JP2016039009A - Method for manufacturing conductive laminate, and conductive laminate - Google Patents
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
Description
本発明は、導電性積層体の製造方法及び導電性積層体に関する。 The present invention relates to a method for producing a conductive laminate and a conductive laminate.
金属パターンの形成方法として、銅等の金属粒子を含むインク、ペースト等の導電材料をインクジェット印刷、スクリーン印刷等により基材上に付与する工程と、導電材料を加熱して金属粒子を焼結させ、導電性を発現させる導体化工程とを含む方法が知られている。導電材料に含まれる金属粒子としては、金属の酸化を抑制して保存性を高めるために表面に被覆材としての有機物を付着させたものが知られている。 As a method for forming a metal pattern, a step of applying a conductive material such as ink or paste containing metal particles such as copper onto a substrate by ink jet printing, screen printing, etc., and heating the conductive material to sinter the metal particles In addition, a method including a conductor-forming step for developing conductivity is known. As the metal particles contained in the conductive material, those in which an organic substance as a coating material is attached to the surface in order to suppress the oxidation of the metal and enhance the storage stability are known.
特許文献1には、アルキルアミンで被覆された銅粒子及びその製造方法が記載されている。特許文献1に記載の方法は、シュウ酸銅等の銅前駆体とヒドラジン等の還元性化合物とを混合して複合化合物を得る工程と、前記複合化合物をアルキルアミンの存在下で加熱する工程とを有している。この方法により得られる銅粒子は、被覆材としてのアルキルアミンの種類を適切に選択することによって、大気中でも長期保存が可能であり、かつ300℃以下の加熱で良好な導電性を示すと報告されている。前記アルキルアミンとしては、炭素数が12以上のアルキルアミンが好ましいとされている。 Patent Document 1 describes a copper particle coated with an alkylamine and a method for producing the same. The method described in Patent Document 1 includes a step of mixing a copper precursor such as copper oxalate with a reducing compound such as hydrazine to obtain a composite compound, and a step of heating the composite compound in the presence of an alkylamine. have. It is reported that the copper particles obtained by this method can be stored for a long period of time in the air by appropriately selecting the type of alkylamine as a coating material and show good conductivity when heated at 300 ° C. or lower. ing. The alkylamine is preferably an alkylamine having 12 or more carbon atoms.
また、一般的に、導電材料は、バインダー樹脂となる樹脂成分を有機溶媒に溶解して得られるビヒクル組成物中に、導電性粒子を分散させることによって製造される。
特許文献2には、導電性金属粉末、有機ビヒクル等を含む導電性ペースト組成物が記載されている。有機バインダー除去を目的に、通常、250℃〜330℃、空気雰囲気、窒素雰囲気等で熱処理を施して有機ビヒクルを燃焼させた後、金属粉末が参加されないように中性又は還元雰囲気で850℃〜1300℃で焼結することが記載されている。
特許文献3には、酸化銅を含む銅系粒子堆積層を、リン又は窒素を含有する有機化合物及びギ酸をともに含む処理ガス中、120℃以上140℃以下で処理する金属銅膜の製造方法が記載されている。
In general, the conductive material is produced by dispersing conductive particles in a vehicle composition obtained by dissolving a resin component serving as a binder resin in an organic solvent.
Patent Document 2 describes a conductive paste composition containing a conductive metal powder, an organic vehicle, and the like. For the purpose of removing the organic binder, heat treatment is usually performed at 250 ° C. to 330 ° C. in an air atmosphere, nitrogen atmosphere, etc., and the organic vehicle is burned, and then in a neutral or reducing atmosphere so that the metal powder does not participate, Sintering at 1300 ° C. is described.
Patent Document 3 discloses a method for producing a metallic copper film in which a copper-based particle deposition layer containing copper oxide is treated at 120 ° C. or more and 140 ° C. or less in a treatment gas containing both an organic compound containing phosphorus or nitrogen and formic acid. Have been described.
有機ビヒクルは樹脂成分を含むため、焼結後の導電材料の基材との密着性を向上することができる。しかしながら、樹脂成分を除去するためには上述のように高温での加熱処理が必要であるため、耐熱性の低い基材に金属パターンを形成することは難しい。
また、酸化銅堆積層を処理ガス雰囲気下で処理する方法では、導体化工程を実施する際に処理ガスを導入する必要があり、工程が煩雑である。更に、基材との密着性を向上する方法としては、接着性の下地層を形成した後に金属粒子含有層を形成する方法等が知られている。しかしながら、このような工程数が増加して複雑になり、製造効率が低いという問題もある。
Since the organic vehicle contains a resin component, the adhesion of the conductive material after sintering to the base material can be improved. However, in order to remove the resin component, heat treatment at a high temperature is necessary as described above, and it is difficult to form a metal pattern on a substrate having low heat resistance.
Moreover, in the method of processing a copper oxide deposition layer in a processing gas atmosphere, it is necessary to introduce a processing gas when performing the conductor process, and the process is complicated. Furthermore, as a method for improving the adhesion to the substrate, a method of forming a metal particle-containing layer after forming an adhesive base layer is known. However, there is a problem that the number of steps increases and becomes complicated, and the production efficiency is low.
本発明は上記課題に鑑み、低温での導体化と基材との密着性とを両立することが可能な導電性積層体の製造方法及び導電性積層体を提供することを目的とする。また、基材との密着性に優れる導電性積層体を提供することを目的とする。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a method for producing a conductive laminate and a conductive laminate capable of achieving both low-temperature conductorization and adhesion to a substrate. Moreover, it aims at providing the electroconductive laminated body which is excellent in adhesiveness with a base material.
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
<1> 基材上に、銅を含有するコア粒子と、前記コア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有する銅含有粒子及び分散媒を含む導電材料を付与して導電材料含有層を形成する工程と、
前記導電材料含有層を、前記基材のガラス転移点に対して−40℃〜+40℃の範囲内の温度で熱処理して銅層を形成する工程と、
を含む導電性積層体の製造方法。
Means for solving the above problems are as follows.
<1> A copper-containing core particle containing copper and an organic substance containing a substance derived from an alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particle on a base material Providing a conductive material containing particles and a dispersion medium to form a conductive material-containing layer;
A step of heat-treating the conductive material-containing layer at a temperature within a range of −40 ° C. to + 40 ° C. with respect to the glass transition point of the base material to form a copper layer;
The manufacturing method of the electroconductive laminated body containing this.
<2> 前記熱処理の温度が100℃〜200℃である<1>に記載の導電性積層体の製造方法。
<3> 前記基材が熱可塑性樹脂を含む<1>又は<2>に記載の導電性積層体の製造方法。
<4> <1>〜<3>のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法により得られる導電性積層体。
<2> The method for producing a conductive laminate according to <1>, wherein the temperature of the heat treatment is 100 ° C to 200 ° C.
<3> The method for producing a conductive laminate according to <1> or <2>, wherein the base material contains a thermoplastic resin.
<4> A conductive laminate obtained by the method for producing a conductive laminate according to any one of <1> to <3>.
<5> 基材と、
前記基材上に、銅を含有するコア粒子と、前記コア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有する銅含有粒子及び分散媒を含む導電材料の焼結物からなり、少なくとも一部が前記基材に融着している導体と、
を有する導電性積層体。
<5> a base material;
Copper-containing particles having, on the base material, copper-containing core particles, and an organic substance containing a substance derived from alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particles, and A conductor made of a sintered material of a conductive material containing a dispersion medium, and at least a part of the conductor fused to the substrate;
A conductive laminate comprising:
本発明によれば、低温での導体化と基材との密着性とを両立することが可能な導電性積層体の製造方法及び導電性積層体を提供することができる。また、基材との密着性に優れる導電性積層体を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of an electroconductive laminated body and electroconductive laminated body which can be made compatible with low temperature conductorization and adhesiveness with a base material can be provided. Moreover, the electroconductive laminated body which is excellent in adhesiveness with a base material can be provided.
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。さらに本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。 In the present specification, a numerical range indicated using “to” indicates a range including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively. Further, in the present specification, the content of each component in the composition is the total amount of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific notice when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition. Means.
本明細書において「室温」とは、25℃を意味する。 In this specification, “room temperature” means 25 ° C.
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。 In this specification, the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended purpose of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. .
本明細書において「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構成に加え、一部に形成されている形状の構成も包含される。
本明細書において「積層体」との語は、層を積み重ねることを示し、二以上の層が結合されていてもよく、二以上の層が着脱可能であってもよい。
In this specification, the term “layer” includes a configuration formed in a part in addition to a configuration formed in the entire surface when observed as a plan view.
In this specification, the term “laminated body” indicates that layers are stacked, and two or more layers may be bonded, or two or more layers may be detachable.
本明細書において「基材のガラス転移点」との語は、基材の相形態が変化する温度のことを指す。ガラス転移点は、示差走査熱量測定(DSC)により測定される。 In the present specification, the term “glass transition point of the substrate” refers to a temperature at which the phase morphology of the substrate changes. The glass transition point is measured by differential scanning calorimetry (DSC).
本明細書において「導体化」との語は、金属含有粒子を焼結させて導電性を有する物体に変化させることをいう。「導体」とは、導電性を有する物体をいう。 In the present specification, the term “conducting” means that the metal-containing particles are sintered to be changed into a conductive object. “Conductor” refers to an object having electrical conductivity.
[導電性積層体の製造方法]
本発明の導電性積層体の製造方法は、基材上に、銅を含有するコア粒子と、前記コア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有する銅含有粒子及び分散媒を含む導電材料を付与して導電材料含有層を形成する工程(以下、「導電材料付与工程」とも称する)と、導電材料含有層に、基材のガラス転移点に対して−40℃〜+40℃の範囲内の温度で熱処理して銅層を形成する工程(以下、「熱処理工程」とも称する)と、を含む。
本発明の導電性積層体の製造方法は、必要に応じて、その他の工程を含んでいてもよい。
[Method for producing conductive laminate]
The method for producing a conductive laminate of the present invention includes a core particle containing copper on a base material, and a substance derived from an alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particle. A step of forming a conductive material-containing layer by applying a conductive material containing copper-containing particles and a dispersion medium (hereinafter also referred to as a “conductive material application step”), and a conductive material-containing layer. And a step of forming a copper layer by heat treatment at a temperature in the range of −40 ° C. to + 40 ° C. with respect to the glass transition point of the material (hereinafter also referred to as “heat treatment step”).
The manufacturing method of the electroconductive laminated body of this invention may include the other process as needed.
本発明の導電性積層体の製造方法は、上記構成を採ることにより、銅粒子を低温で且つ簡略な工程で導体化して銅層を得ることができる。これにより、耐熱性が比較的低い基材上にも銅層を形成可能となり、且つ基材との密着性を向上することが可能となる。
その理由は以下のように推察される。
有機物被覆を有する金属粒子は大気中で保存しても酸化が抑制されるという利点を有する一方、導電材料を焼結させる際には導体化の妨げとなる有機物被覆を熱分解して除去するために加熱する必要がある。本発明における銅含有粒子は、銅を含有するコア粒子と、このコア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有することにより、銅含有粒子の酸化を抑制することができ、更に、本発明における有機物を構成するアルキルアミンの分子量が比較的小さいために、比較的低い温度でも熱分解し易く充分に除去されると考えられる。そのため、銅含有粒子の導体化及び有機物の除去が低温でも可能となると考えられる。
また、基材のガラス転移点に近い温度で熱処理を行うことにより、基材表面が溶けて、基材上の銅層との密着性が向上できると推察される。
その結果、低温での導体化と基材との密着性との両立が可能となると考えられる。
The manufacturing method of the electroconductive laminated body of this invention can make a copper layer a conductor at a low temperature and a simple process by taking the said structure, and can obtain a copper layer. As a result, a copper layer can be formed on a substrate having relatively low heat resistance, and adhesion with the substrate can be improved.
The reason is guessed as follows.
While metal particles with organic coatings have the advantage that oxidation is suppressed even when stored in the atmosphere, when conducting conductive materials are sintered, the organic coating that hinders conductorization is removed by thermal decomposition. Need to be heated. The copper-containing particles in the present invention have core particles containing copper, and an organic substance containing a substance derived from an alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particles. It is considered that the oxidation of the copper-containing particles can be suppressed, and further, since the molecular weight of the alkylamine constituting the organic substance in the present invention is relatively small, it is easily decomposed easily even at a relatively low temperature. . Therefore, it is considered that the copper-containing particles can be made conductive and organic substances can be removed even at low temperatures.
Moreover, it is guessed that by performing heat treatment at a temperature close to the glass transition point of the base material, the surface of the base material is melted and adhesion with the copper layer on the base material can be improved.
As a result, it is considered that both low-temperature conductorization and adhesion to the substrate can be achieved.
<導電材料付与工程>
導電材料付与工程では、基材上に、銅を含有するコア粒子と、前記コア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有する銅含有粒子及び分散媒を含む導電材料を付与して導電材料含有層を形成する。
<Conductive material application process>
In the conductive material application step, on the base material, core particles containing copper, and an organic substance containing a substance derived from an alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particles, A conductive material-containing layer is formed by applying a conductive material containing copper-containing particles and a dispersion medium.
(導電材料の付与方法)
導電材料を基材上に付与して導電材料含有層を形成する方法は、導電材料含有層を基材上の任意の場所に任意の形状で形成可能な手法であれば特に制限はない。このような手法として、インクジェット法、スーパーインクジェット法、スクリーン印刷法、転写印刷法、オフセット印刷法、ジェットプリンティング印刷法、ディスペンサ法、ジェットディスペンサ法、ニードルディスペンサ法、カンマコータ法、スリットコータ法、ダイコータ法、グラビアコータ法、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法、ソフトリソグラフ法、ディップペンリソグラフ法、粒子堆積法、スプレーコータ法、スピンコータ法、ディップコータ法、電着塗装法等を挙げることができる。中でも、インクジェット法、スーパーインクジェット法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ジェットプリンティング法、ディスペンサ法、ニードルディスペンサ法、カンマコータ法、スリットコータ法、ダイコータ法及びグラビアコータ法からなる群より選択される少なくとも1種の方法であることが好ましい。
例えば、ペースト状の導電材料をスクリーン印刷法により基材上に付与してもよく、インク状の導電材料をインクジェット印刷法により基材上に付与してもよい。
(Method for applying conductive material)
The method for forming the conductive material-containing layer by applying the conductive material on the substrate is not particularly limited as long as the conductive material-containing layer can be formed in any shape at any location on the substrate. Examples of such methods include inkjet methods, super inkjet methods, screen printing methods, transfer printing methods, offset printing methods, jet printing printing methods, dispenser methods, jet dispenser methods, needle dispenser methods, comma coater methods, slit coater methods, and die coater methods. , Gravure coater method, letterpress printing method, intaglio printing method, gravure printing method, soft lithographic method, dip pen lithographic method, particle deposition method, spray coater method, spin coater method, dip coater method, electrodeposition coating method, etc. it can. Among these, at least one selected from the group consisting of an inkjet method, a super inkjet method, a screen printing method, an offset printing method, a jet printing method, a dispenser method, a needle dispenser method, a comma coater method, a slit coater method, a die coater method, and a gravure coater method. A seed method is preferred.
For example, a paste-like conductive material may be applied to the substrate by a screen printing method, and an ink-like conductive material may be applied to the substrate by an inkjet printing method.
(導電材料含有層の特性)
基材上に形成される導電材料含有層の形状は特に制限されず、目的に応じて適宜選択することができる。
また、導電材料含有層の厚みは特に制限されず、目的に応じて適宜選択することができる。例えば0.2μm〜50μmとすることができ、導電性及び接続信頼性の観点から0.8μm〜20μmであることが好ましい。
(Characteristics of conductive material containing layer)
The shape of the conductive material-containing layer formed on the substrate is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
Further, the thickness of the conductive material-containing layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the thickness may be 0.2 μm to 50 μm, and is preferably 0.8 μm to 20 μm from the viewpoint of conductivity and connection reliability.
(基材)
基材の材質は特に制限されず、導電性を有していても有していなくてもよい。例えば、ITO、ZnO、SnO、Si等の半導体、ガラス、黒鉛、グラファイト等のカーボン材料、樹脂などを挙げることができる。
(Base material)
The material of the base material is not particularly limited, and may or may not have conductivity. Examples thereof include semiconductors such as ITO, ZnO, SnO, and Si, carbon materials such as glass, graphite, and graphite, and resins.
本発明の導電性積層体の製造方法は、特に、耐熱性が比較的低い材質からなる支持体に好適に適用することができる。このような材質としては、熱可塑性樹脂が好ましく、低温での導体化の観点から、ガラス転移点が50℃〜200℃である熱可塑性樹脂がより好ましく、ガラス転移点が90℃〜190℃である熱可塑性樹脂が更に好ましい。
基材中の熱可塑性樹脂の含有率は、50質量%以上であることが好ましい。
The method for producing a conductive laminate of the present invention can be suitably applied particularly to a support made of a material having relatively low heat resistance. As such a material, a thermoplastic resin is preferable, and from the viewpoint of making a conductor at low temperature, a thermoplastic resin having a glass transition point of 50 ° C to 200 ° C is more preferable, and a glass transition point is 90 ° C to 190 ° C. Certain thermoplastic resins are more preferred.
The content of the thermoplastic resin in the substrate is preferably 50% by mass or more.
熱可塑性樹脂としては、ポリエチレンナフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ABS、ポリメタクリル酸メチル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアクリロニトリル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等が好ましい。基材の形状は特に制限されず、板状、棒状、ロール状等であってよい。 As the thermoplastic resin, polyethylene naphthalate, polyvinyl chloride, polystyrene, ABS, polymethyl methacrylate, polyamide, polycarbonate, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polytetrafluoroethylene, polyacrylonitrile, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate and the like are preferable. . The shape of the substrate is not particularly limited, and may be a plate shape, a rod shape, a roll shape, or the like.
(導電材料)
本発明の導電性積層体の製造方法において使用される導電材料は、銅を含有するコア粒子と、このコア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有する銅含有粒子及び分散媒を含み、必要に応じてその他の成分を含んでいてよい。
(Conductive material)
The conductive material used in the method for producing a conductive laminate of the present invention is derived from a core particle containing copper and an alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particle. An organic substance containing a substance and a copper-containing particle having a dispersion medium and a dispersion medium, and may contain other components as necessary.
本発明における導電材料は、形状が制御された銅含有粒子を含むため、粒子自体の分散性に優れている。このため、導電材料のチキソトロピー性、保存安定性等の特性を分散剤等の添加によらずに制御することができる。その結果、導体化を妨げる要因となる添加剤の量を低減でき、より低温での導体化を実現することが可能となる。本発明において「導体化」とは、導電材料中に含まれる銅含有粒子が焼結して得られる焼結物の抵抗率が300μΩcm以下となることを意味する。 Since the conductive material in the present invention includes copper-containing particles whose shape is controlled, the particles themselves are excellent in dispersibility. Therefore, characteristics such as thixotropy and storage stability of the conductive material can be controlled without adding a dispersant or the like. As a result, it is possible to reduce the amount of the additive that hinders conductorization, and to realize conductor formation at a lower temperature. In the present invention, “conducting” means that the resistivity of the sintered product obtained by sintering the copper-containing particles contained in the conductive material is 300 μΩcm or less.
本発明の導電材料の状態は特に制限されず、用途に応じて選択できる。例えば、導電材料をスクリーン印刷法に適用する場合は、粘度が0.1Pa・s〜30Pa・sであることが好ましく、1Pa・s〜30Pa・sであることがより好ましい。導電材料をインクジェット印刷法に適用する場合は、粘度が0.1mPa・s〜30mPa・sであることが好ましく、5mPa・s〜20mPa・sであることがより好ましい。 The state of the conductive material of the present invention is not particularly limited and can be selected according to the application. For example, when the conductive material is applied to the screen printing method, the viscosity is preferably 0.1 Pa · s to 30 Pa · s, and more preferably 1 Pa · s to 30 Pa · s. When the conductive material is applied to the ink jet printing method, the viscosity is preferably 0.1 mPa · s to 30 mPa · s, and more preferably 5 mPa · s to 20 mPa · s.
−銅含有粒子−
本発明における銅含有粒子は、銅を含有するコア粒子と、このコア粒子の表面の少なくとも一部に存在するアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有し、アルキルアミンは炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミン(以下、特定アルキルアミンともいう)を含む。有機物及びアルキルアミンの存在は、例えば、窒素雰囲気中で前記有機物又はアルキルアミンが熱分解する温度以上の温度で銅含有粒子を加熱し、加熱前後の銅含有粒子の質量を比較することで確認することができる。
-Copper-containing particles-
The copper-containing particles in the present invention have core particles containing copper and organic substances containing a substance derived from alkylamine present on at least a part of the surface of the core particles, and the alkylamine is a hydrocarbon group. An alkylamine having 7 or less carbon atoms (hereinafter also referred to as a specific alkylamine) is included. Presence of the organic substance and alkylamine is confirmed by, for example, heating the copper-containing particles at a temperature equal to or higher than the temperature at which the organic substance or alkylamine is thermally decomposed in a nitrogen atmosphere, and comparing the mass of the copper-containing particles before and after heating. be able to.
本発明における銅含有粒子は、銅を含有するコア粒子の表面の少なくとも一部にアルキルアミンに由来する物質を含む有機物を有することにより、耐酸化性に優れる。さらに、本発明における銅含有粒子は、低温(例えば、150℃以下)で導体化することができる。これは、有機物を構成するアルキルアミンの分子量が比較的小さいために、比較的低い温度でも熱分解しやすいためと考えられる。 The copper containing particle | grains in this invention are excellent in oxidation resistance by having the organic substance containing the substance derived from an alkylamine in at least one part of the surface of the core particle containing copper. Furthermore, the copper containing particle | grains in this invention can be conductorized at low temperature (for example, 150 degrees C or less). This is presumably because the alkylamine constituting the organic substance has a relatively small molecular weight, and thus is easily thermally decomposed even at a relatively low temperature.
(特定アルキルアミン)
本発明において、特定アルキルアミンはRNH2(Rは炭素数が7以下の炭化水素基であり、環状又は分岐状であってもよい)で表される1級アミン、R1R2NH(R1及びR2は同じであっても異なっていてもよい炭化水素基であり、環状又は分岐状であってもよく、合計の炭素数が7以下である)で表される2級アミン、炭素数が7以下の炭化水素鎖に2つのアミノ基が結合したジアミンを意味する。特定アルキルアミンは、1つ以上の二重結合を有していてもよく、酸素、ケイ素、窒素、イオウ、リン等の原子を有していてもよい。特定アルキルアミンは、1種のみであっても2種以上であってもよい。
(Specific alkylamine)
In the present invention, the specific alkylamine is a primary amine represented by RNH 2 (R is a hydrocarbon group having 7 or less carbon atoms, and may be cyclic or branched), R 1 R 2 NH (R 1 and R 2 are hydrocarbon groups which may be the same or different, and may be cyclic or branched, and the total number of carbon atoms is 7 or less. It means a diamine in which two amino groups are bonded to a hydrocarbon chain having a number of 7 or less. The specific alkylamine may have one or more double bonds, and may have atoms such as oxygen, silicon, nitrogen, sulfur, and phosphorus. The specific alkylamine may be one kind or two or more kinds.
特定アルキルアミンの炭素数が7を超えていると、導体化に必要な温度を充分に低くできない場合がある。耐酸化性と低温での導体化をより有効に両立させる観点からは、特定アルキルアミンの炭素数は7以下であることが好ましく、6以下であることがより好ましい。特定アルキルアミンの炭素数は4以上であることが好ましく、4〜6であることがより好ましい。 If the number of carbon atoms of the specific alkylamine exceeds 7, the temperature required for conductorization may not be sufficiently lowered. From the viewpoint of more effectively achieving both oxidation resistance and conductorization at low temperature, the carbon number of the specific alkylamine is preferably 7 or less, and more preferably 6 or less. The number of carbon atoms of the specific alkylamine is preferably 4 or more, more preferably 4-6.
炭素数が7以下である1級アミンとして具体的には、エチルアミン、2−エトキシエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ペンチルアミン、イソペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン等を挙げることができる。 Specific examples of primary amines having 7 or less carbon atoms include ethylamine, 2-ethoxyethylamine, propylamine, butylamine, isobutylamine, pentylamine, isopentylamine, hexylamine, cyclohexylamine, heptylamine and the like. Can do.
炭素数が7以下である2級アミンとして具体的には、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、エチルプロピルアミン、エチルペンチルアミン等を挙げることができる。 Specific examples of the secondary amine having 7 or less carbon atoms include diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, ethylpropylamine, and ethylpentylamine.
炭素数が7以下であるアルキルジアミンとして具体的には、エチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N’−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N−ジエチル−1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノ−2−メチルペンタン、1,6−ジアミノへキサン、N,N’−ジメチル−1,6−ジアミノへキサン、1,7−ジアミノヘプタン等を挙げることができる。 Specific examples of the alkyldiamine having 7 or less carbon atoms include ethylenediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N′-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N′-diethylethylenediamine, 1,3 -Propanediamine, 2,2-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-dimethyl-1,3-diaminopropane, N, N'-dimethyl-1,3-diaminopropane, N, N-diethyl- 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diamino-2-methylpentane, 1,6-diaminohexane, N, N′-dimethyl-1,6-diaminohexane, 1, Examples thereof include 7-diaminoheptane.
銅を含有するコア粒子の表面の少なくとも一部に存在する有機物は、特定アルキルアミン以外のアルキルアミンに由来する物質を含んでいてもよい。特定アルキルアミン以外のアルキルアミンとしては、炭素数が8以上である1級アミン、2級アミン及びアルキルジアミン等を挙げることができる。特定アルキルアミン以外のアルキルアミンは、炭化水素基が環状又は分岐状であってもよく、1個以上の二重結合を有していてもよく、酸素、ケイ素、窒素、イオウ、リン等の原子を有していてもよい。特定アルキルアミン以外のアルキルアミンは、1種のみであっても2種以上であってもよい。 The organic substance present on at least part of the surface of the core particle containing copper may contain a substance derived from an alkylamine other than the specific alkylamine. Examples of alkylamines other than the specific alkylamine include primary amines, secondary amines and alkyldiamines having 8 or more carbon atoms. In the alkylamine other than the specific alkylamine, the hydrocarbon group may be cyclic or branched, and may have one or more double bonds, and atoms such as oxygen, silicon, nitrogen, sulfur, phosphorus, etc. You may have. Only one type of alkylamine other than the specific alkylamine may be used, or two or more types may be used.
炭素数が8以上である1級アミンとしては、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オレイルアミン等を挙げることができる。 Examples of the primary amine having 8 or more carbon atoms include octylamine, nonylamine, decylamine, dodecylamine, hexadecylamine, and oleylamine.
炭素数が8以上である2級アミンとしては、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン等を挙げることができる。 Examples of the secondary amine having 8 or more carbon atoms include dibutylamine, dipentylamine, and dihexylamine.
炭素数が8以上であるアルキルジアミンとして具体的には、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、1,12−ジアミノドデカン等を挙げることができる。 Specific examples of the alkyldiamine having 8 or more carbon atoms include 1,8-diaminooctane, 1,9-diaminononane, 1,12-diaminododecane and the like.
銅を含有するコア粒子の表面の少なくとも一部に存在する有機物が特定アルキルアミン以外のアルキルアミンに由来する物質を含む場合、特定アルキルアミンに由来する物質の有機物全体における割合は50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。 When the organic substance present on at least a part of the surface of the core particle containing copper contains a substance derived from an alkylamine other than the specific alkylamine, the ratio of the substance derived from the specific alkylamine in the total organic substance is 50% by mass or more. Preferably, it is 60% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
銅を含有するコア粒子の表面の少なくとも一部に存在する有機物は、その割合が銅を含有するコア粒子及び有機物の合計に対して0.1質量%〜20質量%であることが好ましい。特定有機物の割合が0.1質量%以上であると、充分な耐酸化性が得られる傾向にある。有機物の割合が20質量%以下であると、低温での導体化が容易に達成される傾向にある。銅を含有するコア粒子及び有機物の合計に対する有機物の割合は0.3質量%以上であることがより好ましく、0.5質量%以上であることが更に好ましい。また、銅を含有するコア粒子及び有機物の合計に対する有機物の割合は10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましく、3質量%以下であることが特に好ましい。 It is preferable that the organic substance which exists in at least one part of the surface of the core particle containing copper is 0.1-20 mass% with respect to the sum total of the core particle and organic substance containing copper. When the ratio of the specific organic substance is 0.1% by mass or more, sufficient oxidation resistance tends to be obtained. When the proportion of the organic substance is 20% by mass or less, conductorization at a low temperature tends to be easily achieved. The ratio of the organic substance to the total of the core particles containing copper and the organic substance is more preferably 0.3% by mass or more, and further preferably 0.5% by mass or more. Further, the ratio of the organic substance to the total of the core particles containing copper and the organic substance is more preferably 10% by mass or less, further preferably 5% by mass or less, and particularly preferably 3% by mass or less.
本発明における銅含有粒子の大きさは特に制限されず、用途に応じて選択することができる。銅含有粒子を後述する方法によって製造する場合は、一般に無作為に選択される200個の銅含有粒子の長軸の長さの中央径が10nm〜500nmの範囲内である。導体化温度を低くする観点からは、無作為に選択される200個の銅含有粒子の長軸の長さの中央地が10nm〜300nmであることが好ましく、10nm〜200nmであることがより好ましい。 The size of the copper-containing particles in the present invention is not particularly limited and can be selected according to the application. When manufacturing a copper containing particle | grain by the method mentioned later, the median diameter of the length of the major axis of 200 copper containing particles generally selected at random is in the range of 10 nm-500 nm. From the viewpoint of lowering the conductorization temperature, the center of the long axis length of 200 randomly selected copper-containing particles is preferably 10 nm to 300 nm, and more preferably 10 nm to 200 nm. .
本発明において長軸の長さとは、粒子に外接し、互いに平行である二平面の間の距離が最大となるように選ばれる二平面間の距離を意味する。本発明において長軸の長さの中央値とは、200個の銅含有粒子の長軸の長さの値を小さい順に並べたときに中央に位置する2つの値(100番目及び101番目)の算術平均値を意味する。銅含有粒子の長軸の長さは、電子顕微鏡による観察等の通常の方法によって測定できる。 In the present invention, the length of the major axis means the distance between two planes selected so that the distance between the two planes circumscribing the particle and parallel to each other is maximized. In the present invention, the median value of the length of the major axis is the two values (100th and 101st) located at the center when the major axis length values of 200 copper-containing particles are arranged in ascending order. Means the arithmetic mean. The length of the major axis of the copper-containing particles can be measured by a usual method such as observation with an electron microscope.
本発明における銅含有粒子の形状は特に制限されない。例えば、球状、長粒状、扁平状、繊維状等を挙げることができ、銅含有粒子の用途に合わせて選択できる。印刷用ペーストの観点からは、球状又は長粒状であることが好ましい。 The shape of the copper-containing particles in the present invention is not particularly limited. For example, a spherical shape, a long granular shape, a flat shape, a fibrous shape, and the like can be given, and can be selected according to the use of the copper-containing particles. From the viewpoint of the printing paste, it is preferably spherical or long granular.
本発明における銅含有粒子は、少なくとも金属銅を含み、必要に応じてその他の物質を含んでもよい。銅以外の物質としては、金、銀、白金、錫、ニッケル等の金属又はこれらの金属元素を含む化合物、後述する脂肪酸銅、還元性化合物又はアルキルアミンに由来する有機物、酸化銅、塩化銅等を挙げることができる。導電性にすぐれる銅パターンを形成する観点からは、銅含有粒子中の金属銅の含有率は70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、85質量%以上であることがさらに好ましい。 The copper-containing particles in the present invention contain at least metallic copper, and may contain other substances as necessary. Examples of substances other than copper include metals such as gold, silver, platinum, tin, and nickel, or compounds containing these metal elements, fatty acid copper described later, organic compounds derived from reducing compounds or alkylamines, copper oxide, copper chloride, etc. Can be mentioned. From the viewpoint of forming a copper pattern with excellent conductivity, the content of copper metal in the copper-containing particles is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and 85% by mass or more. More preferably.
本発明における銅含有粒子は、表面の少なくとも一部に有機物が存在しているために酸化が抑制されており、酸化物の含有率が小さい。例えば、ある実施態様では、銅含有粒子中の酸化物の含有率が5質量%以下であり、別の実施態様では、コア粒子中の酸化物の含有率が1質量%以下である。コア粒子中の酸化物の含有率は、例えばXRDによって測定することができる。 In the copper-containing particles of the present invention, oxidation is suppressed because organic substances are present on at least a part of the surface, and the oxide content is small. For example, in one embodiment, the content of oxide in the copper-containing particles is 5% by mass or less, and in another embodiment, the content of oxide in the core particles is 1% by mass or less. The content rate of the oxide in a core particle can be measured by XRD, for example.
−銅含有粒子の製造方法−
本発明における銅含有粒子を製造する方法は特に制限されない。例えば、炭素数が9以下である脂肪酸と銅との金属塩と、還元性化合物と、炭素数が7以下であるアルキルアミンを含むアルキルアミンと、を含む組成物を加熱する工程を有する方法によって本発明の銅含有粒子を製造することができる。
-Method for producing copper-containing particles-
The method for producing the copper-containing particles in the present invention is not particularly limited. For example, by a method having a step of heating a composition containing a metal salt of a fatty acid having a carbon number of 9 or less and copper, a reducing compound, and an alkylamine containing an alkylamine having a carbon number of 7 or less. The copper-containing particles of the present invention can be produced.
前記方法は、銅前駆体として、炭素数が9以下である脂肪酸と銅との金属塩を使用するものである。これにより、銅前駆体としてシュウ酸銀等を用いる特許文献1に記載の方法と比較して、より沸点の低い(すなわち、分子量の小さい)アルキルアミンを反応媒として使用することが可能になったと考えられる。その結果、得られる銅含有粒子の表面に存在する有機物がより熱分解しやすいものとなり、導体化を低温で実施することが可能になったと考えられる。 The method uses a metal salt of fatty acid and copper having 9 or less carbon atoms as a copper precursor. As a result, compared to the method described in Patent Document 1 using silver oxalate or the like as a copper precursor, it became possible to use an alkylamine having a lower boiling point (that is, a lower molecular weight) as a reaction medium. Conceivable. As a result, it is considered that the organic matter present on the surface of the obtained copper-containing particles is more easily thermally decomposed, and the conductorization can be performed at a low temperature.
−脂肪酸−
前記方法に使用される脂肪酸は、RCOOHで表される1価のカルボン酸(Rは鎖状の炭化水素基であり、直鎖状であっても分岐を有していてもよい)である。本発明で使用される脂肪酸は、飽和脂肪酸又は不飽和脂肪酸のいずれであってもよい。粒子の被覆率を向上して酸化を防止する観点からは、直鎖状の飽和脂肪酸が好ましい。脂肪酸は1種のみでも、2種以上であってもよい。
-Fatty acid-
The fatty acid used in the above method is a monovalent carboxylic acid represented by RCOOH (R is a chain hydrocarbon group, which may be linear or branched). The fatty acid used in the present invention may be either a saturated fatty acid or an unsaturated fatty acid. From the viewpoint of improving the particle coverage and preventing oxidation, linear saturated fatty acids are preferred. Only one type or two or more types of fatty acids may be used.
導体化温度を低くする観点からは、前記脂肪酸の炭素数が9以下であることが好ましい。炭素数が9以下である飽和脂肪酸としては、酢酸(炭素数2)、プロピオン酸(炭素数3)、酪酸及びイソ酪酸(炭素数4)、吉草酸及びイソ吉草酸(炭素数5)、カプロン酸(炭素数6)、エナント酸及びイソエナント酸(炭素数7)、カプリル酸及びイソカプリル酸及びイソカプロン酸(炭素数8)、ノナン酸及びイソノナン酸(炭素数9)などを挙げることができる。炭素数が9以下である不飽和脂肪酸としては、上記の飽和脂肪酸の炭化水素基中に1つ以上の二重結合を有するものを挙げることができる。 From the viewpoint of lowering the conductorization temperature, the fatty acid preferably has 9 or less carbon atoms. Examples of saturated fatty acids having 9 or less carbon atoms include acetic acid (2 carbon atoms), propionic acid (3 carbon atoms), butyric acid and isobutyric acid (4 carbon atoms), valeric acid and isovaleric acid (5 carbon atoms), capron Examples include acids (carbon number 6), enanthic acid and isoenanthic acid (carbon number 7), caprylic acid, isocaprylic acid and isocaproic acid (carbon number 8), nonanoic acid and isononanoic acid (carbon number 9). Examples of the unsaturated fatty acid having 9 or less carbon atoms include those having one or more double bonds in the hydrocarbon group of the saturated fatty acid.
本発明における銅含有粒子の製造に使用される脂肪酸の種類は、得られる銅含有粒子の分散媒への分散性、焼結性等の性質に影響しうる。このため、銅含有粒子の用途に応じて脂肪酸の種類を選択することが好ましい。粒子径の均一化の観点からは、炭素数が9以下である脂肪酸と、炭素数が4以下である脂肪酸とを併用することが好ましい。例えば、炭素数が9であるノナン酸と、炭素数が2である酢酸とを併用することが好ましい。炭素数が9以下である脂肪酸と炭素数が4以下である脂肪酸とを併用する場合の比率は、特に制限されない。 The type of fatty acid used in the production of the copper-containing particles in the present invention can affect properties such as dispersibility of the obtained copper-containing particles in a dispersion medium and sinterability. For this reason, it is preferable to select the kind of fatty acid according to the use of copper-containing particles. From the viewpoint of uniforming the particle diameter, it is preferable to use a fatty acid having 9 or less carbon atoms and a fatty acid having 4 or less carbon atoms in combination. For example, nonanoic acid having 9 carbon atoms and acetic acid having 2 carbon atoms are preferably used in combination. The ratio in particular when using together the fatty acid having 9 or less carbon atoms and the fatty acid having 4 or less carbon atoms is not limited.
炭素数が9以下である脂肪酸と銅との塩化合物(脂肪酸銅)を得る方法は特に制限されない。例えば、水酸化銅と脂肪酸とを溶媒中で混合することで得てもよく、市販されている脂肪酸銅を用いてもよい。あるいは、水酸化銅、脂肪酸及び還元性化合物を溶媒中で混合することで、脂肪酸銅の生成と、脂肪酸銅と還元性化合物との間で形成される錯体の生成とを同じ工程中で行ってもよい。 The method for obtaining a salt compound (fatty acid copper) of fatty acid and copper having 9 or less carbon atoms is not particularly limited. For example, it may be obtained by mixing copper hydroxide and a fatty acid in a solvent, or commercially available fatty acid copper may be used. Alternatively, by mixing copper hydroxide, a fatty acid and a reducing compound in a solvent, the formation of fatty acid copper and the formation of a complex formed between the fatty acid copper and the reducing compound are performed in the same process. Also good.
−還元性化合物−
前記方法に使用される還元性化合物は、脂肪酸銅と混合した際に両化合物間で錯体等の複合化合物を形成すると考えられる。これにより、還元性化合物が脂肪酸銅中の銅イオンに対する電子のドナーとなり銅イオンの還元が生じやすくなり、錯体を形成していない状態の脂肪酸銅よりも自発的な熱分解による銅原子の遊離が生じやすくなると考えられる。還元性化合物は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
-Reducing compound-
The reducing compound used in the above method is considered to form a complex compound such as a complex between both compounds when mixed with fatty acid copper. As a result, the reducing compound becomes an electron donor to the copper ion in the fatty acid copper, and the reduction of the copper ion is likely to occur, and the liberation of copper atoms due to spontaneous pyrolysis than the fatty acid copper in a state where no complex is formed. This is likely to occur. A reducing compound may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
還元性化合物として具体的には、ヒドラジン、ヒドラジン誘導体、塩酸ヒドラジン、硫酸ヒドラジン、抱水ヒドラジン等のヒドラジン化合物、ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン誘導体等のヒドロキシルアミン化合物、水素化ホウ素ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム等のナトリウム化合物などを挙げることができる。 Specific examples of reducing compounds include hydrazine, hydrazine derivatives, hydrazine hydrochloride, hydrazine sulfate, hydrazine hydrate and other hydrazine compounds, hydroxylamine, hydroxylamine derivatives such as hydroxylamine compounds, sodium borohydride, sodium sulfite, hydrogen sulfite. Examples thereof include sodium compounds such as sodium, sodium thiosulfate, and sodium hypophosphite.
脂肪酸銅中の銅原子に対して配位結合を形成しやすい、脂肪酸銅の構造を維持した状態で錯体を形成しやすい等の観点からは、アミノ基を有する還元性化合物が好ましい。アミノ基を有する還元性化合物としては、ヒドラジン及びその誘導体、ヒドロキシルアミン及びその誘導体等を挙げることができる。 A reducing compound having an amino group is preferable from the viewpoints of easily forming a coordination bond to a copper atom in fatty acid copper, and easily forming a complex while maintaining the structure of fatty acid copper. Examples of the reducing compound having an amino group include hydrazine and derivatives thereof, hydroxylamine and derivatives thereof, and the like.
前記方法において脂肪酸銅、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物を加熱する工程(以下では加熱工程ともいう)における加熱温度を低くする(例えば、150℃以下)観点からは、アルキルアミンの蒸発又は分解を生じない温度範囲において銅原子の還元及び遊離を生じる錯体を形成可能な還元性化合物を選択することが好ましい。このような還元性化合物としては、ヒドラジン及びその誘導体、ヒドロキシルアミン及びその誘導体等を挙げることができる。これらの還元性化合物は、骨格を成す窒素原子が銅原子との配位結合を形成して錯体を形成可能である。また、これらの還元性化合物は一般にアルキルアミンと比較して還元力が強いため、生成した錯体が比較的穏和な条件で自発的な分解を生じ、銅原子の還元及び遊離が生じる傾向にある。 From the viewpoint of lowering the heating temperature (for example, 150 ° C. or lower) in the step of heating the composition containing fatty acid copper, the reducing compound and the alkylamine in the method (hereinafter also referred to as the heating step), the evaporation of the alkylamine or It is preferable to select a reducing compound capable of forming a complex that causes reduction and liberation of a copper atom in a temperature range that does not cause decomposition. Examples of such reducing compounds include hydrazine and its derivatives, hydroxylamine and its derivatives, and the like. These reducing compounds can form a complex by forming a coordinate bond with a copper atom by a nitrogen atom forming a skeleton. In addition, since these reducing compounds generally have a stronger reducing power than alkylamines, the resulting complexes tend to spontaneously decompose under relatively mild conditions, and tend to reduce and release copper atoms.
ヒドラジン又はヒドロキシルアミンの代わりにこれらの誘導体から好適なものを選択することで、脂肪酸銅との反応性を調節することができ、所望の条件で自発分解を生じる錯体を生成することができる。ヒドラジン誘導体としては、メチルヒドラジン、エチルヒドラジン、n−プロピルヒドラジン、イソプロピルヒドラジン、n−ブチルヒドラジン、イソブチルヒドラジン、sec−ブチルヒドラジン、t−ブチルヒドラジン、n−ペンチルヒドラジン、イソペンチルヒドラジン、neo−ペンチルヒドラジン、t−ペンチルヒドラジン、n−ヘキシルヒドラジン、イソヘキシルヒドラジン、n−ヘプチルヒドラジン、n−オクチルヒドラジン、n−ノニルヒドラジン、n−デシルヒドラジン、n−ウンデシルヒドラジン、n−ドデシルヒドラジン、シクロヘキシルヒドラジン、フェニルヒドラジン、4−メチルフェニルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、2−フェニルエチルヒドラジン、2−ヒドラジノエタノール、アセトヒドラジン等を挙げることができる。ヒドロキシルアミンの誘導体としては、N,N−ジ(スルホエチル)ヒドロキシルアミン、モノメチルヒドロキシルアミン、ジメチルヒドロキシルアミン、モノエチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジ(カルボキシエチル)ヒドロキシルアミン等を挙げることができる。 By selecting a suitable one of these derivatives instead of hydrazine or hydroxylamine, the reactivity with the fatty acid copper can be adjusted, and a complex that generates spontaneous decomposition under a desired condition can be generated. Examples of hydrazine derivatives include methyl hydrazine, ethyl hydrazine, n-propyl hydrazine, isopropyl hydrazine, n-butyl hydrazine, isobutyl hydrazine, sec-butyl hydrazine, t-butyl hydrazine, n-pentyl hydrazine, isopentyl hydrazine, and neo-pentyl hydrazine. , T-pentylhydrazine, n-hexylhydrazine, isohexylhydrazine, n-heptylhydrazine, n-octylhydrazine, n-nonylhydrazine, n-decylhydrazine, n-undecylhydrazine, n-dodecylhydrazine, cyclohexylhydrazine, phenyl Examples include hydrazine, 4-methylphenylhydrazine, benzylhydrazine, 2-phenylethylhydrazine, 2-hydrazinoethanol, and acetohydrazine. Rukoto can. Examples of hydroxylamine derivatives include N, N-di (sulfoethyl) hydroxylamine, monomethylhydroxylamine, dimethylhydroxylamine, monoethylhydroxylamine, diethylhydroxylamine, N, N-di (carboxyethyl) hydroxylamine and the like. Can do.
脂肪酸銅に含まれる銅と還元性化合物の比率は、所望の錯体が形成される条件であれば特に制限されない。例えば、前記比率(銅:還元性化合物)はモル基準で1:1〜1:4の範囲とすることができ、1:1〜1:3の範囲とすることが好ましく、1:1〜1:2の範囲とすることがより好ましい。 The ratio of the copper and the reducing compound contained in the fatty acid copper is not particularly limited as long as a desired complex is formed. For example, the ratio (copper: reducing compound) can be in the range of 1: 1 to 1: 4 on a molar basis, preferably in the range of 1: 1 to 1: 3, and 1: 1 to 1 : The range of 2 is more preferable.
−アルキルアミン−
前記方法に使用されるアルキルアミンは、脂肪酸銅と還元性化合物とから形成される錯体の分解反応の反応媒として機能すると考えられる。さらに、還元性化合物の還元作用によって生じるプロトンを捕捉し、反応溶液が酸性に傾いて銅原子が酸化されることを抑制すると考えられる。
-Alkylamine-
The alkylamine used in the above method is considered to function as a reaction medium for the decomposition reaction of the complex formed from the fatty acid copper and the reducing compound. Furthermore, it is considered that protons generated by the reducing action of the reducing compound are captured, and the reaction solution is inclined to be acidic and copper atoms are prevented from being oxidized.
アルキルアミンは、炭化水素基の炭素数が7以下であるアルキルアミン(特定アルキルアミン)の少なくとも1種を含む。これにより、耐酸化性にすぐれ、低温で導体化できる銅含有粒子を製造することができる。特定アルキルアミンは1種単独又は2種以上を併用してよく、その種類及び好ましい態様等は、本発明の銅含有粒子の表面に存在する有機物に関連して述べたものと同様である。アルキルアミンは、特定アルキルアミン以外のアルキルアミンを含んでもよく、その種類及び好ましい態様等は、本発明の銅含有粒子の表面に存在する有機物に関連して述べたものと同様である。アルキルアミンが特定アルキルアミン以外のアルキルアミンを含む場合、アルキルアミン全体に占める特定アルキルアミンの割合は50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。 The alkylamine contains at least one alkylamine (specific alkylamine) in which the hydrocarbon group has 7 or less carbon atoms. Thereby, the copper containing particle | grains which are excellent in oxidation resistance and can be made into a conductor at low temperature can be manufactured. The specific alkylamine may be used alone or in combination of two or more, and the kind and preferred embodiment thereof are the same as those described in relation to the organic substance present on the surface of the copper-containing particle of the present invention. The alkylamine may contain an alkylamine other than the specific alkylamine, and the type and preferred embodiment thereof are the same as those described in relation to the organic substance present on the surface of the copper-containing particle of the present invention. When the alkylamine contains an alkylamine other than the specific alkylamine, the proportion of the specific alkylamine in the entire alkylamine is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass or more. More preferably.
脂肪酸銅に含まれる銅とアルキルアミンの比率は、所望の銅含有粒子が得られる条件であれば特に制限されない。例えば、前記比率(銅:アルキルアミン)はモル基準で1:1〜1:8の範囲とすることができ、1:1〜1:6の範囲とすることが好ましく、1:1〜1:4の範囲とすることがより好ましい。 The ratio of copper and alkylamine contained in fatty acid copper is not particularly limited as long as desired copper-containing particles are obtained. For example, the ratio (copper: alkylamine) can be in a range of 1: 1 to 1: 8 on a molar basis, preferably in a range of 1: 1 to 1: 6, and 1: 1 to 1: A range of 4 is more preferable.
−加熱工程−
前記方法において、脂肪酸銅、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物を加熱する工程を実施するための方法は特に制限されない。例えば、脂肪酸銅と還元性化合物とを溶媒に混合した後にアルキルアミンを添加して加熱する方法、脂肪酸銅とアルキルアミンとを溶媒と混合した後にさらに還元性化合物を添加して加熱する方法、脂肪酸銅の出発物質である水酸化銅、脂肪酸、還元性化合物及びアルキルアミンを溶媒に混合して加熱する方法、脂肪酸銅とアルキルアミンとを溶媒に混合した後に還元性化合物を添加して加熱する方法等を挙げることができる。
-Heating process-
In the said method, the method in particular for implementing the process of heating the composition containing fatty-acid copper, a reducing compound, and an alkylamine is not restrict | limited. For example, a method in which fatty acid copper and a reducing compound are mixed in a solvent and then heated by adding an alkylamine, a method in which fatty acid copper and an alkylamine are mixed with a solvent, and then a method in which a reducing compound is further added and heated, a fatty acid A method of heating copper hydroxide, a fatty acid, a reducing compound, and an alkylamine, which are copper starting materials, in a solvent, a method of heating, a method of mixing a fatty acid copper and an alkylamine in a solvent, and then adding a reducing compound and heating Etc.
形状及び大きさの揃った粒子を得る観点からは、脂肪酸銅、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物は脂肪酸銅及びアルキルアミンの混合物を得る第1工程と、脂肪酸銅及びアルキルアミンの混合物に還元性化合物を添加する第2工程とを含む方法によって得ることが好ましい。この場合、脂肪酸銅とアルキルアミンとの混合物を得る第1工程と、脂肪酸銅及びアルキルアミンの混合物に還元性化合物を添加する第2工程とは同一容器内で連続して行っても、別々に行ってもよい。 From the viewpoint of obtaining particles having a uniform shape and size, the composition containing the fatty acid copper, the reducing compound and the alkylamine is a first step for obtaining a mixture of the fatty acid copper and the alkylamine, and the mixture of the fatty acid copper and the alkylamine. It is preferable to obtain by the method including the 2nd process of adding a reducing compound. In this case, the first step of obtaining a mixture of fatty acid copper and alkylamine and the second step of adding a reducing compound to the mixture of fatty acid copper and alkylamine may be performed continuously in the same container, but separately. You may go.
脂肪酸銅、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物を得る方法が脂肪酸銅及びアルキルアミンの混合物を得る第1工程と、脂肪酸銅及びアルキルアミンの混合物に還元性化合物を添加する第2工程とを含む場合、前記第1工程は0℃以上100℃以下で行うことが好ましく、10℃以上90℃以下で行うことより好ましく、25℃以上80℃以下で行うことがさらに好ましい。前記第2工程は還元反応が抑制される温度で行うことが好ましい。例えば10℃以下で行うことが好ましく、5℃以下で行うことがより好ましく、0℃以下で行うことがさらに好ましい。 A method of obtaining a composition comprising fatty acid copper, a reducing compound and an alkylamine comprises a first step of obtaining a mixture of fatty acid copper and alkylamine, and a second step of adding the reducing compound to the mixture of fatty acid copper and alkylamine. When it is included, the first step is preferably performed at 0 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably performed at 10 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, and further preferably performed at 25 ° C. or higher and 80 ° C. or lower. The second step is preferably performed at a temperature at which the reduction reaction is suppressed. For example, it is preferably performed at 10 ° C. or less, more preferably 5 ° C. or less, and further preferably 0 ° C. or less.
脂肪酸銅、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物の加熱は、脂肪酸銅と還元性化合物とから形成される錯体が分解する温度で行われる。例えば、前記加熱は150℃以下で行うことが好ましく、130℃以下で行うことがより好ましく、100℃以下で行うことが更に好ましい。前記方法では、銅前駆体として特定の脂肪酸銅を用いることにより、加熱工程を比較的低温で行うことができる。 The composition containing fatty acid copper, reducing compound and alkylamine is heated at a temperature at which a complex formed from fatty acid copper and the reducing compound is decomposed. For example, the heating is preferably performed at 150 ° C. or less, more preferably at 130 ° C. or less, and further preferably at 100 ° C. or less. In the said method, a heating process can be performed at comparatively low temperature by using specific fatty acid copper as a copper precursor.
脂肪酸銅、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物は、さらに溶媒を含んでもよい。脂肪酸銅と還元性化合物による錯体の形成を促進する観点からは、極性溶媒を含むことが好ましい。ここで極性溶媒とは、25℃で水に対する溶解度を有するものであることが好ましく、アルコール溶媒であることがより好ましい。溶媒としてアルコールを用いることで錯体の形成が促進される理由は明らかではないが、固体である脂肪酸銅を溶解させながら水溶性である還元性化合物との接触が促進されるためと考えられる。溶媒は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。 The composition containing fatty acid copper, a reducing compound and an alkylamine may further contain a solvent. From the viewpoint of promoting the formation of a complex of fatty acid copper and a reducing compound, it is preferable to include a polar solvent. Here, the polar solvent is preferably a solvent having solubility in water at 25 ° C., and more preferably an alcohol solvent. The reason why the formation of the complex is promoted by using alcohol as the solvent is not clear, but it is considered that the contact with the water-soluble reducing compound is promoted while dissolving the solid fatty acid copper. A solvent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
25℃で水に対する溶解度を示すアルコールとしては、炭素数が1〜8であり、分子中に水酸基を1つ有するアルコールを挙げることができる。このようなアルコールとしては、直鎖状のアルキルアルコール、フェノール、分子内にエーテル結合を有する炭化水素の水素原子を水酸基で置換したもの等を挙げることができる。より強い極性を発現する観点からは、分子中に水酸基を2個以上含むアルコールも好ましく用いられる。また、製造される銅含有粒子の用途に応じてイオウ原子、リン原子、ケイ素原子等を含むアルコールを用いてもよい。 As alcohol which shows the solubility with respect to water at 25 degreeC, C1-C8 can be mentioned and the alcohol which has one hydroxyl group in a molecule | numerator can be mentioned. Examples of such alcohols include linear alkyl alcohols, phenols, and those obtained by replacing hydrogen atoms of hydrocarbons having an ether bond in the molecule with hydroxyl groups. From the viewpoint of expressing a stronger polarity, an alcohol having two or more hydroxyl groups in the molecule is also preferably used. Moreover, you may use alcohol containing a sulfur atom, a phosphorus atom, a silicon atom, etc. according to the use of the copper containing particle | grains manufactured.
溶媒として用いるアルコールとして具体的には、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ピナコール、プロピレングリコール、メントール、カテコール、ヒドロキノン、サリチルアルコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、スクロース、グルコース、キシリトール、メトキシエタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール等を挙げることができる。 Specific examples of alcohol used as a solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, allyl alcohol, benzyl alcohol, pinacol, propylene glycol, menthol, catechol, hydroquinone, Examples include salicyl alcohol, glycerin, pentaerythritol, sucrose, glucose, xylitol, methoxyethanol, triethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, and pentaethylene glycol.
前記アルコールのうち、水に対する溶解度が極めて大きいメタノール、エタノール、1−プロパノール及び2−プロパノールが好ましく、1−プロパノール及び2−プロパノールがより好ましく、1−プロパノールがさらに好ましい。 Among the alcohols, methanol, ethanol, 1-propanol and 2-propanol having a very high solubility in water are preferable, 1-propanol and 2-propanol are more preferable, and 1-propanol is more preferable.
(分散媒)
本発明の導電材料の導電材料に使用される分散媒は特に制限されず、導電インク、導電ペースト等の作製に一般に用いられる有機溶剤から用途に応じて選択できる。例えば、粘度調整の観点からはテルピネオール、イソボルニルシクロヘキサノール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピネオールアセテート等が好ましい。
(Dispersion medium)
The dispersion medium used for the conductive material of the conductive material of the present invention is not particularly limited, and can be selected from organic solvents generally used for the production of conductive inks, conductive pastes, and the like according to applications. For example, terpineol, isobornylcyclohexanol, dihydroterpineol, dihydroterpineol acetate and the like are preferable from the viewpoint of viscosity adjustment.
(その他の成分)
本発明における導電材料は、上述した成分に加え、必要に応じて、当該技術分野で通常用いられるその他の成分を更に含むことができる。その他の成分としては、例えば、チクソ剤等が挙げられる。
(Other ingredients)
In addition to the above-described components, the conductive material in the present invention can further contain other components that are usually used in the technical field, if necessary. Examples of other components include a thixotropic agent.
(導電材料の製造方法)
本発明における導電材料の製造方法は特に限定されず、当該技術分野で通常用いられる方法を用いることができる。
例えば、本発明における銅含有粒子及び必要に応じて含まれるその他の成分を分散媒中に分散処理することで調製することができる。分散処理は、石川式攪拌器、自転公転式撹拌機、超薄膜高速回転式分散機、ロールミル、超音波分散機、ビーズミルなどのメディア分散機、ホモミキサーやシルバーソン攪拌機などのキャビテーション攪拌装置、アルテマイザーなどの対向衝突法を用いることができる。また、これらの手法を適宜組み合わせて用いてもよい。
(Method for producing conductive material)
The manufacturing method of the electrically conductive material in this invention is not specifically limited, The method normally used in the said technical field can be used.
For example, it can prepare by disperse | distributing the copper containing particle | grains in this invention, and the other component contained as needed in a dispersion medium. Dispersion treatment includes Ishikawa-type stirrer, rotation-revolution stirrer, ultra-thin high-speed rotary disperser, media disperser such as roll mill, ultrasonic disperser, bead mill, cavitation stirrer such as homomixer and silverson stirrer, Artema An opposing collision method such as Iser can be used. Moreover, you may use combining these methods suitably.
<熱処理工程>
熱処理工程では、導電材料付与工程において形成される導電材料含有層を、基材のガラス転移点に対して−40℃〜+40℃の範囲内の温度で熱処理して銅層を形成する。これにより、導電材料が焼結されて銅含有粒子が導体化される。熱処理温度が上記範囲内であると、銅層の基材への密着性が向上する傾向にある。
<Heat treatment process>
In the heat treatment step, the conductive material-containing layer formed in the conductive material application step is heat-treated at a temperature within a range of −40 ° C. to + 40 ° C. with respect to the glass transition point of the base material to form a copper layer. Thereby, the conductive material is sintered and the copper-containing particles are made into a conductor. When the heat treatment temperature is within the above range, the adhesion of the copper layer to the substrate tends to be improved.
熱処理工程における熱処理温度は、基材への密着性の観点から、基材のガラス転移点に対して−40℃〜+40℃の範囲内であることが好ましく、−30℃〜+30℃範囲内であることがより好ましく、−25℃〜+25℃であることが更に好ましい。 The heat treatment temperature in the heat treatment step is preferably in the range of −40 ° C. to + 40 ° C. with respect to the glass transition point of the base material from the viewpoint of adhesion to the base material, and in the range of −30 ° C. to + 30 ° C. More preferably, it is more preferably −25 ° C. to + 25 ° C.
熱処理温度は、導体化及び基材への影響の観点から、100℃〜200℃であることが好ましい。熱処理温度が100℃以上であると充分な導電材料の導体化及び充分な基材への密着性が得られ、200℃以下であると基材への熱ダメージが抑制される傾向にある。
熱処理工程は一定の昇温速度で行っても、不規則に変化させてもよい。
熱処理時間は特に限定されず、熱処理温度、熱処理雰囲気、銅含有粒子の量等を考慮して選択できる。熱処理時間は、十分な導電性と量産性を両立する観点から、10分〜120分であることが好ましい。
It is preferable that the heat processing temperature is 100 to 200 degreeC from a viewpoint of conductorization and the influence on a base material. When the heat treatment temperature is 100 ° C. or higher, sufficient conductive material conductivity and adhesion to the base material can be obtained, and when it is 200 ° C. or lower, thermal damage to the base material tends to be suppressed.
The heat treatment step may be performed at a constant rate of temperature increase or irregularly.
The heat treatment time is not particularly limited, and can be selected in consideration of the heat treatment temperature, the heat treatment atmosphere, the amount of copper-containing particles, and the like. The heat treatment time is preferably 10 minutes to 120 minutes from the viewpoint of achieving both sufficient conductivity and mass productivity.
熱処理工程における雰囲気は不活性ガス雰囲気であれば特に制限されず、通常の導体化処理で用いられる雰囲気ガスを使用することができる。不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。 The atmosphere in the heat treatment step is not particularly limited as long as it is an inert gas atmosphere, and an atmospheric gas used in a normal conductor treatment can be used. Examples of the inert gas include nitrogen gas and argon gas.
ある実施形態において、熱処理工程では、不活性ガス雰囲気下で、ガラス転移点が70℃〜200℃の基材上に形成された導電材料含有層を、上記ガラス転移点に対して−40℃〜+40℃の範囲内の温度で10分〜120分間、熱処理を行うことが好ましい。 In one embodiment, in the heat treatment step, a conductive material-containing layer formed on a base material having a glass transition point of 70 ° C. to 200 ° C. in an inert gas atmosphere is −40 ° C. to the glass transition point. The heat treatment is preferably performed at a temperature within the range of + 40 ° C. for 10 minutes to 120 minutes.
[導電性積層体]
本発明の導電性積層体は、本発明の導電性積層体の製造方法により得られる。
本発明の導電性積層体は、基材と、この基材上に、銅を含有するコア粒子と、コア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有する銅含有粒子及び分散媒を含む導電材料の焼結物からなり、少なくとも一部が前記基材に融着している導体(銅層)と、を有する。本発明における導体(銅層)の少なくとも一部が基材に融着しているため、基材との密着性に優れる。
[Conductive laminate]
The conductive laminate of the present invention is obtained by the method for producing a conductive laminate of the present invention.
The conductive laminate of the present invention is derived from a base material, a core particle containing copper on the base material, and an alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particle. An organic substance containing a substance, and a conductor (copper layer) that is made of a sintered material of a conductive material containing copper-containing particles and a dispersion medium, and at least a part of which is fused to the base material. Since at least a part of the conductor (copper layer) in the present invention is fused to the base material, the adhesiveness to the base material is excellent.
以下、本発明の銅含有粒子について実施例をもとに説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, although the copper containing particle | grains of this invention are demonstrated based on an Example, this invention is not limited to these Examples at all.
<実施例1>
[1.1]ノナン酸銅の合成
水酸化銅(関東化学株式会社、特級)91.5g(0.94mmol)に1−プロパノール(関東化学株式会社、特級)150mLを加えて撹拌し、これにノナン酸(関東化学株式会社、90%以上)370.9g(2.34mmol)を加えた。得られた混合物を、セパラブルフラスコ中で90℃、30分間加熱撹拌した。得られた溶液を加熱したままろ過して未溶解物を除去した。その後放冷し、生成したノナン酸銅を吸引ろ過し、洗浄液が透明になるまでヘキサン洗浄した。得られた粉体を50℃の防爆オーブンで3時間乾燥してノナン酸銅(II)を得た。収量は340g(収率96質量%)であった。
<Example 1>
[1.1] Synthesis of copper nonanoate To 91.5 g (0.94 mmol) of copper hydroxide (Kanto Chemical Co., Ltd., special grade), 150 mL of 1-propanol (Kanto Chemical Co., Ltd., special grade) was added and stirred. 370.9 g (2.34 mmol) of nonanoic acid (Kanto Chemical Co., Inc., 90% or more) was added. The obtained mixture was heated and stirred at 90 ° C. for 30 minutes in a separable flask. The obtained solution was filtered while heated to remove undissolved substances. Thereafter, the mixture was allowed to cool, and the produced copper nonanoate was suction filtered and washed with hexane until the cleaning liquid became transparent. The obtained powder was dried in an explosion-proof oven at 50 ° C. for 3 hours to obtain copper (II) nonanoate. The yield was 340 g (yield 96 mass%).
[1.2]銅粒子の合成
上記で得られたノナン酸銅(II)15.01g(0.040mol)と酢酸銅(II)無水物(関東化学株式会社、特級)7.21g(0.040mol)をセパラブルフラスコに入れ、1−プロパノール10mLとヘキシルアミン(東京化成工業株式会社、純度99%)32.1g(0.32mol)を添加し、オイルバス中で80℃で加熱撹拌して溶解させた。氷浴に移し、内温が5℃になるまで冷却した後、ヒドラジン一水和物(関東化学株式会社、特級)7.72mL(0.16mol)を1−プロパノール12mLに溶解させた溶液を脂肪酸銅の溶液に加え、氷浴中で撹拌した。尚、銅:ヘキシルアミンのモル比は1:4である。次いで、オイルバス中で90℃で加熱撹拌した。その際、発泡を伴う還元反応が進み、10分以内で反応が終了した。セパラブルフラスコの内壁が銅光沢を呈し、溶液が暗赤色に変化した。遠心分離を4000rpm(回転/分)で1分間実施して固体物を得た。固形物を更にヘキサン15mLで洗浄する工程を3回繰り返し、酸残渣を除去して、銅光沢を有する銅粒子の粉体を含む銅ケークを得た。
[1.2] Synthesis of copper particles 15.01 g (0.040 mol) of copper (II) nonanoate obtained above and 7.21 g of copper (II) acetate anhydride (Kanto Chemical Co., Ltd., special grade) 040 mol) is put into a separable flask, 10 mL of 1-propanol and 32.1 g (0.32 mol) of hexylamine (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., purity 99%) are added, and the mixture is heated and stirred at 80 ° C. in an oil bath. Dissolved. After transferring to an ice bath and cooling to an internal temperature of 5 ° C., a solution obtained by dissolving 7.72 mL (0.16 mol) of hydrazine monohydrate (Kanto Chemical Co., Ltd., special grade) in 12 mL of 1-propanol Added to the copper solution and stirred in an ice bath. The molar ratio of copper: hexylamine is 1: 4. Subsequently, it heated and stirred at 90 degreeC in the oil bath. At that time, the reduction reaction accompanied with foaming progressed, and the reaction was completed within 10 minutes. The inner wall of the separable flask had a copper luster and the solution turned dark red. Centrifugation was performed at 4000 rpm (rotation / min) for 1 minute to obtain a solid. The process of further washing the solid with 15 mL of hexane was repeated three times to remove the acid residue, thereby obtaining a copper cake containing copper powder powder having copper luster.
<低温導体化の評価>
実施例1で得られた銅粒子のケーク(60質量部)、テルピネオール(20質量部)及びイソボルニルシクロヘキサノール(商品名:テルソルブMTPH、日本テルペン化学株式会社)(20質量部)を混合して導電材料を作製した。
得られた導電材料をポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(ガラス転移点:155℃)上にバーコーターを用いて塗布し、厚みが約1μmの塗布層を形成した。得られた塗布層付きPENフィルムを焼成炉に入れて加熱し、銅粒子表面の有機物を熱分解させ、且つ銅粒子同士を焼結させて金属銅の薄膜を得た。加熱は、窒素中の酸素濃度を100ppmとした雰囲気中、昇温速度40℃/分で140℃まで加熱し、60分間保持することによって行った。
<Evaluation of low temperature conductor>
The copper particle cake obtained in Example 1 (60 parts by mass), terpineol (20 parts by mass) and isobornylcyclohexanol (trade name: Tersolve MTPH, Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) (20 parts by mass) were mixed. Thus, a conductive material was produced.
The obtained conductive material was coated on a polyethylene naphthalate (PEN) film (glass transition point: 155 ° C.) using a bar coater to form a coating layer having a thickness of about 1 μm. The obtained PEN film with a coating layer was placed in a baking furnace and heated to thermally decompose the organic matter on the surface of the copper particles, and the copper particles were sintered together to obtain a metallic copper thin film. Heating was performed by heating to 140 ° C. at a rate of temperature increase of 40 ° C./min and holding for 60 minutes in an atmosphere in which the oxygen concentration in nitrogen was 100 ppm.
得られた金属銅の薄膜の体積抵抗率を、4端針面抵抗測定器で測定した面抵抗値と、非接触表面・層断面形状計測システム(VertScan、株式会社菱化システム)で求めた膜厚とから計算した。結果は30μΩcmであり、体積抵抗率が充分に低い導体が形成されていた。 Film resistivity obtained by measuring the volume resistivity of the obtained metallic copper thin film with a four-end needle surface resistance measuring instrument and a non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system (VertScan, Ryoka System Co., Ltd.) Calculated from the thickness. The result was 30 μΩcm, and a conductor having a sufficiently low volume resistivity was formed.
<密着性の評価>
実施例1で得られた金属銅の薄膜と基材(PENフィルム)との密着性を、JIS K5600(1999)に準拠して2mm角クロスカット試験で評価した。どの格子の目もはがれなければ「A」、カットの交差点における塗膜の小さなはがれであれば「B」、塗膜がカットの線に沿って、交差点においてはがれていれば「C」、それ以上の部分的、全面的はがれであれば「D」とした。結果は「A」であり、基材との密着性に優れていた。
<Evaluation of adhesion>
The adhesion between the metal copper thin film obtained in Example 1 and the substrate (PEN film) was evaluated by a 2 mm square crosscut test in accordance with JIS K5600 (1999). “A” if none of the grids peels off, “B” if the coating peels off at the intersection of the cut, “C” if the coating peels off along the cut line and at the intersection, and more If it was a partial or full peeling, it was set as “D”. The result was “A”, and the adhesion to the substrate was excellent.
以上より、本発明の導電性積層体の製造方法により、簡略な工程で、銅含有粒子を低温導体化でき、銅層と基材との密着性を向上できることが分かった。 From the above, it was found that the copper-containing particles can be made into a low-temperature conductor and the adhesion between the copper layer and the substrate can be improved by a simple process by the method for producing a conductive laminate of the present invention.
<比較例1>
実施例1において使用したPENフィルムの代わりに、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(ガラス転移点:69℃)を使用した以外は実施例1と同様に導電材料を作成し評価した。結果、比較例1の導電材料の密着性は「A」であり密着性に優れていたものの、導通が得られなかった。集束イオンビーム(FIB)加工観察により、比較例1の導電材料を用いて得られた薄膜の断面形状を観察すると、焼結体がPETフィルムに埋没して導通パスが取れないていなかった。
<Comparative Example 1>
A conductive material was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (glass transition point: 69 ° C.) was used instead of the PEN film used in Example 1. As a result, although the adhesiveness of the conductive material of Comparative Example 1 was “A” and excellent in adhesiveness, conduction was not obtained. When the cross-sectional shape of the thin film obtained using the conductive material of Comparative Example 1 was observed by focused ion beam (FIB) processing observation, the sintered body was buried in the PET film and a conduction path could not be obtained.
Claims (5)
前記導電材料含有層を、前記基材のガラス転移点に対して−40℃〜+40℃の範囲内の温度で熱処理して銅層を形成する工程と、
を含む導電性積層体の製造方法。 Copper-containing particles having a core particle containing copper and an organic substance containing a substance derived from an alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particle on a base material and dispersion Providing a conductive material containing a medium to form a conductive material-containing layer;
A step of heat-treating the conductive material-containing layer at a temperature within a range of −40 ° C. to + 40 ° C. with respect to the glass transition point of the base material to form a copper layer;
The manufacturing method of the electroconductive laminated body containing this.
前記基材上に、銅を含有するコア粒子と、前記コア粒子の表面の少なくとも一部に存在する炭素数が7以下であるアルキルアミンに由来する物質を含む有機物と、を有する銅含有粒子及び分散媒を含む導電材料の焼結物からなり、少なくとも一部が前記基材に融着している導体と、
を有する導電性積層体。 A substrate;
Copper-containing particles having, on the base material, copper-containing core particles, and an organic substance containing a substance derived from alkylamine having 7 or less carbon atoms present on at least a part of the surface of the core particles, and A conductor made of a sintered material of a conductive material containing a dispersion medium, and at least a part of the conductor fused to the substrate;
A conductive laminate comprising:
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