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JP2016100048A - Braided wire and shielded electric wire - Google Patents

Braided wire and shielded electric wire Download PDF

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JP2016100048A
JP2016100048A JP2014233226A JP2014233226A JP2016100048A JP 2016100048 A JP2016100048 A JP 2016100048A JP 2014233226 A JP2014233226 A JP 2014233226A JP 2014233226 A JP2014233226 A JP 2014233226A JP 2016100048 A JP2016100048 A JP 2016100048A
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JP
Japan
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plating film
wire
braided
braided wire
electric wire
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Application number
JP2014233226A
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Japanese (ja)
Inventor
健介 山田
Kensuke Yamada
健介 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】優れたシールド性能及び耐食性を有する編組線及びこれを用いたシールド電線を提供する。
【解決手段】編組線は、複数の素線10が筒状に編み込まれて構成されている。素線10は、アルミニウム線101と、第1Niめっき膜102と、第2Niめっき膜103と、Snめっき膜104とを有している。第1Niめっき膜102はアルミニウム線101の表面上に形成されている。第2Niめっき膜103は、Sを含んでおり、第1Niめっき膜102上に形成されている。Snめっき膜104は第2Niめっき膜103上に形成されている。
【選択図】図2
A braided wire having excellent shielding performance and corrosion resistance and a shielded electric wire using the same are provided.
A braided wire is formed by knitting a plurality of strands 10 into a cylindrical shape. The element wire 10 includes an aluminum wire 101, a first Ni plating film 102, a second Ni plating film 103, and a Sn plating film 104. The first Ni plating film 102 is formed on the surface of the aluminum wire 101. The second Ni plating film 103 contains S and is formed on the first Ni plating film 102. The Sn plating film 104 is formed on the second Ni plating film 103.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、編組線及びこれを用いたシールド電線に関する。   The present invention relates to a braided wire and a shielded electric wire using the same.

例えば自動車や電気機器等において、電磁ノイズ対策が必要な箇所には、シールド電線が用いられている。シールド電線は、電気信号等を伝達するコア部と、コア部の外周を被覆するシールド層とを有しており、外部からコア部への電磁ノイズの侵入や、コア部から外部への電磁ノイズの放射をシールド層により抑制することができるよう構成されている。コア部は、1本または2本以上の被覆電線を有している。また、シールド層としては、例えば、金属素線を編み込んで形成した編組線が多用されている。   For example, shielded wires are used in places where countermeasures against electromagnetic noise are required in automobiles and electrical equipment. The shielded electric wire has a core part that transmits electrical signals and the like, and a shield layer that covers the outer periphery of the core part. Intrusion of electromagnetic noise from the outside to the core part, and electromagnetic noise from the core part to the outside The radiation can be suppressed by the shield layer. The core part has one or two or more covered electric wires. As the shield layer, for example, a braided wire formed by braiding metal strands is often used.

編組線に用いられる金属素線には、導電性や加工性の観点から、銅線の表面にSn(スズ)めっき膜が設けられたSnめっき銅線が多用されている(例えば、特許文献1)。近年ではシールド電線全体の軽量化及びコストダウンのため、Cu(銅)やCu合金に比べて軽量かつ安価であるAl(アルミニウム)やAl合金よりなるアルミニウム線を金属素線に用いることが提案されている(例えば、特許文献2)。   As a metal wire used for the braided wire, an Sn-plated copper wire in which an Sn (tin) plating film is provided on the surface of the copper wire is frequently used from the viewpoint of conductivity and workability (for example, Patent Document 1). ). In recent years, it has been proposed to use aluminum wires made of Al (aluminum) and Al alloys, which are lighter and cheaper than Cu (copper) and Cu alloys, as metal wires in order to reduce the overall weight and cost of shielded wires. (For example, Patent Document 2).

特開2006−164754号公報JP 2006-164754 A 特開2004−60007号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-60007

アルミニウム線を金属素線として用いる場合、アルミニウム線の表面に不導体であるAl23の皮膜が表面に不可避的に形成される。このAl23皮膜の存在により、アルミニウム線は、表皮効果の影響が顕著となる高周波領域において交流抵抗が大きくなる。それ故、アルミニウム線を金属素線として用いた編組線は、高周波領域の電磁ノイズに対するシールド性能が低下するという問題がある。 When an aluminum wire is used as a metal strand, a non-conductor Al 2 O 3 film is inevitably formed on the surface of the aluminum wire. Due to the presence of the Al 2 O 3 film, the aluminum wire has an increased AC resistance in a high frequency region where the influence of the skin effect becomes significant. Therefore, the braided wire using the aluminum wire as the metal strand has a problem that the shielding performance against electromagnetic noise in the high frequency region is lowered.

上記の問題は、例えばアルミニウム線の表面に導電性の高いSn(スズ)めっき膜を設けることにより抑制することができる。また、アルミニウム線とSnめっき膜との間にNi(ニッケル)めっき膜を設けることにより、Snめっき膜の密着性を向上させることができ、Snめっき膜をアルミニウム線の表面に直接設ける場合に比べて、Snめっき膜の剥離等を抑制できる。   The above problem can be suppressed, for example, by providing a highly conductive Sn (tin) plating film on the surface of the aluminum wire. Further, by providing a Ni (nickel) plating film between the aluminum wire and the Sn plating film, the adhesion of the Sn plating film can be improved, compared with the case where the Sn plating film is provided directly on the surface of the aluminum wire. Thus, peeling of the Sn plating film and the like can be suppressed.

ところが、上記のようにアルミニウム線の表面上にNiめっき膜及びSnめっき膜を順次積層した金属素線は、以下の問題を有する。即ち、何らかの原因によりSnめっき膜が損傷を受けた場合、Niめっき膜が金属素線の表面に露出することがある。この状態においてSnめっき膜の損傷部分から水分等が進入すると、Snめっき膜及びNiめっき膜が局部電池を形成して異種金属接触腐食が起きる。その結果、Snに比べて電気化学的に卑なNiが優先して腐食され、Niめっき膜に腐食孔が形成されるおそれがある。また、腐食が進行すると、場合によっては腐食孔がアルミニウム線の表面まで到達し、アルミニウム線が腐食されることも考えられる。   However, the metal element wire in which the Ni plating film and the Sn plating film are sequentially laminated on the surface of the aluminum wire as described above has the following problems. That is, when the Sn plating film is damaged for some reason, the Ni plating film may be exposed on the surface of the metal strand. In this state, when moisture or the like enters from the damaged portion of the Sn plating film, the Sn plating film and the Ni plating film form a local battery, and different metal contact corrosion occurs. As a result, electrochemically base Ni is preferentially corroded compared to Sn, and corrosion holes may be formed in the Ni plating film. Moreover, when corrosion progresses, depending on the case, the corrosion hole may reach the surface of the aluminum wire, and the aluminum wire may be corroded.

以上のように、アルミニウム線の表面上にNiめっき膜及びSnめっき膜を順次積層した金属素線は、Snめっき膜が損傷を受けた場合に耐食性が低下するおそれがある。それ故、アルミニウム線を編組線に用いるためには、従来のSnめっき銅線と同等以上のシールド性能を確保しつつ耐食性を改善する必要がある。   As described above, the metal wire in which the Ni plating film and the Sn plating film are sequentially laminated on the surface of the aluminum wire may have a reduced corrosion resistance when the Sn plating film is damaged. Therefore, in order to use the aluminum wire for the braided wire, it is necessary to improve the corrosion resistance while ensuring the shielding performance equivalent to or higher than that of the conventional Sn-plated copper wire.

本発明は、かかる背景に鑑みてなされたものであり、優れたシールド性能及び耐食性を有する編組線及びこれを用いたシールド電線を提供しようとするものである。   This invention is made | formed in view of this background, and intends to provide the braided wire which has the outstanding shielding performance and corrosion resistance, and a shielded electric wire using the same.

本発明の一態様は、複数の素線が筒状に編み込まれてなる編組線であって、
上記素線は、アルミニウム線と、
該アルミニウム線の表面上に形成された第1Niめっき膜と、
該第1Niめっき膜上に形成され、Sを含有する第2Niめっき膜と、
該第2Niめっき膜上に形成されたSnめっき膜とを有していることを特徴とする編組線にある。
One aspect of the present invention is a braided wire in which a plurality of strands are knitted into a cylindrical shape,
The strand is an aluminum wire,
A first Ni plating film formed on the surface of the aluminum wire;
A second Ni plating film formed on the first Ni plating film and containing S;
The braided wire has an Sn plating film formed on the second Ni plating film.

本発明の他の態様は、上記の態様の編組線と、
該編組線の筒内に配置された被覆電線とを有することを特徴とするシールド電線にある。
Another aspect of the present invention is a braided wire of the above aspect,
A shielded electric wire having a covered electric wire arranged in a tube of the braided wire.

上記編組線は、アルミニウム線の表面上に、上記第1Niめっき膜、上記第2Niめっき膜及び上記Snめっき膜が順次積層された多層構造を有する上記素線より構成されている。上記素線は、導電性の高い上記Snめっき膜が表面に存在しているため、高周波帯における交流抵抗を低減することができる。それ故、上記編組線は、高周波ノイズに対するシールド性能が向上し、従来のSnめっき銅線と同等以上のシールド性能を容易に確保することができる。   The braided wire is composed of the strands having a multilayer structure in which the first Ni plating film, the second Ni plating film, and the Sn plating film are sequentially laminated on the surface of an aluminum wire. Since the Sn plating film having high conductivity exists on the surface of the element wire, the AC resistance in the high frequency band can be reduced. Therefore, the braided wire has improved shielding performance against high-frequency noise, and can easily ensure shielding performance equivalent to or higher than that of a conventional Sn-plated copper wire.

また、上記第2Niめっき膜は、S(硫黄)を含有していることにより、上記第1Niめっき膜に比べて電気化学的に卑になる。それ故、上記第2Niめっき膜は、上記アルミニウム線の表面上に形成されためっき膜の中で最も腐食されやすい性質を有する。上記素線は、上記第1Niめっき膜と上記Snめっき膜との間に上記第2Niめっき膜を設けることにより、上記第2Niめっき膜を犠牲防食材として機能させることができる。   Further, the second Ni plating film contains S (sulfur), and therefore becomes electrochemically lower than the first Ni plating film. Therefore, the second Ni plating film has the property of being most easily corroded among the plating films formed on the surface of the aluminum wire. By providing the second Ni plating film between the first Ni plating film and the Sn plating film, the element wire can function as the sacrificial anticorrosive material.

即ち、例えば上記Snめっき膜が損傷して上記第2Niめっき膜が露出した場合、異種金属接触腐食により上記第2Niめっき膜が優先して腐食される。それ故、腐食が進行すると、上記第2Niめっき膜に腐食孔が形成される。そして、腐食がさらに進行して腐食孔が上記第1Niめっき膜に到達した場合であっても、上記第1Niめっき膜よりも上記第2Niめっき膜が優先して腐食されるため、上記素線内部への腐食の進行を遅らせることができる。   That is, for example, when the Sn plating film is damaged and the second Ni plating film is exposed, the second Ni plating film is preferentially corroded by dissimilar metal contact corrosion. Therefore, when corrosion progresses, corrosion holes are formed in the second Ni plating film. Even when the corrosion further proceeds and the corrosion holes reach the first Ni plating film, the second Ni plating film is preferentially corroded over the first Ni plating film, so that the inside of the strand Can slow the progress of corrosion.

このように、上記素線は、上記特定の多層構造を有することにより、上記第2Niめっき膜を犠牲防食材として機能させ、耐食性を向上させることができる。それ故、上記編組線は、優れた耐食性を有する。   Thus, the said strand can make the said 2Ni plating film function as a sacrificial anti-corrosion material by having the said specific multilayer structure, and can improve corrosion resistance. Therefore, the braided wire has excellent corrosion resistance.

以上のように、上記編組線は、優れたシールド性能及び耐食性を有する。また、上記編組線を用いた上記シールド電線は、従来と同等以上のシールド性能及び耐食性を有すると共に、従来よりも軽量化及びコストダウンを容易に行うことができる。   As described above, the braided wire has excellent shielding performance and corrosion resistance. Further, the shielded wire using the braided wire has shield performance and corrosion resistance equal to or higher than those of the conventional one, and can be easily reduced in weight and cost as compared with the conventional one.

実施例における、シールド電線の断面図。Sectional drawing of the shield electric wire in an Example. 実施例における、編組線を構成する素線の断面図。Sectional drawing of the strand which comprises the braided wire in an Example. 実施例における、腐食試験のために表面に傷を付けた素線の一部断面図。The partial cross section figure of the strand which gave the surface damage | wound for the corrosion test in an Example. 実施例における、ノイズ測定装置の説明図。Explanatory drawing of the noise measuring apparatus in an Example. 比較例における、編組線を構成する素線の断面図。Sectional drawing of the strand which comprises the braided wire in a comparative example.

上記編組線において、上記アルミニウム線としては、純Alまたは従来公知のAl合金よりなる線材を用いることができる。上記アルミニウム線の材質は、要求される強度特性等に応じて適宜選択することができる。   In the braided wire, as the aluminum wire, a wire made of pure Al or a conventionally known Al alloy can be used. The material of the said aluminum wire can be suitably selected according to the intensity | strength characteristic etc. which are requested | required.

上記第1Niめっき膜は、Ni及び不可避不純物からなるめっき膜である。第1Niめっき膜は、0.1〜1.0μmの膜厚を有することが好ましい。第1Niめっき膜の膜厚が過度に薄くなると、何らかの原因により上記素線に傷が入った際に、アルミニウム線まで傷が到達しやすくなることが考えられる。一方、第1Niめっき膜の膜厚が過度に厚くなると、製造コストの増大を招く。それ故、傷に対する耐久性と製造コストとを両立させる観点から、第1Niめっき膜の膜厚を上記特定の範囲内にすることが好ましい。   The first Ni plating film is a plating film made of Ni and inevitable impurities. The first Ni plating film preferably has a thickness of 0.1 to 1.0 μm. If the film thickness of the first Ni plating film is excessively thin, it is conceivable that the scratches easily reach the aluminum wires when the strands are scratched for some reason. On the other hand, if the thickness of the first Ni plating film becomes excessively thick, the manufacturing cost increases. Therefore, it is preferable that the film thickness of the first Ni plating film is within the specific range from the viewpoint of achieving both durability against scratches and manufacturing costs.

上記第2Niめっき膜は、Sを含み、残部がNi及び不可避不純物からなるめっき膜である。第2Niめっき膜は、0.05〜0.5質量%のSを含んでいることが好ましい。この場合には、第2Niめっき膜が犠牲防食材として効果的に機能するため、上記編組線の耐食性をより向上させることができる。   The second Ni plating film is a plating film containing S, with the balance being Ni and inevitable impurities. The second Ni plating film preferably contains 0.05 to 0.5 mass% of S. In this case, since the second Ni plating film effectively functions as a sacrificial anticorrosive material, the corrosion resistance of the braided wire can be further improved.

第2Niめっき膜中のSの含有量が0.05質量%未満の場合には、Sの効果が不十分となり、第2Niめっき膜の犠牲防食効果が低下するおそれがある。そのため、素線内部への腐食の進行を遅らせる効果が不十分となるおそれがある。一方、第2Niめっき膜中のSの含有量が0.5質量%を超える場合には、第2Niめっき膜の導電性が低下するおそれがあり、ひいては上記編組線のシールド性能が低下するおそれがある。   When the content of S in the second Ni plating film is less than 0.05% by mass, the effect of S becomes insufficient, and the sacrificial anticorrosive effect of the second Ni plating film may be reduced. Therefore, there is a possibility that the effect of delaying the progress of corrosion inside the strands may be insufficient. On the other hand, if the content of S in the second Ni plating film exceeds 0.5% by mass, the conductivity of the second Ni plating film may be reduced, and consequently the shielding performance of the braided wire may be reduced. is there.

また、第2Niめっき膜は、0.1〜1μmの膜厚を有することが好ましい。この場合には、上述した第1Niめっき膜の場合と同様に、傷に対する耐久性と製造コストとを両立させることができる。   The second Ni plating film preferably has a thickness of 0.1 to 1 μm. In this case, similarly to the case of the first Ni plating film described above, both the durability against scratches and the manufacturing cost can be achieved.

Snめっき膜は、Sn及び不可避不純物からなるめっき膜である。Snめっき膜の厚みは特に限定されないが、通常0.1〜1μm程度である。この場合には、上記編組線は優れたシールド性能及び耐久性を有する。そのため、上記編組線は、例えば自動車用ワイヤーハーネス等の厳しい使用環境下で使用される用途においても、Snめっき膜の摩耗等を抑制し、優れたシールド性能を長期間に亘って維持することができる。   The Sn plating film is a plating film made of Sn and inevitable impurities. Although the thickness of Sn plating film is not specifically limited, Usually, it is about 0.1-1 micrometer. In this case, the braided wire has excellent shielding performance and durability. Therefore, the braided wire can suppress wear of the Sn plating film and maintain excellent shielding performance over a long period of time even in applications used under severe usage environments such as automotive wire harnesses. it can.

上記編組線を用いてなる上記シールド電線は、動作用電力等の比較的大きい電流を伝達する電力線として構成されていても良く、制御信号等の比較的小さい電流を伝達する信号線として構成されていても良い。また、上記シールド電線は、1本の上記被覆電線を有する単芯シールド電線として構成されていても良く、2本以上の上記被覆電線を有する多芯シールド電線として構成されていても良い。   The shielded wire using the braided wire may be configured as a power line that transmits a relatively large current such as operating power, or may be configured as a signal line that transmits a relatively small current such as a control signal. May be. Moreover, the said shielded electric wire may be comprised as a single core shielded electric wire which has one said covered electric wire, and may be comprised as a multi-core shielded electric wire which has two or more said covered electric wires.

上記被覆電線は、導体と、導体の周囲を被覆する絶縁材とを有している。被覆電線に用いられる導体としては、例えば、銅線、銅合金線、Snめっき銅線、アルミニウム線及びアルミニウム合金線等の、優れた電気伝導性を有する金属線を用いることができる。また、上記導体は、1本の金属線から構成されていても良く、多数の金属線が撚り合わされた撚線から構成されていても良い。   The said covered electric wire has a conductor and the insulating material which coat | covers the circumference | surroundings of a conductor. As a conductor used for a covered electric wire, for example, a metal wire having excellent electrical conductivity such as a copper wire, a copper alloy wire, a Sn-plated copper wire, an aluminum wire, and an aluminum alloy wire can be used. The conductor may be composed of a single metal wire, or may be composed of a stranded wire in which a large number of metal wires are twisted together.

また、上記被覆電線に用いられる絶縁材としては、電線用の絶縁材として従来公知の材料を用いることができる。絶縁性や製造性等の観点からは、上記絶縁材として、架橋ポリエチレン系樹脂や架橋ポリ塩化ビニル樹脂が用いられることが多い。   Moreover, as an insulating material used for the said covered electric wire, a conventionally well-known material can be used as an insulating material for electric wires. From the viewpoints of insulation and manufacturability, a crosslinked polyethylene resin or a crosslinked polyvinyl chloride resin is often used as the insulating material.

(実施例)
上記編組線及びこれを用いたシールド電線の実施例について、図を用いて説明する。図1に示すように、シールド電線2は、複数の素線10が筒状に編み込まれてなる編組線1と、編組線1の筒内に挿入された被覆電線21とを有している。
(Example)
Examples of the braided wire and a shielded wire using the braided wire will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the shielded electric wire 2 has a braided wire 1 in which a plurality of strands 10 are knitted into a cylindrical shape, and a covered electric wire 21 inserted into the cylinder of the braided wire 1.

編組線1を構成する素線10は、図2に示すように、アルミニウム線101と、第1Niめっき膜102と、第2Niめっき膜103と、Snめっき膜104とを有している。第1Niめっき膜102はアルミニウム線101の表面上に形成されている。第2Niめっき膜103は、Sを含んでおり、第1Niめっき膜102上に形成されている。Snめっき膜104は第2Niめっき膜103上に形成されている。以下、詳説する。   The strand 10 which comprises the braided wire 1 has the aluminum wire 101, the 1st Ni plating film 102, the 2nd Ni plating film 103, and the Sn plating film 104, as shown in FIG. The first Ni plating film 102 is formed on the surface of the aluminum wire 101. The second Ni plating film 103 contains S and is formed on the first Ni plating film 102. The Sn plating film 104 is formed on the second Ni plating film 103. The details will be described below.

図1に示すように、本例の編組線1は、3本の素線10を互いに並べてなる素線束11を単位として形成されており、24組の素線束11を有している。図には示さないが、各々の素線束11は、被覆電線21の外周22をらせん状に巻き回されながら編み込まれている。本例においては、素線束11の撚りピッチ、すなわち素線束11が被覆電線21の外周22をらせん状に一回転したときに被覆電線21の長手方向に進む距離は20mmである。   As shown in FIG. 1, the braided wire 1 of the present example is formed with a strand bundle 11 formed by arranging three strands 10 to each other, and has 24 strand bundles 11. Although not shown in the drawing, each strand bundle 11 is knitted while being wound around the outer periphery 22 of the covered electric wire 21 in a spiral shape. In this example, the twisting pitch of the wire bundle 11, that is, the distance that the wire bundle 11 travels in the longitudinal direction of the covered wire 21 when the wire bundle 11 makes a spiral turn around the outer periphery 22 of the covered wire 21 is 20 mm.

編組線1を構成する素線10は、図2に示すように、アルミニウム線101の表面上に第1Niめっき膜102、第2Niめっき膜103及びSnめっき膜104が順次積層された3層構造を有している。   As shown in FIG. 2, the strand 10 constituting the braided wire 1 has a three-layer structure in which a first Ni plating film 102, a second Ni plating film 103, and an Sn plating film 104 are sequentially laminated on the surface of an aluminum wire 101. Have.

アルミニウム線101の直径は0.23mmである。第1Niめっき膜102は、Ni及び不可避不純物より構成されており、1μmの膜厚を有している。第2Niめっき膜103は、0.5質量%のSを含み、残部がNi及び不可避不純物からなる化学成分を有している。第2Niめっき膜103の膜厚は1μmである。Snめっき膜104は、Sn及び不可避不純物より構成されており、1μmの膜厚を有している。なお、図には示さないが、Snめっき膜104の表面には、Snの自然酸化膜が存在している。   The diameter of the aluminum wire 101 is 0.23 mm. The first Ni plating film 102 is made of Ni and inevitable impurities and has a thickness of 1 μm. The second Ni plating film 103 contains 0.5 mass% of S, and the remainder has chemical components composed of Ni and inevitable impurities. The film thickness of the second Ni plating film 103 is 1 μm. The Sn plating film 104 is composed of Sn and inevitable impurities and has a thickness of 1 μm. Although not shown in the drawing, a natural oxide film of Sn exists on the surface of the Sn plating film 104.

図1に示すように、編組線1の筒内に挿入された被覆電線21は、導体211と、導体211の周囲に被覆された絶縁材212とを有している。なお、本例の導体211は断面積3mm2の銅撚線である。 As shown in FIG. 1, the covered electric wire 21 inserted into the tube of the braided wire 1 has a conductor 211 and an insulating material 212 covered around the conductor 211. The conductor 211 in this example is a copper stranded wire having a cross-sectional area of 3 mm 2 .

本例においては、上述のように構成したシールド電線2を用い、以下の方法により耐食性の評価を行った。   In this example, the shielded wire 2 configured as described above was used, and the corrosion resistance was evaluated by the following method.

<腐食試験>
まず、シールド電線2の外周面20(図1参照)にナイフを当接させ、周方向に沿ってナイフを1周させた。これにより、図3に示すように、素線10の表面に、少なくとも第2Niめっき膜103に到達し、かつ、アルミニウム線101に到達しない程度の深さを有する傷105をつけた。次いで、シールド電線2を10%の塩水に72時間浸漬した。72時間経過後、シールド電線2を塩水から取り出して洗浄及び乾燥を行った。乾燥後、傷を付けた部分を目視観察した。
<Corrosion test>
First, a knife was brought into contact with the outer peripheral surface 20 (see FIG. 1) of the shielded electric wire 2, and the knife was rotated once along the circumferential direction. As a result, as shown in FIG. 3, scratches 105 having a depth that reaches at least the second Ni plating film 103 and does not reach the aluminum wire 101 are made on the surface of the element wire 10. Next, the shielded electric wire 2 was immersed in 10% salt water for 72 hours. After 72 hours, the shielded electric wire 2 was taken out from the salt water and washed and dried. After drying, the damaged part was visually observed.

以上の方法により腐食試験を行った結果、傷を付けた部分及びその近傍は、腐食試験前に比べて変色等の外観の変化が見られないことを確認した。   As a result of performing the corrosion test by the above method, it was confirmed that the appearance of changes such as discoloration was not observed in the damaged part and its vicinity compared to before the corrosion test.

<シールド性能評価>
長さ1000mmのシールド電線2を準備し、上記の手順に従って腐食試験を実施した。シールド電線2を乾燥させた後、吸収クランプ法によりシールド性能を測定した。吸収クランプ法に用いた測定装置3は、図4に示すように、スペクトラムアナライザ31、トラッキングジェネレータ32、一対のシールドボックス33(33a、33b)、吸収クランプ34及び終端抵抗35を有している。各シールドボックス33はアースに接続されている。吸収クランプ34は、一対のシールドボックス33の間に配置されている。終端抵抗35は、一対のシールドボックス33のうち一方のシールドボックス33a内に設けられており、一方のシールドボックス33aを介して接地されている。スペクトラムアナライザ31は吸収クランプ34と接続されており、吸収クランプ34が受信した信号を測定することができるように構成されている。なお、本例の吸収クランプ34は共立電子工業株式会社製「KT−10」であり、スペクトラムアナライザ31はAgilent社製「E4402B」である。
<Shield performance evaluation>
A shielded electric wire 2 having a length of 1000 mm was prepared, and a corrosion test was performed according to the above procedure. After the shielded electric wire 2 was dried, the shielding performance was measured by the absorption clamp method. As shown in FIG. 4, the measuring device 3 used in the absorption clamp method includes a spectrum analyzer 31, a tracking generator 32, a pair of shield boxes 33 (33 a and 33 b), an absorption clamp 34, and a termination resistor 35. Each shield box 33 is connected to ground. The absorption clamp 34 is disposed between the pair of shield boxes 33. The termination resistor 35 is provided in one shield box 33a of the pair of shield boxes 33, and is grounded through the one shield box 33a. The spectrum analyzer 31 is connected to an absorption clamp 34, and is configured so that a signal received by the absorption clamp 34 can be measured. The absorption clamp 34 in this example is “KT-10” manufactured by Kyoritsu Electronics Co., Ltd., and the spectrum analyzer 31 is “E4402B” manufactured by Agilent.

シールド電線2の取り付けは、以下の手順で行った。まず、吸収クランプ34の内側にシールド電線2を通過させ、両端をシールドボックス33内に固定した。次いで、編組線1の両端を各シールドボックス33に接続し、シールドボックス33を介して編組線1を接地した。次に、一方のシールドボックス33a内に挿入されたシールド電線2の導体211を終端抵抗35に接続し、終端抵抗35を介して接地した。その後、他方のシールドボックス33b内に挿入されたシールド電線2の導体211をトラッキングジェネレータ32に接続した。   The shielded electric wire 2 was attached according to the following procedure. First, the shielded electric wire 2 was passed inside the absorption clamp 34 and both ends were fixed in the shield box 33. Next, both ends of the braided wire 1 were connected to each shield box 33, and the braided wire 1 was grounded via the shield box 33. Next, the conductor 211 of the shielded electric wire 2 inserted into one shield box 33 a was connected to the termination resistor 35 and grounded via the termination resistor 35. Thereafter, the conductor 211 of the shielded electric wire 2 inserted into the other shield box 33 b was connected to the tracking generator 32.

図3に示すようにシールド電線2を測定装置3に取り付けた後、トラッキングジェネレータ32から発生させた10MHzの高周波信号を導体211に入力した。そして、シールド電線2の外部に漏洩した高周波信号を吸収クランプ34に受信させ、スペクトラムアナライザ31により漏洩した高周波信号の大きさを測定した。その後、入力した高周波信号の大きさに対する漏洩した高周波信号の比を算出し、これを誘導ノイズ量(dB)とした。   As shown in FIG. 3, after the shielded electric wire 2 was attached to the measuring device 3, a high frequency signal of 10 MHz generated from the tracking generator 32 was input to the conductor 211. Then, the high frequency signal leaked to the outside of the shielded electric wire 2 was received by the absorption clamp 34, and the magnitude of the high frequency signal leaked by the spectrum analyzer 31 was measured. Thereafter, the ratio of the leaked high-frequency signal to the magnitude of the input high-frequency signal was calculated, and this was used as the induction noise amount (dB).

本例においては、腐食試験を行ったシールド電線2を3本準備し、それぞれについてシールド性能評価を行った。その結果、誘導ノイズ量はいずれも56dBであった。上記の誘導ノイズ量は、従来のSnめっき銅線と同等の値である。以上の結果から、本例の編組線1が優れたシールド性能を有していることが理解できる。   In this example, three shielded electric wires 2 subjected to a corrosion test were prepared, and the shielding performance was evaluated for each. As a result, the amount of induced noise was 56 dB. The amount of induction noise is equivalent to that of a conventional Sn-plated copper wire. From the above results, it can be understood that the braided wire 1 of this example has excellent shielding performance.

(比較例)
本例は、第2Niめっき膜103を有さない素線40を用いたシールド電線の例である。本例の編組線に用いた素線40は、図5に示すように、アルミニウム線401の表面上に、Ni及び不可避不純物からなるNiめっき膜402と、Snめっき膜403とを順次積層した2層構造を有している。図には示さないが、本例のシールド電線は、実施例の素線10に替えて上記の素線40を用いた以外は実施例1と同様の構成を有している。なお、図5において用いた符号のうち、実施例において用いた符号と同一のものは、特に説明の無い限り実施例と同様の構成要素等を示す。
(Comparative example)
This example is an example of a shielded electric wire using a strand 40 that does not have the second Ni plating film 103. As shown in FIG. 5, the strand 40 used for the braided wire of this example is obtained by sequentially laminating a Ni plating film 402 made of Ni and inevitable impurities and a Sn plating film 403 on the surface of an aluminum wire 401. It has a layer structure. Although not shown in the drawing, the shielded electric wire of this example has the same configuration as that of Example 1 except that the above-described elemental wire 40 is used instead of the elemental wire 10 of the example. Of the reference numerals used in FIG. 5, the same reference numerals as those used in the embodiment denote the same components as in the embodiment unless otherwise specified.

本例のシールド電線を用いて実施例と同一の方法により腐食試験を行ったところ、傷を付けた部分及びその近傍が、腐食試験前に比べて変色したことを確認した。   When the corrosion test was performed by the same method as the Example using the shielded electric wire of this example, it was confirmed that the damaged part and its vicinity were discolored compared to before the corrosion test.

また、本例のシールド電線を用いて実施例と同一の方法によりシールド性能評価を行った。その結果、シールド電線の誘導ノイズ量は、最大で50dBであり、最小で56dBであった。   Moreover, shield performance evaluation was performed by the same method as an Example using the shielded electric wire of this example. As a result, the induction noise amount of the shielded electric wire was 50 dB at the maximum and 56 dB at the minimum.

実施例及び比較例の結果から、アルミニウム線101上に第1Niめっき膜102、第2Niめっき膜103及びSnめっき膜104が順次積層された3層構造を有する素線10よりなる編組線1は、Snめっき膜104に傷が入った場合であっても、腐食試験による変色やシールド性能の低下が起こりにくく、優れた耐食性を有していることが理解できる。   From the results of the examples and comparative examples, the braided wire 1 composed of the strand 10 having a three-layer structure in which the first Ni plating film 102, the second Ni plating film 103, and the Sn plating film 104 are sequentially laminated on the aluminum wire 101 is Even when the Sn plating film 104 is scratched, it can be understood that discoloration and shield performance are not easily caused by the corrosion test and have excellent corrosion resistance.

1 編組線
10 素線
101 アルミニウム線
102 第1Niめっき膜
103 第2Niめっき膜
104 Snめっき膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Braided wire 10 Strand 101 Aluminum wire 102 1st Ni plating film 103 2nd Ni plating film 104 Sn plating film

Claims (5)

複数の素線が筒状に編み込まれてなる編組線であって、
上記素線は、アルミニウム線と、
該アルミニウム線の表面上に形成された第1Niめっき膜と、
該第1Niめっき膜上に形成され、Sを含有する第2Niめっき膜と、
該第2Niめっき膜上に形成されたSnめっき膜とを有していることを特徴とする編組線。
A braided wire formed by knitting a plurality of strands into a cylindrical shape,
The strand is an aluminum wire,
A first Ni plating film formed on the surface of the aluminum wire;
A second Ni plating film formed on the first Ni plating film and containing S;
A braided wire having an Sn plating film formed on the second Ni plating film.
上記第2Niめっき膜は、0.05〜0.5質量%のSを含んでいることを特徴とする請求項1に記載の編組線。   The braided wire according to claim 1, wherein the second Ni plating film contains 0.05 to 0.5 mass% of S. 上記第2Niめっき膜は、0.1〜1.0μmの膜厚を有することを特徴とする請求項1または2に記載の編組線。   The braided wire according to claim 1 or 2, wherein the second Ni plating film has a thickness of 0.1 to 1.0 µm. 上記第1Niめっき膜は、0.1〜1.0μmの膜厚を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の編組線。   The braided wire according to any one of claims 1 to 3, wherein the first Ni plating film has a thickness of 0.1 to 1.0 µm. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の編組線と、
該編組線の筒内に挿入された被覆電線とを有することを特徴とするシールド電線。
The braided wire according to any one of claims 1 to 4,
A shielded electric wire having a covered electric wire inserted into a tube of the braided wire.
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