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JP2016183299A - Surface protective film - Google Patents

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JP2016183299A
JP2016183299A JP2015065232A JP2015065232A JP2016183299A JP 2016183299 A JP2016183299 A JP 2016183299A JP 2015065232 A JP2015065232 A JP 2015065232A JP 2015065232 A JP2015065232 A JP 2015065232A JP 2016183299 A JP2016183299 A JP 2016183299A
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JP
Japan
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group
represented
general formula
divalent
protective film
Prior art date
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Pending
Application number
JP2015065232A
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Japanese (ja)
Inventor
浩 三枝
Hiroshi Saegusa
浩 三枝
真史 長谷川
Masashi Hasegawa
真史 長谷川
知子 宮原
Tomoko Miyahara
知子 宮原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface protective film which has surface stain resistance and which has excellent heat resistance.SOLUTION: A surface protective film includes a crosslinked polymer of: a perfluoroalkylene ether-containing compound with a specified structure, having one to five difluoromethylene linking groups and a methylene linking group including a trifluoromethyl group or a fluorine group, and further having a trialkoxysilane group in the molecule; and an organometallic compound represented by general formula (2) (M is an organometal selected from titanium, zirconium, silicon, aluminum or zinc; R21 and R22 are each independently an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an acetyl group; o+p+q is equal to a valence of the organometal represented by M; o is an integer of 0 or more and not more than the valence; p is an integer of 0 or more and not more than (the valence-2); q is an integer of 0 or more and not more than the valence; and o+q is 2 or more).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、表面保護膜に関する。   The present invention relates to a surface protective film.

従来から、様々な分野において、表面での防汚性等の観点から表面に表面保護膜を設けることが行われている。   Conventionally, in various fields, a surface protective film is provided on the surface from the viewpoint of antifouling property on the surface and the like.

ここで、特許文献1には、ローラ状基材の外面に、ゴム層を介して、フッ素樹脂層を形成してなる定着ローラにおいて、フッ素樹脂層が、(A)平均粒子径1から15μmのテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)20から97重量%と、(B)平均粒子径1μm以下のポリテトラフルオロエチレン(PTFE)3から80重量%を含有するフッ素樹脂混合物により形成されている定着ローラが開示されている。   Here, in Patent Document 1, in a fixing roller in which a fluororesin layer is formed on the outer surface of a roller-shaped substrate via a rubber layer, the fluororesin layer has (A) an average particle diameter of 1 to 15 μm. Formed from a fluororesin mixture containing 20 to 97% by weight of tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA) and 3 to 80% by weight of polytetrafluoroethylene (PTFE) having an average particle diameter of 1 μm or less. A fixing roller is disclosed.

また、特許文献2には、軸芯体上に直接又は他の被覆層を介してふっ素樹脂被覆層を設けて成るロールにおいて、前記ふっ素樹脂被覆層は内周面側が未架橋ふっ素樹脂から成り、かつその外周面側が架橋ふっ素樹脂から成る表面を架橋ふっ素樹脂で被覆したロールが開示されている。   Further, in Patent Document 2, in a roll in which a fluororesin coating layer is provided directly on the shaft body or via another coating layer, the fluororesin coating layer is made of an uncrosslinked fluororesin on the inner peripheral surface side, And the roll which coat | covered the surface which the outer peripheral surface side consists of bridge | crosslinking fluororesin with bridge | crosslinking fluororesin is disclosed.

また、特許文献3には、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物と反応性フッ素防汚剤とを含有するフィルム保護層用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、前記反応性フッ素防汚剤の濁度が20%未満であり、かつ、1つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテル、及び、活性水素と炭素−炭素二重結合とを有するモノマーを含有する反応性フッ素防汚剤であるフィルム保護層用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、前記フィルム保護層用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物からなる光学シート、フィルム上に前記フィルム保護層用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物なる保護層が形成され、前記フィルムの裏面に粘着面が設けられている保護粘着フィルムが開示されている。   Patent Document 3 discloses an active energy ray-curable resin composition for a film protective layer containing an active energy ray-curable resin composition and a reactive fluorine antifouling agent, the reactive fluorine antifouling agent A film which is a reactive fluorine antifouling agent containing a perfluoropolyether having a turbidity of less than 20% and having one active hydrogen and a monomer having an active hydrogen and a carbon-carbon double bond Active energy ray-curable resin composition for protective layer, optical sheet made of cured product of active energy ray-curable resin composition for film protective layer, active energy ray-curable resin composition for film protective layer on film A protective adhesive film is disclosed in which a protective layer that is a cured product is formed, and an adhesive surface is provided on the back surface of the film.

また、特許文献4には、Si(OR)(RはO、N、F、Clを含んでいてもよい有機基または無機基またはH)で示されるシリケート化合物と、(XAl(OR及び/または(XZr(OR(X、XはO、N、F、Clを含んでいてもよい有機シリケート基、R、RはO、N、F、Clを含んでいてもよい有機基またはH)で示される有機アルミニウム及び/またはジルコニウム化合物とのコオリゴマーからなる汚染付着防止剤、ならびに該防止剤と塗料用樹脂と、要すれば硬化剤及び/または硬化触媒とからなる塗料用組成物が開示されている。 Patent Document 4 discloses a silicate compound represented by Si (OR) 4 (R is an organic group or inorganic group or H which may contain O, N, F, and Cl), and (X 1 ) n Al. (OR 1 ) m and / or (X 2 ) p Zr (OR 2 ) q (X 1 , X 2 are organic silicate groups optionally containing O, N, F, Cl, R 1 , R 2 are O And an anti-fouling agent comprising a co-oligomer of an organoaluminum and / or zirconium compound represented by H), which may contain N, F, and Cl, and the inhibitor and a coating resin. For example, a coating composition comprising a curing agent and / or a curing catalyst is disclosed.

また、特許文献5には、成分1):1.a)一部フッ素化しているプレポリマーであって、フリーのNCO基を有し、平均分子量Mnが800から1,500の範囲である(ペル)フルオロポリエーテル(PFPE)ジオールと、イソホロンジイソシアナート(IPDI)の環状トリマーとの反応によって得られるプレポリマーと、1.b)へキサメチレンジイソシアナートの非環状イソシアナートトリマーとを含む混合物、成分2):平均分子量Mnが350から700の範囲の(ペル)フルオロポリエーテル(PFPE)ジオール、成分3):架橋反応条件下における、不活性有機溶媒、を含む組成物が開示されている。   Patent Document 5 discloses component 1): 1. a) a (per) fluoropolyether (PFPE) diol having a partially fluorinated prepolymer having free NCO groups and an average molecular weight Mn in the range of 800 to 1,500, and isophorone diisocyanate A prepolymer obtained by reaction of a nate (IPDI) with a cyclic trimer; b) Mixture comprising hexamethylene diisocyanate acyclic isocyanate trimer, component 2): (per) fluoropolyether (PFPE) diol having an average molecular weight Mn in the range of 350 to 700, component 3): crosslinking reaction A composition comprising an inert organic solvent under conditions is disclosed.

また、特許文献6には、少なくとも、成分(A)縮合した構造を有するチタン化合物オリゴマー(a1)に対し、分子中に1個以上のアルコキシ基を有するシリコン化合物(a2)、及び分子中に1個以上のエポキシ基を有する樹脂(a3)を反応させた構造又は混合させた組成を有する複合化合物、成分(B)溶剤、を含有する表面処理組成物が開示されている。   Patent Document 6 discloses that at least the titanium compound oligomer (a1) having a condensed structure of component (A) is a silicon compound (a2) having one or more alkoxy groups in the molecule, and 1 in the molecule. There is disclosed a surface treatment composition containing a composite compound having a structure in which a resin (a3) having at least one epoxy group is reacted or a mixed composition, and a component (B) solvent.

特開平10−142990号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-142990 特開2003−36002号公報JP 2003-36002 A 特開2010−222524号公報JP 2010-222524 A 特開平10−259327号公報JP-A-10-259327 特開2001−226629号公報JP 2001-226629 A 特開2010−150490号公報JP 2010-150490 A

本発明の目的は、両末端がウレタン含有メタクリレートで変性されたパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物の該メタクリレート部分が架橋重合された架橋重合体のみを含む場合に比べ、優れた耐熱性を備えた表面保護膜を提供することにある。   The object of the present invention is to provide surface protection with superior heat resistance as compared to the case where the methacrylate portion of the perfluoroalkylene ether-containing compound modified at both ends with urethane-containing methacrylate contains only a crosslinked polymer obtained by crosslinking polymerization. It is to provide a membrane.

上記課題は、以下の本発明により達成される。
すなわち請求項1に係る発明は、
下記一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と、下記一般式(2)で表される有機金属化合物と、の架橋重合体を含む表面保護膜。
The above-mentioned subject is achieved by the following present invention.
That is, the invention according to claim 1
A surface protective film comprising a crosslinked polymer of a perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the following general formula (1) and an organometallic compound represented by the following general formula (2).


(前記一般式(1)において、Zは前記(Z−1)乃至(Z−2)からなる群より選択される2価の基又は該群より選択される2つ以上5つ以下の基を組合わせてなる2価の基を表す。なお、Zは前記(Z−1)で表される2価の基を1以上5以下含み、かつ前記(Z−2)で表される2価の基を0以上2以下含む。前記(Z−2)におけるRZ1及びRZ2はそれぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RZ1及びRZ2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。Zが前記(Z−2)で表される2価の基を2つ含む場合において複数存在するRZ1及びRZ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
mは1以上の整数を表す。ただし、mが2以上である場合において複数存在するZはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
及びAはそれぞれ独立に2価の有機基を表す。na1及びna2はそれぞれ独立に0又は1を表す。
及びXはそれぞれ独立に前記(X−1)乃至(X−2)からなる群より選択される反応性の架橋基を表す。前記(X−1)におけるRX1は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表す。前記(X−2)におけるRX21、RX22及びRX23はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表す。)
(In the general formula (1), Z represents a divalent group selected from the group consisting of the above (Z-1) to (Z-2) or two or more and five or less groups selected from the group. And Z represents a divalent group represented by (Z-1) and includes a divalent group represented by (Z-1) in the range of 1 to 5 and the divalent group represented by (Z-2). And a group containing 0 or more and 2. In the above (Z-2), R Z1 and R Z2 each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group, provided that at least one of R Z1 and R Z2 represents a trifluoromethyl group. In the case where Z contains two divalent groups represented by the above (Z-2), a plurality of R Z1 and R Z2 may be the same or different.
m represents an integer of 1 or more. However, when m is 2 or more, a plurality of Z may be the same or different.
A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group. na1 and na2 each independently represents 0 or 1.
X 1 and X 2 each independently represent a reactive crosslinking group selected from the group consisting of (X-1) to (X-2). R X1 in the above (X-1) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent. R X21 , R X22 and R X23 in (X-2) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent. )


(前記一般式(2)において、Mはチタン、ジルコニウム、シリコン、アルミニウム、及び亜鉛からなる群より選択される有機金属を表す。
21はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアセチル基を表す。R21で表される前記の基は置換基を有していてもよい。
22はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアセチル基を表す。R22で表される前記の基は置換基を有していてもよい。
23は前記一般式(2)に示される2つのO原子を介して前記Mで表される有機金属に結合しキレート環を形成する飽和または不飽和の2価の炭化水素基を表す。R23で表される前記炭化水素基は置換基を有していてもよく、またヘテロ原子を有していてもよい。
o+p+qは前記Mで表される有機金属の価数に等しく、oは0以上前記価数以下の整数を、pは0以上でありかつ(前記価数−2)以下の整数を、qは0以上前記価数以下の整数を表し、o+qは2以上である。
ただし、oが2以上である場合において複数存在するR21、pが2以上である場合において複数存在するR22、qが2以上である場合において複数存在するR23はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)
(In the general formula (2), M represents an organic metal selected from the group consisting of titanium, zirconium, silicon, aluminum, and zinc.
R 21 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an acetyl group. The group represented by R 21 may have a substituent.
R 22 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an acetyl group. The group represented by R 22 may have a substituent.
R 23 represents a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group that forms a chelate ring by binding to the organic metal represented by M via the two O atoms represented by the general formula (2). The hydrocarbon group represented by R 23 may have a substituent or may have a hetero atom.
o + p + q is equal to the valence of the organic metal represented by M, o is an integer from 0 to the valence, p is an integer from 0 to (the valence-2), q is 0 The above represents an integer less than the valence, and o + q is 2 or more.
However, when o is 2 or more, a plurality of R 21 s are present, when p is 2 or more, a plurality of R 22 s are present, and when q is 2 or more, a plurality of R 23 s are the same, May be different. )

請求項2に係る発明は、
前記一般式(1)における前記na1及びna2の少なくとも一方が1であり、かつ前記A及びAが下記一般式(A−1)で表される2価の基を表す請求項1に記載の表面保護膜。
The invention according to claim 2
2. The device according to claim 1, wherein at least one of the na1 and na2 in the general formula (1) is 1, and the A 1 and A 2 represent a divalent group represented by the following general formula (A-1). Surface protective film.


(前記一般式(A−1)において、Aは前記(A3−1)乃至(A3−4)からなる群より選択される2価の基又は該群より選択される2つ以上の基を組合わせてなる2価の基を表す。なお、Aは前記(A3−1)で表される2価の基を0以上5以下含み、前記(A3−2)で表される2価の基を0以上2以下含み、前記(A3−3)で表される2価の基を0以上含み、かつ前記(A3−4)で表される2価の基を0又は1含む。前記(A3−2)におけるRA1及びRA2はそれぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RA1及びRA2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。Aが前記(A3−2)で表される2価の基を2つ含む場合において複数存在するRA1及びRA2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Yは−O−又は−NH−を表す。na3は0以上の整数を、na4は1以上3以下の整数を表す。ただし、na3が2以上である場合において複数存在する[−Y−(CHna4−]の基は同一であっても異なっていてもよい。
なお、前記一般式(A−1)で表される2価の基は(*1)部分でパーフルオロアルキレンエーテル構造と結合し、(*2)部分で(−X)又は(−X)と結合する。)
(In the general formula (A-1), A 3 represents a divalent group selected from the group consisting of (A3-1) to (A3-4) or two or more groups selected from the group. A 3 represents a combined divalent group, and A 3 includes a divalent group represented by (A3-1) of 0 to 5 inclusive, and the divalent group represented by (A3-2). The group contains 0 or more and 2 or less, the divalent group represented by (A3-3) contains 0 or more, and the divalent group represented by (A3-4) contains 0 or 1. R A1 and R A2 in A3-2) each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group, provided that at least one of R A1 and R A2 represents a trifluoromethyl group, and A 3 represents the above (A3-2). each of R A1 and R A2 there are multiple same when) containing two divalent groups represented by It may be different even.
Y represents —O— or —NH—. na3 represents an integer of 0 or more, and na4 represents an integer of 1 to 3. However, when na3 is 2 or more, a plurality of [ —Y— (CH 2 ) na4 —] groups may be the same or different.
The divalent group represented by the general formula (A-1) is bonded to the perfluoroalkylene ether structure at the (* 1) portion, and (—X 1 ) or (—X 2 ) at the (* 2) portion. ). )

請求項3に係る発明は、
前記一般式(2)における前記pが1以上である請求項1又は請求項2に記載の表面保護膜。
The invention according to claim 3
The surface protective film according to claim 1, wherein the p in the general formula (2) is 1 or more.

請求項4に係る発明は、
前記一般式(2)における前記qが1以上である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の表面保護膜。
The invention according to claim 4
The surface protection film according to claim 1, wherein the q in the general formula (2) is 1 or more.

請求項5に係る発明は、
前記一般式(2)における前記Mで表される有機金属がチタン又はシリコンである請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の表面保護膜。
The invention according to claim 5
The surface protective film according to claim 1, wherein the organic metal represented by M in the general formula (2) is titanium or silicon.

請求項6に係る発明は、
前記一般式(A−1)における前記na3が1以上である請求項2〜請求項5のいずれか1項に記載の表面保護膜。
The invention according to claim 6
The surface protective film according to any one of claims 2 to 5, wherein the na3 in the general formula (A-1) is 1 or more.

請求項1及び請求項2に係る発明によれば、両末端がウレタン含有メタクリレートで変性されたパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物の該メタクリレート部分が架橋重合された架橋重合体のみを含む場合に比べ、優れた耐熱性を備えた表面保護膜が提供される。   According to the invention according to claim 1 and claim 2, it is superior to the case where the methacrylate portion of the perfluoroalkylene ether-containing compound modified at both ends with urethane-containing methacrylate contains only a crosslinked polymer obtained by crosslinking polymerization. A surface protective film having high heat resistance is provided.

請求項3に係る発明によれば、一般式(2)における前記pが0である場合に比べ、成膜性能に優れた表面保護膜が提供される。   According to the third aspect of the present invention, a surface protective film excellent in film forming performance is provided as compared with the case where p in the general formula (2) is 0.

請求項4に係る発明によれば、一般式(2)における前記qが0である場合に比べ、成膜性能に優れた表面保護膜が提供される。   According to the invention which concerns on Claim 4, compared with the case where said q in General formula (2) is 0, the surface protective film excellent in the film-forming performance is provided.

請求項5に係る発明によれば、一般式(2)における前記Mがジルコニウムである場合に比べ、成膜性能に優れた表面保護膜が提供される。   According to the invention which concerns on Claim 5, compared with the case where said M in General formula (2) is a zirconium, the surface protective film excellent in the film-forming performance is provided.

請求項6に係る発明によれば、一般式(A−1)における前記na3が0である場合に比べ、成膜性能に優れた表面保護膜が提供される。   According to the invention which concerns on Claim 6, compared with the case where said na3 in general formula (A-1) is 0, the surface protective film excellent in the film-forming performance is provided.

本実施形態に係る無端ベルトの概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view showing a schematic structure of an endless belt concerning this embodiment. 本実施形態に係る無端ベルトの断面図である。It is sectional drawing of the endless belt which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る無端ベルトを用いた画像形成装置を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an image forming apparatus using an endless belt according to an exemplary embodiment. 本実施形態に係る無端ベルトを用いた画像定着装置を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an image fixing device using an endless belt according to an exemplary embodiment.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

<表面保護膜>
本実施形態に係る表面保護膜は、後述の一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と、後述の一般式(2)で表される有機金属化合物と、の架橋重合体を含む。
<Surface protective film>
The surface protective film according to the present embodiment comprises a crosslinked polymer of a perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) described later and an organometallic compound represented by the general formula (2) described later. Including.

近年、様々な分野で表面での汚染を抑制する(防汚性)等の観点から表面保護膜を設けることが行われており、例えば架橋型のフッ素樹脂材料が用いられることがあった。しかし、架橋型のフッ素樹脂材料では、熱に対する安定性が低く、この耐熱性に起因して樹脂の耐久性に劣ることがあった。   In recent years, a surface protective film has been provided in various fields from the viewpoint of suppressing surface contamination (antifouling property), and for example, a cross-linked fluororesin material has been used. However, the cross-linked fluororesin material has low heat stability, and the heat resistance sometimes causes poor resin durability.

これに対し、本実施形態に係る表面保護膜は、下記一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と、下記一般式(2)で表される有機金属化合物と、が架橋重合された構造を有する架橋重合体を含むため、優れた耐熱性を実現し得る。更に、優れた防汚性を奏し、かつ撥水性、撥油性、耐摩耗性にも優れた表面保護膜とすることができる。   On the other hand, in the surface protective film according to the present embodiment, the perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the following general formula (1) and the organometallic compound represented by the following general formula (2) are crosslinked. Since the cross-linked polymer having the structure is included, excellent heat resistance can be realized. Furthermore, it is possible to obtain a surface protective film that exhibits excellent antifouling properties and is excellent in water repellency, oil repellency, and wear resistance.

ここで、本実施形態に係る表面保護膜に含まれる架橋重合体について説明する。
架橋重合体は、下記パーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と下記有機金属化合物とが架橋重合されてなる。
Here, the crosslinked polymer contained in the surface protective film according to the present embodiment will be described.
The crosslinked polymer is obtained by crosslinking polymerization of the following perfluoroalkylene ether-containing compound and the following organometallic compound.

(パーフルオロアルキレンエーテル含有化合物)
本実施形態に用いられるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物は、下記一般式(1)で表される構造を有する。
(Perfluoroalkylene ether-containing compound)
The perfluoroalkylene ether-containing compound used in the present embodiment has a structure represented by the following general formula (1).


(前記一般式(1)において、Zは前記(Z−1)乃至(Z−2)からなる群より選択される2価の基又は該群より選択される2つ以上5つ以下の基を組合わせてなる2価の基を表す。なお、Zは前記(Z−1)で表される2価の基を1以上5以下含み、かつ前記(Z−2)で表される2価の基を0以上2以下含む。前記(Z−2)におけるRZ1及びRZ2はそれぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RZ1及びRZ2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。Zが前記(Z−2)で表される2価の基を2つ含む場合において複数存在するRZ1及びRZ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
mは1以上の整数を表す。ただし、mが2以上である場合において複数存在するZはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
及びAはそれぞれ独立に2価の有機基を表す。na1及びna2はそれぞれ独立に0又は1を表す。
及びXはそれぞれ独立に前記(X−1)乃至(X−2)からなる群より選択される反応性の架橋基を表す。前記(X−1)におけるRX1は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表す。前記(X−2)におけるRX21、RX22及びRX23はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表す。)
(In the general formula (1), Z represents a divalent group selected from the group consisting of the above (Z-1) to (Z-2) or two or more and five or less groups selected from the group. And Z represents a divalent group represented by (Z-1) and includes a divalent group represented by (Z-1) in the range of 1 to 5 and the divalent group represented by (Z-2). And a group containing 0 or more and 2. In the above (Z-2), R Z1 and R Z2 each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group, provided that at least one of R Z1 and R Z2 represents a trifluoromethyl group. In the case where Z contains two divalent groups represented by the above (Z-2), a plurality of R Z1 and R Z2 may be the same or different.
m represents an integer of 1 or more. However, when m is 2 or more, a plurality of Z may be the same or different.
A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group. na1 and na2 each independently represents 0 or 1.
X 1 and X 2 each independently represent a reactive crosslinking group selected from the group consisting of (X-1) to (X-2). R X1 in the above (X-1) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent. R X21 , R X22 and R X23 in (X-2) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent. )

・パーフルオロアルキレンエーテル構造部
まず前記一般式(1)は、[ ]で囲われるパーフルオロアルキレンエーテル構造部分を有する。このパーフルオロアルキレンエーテル構造部分において、Zは前記(Z−1)乃至(Z−2)からなる群より選択される2価の基、又は前記(Z−1)乃至(Z−2)からなる群より選択される2つ以上5つ以下の基を組合わせてなる2価の基を表す。
-Perfluoroalkylene ether structure part First, the said General formula (1) has the perfluoroalkylene ether structure part enclosed by [] m . In this perfluoroalkylene ether structure portion, Z is a divalent group selected from the group consisting of (Z-1) to (Z-2) or (Z-1) to (Z-2). It represents a divalent group formed by combining 2 or more and 5 or less groups selected from the group.

なお、Zは前記(Z−1)で表される2価の基(−CF−)を1以上5以下含み、かつ前記(Z−2)で表される2価の基(−CRZ1Z2−)を0以上2以下含む。
Zにおける、前記(Z−1)で表される2価の基の数は更に1以上3以下が好ましく、前記(Z−2)で表される2価の基の数は更に0以上1以下が好ましく、前記(Z−1)で表される2価の基と前記(Z−2)で表される2価の基との総数は更に1以上3以下が好ましい。
Z includes a divalent group (—CF 2 —) represented by (Z-1) in the range of 1 to 5, and a divalent group (—CR Z1 ) represented by (Z-2). R Z2 —) is 0 or more and 2 or less.
In Z, the number of divalent groups represented by (Z-1) is preferably 1 or more and 3 or less, and the number of divalent groups represented by (Z-2) is further 0 or more and 1 or less. The total number of the divalent group represented by (Z-1) and the divalent group represented by (Z-2) is more preferably 1 or more and 3 or less.

前記(Z−2)におけるRZ1及びRZ2は、それぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RZ1及びRZ2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。Zが前記(Z−2)で表される2価の基(−CRZ1Z2−)を2つ含む場合において複数存在するRZ1及びRZ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。 R Z1 and R Z2 in (Z-2) each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group. However, at least one of R Z1 and R Z2 represents a trifluoromethyl group. When Z contains two divalent groups (—CR Z1 R Z2 —) represented by the above (Z-2), a plurality of R Z1 and R Z2 may be the same or different. .

パーフルオロアルキレンエーテル構造部分を囲う[ ]の数であるmは、1以上の整数を表す。なお、mが2以上である場合において複数存在するZはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。mは更に2以上100以下であることが好ましく、5以上50以下であることがより好ましい。   M, which is the number of [] surrounding the perfluoroalkylene ether structure portion, represents an integer of 1 or more. When m is 2 or more, a plurality of Z may be the same or different. m is further preferably 2 or more and 100 or less, and more preferably 5 or more and 50 or less.

パーフルオロアルキレンエーテル構造部分([−Z−O−])の具体例としては、例えば下記(m−1)乃至(m−8)の構造が挙げられる。なお、(m−2)、(m−3)及び(m−4)に示されるm1及びm2は、それぞれ独立に1以上の整数を表し、かつm1とm2の総数がmである。 Specific examples of the perfluoroalkylene ether structure portion ([—Z—O—] m ) include, for example, the following structures (m-1) to (m-8). Note that m1 and m2 shown in (m-2), (m-3), and (m-4) each independently represent an integer of 1 or more, and the total number of m1 and m2 is m.


なお、上記(m−1)乃至(m−8)の構造の中でも、(m−2)、(m−6)、(m−7)又は(m−8)の構造が好ましく、(m−2)の構造がより好ましい。   Among the structures (m-1) to (m-8), the structure (m-2), (m-6), (m-7) or (m-8) is preferable, and (m- The structure 2) is more preferable.

・A及びA
前記一般式(1)において、A及びAはそれぞれ独立に2価の有機基を表す。
なお、na1及びna2はそれぞれ独立に0又は1を表し、つまり一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物はA及びAを有していても有していなくてもよい。ただし、na1及びna2の少なくとも一方が1であることが好ましく、na1及びna2の両方が1であることがより好ましい。
A 1 and A 2
In the general formula (1), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group.
Incidentally, na1 and na2 each independently represent 0 or 1, i.e. perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) may not have have a A 1 and A 2 . However, it is preferable that at least one of na1 and na2 is 1, and it is more preferable that both na1 and na2 are 1.

及びAで表される2価の有機基としては、例えばアルキレン基、フッ化アルキレン基、−C(=O)−、−O−、−NH−等の2価の基、又はこれらからなる群より選択される2種以上の基を組合わせてなる2価の基が挙げられる。 Examples of the divalent organic group represented by A 1 and A 2 include an alkylene group, a fluorinated alkylene group, a divalent group such as —C (═O) —, —O—, —NH—, or the like. And a divalent group formed by combining two or more groups selected from the group consisting of:

及びAで表される2価の有機基としては、下記一般式(A−1)で表される2価の基が好ましい。 The divalent organic group represented by A 1 and A 2 is preferably a divalent group represented by the following general formula (A-1).


(前記一般式(A−1)において、Aは前記(A3−1)乃至(A3−4)からなる群より選択される2価の基又は該群より選択される2つ以上の基を組合わせてなる2価の基を表す。なお、Aは前記(A3−1)で表される2価の基を0以上5以下含み、前記(A3−2)で表される2価の基を0以上2以下含み、前記(A3−3)で表される2価の基を0以上含み、かつ前記(A3−4)で表される2価の基を0又は1含む。前記(A3−2)におけるRA1及びRA2はそれぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RA1及びRA2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。Aが前記(A3−2)で表される2価の基を2つ含む場合において複数存在するRA1及びRA2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Yは−O−又は−NH−を表す。na3は0以上の整数を、na4は1以上3以下の整数を表す。ただし、na3が2以上である場合において複数存在する[−Y−(CHna4−]の基は同一であっても異なっていてもよい。
なお、前記一般式(A−1)で表される2価の基は(*1)部分でパーフルオロアルキレンエーテル構造と結合し、(*2)部分で(−X)又は(−X)と結合する。)
(In the general formula (A-1), A 3 represents a divalent group selected from the group consisting of (A3-1) to (A3-4) or two or more groups selected from the group. A 3 represents a combined divalent group, and A 3 includes a divalent group represented by (A3-1) of 0 to 5 inclusive, and the divalent group represented by (A3-2). The group contains 0 or more and 2 or less, the divalent group represented by (A3-3) contains 0 or more, and the divalent group represented by (A3-4) contains 0 or 1. R A1 and R A2 in A3-2) each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group, provided that at least one of R A1 and R A2 represents a trifluoromethyl group, and A 3 represents the above (A3-2). each of R A1 and R A2 there are multiple same when) containing two divalent groups represented by It may be different even.
Y represents —O— or —NH—. na3 represents an integer of 0 or more, and na4 represents an integer of 1 to 3. However, when na3 is 2 or more, a plurality of [ —Y— (CH 2 ) na4 —] groups may be the same or different.
The divalent group represented by the general formula (A-1) is bonded to the perfluoroalkylene ether structure at the (* 1) portion, and (—X 1 ) or (—X 2 ) at the (* 2) portion. ). )

は前記(A3−1)乃至(A3−4)からなる群より選択される2価の基、又は前記(A3−1)乃至(A3−4)からなる群より選択される2つ以上の基を組合わせてなる2価の基を表す。 A 3 is a divalent group selected from the group consisting of (A3-1) to (A3-4), or two or more selected from the group consisting of (A3-1) to (A3-4) Represents a divalent group formed by combining these groups.

なお、Aは前記(A3−1)で表される2価の基(−CF−)を0以上5以下含み、前記(A3−2)で表される2価の基(−CRA1A2−)を0以上2以下含み、前記(A3−3)で表される2価の基(−CH−)を0以上含み、かつ前記(A3−4)で表される2価の基(−CO−)を0又は1含む。
における前記(A3−1)で表される2価の基の数は更に1以上3以下が好ましく、前記(A3−2)で表される2価の基の数は更に0又は1が好ましく、前記(A3−3)で表される2価の基の数は更に0以上2以下が好ましい。また、前記(A3−3)で表される2価の基(−CH−)と前記(A3−4)で表される2価の基(−CO−)との総数は2以下であることが好ましく、更に1以下であることがより好ましい。
A 3 includes a divalent group (—CF 2 —) represented by (A3-1) of 0 to 5 inclusive, and a divalent group (—CR A1 ) represented by (A3-2). R A2 —) is 0 or more and 2 or less, the divalent group (—CH 2 —) represented by (A3-3) is 0 or more, and the divalent group represented by (A3-4) Contains 0 or 1 group (—CO—).
The number of divalent groups represented by (A3-1) in A 3 is preferably 1 or more and 3 or less, and the number of divalent groups represented by (A3-2) is further 0 or 1. Preferably, the number of divalent groups represented by (A3-3) is more preferably 0 or more and 2 or less. The total number of the divalent group (—CH 2 —) represented by (A3-3) and the divalent group (—CO—) represented by (A3-4) is 2 or less. It is more preferable that it is 1 or less.

前記(A3−2)におけるRA1及びRA2は、それぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RA1及びRA2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。RA1がフッ素原子、RA2がトリフルオロメチル基であることが好ましい。Aが前記(A3−2)で表される2価の基(−CRA1A2−)を2つ含む場合において複数存在するRA1及びRA2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。 R A1 and R A2 in (A3-2) each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group. However, at least one of R A1 and R A2 represents a trifluoromethyl group. R A1 is preferably a fluorine atom, and R A2 is preferably a trifluoromethyl group. When A 3 contains two divalent groups (—CR A1 R A2 —) represented by the above (A3-2), a plurality of R A1 and R A2 may be the same or different from each other. Good.

Yは−O−又は−NH−を表す。
na3は0以上の整数を表す。
na4は1以上3以下の整数を表し、2以上3以下が好ましい。
ただし、na3が2以上である場合において複数存在する[−Y−(CHna4−]の基は同一であっても異なっていてもよい。
Y represents —O— or —NH—.
na3 represents an integer of 0 or more.
na4 represents an integer of 1 to 3, and preferably 2 to 3.
However, when na3 is 2 or more, a plurality of [ —Y— (CH 2 ) na4 —] groups may be the same or different.

ここで、na3は1以上であることが好ましく、つまり一般式(1)におけるX及びXの少なくとも一方が(−Y−(CHna4−)の基を介してパーフルオロアルキレンエーテル構造と結合していることが好ましい。X及びXの少なくとも一方とパーフルオロアルキレンエーテル構造との間に(−Y−(CHna4−)の基を介した構造であることで、一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と後述の一般式(2)で表される有機金属化合物との架橋の速度が適度に調整される。そのため、本実施形態に係る表面保護膜を形成するための塗布液における塗布前のゲル化反応を抑制することができ、塗布性に優れ、結果として成膜性能に優れた表面保護膜が得られる。
na3は、更に1以上50以下であることが好ましく、1以上20以下であることがより好ましい。
また、Yが−NH−である場合のna3は1であることが更に好ましく、na4が3である場合のna3は1であることが更に好ましい。
Here, na3 is preferably 1 or more, that is, at least one of X 1 and X 2 in the general formula (1) is a perfluoroalkylene ether structure via a group ( —Y— (CH 2 ) na4 —). It is preferable that it is couple | bonded with. The structure represented by the general formula (1) is a structure having a group ( —Y— (CH 2 ) na 4 —) between at least one of X 1 and X 2 and the perfluoroalkylene ether structure. The speed of crosslinking between the fluoroalkylene ether-containing compound and the organometallic compound represented by the general formula (2) described later is appropriately adjusted. Therefore, the gelation reaction before coating in the coating liquid for forming the surface protective film according to this embodiment can be suppressed, and a surface protective film having excellent coating properties and excellent film forming performance can be obtained as a result. .
na3 is further preferably 1 or more and 50 or less, and more preferably 1 or more and 20 or less.
Further, na3 when Y is —NH— is more preferably 1, and na3 when na4 is 3 is more preferably 1.

上記一般式(A−1)で表される2価の基の好ましい構造を以下に表す。   Preferred structures of the divalent group represented by the general formula (A-1) are shown below.


上記(A−6)におけるna30は1以上の整数を表し、更に1以上50以下であることが好ましく、1以上20以下であることがより好ましい。
上記(A−13)におけるna40は1以上3以下の整数を表し、3が好ましい。
上記(A−14)におけるna41は1以上3以下の整数を表し、3が好ましい。
Na30 in (A-6) above represents an integer of 1 or more, preferably 1 or more and 50 or less, and more preferably 1 or more and 20 or less.
Na40 in the above (A-13) represents an integer of 1 to 3, and 3 is preferable.
Na41 in the above (A-14) represents an integer of 1 to 3, and 3 is preferable.

なお、上記(A−1)乃至(A−14)の構造の中でも、特に(A−1)、(A−2)、(A−3)、(A−6)、(A−8)、(A−9)、(A−10)(A−13)、(A−14)の構造がより好ましい。   Of the structures (A-1) to (A-14), (A-1), (A-2), (A-3), (A-6), (A-8), The structures (A-9), (A-10), (A-13), and (A-14) are more preferable.

・X及びX
前記一般式(1)において、X及びXはそれぞれ独立に前記(X−1)乃至(X−2)からなる群より選択される反応性の架橋基を表す。
X 1 and X 2
In the general formula (1), X 1 and X 2 each independently represent a reactive crosslinking group selected from the group consisting of (X-1) to (X-2).

(X−1)におけるRX1は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表し、つまりX及びXとして水酸基又は炭素数10以下のアルコキシ基を表す。
X1で表されるアルキル基としては、炭素数8以下がより好ましく、炭素数4以下が更に好ましい。該アルキル基は直鎖状、分岐状、環状の何れであってもよい。
X1で表されるアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、シクロプロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、シクロブチル、n−ペンチル、シクロペンチル、n−ヘキシル、シクロヘキシル、2−エチルヘキシル等が挙げられる。
X1としては、これらの中でも水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、シクロペンチル、n−ヘキシル、シクロヘキシル、2−エチルヘキシルが好ましく、更には水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、2−エチルヘキシルがより好ましい。
R X1 in (X-1) represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 10 or less carbon atoms, that is, X 1 and X 2 represent a hydroxyl group or an alkoxy group having 10 or less carbon atoms.
The alkyl group represented by R X1 has more preferably 8 or less carbon atoms, and still more preferably 4 or less carbon atoms. The alkyl group may be linear, branched or cyclic.
Specific examples of the alkyl group represented by R X1 include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, cyclopropyl, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, tert-butyl, cyclobutyl, and n-pentyl. , Cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, 2-ethylhexyl and the like.
Among these, as R X1 , hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl Cyclohexyl and 2-ethylhexyl are preferable, and further a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, n-pentyl, n-hexyl, 2- More preferred is ethylhexyl.

(X−2)におけるRX21、RX22及びRX23は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表す。
X21乃至RX23の具体例としては前記RX1と同じ具体例が挙げられ、その好ましい範囲についても前記RX1と同じである。
R X21 , R X22 and R X23 in (X-2) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent.
Specific examples of R X21 to R X23 include the same specific examples as those of R X1, and preferred ranges thereof are the same as those of R X1 .

ここで、前記一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物の具体例を示す。ただし、本実施形態に係るパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物は、下記の例に限定されるものではない。   Here, specific examples of the perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) are shown. However, the perfluoroalkylene ether-containing compound according to the present embodiment is not limited to the following examples.

(有機金属化合物)
本実施形態に用いられる有機金属化合物は、下記一般式(2)で表される構造を有する。
(Organic metal compound)
The organometallic compound used in the present embodiment has a structure represented by the following general formula (2).


(前記一般式(2)において、Mはチタン、ジルコニウム、シリコン、アルミニウム、及び亜鉛からなる群より選択される有機金属を表す。
21はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアセチル基を表す。R21で表される前記の基は置換基を有していてもよい。
22はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアセチル基を表す。R22で表される前記の基は置換基を有していてもよい。
23は前記一般式(2)に示される2つのO原子を介して前記Mで表される有機金属に結合しキレート環を形成する飽和または不飽和の2価の炭化水素基を表す。R23で表される前記炭化水素基は置換基を有していてもよく、またヘテロ原子を有していてもよい。
o+p+qは前記Mで表される有機金属の価数に等しく、oは0以上前記価数以下の整数を、pは0以上でありかつ(前記価数−2)以下の整数を、qは0以上前記価数以下の整数を表し、o+qは2以上である。
ただし、oが2以上である場合において複数存在するR21、pが2以上である場合において複数存在するR22、qが2以上である場合において複数存在するR23はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)
(In the general formula (2), M represents an organic metal selected from the group consisting of titanium, zirconium, silicon, aluminum, and zinc.
R 21 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an acetyl group. The group represented by R 21 may have a substituent.
R 22 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an acetyl group. The group represented by R 22 may have a substituent.
R 23 represents a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group that forms a chelate ring by binding to the organic metal represented by M via the two O atoms represented by the general formula (2). The hydrocarbon group represented by R 23 may have a substituent or may have a hetero atom.
o + p + q is equal to the valence of the organic metal represented by M, o is an integer from 0 to the valence, p is an integer from 0 to (the valence-2), q is 0 The above represents an integer less than the valence, and o + q is 2 or more.
However, when o is 2 or more, a plurality of R 21 s are present, when p is 2 or more, a plurality of R 22 s are present, and when q is 2 or more, a plurality of R 23 s are the same, May be different. )

・有機金属
Mは上記に示される有機金属を表し、中でもチタン、ジルコニウム、シリコン、アルミニウムが好ましい。
なお、Mとしては更にチタン又はシリコンが好ましい。チタン又はシリコンとすることで、一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と後述の一般式(2)で表される有機金属化合物との架橋の速度が適度に調整される。そのため、本実施形態に係る表面保護膜を形成するための塗布液における塗布前のゲル化反応を抑制することができ、塗布性に優れ、結果として成膜性能に優れた表面保護膜が得られる。
-Organic metal M represents the organic metal shown above, and among these, titanium, zirconium, silicon, and aluminum are preferable.
M is preferably titanium or silicon. By using titanium or silicon, the speed of crosslinking between the perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) and the organometallic compound represented by the general formula (2) described later is appropriately adjusted. Therefore, the gelation reaction before coating in the coating liquid for forming the surface protective film according to this embodiment can be suppressed, and a surface protective film having excellent coating properties and excellent film forming performance can be obtained as a result. .

ただし、Mとしてシリコンを適用する場合、加水分解の抑制を考慮することが好ましく、その観点から架橋重合させる前記パーフルオロアルキレンエーテル含有化合物として、一般式(1)のXおよびXに前記(X−2)(−Si−(ORX21)(ORX22)(ORX23))を有する化合物を採用することがより好ましい。 However, in the case of applying silicon as M, it is preferable to consider the suppression of hydrolysis. From this viewpoint, as the perfluoroalkylene ether-containing compound to be subjected to crosslinking polymerization, X 1 and X 2 in the general formula (1) are the above ( X-2) It is more preferable to employ a compound having ( -Si- (OR X21 ) (OR X22 ) (OR X23 )).

一般式(2)で表される有機金属化合物では、Mで表される有機金属に対して(a)−[OR21]、(b)−[R22]、及び(c)−[O…R23…O]→から選択される1種以上の基が結合する。なお、(a)及び(c)の基が一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物との反応性を有する架橋基である。
ここで、o+p+qが前記Mで表される有機金属の価数に等しい。
o+qは2以上であり、つまり一般式(2)で表される有機金属化合物は前記反応性を有する架橋基を少なくとも2つ有する。
oは0以上前記価数以下の整数を表し、2以上が好ましい。
pは0以上でありかつ(前記価数−2)以下の整数を表し、0又は1が好ましい。
qは0以上前記価数以下の整数を表し、1以上が好ましい。
また、oが2以上である場合、pが2以上である場合、qが2以上である場合、それぞれにおいてR21、R22、R23がそれぞれ複数存在することとなるが、これら複数のR21、R22、R23はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
In the organometallic compound represented by the general formula (2), (a)-[OR 21 ], (b)-[R 22 ], and (c)-[O. One or more groups selected from R 23 ... O] → are bonded. The groups (a) and (c) are crosslinking groups having reactivity with the perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1).
Here, o + p + q is equal to the valence of the organic metal represented by M.
o + q is 2 or more, that is, the organometallic compound represented by the general formula (2) has at least two crosslinking groups having the reactivity.
o represents an integer of 0 or more and the valence or less, preferably 2 or more.
p represents an integer of 0 or more and (the valence −2) or less, preferably 0 or 1.
q represents an integer of 0 or more and the valence or less, preferably 1 or more.
In addition, when o is 2 or more, p is 2 or more, and q is 2 or more, there are a plurality of R 21 , R 22 , and R 23 , respectively. 21 , R 22 , and R 23 may be the same or different.

なお、本実施形態に係る表面保護膜を形成するための塗布液における塗布性を向上させ、結果として成膜性能に優れた表面保護膜を得る観点では、前記pが1以上であることが好ましい。pが1以上、つまり前記(b)−[R22]が結合していることで、反応性を有する架橋基の数が低減されてゲル化が抑制され、前記塗布液の塗布前におけるゲル化反応が抑制できるものと考えられる。 In addition, it is preferable that said p is 1 or more from a viewpoint of improving the applicability | paintability in the coating liquid for forming the surface protective film which concerns on this embodiment, and obtaining the surface protective film excellent in the film-forming performance as a result. . When p is 1 or more, that is, (b)-[R 22 ] is bonded, the number of reactive crosslinking groups is reduced and gelation is suppressed, and gelation before coating of the coating solution is performed. It is considered that the reaction can be suppressed.

また、本実施形態に係る表面保護膜を形成するための塗布液における塗布性を向上させ、結果として成膜性能に優れた表面保護膜を得る観点で、前記qが1以上であることが好ましい。qが1以上、つまり前記(c)−[O…R23…O]→のキレート環を有していることで、前記一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と一般式(2)で表される有機金属化合物との架橋の速度が適度に調整され、前記塗布液の塗布前におけるゲル化反応が抑制できるものと考えられる。 In addition, q is preferably 1 or more from the viewpoint of improving the coating property in the coating liquid for forming the surface protective film according to the present embodiment and, as a result, obtaining a surface protective film having excellent film forming performance. . When q is 1 or more, that is, having a chelate ring represented by (c)-[O ... R 23 ... O] →, the perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) and the general formula It is considered that the speed of crosslinking with the organometallic compound represented by (2) is appropriately adjusted, and the gelation reaction before application of the coating solution can be suppressed.

・(a)−[OR21
21は上記に示される基を表し、中でもアルキル基が好ましい。
21で表されるアルキル基としては、炭素数1以上15以下が好ましく、更には炭素数1以上8以下がより好ましい。該アルキル基は直鎖状、分岐状、環状(つまりシクロアルキル基)の何れであってもよく、また置換基を有していてもよい。
また、アルケニル基における炭素数、アセチル基(−C(=O)−RAC(RACはアルキル基を表す))における炭素数も、上記と同じ範囲が好ましい。
· (A) - [OR 21 ]
R 21 represents the group shown above, and among them, an alkyl group is preferable.
The alkyl group represented by R 21 preferably has 1 to 15 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms. The alkyl group may be linear, branched or cyclic (that is, a cycloalkyl group), and may have a substituent.
Further, the carbon number in the alkenyl group and the carbon number in the acetyl group (—C (═O) —R AC (R AC represents an alkyl group)) are also preferably in the same range as described above.

−OR21の具体例としては、−OMe、−OEt、−OnPr、−OiPr、−OnBu、−OiBu、−OtBu、−OC11、−OC13、−OC15、−OC17、−OC1021、−OC、−OC、−OC、−OC11等が挙げられる。
これらの中でも−OMe、−OEt、−OnPr、−OiPr、−OnBu、−OiBu、−OC、−OC11がより好ましい。
Specific examples of —OR 21 include —OMe, —OEt, —OnPr, —OiPr, —OnBu, —OiBu, —OtBu, —OC 5 H 11 , —OC 6 H 13 , —OC 7 H 15 , —OC. 8 H 17, -OC 10 H 21 , -OC 3 H 5, -OC 4 H 7, -OC 5 H 9, -OC 6 H 11 and the like.
-OMe Among these, -OEt, -OnPr, -OiPr, -OnBu , -OiBu, -OC 5 H 9, -OC 6 H 11 is more preferred.

尚、上記の具体例において、Meはメチル基を、Etはエチル基を、iPrはイソプロピル基を、Buはノルマルブチル基をそれぞれ表す。   In the above specific examples, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, iPr represents an isopropyl group, and Bu represents a normal butyl group.

・(b)−[R22
22は上記に示される基を表し、中でもアルキル基が好ましい。
22で表されるアルキル基としては、炭素数1以上15以下が好ましく、更には炭素数1以上8以下がより好ましい。該アルキル基は直鎖状、分岐状、環状(つまりシクロアルキル基)の何れであってもよく、また置換基を有していてもよい
また、アルケニル基における炭素数、アセチル基(−C(=O)−RAC(RACはアルキル基を表す))における炭素数も、上記と同じ範囲が好ましい。
· (B) - [R 22 ]
R 22 represents a group shown above, and an alkyl group is particularly preferable.
The alkyl group represented by R 22 preferably has 1 to 15 carbon atoms, and more preferably 1 to 8 carbon atoms. The alkyl group may be linear, branched, or cyclic (that is, a cycloalkyl group), and may have a substituent. The carbon number in the alkenyl group, an acetyl group (—C ( The number of carbon atoms in = O) -R AC (R AC represents an alkyl group)) is also preferably in the same range as described above.

−R22の具体例としては、−Me、−Et、−nPr、−iPr、−nBu、−iBu、−tBu、−C11、−C13、−C15、−C17、−C1021、−C、−C、−C、−C11等が挙げられる。
これらの中でも−Me、−Et、−nPr、−iPr、−nBu、−iBu、−C11、−C13、−C、−C11がより好ましい。
Specific examples of -R 22, -Me, -Et, -nPr , -iPr, -nBu, -iBu, -tBu, -C 5 H 11, -C 6 H 13, -C 7 H 15, -C 8 H 17, -C 10 H 21 , -C 3 H 5, -C 4 H 7, -C 5 H 9, -C 6 H 11 and the like.
-Me Among these, -Et, -nPr, -iPr, -nBu , -iBu, -C 5 H 11, -C 6 H 13, -C 5 H 9, -C 6 H 11 is more preferred.

・(c)−[O…R23…O]→
一般式(2)において[ ]で囲われた部分の基、つまり(c)−[O…R23…O]→の基は、Mで表される有機金属に結合してキレート環を形成する基である。
23は飽和または不飽和の2価の炭化水素基を表し、置換基を有していてもよく、またヘテロ原子を有していてもよい。
23で表される上記飽和または不飽和の2価の炭化水素基としては、炭素数1以上20以下が好ましく、更には炭素数2以上10以下がより好ましい。該炭化水素基は直鎖状、分岐状の何れであってもよく、また更に環を有していてもよい。
23で表される上記2価の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、−OH、−O・NH 等が挙げられる。
23で表される上記2価の炭化水素基が有していてもよいヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。
· (C) - [O ... R 23 ... O] →
In the general formula (2), the group surrounded by [] q , that is, the group (c)-[O... R 23 ... O] → is bonded to the organic metal represented by M to form a chelate ring. It is a group to do.
R 23 represents a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group, which may have a substituent, or may have a hetero atom.
The saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group represented by R 23 preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably has 2 to 10 carbon atoms. The hydrocarbon group may be linear or branched, and may further have a ring.
Examples of the substituent that the divalent hydrocarbon group represented by R 23 may have include —OH, —O —— NH 4 +, and the like.
Examples of the hetero atom that the divalent hydrocarbon group represented by R 23 may have include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.

(c)−[O…R23…O]→の具体例としては、下記(R23−1)で表される基によるアセチルアセトンキレート環、下記(R23−2)で表される基によるアセト酢酸エチルキレート環、下記(R23−3)で表される基によるオクチレングリコールキレート環、下記(R23−4)で表される基によるトリエタノールアミンキレート環、下記(R23−5)で表される基による乳酸キレート環、下記(R23−6)で表される基による乳酸アンモニウムキレート環等が挙げられる。
これらの中でもアセチルアセトンキレート環がより好ましい。
Specific examples of (c)-[O... R 23 ... O] → are acetylacetone chelate rings by groups represented by the following (R23-1), and ethyl acetoacetates by groups represented by the following (R23-2). Chelate ring, octylene glycol chelate ring by the group represented by the following (R23-3), triethanolamine chelate ring by the group represented by the following (R23-4), group represented by the following (R23-5) And a lactic acid chelate ring by the group represented by the following (R23-6).
Among these, an acetylacetone chelate ring is more preferable.


ここで、Mで表される有機金属に対して前記(c)−[O…R23…O]→が結合しキレート環を形成している態様について例を挙げて構造を示す。例えば、MとしてZrを有し、該Zrに対し4つの上記(R23−1)で表される基によるアセチルアセトンキレート環が形成されている有機金属化合物の構造は、以下に示される構造となる。 Here, the relative organometallic represented by M (c) - shows the [O ... R 23 ... O] → combine to examples Aspects forming a chelate ring. For example, the structure of an organometallic compound having Zr as M and having an acetylacetone chelate ring formed by four groups represented by the above (R23-1) with respect to Zr is the structure shown below.


前記一般式(2)で表される有機金属化合物の具体例を示す。ただし、本実施形態に係る有機金属化合物は、下記の例に限定されるものではない。
・((2)-1)Ti−(O−iPr)
・((2)-2)Ti−(O−iPr)(AcAc)
・((2)-3)Ti−(AcAc)
・((2)-4)Zr−(O−Bu)
・((2)-5)Zr−(O−Bu)(AcAc)
・((2)-6)Zr−(AcAc)
・((2)-7)Si−(O−Me)
・((2)-8)Si−(O−Et)
・((2)-9)Si−(Me)(O−Me)
・((2)-10)Si−(Me)(O−Ee)
・((2)-11)Si−(Et)(O−Me)
・((2)-12)Si−(Et)(O−Ee)
・((2)-13)Al−(O−iPr)
尚、上記の具体例において、AcAcはアセチルアセトンによるキレート環を表す。
Specific examples of the organometallic compound represented by the general formula (2) are shown. However, the organometallic compound according to the present embodiment is not limited to the following example.
-((2) -1) Ti- (O-iPr) 4
-((2) -2) Ti- (O-iPr) 2 (AcAc) 2
・ ((2) -3) Ti- (AcAc) 4
・ ((2) -4) Zr- (O-Bu) 4
・ ((2) -5) Zr- (O-Bu) 3 (AcAc)
・ ((2) -6) Zr- (AcAc) 4
・ ((2) -7) Si- (O-Me) 4
・ ((2) -8) Si- (O-Et) 4
・ ((2) -9) Si- (Me) (O-Me) 3
・ ((2) -10) Si- (Me) (O-Ee) 3
・ ((2) -11) Si- (Et) (O-Me) 3
・ ((2) -12) Si- (Et) (O-Ee) 3
・ ((2) -13) Al- (O-iPr) 3
In the above specific examples, AcAc represents a chelate ring by acetylacetone.

(架橋重合体)
本実施形態に係る表面保護膜に含まれる架橋重合体は、前記一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と、前記一般式(2)で表される有機金属化合物と、が架橋重合されてなる。
なお、一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と一般式(2)で表される有機金属化合物との好ましい組合わせとしては、例えば以下の組合せが挙げられる。
(Crosslinked polymer)
The crosslinked polymer contained in the surface protective film according to the present embodiment includes a perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) and an organometallic compound represented by the general formula (2). Cross-linked and polymerized.
Examples of preferred combinations of the perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) and the organometallic compound represented by the general formula (2) include the following combinations.

(表面保護膜の形成方法(架橋重合の方法))
本実施形態に係る表面保護膜は、前記一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と、前記一般式(2)で表される有機金属化合物と、を含有する塗布液(表面保護膜形成用塗布液)を基材上に塗布して架橋重合することで形成される。
(Method for forming surface protective film (crosslinking polymerization method))
The surface protective film according to this embodiment is a coating liquid (surface) containing a perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the general formula (1) and an organometallic compound represented by the general formula (2). It is formed by applying a coating solution for forming a protective film) onto a substrate and crosslinking polymerization.

一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物の量に対する、架橋剤として添加される一般式(2)で表される有機金属化合物の添加量の比率(一般式(2)の量/一般式(1)の量×100[質量%])としては、2質量%以上100質量%以下が好ましく、5質量%以上80質量%以下がより好ましく、10質量%以上60質量%以下が更に好ましい。   Ratio of addition amount of organometallic compound represented by general formula (2) added as crosslinking agent to amount of perfluoroalkylene ether-containing compound represented by general formula (1) (amount of general formula (2) / Amount of the general formula (1) × 100 [% by mass]) is preferably 2% by mass to 100% by mass, more preferably 5% by mass to 80% by mass, and more preferably 10% by mass to 60% by mass. Further preferred.

前記パーフルオロアルキレンエーテル含有化合物および前記有機金属化合物の混合物が液体である場合には、そのまま前記表面保護膜形成用塗布液として使用してもよい。
前記パーフルオロアルキレンエーテル含有化合物および前記有機金属化合物の混合物として、固体、液体に関わらず溶媒に溶解し得るものを用いる場合には、これら化合物やその他の添加剤等を溶媒に溶解して塗布液を調製し、基材上に塗布して架橋重合することで形成される。
また、前記パーフルオロアルキレンエーテル含有化合物および前記有機金属化合物の混合物として、固体で溶媒に溶解しないものを用いる場合には、これら化合物やその他の添加剤等を溶解し得る温度にまで加熱し、架橋重合することで形成される。
ただし、製造性の点からは、溶媒に溶解し得る化合物、又は常温(25℃)で液体の化合物を用いて、表面保護膜を形成することが好ましい。
When the mixture of the perfluoroalkylene ether-containing compound and the organometallic compound is a liquid, it may be used as it is as the coating liquid for forming the surface protective film.
When using a mixture of the perfluoroalkylene ether-containing compound and the organometallic compound that can be dissolved in a solvent regardless of whether it is solid or liquid, the compound and other additives are dissolved in the solvent and the coating solution Is prepared, applied onto a substrate, and subjected to cross-linking polymerization.
Further, when using a mixture of the perfluoroalkylene ether-containing compound and the organometallic compound that is solid and insoluble in a solvent, the mixture is heated to a temperature at which these compounds and other additives can be dissolved, It is formed by polymerization.
However, from the viewpoint of manufacturability, it is preferable to form the surface protective film using a compound that can be dissolved in a solvent or a compound that is liquid at room temperature (25 ° C.).

前記塗布液に用いられる溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(2−ブタノン)、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、テトラヒドロフラン、2H,3H−デカフルオロペンタン、1−メトキシヘプタフルオロプロパン、1−メトキシノナフルオロブタン、1−エトキシノナフルオロブタン等が挙げられる。   Examples of the solvent used in the coating solution include acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, Amyl acetate, toluene, xylene, hexane, heptane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, tetrahydrofuran, 2H, 3H-decafluoropentane, 1-methoxyheptafluoropropane, 1- Toki Shino Na perfluorobutane, 1-ethoxy-nonafluorobutane, and the like.

前記架橋重合を行う際には、外部からエネルギーを供給してもよく、例えば紫外線を照射する手段、電子線を照射する手段、加熱する手段等によるエネルギーの供給が挙げられる。また、前記架橋重合を行うため触媒を添加してもよい。
中でも、加熱を施すことが好ましく、その温度としては140℃以上250℃以下が好ましく、160℃以上230℃以下がより好ましい。加熱を施すことで、架橋重合を促進し得ると共に、架橋反応による副生成物(例えばイソプロパノール、ブタノールなど)を効率的に除去し得る。
When performing the cross-linking polymerization, energy may be supplied from the outside, and examples thereof include supply of energy by means of irradiating ultraviolet rays, means of irradiating electron beams, and means of heating. Further, a catalyst may be added to perform the crosslinking polymerization.
Especially, it is preferable to heat, and as the temperature, 140 to 250 degreeC is preferable, and 160 to 230 degreeC is more preferable. By applying heat, cross-linking polymerization can be promoted, and by-products (for example, isopropanol, butanol, etc.) due to the cross-linking reaction can be efficiently removed.

(表面保護膜の物性)
本実施形態に係る表面保護膜は、前述の通り耐熱性に優れた材料となる。なお、優れた耐熱性とは、具体的には高温環境下においても優れた耐傷性を示すことを意味する。
ここで、本実施形態に係る表面保護膜における耐熱温度(使用し得る温度域)としては、60℃以上200℃以下であることが好ましく、80℃以上160℃以下であることがより好ましい。
(Physical properties of surface protective film)
The surface protective film according to this embodiment is a material having excellent heat resistance as described above. Note that the excellent heat resistance means specifically exhibiting excellent scratch resistance even in a high temperature environment.
Here, the heat-resistant temperature (usable temperature range) in the surface protective film according to this embodiment is preferably 60 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and more preferably 80 ° C. or higher and 160 ° C. or lower.

本実施形態に係る表面保護膜は、25℃での水の接触角が90°以上であることが好ましく、更には100°以上がより好ましい。   In the surface protective film according to this embodiment, the contact angle of water at 25 ° C. is preferably 90 ° or more, and more preferably 100 ° or more.

なお、上記接触角の測定は、フイルム上に塗布された表面保護膜サンプルを、水を使用し接触角計を用いて、25℃においてθ/2法で行われる。また、後述するヘキサデカンに対する接触角は、前記水をヘキサデカンに変更して測定される。   The contact angle is measured by the θ / 2 method at 25 ° C. using a contact angle meter using water on the surface protective film sample applied on the film. Moreover, the contact angle with respect to the hexadecane mentioned later is measured by changing the water to hexadecane.

前記表面保護膜の厚さとしては、特に限定されるものではないが1μm以上500μm以下が好ましく、10μm以上50μm以下がより好ましい。   The thickness of the surface protective film is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more and 500 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 50 μm or less.

[用途]
本実施形態に係る表面保護膜は、使用環境が常温(25℃)よりも高い温度となることが想定され、かつ異物との接触により表面に擦り傷が発生し得る物に対してであれば、特に限定されることなく用い得る。
例えば、画像形成装置における定着部材、中間転写部材、記録媒体搬送部材等に用いられる画像形成装置用の無端ベルトやロール、車のボディや窓ガラス、太陽光電池パネルや太陽光を反射させるパネル等が挙げられる。
[Usage]
The surface protective film according to the present embodiment is assumed to be used in an environment in which the use environment is higher than normal temperature (25 ° C.) and the surface can be scratched by contact with foreign matter. It can use without being specifically limited.
For example, an endless belt or roll for an image forming apparatus used for a fixing member, an intermediate transfer member, a recording medium conveying member, etc. in an image forming apparatus, a car body or window glass, a solar cell panel, a panel that reflects sunlight, etc. Can be mentioned.

[無端ベルト]
ここで、本実施形態に係る表面保護膜の使用用途の一例である、画像形成装置用の無端ベルトについて説明する。
本実施形態に係る画像形成装置用無端ベルトは、ベルト状の基材と、前記ベルト状の基材上に設けられた、前述の本実施形態に係る表面保護膜と、を有する。
[Endless belt]
Here, an endless belt for an image forming apparatus, which is an example of a use application of the surface protective film according to the present embodiment, will be described.
The endless belt for an image forming apparatus according to the present embodiment includes a belt-shaped base material and the surface protective film according to the above-described present embodiment provided on the belt-shaped base material.

図1は、本実施形態に係る無端ベルトを示す斜視図(一部、断面で表わしている)であり、図2は、図1において矢印Aの方向から見た、無端ベルトの端面図である。
図1及び図2に示すように、本実施形態の無端ベルト1は、基材2と、基材2の表面に積層された表面層3と、を有する無端状のベルトである。
なお、上記表面層3としては、前述の本実施形態に係る表面保護膜が適用される。
FIG. 1 is a perspective view (partially expressed in cross section) of an endless belt according to the present embodiment, and FIG. 2 is an end view of the endless belt as viewed from the direction of arrow A in FIG. .
As shown in FIGS. 1 and 2, the endless belt 1 of this embodiment is an endless belt having a base material 2 and a surface layer 3 laminated on the surface of the base material 2.
As the surface layer 3, the surface protective film according to the above-described embodiment is applied.

無端ベルト1の用途としては、例えば、画像形成装置内における定着ベルト、中間転写ベルト、記録媒体搬送ベルト等が挙げられる。   Examples of the use of the endless belt 1 include a fixing belt, an intermediate transfer belt, and a recording medium conveyance belt in the image forming apparatus.

以下、無端ベルト1を定着ベルトとして用いる場合について説明する。
基材2に用いられる材質としては、耐熱性の材料が好ましく、具体的には、公知の各種プラスチック材料及び金属材料のものの中から選択して使用される。
Hereinafter, the case where the endless belt 1 is used as a fixing belt will be described.
The material used for the substrate 2 is preferably a heat-resistant material, and specifically selected from various known plastic materials and metal materials.

プラスチック材料のなかでは一般にエンジニアリングプラスチックと呼ばれるものが適しており、例えばフッソ樹脂、ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリベンズイミダゾール(PBI)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルフォン(PSU)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルイミド(PEI)、全芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)などが好ましい。また、この中でも機械的強度、耐熱性、耐摩耗性、耐薬品性等に優れる熱硬化性ポリイミド、熱可塑性ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、フッ素樹脂などが好ましい。   Among plastic materials, what are generally called engineering plastics are suitable, for example, fluorine resin, polyimide (PI), polyamideimide (PAI), polybenzimidazole (PBI), polyetheretherketone (PEEK), polysulfone (PSU). Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide (PPS), polyetherimide (PEI), wholly aromatic polyester (liquid crystal polymer) and the like are preferable. Of these, thermosetting polyimides, thermoplastic polyimides, polyamide imides, polyether imides, fluororesins, and the like that are excellent in mechanical strength, heat resistance, wear resistance, chemical resistance, and the like are preferable.

また、基材2に用いられる金属材料としては、特に制限は無く、各種金属や合金材料が使用され、例えばSUS、ニッケル、銅、アルミ、鉄などが好適に使用される。また、前記耐熱性樹脂や前記金属材料を複数積層してもよい。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular as a metal material used for the base material 2, For example, various metals and alloy materials are used, For example, SUS, nickel, copper, aluminum, iron etc. are used suitably. Further, a plurality of the heat resistant resins and the metal materials may be laminated.

以下、無端ベルト1を中間転写ベルト又は記録媒体搬送ベルトとして用いる場合について説明する。   Hereinafter, a case where the endless belt 1 is used as an intermediate transfer belt or a recording medium conveyance belt will be described.

基材2に用いる素材としては、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられ、これらの中でもポリイミド系樹脂及びポリアミドイミド系樹脂を用いることがより好ましい。なお、基材は環状(無端状)であればつなぎ目があってもなくてもよく、また基材2の厚さは、通常0.02から0.2mmが好ましい。   Examples of the material used for the substrate 2 include a polyimide resin, a polyamideimide resin, a polyester resin, a polyamide resin, a fluorine resin, and the like. Among these, it is more preferable to use a polyimide resin and a polyamideimide resin. preferable. In addition, if a base material is cyclic | annular (endless shape), it may or may not have a joint, and the thickness of the base material 2 is usually preferably 0.02 to 0.2 mm.

無端ベルト1を画像形成装置の中間転写ベルトや記録媒体搬送ベルトとして用いる場合、1×10Ω/□から1×1014Ω/□の範囲に表面抵抗率を、1×10から1×1013Ωcmの範囲に体積抵抗率を制御することが好ましい。そのため前記のごとく、基材2や表面層3に、導電剤として、ケッチェンブラック、アセチレンブラックなどのカーボンブラック、グラファイト、アルミニウム、ニッケル、銅合金などの金属又は合金、酸化スズ、酸化亜鉛、チタン酸カリウム、酸化スズ−酸化インジウム又は酸化スズ−酸化アンチモン複合酸化物などの金属酸化物、ポリアニリン、ポリピロール、ポリサルフォン、ポリアセチレンなどの導電性ポリマーなどを添加することが好ましい(ここで、前記ポリマーにおける「導電性」とは体積抵抗率が10Ω・cm未満を意味する)。これら導電剤は、単独又は2種以上が併用して使用される。 When the endless belt 1 is used as an intermediate transfer belt or a recording medium conveyance belt of an image forming apparatus, the surface resistivity is in the range of 1 × 10 9 Ω / □ to 1 × 10 14 Ω / □, and 1 × 10 8 to 1 ×. It is preferable to control the volume resistivity within a range of 10 13 Ωcm. Therefore, as described above, the base material 2 and the surface layer 3 are coated with carbon black such as ketjen black and acetylene black, metals or alloys such as graphite, aluminum, nickel and copper alloys, tin oxide, zinc oxide and titanium as a conductive agent. It is preferable to add a metal oxide such as potassium oxide, tin oxide-indium oxide or tin oxide-antimony oxide composite oxide, a conductive polymer such as polyaniline, polypyrrole, polysulfone, polyacetylene, etc. “Conductivity” means that the volume resistivity is less than 10 7 Ω · cm). These conductive agents are used alone or in combination of two or more.

ここで、上記表面抵抗率及び体積抵抗率は、(株)ダイヤインスツルメント製ハイレスタUPMCP−450型URプローブを用いて、22℃、55%RHの環境下で、JIS−K6911に従い測定される。   Here, the surface resistivity and the volume resistivity are measured according to JIS-K6911 in an environment of 22 ° C. and 55% RH using a Hiresta UPMCP-450 UR probe manufactured by Dia Instruments Co., Ltd. .

定着用途の場合において、無端ベルト1は、基材2と表面層3との間に弾性層を含んでもよい。弾性層の材料としては、例えば、各種ゴム材料が用いられる。各種ゴム材料としては、例えば、ウレタンゴム、エチレン・プロピレンゴム(EPM)、シリコーンゴム、フッ素ゴム(FKM)などが挙げられ、特に耐熱性、加工性に優れたシリコーンゴムが好ましい。該シリコーンゴムとしては、例えば、RTVシリコーンゴム、HTVシリコーンゴムなどが挙げられ、具体的には、ポリジメチルシリコーンゴム(MQ)、メチルビニルシリコーンゴム(VMQ)、メチルフェニルシリコーンゴム(PMQ)、フルオロシリコーンゴム(FVMQ)などが挙げられる。   In the case of fixing applications, the endless belt 1 may include an elastic layer between the base material 2 and the surface layer 3. As a material for the elastic layer, for example, various rubber materials are used. Examples of the various rubber materials include urethane rubber, ethylene / propylene rubber (EPM), silicone rubber, and fluorine rubber (FKM). Silicone rubber having excellent heat resistance and workability is particularly preferable. Examples of the silicone rubber include RTV silicone rubber and HTV silicone rubber. Specifically, polydimethyl silicone rubber (MQ), methyl vinyl silicone rubber (VMQ), methyl phenyl silicone rubber (PMQ), fluoro Examples include silicone rubber (FVMQ).

電磁誘導方式の定着装置における定着ベルトとして無端ベルト1を用いる場合は、基材2と表面層3との間に、発熱層を設けてもよい。
発熱層に用いられる材料としては、例えば非磁性金属が挙げられ、具体的には、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、亜鉛、錫、鉛、ビスマス、ベリリュウム、アンチモン、及びこれらの合金(これらを含む合金)等の金属材料が挙げられる。
発熱層の膜厚としては、5から20μmの範囲とすることが好ましく、7から15μmの範囲とすることがより好ましく、8から12μmの範囲とすることが特に好ましい。
When the endless belt 1 is used as the fixing belt in the electromagnetic induction type fixing device, a heat generating layer may be provided between the substrate 2 and the surface layer 3.
Examples of the material used for the heat generating layer include non-magnetic metals. Specifically, for example, gold, silver, copper, aluminum, zinc, tin, lead, bismuth, beryllium, antimony, and alloys thereof (these A metal material such as an alloy containing
The thickness of the heat generating layer is preferably in the range of 5 to 20 μm, more preferably in the range of 7 to 15 μm, and particularly preferably in the range of 8 to 12 μm.

[ロール]
本実施形態に係る画像形成装置用ロールは、円筒状の基材と、前記円筒状の基材上に設けられた、前述の本実施形態に係る表面保護膜と、を有する。
[roll]
The roll for an image forming apparatus according to the present embodiment includes a cylindrical base material and the surface protective film according to the above-described present embodiment provided on the cylindrical base material.

ついで、本実施形態に係るロールについて説明する。本実施形態のロールは、基材と、基材の表面に積層された表面層と、を有する円筒状のロールである。
なお、上記表面層としては、前述の本実施形態に係る表面保護膜が適用される。
Next, the roll according to this embodiment will be described. The roll of this embodiment is a cylindrical roll having a base material and a surface layer laminated on the surface of the base material.
As the surface layer, the surface protective film according to the above-described embodiment is applied.

上記円筒状のロールの用途としては、例えば、画像形成装置内における定着ロール、中間転写ロール、記録媒体搬送ロール等が挙げられる。   Examples of the use of the cylindrical roll include a fixing roll, an intermediate transfer roll, and a recording medium conveyance roll in the image forming apparatus.

以下、円筒状ロールを定着ロールとして用いる場合について説明する。
図4に示す定着部材としての定着ロール610としては、その形状、構造、大きさ等について特に制限はなく、円筒状のコア611上に表面層613を備えてなる。また、図4に示す通り、コア611と表面層613との間に弾性層612を有していてもよい。
Hereinafter, a case where a cylindrical roll is used as a fixing roll will be described.
The fixing roll 610 as the fixing member shown in FIG. 4 is not particularly limited in its shape, structure, size and the like, and includes a surface layer 613 on a cylindrical core 611. Further, as illustrated in FIG. 4, an elastic layer 612 may be provided between the core 611 and the surface layer 613.

円筒状のコア611の材質としては、例えば、アルミニウム(例えば、A−5052材)、SUS、鉄、銅等の金属、合金、セラミックス、FRMなどが挙げられる。本実施形態の定着装置72では外径φ25mm、肉厚0.5mm、長さ360mmの円筒体で構成されている。   Examples of the material of the cylindrical core 611 include aluminum (for example, A-5052 material), metals such as SUS, iron, and copper, alloys, ceramics, and FRM. The fixing device 72 of the present embodiment is configured by a cylindrical body having an outer diameter of 25 mm, a thickness of 0.5 mm, and a length of 360 mm.

弾性層612の材質としては、公知の材質の中から選択されるが、耐熱性の高い弾性体であればどの材料を用いてもよい。特に、ゴム硬度が15から45°(JIS−A)程度のゴム、エラストマー等の弾性体を用いるのが好ましく、例えば、シリコーンゴム、フッ素ゴムなどが挙げられる。   The material of the elastic layer 612 is selected from known materials, but any material may be used as long as it is an elastic body with high heat resistance. In particular, an elastic body such as rubber or elastomer having a rubber hardness of about 15 to 45 ° (JIS-A) is preferably used, and examples thereof include silicone rubber and fluororubber.

本実施形態においては、これらの材質の中でも、表面張力が小さく、弾性に優れる点でシリコーンゴムが好ましい。該シリコーンゴムとしては、例えば、RTVシリコーンゴム、HTVシリコーンゴムなどが挙げられ、具体的には、ポリジメチルシリコーンゴム(MQ)、メチルビニルシリコーンゴム(VMQ)、メチルフェニルシリコーンゴム(PMQ)、フルオロシリコーンゴム(FVMQ)などが挙げられる。   In the present embodiment, among these materials, silicone rubber is preferable because it has low surface tension and excellent elasticity. Examples of the silicone rubber include RTV silicone rubber and HTV silicone rubber. Specifically, polydimethyl silicone rubber (MQ), methyl vinyl silicone rubber (VMQ), methyl phenyl silicone rubber (PMQ), fluoro Examples include silicone rubber (FVMQ).

なお、弾性層612の厚みとしては、3mm以下であることが好ましく、0.5から1.5mmの範囲であることがより好ましい。定着装置72では、ゴム硬度が35°(JIS−A)のHTVシリコーンゴムを72μmの厚さでコアに被覆している。   The thickness of the elastic layer 612 is preferably 3 mm or less, and more preferably in the range of 0.5 to 1.5 mm. In the fixing device 72, the core is coated with an HTV silicone rubber having a rubber hardness of 35 ° (JIS-A) with a thickness of 72 μm.

表面層613の厚みとしては、例えば5μm以上50μm以下が挙げられ、10μm以上30μm以下であってもよい。   The thickness of the surface layer 613 is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less, and may be 10 μm or more and 30 μm or less.

定着ロール610を加熱する加熱源としては、例えばハロゲンランプ660が用いられ、上記コア611の内部に収容する形状、構造のものであれば特に制限はなく、目的に応じて選択される。ハロゲンランプ660により加熱された定着ロール610の表面温度は、定着ロール610に設けられた感温素子690により計測され、制御手段によりその温度が制御される。感温素子690としては、特に制限はなく、例えば、サーミスタ、温度センサなどが挙げられる。   As a heat source for heating the fixing roll 610, for example, a halogen lamp 660 is used, and there is no particular limitation as long as it has a shape and structure accommodated in the core 611, and is selected according to the purpose. The surface temperature of the fixing roll 610 heated by the halogen lamp 660 is measured by a temperature sensitive element 690 provided on the fixing roll 610, and the temperature is controlled by the control means. There is no restriction | limiting in particular as the temperature sensing element 690, For example, a thermistor, a temperature sensor, etc. are mentioned.

[画像形成装置]
次に、本実施形態の無端ベルト及び本実施形態のロールを用いた本実施形態の画像形成装置について説明する。図3は、本実施形態に係る無端ベルトを定着装置の加圧ベルトとして備え、本実施形態に係る無端ベルトを中間転写ベルトとして備え、かつ本実施形態に係るロールを定着装置の定着ロールとして備えたタンデム式の、画像形成装置の要部を説明する模試図である。
[Image forming apparatus]
Next, the image forming apparatus of this embodiment using the endless belt of this embodiment and the roll of this embodiment will be described. FIG. 3 includes the endless belt according to the present embodiment as a pressure belt of the fixing device, the endless belt according to the present embodiment as an intermediate transfer belt, and the roll according to the present embodiment as a fixing roll of the fixing device. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a main part of an image forming apparatus of a tandem type.

具体的には、画像形成装置101は、感光体79(静電潜像保持体)と、感光体79の表面を帯電する帯電ロール83と、感光体79の表面を露光し静電潜像を形成するレーザー発生装置78(静電潜像形成手段)と、感光体79表面に形成された潜像を、現像剤を用いて現像し、トナー像を形成する現像器85(現像手段)と、現像器85により形成されたトナー像が感光体79から転写される中間転写ベルト86(中間転写体)と、トナー像を中間転写ベルト86に転写する1次転写ロール80(一次転写手段)と、感光体79に付着したトナーやゴミ等を除去する感光体清掃部材84と、中間転写ベルト86上のトナー像を記録媒体に転写する2次転写ロール75(二次転写手段)と、記録媒体上のトナー像を定着する定着装置72(定着手段)と、を含んで構成されている。感光体79と1次転写ロール80は、図3に示すとおり感光体79直上に配置していてもよく、感光体79直上からずれた位置に配置していてもよい。   Specifically, the image forming apparatus 101 exposes the surface of the photosensitive member 79 by exposing the surface of the photosensitive member 79 to the photosensitive member 79 (electrostatic latent image holding member), a charging roll 83 that charges the surface of the photosensitive member 79, and forming an electrostatic latent image. A laser generator 78 (electrostatic latent image forming means) to be formed, a developing device 85 (developing means) for developing a latent image formed on the surface of the photoreceptor 79 using a developer, and forming a toner image; An intermediate transfer belt 86 (intermediate transfer body) to which the toner image formed by the developing device 85 is transferred from the photosensitive member 79; a primary transfer roll 80 (primary transfer means) for transferring the toner image to the intermediate transfer belt 86; A photoreceptor cleaning member 84 that removes toner, dust, and the like attached to the photoreceptor 79, a secondary transfer roll 75 (secondary transfer unit) that transfers the toner image on the intermediate transfer belt 86 to the recording medium, and a recording medium Fixing device 72 for fixing the toner image ( And Chakushudan), is configured to include a. The photoconductor 79 and the primary transfer roll 80 may be arranged immediately above the photoconductor 79 as shown in FIG. 3, or may be arranged at a position shifted from just above the photoconductor 79.

さらに、図3に示す画像形成装置101の構成について詳細に説明する。
画像形成装置101においては、感光体79の周囲に、反時計回りに帯電ロール83、現像器85、中間転写ベルト86を介して配置された1次転写ロール80、感光体清掃部材84が配置され、これら1組の部材が、1つの色に対応した現像ユニットを形成している。また、この現像ユニット毎に、現像器85に現像剤を補充するトナーカートリッジ71がそれぞれ設けられており、各現像ユニットの感光体79に対して、帯電ロール83の(感光体79の回転方向)下流側であって現像器85の上流側の感光体79表面に画像情報に応じたレーザー光を照射するレーザー発生装置78が設けられている。
Further, the configuration of the image forming apparatus 101 shown in FIG. 3 will be described in detail.
In the image forming apparatus 101, a primary transfer roll 80 and a photosensitive member cleaning member 84 are arranged around the photosensitive member 79 counterclockwise via a charging roll 83, a developing device 85, and an intermediate transfer belt 86. These one set of members form a developing unit corresponding to one color. Each developing unit is provided with a toner cartridge 71 for replenishing the developer in the developing unit 85, and a charging roll 83 (rotating direction of the photosensitive member 79) is provided with respect to the photosensitive member 79 of each developing unit. A laser generator 78 that irradiates the surface of the photoreceptor 79 downstream and upstream of the developing device 85 with laser light corresponding to image information is provided.

4つの色(例えば、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラック)に対応した4つの現像ユニットは、画像形成装置101内において水平方向に直列に配置されており、4つの現像ユニットの感光体79と1次転写ロール80との転写領域を挿通するように中間転写ベルト86が設けられている。中間転写ベルト86は、その内面側に以下の順序で反時計回りに設けられた、支持ロール73、支持ロール74、及び駆動ロール81により支持され、ベルト支持装置90を形成している。なお、4つの1次転写ロールは支持ロール73の(中間転写ベルト86の回転方向)下流側であって支持ロール74の上流側に位置する。また、中間転写ベルト86を介して駆動ロール81の反対側には中間転写ベルト86の外周面を清掃する転写清掃部材82が駆動ロール81に対して接触するように設けられている。   Four developing units corresponding to four colors (for example, cyan, magenta, yellow, and black) are arranged in series in the horizontal direction in the image forming apparatus 101, and the photosensitive member 79 of the four developing units and the primary are arranged. An intermediate transfer belt 86 is provided so as to pass through a transfer region with the transfer roll 80. The intermediate transfer belt 86 is supported by a support roll 73, a support roll 74, and a drive roll 81 provided on the inner surface side in the following order in the counterclockwise direction, thereby forming a belt support device 90. The four primary transfer rolls are located downstream of the support roll 73 (in the rotational direction of the intermediate transfer belt 86) and upstream of the support roll 74. A transfer cleaning member 82 for cleaning the outer peripheral surface of the intermediate transfer belt 86 is provided on the opposite side of the drive roll 81 with the intermediate transfer belt 86 in contact with the drive roll 81.

また、中間転写ベルト86を介して支持ロール73の反対側には用紙供給部77から用紙経路76を経由して搬送される記録用紙の表面に、中間転写ベルト86の外周面に形成されたトナー像を転写するための2次転写ロール75が、支持ロール73に対して接触するように設けられている。   The toner formed on the outer peripheral surface of the intermediate transfer belt 86 on the surface of the recording paper conveyed from the paper supply unit 77 via the paper path 76 to the opposite side of the support roll 73 via the intermediate transfer belt 86. A secondary transfer roll 75 for transferring an image is provided so as to contact the support roll 73.

また、画像形成装置101の底部には記録媒体を収容する用紙供給部77が設けられ、用紙供給部77から用紙経路76を経由して2次転写部を構成する支持ロール73と2次転写ロール75との接触部を通過するように、記録媒体が供給される。この接触部を通過した記録媒体は、更に定着装置72の接触部を挿通するように不図示の搬送手段により搬送され、最終的に画像形成装置101の外へと排出される。   In addition, a paper supply unit 77 that accommodates a recording medium is provided at the bottom of the image forming apparatus 101, and a support roll 73 and a secondary transfer roll that constitute a secondary transfer unit from the paper supply unit 77 via a paper path 76. The recording medium is supplied so as to pass through the contact portion with 75. The recording medium that has passed through the contact portion is further transported by a transport means (not shown) so as to pass through the contact portion of the fixing device 72 and is finally discharged out of the image forming apparatus 101.

次に、図3に示す画像形成装置101を用いた画像形成方法について説明する。トナー像の形成は各現像ユニット毎に行なわれ、帯電ロール83により反時計方向に回転する感光体79表面を帯電した後に、レーザー発生装置78(露光装置)により帯電された感光体79表面に潜像(静電潜像)を形成し、次に、この潜像を現像器85から供給される現像剤により現像してトナー像を形成し、1次転写ロール80と感光体79との接触部に運ばれたトナー像を矢印C方向に回転する中間転写ベルト86の外周面に転写する。なお、トナー像を転写した後の感光体79は、その表面に付着したトナーやゴミ等が感光体清掃部材84により清掃され、次のトナー像の形成に備える。   Next, an image forming method using the image forming apparatus 101 shown in FIG. 3 will be described. The toner image is formed for each developing unit. After charging the surface of the photoreceptor 79 rotating counterclockwise by the charging roll 83, the toner image is latently formed on the surface of the photoreceptor 79 charged by the laser generator 78 (exposure device). An image (electrostatic latent image) is formed, and then the latent image is developed with a developer supplied from a developing device 85 to form a toner image, and a contact portion between the primary transfer roll 80 and the photoreceptor 79 is formed. Is transferred to the outer peripheral surface of the intermediate transfer belt 86 rotating in the direction of arrow C. The photosensitive member 79 after the toner image is transferred is cleaned by the photosensitive member cleaning member 84 for toner, dust, etc. attached to the surface of the photosensitive member 79 in preparation for the next toner image formation.

各色の現像ユニット毎に現像されたトナー像は、画像情報に対応するように中間転写ベルト86の外周面上に順次重ね合わされた状態で、2次転写部に運ばれ2次転写ロール75により、用紙供給部77から用紙経路76を経由して搬送されてきた記録用紙表面に転写される。トナー像が転写された記録用紙は、更に定着装置72の接触部を通過する際に加圧加熱されることにより定着され、記録媒体表面に画像が形成された後、画像形成装置外へと排出される。   The toner images developed for each color development unit are sequentially superimposed on the outer peripheral surface of the intermediate transfer belt 86 so as to correspond to the image information, and are conveyed to the secondary transfer unit by the secondary transfer roll 75. The image is transferred from the paper supply unit 77 to the surface of the recording paper conveyed via the paper path 76. The recording paper on which the toner image has been transferred is further fixed by being heated by pressure when passing through the contact portion of the fixing device 72. After an image is formed on the surface of the recording medium, the recording paper is discharged out of the image forming device. Is done.

―定着装置(画像定着装置)―
図4は、本実施形態に係る画像形成装置101内に設けられた定着装置72の概略構成図である。図4に示す定着装置72は、回転駆動する回転体としての定着ロール610と、無端ベルト620(加圧ベルト)と、無端ベルト620を介して定着ロール610を加圧する圧力部材である圧力パッド640とを備えて構成されている。なお、圧力パッド640は、無端ベルト620と定着ロール610とが相対的に加圧されていればよい。したがって、無端ベルト620側が定着ロール610に加圧されてもよく、定着ロール610側が無端ベルト620に加圧されてもよい。
―Fixing device (image fixing device) ―
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of the fixing device 72 provided in the image forming apparatus 101 according to the present embodiment. A fixing device 72 shown in FIG. 4 includes a fixing roll 610 as a rotating body that is driven to rotate, an endless belt 620 (pressure belt), and a pressure pad 640 that is a pressure member that pressurizes the fixing roll 610 via the endless belt 620. And is configured. Note that the endless belt 620 and the fixing roll 610 need only be relatively pressed on the pressure pad 640. Accordingly, the endless belt 620 side may be pressed against the fixing roll 610, and the fixing roll 610 side may be pressed against the endless belt 620.

定着ロール610の内部には、挟込領域において未定着トナー像を加熱する加熱手段の一例としてのハロゲンランプ660が配設されている。加熱手段としては、ハロゲンランプに限られず、発熱する他の発熱部材を用いてもよい。   Inside the fixing roll 610, a halogen lamp 660 as an example of a heating unit for heating the unfixed toner image in the sandwiching area is disposed. The heating means is not limited to the halogen lamp, and other heat generating members that generate heat may be used.

一方、定着ロール610の表面には感温素子690が接触して配置されている。この感温素子690による温度計測値に基づいて、ハロゲンランプ660の点灯が制御され、定着ロール610の表面温度が設定温度(例えば、150℃)に維持される。   On the other hand, a temperature sensitive element 690 is disposed in contact with the surface of the fixing roll 610. The lighting of the halogen lamp 660 is controlled based on the temperature measurement value by the temperature sensing element 690, and the surface temperature of the fixing roll 610 is maintained at a set temperature (for example, 150 ° C.).

無端ベルト620は、内部に配置された圧力パッド640とベルト走行ガイド630と、図示しないエッジガイドによって回転自在に支持されている。そして、挟込領域Nにおいて定着ロール610に対して加圧された状態で接触して配置されている。   The endless belt 620 is rotatably supported by a pressure pad 640 disposed therein, a belt travel guide 630, and an edge guide (not shown). In the sandwiching area N, the fixing roll 610 is placed in contact with the pressurized roll 610 in a pressurized state.

圧力パッド640は、無端ベルト620の内側において、無端ベルト620を介して定着ロール610に加圧される状態で配置され、定着ロール610との間で挟込領域Nを形成している。圧力パッド640は、幅の広い挟込領域Nを確保するためのプレ挟込部材641を挟込領域Nの入口側に配置し、定着ロール610に歪みを与えるための剥離挟込部材642を挟込領域Nの出口側に配置している。   The pressure pad 640 is disposed inside the endless belt 620 in a state of being pressed against the fixing roll 610 via the endless belt 620, and forms a sandwiching region N between the pressure pad 640 and the fixing roll 610. In the pressure pad 640, a pre-nip member 641 for securing a wide pinching area N is disposed on the entrance side of the pinching area N, and a peeling pinch member 642 for distorting the fixing roll 610 is pinched. It is arranged on the exit side of the insertion area N.

さらに、無端ベルト620の内周面と圧力パッド640との摺動抵抗を小さくするために、プレ挟込部材641及び剥離挟込部材642の無端ベルト620と接する面に低摩擦シート680が設けられている。そして、圧力パッド640と低摩擦シート680とは、金属製のホルダ650に保持されている。   Furthermore, in order to reduce the sliding resistance between the inner peripheral surface of the endless belt 620 and the pressure pad 640, a low friction sheet 680 is provided on the surface of the pre-nip member 641 and the peeling pin member 642 in contact with the endless belt 620. ing. The pressure pad 640 and the low friction sheet 680 are held by a metal holder 650.

さらに、ホルダ650にはベルト走行ガイド630が取り付けられ、無端ベルト620がスムーズに回転するように構成されている。すなわち、ベルト走行ガイド630は、無端ベルト620内周面と摺擦するため、静止摩擦係数の小さな材質で形成されている。また、ベルト走行ガイド630は、無端ベルト620から熱を奪い難いよう熱伝導率の低い材質で形成されている。   Further, a belt traveling guide 630 is attached to the holder 650, and the endless belt 620 is configured to rotate smoothly. That is, the belt running guide 630 is made of a material having a small static friction coefficient in order to rub against the inner peripheral surface of the endless belt 620. Further, the belt traveling guide 630 is formed of a material having low thermal conductivity so that it is difficult to remove heat from the endless belt 620.

そして定着ロール610は、図示しない駆動モータにより矢印C方向に回転し、この回転に従動して無端ベルト620は、定着ロール610の回転方向と反対の方向へ回転する。すなわち、定着ロール610が図4における時計方向へ回転するのに対して、無端ベルト620は反時計方向へ回転する。   The fixing roll 610 is rotated in the direction of arrow C by a drive motor (not shown), and the endless belt 620 is rotated in a direction opposite to the rotation direction of the fixing roll 610 following the rotation. That is, the fixing roll 610 rotates in the clockwise direction in FIG. 4, whereas the endless belt 620 rotates in the counterclockwise direction.

未定着トナー像を有する用紙Kは、定着入口ガイド560によって導かれて、挟込領域Nに搬送される。そして、用紙Kが挟込領域Nを通過する際に、用紙K上のトナー像は挟込領域Nに作用する圧力と、定着ロール610から供給される熱とによって定着される。   The sheet K having the unfixed toner image is guided by the fixing entrance guide 560 and conveyed to the sandwiching area N. When the paper K passes through the sandwiching area N, the toner image on the paper K is fixed by the pressure acting on the sandwiching area N and the heat supplied from the fixing roll 610.

上記定着装置72では、定着ロール610の外周面に倣う凹形状のプレ挟込部材641により挟込領域Nが確保される。   In the fixing device 72, the pinching region N is secured by the concave pre-pinching member 641 that follows the outer peripheral surface of the fixing roll 610.

また、本実施形態に係る定着装置72では、定着ロール610の外周面に対し突出させて剥離挟込部材642を配置することにより、挟込領域Nの出口領域において定着ロール610の歪みが局所的に大きくなるように構成されている。この構成により、定着後の用紙Kが定着ロール610から剥離する。   Further, in the fixing device 72 according to the present embodiment, the separation of the fixing roll 610 is disposed so as to protrude from the outer peripheral surface of the fixing roll 610, so that the distortion of the fixing roll 610 is locally localized in the exit area of the clamping area N. It is comprised so that it may become large. With this configuration, the fixed sheet K is peeled off from the fixing roll 610.

また、剥離の補助手段として、定着ロール610の挟込領域Nの下流側に、剥離部材700が配設されている。剥離部材700は、剥離バッフル710が定着ロール610の回転方向と対向する向き(カウンタ方向)に定着ロール610と近接する状態でホルダ720によって保持されている。   Further, a peeling member 700 is disposed on the downstream side of the sandwiching area N of the fixing roll 610 as an auxiliary means for peeling. The peeling member 700 is held by the holder 720 in a state where the peeling baffle 710 is close to the fixing roll 610 in a direction (counter direction) opposite to the rotation direction of the fixing roll 610.

以下、実施例を交えて本発明を詳細に説明するが、以下に示す実施例のみに本発明は限定されるものではない。なお、以下において「部」は特に断りのない限り質量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited only to the following examples. In the following, “part” is based on mass unless otherwise specified.

〔実施例〕
<表面保護膜形成用塗布液の調製>
下記の組成物を混合して、塗布液を調製した。
〔Example〕
<Preparation of coating solution for forming surface protective film>
The following composition was mixed to prepare a coating solution.

なお、上記表1に示すフッ素樹脂(A)乃至(B)は、以下に示す構造を有するパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物である。
・フッ素樹脂(A):ソルベイ社製、数平均分子量1600
・フッ素樹脂(B):ソルベイ社製、数平均分子量2000、RB1乃至RB6はそれぞれ独立にエチル基又はメチル基を表す。
In addition, the fluororesins (A) to (B) shown in Table 1 are perfluoroalkylene ether-containing compounds having the following structures.
Fluorine resin (A): manufactured by Solvay, number average molecular weight 1600
-Fluororesin (B): manufactured by Solvay, number average molecular weight 2000, R B1 to R B6 each independently represent an ethyl group or a methyl group.

<表面保護膜の形成(架橋重合)>
上記塗布液を90μm厚のポリイミドフィルムに塗布(キャスト)して、80℃で5分間乾燥することで溶媒を揮発させ、更に200℃で1時間加熱し、表面保護膜を得た。
<Formation of surface protective film (crosslinking polymerization)>
The coating solution was applied (cast) to a 90 μm-thick polyimide film, dried at 80 ° C. for 5 minutes to volatilize the solvent, and further heated at 200 ° C. for 1 hour to obtain a surface protective film.

〔比較例1〕
両末端に水酸基を有するパーフルオロアルキレンエーテル化合物(ソルベイ社製、D4000、構造/前記フッ素樹脂(A)においてm1及びm2の数が異なり、数平均分子量4000である化合物)50部に、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート14部、及びジラウリン酸ジブチル錫0.01部を添加し、60℃で6時間攪拌した。両末端がウレタン含有メタクリレートで変性されたパーフルオロアルキレンエーテルを得た。
これにDAROCUR1173(BASF社製)を0.5部添加し、90μm厚のポリイミドフィルムに塗布(キャスト)して、80℃で5分間乾燥することで溶媒を揮発させ、紫外線硬化装置にて紫外線照射を行い、表面保護膜を得た。紫外線の照射条件は、窒素雰囲気下(酸素濃度1%以下)、高圧水銀灯を用い、1000mmJ/cmの光量を照射した。
[Comparative Example 1]
50 parts perfluoroalkylene ether compound having hydroxyl groups at both ends (Solvay, D4000, structure / a compound in which the number of m1 and m2 in the fluororesin (A) is different and the number average molecular weight is 4000) 14 parts of-(bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate and 0.01 part of dibutyltin dilaurate were added and stirred at 60 ° C. for 6 hours. A perfluoroalkylene ether having both ends modified with urethane-containing methacrylate was obtained.
Add 0.5 parts DAROCUR1173 (BASF), apply (cast) to 90μm-thick polyimide film, and evaporate the solvent by drying at 80 ° C for 5 minutes. The surface protective film was obtained. Irradiation conditions of ultraviolet rays were as follows: under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 1% or less), a high-pressure mercury lamp was used and a light amount of 1000 mmJ / cm 2 was irradiated.

〔比較例2〕
両末端に水酸基を有するパーフルオロアルキレンエーテル化合物(ソルベイ社製、D1600、構造/前記フッ素樹脂(A)に示す構造を有するパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物)50部に、テトラヒドロフラン(THF)20部を添加し、攪拌下で1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート5部、ジラウリン酸ジブチル錫0.01部を加えた。60℃で5時間攪拌後、反応液を濃縮し、両末端がウレタン含有メタクリレートで変性されたパーフルオロアルキレンエーテル55部を得た。
これにDAROCUR1173(BASF社製)を0.5部添加し、90μm厚のポリイミドフィルムに塗布(キャスト)して、80℃で5分間乾燥することで溶媒を揮発させ、紫外線硬化装置にて紫外線照射を行い、表面保護膜を得た。紫外線の照射条件は、窒素雰囲気下(酸素濃度1%以下)、高圧水銀灯を用い、1000mmJ/cmの光量を照射した。
[Comparative Example 2]
Addition of 20 parts of tetrahydrofuran (THF) to 50 parts of a perfluoroalkylene ether compound having hydroxyl groups at both ends (Solvay, D1600, structure / perfluoroalkylene ether-containing compound having the structure shown in the fluororesin (A)) Then, 5 parts of 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate and 0.01 part of dibutyltin dilaurate were added under stirring. After stirring at 60 ° C. for 5 hours, the reaction solution was concentrated to obtain 55 parts of perfluoroalkylene ether having both ends modified with urethane-containing methacrylate.
Add 0.5 parts DAROCUR1173 (BASF), apply (cast) to 90μm-thick polyimide film, and evaporate the solvent by drying at 80 ° C for 5 minutes. The surface protective film was obtained. Irradiation conditions of ultraviolet rays were as follows: under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 1% or less), a high-pressure mercury lamp was used and a light amount of 1000 mmJ / cm 2 was irradiated.

[評価]
・耐傷性評価
上記実施例および比較例で得られた表面保護膜サンプルを、引っ掻き式硬度計(ERICHSEN社製、先端直径0.75mm)を用いて、常温(25℃)において荷重2Nで引っ掻き試験を実施し、80℃で30秒加熱後に引っ掻き箇所を観察して、傷発生の有無を評価した。
B(×):保護膜サンプルに傷あり
A(○):保護膜サンプルに傷なし
[Evaluation]
Scratch resistance evaluation The surface protective film samples obtained in the above examples and comparative examples were scratched at a normal temperature (25 ° C) with a load of 2 N using a scratch hardness meter (manufactured by ERICHSEN, tip diameter: 0.75 mm). After scratching at 80 ° C. for 30 seconds, the scratched portion was observed to evaluate the presence or absence of scratches.
B (x): Protective film sample is scratched A (○): Protective film sample is not damaged

・トナー剥離性
上記実施例および比較例で得られた表面保護膜サンプル、及びこれらを180℃で20時間加熱したサンプルを、定着機の定着ロール表面に貼り付け、黒の未定着ベタ画像を通紙して定着性を確認した。
なお、上記定着機として富士ゼロックス社製の商品名:DocuCentre C2101を用いた。評価基準は以下の通りである。
C(×):保護膜サンプルの全面にトナー付着
B(△):保護膜サンプルの半分にトナー付着
A(○):保護膜サンプルにトナーの付着なし
Toner peelability The surface protective film samples obtained in the above Examples and Comparative Examples, and the samples heated at 180 ° C. for 20 hours are attached to the fixing roll surface of the fixing machine, and the black unfixed solid image is passed through. Paper was used to confirm the fixability.
As the fixing device, a product name: DocuCentre C2101 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd. was used. The evaluation criteria are as follows.
C (x): Toner adheres to the entire surface of the protective film sample B (△): Adhers toner to half of the protective film sample A (◯): No toner adheres to the protective film sample

・接触角評価
上記実施例および比較例で得られた表面保護膜サンプルについて、水またはヘキサデカンを用いて、接触角を測定した。なお、上記接触角の測定は、接触角計(協和界面科学社製、型番:CA−S−ルガタ)を用いて、25℃においてθ/2法で行った。
-Contact angle evaluation About the surface protective film sample obtained by the said Example and comparative example, the contact angle was measured using water or hexadecane. In addition, the measurement of the said contact angle was performed by the (theta) / 2 method at 25 degreeC using the contact angle meter (the Kyowa Interface Science company make, model number: CA-S-Rugata).

・経時表面変化
上記実施例および比較例で得られた表面保護膜サンプルについて、2kg/cmの荷重をかけ、140℃で加熱した。140℃で10時間加熱後、及び140℃で20時間加熱後のヘキサデカンの接触角を測定し、表面の劣化を評価した。
結果を下記表2に示す。
-Surface change with time The surface protective film samples obtained in the above Examples and Comparative Examples were heated at 140 ° C. under a load of 2 kg / cm 2 . The contact angle of hexadecane after heating at 140 ° C. for 10 hours and after heating at 140 ° C. for 20 hours was measured to evaluate surface degradation.
The results are shown in Table 2 below.

1 無端ベルト、2 基材、3 表面層、72 定着装置、75 2次転写ロール、78 レーザー発生装置、79 感光体、80 1次転写ロール、83 帯電ロール、85 現像器、86 中間転写ベルト、101 画像形成装置、610 定着ロール、620 無端ベルト、K 用紙
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Endless belt, 2 Substrate, 3 Surface layer, 72 Fixing device, 75 Secondary transfer roll, 78 Laser generator, 79 Photoreceptor, 80 Primary transfer roll, 83 Charging roll, 85 Developer, 86 Intermediate transfer belt, 101 Image forming apparatus, 610 fixing roll, 620 endless belt, K paper

Claims (6)

下記一般式(1)で表されるパーフルオロアルキレンエーテル含有化合物と、下記一般式(2)で表される有機金属化合物と、の架橋重合体を含む表面保護膜。


(前記一般式(1)において、Zは前記(Z−1)乃至(Z−2)からなる群より選択される2価の基又は該群より選択される2つ以上5つ以下の基を組合わせてなる2価の基を表す。なお、Zは前記(Z−1)で表される2価の基を1以上5以下含み、かつ前記(Z−2)で表される2価の基を0以上2以下含む。前記(Z−2)におけるRZ1及びRZ2はそれぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RZ1及びRZ2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。Zが前記(Z−2)で表される2価の基を2つ含む場合において複数存在するRZ1及びRZ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
mは1以上の整数を表す。ただし、mが2以上である場合において複数存在するZはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
及びAはそれぞれ独立に2価の有機基を表す。na1及びna2はそれぞれ独立に0又は1を表す。
及びXはそれぞれ独立に前記(X−1)乃至(X−2)からなる群より選択される反応性の架橋基を表す。前記(X−1)におけるRX1は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表す。前記(X−2)におけるRX21、RX22及びRX23はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数10以下のアルキル基を表す。)


(前記一般式(2)において、Mはチタン、ジルコニウム、シリコン、アルミニウム、及び亜鉛からなる群より選択される有機金属を表す。
21はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアセチル基を表す。R21で表される前記の基は置換基を有していてもよい。
22はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアセチル基を表す。R22で表される前記の基は置換基を有していてもよい。
23は前記一般式(2)に示される2つのO原子を介して前記Mで表される有機金属に結合しキレート環を形成する飽和または不飽和の2価の炭化水素基を表す。R23で表される前記炭化水素基は置換基を有していてもよく、またヘテロ原子を有していてもよい。
o+p+qは前記Mで表される有機金属の価数に等しく、oは0以上前記価数以下の整数を、pは0以上でありかつ(前記価数−2)以下の整数を、qは0以上前記価数以下の整数を表し、o+qは2以上である。
ただし、oが2以上である場合において複数存在するR21、pが2以上である場合において複数存在するR22、qが2以上である場合において複数存在するR23はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)
A surface protective film comprising a crosslinked polymer of a perfluoroalkylene ether-containing compound represented by the following general formula (1) and an organometallic compound represented by the following general formula (2).


(In the general formula (1), Z represents a divalent group selected from the group consisting of the above (Z-1) to (Z-2) or two or more and five or less groups selected from the group. And Z represents a divalent group represented by (Z-1) and includes a divalent group represented by (Z-1) in the range of 1 to 5 and the divalent group represented by (Z-2). And a group containing 0 or more and 2. In the above (Z-2), R Z1 and R Z2 each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group, provided that at least one of R Z1 and R Z2 represents a trifluoromethyl group. In the case where Z contains two divalent groups represented by the above (Z-2), a plurality of R Z1 and R Z2 may be the same or different.
m represents an integer of 1 or more. However, when m is 2 or more, a plurality of Z may be the same or different.
A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group. na1 and na2 each independently represents 0 or 1.
X 1 and X 2 each independently represent a reactive crosslinking group selected from the group consisting of (X-1) to (X-2). R X1 in the above (X-1) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent. R X21 , R X22 and R X23 in (X-2) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent. )


(In the general formula (2), M represents an organic metal selected from the group consisting of titanium, zirconium, silicon, aluminum, and zinc.
R 21 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an acetyl group. The group represented by R 21 may have a substituent.
R 22 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an acetyl group. The group represented by R 22 may have a substituent.
R 23 represents a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group that forms a chelate ring by binding to the organic metal represented by M via the two O atoms represented by the general formula (2). The hydrocarbon group represented by R 23 may have a substituent or may have a hetero atom.
o + p + q is equal to the valence of the organic metal represented by M, o is an integer from 0 to the valence, p is an integer from 0 to (the valence-2), q is 0 The above represents an integer less than the valence, and o + q is 2 or more.
However, when o is 2 or more, a plurality of R 21 s are present, when p is 2 or more, a plurality of R 22 s are present, and when q is 2 or more, a plurality of R 23 s are the same, May be different. )
前記一般式(1)における前記na1及びna2の少なくとも一方が1であり、かつ前記A及びAが下記一般式(A−1)で表される2価の基を表す請求項1に記載の表面保護膜。


(前記一般式(A−1)において、Aは前記(A3−1)乃至(A3−4)からなる群より選択される2価の基又は該群より選択される2つ以上の基を組合わせてなる2価の基を表す。なお、Aは前記(A3−1)で表される2価の基を0以上5以下含み、前記(A3−2)で表される2価の基を0以上2以下含み、前記(A3−3)で表される2価の基を0以上含み、かつ前記(A3−4)で表される2価の基を0又は1含む。前記(A3−2)におけるRA1及びRA2はそれぞれ独立にフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ただし、RA1及びRA2の少なくとも一方はトリフルオロメチル基を表す。Aが前記(A3−2)で表される2価の基を2つ含む場合において複数存在するRA1及びRA2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Yは−O−又は−NH−を表す。na3は0以上の整数を、na4は1以上3以下の整数を表す。ただし、na3が2以上である場合において複数存在する[−Y−(CHna4−]の基は同一であっても異なっていてもよい。
なお、前記一般式(A−1)で表される2価の基は(*1)部分でパーフルオロアルキレンエーテル構造と結合し、(*2)部分で(−X)又は(−X)と結合する。)
2. The device according to claim 1, wherein at least one of the na1 and na2 in the general formula (1) is 1, and the A 1 and A 2 represent a divalent group represented by the following general formula (A-1). Surface protective film.


(In the general formula (A-1), A 3 represents a divalent group selected from the group consisting of (A3-1) to (A3-4) or two or more groups selected from the group. A 3 represents a combined divalent group, and A 3 includes a divalent group represented by (A3-1) of 0 to 5 inclusive, and the divalent group represented by (A3-2). The group contains 0 or more and 2 or less, the divalent group represented by (A3-3) contains 0 or more, and the divalent group represented by (A3-4) contains 0 or 1. R A1 and R A2 in A3-2) each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group, provided that at least one of R A1 and R A2 represents a trifluoromethyl group, and A 3 represents the above (A3-2). each of R A1 and R A2 there are multiple same when) containing two divalent groups represented by It may be different even.
Y represents —O— or —NH—. na3 represents an integer of 0 or more, and na4 represents an integer of 1 to 3. However, when na3 is 2 or more, a plurality of [ —Y— (CH 2 ) na4 —] groups may be the same or different.
The divalent group represented by the general formula (A-1) is bonded to the perfluoroalkylene ether structure at the (* 1) portion, and (—X 1 ) or (—X 2 ) at the (* 2) portion. ). )
前記一般式(2)における前記pが1以上である請求項1又は請求項2に記載の表面保護膜。   The surface protective film according to claim 1, wherein the p in the general formula (2) is 1 or more. 前記一般式(2)における前記qが1以上である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の表面保護膜。   The surface protection film according to claim 1, wherein the q in the general formula (2) is 1 or more. 前記一般式(2)における前記Mで表される有機金属がチタン又はシリコンである請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の表面保護膜。   The surface protective film according to claim 1, wherein the organic metal represented by M in the general formula (2) is titanium or silicon. 前記一般式(A−1)における前記na3が1以上である請求項2〜請求項5のいずれか1項に記載の表面保護膜。   The surface protective film according to any one of claims 2 to 5, wherein the na3 in the general formula (A-1) is 1 or more.
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