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JP2016021810A - Thermophotovoltaic power generator - Google Patents

Thermophotovoltaic power generator Download PDF

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JP2016021810A
JP2016021810A JP2014144315A JP2014144315A JP2016021810A JP 2016021810 A JP2016021810 A JP 2016021810A JP 2014144315 A JP2014144315 A JP 2014144315A JP 2014144315 A JP2014144315 A JP 2014144315A JP 2016021810 A JP2016021810 A JP 2016021810A
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JP
Japan
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light
radiator
wavelength range
disposed
photoelectric conversion
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Application number
JP2014144315A
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Japanese (ja)
Inventor
隆志 田口
Takashi Taguchi
隆志 田口
弘望 村松
Hiromochi Muramatsu
弘望 村松
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique capable of converting radiant light into electric power with a high conversion efficiency.SOLUTION: The thermophotovoltaic power generator includes: a radiation part (11); a receiving part (13); and a reflection part (15). The radiation part radiates radiant light being heated by the heat source device. The receiving part has a photoelectric conversion element (25) that receives the radiant light to convert the same into electric power. The reflection part is disposed between the radiation part and the receiving part. The reflection part has a light transmission property and selectively reflects a component of the radiant light, which is radiated from the radiation part in a predetermined wavelength region, to the radiation part. Here, the predetermined wavelength region means a wavelength region corresponding to a wavelength region of light which cannot be converted into the eclectic power by the photoelectric conversion element.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、輻射光を光電変換素子により電力に変換する熱光発電装置に関する。   The present invention relates to a thermophotoelectric generator that converts radiant light into electric power by a photoelectric conversion element.

熱光発電装置は、発電に機械的な動作を伴わないため摩耗や振動が発生しないという利点がある。一方、輻射光は幅広い波長分布を有するのに対し、光電変換素子は半導体バンドギャップに対応する吸収端波長より短波長の光しか電気に変換できず、光電変換素子の発電に寄与しない無効な波長帯域の光の放出は変換効率が低下につながる。   The thermoluminescent power generation apparatus has an advantage that no abrasion or vibration occurs because no mechanical operation is involved in power generation. On the other hand, while radiation light has a wide wavelength distribution, photoelectric conversion elements can only convert light with a wavelength shorter than the absorption edge wavelength corresponding to the semiconductor band gap into electricity, and are ineffective wavelengths that do not contribute to power generation of the photoelectric conversion elements. The emission of light in the band leads to a decrease in conversion efficiency.

変換効率を向上させるために、例えば、輻射光を放出する発光体をガスで加熱する熱光発電装置において、燃焼ガス進路において変化する燃焼ガス温度に適した発光特性を持つ発光体をそれぞれ配置する技術が提案されている(特許文献1参照)。   In order to improve the conversion efficiency, for example, in a thermophotoelectric power generation apparatus that heats a luminescent material that emits radiant light with a gas, each luminescent material having a luminescent property suitable for the combustion gas temperature that changes in the combustion gas path is disposed. A technique has been proposed (see Patent Document 1).

特許4134815号公報Japanese Patent No. 4134815

しかしながら、特許文献1の技術でも光電変換素子の変換に寄与しない無効な波長帯域の輻射光が制限なく放出される点には変わりがなく、変換効率の向上を妨げる原因となっている。   However, even in the technique of Patent Document 1, there is no change in that the radiation light in an invalid wavelength band that does not contribute to the conversion of the photoelectric conversion element is emitted without limitation, which is a cause of hindering the improvement of the conversion efficiency.

本発明は、高い変換効率で輻射光を電力に変換することができる技術を提供することを目的としている。   An object of this invention is to provide the technique which can convert radiant light into electric power with high conversion efficiency.

本発明の熱光発電装置は、輻射体(11)と、受光部(13)と、反射部(15)と、を備える。輻射体は、熱源装置により加熱されて輻射光を放出する。受光部は、上記輻射光を受光して電力に変換する光電変換素子(25)を備える。   The thermophotoelectric generator of the present invention includes a radiator (11), a light receiving part (13), and a reflecting part (15). The radiator is heated by the heat source device and emits radiation light. The light receiving unit includes a photoelectric conversion element (25) that receives the radiation light and converts it into electric power.

また反射部は、輻射体と受光部の間に配置され、光の透過性を有し、輻射体から放出された輻射光のうち所定の波長域の成分を選択的に輻射体に反射する。ここでいう所定の波長域とは、上記光電変換素子が電力に変換できない光の波長域に対応する波長域である。   The reflector is disposed between the radiator and the light receiver, has light transparency, and selectively reflects a component in a predetermined wavelength region of the radiated light emitted from the radiator to the radiator. The predetermined wavelength range here is a wavelength range corresponding to a wavelength range of light that cannot be converted into electric power by the photoelectric conversion element.

このように構成された熱光発電装置において、受光部に照射される輻射光は、光電変換素子にて電気に変換できない波長成分が反射部により反射されて低減されている。また反射部によって反射された光は輻射体に戻るため、再び輻射体を加熱する熱源として作用する。よって本発明の熱光発電装置は、高い変換効率で輻射光を電力に変換させることができる。   In the thus configured thermophotovoltaic power generation device, the radiation component irradiated to the light receiving portion is reduced by reflecting the wavelength component that cannot be converted into electricity by the photoelectric conversion element by the reflecting portion. Further, since the light reflected by the reflecting portion returns to the radiator, it acts again as a heat source for heating the radiator. Therefore, the thermophotoelectric generator of the present invention can convert radiant light into electric power with high conversion efficiency.

なお、この欄及び特許請求の範囲に記載した括弧内の符号は、一つの態様として後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。   In addition, the code | symbol in the parenthesis described in this column and a claim shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later as one aspect, Comprising: The technical scope of this invention is shown. It is not limited.

第1実施形態の熱光発電装置の構成を示す斜視断面図である。It is a perspective sectional view showing the composition of the thermophotoelectric generator of a 1st embodiment. 第1実施形態の熱光発電装置の構成を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the structure of the thermophotoelectric power generation apparatus of 1st Embodiment. 輻射体から放出される輻射光のスペクトル強度を示すグラフである。It is a graph which shows the spectral intensity of the radiation light discharge | released from a radiator. 石英ガラスの透過率を示すグラフである。It is a graph which shows the transmittance | permeability of quartz glass. 第1の赤外反射層の反射特性を示すグラフである。It is a graph which shows the reflective characteristic of a 1st infrared reflective layer. 輻射体から放出され、第1の赤外反射層を通過した輻射光のスペクトル強度を示すグラフである。It is a graph which shows the spectrum intensity | strength of the radiated light emitted from the radiator and passed through the 1st infrared reflective layer. 第2の赤外反射層の反射特性を示すグラフである。It is a graph which shows the reflective characteristic of a 2nd infrared reflective layer. 輻射体から放出され、第2の赤外反射層のみを通過した輻射光のスペクトル強度を示すグラフである。It is a graph which shows the spectrum intensity | strength of the radiant light emitted from the radiator and passed only through the 2nd infrared reflective layer. 輻射体から放出され、第1の赤外反射層及び第2の赤外反射層を通過した輻射光のスペクトル強度を示すグラフである。It is a graph which shows the spectrum intensity | strength of the radiation light discharge | released from the radiator and passed through the 1st infrared reflection layer and the 2nd infrared reflection layer. 第2実施形態の熱光発電装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the thermophotoelectric power generation apparatus of 2nd Embodiment.

以下、本発明が適用された実施形態について、図面を用いて説明する。
[1.第1実施形態]
[1−1.構成]
図1及び図2に示す熱光発電装置1は、輻射体11と、受光部13と、反射部15とを備える。いずれも円筒形状であり、内側から順に輻射体11、反射部15、受光部13の順で配置される。図1は図2のA−A断面の斜視図である。図2は輻射体11の中心軸を通過する平面での断面図である。また図1及び図2は熱光発電装置1の構成を模式的に示すものであり、各構成要素の大きさ等は正確ではない可能性がある。
Embodiments to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.
[1. First Embodiment]
[1-1. Constitution]
The thermophotoelectric generator 1 shown in FIGS. 1 and 2 includes a radiator 11, a light receiving unit 13, and a reflecting unit 15. All of them are cylindrical, and are arranged in the order of the radiator 11, the reflector 15, and the light receiver 13 from the inside. FIG. 1 is a perspective view of the AA cross section of FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view in a plane passing through the central axis of the radiator 11. Moreover, FIG.1 and FIG.2 shows typically the structure of the thermophotoelectric generator 1, and the magnitude | size etc. of each component may not be accurate.

熱光発電装置1は図2に示すように、入れ子構造として構成することができる。輻射体11の内側には熱源としてバーナー41が配置される。輻射体11は支持体43に支持される。輻射体11は加熱されて高温になるため、受光部13及び反射部15は輻射体11からの熱伝導を抑制するため支持体43とは異なる支持体45に支持される。   As shown in FIG. 2, the thermophotoelectric generator 1 can be configured as a nested structure. A burner 41 is disposed inside the radiator 11 as a heat source. The radiator 11 is supported by the support 43. Since the radiator 11 is heated to a high temperature, the light receiving unit 13 and the reflecting unit 15 are supported by a support 45 different from the support 43 in order to suppress heat conduction from the radiator 11.

輻射体11は上述したように円筒形状であり、外周側には輻射波長を狭帯域化する構造を設けることができる。具体的には、希土類酸化物をコーティングして希土類元素の準位間遷移を用いることで輻射波長を狭帯域化することが考えられる(例えば特開2000−272955号参照)。また、輻射体11の表面に微細周期構造を形成し、共鳴現象を利用することで狭帯域化してもよい(例えば特許3472838号参照)。   As described above, the radiator 11 has a cylindrical shape, and a structure for narrowing the radiation wavelength can be provided on the outer peripheral side. Specifically, it is conceivable to narrow the radiation wavelength band by coating a rare earth oxide and using transition between levels of rare earth elements (see, for example, JP-A-2000-272955). Further, the band may be narrowed by forming a fine periodic structure on the surface of the radiator 11 and utilizing a resonance phenomenon (see, for example, Japanese Patent No. 3472828).

輻射体11の内側には波長を狭帯域化する構造を設けていないが、内側へ出た輻射光は輻射体11に再吸収されて熱源として作用するため、熱エネルギー損失にはならない。
輻射体11はAl中にPrを10mol%混合して焼結した素材が用いられている。輻射体11は上述したように内側に配置される熱源(バーナー41)から供給される熱によって輻射体が高温に維持される。輻射体11を1850Kに加熱したときの、輻射光のスペクトル強度を図3に示す。図中の実線が1850Kにおける本輻射体11からの輻射エネルギーであり、破線は参考としての同温度における黒体からの輻射エネルギーである(以下のグラフでも同様)。
Although a structure for narrowing the wavelength band is not provided on the inside of the radiator 11, radiation light emitted to the inside is reabsorbed by the radiator 11 and acts as a heat source, so that no heat energy is lost.
Radiator 11 material was sintered by mixing 10 mol% of Pr 2 O 3 in Al 2 O 3 is used. As described above, the radiator 11 is maintained at a high temperature by the heat supplied from the heat source (burner 41) disposed inside. FIG. 3 shows the spectral intensity of the radiation when the radiator 11 is heated to 1850K. The solid line in the figure is the radiant energy from the radiator 11 at 1850K, and the broken line is the radiant energy from the black body at the same temperature as a reference (the same applies to the following graphs).

受光部13は、図1に示すように、円筒形状の基板21の内側面に多数の光電変換素子25が配置されてなるものであって、輻射体11及び反射部15を取り囲むように配置されている。輻射体11から放出され反射部15を透過した輻射光は光電変換素子25に入射し(図1における矢印2)、電力に変換される。   As shown in FIG. 1, the light receiving unit 13 includes a large number of photoelectric conversion elements 25 disposed on the inner surface of a cylindrical substrate 21, and is disposed so as to surround the radiator 11 and the reflecting unit 15. ing. Radiant light emitted from the radiator 11 and transmitted through the reflector 15 enters the photoelectric conversion element 25 (arrow 2 in FIG. 1) and is converted into electric power.

なお図1において光電変換素子25はその一部の配置を示すものであって、実際には基板21の内側全体に広く配置されている。
本実施形態では光電変換素子25としてGaSbを用いており、吸収端波長は1.72μmである。即ち、1.72μmよりも長波長の輻射光は電気に変換されないため、変換効率(発電効率)向上のためにはそれ以上の長波長の輻射光が照射される度合を低減することが望まれる。
In FIG. 1, the photoelectric conversion element 25 shows a partial arrangement of the photoelectric conversion element 25, and is actually widely arranged on the entire inner side of the substrate 21.
In this embodiment, GaSb is used as the photoelectric conversion element 25, and the absorption edge wavelength is 1.72 μm. That is, since radiation light having a wavelength longer than 1.72 μm is not converted into electricity, it is desired to reduce the degree of irradiation with radiation having a longer wavelength than that in order to improve conversion efficiency (power generation efficiency). .

基板21の材質は特に限定されないが、耐熱性を有し形状を保持する機能を有していることが望ましい。
反射部15は、受光部13による発電に寄与しない波長域の光を反射して輻射体11に戻すものであり(図1における矢印3)、輻射体11の外側に空隙を介して配置される。この空隙は真空(本実施形態では10Pa以下)に保たれている。
Although the material of the board | substrate 21 is not specifically limited, It is desirable to have the function to have heat resistance and a shape.
The reflector 15 reflects light in a wavelength region that does not contribute to power generation by the light receiver 13 and returns it to the radiator 11 (arrow 3 in FIG. 1), and is disposed outside the radiator 11 via a gap. . This void is kept in a vacuum (in this embodiment, 10 Pa or less).

反射部15は、円筒形状のガラス基体31と、ガラス基体31の内側面を覆う第1の赤外反射層33と、ガラス基体31の外側面を覆う第2の赤外反射層35と、を備える。第1の赤外反射層33が本発明における第1の反射層の一例であり、第2の赤外反射層35
が本発明における第2の反射層の一例である。
The reflection unit 15 includes a cylindrical glass substrate 31, a first infrared reflection layer 33 that covers the inner surface of the glass substrate 31, and a second infrared reflection layer 35 that covers the outer surface of the glass substrate 31. Prepare. The first infrared reflecting layer 33 is an example of the first reflecting layer in the present invention, and the second infrared reflecting layer 35 is used.
Is an example of the second reflective layer in the present invention.

ガラス基体31は光透過性を有する透明ガラスであり、本実施形態においては、透明ガラスとして石英ガラス(東ソー・クォーツ株式会社製ED−H又はED−C)を用いている。このガラス基体31は、各赤外反射層を支持する支持体となるものである。   The glass substrate 31 is a transparent glass having optical transparency. In the present embodiment, quartz glass (ED-H or ED-C manufactured by Tosoh Quartz Co., Ltd.) is used as the transparent glass. The glass substrate 31 serves as a support that supports each infrared reflection layer.

図4に、厚さ10mmの上記石英ガラスの透過率を表すグラフを示す(http://www.tqgj.co.jp/silicaglass/optical.htmlより引用)。可視領域では透過率が高く透明であるが、赤外線の波長が約3μmを超えると徐々に透過率が低下して吸収率が高くなり、約3.8μmより長い波長の赤外線に対してはその大部分を吸収する。   FIG. 4 shows a graph showing the transmittance of the quartz glass having a thickness of 10 mm (cited from http://www.tqgj.co.jp/silicaglass/optical.html). In the visible region, the transmittance is high and transparent. However, when the wavelength of infrared rays exceeds about 3 μm, the transmittance gradually decreases and the absorption rate increases, and this is large for infrared rays with wavelengths longer than about 3.8 μm. Absorb part.

次に、第1の赤外反射層33及び第2の赤外反射層35について説明する。屈折率の異なる複数の誘電体膜(例えばTiOとSiO)を交互に積層することで、赤外線の反射率を増加させることができることが知られている。これを利用して、適当な反射特性を有する反射層を形成する。 Next, the first infrared reflection layer 33 and the second infrared reflection layer 35 will be described. It is known that infrared reflectance can be increased by alternately laminating a plurality of dielectric films (for example, TiO 2 and SiO 2 ) having different refractive indexes. By utilizing this, a reflection layer having appropriate reflection characteristics is formed.

第1の赤外反射層33は、ガラス基体31に近い側から(TiO:306nm/SiO:568nm)×4周期+(TiO:306nm)+(SiO:284nm)の合計10層が積層された構成であり、図5の反射特性を有する。図5に表されるように、2.5μm以上の波長の赤外線に対して高い反射率を示しており、3μm以上の波長では特に高い反射率を示す。 The first infrared reflection layer 33 has a total of 10 layers of (TiO 2 : 306 nm / SiO 2 : 568 nm) × 4 periods + (TiO 2 : 306 nm) + (SiO 2 : 284 nm) from the side close to the glass substrate 31. The laminated structure has the reflection characteristics shown in FIG. As shown in FIG. 5, high reflectance is shown for infrared rays having a wavelength of 2.5 μm or more, and particularly high reflectance is shown at wavelengths of 3 μm or more.

即ち第1の赤外反射層33は、ガラス基体31が吸収する波長より長波長の赤外線(約3μm以上)の大部分を輻射体11側に反射する。図6は、輻射体11から放出され、第1の赤外反射層33を通過し、ガラス基体31に到達する輻射光のスペクトル強度を示すグラフである。図6から分かるように、ガラス基体31の吸収率の高い波長域(吸収率の特に高い3.8μm以上)の赤外線は大きく低減される。   That is, the first infrared reflection layer 33 reflects most of infrared rays (about 3 μm or more) having a longer wavelength than the wavelength absorbed by the glass substrate 31 to the radiator 11 side. FIG. 6 is a graph showing the spectral intensity of the radiation emitted from the radiator 11, passing through the first infrared reflection layer 33, and reaching the glass substrate 31. As can be seen from FIG. 6, the infrared rays in the wavelength region having a high absorption rate of the glass substrate 31 (particularly a high absorption rate of 3.8 μm or more) are greatly reduced.

それにより、輻射体11からの輻射エネルギーのうち、2.5μm以上の波長を有する赤外線のエネルギー、特に図3の実線における3.8μm以上の下側面積に相当するエネルギーの大部分が石英ガラスに吸収されることを抑制でき、長波長成分がガラス基体31を通過するときにガラス基体31に熱エネルギーとして吸収されて、エネルギーの損失になると同時にガラス基体31の温度が上昇してしまうことを抑制できる。   Thereby, of the radiant energy from the radiator 11, most of the energy corresponding to the infrared energy having a wavelength of 2.5 μm or more, particularly the lower area of 3.8 μm or more in the solid line in FIG. Absorption can be suppressed, and when the long wavelength component passes through the glass substrate 31, it is absorbed by the glass substrate 31 as thermal energy, thereby suppressing energy loss and simultaneously increasing the temperature of the glass substrate 31. it can.

第2の赤外反射層35は、ガラス基体31に近い側から(TiO:204nm/SiO:379nm)×4周期+(TiO:204nm)+(SiO:190nm)の合計10層が積層された構成であり、図7の特性を有する。図7に表されるように、第2の赤外反射層35は第1の赤外反射層と比較して反射帯域が短波長側にシフトされており、波長1.8〜2.8μmの赤外線を95%以上反射する。 The second infrared reflective layer 35 has a total of 10 layers of (TiO 2 : 204 nm / SiO 2 : 379 nm) × 4 periods + (TiO 2 : 204 nm) + (SiO 2 : 190 nm) from the side close to the glass substrate 31. The stacked structure has the characteristics shown in FIG. As shown in FIG. 7, the second infrared reflection layer 35 has a reflection band shifted to the short wavelength side as compared with the first infrared reflection layer, and has a wavelength of 1.8 to 2.8 μm. Reflects more than 95% of infrared rays.

図8は、第2の赤外反射層35のみを通過した輻射光のスペクトル強度を示すグラフである。図8から分かるように、第2の赤外反射層35を通過した輻射光は波長1.8〜2.8μmの光がほとんど含まれない。一方、石英ガラスの吸収波長域の光は第1の赤外反射層33を通過した場合よりも多めに含まれている。   FIG. 8 is a graph showing the spectral intensity of the radiation light that has passed through only the second infrared reflection layer 35. As can be seen from FIG. 8, the radiation light having passed through the second infrared reflection layer 35 contains almost no light having a wavelength of 1.8 to 2.8 μm. On the other hand, light in the absorption wavelength region of quartz glass is included in a larger amount than when it passes through the first infrared reflection layer 33.

図9は、第1の赤外反射層33及び第2の赤外反射層35を通過した輻射光のスペクトル強度を示すグラフである。図9から分かるように、スペクトル強度のほとんどがGaSb光電変換素子による電気変換が可能である1.72μm以下の波長域に入っており、光電変換素子25に照射される光を高い変換効率で電気に変換することができる。   FIG. 9 is a graph showing the spectral intensity of the radiation light that has passed through the first infrared reflection layer 33 and the second infrared reflection layer 35. As can be seen from FIG. 9, most of the spectral intensity is in the wavelength range of 1.72 μm or less where electrical conversion by the GaSb photoelectric conversion element is possible, and the light irradiated to the photoelectric conversion element 25 is electrically converted with high conversion efficiency. Can be converted to

即ち、第2の赤外反射層35は、第1の赤外反射層33及びガラス基体31を通過した赤外線のうち、受光部13の光電変換素子25が光電変換できない波長の赤外線の大部分を輻射体11側に反射する。   That is, the second infrared reflection layer 35 is configured to receive most of infrared rays having wavelengths that cannot be photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 25 of the light receiving unit 13 among infrared rays that have passed through the first infrared reflection layer 33 and the glass substrate 31. Reflected to the radiator 11 side.

なお、第2の赤外反射層35にて反射される波長域の光は往復でガラス基体31を通過することになるが、第1の赤外反射層33を通過した波長域の光に対するガラス基体31の透過率は高いため、エネルギー損失は軽微である。また輻射光における4μm以上の成分は、光電変換素子に到達する量が小さい。これは、一部はガラス基体31に吸収されものの、もともと輻射体11からの放出量が少ないためである。   The light in the wavelength range reflected by the second infrared reflection layer 35 passes through the glass substrate 31 in a reciprocating manner, but the glass for the light in the wavelength range that has passed through the first infrared reflection layer 33 is used. Since the transmittance of the substrate 31 is high, the energy loss is negligible. Further, the amount of the component of 4 μm or more in the radiant light reaches the photoelectric conversion element is small. This is because the amount of emission from the radiator 11 is originally small although a part is absorbed by the glass substrate 31.

ところで、上述した第1の赤外反射層33及び第2の赤外反射層35のような多層赤外線反射膜の作製には、例えば真空蒸着、スパッタ、イオンプレーティングなどの真空薄膜形成法が適用できる。円筒(ガラス基体31)を回転させながら上述した成膜法にて成膜することで円筒面上に均一な膜を形成することができる。   By the way, for the production of multilayer infrared reflective films such as the first infrared reflective layer 33 and the second infrared reflective layer 35 described above, vacuum thin film forming methods such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating are applied. it can. A uniform film can be formed on the cylindrical surface by forming the film by the film forming method described above while rotating the cylinder (glass substrate 31).

[1−2.作用及び効果]
以上詳述した第1実施形態によれば、以下の作用・効果が得られる。
[1A]熱光発電装置1は、輻射体11と、受光部13と、反射部15とを備える。輻射体11は、熱源装置であるバーナー41により加熱されて輻射光を放出する。受光部13は、輻射体11から照射される輻射光を受光して電力に変換する光電変換素子25を備える。
[1-2. Action and Effect]
According to the first embodiment described in detail above, the following operations and effects can be obtained.
[1A] The thermophotoelectric generator 1 includes a radiator 11, a light receiving unit 13, and a reflecting unit 15. The radiator 11 is heated by the burner 41 which is a heat source device, and emits radiation light. The light receiving unit 13 includes a photoelectric conversion element 25 that receives radiation light emitted from the radiator 11 and converts it into electric power.

反射部15は、輻射体11と受光部13の間に配置され、光の透過性を有し、所定の波長域の光を選択的に輻射体11に反射する。ここでいう所定の波長域とは、1.8μm以上の波長域であって、光電変換素子25が電力に変換できない光の波長域(1.72μm以上)に対応する波長域である。   The reflector 15 is disposed between the radiator 11 and the light receiver 13, has light transparency, and selectively reflects light in a predetermined wavelength range to the radiator 11. Here, the predetermined wavelength range is a wavelength range of 1.8 μm or more, and corresponds to a wavelength range (1.72 μm or more) of light that cannot be converted into electric power by the photoelectric conversion element 25.

したがって、受光部13に照射される輻射光は、光電変換素子25にて電気に変換できない波長の成分が低減されており、電気に変換できない波長の輻射光は反射部15にて反射されて輻射体11に戻り、輻射体11を再び加熱する熱源として作用する。   Therefore, the component of the wavelength that cannot be converted into electricity by the photoelectric conversion element 25 is reduced in the radiation light applied to the light receiving unit 13, and the radiation light that cannot be converted into electricity is reflected by the reflecting unit 15 and radiated. It returns to the body 11 and acts as a heat source for heating the radiator 11 again.

よって、受光部13に照射される光電変換素子25にて電気に変換されない波長の輻射光を低減でき、高い変換効率で電力を発生させることができる。
[1B]また熱光発電装置1において、反射部15は光の透過性を有する支持体となるガラス基体31と、ガラス基体31に配置され、光の透過性を有し、所定の波長域の光を選択的に反射する反射層(第1の赤外反射層33及び第2の赤外反射層35)と、を備える。このようにガラス基体31を支持体として反射層を配置することにより、反射部15を好適に構成することができる。
Therefore, radiation light having a wavelength that is not converted into electricity by the photoelectric conversion element 25 irradiated to the light receiving unit 13 can be reduced, and electric power can be generated with high conversion efficiency.
[1B] Further, in the thermophotovoltaic power generation device 1, the reflecting portion 15 is disposed on the glass base 31 serving as a light-transmitting support and the glass base 31, and has light transmittance and has a predetermined wavelength range. A reflective layer (first infrared reflective layer 33 and second infrared reflective layer 35) that selectively reflects light. Thus, the reflective part 15 can be suitably comprised by arrange | positioning a reflection layer by using the glass base 31 as a support body.

[1C]また熱光発電装置1において、第1の赤外反射層33はガラス基体31における輻射体11と対向する面に配置され、ガラス基体31の吸収する光の波長域(3μm以上)に対応する波長域(2.5μm以上)の光を反射する。   [1C] Further, in the thermophotoelectric generator 1, the first infrared reflection layer 33 is disposed on the surface of the glass substrate 31 facing the radiator 11, and in the wavelength range of light absorbed by the glass substrate 31 (3 μm or more). Reflects light in the corresponding wavelength region (2.5 μm or more).

また第2の赤外反射層35はガラス基体31における受光部13と対向する面に配置され、光電変換素子25が光電変換できない光の波長域(1.72μm以上)に対応する波長域(1.8〜2.8μm)の光を反射する。   The second infrared reflection layer 35 is disposed on the surface of the glass substrate 31 that faces the light receiving unit 13, and has a wavelength range (1) that corresponds to the wavelength range (1.72 μm or more) of light that cannot be photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 25. .8 to 2.8 μm).

このように反射層を配置することにより、ガラス基体31における輻射光の吸収を抑制できる。ガラス基体31に吸収される輻射光のエネルギーはガラス基体31の温度上昇に消費されるためエネルギーの損失となるが、輻射光の吸収を抑制することで電力変換効率の低下を抑制できる。またガラス基体31の温度上昇による劣化を抑制できると共に、またガラス基体31に配置される反射層が高温になり膜質が劣化してしまうことも抑制できる。   By arranging the reflective layer in this way, absorption of radiation light in the glass substrate 31 can be suppressed. The energy of the radiant light absorbed by the glass substrate 31 is consumed as the temperature of the glass substrate 31 is increased, so that the energy loss occurs. However, the decrease in power conversion efficiency can be suppressed by suppressing the absorption of the radiant light. In addition, it is possible to suppress deterioration due to the temperature rise of the glass substrate 31, and it is also possible to suppress the deterioration of the film quality due to the high temperature of the reflective layer disposed on the glass substrate 31.

また、第1の赤外反射層33と第2の赤外反射層35とは高度に反射する波長域が一部重なっており、第2の赤外反射層35による反射性能が低下する2.8μm以上の波長域については、第1の赤外反射層33にて反射される。よって、その波長域の光が受光部13に到達することも抑制できる。   Further, the first infrared reflection layer 33 and the second infrared reflection layer 35 partially overlap the highly reflective wavelength range, and the reflection performance of the second infrared reflection layer 35 is degraded. The wavelength region of 8 μm or more is reflected by the first infrared reflection layer 33. Therefore, it is also possible to suppress light in that wavelength range from reaching the light receiving unit 13.

[1D]また熱光発電装置1において、反射部15及び受光部13は、その外観形状が円筒状であり、輻射体11は反射部15の内部に配置され、光電変換素子25は受光部13の内側面に配置されている。したがって輻射体11から放出された輻射光は効率よく受光部13に到達し、また反射部15にて反射された輻射光は効率よく輻射体11に戻る。よって輻射光のロスが低減され、変換効率の向上を図ることができる。   [1D] Moreover, in the thermophotoelectric generator 1, the reflecting portion 15 and the light receiving portion 13 are cylindrical in appearance, the radiator 11 is disposed inside the reflecting portion 15, and the photoelectric conversion element 25 is the light receiving portion 13. It is arranged on the inside surface. Therefore, the radiation light emitted from the radiator 11 efficiently reaches the light receiving unit 13, and the radiation light reflected by the reflecting unit 15 efficiently returns to the radiator 11. Therefore, the loss of radiant light is reduced, and the conversion efficiency can be improved.

[1E]また熱光発電装置1は、反射部15が輻射体11から間隔を空けて配置されているため、輻射体11の高熱が伝導伝熱により反射部15に伝わることを抑制でき、反射部15の各要素が温度上昇により劣化してしまうことを抑制できる。   [1E] Moreover, since the reflection part 15 is arrange | positioned at intervals from the radiator 11, the thermophotoelectric generator 1 can suppress that the high heat | fever of the radiator 11 is transmitted to the reflection part 15 by conduction heat transfer, and reflection. It can suppress that each element of the part 15 deteriorates by a temperature rise.

仮に、反射層が輻射体に直接設けられている場合、輻射体を1000℃近辺の高温に加熱したとすると、膜質の劣化や熱膨張率差による剥離などが発生し、長時間にわたって適切に動作させることができない。   If the reflective layer is provided directly on the radiator, and if the radiator is heated to a high temperature around 1000 ° C, it will cause deterioration of the film quality and peeling due to the difference in coefficient of thermal expansion. I can't let you.

また熱光発電装置1において、反射部15と輻射体11との間の空間は真空となっている。真空にすることにより、発電に寄与しない対流伝熱による熱損失をなくすことができ、変換効率を向上することができる。また酸化などによる輻射体11の劣化も抑制することができる。   Moreover, in the thermophotoelectric generator 1, the space between the reflection part 15 and the radiator 11 is a vacuum. By making a vacuum, heat loss due to convective heat transfer that does not contribute to power generation can be eliminated, and conversion efficiency can be improved. Further, deterioration of the radiator 11 due to oxidation or the like can be suppressed.

なお反射部15と輻射体11との間の空間は大気圧よりも減圧された状態であればよく、大気圧よりも減圧されていれば、その空間が大気圧である場合と比較して、上述したように変換効率の向上や輻射体11の劣化の抑制を図ることができる。   The space between the reflector 15 and the radiator 11 only needs to be in a state where the pressure is reduced from the atmospheric pressure. If the pressure is reduced from the atmospheric pressure, compared to the case where the space is the atmospheric pressure, As described above, conversion efficiency can be improved and deterioration of the radiator 11 can be suppressed.

[2.第2実施形態]
[2−1.第1実施形態との相違点]
第2実施形態の熱光発電装置51は、第1実施形態の熱光発電装置1と共通の構成要素を用いているため、共通する構成については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
[2. Second Embodiment]
[2-1. Difference from the first embodiment]
Since the thermophotovoltaic generator 51 of the second embodiment uses the same components as the thermophotovoltaic generator 1 of the first embodiment, the description of the common configuration will be omitted, and differences will be mainly described. .

前述した第1実施形態では、反射部15として、ガラス基体31の内側面に第1の赤外反射層33が設けられ、外側面に第2の赤外反射層35が設けられる構成を例示した。これに対し本実施形態の熱光発電装置51は、図10に示すように、ガラス基体31と、そのガラス基体31の内側面に配置される第2の赤外反射層35と、によって反射部53が構成される。   In 1st Embodiment mentioned above, the structure which provided the 1st infrared reflection layer 33 in the inner surface of the glass base | substrate 31, and provided the 2nd infrared reflection layer 35 in the outer surface as the reflection part 15 was illustrated. . On the other hand, as shown in FIG. 10, the thermophotovoltaic power generation device 51 of the present embodiment includes a glass base 31 and a second infrared reflection layer 35 disposed on the inner surface of the glass base 31. 53 is configured.

[2−2.作用及び効果]
第2の赤外反射層35を通過した輻射光は図8に示すスペクトル強度となっており、ガラス基体31が吸収する波長域の光は第2の赤外反射層35を通過する前と比較して低減されている。したがって熱光発電装置51によれば、前述した第1実施形態の熱光発電装置1と同様に、受光部13に照射される光電変換素子25にて電気に変換されない波長の輻射光を低減でき、高い変換効率で電力を発生させることができる。
[2-2. Action and Effect]
The radiation light that has passed through the second infrared reflection layer 35 has the spectral intensity shown in FIG. 8, and the light in the wavelength region that the glass substrate 31 absorbs is compared with that before passing through the second infrared reflection layer 35. Has been reduced. Therefore, according to the thermophotoelectric generator 51, the radiant light having a wavelength that is not converted into electricity by the photoelectric conversion element 25 irradiated to the light receiving unit 13 can be reduced, as in the thermophotoelectric generator 1 of the first embodiment described above. Power can be generated with high conversion efficiency.

[3.他の実施形態]
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得る。
[3. Other Embodiments]
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention can take a various form, without being limited to the said embodiment.

[3A]上記実施形態では、反射部15の支持体としてガラス基体31を用いる構成を例示したが、支持体として利用できる材質は本実施形態で挙げた石英ガラスに限定されるものではなく、様々な材質を採用できる。例えば、ホウケイ酸ガラスやソーダ石灰ガラス、透明樹脂フィルムなどを用いることが考えられる。   [3A] In the above embodiment, the configuration in which the glass substrate 31 is used as the support of the reflecting portion 15 is exemplified, but the material that can be used as the support is not limited to the quartz glass described in the present embodiment, and various Can use various materials. For example, it is possible to use borosilicate glass, soda lime glass, a transparent resin film, or the like.

支持体は、光電変換素子25が光電変換できる波長域の光を完全に遮断しない透過性を有していればよいが、その波長域に対する透過性が高い材質ほど、支持体に吸収されることによるエネルギーロスを低減できる。   The support only needs to have a transparency that does not completely block light in a wavelength region that can be photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 25, but a material that has a higher transparency to the wavelength region can be absorbed by the support. Can reduce energy loss.

また、支持体として耐熱性を有している材質を採用することで支持体の劣化を抑制できる。支持体の劣化とは、例えば形状の変化や透過率の低下などが挙げられる。
なお、上記実施形態では図4に示す石英ガラスの光透過特性に合わせて第1の赤外反射層33や第2の赤外反射層35の反射特性を決定している。よって、異なる支持体を用いる場合にはその特性に合わせて反射層の設計を変更することができる。
Moreover, deterioration of a support body can be suppressed by employ | adopting the material which has heat resistance as a support body. Examples of the deterioration of the support include a change in shape and a decrease in transmittance.
In the above embodiment, the reflection characteristics of the first infrared reflection layer 33 and the second infrared reflection layer 35 are determined in accordance with the light transmission characteristics of the quartz glass shown in FIG. Therefore, when a different support is used, the design of the reflective layer can be changed in accordance with the characteristics.

例えばホウケイ酸ガラスやソーダ石灰ガラスは、石英ガラスよりも約1μm短波長の2.8μmより長波長の領域で透過率が低下する。この場合は、上記実施形態と同様の赤外反射層を用いることで上記[1A]、[2A]と同様の効果を奏することができるが、上記実施形態とは異なる反射特性の赤外反射層を用いてもよい。   For example, the transmittance of borosilicate glass or soda lime glass is lowered in a wavelength region longer than 2.8 μm, which is about 1 μm shorter than quartz glass. In this case, the same effect as [1A] and [2A] can be obtained by using the same infrared reflection layer as in the above embodiment, but the infrared reflection layer has a reflection characteristic different from that in the above embodiment. May be used.

また透明樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、ポリカーボネートなどを用いることができる。ポリエチレンは約3.4〜3.5μmの波長を強く吸収するが、図5に特性を示した第1の赤外反射層33を用いることで、上記波長域の光がポリエチレンに吸収されることを高度に抑制できる。   As the transparent resin film, polyethylene, polycarbonate, or the like can be used. Polyethylene strongly absorbs wavelengths of about 3.4 to 3.5 μm, but by using the first infrared reflection layer 33 whose characteristics are shown in FIG. 5, light in the above wavelength region is absorbed by the polyethylene. Can be suppressed to a high degree.

またポリエチレンの支持体に図7に特性を示した第2の赤外反射層35のみを輻射体と対向する面に配置した構成としても、上記波長域の光の照射を50%程度は抑制でき、光の吸収による発熱を約1/2に抑制することができる。   Moreover, even if only the second infrared reflection layer 35 having the characteristics shown in FIG. 7 is disposed on the surface facing the radiator on the polyethylene support, irradiation with light in the above-mentioned wavelength region can be suppressed by about 50%. The heat generation due to light absorption can be suppressed to about ½.

また上記実施形態では、光電変換素子25としてGaSb素子を用いる構成を例示したが、それ以外の素子を用いてもよい。一例として、Si素子やInAs素子を用いることができる。これらの素子はGaSbとは半導体バンドギャップに対応する吸収端波長が異なり電気に変換可能な波長域が異なるため、用いる素子の特性に合わせて反射層の設計を変更するとよい。   Moreover, in the said embodiment, although the structure which uses a GaSb element as the photoelectric conversion element 25 was illustrated, you may use an element other than that. As an example, a Si element or an InAs element can be used. Since these elements have different absorption edge wavelengths corresponding to the semiconductor band gap and different wavelength regions that can be converted into electricity, the design of the reflective layer may be changed in accordance with the characteristics of the elements used.

また上記実施形態では、反射部15及び受光部13は、その外観形状が円筒状であり、輻射体11は反射部15の内部に配置され、光電変換素子25は受光部13の内側面に配置される構成を例示したが、これ以外の構成としてもよい。   Moreover, in the said embodiment, the external appearance of the reflection part 15 and the light-receiving part 13 is cylindrical shape, the radiator 11 is arrange | positioned inside the reflection part 15, and the photoelectric conversion element 25 is arrange | positioned on the inner surface of the light-receiving part 13. Although the configuration to be performed is exemplified, other configurations may be used.

例えば、反射部及び受光部は平面形状や筒状でない曲面形状であってもよいし、円筒状以外の略筒状であってもよい。略筒状とは、概形は筒状であるが一部が異なる形状を含むものである。なお筒状にすることで輻射光が受光部に到達する割合を高くでき、エネルギーロスを低減できる。   For example, the reflecting portion and the light receiving portion may have a planar shape or a curved shape that is not cylindrical, or may be a substantially cylindrical shape other than a cylindrical shape. The term “substantially cylindrical” includes a shape that is generally cylindrical but partially different. In addition, by making it cylindrical, the rate at which radiant light reaches the light receiving portion can be increased, and energy loss can be reduced.

また、反射部及び受光部のいずれか一方又は両方が略球状であってもよい。球状とする場合は、例えば輻射体の周囲に球状の反射部が配置され、その周囲に球状の受光部が配置される構成とすることができる。また第1の赤外反射層は受光部の支持体の内側面に配置し、第2の赤外反射層は支持体の外側面に配置するとよい。もちろん、1つの赤外反射層のみ配置する構成としてもよい。   Further, either one or both of the reflecting part and the light receiving part may be substantially spherical. In the case of a spherical shape, for example, a spherical reflecting portion may be disposed around the radiator, and a spherical light receiving portion may be disposed around the spherical reflecting portion. The first infrared reflection layer may be disposed on the inner surface of the support of the light receiving unit, and the second infrared reflection layer may be disposed on the outer surface of the support. Of course, only one infrared reflecting layer may be arranged.

また上記実施形態では、輻射体11と反射部15とを入れ子状にしてそれらの間隔を空ける構成を例示したが、具体的な構成は特に限定されず、様々な構成を適用することができる。   Moreover, in the said embodiment, although the structure which nests the radiator 11 and the reflection part 15 and leaves those space | intervals was illustrated, the specific structure is not specifically limited and various structures are applicable.

また上記実施形態においては、輻射体11を加熱する熱源としてバーナー41を用いる構成を例示したが、バーナーに限らず様々な熱源を利用することができる。
[3B]上記実施形態の構成の少なくとも一部を、同様の機能を有する公知の構成に置き換えてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加又は置換してもよい。なお、特許請求の範囲に記載した文言のみによって特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本発明の実施形態である。
Moreover, in the said embodiment, although the structure which uses the burner 41 as a heat source which heats the radiator 11 was illustrated, not only a burner but various heat sources can be utilized.
[3B] At least a part of the configuration of the above embodiment may be replaced with a known configuration having the same function. Moreover, you may abbreviate | omit a part of structure of the said embodiment. In addition, at least a part of the configuration of the above embodiment may be added to or replaced with the configuration of the other embodiment. In addition, all the aspects included in the technical idea specified only by the wording described in the claim are embodiment of this invention.

1…熱光発電装置、11…輻射体、13…受光部、15…反射部、25…光電変換素子、31…ガラス基体、33…第1の赤外反射層、35…第2の赤外反射層、41…バーナー、51…熱光発電装置、53…反射部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thermophotoelectric generator, 11 ... Radiant, 13 ... Light-receiving part, 15 ... Reflection part, 25 ... Photoelectric conversion element, 31 ... Glass base | substrate, 33 ... 1st infrared reflection layer, 35 ... 2nd infrared Reflective layer, 41... Burner, 51.

Claims (7)

熱源装置(41)により加熱されて輻射光を放出する輻射体(11)と、
前記輻射光を受光して電力に変換する光電変換素子(25)を備える受光部(13)と、
前記輻射体と前記受光部の間に配置され、光の透過性を有し、前記輻射体から放出された輻射光のうち、所定の波長域の成分を選択的に前記輻射体に反射する反射部(15、53)と、を備え、
前記所定の波長域とは、前記光電変換素子が電力に変換できない光の波長域に対応する波長域である
ことを特徴とする熱光発電装置。
A radiator (11) that is heated by a heat source device (41) to emit radiation light; and
A light receiving section (13) including a photoelectric conversion element (25) that receives the radiation and converts it into electric power;
A reflection that is disposed between the radiator and the light receiving unit, has light transparency, and selectively reflects a component in a predetermined wavelength range to the radiator from the radiation light emitted from the radiator. Part (15, 53),
The said predetermined wavelength range is a wavelength range corresponding to the wavelength range of the light which the said photoelectric conversion element cannot convert into electric power. The thermophotoelectric generator characterized by the above-mentioned.
請求項1に記載の熱光発電装置であって、
前記反射部は、
光の透過性を有する支持体(31)と、
前記支持体に配置され、光の透過性を有し、前記所定の波長域の光を選択的に前記輻射体に反射する反射層(33、35)と、を備える
ことを特徴とする熱光発電装置。
The thermophotovoltaic power generator according to claim 1,
The reflective portion is
A support (31) having optical transparency;
A reflective layer (33, 35) disposed on the support and having light transmission properties, and selectively reflecting the light in the predetermined wavelength range to the radiator. Power generation device.
請求項2に記載の熱光発電装置であって、
前記反射層は、前記支持体の吸収する光の波長域に対応する波長域の光を反射する第1の反射層(33)と、前記光電変換素子が電力に変換できない光の波長域に対応する波長域の光を反射する第2の反射層(35)と、を含み、
前記第1の反射層は前記支持体における前記輻射体と対向する面に配置され、前記第2の反射層は前記支持体における前記受光部と対向する面に配置される
ことを特徴とする熱光発電装置。
The thermophotovoltaic power generator according to claim 2,
The reflective layer corresponds to a first reflective layer (33) that reflects light in a wavelength range corresponding to a wavelength range of light absorbed by the support, and a wavelength range of light that cannot be converted into electric power by the photoelectric conversion element. A second reflective layer (35) for reflecting light in a wavelength range to be
The first reflective layer is disposed on a surface of the support that faces the radiator, and the second reflective layer is disposed on a surface of the support that faces the light receiving unit. Photovoltaic generator.
請求項2に記載の熱光発電装置であって、
前記反射層は前記支持体における前記輻射体と対向する面に配置される
ことを特徴とする熱光発電装置。
The thermophotovoltaic power generator according to claim 2,
The reflective layer is disposed on a surface of the support that faces the radiator.
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の熱光発電装置であって、
前記反射部及び前記受光部は、その外観形状が略筒状又は略球状であり、
前記輻射体は前記反射部の内部に配置され、前記光電変換素子は前記受光部の内側面に配置される
ことを特徴とする熱光発電装置。
The thermophotoelectric generator according to any one of claims 1 to 4,
The reflection part and the light receiving part are substantially cylindrical or spherical in shape.
The radiator is disposed inside the reflecting portion, and the photoelectric conversion element is disposed on an inner surface of the light receiving portion.
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の熱光発電装置であって、
前記反射部は、前記輻射体から間隔を空けて配置されている
ことを特徴とする熱光発電装置。
The thermophotovoltaic power generator according to any one of claims 1 to 5,
The said reflection part is arrange | positioned at intervals from the said radiator. The thermophotoelectric generator characterized by the above-mentioned.
請求項6に記載の熱光発電装置であって、
前記反射部と前記輻射体との間の空間は、大気圧よりも減圧された状態である
ことを特徴とする熱光発電装置。
The thermophotovoltaic power generator according to claim 6,
The space between the reflection part and the radiator is in a state where the pressure is reduced from the atmospheric pressure.
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