JP2016033943A - Power module - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、複数の半導体素子が実装されたパワーモジュールに関する。 The present invention relates to a power module on which a plurality of semiconductor elements are mounted.
近年の電力機器の小型化・高出力化に伴い、パワーモジュールの冷却対策が重要になってきている。従来、半導体素子が実装されたパワーモジュールの冷却方式としては、半導体素子の実装面と反対側に放熱器を設置して半導体素子の熱を逃がす方式が一般的である。ここで、特許文献1では、放熱性の向上を目的として半導体素子の実装面側にヒートスプレッダを設置した構造が開示されている。この構造は、ワイヤボンディングやリボンボンディングで半導体素子を基板に接合したパワーモジュールを対象としている。
With recent miniaturization and higher output of power equipment, cooling measures for power modules have become important. Conventionally, as a cooling method of a power module on which a semiconductor element is mounted, a method of dissipating heat of the semiconductor element by installing a radiator on the side opposite to the mounting surface of the semiconductor element is generally used. Here,
また、近年のパワーモジュールでは、高出力化の為に複数の半導体素子を実装し、小型化を狙って半導体素子間の距離を極力狭くする構造としている。 Further, recent power modules have a structure in which a plurality of semiconductor elements are mounted for higher output, and the distance between the semiconductor elements is made as narrow as possible in order to reduce the size.
しかしながら、上述した従来のパワーモジュールのように複数の半導体素子を実装して半導体素子間の距離を極力狭くする構造にした場合、各半導体素子の間の熱不均衡が発生しやすくなり、パワーモジュールの性能が低下してしまうという問題点があった。 However, when a plurality of semiconductor elements are mounted and the distance between the semiconductor elements is made as narrow as possible as in the above-described conventional power module, a thermal imbalance between the semiconductor elements is likely to occur, and the power module There is a problem that the performance of the system is degraded.
そこで、本発明は、上述した実情に鑑みて提案されたものであり、複数の半導体素子間の熱不均衡を解消して性能低下を防止することのできるパワーモジュールを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been proposed in view of the above-described circumstances, and an object thereof is to provide a power module capable of eliminating a thermal imbalance between a plurality of semiconductor elements and preventing performance degradation. .
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係るパワーモジュールは、絶縁性の基板と、基板上に形成された所定形状の金属配線層と、金属配線層を被覆する絶縁層とを備え、金属配線層に接続された複数の半導体素子を実装している。そして、パワーモジュールは、複数の半導体素子の周囲に、絶縁層による被覆がなく金属配線層が露出した放熱部が形成され、放熱部の広さは半導体素子の発熱量に応じて設定されている。 In order to solve the above-described problem, a power module according to one embodiment of the present invention includes an insulating substrate, a metal wiring layer having a predetermined shape formed over the substrate, and an insulating layer that covers the metal wiring layer. A plurality of semiconductor elements connected to the metal wiring layer are mounted. In the power module, a heat radiating portion that is not covered with an insulating layer and has an exposed metal wiring layer is formed around a plurality of semiconductor elements, and the size of the heat radiating portion is set according to the amount of heat generated by the semiconductor elements. .
本発明によれば、パワーモジュールに実装された複数の半導体素子間の熱不均衡を解消することができるので、パワーモジュールの性能低下を防止することができる。 According to the present invention, since the thermal imbalance among a plurality of semiconductor elements mounted on the power module can be eliminated, it is possible to prevent the performance of the power module from being deteriorated.
以下、本発明を適用した第1〜第5実施形態について図面を参照して説明する。 Hereinafter, first to fifth embodiments to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.
[第1実施形態]
[パワーモジュールの構造]
図1は本実施形態に係るパワーモジュールの構造を示す平面図であり、図2は図1のA−A断面図、図3は図1のB−B断面図である。図1〜3に示すように、本実施形態に係るパワーモジュール1は、絶縁性の基板3と、基板3上に形成された所定形状の金属配線層5と、金属配線層5を被覆する絶縁層7とを備え、金属配線層5に接続された複数の半導体素子11を実装している。
[First Embodiment]
[Power module structure]
FIG. 1 is a plan view showing the structure of a power module according to the present embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. As shown in FIGS. 1 to 3, the
パワーモジュール1は、2in1の構造をしており、上アームを構成する半導体素子11aと、下アームを構成する半導体素子11bとが1つの基板上に実装されている。ただし、パワーモジュール1の構造については2in1に限定する必要はなく、6in1や1in1等のその他の構造であっても適用可能である。
The
基板3は、エポキシ系樹脂等の絶縁性の素材で形成されている。基板3の下面には、ヒートスプレッダ13を介して放熱器15が設置され、ヒートスプレッダ13は銅やアルミニウム等の熱伝導性が良好な材料で形成されている。また、図1、3に示すように、ヒートスプレッダ13の一部は露出して、半導体素子11bからの配線が接続される接続部17が形成される。この接続部17は、半導体素子11b毎にそれぞれ設けられており、絶縁層7、金属配線層5、基板3による被覆がなくヒートスプレッダ13を露出させた構造をしている。これにより、ヒートスプレッダ13はN配線及びN端子として利用され、金属配線層として機能する。
The
金属配線層5は、P配線5aと出力配線5bとから構成され、配線抵抗の低い銅やアルミニウム等の材料で形成されている。P配線5aはP端子19に接続され、出力配線5bは出力端子21に接続されている。P端子19及び出力端子21は、配線抵抗の低いアルミニウムや銅等の材料を用いて形成され、Niめっき等の表面処理を施してもよい。
The
ここで、上アーム側の半導体素子11aの周囲には、絶縁層7による被覆がなくP配線5aを露出させた放熱部23aが形成され、下アーム側の半導体素子11bの周囲には、絶縁層7による被覆がなく出力配線5bを露出させた放熱部23bが形成されている。この放熱部23a、23bは、半導体素子11の近傍において絶縁層7を設けずに、その下層にあるP配線5a及び出力配線5bを露出させた構造の領域である。尚、P配線5a及び出力配線5bを露出させる際には、他の部品との絶縁性を確保したうえで露出させる。このように半導体素子11近傍のP配線5a及び出力配線5bを露出されることにより、露出させた部位から半導体素子11で発熱した熱を放熱させることができる。
Here, a
また、放熱部23aの広さ、すなわちP配線5aを露出させる面積については、並列に実装された半導体素子11aの発熱量に応じて設定されている。具体的には、複数の半導体素子11aのうち最も発熱量が大きい半導体素子の周囲に形成された放熱部の広さを最も広くし、発熱量が小さい半導体素子の周囲に形成された放熱部については発熱量に応じてP配線5aの露出面積を狭くする。図1では、P端子19に最も近い半導体素子11aの発熱量が最も大きいので、その周囲の放熱部23aが最も広く、P端子19から離れるにつれて放熱部23aの広さが狭くなるように設定されている。また、図1では、下アーム側の放熱部23bは、出力端子21に最も近い半導体素子11bの周囲だけに形成されているが、すべての半導体素子11bの周囲に放熱部23bを形成してもよい。この場合、放熱部23bの広さは、上述した上アーム側の放熱部23aと同様に半導体素子11bの発熱量に応じて設定される。
Further, the width of the
さらに、パワーモジュール1の表面には、半導体素子11aからの配線を出力配線5bに接続する接続部25が形成されている。この接続部25は、半導体素子11a毎にそれぞれ設けられており、絶縁層7による被覆がなく出力配線5bを露出させた構造をしている。
Further, on the surface of the
絶縁層7は、エポキシ系樹脂等の絶縁性素材で形成され、パワーモジュール1の表面を被覆している。
The
半導体素子11は、上アームを構成する複数の半導体素子11aと、下アームを構成する複数の半導体素子11bとから構成され、本実施形態ではMOSFETの場合を一例として説明する。ただし、半導体素子11はMOSFETに限らず、IGBTやサイリスタ等の他の半導体素子であってもよい。半導体素子11は、金属配線層5上に接合材27を介して接合されている。接合材27は、はんだ等のろう材を用いればよく、銀粒子等を用いたシンター接合でもよい。また、半導体素子11から接続部17、25に接続するワイヤー29、31は配線抵抗の低いアルミニウムや銅等の材料を使用しており、ワイヤーではなくリボンタイプであってもよい。半導体素子11の駆動は、上アーム側の半導体素子11aについてはゲート信号線33からのゲート信号によって行われ、下アーム側の半導体素子11bについてはゲート信号線35からのゲート信号によって行われる。
The
[パワーモジュールの作用効果]
上述した構造のパワーモジュール1を駆動すると、電流はP端子19からP配線5aを経由して、上アーム側に並列に実装された半導体素子11aのドレイン電極へ流れる。その後、電流は、半導体素子11aのソース電極からワイヤー29を経由して接続部25に流れ、出力配線5bを通って出力端子21へ流れる。
[Effects of power module]
When the
また、出力端子21から電流が流れる場合には、出力端子21からの電流は、出力配線5bを経由して下アーム側に並列に実装された半導体素子11bのドレイン電極へ流れる。その後、電流は、半導体素子11bのソース電極からワイヤー31を経由して接続部17に流れ、N配線及びN端子として機能するヒートスプレッダ13へ流れる。
When a current flows from the
このとき、本実施形態に係るパワーモジュール1では、金属配線層5を露出させた放熱部23a、23bを半導体素子11の周囲に形成したので、放熱部23a、23bから半導体素子11で発熱した熱を放熱することができる。これにより、パワーモジュール1の放熱性を向上させることができる。
At this time, in the
また、放熱部23a、23bの広さを半導体素子11の発熱量に応じて設定したので、並列に実装された複数の半導体素子11の間の熱不均衡を解消してパワーモジュール1の性能低下を防止することができる。
In addition, since the size of the
ここで、放熱部23a、23bを設けなかった場合の比較例と対比することによって、本実施形態に係るパワーモジュール1の放熱効果を具体的に説明する。図4は比較例のパワーモジュールの構造を示す平面図であり、図5は図4のC−C断面図である。
Here, the heat radiation effect of the
図4、5に示すように、比較例のパワーモジュール40は、上述した放熱部23a、23bが形成されていないので、半導体素子11の周囲には金属配線層5の表面に絶縁層7が形成されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, in the
この比較例において、パワーモジュール40を駆動すると、図6に示すように、P端子19からの電流I1は、P配線5aを介して上アーム側の半導体素子11aを流れ、接続部25を経由して出力配線5bから出力端子21へと流れる。このとき、3つ並列に実装されている半導体素子11aのうちP端子19に最も近接した半導体素子11aの周囲の領域Xに電流集中が発生しやすくなる。
In this comparative example, when the
また、出力端子21から電流が流れる場合には、図7に示すように、出力端子21からの電流I2は、出力配線5bを介して下アーム側の半導体素子11bを流れ、接続部17を経由してN端子となるヒートスプレッダ13へと流れる。このとき、3つ並列に実装されている半導体素子11bのうち出力端子21に最も近接した半導体素子11bの周囲の領域Yに電流集中が発生しやすくなる。
When current flows from the
したがって、P端子19及び出力端子21に近接した半導体素子の発熱量が増加し、並列に実装された他の半導体素子との間に熱不均衡が発生してパワーモジュールの性能を低下させていた。
Therefore, the amount of heat generated by the semiconductor elements adjacent to the
しかし、本実施形態に係るパワーモジュール1では、金属配線層5を露出させた放熱部23a、23bを半導体素子11の周囲に形成し、放熱部23a、23bの広さを半導体素子11の発熱量に応じて設定している。すなわち、P端子19及び出力端子21の最も近い位置では半導体素子11の発熱量が最も大きくなるので、放熱部23a、23bの広さ(金属配線層5の露出面積)を最も広くする。そして、P端子19及び出力端子21から離れるにしたがって半導体素子11の発熱量が低下するので、放熱部23a、23bの広さもP端子19及び出力端子21から離れるにしたがって狭くなるように設定する。これにより、並列に実装された複数の半導体素子11の間の熱不均衡を解消してパワーモジュール1の性能低下を防止することができる。
However, in the
また、特許文献1では、放熱性を向上させるために、ヒートスプレッダを半導体素子の実装面側に設置していたので、高さ方向のサイズアップになるという問題点があった。しかし、本実施形態に係るパワーモジュール1では、絶縁層7を除去して金属配線層5を露出させて放熱しているので、高さ方向にサイズアップすることなく、パワーモジュール1の放熱性を向上させることができる。
Further, in
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係るパワーモジュールについて図面を参照して説明する。図8は本実施形態に係るパワーモジュールの半導体素子周辺の構造を示す平面図であり、図9は図8のD−D断面図である。尚、第1実施形態と同一の構成要素には同一の番号を付して詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
Next, a power module according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a plan view showing the structure around the semiconductor element of the power module according to the present embodiment, and FIG. 9 is a sectional view taken along the line DD in FIG. In addition, the same number is attached | subjected to the component same as 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.
第1実施形態では、半導体素子11の周縁には放熱部23a、23bが直接形成されていたが、本実施形態では半導体素子11と放熱部23a、23bとの間に絶縁層70を形成したことが相違している。
In the first embodiment, the
図8、9に示すように、本実施形態に係るパワーモジュールでは、放熱部23a、23bに接する半導体素子11の周縁に絶縁層70を形成している。例えば、半導体素子11の端部から0.1〜0.3mm程度離れた位置に幅0.5mm程度の絶縁層70を、半導体素子11の外周に沿って形成する。この絶縁層70の外側は、金属配線層5を露出させた構造の放熱部23a、23bが形成されている。また、接合材27の厚さは0.1〜0.3mm程度に設定することが望ましい。
As shown in FIGS. 8 and 9, in the power module according to the present embodiment, an insulating
このように本実施形態に係るパワーモジュールでは、絶縁層70を半導体素子11の周縁に形成したので、半導体素子11の実装時に接合材27が幅0.5mm程度の絶縁層70によってせき止められる。したがって、接合材27が必要以上に濡れ広がることを防止できるので、半導体素子11の位置ズレ、θズレや接合材27の断面方向の傾きを抑制することが可能となる。
Thus, in the power module according to the present embodiment, since the insulating
これに対して、絶縁層70を形成しない場合には、半導体素子11を実装する工程で、位置決め治具等を用いずにリフロー炉等の実装工程を実施すると、図10の平面図に示すように接合材27が必要以上に濡れ広がる場合があった。また、図10のE−E断面図である図11に示すように、接合材27に断面方向の傾きが発生する場合があった。したがって、上述したように絶縁層70を形成することにより、半導体素子11の実装精度を向上させることができる。
On the other hand, when the insulating
[第3実施形態]
次に、本発明の第3実施形態に係るパワーモジュールについて図面を参照して説明する。図12は本実施形態に係るパワーモジュールの構造を示す平面図である。尚、第1及び第2実施形態と同一の構成要素には同一の番号を付して詳細な説明は省略する。
[Third Embodiment]
Next, a power module according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 12 is a plan view showing the structure of the power module according to the present embodiment. In addition, the same number is attached | subjected to the component same as 1st and 2nd embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.
第1実施形態では、接続部17、25は、ワイヤー29、31が接続される部分のみ絶縁層7がなくヒートスプレッダ13及び出力配線5bを露出させる構造となっていた。しかし、本実施形態ではワイヤー29、31の接続部分だけではなく、その周囲についても絶縁層7を設けずにヒートスプレッダ13及び出力配線5bを広く露出させるようにしたことが、第1実施形態と相違している。
In the first embodiment, the
図12に示すように、本実施形態に係るパワーモジュール50では、複数の半導体素子11毎に設けられていた図1の接続部17、25を拡大して第2の放熱部51、53を形成している。
As shown in FIG. 12, in the
第2の放熱部51は、絶縁層7による被覆がなく出力配線5bを露出させた構造をしており、図1の接続部25をその周囲やその間に拡大することによって形成されている。これにより、第2の放熱部51は、露出した部分全体で放熱を行うことができるので、パワーモジュール50の放熱性を向上させることができる。同様に、第2の放熱部53は、絶縁層7による被覆がなくヒートスプレッダ13を露出させた構造をしており、図1の接続部17をその周囲やその間に拡大することによって形成されている。これにより、第2の放熱部53は、露出した部分全体で放熱を行うことができるので、パワーモジュール50の放熱性を向上させることができる。尚、出力配線5b及びヒートスプレッダ13を露出させる際には、他の部品との絶縁性を確保したうえで露出させる。
The second
このように本実施形態に係るパワーモジュール50では、図1の接続部17、25をその周囲及びその間に拡大して第2の放熱部51、53を形成する。これにより、半導体素子11で発熱した熱を、ワイヤー29、31を通じて出力配線5b及びヒートスプレッダ13に伝熱させ、第2の放熱部51、53の露出した部分から放熱することができる。したがって、パワーモジュール50の放熱性を向上させることができる。
As described above, in the
[第4実施形態]
次に、本発明の第4実施形態に係るパワーモジュールについて図面を参照して説明する。図13は本実施形態に係るパワーモジュールの構造を示す平面図である。尚、第3実施形態と同一の構成要素には同一の番号を付して詳細な説明は省略する。
[Fourth Embodiment]
Next, a power module according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 13 is a plan view showing the structure of the power module according to the present embodiment. In addition, the same number is attached | subjected to the component same as 3rd Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.
図13に示すように、本実施形態に係るパワーモジュール60では、第2の放熱部61、63の広さを、接続された半導体素子11の発熱量に応じて設定したことが第3実施形態と相違している。
As shown in FIG. 13, in the
すなわち、第2の放熱部61では、並列に実装された半導体素子11aのうちP端子19に最も近い半導体素子の発熱量が最も大きいので、その半導体素子に接続された部分の広さ(出力配線5bの露出面積)が最も広くなるように設定されている。そして、P端子19から離れるにしたがって半導体素子11aの発熱量も小さくなるので、それに応じて第2の放熱部61の広さも狭くなるように設定されている。
That is, in the second
同様に、第2の放熱部63についても、並列に実装された半導体素子11bのうち出力端子21に最も近い半導体素子の発熱量が最も大きいので、その半導体素子に接続された部分の広さ(ヒートスプレッダ13の露出面積)が最も広くなるように設定されている。そして、出力端子21から離れるにしたがって半導体素子11bの発熱量も小さくなるので、それに応じて第2の放熱部63の広さも狭くなるように設定されている。
Similarly, in the second
このように本実施形態に係るパワーモジュール60では、第2の放熱部61、63の広さを、接続された半導体素子11の発熱量に応じて設定する。これにより、発熱量が大きい半導体素子11の放熱を他の半導体素子に比べて促進させることができるので、複数の半導体素子11の間の熱不均衡を改善することができ、パワーモジュール60の放熱性を向上させることができる。
As described above, in the
[第5実施形態]
次に、本発明の第5実施形態に係るパワーモジュールについて図面を参照して説明する。図14は本実施形態に係るパワーモジュールの半導体素子周辺の構造を示す平面図であり、図15は図14のF−F断面図である。尚、第1〜第4実施形態と同一の構成要素には同一の番号を付して詳細な説明は省略する。
[Fifth Embodiment]
Next, a power module according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 14 is a plan view showing the structure around the semiconductor element of the power module according to this embodiment, and FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line FF of FIG. In addition, the same number is attached | subjected to the component same as 1st-4th embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.
図14、15に示すように、本実施形態に係るパワーモジュールでは、樹脂等の充填剤81を基板上に充填したことが、上述した第1〜第4実施形態と相違している。
As shown in FIGS. 14 and 15, the power module according to the present embodiment is different from the first to fourth embodiments described above in that the substrate is filled with a
また、パワーモジュールに樹脂等を充填する場合には、絶縁層7の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料の充填剤81を用いる。具体的には、絶縁層7には熱伝導率が1W/m・K程度のエポキシ系樹脂を用い、充填剤81には熱伝導率が2〜4W/m・K程度の高熱伝導性シリコーンゲルや高熱伝導性のエポキシ系トランスファーモールド樹脂を用いる。
Further, when the power module is filled with resin or the like, a
このように本実施形態に係るパワーモジュールでは、絶縁層7の熱伝導率よりも高い熱伝導率の充填剤81を充填する。これにより、露出した放熱部23a、23bを充填剤81で塞いだ構造にしても放熱部23a、23bから充填剤81への熱の伝達が促進され、パワーモジュールの放熱性を向上させることができる。
Thus, in the power module according to the present embodiment, the
なお、上述の実施形態は本発明の一例である。このため、本発明は、上述の実施形態に限定されることはなく、この実施形態以外の形態であっても、本発明に係る技術的思想を逸脱しない範囲であれば、設計などに応じて種々の変更が可能であることは勿論である。 The above-described embodiment is an example of the present invention. For this reason, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and even if it is a form other than this embodiment, as long as it does not depart from the technical idea of the present invention, it depends on the design and the like. Of course, various modifications are possible.
1、40、50、60 パワーモジュール
3 基板
5 金属配線層
5a P配線
5b 出力配線
7、70 絶縁層
11、11a、11b 半導体素子
13 ヒートスプレッダ
15 放熱器
17、25 接続部
19 P端子
21 出力端子
23a、23b 放熱部
27 接合材
29、31 ワイヤー
33、35 ゲート信号線
51、53、61、63 第2の放熱部
81 充填剤
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記複数の半導体素子の周囲に、前記絶縁層による被覆がなく前記金属配線層が露出した放熱部が形成され、前記放熱部の広さは前記半導体素子の発熱量に応じて設定されていることを特徴とするパワーモジュール。 A power having an insulating substrate, a metal wiring layer having a predetermined shape formed on the substrate, and an insulating layer covering the metal wiring layer, and mounting a plurality of semiconductor elements connected to the metal wiring layer A module,
Around the plurality of semiconductor elements, there is formed a heat radiating portion that is not covered with the insulating layer and the metal wiring layer is exposed, and the size of the heat radiating portion is set according to the amount of heat generated by the semiconductor elements. Power module characterized by
前記複数の半導体素子毎に設けられた接続部を、前記接続部の周囲及び前記接続部の間に拡大して第2の放熱部を形成したことを特徴とする請求項1または2に記載のパワーモジュール。 A connection portion for connecting the wiring from the semiconductor element to the metal wiring layer by exposing the metal wiring layer without covering with the insulating layer is provided for each of the plurality of semiconductor elements,
The connection part provided for each of the plurality of semiconductor elements is enlarged around the connection part and between the connection parts to form a second heat radiating part. Power module.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025009315A1 (en) * | 2023-07-05 | 2025-01-09 | 株式会社デンソー | Semiconductor device |
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2014
- 2014-07-31 JP JP2014155889A patent/JP2016033943A/en active Pending
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