free). As low melting point metals, Sn-Pb, Pb-Sn-Sb, Sn-Sb, Sn-Pb-Bi, Bi-Sn, Sn-Cu, Sn-Pb-Cu, Sn-In Sn-Ag, Sn-Pb-Ag, and Pb-Ag alloys are exemplified.

低融点金属の融点は、たとえば、300℃未満であってよい。低融点金属の融点は、さらに250℃未満であってもよく、200℃未満であってもよい。低融点金属の融点が低いほど、上記の効果が得られやすくなる。ただし、低融点金属の融点は、接着性の点から、100℃よりも高いことが好ましく、150℃よりも高いことがより好ましい。低融点金属の融点は、特に230℃未満であることが好ましい一態様である。230℃はスズの融点程度である。低融点金属の融点が230℃未満であると、効果的に熱膨張差による応力を緩和することができる。なお、低融点金属の融点は、低融点金属粒子の融点と言い換えることができる。   The melting point of the low melting point metal may be, for example, less than 300 ° C. The melting point of the low melting point metal may further be less than 250 ° C or less than 200 ° C. The lower the melting point of the low melting point metal, the easier it is to obtain the above effect. However, the melting point of the low melting point metal is preferably higher than 100 ° C. and more preferably higher than 150 ° C. from the viewpoint of adhesiveness. It is a preferred embodiment that the melting point of the low melting point metal is particularly less than 230 ° C. 230 ° C. is about the melting point of tin. When the melting point of the low melting point metal is less than 230 ° C., the stress due to the difference in thermal expansion can be effectively relieved. The melting point of the low melting point metal can be restated as the melting point of the low melting point metal particles.

シール40において、低融点金属の含有率は、特に限定されるものではないが、たとえば、1〜80質量%であることが好ましい。低融点金属の含有率がこの範囲になることで、熱膨張差による応力を緩和する効果を有効に得ることができる。シール40中の低融点金属の含有率は、5〜70質量%であることがより好ましく、10〜60質量%であることがさらに好ましい。シール40におけるガラスの含有率は、低融点金属の含有率よりも大きいことも好ましく、低融点金属の含有率の2倍よりも大きくてもよく、低融点金属の含有率の3倍よりも大きくてもよい。シール40中の低融点金属の含有率と、ガラスフリット組成物中の低融点金属粒子の含有率とは同じであってよい。   In the seal 40, the content of the low melting point metal is not particularly limited, but is preferably 1 to 80% by mass, for example. When the content of the low melting point metal falls within this range, an effect of relieving the stress due to the difference in thermal expansion can be effectively obtained. The content of the low melting point metal in the seal 40 is more preferably 5 to 70% by mass, and further preferably 10 to 60% by mass. The glass content in the seal 40 is preferably greater than the content of the low melting point metal, may be greater than twice the content of the low melting point metal, and greater than three times the content of the low melting point metal. May be. The content of the low melting point metal in the seal 40 and the content of the low melting point metal particles in the glass frit composition may be the same.

上述のように、低融点金属を含むシール40では、シール40に用いるガラス材料の選択の幅が広がる。シール40は、低熱膨張ガラスを含むことが可能である。低熱膨張ガラスの使用により、ガラスパネルユニット10の強度が向上する。低熱膨張ガラスは、低熱膨張ガラスフリットを由来とするものであってよい。シール40は、低熱膨張性を有し得る。シール40は、熱膨張係数(α)が、10ppm/℃未満であることが好ましい。たとえば、当該熱膨張係数(α)は、7〜9.5ppm/℃の範囲内であってよく、8〜9ppm/℃の範囲内であり得る。シール40の熱膨張性は、シール40自体で測定されてもよいし、シール40を形成するための材料から形成された成形体(たとえば板)で測定されてもよい。また、シール40に含まれる低熱膨張ガラスは、その低熱膨張ガラスのみで成形体(たとえば板)を形成したときの成形体の熱膨張係数(α)が、10ppm/℃未満であることが好ましい。たとえば、当該熱膨張係数(α)は、7〜9.5ppm/℃の範囲内であってよく、8〜9ppm/℃の範囲内であり得る。   As described above, in the seal 40 including the low melting point metal, the range of selection of the glass material used for the seal 40 is widened. The seal 40 can include a low thermal expansion glass. By using the low thermal expansion glass, the strength of the glass panel unit 10 is improved. The low thermal expansion glass may be derived from a low thermal expansion glass frit. The seal 40 can have a low thermal expansion. The seal 40 preferably has a thermal expansion coefficient (α) of less than 10 ppm / ° C. For example, the coefficient of thermal expansion (α) may be in the range of 7 to 9.5 ppm / ° C. and may be in the range of 8 to 9 ppm / ° C. The thermal expansion property of the seal 40 may be measured by the seal 40 itself, or may be measured by a molded body (for example, a plate) formed from a material for forming the seal 40. In addition, the low thermal expansion glass contained in the seal 40 preferably has a thermal expansion coefficient (α) of less than 10 ppm / ° C. when the molded body (for example, a plate) is formed only from the low thermal expansion glass. For example, the coefficient of thermal expansion (α) may be in the range of 7 to 9.5 ppm / ° C. and may be in the range of 8 to 9 ppm / ° C.

また、上述のように、低融点金属を含むシール40では、ガラスパネルの材料の選択の幅が広がる。第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30は、低熱膨張性を有することが可能である。低熱膨張性を有するガラスの使用により、ガラスパネルユニット10の強度が向上する。第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30は、熱膨張係数(α)が10ppm/℃未満であることが好ましい。たとえば、第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30は、熱膨張係数(α)が7〜9.5ppm/℃の範囲内であってよく、8〜9ppm/℃の範囲内であり得る。第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30の材料として、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダガラス、及び石英ガラスから選ばれる1つを使用することが特に好ましい。これらのガラスは、熱膨張性が小さい。上記のシール40では、これらのガラスを効果的に接着できる。上記のシール40の材料では、比較的低温で2つのガラスパネルを接着できる。たとえば、2枚のガラスパネルの接着温度を、450℃未満、あるいは400℃未満、さらには350℃未満とすることも可能である。   Further, as described above, in the seal 40 including the low melting point metal, the range of selection of the material of the glass panel is expanded. The first glass panel 20 and the second glass panel 30 can have low thermal expansibility. The use of glass having low thermal expansibility improves the strength of the glass panel unit 10. The first glass panel 20 and the second glass panel 30 preferably have a thermal expansion coefficient (α) of less than 10 ppm / ° C. For example, the first glass panel 20 and the second glass panel 30 may have a thermal expansion coefficient (α) in the range of 7 to 9.5 ppm / ° C., and may be in the range of 8 to 9 ppm / ° C. As the material for the first glass panel 20 and the second glass panel 30, it is particularly preferable to use one selected from alkali-free glass, borosilicate glass, soda glass, and quartz glass. These glasses have a low thermal expansibility. With the above-described seal 40, these glasses can be effectively bonded. With the material of the seal 40, two glass panels can be bonded at a relatively low temperature. For example, the bonding temperature of two glass panels can be less than 450 ° C., or less than 400 ° C., or even less than 350 ° C.

第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30は、シール40よりも融点の高いガラスから形成され得る。第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30に含まれるガラスの融点は、たとえば、500℃より高いことが好ましく、700℃より高いことがより好ましく、1000℃より高いことがさらに好ましい。第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30に含まれるガラスの融点は、さらに1500℃より高くなってもよい。一方、シール40は、第1ガラスパネル20及び第2ガラスパネル30よりも融点の低いガラスから形成され得る。シール40に含まれるガラスの融点は、たとえば、600℃より低いことが好ましく、500℃より低いことがより好ましく、450℃より低いことがさらに好ましい。   The first glass panel 20 and the second glass panel 30 may be formed of glass having a melting point higher than that of the seal 40. The melting point of the glass contained in the first glass panel 20 and the second glass panel 30 is, for example, preferably higher than 500 ° C, more preferably higher than 700 ° C, and still more preferably higher than 1000 ° C. Melting | fusing point of the glass contained in the 1st glass panel 20 and the 2nd glass panel 30 may become higher than 1500 degreeC further. On the other hand, the seal 40 may be formed of glass having a lower melting point than the first glass panel 20 and the second glass panel 30. The melting point of the glass contained in the seal 40 is preferably lower than 600 ° C., more preferably lower than 500 ° C., and still more preferably lower than 450 ° C.

シール40は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間の距離を調整する材料を備えていることが好ましい。それにより、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間のスペースが確実に形成され得る。第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間の距離を調整する材料としては、たとえば、粒子、線材などが挙げられる。粒子は、熱接着剤(ガラスフリット組成物)に容易に混合され、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間の距離を形成することができる。   It is preferable that the seal 40 includes a material that adjusts the distance between the first glass panel 20 and the second glass panel 30. Thereby, the space between the 1st glass panel 20 and the 2nd glass panel 30 can be formed reliably. Examples of the material that adjusts the distance between the first glass panel 20 and the second glass panel 30 include particles and wires. The particles can be easily mixed into the thermal adhesive (glass frit composition) to form a distance between the first glass panel 20 and the second glass panel 30.

シール40は、第1ガラスパネル20と第2ガラスパネル30との間の距離を形成するための粒子が含まれ得る。粒子は、熱接着剤がシール40に変化する際の熱によって変形しない特性を有し得る。粒子が2つのガラスパネルに挟まれるため、2つのガラスパネルが接着されるときには、2つのガラスパネルの間の隙間は、粒子径より小さくならない。そのため、シール40は、潰れずに、高さ(ガラスパネル間の距離)を確保することができる。粒子は、金属粒子、高融点ガラス粒子などが用いられ得る。粒子は、ビーズであってよい。粒子の大きさによって、シール40の高さを調整することができる。ガラスフリット組成物は、ガラスフリットと、低融点金属粒子と、距離調整粒子とを含み得る。   The seal 40 may include particles for forming a distance between the first glass panel 20 and the second glass panel 30. The particles may have the property that they are not deformed by heat as the thermal adhesive changes to the seal 40. Since the particles are sandwiched between the two glass panels, when the two glass panels are bonded, the gap between the two glass panels does not become smaller than the particle diameter. Therefore, the seal 40 can ensure the height (distance between the glass panels) without being crushed. As the particles, metal particles, high-melting glass particles, or the like can be used. The particles may be beads. The height of the seal 40 can be adjusted depending on the size of the particles. The glass frit composition may include glass frit, low melting point metal particles, and distance adjusting particles.

ガラスパネルユニット10は、窓に使用可能である。窓としては、建築物の窓、乗物(車、列車、船、飛行機などを含む)用の窓、展示用の窓が挙げられる。ガラスパネルユニット10は、ディスプレイにも使用可能である。   The glass panel unit 10 can be used for a window. Examples of windows include architectural windows, vehicles (including cars, trains, ships, airplanes, etc.) and exhibition windows. The glass panel unit 10 can also be used for a display.

図3〜図9により、ガラスパネルユニット10の製造方法について説明する。図3〜図9は、ガラスパネルユニット10の製造例である。図3〜図9に示す方法により、図1及び図2で示されるガラスパネルユニット10が製造され得る。図3〜図9の方法では、排気口を有さないガラスパネルユニット10が製造される。   The manufacturing method of the glass panel unit 10 will be described with reference to FIGS. 3 to 9 are production examples of the glass panel unit 10. The glass panel unit 10 shown in FIGS. 1 and 2 can be manufactured by the method shown in FIGS. 3 to 9, the glass panel unit 10 having no exhaust port is manufactured.

ガラスパネルユニット10は、まず、図3〜図5に示されるように仮組立て品100を得た後、所定の処理によって、図6〜図8に示す組立て品110を得るようにする。その後、図9に示すように、組立て品110から一部を切り出してガラスパネルユニット10を得ることができる。   The glass panel unit 10 first obtains the temporary assembly 100 as shown in FIGS. 3 to 5 and then obtains the assembly 110 shown in FIGS. 6 to 8 by a predetermined process. Then, as shown in FIG. 9, a part is cut out from the assembly 110 and the glass panel unit 10 can be obtained.

ガラスパネルユニット10の製造方法は、準備工程と、組立工程と、密閉工程と、除去工程と、を有する。なお、準備工程は、省略してもよい。   The manufacturing method of the glass panel unit 10 has a preparation process, an assembly process, a sealing process, and a removal process. Note that the preparation step may be omitted.

準備工程は、第1ガラス基板200、第2ガラス基板300、枠体410、仕切り420、ガス吸着体60、及び複数のスペーサ70を準備する工程である。準備工程により、内部空間500、通気路600、排気口700が形成され得る。   The preparation step is a step of preparing the first glass substrate 200, the second glass substrate 300, the frame body 410, the partition 420, the gas adsorber 60, and the plurality of spacers 70. The internal space 500, the air passage 600, and the exhaust port 700 can be formed by the preparation process.

第1ガラス基板200は、第1ガラスパネル20に利用される基板である。図8に示すように、第1ガラス基板200は、第1ガラス基板200の平面形状を定めるガラス板210と、コーティング220と、を備える。ガラス板210は、矩形状の平板であり、互いに平行な厚み方向の第1面及び第2面を有する。コーティング220は、ガラス板210の第2面に形成される。ガラス板210は、第1ガラスパネル20の本体21を構成する。ガラス板210の第1面は本体21の第1面に対応し、ガラス板210の第2面は本体21の第2面に対応する。コーティング220は、第1ガラスパネル20のコーティング22を構成する。なお、コーティング220は存在しなくてもよい。   The first glass substrate 200 is a substrate used for the first glass panel 20. As shown in FIG. 8, the first glass substrate 200 includes a glass plate 210 that defines a planar shape of the first glass substrate 200 and a coating 220. The glass plate 210 is a rectangular flat plate and has a first surface and a second surface in the thickness direction parallel to each other. The coating 220 is formed on the second surface of the glass plate 210. The glass plate 210 constitutes the main body 21 of the first glass panel 20. The first surface of the glass plate 210 corresponds to the first surface of the main body 21, and the second surface of the glass plate 210 corresponds to the second surface of the main body 21. The coating 220 constitutes the coating 22 of the first glass panel 20. The coating 220 may not be present.

第2ガラス基板300は、第2ガラスパネル30に利用される基板である。図8に示すように、第2ガラス基板300は、第2ガラス基板300の平面形状を定めるガラス板310を備える。ガラス板310は、矩形状の平板であり、互いに平行な厚み方向の第1面及び第2面を有する。第2ガラス基板300は、第2ガラスパネル30の本体31を構成する。ガラス板310の第1面は本体31の第1面に対応し、ガラス板310の第2面は本体31の第2面に対応する。ガラス板310の平面形状及び平面サイズは、ガラス板210と同じである。つまり、第2ガラス基板300の平面形状は、第1ガラス基板200と同じである。また、ガラス板310の厚みは、ガラス板210と同じである。第2ガラス基板300は、ガラス板310のみで構成されている。つまり、ガラス板310が第2ガラス基板300そのものである。   The second glass substrate 300 is a substrate used for the second glass panel 30. As shown in FIG. 8, the second glass substrate 300 includes a glass plate 310 that defines the planar shape of the second glass substrate 300. The glass plate 310 is a rectangular flat plate and has a first surface and a second surface in the thickness direction parallel to each other. The second glass substrate 300 constitutes the main body 31 of the second glass panel 30. The first surface of the glass plate 310 corresponds to the first surface of the main body 31, and the second surface of the glass plate 310 corresponds to the second surface of the main body 31. The planar shape and planar size of the glass plate 310 are the same as those of the glass plate 210. That is, the planar shape of the second glass substrate 300 is the same as that of the first glass substrate 200. The thickness of the glass plate 310 is the same as that of the glass plate 210. The second glass substrate 300 is composed only of the glass plate 310. That is, the glass plate 310 is the second glass substrate 300 itself.

第2ガラス基板300は、第1ガラス基板200に対向するように配置される。具体的には、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とは、ガラス板210の第2面とガラス板310の第1面とが互いに平行かつ対向するように配置される。   The second glass substrate 300 is disposed so as to face the first glass substrate 200. Specifically, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are arranged such that the second surface of the glass plate 210 and the first surface of the glass plate 310 are parallel to and face each other.

枠体410は、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300との間に配置され、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを気密に接合する。これによって、図5に示すように、枠体410と第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とで囲まれた内部空間500が形成される。   The frame 410 is arrange | positioned between the 1st glass substrate 200 and the 2nd glass substrate 300, and joins the 1st glass substrate 200 and the 2nd glass substrate 300 airtightly. As a result, as shown in FIG. 5, an internal space 500 surrounded by the frame body 410, the first glass substrate 200, and the second glass substrate 300 is formed.

枠体410は、熱接着剤(第1軟化点を有する第1熱接着剤)で形成される。枠体410は最終的にシール40に変化し得る。第1熱接着剤は、たとえば、第1のガラスフリット組成物である。第1のガラスフリット組成物は、ガラスフリットと、低融点金属粒子とを含む。ガラスフリット及び低融点金属粒子は、上記のシール40で述べた材料を用いることができる。第1のガラスフリット組成物は、上記で説明した距離調整粒子を含んでもよい。   The frame 410 is formed of a thermal adhesive (a first thermal adhesive having a first softening point). The frame 410 can eventually change to a seal 40. The first thermal adhesive is, for example, a first glass frit composition. The first glass frit composition includes glass frit and low melting point metal particles. As the glass frit and the low melting point metal particles, the materials described in the seal 40 can be used. The first glass frit composition may include the distance adjusting particles described above.

枠体410は、矩形の枠状である。枠体410の平面形状は、ガラス板210,310と同じであるが、枠体410の平面サイズはガラス板210,310より小さい。図3に示すように、枠体410は、第2ガラス基板300の外周に沿って形成されている。つまり、枠体410は、第2ガラス基板300上のほぼすべての領域を囲うように形成されている。   The frame 410 has a rectangular frame shape. The planar shape of the frame 410 is the same as that of the glass plates 210 and 310, but the planar size of the frame 410 is smaller than the glass plates 210 and 310. As shown in FIG. 3, the frame body 410 is formed along the outer periphery of the second glass substrate 300. That is, the frame 410 is formed so as to surround almost all the region on the second glass substrate 300.

仕切り420は、内部空間500内に配置される。図5に示すように、仕切り420は、内部空間500を、排気空間510と通気空間520とに仕切る。排気空間510は後に排気される空間であり、通気空間520は排気空間510の排気に使用される空間である。仕切り420は、排気空間510が通気空間520よりも大きくなるように、第2ガラス基板300の中央よりも第2ガラス基板300の長さ方向(図3における左右方向)の第1端側(図3における右端側)に形成される。   The partition 420 is disposed in the internal space 500. As shown in FIG. 5, the partition 420 partitions the internal space 500 into an exhaust space 510 and a ventilation space 520. The exhaust space 510 is a space to be exhausted later, and the ventilation space 520 is a space used for exhausting the exhaust space 510. The partition 420 has a first end side in the length direction (left-right direction in FIG. 3) of the second glass substrate 300 from the center of the second glass substrate 300 so that the exhaust space 510 is larger than the ventilation space 520. 3 on the right end side).

仕切り420は、壁部421と、一対の遮断部422(第1遮断部4221及び第2遮断部4222)と、を備える。壁部421は、第2ガラス基板300の幅方向に沿って形成されている。幅方向とは、図5においては、矩形状の仮組立て品100の短辺に沿った方向を意味する。ただし、壁部421の長さ方向の両端は、枠体410とは接触していない。一対の遮断部422は、壁部421の長さ方向の両端から、第2ガラス基板300の長さ方向の第1端側に延びている。   The partition 420 includes a wall portion 421 and a pair of blocking portions 422 (a first blocking portion 4221 and a second blocking portion 4222). The wall portion 421 is formed along the width direction of the second glass substrate 300. In FIG. 5, the width direction means a direction along the short side of the rectangular temporary assembly 100. However, both ends in the length direction of the wall portion 421 are not in contact with the frame body 410. The pair of blocking portions 422 extend from both ends in the length direction of the wall portion 421 to the first end side in the length direction of the second glass substrate 300.

仕切り420は、熱接着剤(第2軟化点を有する第2熱接着剤)で形成されている。仕切り420は最終的にシール40に変化し得る。第2熱接着剤は、たとえば、第2のガラスフリット組成物である。第2のガラスフリット組成物は、ガラスフリットと、低融点金属とを含む。第2のガラスフリット組成物は、上記で説明した距離調整粒子を含んでもよい。ガラスフリット及び低融点金属は、上記のシール40で述べた材料を用いることができる。第2熱接着剤は、第1熱接着剤と同じであってよい。そのため、第2軟化点と第1軟化点は等しい。   The partition 420 is formed of a thermal adhesive (second thermal adhesive having a second softening point). The partition 420 may eventually change to the seal 40. The second thermal adhesive is, for example, a second glass frit composition. The second glass frit composition includes a glass frit and a low melting point metal. The second glass frit composition may include the distance adjusting particles described above. As the glass frit and the low melting point metal, the materials described for the seal 40 can be used. The second thermal adhesive may be the same as the first thermal adhesive. Therefore, the second softening point and the first softening point are equal.

ガス吸着体60は、排気空間510内に配置される。具体的には、ガス吸着体60は、排気空間510の端に配置される。また、ガス吸着体60は、仕切り420及び通気路600から離れた位置にある。そのため、排気空間510の排気時に、ガス吸着体60が排気を妨げる可能性を低くできる。   The gas adsorber 60 is disposed in the exhaust space 510. Specifically, the gas adsorber 60 is disposed at the end of the exhaust space 510. Further, the gas adsorber 60 is located away from the partition 420 and the ventilation path 600. Therefore, it is possible to reduce the possibility that the gas adsorber 60 hinders exhaust when exhausting the exhaust space 510.

図3に示すように、複数のスペーサ70は、縦横に所定の間隔で配置され得る。複数のスペーサ70は、フィルムで形成されてもよい。フィルムは、樹脂の積層体であってもよい。フィルムが、スペーサ70の形状に合わせて切り取られることでスペーサ70が形成され得る。準備工程に、スペーサ70を形成する工程が加えられてもよい。   As shown in FIG. 3, the plurality of spacers 70 can be arranged at predetermined intervals in the vertical and horizontal directions. The plurality of spacers 70 may be formed of a film. The film may be a laminate of resin. The spacer 70 can be formed by cutting the film according to the shape of the spacer 70. A step of forming the spacer 70 may be added to the preparation step.

通気路600は、内部空間500内で排気空間510と通気空間520とをつなぐ。通気路600は、第1通気路610と、第2通気路620と、を備える。第1通気路610は、第1遮断部4221と第1遮断部4221に対向する枠体410の部分との間に形成された空間である。第2通気路620は、第2遮断部4222と第2遮断部4222に対向する枠体410の部分との間に形成された空間である。上記のように仕切り420を配置することで、通気路600が形成される。   The ventilation path 600 connects the exhaust space 510 and the ventilation space 520 in the internal space 500. The ventilation path 600 includes a first ventilation path 610 and a second ventilation path 620. The first air passage 610 is a space formed between the first blocking portion 4221 and the portion of the frame 410 that faces the first blocking portion 4221. The second ventilation path 620 is a space formed between the second blocking portion 4222 and the portion of the frame 410 that faces the second blocking portion 4222. By arranging the partition 420 as described above, the ventilation path 600 is formed.

排気口700は、通気空間520と外部空間とをつなぐ孔である。排気口700は、通気空間520及び通気路600を介して排気空間510を排気するために用いられる。したがって、通気路600と通気空間520と排気口700とは、排気空間510を排気するための排気路を構成する。排気口700は、通気空間520と外部空間とをつなぐように第2ガラス基板300に形成されている。具体的には、排気口700は、第2ガラス基板300の角部分に位置している。   The exhaust port 700 is a hole that connects the ventilation space 520 and the external space. The exhaust port 700 is used to exhaust the exhaust space 510 through the ventilation space 520 and the ventilation path 600. Therefore, the ventilation path 600, the ventilation space 520, and the exhaust port 700 constitute an exhaust path for exhausting the exhaust space 510. The exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300 so as to connect the ventilation space 520 and the external space. Specifically, the exhaust port 700 is located at a corner portion of the second glass substrate 300.

以上のような部材により、準備工程が行われる。準備工程は、第1〜第6工程を有する。なお、第2〜第6工程の順番は、適宜変更してもよい。   A preparation process is performed by the above members. The preparation step has first to sixth steps. In addition, you may change the order of a 2nd-6th process suitably.

第1工程は、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300を形成する工程(基板形成工程)である。たとえば、第1工程では、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300を作製する。また、第1工程では、必要に応じて、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300を洗浄する。   The first step is a step of forming the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 (substrate forming step). For example, in the first step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are produced. In the first step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are cleaned as necessary.

第2工程は、排気口700を形成する工程である。第2工程では、第2ガラス基板300に、排気口700を形成する。また、第2工程では、必要に応じて、第2ガラス基板300を洗浄する。なお、排気口700は、第1ガラス基板200に設けられてもよい。   The second step is a step of forming the exhaust port 700. In the second step, the exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300. In the second step, the second glass substrate 300 is cleaned as necessary. The exhaust port 700 may be provided in the first glass substrate 200.

第3工程は、枠体410及び仕切り420を形成する工程(シール材形成工程)である。第3工程では、ディスペンサなどを利用して、枠体410の材料(第1熱接着剤;第1のガラスフリット組成物)及び仕切り420の材料(第2熱接着剤;第2のガラスフリット組成物)を第2ガラス基板300(ガラス板310の第1面)上に塗布する。そして、枠体410の材料及び仕切り420の材料を乾燥させるとともに、仮焼成する。たとえば、枠体410の材料及び仕切り420の材料が塗布された第2ガラス基板300を480℃で20分間加熱する。なお、第1ガラス基板200を第2ガラス基板300と一緒に加熱してもよい。つまり、第1ガラス基板200を第2ガラス基板300と同じ条件(480℃で20分間)で加熱してもよい。これにより、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300との反りの差を低減できる。   The third step is a step of forming the frame body 410 and the partition 420 (seal material forming step). In the third step, the material of the frame 410 (first thermal adhesive; first glass frit composition) and the material of the partition 420 (second thermal adhesive; second glass frit composition) using a dispenser or the like. Is applied on the second glass substrate 300 (the first surface of the glass plate 310). Then, the material of the frame 410 and the material of the partition 420 are dried and temporarily fired. For example, the 2nd glass substrate 300 with which the material of the frame 410 and the material of the partition 420 were apply | coated is heated at 480 degreeC for 20 minutes. Note that the first glass substrate 200 may be heated together with the second glass substrate 300. That is, the first glass substrate 200 may be heated under the same conditions as the second glass substrate 300 (20 minutes at 480 ° C.). Thereby, the difference of the curvature of the 1st glass substrate 200 and the 2nd glass substrate 300 can be reduced.

第4工程は、スペーサ70を設置する工程(スペーサ設置工程)である。第4工程では、複数のスペーサ70を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のスペーサ70を、第2ガラス基板300の所定位置に設置する。なお、複数のスペーサ70は、公知の薄膜形成技術を利用して形成されていてもよい。例えば、スペーサ70を形成するための流動性組成物を第2ガラス基板300の上に塗布することで、スペーサ70が形成され得る。   The fourth process is a process of installing the spacer 70 (spacer installation process). In the fourth step, a plurality of spacers 70 are formed in advance, and the plurality of spacers 70 are installed at predetermined positions on the second glass substrate 300 using a chip mounter or the like. The plurality of spacers 70 may be formed using a known thin film forming technique. For example, the spacer 70 can be formed by applying a fluid composition for forming the spacer 70 on the second glass substrate 300.

第5工程は、ガス吸着体60を形成する工程(ガス吸着体形成工程)である。第5工程では、ゲッタの粉体が分散された溶液を第2ガラス基板300の所定位置に塗布し、乾燥させることで、ガス吸着体60を形成する。   The fifth step is a step of forming the gas adsorbent 60 (gas adsorbent forming step). In the fifth step, the gas adsorber 60 is formed by applying a solution in which getter powder is dispersed to a predetermined position of the second glass substrate 300 and drying the solution.

第1工程から第5工程が終了することで、図3に示されるような、枠体410、仕切り420、通気路600、排気口700、ガス吸着体60、複数のスペーサ70が形成された第2ガラス基板300が得られる。   When the first to fifth steps are completed, the frame 410, the partition 420, the ventilation path 600, the exhaust port 700, the gas adsorbent 60, and the plurality of spacers 70 are formed as shown in FIG. Two glass substrates 300 are obtained.

第6工程は、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを配置する工程(配置工程)である。第6工程では、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とは、ガラス板210の第2面とガラス板310の第1面とが互いに平行かつ対向するように配置される。図4は、第1ガラス基板200を第2ガラス基板300に重ねている様子を示している。なお、本例では、第2ガラス基板300に各部材(枠体410、仕切り420など)を配置しているが、第1ガラス基板200に各部材を配置してもよい。   The sixth step is a step (arrangement step) for arranging the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300. In the sixth step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are arranged such that the second surface of the glass plate 210 and the first surface of the glass plate 310 are parallel to and face each other. FIG. 4 shows a state in which the first glass substrate 200 is overlaid on the second glass substrate 300. In this example, each member (frame body 410, partition 420, etc.) is arranged on the second glass substrate 300, but each member may be arranged on the first glass substrate 200.

組立工程は、仮組立て品100を用意する工程である。具体的には、組立工程では、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを接合することで、仮組立て品100を用意する。つまり、組立工程は、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを枠体41により気密に接合する工程(第1溶融工程)である。   The assembly process is a process of preparing the temporary assembly product 100. Specifically, in the assembly process, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are joined to prepare the temporary assembly 100. That is, the assembly process is a process (first melting process) in which the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are hermetically bonded by the frame body 41.

第1溶融工程では、第1軟化点以上の所定温度(第1溶融温度)で第1熱接着剤を一旦溶融させることで、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを気密に接合する。第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とは、枠体410によって気密に接合される。具体的には、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300は、溶融炉内に配置され、第1溶融温度で所定時間(第1溶融時間)だけ加熱される。   In the first melting step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are hermetically bonded by once melting the first thermal adhesive at a predetermined temperature (first melting temperature) equal to or higher than the first softening point. . The first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are hermetically bonded by the frame body 410. Specifically, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are placed in a melting furnace and heated at a first melting temperature for a predetermined time (first melting time).

第1溶融温度及び第1溶融時間は、枠体410の熱接着剤によって第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とが気密に接合されるが、仕切り420によって通気路600が塞がれることがないように、設定される。つまり、第1溶融温度の下限は、第1軟化点であるが、第1溶融温度の上限は、仕切り420によって通気路600が塞がれることがないように設定される。たとえば、第1軟化点及び第2軟化点が434℃である場合、第1溶融温度は、440℃に設定される。また、第1溶融時間は、たとえば、10分である。なお、第1溶融工程では、枠体410からガスが放出されるが、このガスはガス吸着体60によって吸着されてもよい。   In the first melting temperature and the first melting time, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are hermetically bonded by the thermal adhesive of the frame 410, but the air passage 600 is blocked by the partition 420. It is set so that there is no. That is, the lower limit of the first melting temperature is the first softening point, but the upper limit of the first melting temperature is set so that the air passage 600 is not blocked by the partition 420. For example, when the first softening point and the second softening point are 434 ° C., the first melting temperature is set to 440 ° C. The first melting time is, for example, 10 minutes. In the first melting step, gas is released from the frame 410, but this gas may be adsorbed by the gas adsorber 60.

上述した組立工程(第1溶融工程)によって、図5に示される仮組立て品100が得られる。仮組立て品100は、第1ガラス基板200と、第2ガラス基板300と、枠体410と、内部空間500と、仕切り420と、通気路600と、排気口700と、ガス吸着体60と、複数のスペーサ70と、を備える。   The temporary assembly 100 shown in FIG. 5 is obtained by the assembly process (first melting process) described above. The temporary assembly 100 includes a first glass substrate 200, a second glass substrate 300, a frame body 410, an internal space 500, a partition 420, an air passage 600, an exhaust port 700, a gas adsorber 60, A plurality of spacers 70.

密閉工程は、仮組立て品100に上記所定の処理を行って組立て品110を得る工程である。密閉工程は、排気工程と、溶融工程(第2溶融工程)と、を有する。つまり、排気工程及び第2溶融工程が上記所定の処理に相当する。   The sealing step is a step of obtaining the assembly 110 by performing the predetermined processing on the temporary assembly 100. The sealing process includes an exhaust process and a melting process (second melting process). That is, the exhaust process and the second melting process correspond to the predetermined process.

排気工程は、所定温度(排気温度)で、排気空間510を、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気して真空空間50とする工程である。このように、排気工程では加熱されることが好ましい。それにより、真空性が高まる。   The exhaust process is a process of exhausting the exhaust space 510 at a predetermined temperature (exhaust temperature) through the ventilation path 600, the ventilation space 520, and the exhaust port 700 to form the vacuum space 50. Thus, it is preferable to heat in the exhaust process. Thereby, a vacuum property increases.

排気は、たとえば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図5に示されるように、排気管810と、シールヘッド820と、により仮組立て品100に接続される。排気管810は、たとえば、排気管810の内部と排気口700とが連通するように第2ガラス基板300に接合される。そして、排気管810にシールヘッド820が取り付けられ、これによって、真空ポンプの吸気口が排気口700に接続される。   Exhaust is performed using, for example, a vacuum pump. As shown in FIG. 5, the vacuum pump is connected to the temporary assembly 100 by an exhaust pipe 810 and a seal head 820. For example, the exhaust pipe 810 is joined to the second glass substrate 300 so that the inside of the exhaust pipe 810 and the exhaust port 700 communicate with each other. Then, a seal head 820 is attached to the exhaust pipe 810, whereby the suction port of the vacuum pump is connected to the exhaust port 700.

第1溶融工程と排気工程と第2溶融工程とは、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300を溶融炉内に配置したまま行われる。このとき、第2ガラス基板300は、枠体410、仕切り420、通気路600、排気口700、ガス吸着体60、複数のスペーサ70が設けられている。排気管810は、少なくとも第1溶融工程の前に、第2ガラス基板300に接合される。   The first melting step, the exhausting step, and the second melting step are performed while the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are disposed in the melting furnace. At this time, the second glass substrate 300 is provided with a frame body 410, a partition 420, an air passage 600, an exhaust port 700, a gas adsorber 60, and a plurality of spacers 70. The exhaust pipe 810 is joined to the second glass substrate 300 at least before the first melting step.

排気工程では、所定の排気温度で所定時間(排気時間)だけ、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気空間510を排気する。排気温度は、ガス吸着体60のゲッタの活性化温度(たとえば、350℃)より高く、かつ、第1軟化点及び第2軟化点(たとえば、434℃)より低く設定される。排気温度は、好ましくは、300℃以上である。たとえば、排気温度は、390℃である。このようにすれば、枠体410及び仕切り420は変形しない。また、ガス吸着体60のゲッタが活性化し、ゲッタが吸着していた分子(ガス)がゲッタから放出される。そして、ゲッタから放出された分子(つまりガス)は、排気空間510、通気路600、通気空間520、及び、排気口700を通じて排出される。したがって、排気工程では、ガス吸着体60の吸着能力が回復する。排気時間は、所望の真空度(たとえば、0.1Pa以下の真空度)の真空空間50が得られるように設定される。たとえば、排気時間は、120分に設定される。   In the exhaust process, the exhaust space 510 is exhausted through the ventilation path 600, the ventilation space 520, and the exhaust port 700 for a predetermined time (exhaust time) at a predetermined exhaust temperature. The exhaust temperature is set higher than the activation temperature of the getter of the gas adsorber 60 (for example, 350 ° C.) and lower than the first softening point and the second softening point (for example, 434 ° C.). The exhaust temperature is preferably 300 ° C. or higher. For example, the exhaust temperature is 390 ° C. In this way, the frame body 410 and the partition 420 are not deformed. Further, the getter of the gas adsorber 60 is activated, and molecules (gas) adsorbed by the getter are released from the getter. Then, the molecules (that is, gas) released from the getter are discharged through the exhaust space 510, the ventilation path 600, the ventilation space 520, and the exhaust port 700. Therefore, in the exhaust process, the adsorption capacity of the gas adsorber 60 is recovered. The exhaust time is set so that a vacuum space 50 having a desired degree of vacuum (for example, a degree of vacuum of 0.1 Pa or less) is obtained. For example, the exhaust time is set to 120 minutes.

第2溶融工程は、仕切り420を変形させて、通気路600を塞ぐ隔壁42を形成することで、真空空間50を囲むシール40を形成する工程である。第2溶融工程では、第2軟化点以上の所定温度(第2溶融温度)で第2熱接着剤を一旦溶融させることで、仕切り420を変形させて隔壁42を形成する。具体的には、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300は、溶融炉内で、第2溶融温度で所定時間(第2溶融時間)だけ加熱される。   The second melting step is a step of forming the seal 40 that surrounds the vacuum space 50 by deforming the partition 420 to form the partition wall 42 that closes the ventilation path 600. In the second melting step, the partition wall 42 is formed by deforming the partition 420 by once melting the second thermal adhesive at a predetermined temperature (second melting temperature) equal to or higher than the second softening point. Specifically, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are heated for a predetermined time (second melting time) at the second melting temperature in the melting furnace.

第2溶融温度及び第2溶融時間は、第2熱接着剤が軟化し、通気路600を塞ぐ隔壁42が形成されるように設定される。第2溶融温度の下限は、第2軟化点(434℃)である。ただし、第2溶融工程では、第1溶融工程とは異なり、仕切り420を変形させることを目的としているから、第2溶融温度は、第1溶融温度(440℃)より高くしている。たとえば、第2溶融温度は、460℃に設定される。また、第2溶融時間は、たとえば、30分である。   The second melting temperature and the second melting time are set such that the second thermal adhesive is softened and the partition wall 42 that blocks the air passage 600 is formed. The lower limit of the second melting temperature is the second softening point (434 ° C.). However, unlike the first melting step, the second melting step aims to deform the partition 420, and therefore the second melting temperature is higher than the first melting temperature (440 ° C.). For example, the second melting temperature is set to 460 ° C. The second melting time is, for example, 30 minutes.

隔壁42が形成されると、真空空間50が通気空間520から分離される。そのため、真空ポンプで真空空間50を排気することはできなくなる。第2溶融工程が終了するまでは、枠体410及び隔壁42が加熱されているから、枠体410及び隔壁42からガスが放出されることがある。しかしながら、枠体410及び隔壁42から放出されたガスは、真空空間50内のガス吸着体60に吸着される。そのため、真空空間50の真空度が悪化することが防止される。つまり、ガラスパネルユニット10の断熱性が悪くなることが防止される。   When the partition wall 42 is formed, the vacuum space 50 is separated from the ventilation space 520. Therefore, the vacuum space 50 cannot be exhausted with the vacuum pump. Until the second melting step is completed, the frame body 410 and the partition wall 42 are heated, and thus gas may be released from the frame body 410 and the partition wall 42. However, the gas released from the frame body 410 and the partition wall 42 is adsorbed by the gas adsorber 60 in the vacuum space 50. Therefore, the vacuum degree of the vacuum space 50 is prevented from deteriorating. That is, it is prevented that the heat insulation of the glass panel unit 10 deteriorates.

第1溶融工程でも、枠体410及び隔壁42が加熱されているから、枠体410及び隔壁42からガスが放出されることがある。枠体410及び隔壁42から放出されたガスはガス吸着体60に吸着されるから、第1溶融工程によってガス吸着体60の吸着能力が低下している場合がある。しかしながら、排気工程では、ガス吸着体60のゲッタの活性化温度以上の排気温度で排気空間510の排気を行い、これによって、ガス吸着体60の吸着能力を回復させている。したがって、ガス吸着体60は、第2溶融工程において、枠体410及び隔壁42から放出されたガスを十分に吸着できる。つまり、ガス吸着体60が枠体410及び隔壁42から放出されたガスを十分に吸着できずに真空空間50の真空度が悪化することを防止できる。   Even in the first melting step, since the frame body 410 and the partition wall 42 are heated, gas may be released from the frame body 410 and the partition wall 42. Since the gas released from the frame 410 and the partition wall 42 is adsorbed by the gas adsorber 60, the adsorption capability of the gas adsorber 60 may be reduced by the first melting step. However, in the exhaust process, the exhaust space 510 is exhausted at an exhaust temperature equal to or higher than the activation temperature of the getter of the gas adsorber 60, thereby recovering the adsorption capacity of the gas adsorber 60. Therefore, the gas adsorber 60 can sufficiently adsorb the gas released from the frame body 410 and the partition wall 42 in the second melting step. That is, it is possible to prevent the gas adsorber 60 from sufficiently adsorbing the gas released from the frame body 410 and the partition wall 42 and deteriorating the vacuum degree of the vacuum space 50.

また、第2溶融工程では、排気工程から継続して、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気空間510を排気する。つまり、第2溶融工程では、第2溶融温度で、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気空間510を排気しながら、仕切り420を変形させて通気路600を塞ぐ隔壁42を形成する。これによって、第2溶融工程中に、真空空間50の真空度が悪化することがさらに防止される。ただし、第2溶融工程では、必ずしも、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気空間510を排気する必要はない。   In the second melting step, the exhaust space 510 is exhausted through the vent path 600, the vent space 520, and the exhaust port 700 continuously from the exhaust step. That is, in the second melting step, the partition wall 42 that blocks the air passage 600 by deforming the partition 420 while exhausting the exhaust space 510 through the air passage 600, the air space 520, and the exhaust port 700 at the second melting temperature. Form. This further prevents the vacuum degree of the vacuum space 50 from being deteriorated during the second melting step. However, in the second melting step, it is not always necessary to exhaust the exhaust space 510 through the vent path 600, the vent space 520, and the exhaust port 700.

上記所定の処理では、所定温度(排気温度)で、通気路600、通気空間520、及び排気口700を介して排気空間510を排気して排気空間510を真空空間50とする。排気温度は、ガス吸着体60のゲッタの活性化温度より高くしている。これによって、排気空間510の排気とゲッタの吸着能力の回復とが同時に行える。   In the predetermined process, the exhaust space 510 is evacuated to the vacuum space 50 through the ventilation path 600, the ventilation space 520, and the exhaust port 700 at a predetermined temperature (exhaust temperature). The exhaust temperature is higher than the activation temperature of the getter of the gas adsorber 60. As a result, the exhaust of the exhaust space 510 and the recovery of the getter adsorption capability can be performed simultaneously.

また、上記所定の処理では、仕切り420を変形させて、通気路600を塞ぐ隔壁42を形成することで、真空空間50を囲むシール40を形成する(図7参照)。仕切り420は、第2熱接着剤を含んでいるから、第2軟化点以上の所定温度(第2溶融温度)で第2熱接着剤を一旦溶融させることで、仕切り420を変形させて隔壁42を形成することができる。なお、第1溶融温度は、第2溶融温度より低くしている。これによって、枠体410で第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを接合する際に、仕切り420が変形して通気路600が塞がれることを防止できる。なお、仕切り420は、枠体410よりも溶融時の変形性が大きい材料で形成されてもよい。   In the predetermined process, the partition 420 is deformed to form the partition wall 42 that closes the ventilation path 600, thereby forming the seal 40 surrounding the vacuum space 50 (see FIG. 7). Since the partition 420 contains the second thermal adhesive, the partition 420 is deformed by once melting the second thermal adhesive at a predetermined temperature (second melting temperature) that is equal to or higher than the second softening point. Can be formed. The first melting temperature is lower than the second melting temperature. Thereby, when joining the 1st glass substrate 200 and the 2nd glass substrate 300 with the frame 410, it can prevent that the partition 420 deform | transforms and the ventilation path 600 is obstruct | occluded. The partition 420 may be formed of a material that is more deformable when melted than the frame body 410.

仕切り420は、第1遮断部4221が第1通気路610を塞ぎ、第2遮断部4222が第2通気路620を塞ぐように、変形される。このようにして仕切り420を変形することで得られた隔壁42は、真空空間50を通気空間520から(空間的に)分離する。隔壁(第2部分)42と枠体410において真空空間50に対応する部分(第1部分)41とが、真空空間50を囲むシール40を構成する。   The partition 420 is modified such that the first blocking part 4221 closes the first ventilation path 610 and the second blocking part 4222 blocks the second ventilation path 620. The partition wall 42 obtained by deforming the partition 420 in this way separates (vacually) the vacuum space 50 from the ventilation space 520. The partition (second portion) 42 and the portion (first portion) 41 corresponding to the vacuum space 50 in the frame 410 constitute the seal 40 surrounding the vacuum space 50.

このように、真空空間50は、通気空間520、及び排気口700を介して排気空間510を排気することで形成される。真空空間50は、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とシール40とで完全に密閉されているから、通気空間520及び排気口700から分離されている。   Thus, the vacuum space 50 is formed by exhausting the exhaust space 510 through the ventilation space 520 and the exhaust port 700. Since the vacuum space 50 is completely sealed by the first glass substrate 200, the second glass substrate 300, and the seal 40, the vacuum space 50 is separated from the ventilation space 520 and the exhaust port 700.

また、矩形の枠状のシール40が形成される。シール40は、第1部分41と、第2部分42と、を有する。第1部分41は、枠体410において真空空間50に対応する部分である。つまり、第1部分41は、枠体410において真空空間50に面している部分である。第1部分41は、略U字状であり、シール40の四辺のうちの三辺を構成する。第1部分41は、第1のガラスフリット組成物から形成される。第2部分42は、仕切り420を変形することで得られる隔壁である。第2部分42は、I字状であり、シール40の四辺のうちの残りの一辺を構成する。第2部分42は、第2のガラスフリット組成物から形成される。   In addition, a rectangular frame-shaped seal 40 is formed. The seal 40 has a first portion 41 and a second portion 42. The first portion 41 is a portion corresponding to the vacuum space 50 in the frame 410. That is, the first portion 41 is a portion facing the vacuum space 50 in the frame body 410. The first portion 41 is substantially U-shaped and constitutes three sides of the four sides of the seal 40. The first portion 41 is formed from a first glass frit composition. The second portion 42 is a partition wall obtained by deforming the partition 420. The second portion 42 is I-shaped and constitutes the remaining one of the four sides of the seal 40. The second portion 42 is formed from a second glass frit composition.

排気工程では、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とが近づく方向の力が発生する。このとき、スペーサ70が、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300との間の空間を確保する。   In the exhaust process, a force in a direction in which the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 approach each other is generated. At this time, the spacer 70 secures a space between the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300.

ここで、シール40が、低融点金属粒子を含むガラスフリット組成物から形成された場合、低融点金属粒子を含まないガラスフリット組成物から形成された場合に比べて、熱膨張差を低減することができ、熱膨張差で発生する応力を緩和することができる。そして、製造中におけるガラスパネルの破壊や、ガラスパネルの反りなどを低減させることができる。また、2つのガラスパネルを強度高く接着することができる。   Here, when the seal 40 is formed from a glass frit composition containing low melting point metal particles, the difference in thermal expansion is reduced as compared to a case where the seal 40 is formed from a glass frit composition not containing low melting point metal particles. The stress generated by the difference in thermal expansion can be relieved. And the destruction of the glass panel in manufacture, the curvature of a glass panel, etc. can be reduced. Also, the two glass panels can be bonded with high strength.

上述した密閉工程によって、図6〜図8に示される組立て品110が得られる。組立て品110は、第1ガラス基板200と、第2ガラス基板300と、シール40と、真空空間50と、通気空間520と、ガス吸着体60と、複数のスペーサ70と、を備える。図7では、内部構造が理解しやすいよう、第1ガラス基板200の一部(右下)を破断して、描画している。   The assembly 110 shown in FIGS. 6 to 8 is obtained by the sealing process described above. The assembly 110 includes a first glass substrate 200, a second glass substrate 300, a seal 40, a vacuum space 50, a ventilation space 520, a gas adsorber 60, and a plurality of spacers 70. In FIG. 7, a part (lower right) of the first glass substrate 200 is broken and drawn so that the internal structure can be easily understood.

除去工程は、組立て品110から通気空間520を有する部分11を除去することで、真空空間50を有する部分であるガラスパネルユニット10を得る工程である。図7に示されるように、具体的には、溶融炉から取り出された組立て品110は、切断線900に沿って切断され、真空空間50を有する所定部分(ガラスパネルユニット)10と、通気空間520を有する部分(不要な部分)11と、に分割される。不要な部分11は、主に、第1ガラス基板200のうち通気空間520に対応する部分230と、第2ガラス基板300のうち通気空間520に対応する部分320と、枠体410のうち通気空間520に対応する部分411と、を含んでいる。ガラスパネルユニット10の製造コストを考慮すれば、不要な部分11は小さいほうが好ましい。図9では、組立て品110から不要な部分11を除去する様子を示している。   The removal step is a step of obtaining the glass panel unit 10 that is a portion having the vacuum space 50 by removing the portion 11 having the ventilation space 520 from the assembly 110. Specifically, as shown in FIG. 7, the assembly 110 taken out from the melting furnace is cut along a cutting line 900, a predetermined portion (glass panel unit) 10 having a vacuum space 50, and a ventilation space. And a portion (unnecessary portion) 11 having 520. The unnecessary portion 11 mainly includes a portion 230 corresponding to the ventilation space 520 in the first glass substrate 200, a portion 320 corresponding to the ventilation space 520 in the second glass substrate 300, and a ventilation space in the frame 410. And a portion 411 corresponding to 520. Considering the manufacturing cost of the glass panel unit 10, it is preferable that the unnecessary portion 11 is small. FIG. 9 shows a state where the unnecessary portion 11 is removed from the assembly 110.

切断は、適宜の切断装置によって行われる。切断装置としては、スクライバ、レーザが例示される。第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを同時に切断すると、ガラスパネルユニット10を効率よく切り出すことができる。なお、切断線900の形状は、ガラスパネルユニット10の形状によって定まる。ガラスパネルユニット10は矩形状であるから、切断線900は、壁42の長さ方向に沿った直線となっている。   Cutting is performed by an appropriate cutting device. Examples of the cutting device include a scriber and a laser. If the 1st glass substrate 200 and the 2nd glass substrate 300 are cut | disconnected simultaneously, the glass panel unit 10 can be cut out efficiently. The shape of the cutting line 900 is determined by the shape of the glass panel unit 10. Since the glass panel unit 10 is rectangular, the cutting line 900 is a straight line along the length direction of the wall 42.

上述した、準備工程、組立工程、密閉工程、及び除去工程を経て、図1及び図2に示すようなガラスパネルユニット10が得られる。第1ガラスパネル20は、第1ガラス基板200のうち真空空間50に対応する部分である。第2ガラスパネル30は、第2ガラス基板300のうち真空空間50に対応する部分である。真空空間50を形成するための排気口700は、第2ガラス基板300において通気空間520に対応する部分320に存在し、排気管810は部分320に接続されている。そのため、第2ガラスパネル30には、排気口700が存在していない。   A glass panel unit 10 as shown in FIGS. 1 and 2 is obtained through the above-described preparation process, assembly process, sealing process, and removal process. The first glass panel 20 is a portion corresponding to the vacuum space 50 in the first glass substrate 200. The second glass panel 30 is a portion corresponding to the vacuum space 50 in the second glass substrate 300. The exhaust port 700 for forming the vacuum space 50 exists in the part 320 corresponding to the ventilation space 520 in the second glass substrate 300, and the exhaust pipe 810 is connected to the part 320. Therefore, the second glass panel 30 does not have the exhaust port 700.

以下、ガラスパネルユニットの更なる変形例を説明する。変形例の説明にあたっては、同様の構成の番号について括弧を付す。   Hereinafter, further modifications of the glass panel unit will be described. In the description of the modification, parentheses are given to the numbers of the same configuration.

上記実施形態では、ガラスパネルユニット(10)は矩形状であるが、ガラスパネルユニット(10)は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第1ガラスパネル(20)、第2ガラスパネル(30)、及びシール(40)は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。なお、第1ガラス基板(200)、第2ガラス基板(300)、枠体(410)、及び、隔壁(42)のそれぞれの形状は、上記実施形態の形状に限定されず、所望の形状のガラスパネルユニット(10)が得られるような形状であればよい。なお、ガラスパネルユニット(10)の形状や大きさは、ガラスパネルユニット(10)の用途に応じて決定される。   In the said embodiment, although a glass panel unit (10) is rectangular shape, desired shapes, such as circular shape and polygonal shape, may be sufficient as a glass panel unit (10). That is, the first glass panel (20), the second glass panel (30), and the seal (40) may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape instead of a rectangular shape. In addition, each shape of a 1st glass substrate (200), a 2nd glass substrate (300), a frame (410), and a partition (42) is not limited to the shape of the said embodiment, Desired shape What is necessary is just a shape which can obtain a glass panel unit (10). In addition, the shape and magnitude | size of a glass panel unit (10) are determined according to the use of a glass panel unit (10).

また、第1ガラスパネル(20)の本体(21)の第1面及び第2面はいずれも平面に限定されない。同様に、第2ガラスパネル(30)の本体(31)の第1面及び第2面はいずれも平面に限定されない。   Moreover, the 1st surface and 2nd surface of the main body (21) of a 1st glass panel (20) are not limited to a plane. Similarly, neither the first surface nor the second surface of the main body (31) of the second glass panel (30) is limited to a flat surface.

また、第1ガラスパネル(20)の本体(21)と第2ガラスパネル(30)の本体(31)とは同じ平面形状及び平面サイズを有していなくてもよい。また、本体(21)と本体(31)とは同じ厚みを有していなくてもよい。また、本体(21)と本体(31)とは同じ材料で形成されていなくてもよい。同様に、第1ガラス基板(200)のガラス板(210)と第2ガラス基板(300)のガラス板(310)とは同じ平面形状及び平面サイズを有していなくてもよい。また、ガラス板(210)とガラス板(310)とは同じ厚みを有していなくてもよい。ガラス板(210)とガラス板(310)とは同じ材料で形成されていなくてもよい。   Moreover, the main body (21) of the first glass panel (20) and the main body (31) of the second glass panel (30) may not have the same planar shape and planar size. Moreover, the main body (21) and the main body (31) may not have the same thickness. Moreover, the main body (21) and the main body (31) may not be formed of the same material. Similarly, the glass plate (210) of the first glass substrate (200) and the glass plate (310) of the second glass substrate (300) may not have the same planar shape and planar size. Moreover, the glass plate (210) and the glass plate (310) do not need to have the same thickness. The glass plate (210) and the glass plate (310) may not be formed of the same material.

また、シール(40)は、第1ガラスパネル(20)及び第2ガラスパネル(30)と同じ平面形状を有していなくてもよい。同様に、枠体(410)は、第1ガラス基板(200)及び第2ガラス基板(300)と同じ平面形状を有していなくてもよい。   Moreover, the seal | sticker (40) does not need to have the same planar shape as a 1st glass panel (20) and a 2nd glass panel (30). Similarly, the frame (410) may not have the same planar shape as the first glass substrate (200) and the second glass substrate (300).

また、第1ガラスパネル(20)は、さらに、所望の物理特性を有して本体(21)の第2平面に形成されるコーティングを備えていてもよい。あるいは、第1ガラスパネル(20)は、コーティング(22)を備えていなくてもよい。つまり、第1ガラスパネル(20)は、本体(21)のみで構成されていてもよい。   The first glass panel (20) may further include a coating having desired physical properties and formed on the second plane of the main body (21). Alternatively, the first glass panel (20) may not include the coating (22). That is, the 1st glass panel (20) may be comprised only with the main body (21).

また、第2ガラスパネル(30)は、さらに、所望の物理特性を有するコーティングを備えていてもよい。コーティングは、たとえば、本体(31)の第1平面及び第2平面にそれぞれ形成される薄膜の少なくとも一方を備えていればよい。コーティングは、たとえば、特定波長の光を反射する膜(赤外線反射膜、紫外線反射膜)などである。   The second glass panel (30) may further include a coating having desired physical properties. The coating only needs to include at least one of thin films formed on the first plane and the second plane of the main body (31), for example. The coating is, for example, a film that reflects light of a specific wavelength (infrared reflective film, ultraviolet reflective film).

上記実施形態では、枠体(410)は、第1熱接着剤(第1のガラスフリット組成物)で形成されている。ただし、枠体(410)は、第1熱接着剤に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。つまり、枠体(410)は、第1熱接着剤(第1のガラスフリット組成物)を含んでいればよい。また、上記実施形態では、枠体(410)は、第2ガラス基板(300)のほぼすべての領域を囲うように形成されている。しかしながら、枠体(410)は、第2ガラス基板(300)上の所定の領域を囲うように形成されていればよい。つまり、枠体(410)は、第2ガラス基板(300)のほぼすべての領域を囲うように形成されている必要はない。また、組立て品(110)は、2以上の枠体(410)を有していてもよい。つまり、組立て品(110)は、2以上の内部空間(500)を有していてもよい。この場合、1つの組立て品(110)から2以上のガラスパネルユニット(10)を得ることができる。   In the said embodiment, the frame (410) is formed with the 1st thermal adhesive (1st glass frit composition). However, the frame (410) may include other elements such as a core material in addition to the first thermal adhesive. That is, the frame (410) only needs to contain the first thermal adhesive (first glass frit composition). Moreover, in the said embodiment, the frame (410) is formed so that the substantially all area | region of the 2nd glass substrate (300) may be enclosed. However, the frame (410) only needs to be formed so as to surround a predetermined region on the second glass substrate (300). That is, the frame (410) does not need to be formed so as to surround almost the entire region of the second glass substrate (300). Moreover, the assembly (110) may have two or more frames (410). That is, the assembly (110) may have two or more internal spaces (500). In this case, two or more glass panel units (10) can be obtained from one assembly (110).

上記実施形態では、仕切り(420)は、第2熱接着剤(第2のガラスフリット組成物)で形成されている。ただし、仕切り(420)は、第2熱接着剤に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。つまり、仕切り(420)は、第2熱接着剤(第2のガラスフリット組成物)を含んでいればよい。また、上記実施形態では、仕切り(420)はその両端が枠体(410)とは連結されていない。そして、仕切り(420)の両端と枠体(410)との隙間が、通気路(610,620)である。ただし、仕切り(420)は、その両端の一方のみが枠体(410)に連結されていなくてもよく、この場合、仕切り(420)と枠体(410)との間に一つの通気路(600)が形成される。あるいは、仕切り(420)は、その両端が枠体(410)に連結されていてもよい。この場合、通気路(600)は、仕切り(420)に形成された貫通孔であってもよい。あるいは、通気路(600)は、仕切り(420)と第1ガラス基板(200)との隙間であってもよい。あるいは、仕切り(420)は、間隔をあけて配置された2以上の仕切りで形成されていてもよい。この場合、通気路(600)は、2以上の仕切りの隙間であってもよい。   In the said embodiment, the partition (420) is formed with the 2nd thermal adhesive (2nd glass frit composition). However, the partition (420) may include other elements such as a core material in addition to the second thermal adhesive. That is, the partition (420) only needs to contain the second thermal adhesive (second glass frit composition). Moreover, in the said embodiment, the both ends of the partition (420) are not connected with the frame (410). And the clearance gap between the both ends of a partition (420) and a frame (410) is a ventilation path (610,620). However, only one of the both ends of the partition (420) may not be connected to the frame (410). In this case, one air passage (between the partition (420) and the frame (410) is provided. 600) is formed. Or the both ends of the partition (420) may be connected with the frame (410). In this case, the ventilation path (600) may be a through hole formed in the partition (420). Alternatively, the air passage (600) may be a gap between the partition (420) and the first glass substrate (200). Alternatively, the partition (420) may be formed of two or more partitions arranged at intervals. In this case, the ventilation path (600) may be a gap between two or more partitions.

上記実施形態では、内部空間(500)は、一つの排気空間(510)と一つの通気空間(520)とに仕切られている。ただし、内部空間(500)は、1以上の排気空間(510)と1以上の通気空間(520)とに仕切られていてもよい。内部空間(500)が2以上の排気空間(510)を有する場合、1つの組立て品(110)から2以上のガラスパネルユニット(10)を得ることができる。   In the above embodiment, the internal space (500) is partitioned into one exhaust space (510) and one ventilation space (520). However, the internal space (500) may be partitioned into one or more exhaust spaces (510) and one or more ventilation spaces (520). When the internal space (500) has two or more exhaust spaces (510), two or more glass panel units (10) can be obtained from one assembly (110).

上記実施形態では、第2熱接着剤(第2のガラスフリット組成物)は、第1熱接着剤(第1のガラスフリット組成物)と同じであり、第2軟化点と第1軟化点は等しい。ただし、第2熱接着剤は、第1熱接着剤と異なる材料であってもよい。たとえば、第2熱接着剤は、第1熱接着剤の第1軟化点と異なる第2軟化点を有していてもよい。ここで、第2軟化点は、第1軟化点より高いことが好ましい。この場合、第1溶融温度を、第1軟化点以上第2軟化点未満とすることができる。このようにすれば、第1溶融工程において、仕切り(420)が変形してしまうことを防止できる。   In the above embodiment, the second thermal adhesive (second glass frit composition) is the same as the first thermal adhesive (first glass frit composition), and the second softening point and the first softening point are equal. However, the second thermal adhesive may be a material different from the first thermal adhesive. For example, the second thermal adhesive may have a second softening point different from the first softening point of the first thermal adhesive. Here, the second softening point is preferably higher than the first softening point. In this case, the first melting temperature can be set to be equal to or higher than the first softening point and lower than the second softening point. By doing so, it is possible to prevent the partition (420) from being deformed in the first melting step.

また、第1接着剤及び第2熱接着剤は、ガラスフリット組成物に限定されず、たとえば、ガラスフリットと低融点金属粒子とが別剤となった材料などであってもよい。   Further, the first adhesive and the second thermal adhesive are not limited to the glass frit composition, and may be, for example, a material in which the glass frit and the low melting point metal particles are separate agents.

上記実施形態では、枠体(410)、ガス吸着体(60)、及び仕切り(420)の加熱に溶融炉を利用している。しかしながら、加熱は、適宜の加熱手段で行うことができる。加熱手段は、たとえば、レーザや、熱源に接続された伝熱板などである。   In the said embodiment, a melting furnace is utilized for the heating of a frame (410), a gas adsorbent (60), and a partition (420). However, the heating can be performed by an appropriate heating means. The heating means is, for example, a laser or a heat transfer plate connected to a heat source.

上記実施形態では、通気路(600)は2つの通気路(610,620)を備えているが、通気路(600)は、一つの通気路だけで構成されていてもよいし、3以上の通気路で構成されていてもよい。また、通気路(600)の形状は、特に限定されない
上記実施形態では、排気口(700)は、第2ガラス基板(300)に形成されている。しかし、排気口(700)は、第1ガラス基板(200)のガラス板(210)に形成されていてもよいし、枠体(410)に形成されていてもよい。要するに、排気口(700)は、不要な部分(11)に形成されていればよい。
In the above embodiment, the air passage (600) includes two air passages (610, 620). However, the air passage (600) may include only one air passage, or three or more air passages (600, 620). You may be comprised with the ventilation path. Moreover, the shape of the ventilation path (600) is not specifically limited. In the said embodiment, the exhaust port (700) is formed in the 2nd glass substrate (300). However, the exhaust port (700) may be formed in the glass plate (210) of the first glass substrate (200), or may be formed in the frame (410). In short, the exhaust port (700) should just be formed in the unnecessary part (11).

上記実施形態では、ガス吸着体(60)のゲッタは蒸発型ゲッタであるが、ゲッタは非蒸発型ゲッタであってもよい。非蒸発型ゲッタは、所定温度(活性化温度)以上になると、吸着された分子が内部に入り込むことで、吸着能力が回復する。ただし、蒸発型ゲッタとは異なり、吸着された分子を放出するわけではないので、非蒸発型ゲッタは、ある程度以上の分子を吸着すると、たとえ活性化温度以上に加熱されても、吸着能力が回復しなくなる。   In the above embodiment, the getter of the gas adsorber (60) is an evaporative getter, but the getter may be a non-evaporable getter. When the non-evaporable getter reaches a predetermined temperature (activation temperature) or higher, the adsorbed ability is recovered by allowing the adsorbed molecules to enter the inside. However, unlike evaporative getters, it does not release adsorbed molecules, so if non-evaporable getters adsorb more than a certain amount of molecules, the adsorption capacity is restored even if heated above the activation temperature. No longer.

上記実施形態では、ガス吸着体(60)は、長尺状であるが、他の形状であってもよい。また、ガス吸着体(60)は、必ずしも真空空間(50)の端にある必要はない。また、上記実施形態では、ガス吸着体(60)は、ゲッタの粉体を含む液体(たとえばゲッタの粉体を液体に分散して得られた分散液や、ゲッタの粉体を液体に溶解させて得られた溶液)を塗布することにより形成される。しかしながら、ガス吸着体(60)は、基板と、基板に固着されたゲッタと、を備えていてもよい。このようなガス吸着体(60)は、ゲッタの粉末を含む液体に基板を浸漬し、乾燥することで得ることができる。なお、基板は、所望の形状であってよく、たとえば、長尺の矩形状である。   In the above embodiment, the gas adsorber (60) has a long shape, but may have other shapes. Further, the gas adsorber (60) does not necessarily have to be at the end of the vacuum space (50). In the above-described embodiment, the gas adsorber (60) is a liquid containing getter powder (for example, a dispersion obtained by dispersing getter powder in the liquid, or dissolving the getter powder in the liquid. The solution obtained in this manner is applied. However, the gas adsorber (60) may include a substrate and a getter fixed to the substrate. Such a gas adsorber (60) can be obtained by immersing the substrate in a liquid containing getter powder and drying it. The substrate may have a desired shape, for example, a long rectangular shape.

あるいは、ガス吸着体(60)は、第2ガラス基板(300)のガラス板(310)の表面(第1面)に全体的あるいは部分的に形成された膜であってもよい。このようなガス吸着体(60)は、第2ガラス基板(300)のガラス板(310)の表面(第1面)をゲッタの粉末を含む液体でコーティングすることで得ることができる。   Alternatively, the gas adsorber (60) may be a film formed entirely or partially on the surface (first surface) of the glass plate (310) of the second glass substrate (300). Such a gas adsorbent (60) can be obtained by coating the surface (first surface) of the glass plate (310) of the second glass substrate (300) with a liquid containing getter powder.

あるいは、ガス吸着体(60)は、スペーサ(70)に含まれていてもよい。たとえば、スペーサ(70)を、ゲッタを含む材料で形成すれば、ガス吸着体(60)を含むスペーサ(70)を得ることができる。   Alternatively, the gas adsorber (60) may be included in the spacer (70). For example, if the spacer (70) is formed of a material including a getter, the spacer (70) including the gas adsorbent (60) can be obtained.

あるいは、ガス吸着体(60)は、ゲッタで形成された固形物であってもよい。このようなガス吸着体(60)は、比較的大きく、第1ガラス基板(200)と第2ガラス基板(300)との間に配置できないことがある。この場合には、第2ガラス基板(300)のガラス板(310)に凹所を形成して、この凹所にガス吸着体(60)を配置すればよい。   Alternatively, the gas adsorber (60) may be a solid formed by a getter. Such a gas adsorber (60) is relatively large and may not be disposed between the first glass substrate (200) and the second glass substrate (300). In this case, a recess may be formed in the glass plate (310) of the second glass substrate (300), and the gas adsorber (60) may be disposed in this recess.

あるいは、ガス吸着体(60)は、ゲッタが分子を吸着しないように、予めパッケージ内に配置しておいてもよい。この場合、第2溶融工程の後に、パッケージを破壊して、ガス吸着体(60)を真空空間(50)に曝せばよい。   Alternatively, the gas adsorber (60) may be arranged in advance in the package so that the getter does not adsorb molecules. In this case, after the second melting step, the package is broken and the gas adsorber (60) is exposed to the vacuum space (50).

上記実施形態では、ガラスパネルユニット(10)はガス吸着体(60)を備えているが、ガラスパネルユニット(10)は、ガス吸着体(60)を備えていなくてもよい。   In the said embodiment, although the glass panel unit (10) is provided with the gas adsorption body (60), the glass panel unit (10) does not need to be provided with the gas adsorption body (60).

上記実施形態では、ガラスパネルユニット(10)は複数のスペーサ(70)を備えているが、ガラスパネルユニット(10)は、一つのスペーサ(70)を備えていてもよいし、スペーサ(70)を備えていなくてもよい。   In the said embodiment, although the glass panel unit (10) is provided with the some spacer (70), the glass panel unit (10) may be provided with one spacer (70), or a spacer (70). May not be provided.

上記実施形態では、不要な部分(11)を除去することで、排気口を有さないガラスパネルユニット(10)を形成することを説明したが、ガラスパネルユニット(10)は、排気口を有していてもよい。その場合、排気口は、第1ガラスパネル(20)と、第2ガラスパネル(30)とのうちの少なくともいずれか一方に設けられ得る。真空空間(50)の真空を維持するため、排気口は閉じられる。第1ガラスパネル(20)及び第2ガラスパネル(30)の少なくともいずれか一方に排気口が設けられた場合、キャップ材により排気口が閉じられ得る。ただし、外観をよくするためには、ガラスパネルユニット(10)は排気口を有していないことが好ましい。   In the above embodiment, it has been described that the glass panel unit (10) having no exhaust port is formed by removing the unnecessary portion (11). However, the glass panel unit (10) has the exhaust port. You may do it. In that case, an exhaust port may be provided in at least any one of a 1st glass panel (20) and a 2nd glass panel (30). In order to maintain the vacuum of the vacuum space (50), the exhaust port is closed. When an exhaust port is provided in at least one of the first glass panel (20) and the second glass panel (30), the exhaust port can be closed by a cap material. However, in order to improve the appearance, it is preferable that the glass panel unit (10) does not have an exhaust port.

図10に、ガラスパネルユニットの変形例(ガラスパネルユニット10A)を示す。ガラスパネルユニット10Aは、第2ガラスパネル30に排気口700を有する。排気口700は、封止部81により、閉鎖されている。これにより、真空空間50は真空が維持される。封止部81は、排気管810から形成されている。封止部81は、たとえば排気管810を構成するガラスの熱溶着で形成され得る。封止部81の外側にはキャップ80が配置されている。キャップ80は封止部81を覆っている。キャップ80が封止部81を覆うことで、排気口700を高く閉鎖できる。また、キャップ80により、排気口700部分での破損を抑制できる。ガラスパネルユニット10Aは、排気口700、封止部81及びキャップ80が設けられていること以外は、図1及び図2のガラスパネルユニット10と同じである。図1及びス2のガラスパネルユニット10と同じ構成については同じ符号を付しており、それらの構成には、適宜、図1及び図2で行った説明を適用できる。ガラスパネルユニット10Aは、仮組立て品100の作製方法に準じて製造することができる。ガラスパネルユニット10Aは、排気口700を有する部分を除去しなくてもよいため、製造が容易になり得る。   In FIG. 10, the modification (glass panel unit 10A) of a glass panel unit is shown. The glass panel unit 10 </ b> A has an exhaust port 700 in the second glass panel 30. The exhaust port 700 is closed by a sealing portion 81. Thereby, the vacuum space 50 is maintained in a vacuum. The sealing part 81 is formed from the exhaust pipe 810. Sealing portion 81 can be formed by, for example, thermal welding of glass constituting exhaust pipe 810. A cap 80 is disposed outside the sealing portion 81. The cap 80 covers the sealing portion 81. Since the cap 80 covers the sealing portion 81, the exhaust port 700 can be closed high. Further, the cap 80 can suppress damage at the exhaust port 700 portion. The glass panel unit 10A is the same as the glass panel unit 10 of FIGS. 1 and 2 except that an exhaust port 700, a sealing portion 81, and a cap 80 are provided. The same components as those of the glass panel unit 10 of FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and the descriptions given in FIGS. 1 and 2 can be appropriately applied to these components. The glass panel unit 10 </ b> A can be manufactured according to the method for manufacturing the temporary assembly 100. Since it is not necessary to remove the portion having the exhaust port 700, the glass panel unit 10A can be easily manufactured.

10 ガラスパネルユニット
20 第1ガラスパネル
30 第2ガラスパネル
40 シール
50 真空空間
10 Glass panel unit 20 First glass panel 30 Second glass panel 40 Seal 50 Vacuum space

Claims (5)

第1ガラスパネルと、
前記第1ガラスパネルと対向するように配置された第2ガラスパネルと、
前記第1ガラスパネルと前記第2ガラスパネルとを枠状に気密に接合するシールと、
前記第1ガラスパネルと前記第2ガラスパネルと前記シールとで囲まれた真空空間とを備え、
前記シールは、低融点金属を含むガラスで形成されている、
ガラスパネルユニット。
A first glass panel;
A second glass panel arranged to face the first glass panel;
A seal for airtightly joining the first glass panel and the second glass panel in a frame shape;
A vacuum space surrounded by the first glass panel, the second glass panel and the seal;
The seal is made of glass containing a low melting point metal,
Glass panel unit.
前記シールは、低熱膨張ガラスを含む、
請求項1に記載のガラスパネルユニット。
The seal comprises a low thermal expansion glass;
The glass panel unit according to claim 1.
前記第1ガラスパネル及び第2ガラスパネルは、低熱膨張性を有する、
請求項1又は2に記載のガラスパネルユニット。
The first glass panel and the second glass panel have low thermal expansion,
The glass panel unit according to claim 1 or 2.
前記シールは、前記第1ガラスパネルと前記第2ガラスパネルとの間の距離を調整する材料を含む、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガラスパネルユニット。
The seal includes a material that adjusts a distance between the first glass panel and the second glass panel;
The glass panel unit of any one of Claims 1 thru | or 3.
第1ガラスパネルと第2ガラスパネルとの間に配置される少なくとも1つのスペーサをさらに備える、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載のガラスパネルユニット。
Further comprising at least one spacer disposed between the first glass panel and the second glass panel;
The glass panel unit of any one of Claims 1 thru | or 4.
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