JP2016034901A - ３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−ｎ−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−［１，２］オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの新規結晶形 - Google Patents

Abstract

【課題】MEK阻害剤として有用で物理化学的に安定な医薬品原薬の提供。
【解決手段】X線源にCu Kα（1.54060Å）を用いて測定される粉末X線回折のパターンにおいて、2θで表される回折角度が14.9、16.9および23.1°（±0.2°）であるピークを含む、３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体I形結晶。
【選択図】なし

Description

本発明は、３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミド（以下「化合物A」という。）のI形と称される結晶形に関する。

MEKは細胞増殖の異常性からもたらされる疾患の治療分野において治療剤の標的として注目を集めており、これまでMEK阻害のための化合物が数多く報告されている（特許文献１〜３）。MEK阻害剤の一つである３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミド（化合物A）は、増殖性疾患、例えば癌、乾癬、再狭窄、自己免疫疾患およびアテローム性動脈硬化症などの治療に、また、心不全続発症、異種移植片拒絶症、変形性関節症、関節リウマチ、喘息、嚢胞性線維症、肝腫、心臓肥大、アルツハイマー病、糖尿病、敗血症性ショック、HIV感染症などの治療に有用であることが知られている（特許文献４）。
特許文献４にはMEK阻害効果を有する５−置換−２−フェニルアミノ−ベンズアミド類が開示されており、化合物Aの合成方法も記載されているが、その結晶化方法や固体状態、物理化学的性質に関しては何ら開示されていない。

国際公開第98/37881号 国際公開第99/01421号 国際公開第2000/35435号 国際公開第2006/011466号

本発明者らは、MEK阻害活性効果を有する医薬品化合物を提供することを目的として、鋭意研究を行ったところ、化合物Aが、優れたMEK阻害効果を示すことを見出し、さらに検討した結果、化合物Aの結晶は数多くの多形体を有し、このうちI形で称される結晶形が物理化学的安定性に優れ、MEK阻害剤として有用であることを見出した。すなわち、本発明は物理化学的安定性に優れたMEK阻害剤を提供するものである。

本発明は具体的には以下を含む。
（１）３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの結晶。

（２）３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドが遊離体の形態である、前記１記載の結晶。

（３）粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が14.9、16.9および23.1°（±0.2°）であるピークを含む、前記２記載の結晶。

（４）粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、さらに12.5、18.0および22.7°（±0.2°）であるピークを含む、前記３記載の結晶。

（５）粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、さらに13.0、19.9および22.4°（±0.2°）であるピークを含む、前記４記載の結晶。

（６）DSC測定（昇温速度：10°C/min）における吸熱ピークの頂点温度が137°Cから147°Cである、前記５記載の結晶。

（７）粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、5.4、6.2、11.1、15.4、17.4および21.1°（±0.2°）であるピークを含む、前記１記載の結晶。

（８）粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、5.8、10.0、10.9、11.5、11.9および20.5°（±0.2°）であるピークを含む、前記１記載の結晶。

（９）粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、7.9、11.7、13.6、17.9、20.9および23.8°（±0.2°）であるピークを含む、前記１記載の結晶。

（１０）粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、8.3、10.7、12.4、14.2、16.5および21.8°（±0.2°）であるピークを含む、前記１記載の結晶。

（１１）前記１〜１０のいずれかに記載の結晶を含有する医薬組成物。

医薬品として好適な性質を有するI形結晶を医薬品原薬として用いることで、特別な製剤的処置や特別な包装、特別な保存条件等によって安定化を図ることなく、安定的な医薬品を提供できる

図１は、実施例１にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体I形結晶の粉末X線回折パターン（X線源：Cu Kα）の一例である。 図２は、実施例２にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体II形結晶の粉末X線回折パターン（X線源：Cu Kα）の一例である。 図３は、実施例３にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体III形結晶の粉末X線回折パターン（X線源：Cu Kα）の一例である。 図４は、実施例４にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体IV形結晶の粉末X線回折パターン（X線源：Cu Kα）の一例である。 図５は、実施例５にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドのナトリウム塩４水和物結晶の粉末X線回折パターン（X線源：Cu Kα）の一例である。 図６は、実施例１にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体I形結晶のDSCチャート（昇温速度：10°C/min）の一例である。 図７は、実施例２にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体II形結晶のDSCチャート（昇温速度：10°C/min）の一例である。 図８は、実施例３にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体III形結晶のDSCチャート（昇温速度：10°C/min）の一例である。 図９は、実施例４にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの遊離体IV形結晶のDSCチャート（昇温速度：10°C/min）の一例である。 図１０は、実施例５にて測定した３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドのナトリウム塩４水和物結晶のDSCチャート（昇温速度：10°C/min）の一例である。

本発明において、「３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミド」（化合物A）とは、下記化学構造式（I）で表わされる化合物を意味する。

なお、化合物Aは、国際公開公報WO02006/011466号に記載の製造方法に基づき、製造することができるが、その製造方法に限定されるものではない。

本発明において、「遊離体」とは化合物Aが塩を形成していない形態をいう。

本発明において、「I形結晶」とは、結晶格子内に溶媒や水を含まない遊離体の化合物Aの結晶形であり、2θ（°）が略12.5、13.0、14.9、16.9、18.0、19.9、22.4、22.7および23.1で表わされる特徴的なピークを含む粉末X線回折パターンを示す。また、昇温速度10°C/minで示差走査熱量測定（以下、「DSC測定」という。）を行ったとき、137°Cから147°Cのあいだに吸熱ピークの頂点温度を示す。

本発明において、「II形結晶」とは、ジメチルスルホキシド（以下「DMSO」という。）を結晶格子内に含む化合物AのDMSO和物であり、2θ（°）が略5.4、6.2、11.1、15.4、17.4および21.1で表わされる特徴的なピークを含む粉末X線回折パターンを示す。

本発明において、「III形結晶」とは、結晶格子内に溶媒や水を含まない遊離体の化合物Aの結晶形であり、2θ（°）が略5.8、10.0、10.9、11.5、11.9および20.5で表わされる特徴的なピークを含む粉末X線回折パターンを示す。

本発明において、「IV形結晶」とは、結晶格子内に溶媒や水を含まない遊離体の化合物Aの結晶形であり、2θ（°）が略7.9、11.7、13.6、17.9、20.9および23.8で表わされる特徴的なピークを含む粉末X線回折パターンを示す。

本発明において、「ナトリウム塩４水和物結晶」とは、化合物Aのナトリウム塩４水和物の結晶形であり、2θ（°）が略8.3、10.7、12.4、14.2、16.5および21.8で表わされる特徴的なピークを含む粉末X線回折パターンを示す。

なお、各結晶はそれぞれ、粉末X線回折測定や示差走査熱量（以下「DSC」という。）測定等の熱分析により区別される。粉末X線回折測定における2θの値は、機器の違いや他の因子が影響を及ぼし得るためプラス又はマイナス約0.2°の範囲で変動し得る。

以下に各結晶形の製造方法を記載するが、製法はこれらに限定されるものではなく、用いる溶媒や温度条件などを変更してもよい。

I形結晶は、例えば、化合物Aをアセトニトリルやエタノール中に加熱溶解させたのち、冷却することにより得ることができる。

II形結晶は、例えば、化合物AをDMSOに溶解させたのち、この溶解液を凍結乾燥し、得られた凍結乾燥物にメチルペンチルケトンおよび１−クロロヘキサンを加えることにより得ることができる。

III形結晶は、例えば、化合物Aをメチルペンチルケトンに加熱溶解させたのち、ジイソプロピルエーテルを加えることにより得ることができる。

IV形結晶は、例えば、化合物Aを酢酸エチルに加熱溶解させたのち、ジイソプロピルエーテルを加えることにより得ることができる。

ナトリウム塩４水和物結晶は、例えば、化合物Aに化合物Aと等量のナトリウムを含む水酸化ナトリウム水溶液と水、およびエタノールを加え、加熱溶解させたのち、冷却することにより得ることができる。

本発明化合物を、MEK阻害剤、増殖性疾患の治療剤又は予防剤として使用する場合には、本発明の化合物は、経口でも、非経口でも投与することができる。投与剤形として、経口剤であれば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤が、非経口剤であれば、中佐剤、点眼剤、点鼻剤、経皮吸収剤、エアゾール剤（「吸入剤」を含む）などが挙げられ、それらは汎用される技術を使用して製剤化することができる。

例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤等の経口剤は、乳糖、マンニトール、デンプン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウムなどの賦形剤、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、タルクなどの滑沢剤、デンプン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒプロメロース、ポリビニルピロリドンなどの結合剤、カルボキシメチルセルロース、低置換ヒドロキシプロピルセルロース、クエン酸カルシウムなどの崩壊剤、ヒプロメロース、ヒドロキシメチルセルロース、マクロゴール、シリコーン樹脂などのコーティング剤、パラオキシ安息香酸エチル、ベンジルアルコールなどの安定化剤、甘味料、酸味料、香料などの矯味矯臭剤などを必要に応じて使用して、調整することができる。

また、注射剤、点眼剤などの非経口剤は、塩化ナトリウム、濃グリセリン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、塩化カリウム、ソルビトール、マンニトールなどの等張化剤、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、クエン酸、氷酢酸、トロメタモールなどの緩衝化剤、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ステアリン酸ポリオキシル４０、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油などの界面活性剤、クエン酸ナトリウム、エデト酸ナトリウムなどの安定化剤、ベンザルコニウム塩化物、パラベン、塩化ベンゾトニウム、パラオキシ安息香酸エステル、安息香酸ナトリウム、クロロブタノール等の防腐剤など、塩酸、クエン酸、リン酸、氷酢酸、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどのｐＨ調整剤、ベンジルアルコールなどの無痛化剤、ヒプロメロースなどの粘稠剤などを必要に応じて使用し、調製することができる。

本発明の化合物の投与量は、症状、年齢、剤形等により適宜選択して使用することができる。たとえば、経口剤は通常１日あたり好ましくは０．１〜１０００ｍｇ、さらに好ましくは１〜３０ｍｇである。非経口剤の場合、一日あたり好ましくは０．１〜１０００ｍｇ、さらに好ましくは１〜３０ｍｇである。これを１日１回又は数回に分けて、症状に応じて投与することが好ましい。

以下に本発明の好適な実施例についてさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

［製造例１］３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミド（化合物Ａ）の製造
工程1
2,3,4-トリフルオロ-5-ヨード-安息香酸 の合成

５Lフラスコに酢酸（1.2 L）と無水酢酸（0.63 L）を加えた。氷で冷却しながら40℃を超えないように硫酸（1.6 L）を同じフラスコに混合した。さらに室温にてI₂（70 g）、活性化MnO₂（70 g）および2,3,4-トリフルオロ安息香酸（120 g、0.68 mol）をよく攪拌しながら固体のまま加えた。得られた黒紫のサスペンジョンを50℃で攪拌しながら、2〜3時間後にI₂（70 g）およびMnO₂（70 g）を、4〜6時間後にI₂（33 g）およびMnO₂（37 g）をさらに加えた。24時間後、反応混合物を氷（2 L）に加えた。

塩化メチレンにて3回（1.6 L + 1.0 L + 1.0 L）抽出して得た紫色の有機層を、過剰のヨウ素を除去させる目的で0.2Nチオ硫酸ナトリウム水溶液で2回（2.0 L + 1.0 L）洗浄させると有機層は淡黄色に変化した。有機層に含まれる酢酸を除去させる目的で1.0 Lの水にて4回洗浄すると濁りのない透明な有機層を得た。有機層を無水硫酸ナトリウム（1.3 kg）にて乾燥後、減圧下溶媒留去すると、白色粉末として目的化合物2,3,4-トリフルオロ-5-ヨード-安息香酸（192 g, 94％）を得た。なお必要に応じてEtOAc:Hexane=1:9（v/v）溶液にて洗浄することができる。

¹H-NMR(CDCl₃, 270MHz) δ(PPM)：8.25 (1H, td, J = 6.6, 2.3 Hz)

工程２
2,3,4-トリフルオロ-5-ビニル安息香酸 の合成

工程１で得られた2,3,4-トリフルオロ-5-ヨード-安息香酸（109 g、0.36 mol）、ビニルトリフルオロホウ酸カリウム（68 g、0.51 mol）、およびPd(dppf)Cl₂・CH₂Cl₂（15 g、0.018 mol）を固体のまま２Lのフラスコに加えた後、実験系全体を窒素雰囲気下にする目的で減圧−窒素パージを2回繰り返した。脱酸素する目的で窒素ガスにて10分間バブリングしたメタノール（0.80 L）とt−ブチルアミン（95 mL、0.91 mol）を加えた。窒素雰囲気下激しく攪拌しながら加熱還流すると、化合物は全て溶解して赤色溶液となった。20時間後、黒い沈殿のある濃色混合物を溶媒留去した。

これに水（0.50 L）、１N 水酸化ナトリウム水溶液（2.0 L）、塩化メチレン（1.2 L）を加えて攪拌して、化合物が全て溶解 したことを確認した。リン配位子を塩化メチレン層へ除去させた。さらに2回塩化メチレン（1.0 L + 0.80 L）で洗浄すると、濃色は有機層へ移行して目的化合物を含む水層はほぼ無色となった。12N 塩酸（0.19 L）を加えて pHを1前後にした水層を酢酸エチル（1.2 L + 0.60 L + 0.80 L）にて抽出した。有機層を飽和食塩水（0.80 L）で洗浄、無水硫酸ナトリウム（0.50 kg）にて乾燥後、減圧下溶媒留去すると淡黄色固体として目的化合物2,3,4-トリフルオロ-5-ビニル安息香酸 （72 g, 98％） を得た。

¹H-NMR(CDCl₃, 270MHz) δ(PPM)：5.54 (1H, d, J = 11.2 Hz), 5.92 (1H, d, J = 17.8 Hz), 6.78 (1H, dd, J = 17.8, 11.2 Hz), 7.95 (1H, td, J = 7.6, 2.6 Hz)
EIMS m/z 202(M+・)

工程３
3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-5-ビニル-安息香酸 の合成

乾燥させたガラス３Lフラスコに2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミン（108 g、0.46 mol）を固体で加え、工程２で得られた2,3,4-トリフルオロ-5-ビニル安息香酸 （77g、0.38 mol）を滴下ロートに固体で加えた。窒素雰囲気下（脱水、脱酸素）にする目的で、減圧−窒素パージを2回繰り返した。脱水・脱酸素THFを3Lフラスコに0.65 L、滴下ロートに0.30 L加えて、2種の原料をそれぞれ溶解させた。LiHMDSの1M THF溶液（1.1 L, 1.1 mol）を別の滴下ロートに加え、‐78℃に冷却した3Lフラスコに45分間かけて滴下すると淡黄色のサスペンジョンとなった。続いて滴下ロート中の2,3,4-トリフルオロ-5-ビニル安息香酸THF溶液を10分間かけて滴下するとオレンジ色に変化した。反応温度を除々に上げて滴下終了後3時間後に0℃に達すると濃色溶液となった。室温にてさらに2時間攪拌した後、氷で冷却しながら水を0.50L加えて反応停止させるとオレンジ色に変化した。

さらに、5分後には2N 塩酸を1.2 L加えた。THF層を分離して得た後、さらに水層から酢酸エチルにて抽出（2 x 0.80 L）した。赤色の有機層を１つにまとめて飽和食塩水（0.80 L）にて洗浄、無水硫酸ナトリウム（0.50 kg）にて乾燥、溶媒留去すると178gのオレンジ色固体を得た。この固体を塩化メチレンにて洗浄（合計0.60 L）すると、白色固体として目的化合物3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-5-ビニル-安息香酸（150 g, 0.36 mol, 94％) を得た。

¹H-NMR(CD₃OD, 270MHz) δ(PPM)：5.41 (1H, d, J = 11.5 Hz), 5.86 (1H, d, J = 17.2 Hz), 6.76 (1H, td, J = 8.6, 5.6 Hz), 6.79 (1H, dd, J = 17.2, 11.5 Hz), 7.41 (1H, m), 7.48 (1H, dd, J = 10.6, 2.0 Hz), 8.05 (1H, dd, J = 7.9, 2.0 Hz)
ESI(LC/MS positive mode) m/z 420 (M+H)

工程４
2-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-イソインドール-1,3-ジオン の合成

還流装置付3頸フラスコ（５Ｌ）に窒素雰囲気下、N-ヒドロキシフタルイミド（500 g, 3.07 mol）を加え、無水アセトニトリル（1.0 L）を加えてよく撹拌し懸濁液とした。反応容器を氷浴で冷却し、内温が15℃になった時点でトリエチルアミン（514 mL, 3.68 mol）を約10分かけて滴下した。懸濁液は暗赤色の溶液となった。続いて2-ブロモエタノール（260 mL, 3.678 mol）を滴下した後、氷浴を取り除いて室温に戻した。反応容器はオイルバスにて、内温80℃で8時間加熱した。室温に戻して析出した不溶物をガラスフィルターで濾別、酢酸エチル約1.0Lで洗浄し、濾液と洗液を合わせ減圧濃縮した。

赤褐色油状残渣に水（1.5 L）を加え、酢酸エチル（3 x 2.0 L）で抽出した。各々抽出した有機層を飽和食塩水（3 x １L）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム（1.5 kg）で乾燥した。溶媒を減圧留去するとオフホワイトの固体（599.5g、粗収率94％）を得た。これにEtOAc−hexane（1.2L）を加えて良くトリチュレーションした後、濾別し得られた白色固体をEtOAc−hexane（0.5L）、hexane（1.0Ｌ）の順で洗浄、減圧下乾燥し、白色固体として目的化合物2-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-イソインドール-1,3-ジオン（520 g, 82％）を得た。

¹H-NMR(CDCl₃, 270MHz) δ(PPM): 3.46 (1H, t, J = 7.1 Hz), 3.81 (2H, m), 4.32 (2H, t, J = 4.5 Hz), 7.79 (2H, m), 7.87 (2H, m)
LC-MS:m/z=208（Ｍ＋Ｈ）

工程５
2-アミノオキシ-エタノール の合成

５Ｌのフラスコに工程４で得られた2-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-イソインドール-1,3-ジオン（555 g , 2.679 mol）を加え、塩化メチレン（2.0 L）に撹拌下溶解し、反応容器を氷浴で冷却しながら、メチルヒドラジン（142 mL, 2.68 mol）を内温が20℃を超えないように滴下した。反応の進行とともに、白色の不溶物が出現した。滴下終了後、約15分氷浴下で攪拌した後、析出不溶物をガラスフィルターで濾別し、フィルター上の白色不溶物をジクロロメタン（2 x 400 mL）で洗浄した後、濾液と洗液を合わせ減圧留去した。黄色油状残渣（230ｇ）を減圧蒸留し（51〜54℃/ 2 mmHg）、無職透明液体として目的化合物2-アミノオキシ-エタノール（162g, 73%）を得た。

¹H-NMR(DMSO-D₆, 270MHz) δ(PPM): 3.51 (4H, m), 4.53 (1H, t, J = 5.0 Hz), 5.93 (2H, br. s)
GC-MS: m/z=77(M+)

工程６
3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-ビニル-ベンズアミド の合成

工程３で得られた3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-5-ビニル-安息香酸（180 g、0.429 mmol）および3-ヒドロキシ-4-オキソ-3,4-ジヒドロ-1,2,3-ベンゾトリアジン（77.0 g, 0.472 mmol）をN,N-ジメチルホルムアミド（2 L）に溶解し、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド 塩酸塩（87.2 g, 0.455 mol）を加え、 室温で2時間攪拌した。LC-MS にて活性エステルの生成と原料の消失を確認した後、0℃に反応系を冷却した。
工程５で得られた2-アミノオキシ-エタノール（39.7g, 0.515 mol）を加え、0℃で2 時間攪拌した。LC-MS にて縮合体の生成および活性エステル体の消失を確認した。

反応溶液に0.3N 塩酸（2 L）および飽和食塩水（500ml）を加え、得られた混合物を酢酸エチル（2 x 2 L） にて抽出した。有機層を合わせ、0.3N 塩酸（2L）、飽和重曹水（2 x 2 L）、飽和食塩水（2L）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮することで白色固体として目的化合物3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-ビニル-ベンズアミド（179 g, 87%）を得た。

¹H-NMR (DMSO-D₆) δ(PPM): 3.57 (2H, m), 3.85 (2H, t, J = 4.6 Hz), 4.71 (1H, br. s), 5.49 (1H, d, J = 11.2 Hz), 5.97 (1H, d, J = 17.6 Hz), 6.71 (1H, td, J = 8.8, 4.4 Hz), 6.78 (1H, dd, J = 17.6, 11.2 Hz), 7.36 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7.57 (1H, dd, J = 11.0, 1.7 Hz), 7.64 (1H, d, J = 6.8 Hz), 8.75 (1H, br. s), 11.89 (1H, br. s).
ESI(LC/MS positive mode) m/z 479 (M+H)

工程７
3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-5-ホルミル-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-ベンズアミド の合成

工程６で得られた3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-ビニル-ベンズアミド（179 g, 0.374 mol）をTHF（950ml）および水（950ml）の混合溶媒に溶解し、０℃に冷却後さらにN,N-ジメチルアセトアミド（13.9 mL, 0.149 mol）およびマイクロカプセル化酸化オスミウム（和光純薬工業、4.75 g, 1.87 mmol, 0.005eq.）を加え0℃において30 分攪拌した後、NaIO₄（320 g, 1.49 mol）を5~10分間隔で3回に分けて加えた。０℃のまま一晩（14時間）攪拌した。ヌッチェを用いて反応液をろ過し、ろ紙上の不溶物をTHF（1L）で洗浄した。

濾液と洗液を合わせ酢酸エチル（2L）で希釈し、0.2Mチオ硫酸ナトリウム水溶液（2L）と1.0N 塩酸（30ml）を加え洗浄し、水相を分離した。さらに有機層を0.2M チオ硫酸ナトリウム水溶液（2L）、飽和食塩水（500ml）にて洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮することで粗生成物（158 g）を得た。酢酸エチルから再結晶化を行い黄色粉末として目的化合物3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-5-ホルミル-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-ベンズアミド（101 g, 56%）を得た。

¹H-NMR (DMSO-D₆, 270MHz) δ(PPM) : 3.59 (2H, t, J = 4.6 Hz), 3.85 (2H, m), 4.73 (1H, br. s), 6.99 (1H, td, J = 8.8, 3.4 Hz), 7.48 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.66 (1H, dd, J = 10.5, 1.7 Hz), 7.86 (1H, d, J = 6.8 Hz), 9.59 (1H, br. s), 10.02 (1H, s), 12.10 (1H, br. s).
ESI(LC/MS positive mode) m/z 481 (M+H)

工程８
4-(1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-イソインドール-2-イルオキシ)-酪酸 エチル エステル の合成

4-ブロモ-n-酪酸 エチル エステル（120 g, 615 mmol）をジメチルホルムアミド（900 ml）に溶解し、室温にてN-ヒドロキシフタルイミド（120 g, 738 mmol）および N,N-ジイソプロピルエチルアミン（214 mL, 1.23 mol）を加え、80℃にて一晩攪拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ込み、得られた混合物を酢酸エチル（2 L + 1 L）にて抽出した。有機層を合わせ飽和食塩水（3 x 500 ml）にて洗浄、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮し粗化合物として4-(1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-イソインドール-2-イルオキシ)-酪酸エチルエステル（149 g）を得た。

この粗化合物は必要であれば、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（n-ヘキサン/酢酸エチル=2:1）にて精製することができる。

¹H-NMR (CDCl₃, 270MHz) δ(PPM) : 1.28 (3H, t, J = 6.9 Hz), 2.11 (2H, q, J = 6.9 Hz), 2.64 (2H, t, J = 7.3 Hz), 4.17 (2H, q, J = 7.3 Hz), 4.27 (2H, t, J = 6.3 Hz), 7.72-7.79 (2H, m), 7.81-7.89 (2H, m).

工程９
4-アミノオキシ-N-メチル-ブチルアミド の合成

工程８で得られた4-(1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-イソインドール-2-イルオキシ)-酪酸 エチル エステルの祖化合物をメタノール（500 ml）に溶解し、室温にてメチルアミン（40％メタノール溶液、1000 ml）を加え、60度にて一晩攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣に塩化メチレンを加え析出した固体を濾過、塩化メチレンにて洗浄した。濾液と洗液をあわせて減圧濃縮した。この操作をさらに３回繰り返すと、残渣に塩化メチレンを加えても固体が析出しなくなった。オイル状の残渣（約150 g）をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（シリカゲル1.5 kg, CH₂Cl₂/MeOH = 9:1~7:1）にて精製し、淡黄色シロップとして4-アミノオキシ-N-メチル-ブチルアミド（57.2 g, 2工程での収率70%）を得た。

¹H-NMR (CDCl₃, 270MHz) δ(PPM) : 1.94 (2H, q, J = 6.3 Hz), 2.25 (2H, t, J = 6.9 Hz), 2.81 (3H, d, J = 4.6 Hz), 3.70 (2H, t, J = 5.9 Hz).

工程１０
(E)-3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-{[(3-メチルカルバモイル-プロポキシイミノ)-メチル]-ベンズアミド の合成

工程８で得られた4-アミノオキシ-N-メチル-ブチルアミド34.7 ｇ（0.263 mol）をテトラヒドロフラン／メタノール（3:1）の混合溶媒（1.8 L）に溶解し、工程7において得られた3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-5-ホルミル-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-ベンズアミド（90.0 g, 0.187 mol）を加え、2日間撹拌した。反応液をわずかに溶媒が残存する程度まで減圧濃縮した後、アセトニトリル（1.1 L）を加えて沈殿物を生じさせた。この沈殿物をろ過、アセトニトリルで洗浄後、真空下乾燥させ目的化合物 (E)-3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-{[(3-メチルカルバモイル-プロポキシイミノ)-メチル]-ベンズアミド（111 g, 80%）を得た。

¹H-NMR (DMSO-D₆, 270MHz) δ(PPM) : 1.88 (2H, qui, J = 7.6 Hz), 2.17 (2H, t, J = 6.9 Hz), 2.56 (3H, d, J = 4.6 Hz), 3.57 (2H, br. q, J = 4.6 Hz), 3.83 (2H, t, J = 4.6 Hz), 4.14 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.73 (1H, t, J = 5.6 Hz), 6.80 (1H, td, J = 8.9, 4.0 Hz), 7.40 (1H, br. d, J = 8.6 Hz), 7.61 (1H, dd, J = 10.9, 2.0 Hz), 7.68 (1H, br. d, J = 5.6 Hz), 7.77 (1H, br q, J = 4.6 Hz), 8.26 (1H, s), 8.87 (1H, br. s), 11.99 (1H, br. s).
ESI(LC/MS positive mode) m/z 595 (M+H)

工程１１
3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-(3-オキソ-[1,2]オキサジナン-2-イルメチル)-ベンズアミド（化合物Ａ）の合成

工程10で得られた(E)-3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-{[(3-メチルカルバモイル-プロポキシイミノ)-メチル]-ベンズアミド（20.0 g, 33.7 mmol）を塩化メチレン（600 ml）に懸濁させ、室温にてボラン−ピリジン錯体（13.6 ml, 0.135 mol）およびジクロロ酢酸（16.6 ml, 0.202 mol）を加えた。室温にて14時間攪拌した後ロータリーエバポレーターにより塩化メチレンを減圧除去した。残渣を1,2-ジクロロエタン（600 ml）で希釈し、この混合液を60℃で8時間撹拌した後、反応液を濾過した。濾液を濃縮して得られた残渣を酢酸エチル（2 L）で希釈し、水（1 L），飽和重曹水（1 L）、飽和食塩水（1 L）の順で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル 700 g, CH₂Cl₂/MeOH = 20:1）で粗精製し、得られた粗化合物としての3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-(3-オキソ-[1,2]オキサジナン-2-イルメチル)-ベンズアミドを塩化メチレン/ペンタン（2:3）から再結晶を行った。１次晶（13.7g）、２次晶（2.8 g）を合わせ、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル 640 g, AcOEt/MeOH (30:1) → CH₂Cl₂/MeOH (4:1)）にて精製し、白色固体として目的化合物3,4-ジフルオロ-2-(2-フルオロ-4-ヨード-フェニルアミノ)-N-(2-ヒドロキシ-エトキシ)-5-(3-オキソ-[1,2]オキサジナン-2-イルメチル)-ベンズアミド（化合物A）（15.8 g, 83%）を得た。

¹H-NMR (CD₃OD, 400MHz) δ(PPM) : 2.10 (2H, qui, J = 6.8 Hz), 2.53 (2H, t, J = 6.8 Hz), 3.72 (2H, t, J = 4.4 Hz), 3.92 (2H, t, J = 4.4Hz), 4.04 (2H, t, J = 6.8Hz), 4.86 (2H, s), 6.61 (1H,ddd, J = 8.8, 8.8, 3.9 Hz), 7.33-7.36 (1H, m), 7.41 (1H, dd, J = 7.0, 1.7 Hz), 7.45 (1H, dd, J = 10.3, 2.0 Hz).
ESI(LC/MS positive mode) m/z 566 (M+H)

粉末X線回折測定
X線源にCu Kα（1.54060 Å）を用いる粉末X線回折測定の測定条件を以下に示す。
遊離体I形、II形、III形、IV形結晶の測定条件
測定装置：X'Pert-Pro MPD（PANalytical社製）
対陰極：Ｃｕ
管電圧：４０ｋＶ
管電流：４０ｍＡ
走査範囲：３〜３５°
サンプリング幅：０．０２５°

ナトリウム塩４水和物結晶の測定条件
測定装置：D8 Discover with GADDS CS diffractometer（Bruker AXS社製）
対陰極：Ｃｕ
管電圧：４５ｋＶ
管電流：４０ｍＡ
走査範囲：５〜２５°
サンプリング幅：０．０２°

DSC測定
DSC測定の測定条件を以下に示す。
測定装置：DSC6200R（SII NanoTechnology社製）
昇温速度：１０℃／分
雰囲気：窒素気流下
試料容器：簡易密封試料容器アルミニウム製

［実施例１］化合物Aの遊離体I形結晶の調製
化合物Aの粉末（３．２ｇ）をアセトニトリル（１０．７ｍＬ）に１２０℃にて溶解させ、室温に冷却した後、４５分間攪拌した。析出した結晶をろ過し、乾燥すると化合物Ａの遊離体I形結晶が白色の結晶固体として得られた（２．８ｇ）。該結晶の粉末Ｘ線回析パターンを図１に示す。また、表１に特徴的なピークの回析角度を示す。

ＤＳＣチャートを図６に示す。
吸熱ピーク：１４３℃付近。

［実施例２］化合物Aの遊離体II形結晶の調製
化合物Aの粉末（９７０ｍｇ）をDMSO（５ｍＬ）に溶解させたのち、この溶解液を−２０℃で３日間凍結乾燥した。得られた凍結乾燥物にメチルペンチルケトン（１．６ｍＬ）および１−クロロヘキサン（３．２ｍＬ）を加え、室温にて２日間振とう攪拌することで結晶を得た。析出した結晶をろ過し、乾燥することで遊離体II形結晶が白色の結晶固体として得られた（７６０ｍｇ）。該結晶の粉末Ｘ線回析パターンを図２に示す。また、表２に特徴的なピークの回析角度を示す。

ＤＳＣチャートを図７に示す。
吸熱ピーク：８１℃付近。

［実施例３］化合物Aの遊離体III形結晶の調製
化合物Aの粉末（９８０ｍｇ）をメチルペンチルケトン（２８ｍＬ）に加熱溶解させたのち、ジイソプロピルエーテル（１３７ｍＬ）を加え、５℃に３日間静置することで結晶を得た。析出した結晶をろ過し、乾燥することで遊離体III形結晶である白色の結晶固体（８１０ｍｇ）を得た。該結晶の粉末Ｘ線回析パターンを図３に示す。また、表３に特徴的なピークの回析角度を示す。

ＤＳＣチャートを図８に示す。
吸熱ピーク：１２４℃付近。

［実施例４］化合物Aの遊離体IV形結晶の調製
化合物Aの粉末（９８０ｍｇ）を酢酸エチル（３９ｍＬ）に加熱溶解させたのち、ジイソプロピルエーテル（９８ｍＬ）を加え、５℃に３日間静置することで結晶を得た。析出した結晶をろ過し、乾燥することで遊離体IV形結晶である白色の結晶固体（８３０ｍｇ）を得た。該結晶の粉末Ｘ線回析パターンを図４に示す。また、表４に特徴的なピークの回析角度を示す。

ＤＳＣチャートを図９に示す。
吸熱ピーク：１４３℃付近

［実施例５］化合物Aのナトリウム塩４水和物結晶の調製
化合物Aの粉末（５００ｍｇ）に２規定水酸化ナトリウム水溶液（０．４４ｍＬ）、水（１０ｍＬ）およびエタノール（２ｍＬ）を加え、加熱溶解させたのち、室温に冷却することで結晶を得た。析出した結晶をろ過し、大気下で乾燥することでナトリウム塩４水和物結晶である白色の結晶固体（４２５ｍｇ）を得た。該結晶の粉末Ｘ線回析パターンを図５に示す。また、表５に特徴的なピークの回析角度を示す。

ＤＳＣチャートを図１０に示す。
吸熱ピーク：９０℃および１００℃に脱水和由来のピーク、２２６℃付近に結晶の融解由来のピーク

［試験例１］遊離体結晶多形間の熱力学的安定性試験
本発明の遊離体I形結晶および遊離体III形結晶、遊離体IV形結晶を用い、熱力学的安定性試験を行った。各結晶はそれぞれ実施例１および実施例３、４の方法にて調製したものを試料として使用した。遊離体I形（２ｍｇ）および遊離体III形（２ｍｇ）をバイアルに取り、溶媒を２０μＬ加えた。溶媒には、水および５０％エタノールを用いた。同様に、遊離体I形と遊離体IV形もバイアルに取り、同じ操作を行った。各バイアルを1週間室温にて攪拌した後、バイアル中の結晶の粉末Ｘ線回折測定を行い、結晶形を確認した。 結果を表６に示す。いずれの条件においても、得られた結晶は遊離体I形結晶であった。このことから、遊離体I形は遊離体III形、遊離体IV形より熱力学的に安定であることが示された。

［試験例２］保存安定性試験
本発明の遊離体I形結晶およびナトリウム塩４水和物結晶を用い、保存安定性試験を行った。各結晶はそれぞれ実施例１および実施例５の方法にて調製したものを試料として使用した。各試料をシリカゲル入りデシケーター（乾燥条件）および飽和塩化ナトリウム水溶液入りデシケーター（加湿条件：相対湿度約７５％）内に保存し、それぞれのデシケーターを８０℃の高温槽内に静置した。２週間後、各試料の粉末Ｘ戦回折測定を行い、結晶形を確認した。結果を表７に示す。ナトリウム塩４水和物は乾燥条件下で脱水和し、加湿条件下では潮解してアモルファスとなった。一方、遊離体I形結晶は乾燥条件下でも加湿条件下でも転移せず安定であった。

［試験例３］光安定性試験
本発明の遊離体I形結晶およびナトリウム塩４水和物結晶を用い、保存安定性試験を行った。各結晶はそれぞれ実施例１および実施例５の方法にて調製したものを試料として使用した。各試料を透明ガラス容器に入れ、光安定性試験器（LABONIC LA110, ETAC）内に静置した。光源にＤ６５ランプ（FL20S・D-EDL-D65, Toshiba）を用い、総照度として864×10³lux・hr、総近紫外照射エネルギーとして233 W・h/m²の光を照射した。また、光照射前の試料として、同様に秤取したサンプルを遮光保存した。光照射前および光照射後の各試料をHPLCで定量し、保存による残存率を求めた。

各試料の定量は以下の手順で行った。試料（約１ｍｇ）を量り取り、エタノール（２．５ｍＬ）に溶解させ、試料溶液とした。各試料溶液２μＬを下記のＨＰＬＣ条件にて測定した。

ＨＰＬＣ条件
使用機器：Waters製HPLC（2790 separation module）
カラム：CAPCELL PAK C18 UG120, 3mmφ×50mm（Shiseido）
カラム温度：30°C
移動相A：トリフルオロ酢酸を０．１％含む水
移動相B：トリフルオロ酢酸を０．１％含むアセトニトリル
流速：０．５ｍＬ／ｍＬ
移動相条件：３８％Ｂ
サンプルクーラー温度：５℃
検出波長：２３０ｎｍ
測定範囲：試料溶液注入後１７分間

保持時間およそ４．９分の化合物由来のピーク面積から、以下の式にしたがって各試料の光照射後の残存率を算出した。

結果を表８に示す。ナトリウム塩４水和物結晶は光照射により分解が進行し、残存率は８２．９％まで低下したが、遊離体I形結晶は残存率９９．４％と安定であった。

試験例３の結果から、遊離体の結晶多形のうち、Ｉ形がIII形、ＩＶ形より安定であること示唆される。更に、試験例４、５の結果から、遊離体Ｉ形結晶はナトリウム塩４水和物結晶より安定であることが示唆される。なお、遊離体ＩＩ形は結晶格子内にＤＭＳＯを含む為、ＤＭＳＯ由来の毒性により医薬品として有用ではない。これらの観点から、本発明の遊離体Ｉ形結晶は特別な製剤的処置や特別な包装、特別な保存条件等によって安定化を図らずとも、安定的に医薬品を提供できる。

本発明は、優れたＭＥＫ阻害剤であるとともに、特別な製剤的処置や特別な包装、特別な保存条件等によって安定化を図る必要のない保存安定性に優れた医薬として有用な化合物Ａの結晶、およびその結晶多形を提供する。

Claims (11)

1. ３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドの結晶。
2. ３，４−ジフルオロ−２−（２−フルオロ−４−ヨード−フェニルアミノ）−N−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−５−（３−オキソ−[１，２]オキサジナン−２−イルメチル）−ベンズアミドが遊離体の形態である請求項1記載の結晶。
3. 粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が14.9、16.9および23.1°（±0.2°）であるピークを含む、請求項2記載の結晶。
4. 粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、さらに12.5、18.0および22.7°（±0.2°）であるピークを含む、請求項3記載の結晶。
5. 粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、さらに13.0、19.9および22.4°（±0.2°）であるピークを含む、請求項4記載の結晶。
6. DSC測定（昇温速度：10°C/min）における吸熱ピークの頂点温度が137°Cから147°Cである、請求項5記載の結晶。
7. 粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、5.4、6.2、11.1、15.4、17.4および21.1°（±0.2°）であるピークを含む、請求項１記載の結晶。
8. 粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、5.8、10.0、10.9、11.5、11.9および20.5°（±0.2°）であるピークを含む、請求項１記載の結晶。
9. 粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、7.9、11.7、13.6、17.9、20.9および23.8°（±0.2°）であるピークを含む、請求項１記載の結晶。
10. 粉末X線回折パターンにおいて、2θで表される回折角度が、8.3、10.7、12.4、14.2、16.5および21.8°（±0.2°）であるピークを含む、請求項１記載の結晶。
11. 請求項１〜１１のいずれかに記載の結晶を含有する医薬組成物。

Images