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JP2016006748A - イオン発生装置および電気機器 - Google Patents

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JP2016006748A
JP2016006748A JP2014127325A JP2014127325A JP2016006748A JP 2016006748 A JP2016006748 A JP 2016006748A JP 2014127325 A JP2014127325 A JP 2014127325A JP 2014127325 A JP2014127325 A JP 2014127325A JP 2016006748 A JP2016006748 A JP 2016006748A
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哲也 江崎
Tetsuya Ezaki
哲也 江崎
聡彦 山本
Satohiko Yamamoto
聡彦 山本
世古口 美徳
Yoshinori Sekoguchi
美徳 世古口
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Abstract

【課題】塵埃を含む高湿度環境下においても高濃度のイオンを供給できるイオン発生装置および電気機器を提供する。
【解決手段】放電電極31は、基板21に支持されている。誘導電極41は、放電電極31から離れて基板21に支持されており、放電電極31との間でイオンを発生させる。筐体10は、基板21および誘導電極41を収容している。筐体10には、放電電極31を外部に露出させる貫通孔11が形成されている。閉塞材51は、誘導電極41と筐体10との隙間、および誘導電極41と基板21との隙間のうち、最も距離の短い隙間を閉塞している。誘導電極41は、閉塞材51に覆われた脚部41eと、閉塞材51から突出する先端41aとを有している。
【選択図】図3

Description

本発明は、イオン発生装置および電気機器に関し、特に、放電電極との間でイオンを発生させる誘導電極とを備えるイオン発生装置と、そのイオン発生装置を用いた電気機器とに関する。
従来、室内の空気の浄化、殺菌または消臭などを行なうために、イオン発生装置が利用されている。イオン発生装置の多くでは、放電電極に高電圧を印加した際に、鋭角化した放電電極の先端で電界集中が生じ、放電電極の先端の周辺の空気が絶縁破壊することで放電現象を引き起こし、イオンを発生させる仕組みとなっており、放電電極と誘電電極とが対になる構造を有している。
特開2009−238409号公報(特許文献1)には、イオンおよびオゾンの両方を同時に発生させることができるイオン発生器が開示されている。樹脂ケースが内部に形成する収容部にイオン発生器およびグランド電極が配設されており、イオン発生器はグランド電極および放電針電極を備えており、グランド電極の延在部はスイッチを介して設置され、スイッチはグランド電極と接地との導通と非導通とを切り替え、スイッチのオンとオフとを切り替えることによりオゾンの発生と停止とを切り替えることができる、と記載されている。
特開2009−238409号公報
特許文献1に記載のイオン発生器では、グランド電極が非導通であるときにグランド電極にある一定の電位が与えられる状態となるため、塵埃を含む高湿度環境下では、グランド電極と周囲の筐体との間で微小リークや異常放電が生じ、性能低下を招く。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、塵埃を含む高湿度環境下においても、性能を維持でき高濃度のイオンを供給できる、イオン発生装置および電気機器を提供することである。
本発明に係るイオン発生装置は、基板と、放電電極と、誘導電極と、筐体と、閉塞材とを備えている。放電電極は、基板に支持されている。誘導電極は、放電電極から離れて基板に支持されており、放電電極との間でイオンを発生させる。筐体は、基板および誘導電極を収容している。筐体には、放電電極を外部に露出させる開口が形成されている。閉塞材は、誘導電極と筐体との隙間、および誘導電極と基板との隙間のうち、最も距離の短い隙間を閉塞している。誘導電極は、閉塞材に覆われた根元部と、閉塞材から突出する先端とを有している。
上記イオン発生装置において好ましくは、誘導電極は非接地である。
上記イオン発生装置において好ましくは、誘導電極の先端と放電電極との間の距離は、誘導電極の根元部と放電電極との間の距離よりも小さい。
上記イオン発生装置において好ましくは、放電電極に印加するための高電圧を発生する高電圧発生部をさらに備えている。高電圧発生部は、筐体に収容されており、モールド材によって封止されている。
上記イオン発生装置において好ましくは、放電電極と誘導電極との少なくともいずれか一方を複数個備えている。
本発明に係る電気機器は、上記のいずれかの局面のイオン発生装置と、気体を送風する送風装置とを備えており、機器外に正イオンおよび負イオンの少なくともいずれか一方を送出する。
本発明のイオン発生装置によれば、塵埃を含む高湿度環境下においても、誘導電極と筐体または基板との隙間における異常放電を抑制できるので、長期に亘ってイオン発生装置の性能を維持することができ、高濃度のイオンを供給することができる。
実施の形態1のイオン発生装置の構成を示す平面図である。 図1に示すII−II線に沿うイオン発生装置の断面図である。 図2に示す領域III付近を拡大した、イオン発生装置の断面図である。 実施の形態1のイオン発生装置の電極の構成を概略的に示す斜視図である。 実施の形態1のイオン発生装置の構成を示す回路図である。 実施の形態2のイオン発生装置の構成を示す平面図である。 図6に示すVII−VII線に沿うイオン発生装置の断面図である。 実施の形態3のイオン発生装置の構成を示す平面図である。 図8に示すIX−IX線に沿うイオン発生装置の断面図である。 イオン発生装置を用いた空気調和機の内部構造を示す側面図である。
以下、図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において、同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1のイオン発生装置1の構成を示す平面図である。図2は、図1に示すII−II線に沿うイオン発生装置1の断面図である。図3は、図2に示す領域III付近を拡大した、イオン発生装置1の断面図である。図4は、実施の形態1のイオン発生装置1の電極の構成を概略的に示す斜視図である。図1〜図4を参照して、実施の形態1のイオン発生装置1の構造について説明する。
実施の形態1のイオン発生装置1は、筐体10と、基板21,22と、放電電極31,32と、誘導電極41,42と、高電圧発生部60とを主に備えている。筐体10は、基板21,22、放電電極31,32、誘導電極41,42および高電圧発生部60を、その内部に収容している。イオン発生装置1を構成する各要素は、筐体10内に収められて一体化されている。
放電電極31,32は、先端が尖鋭化された針形状を有している。放電電極31,32は、同一平面内に、各電極の中心軸が互いに平行になるように配置されている。放電電極31,32は、電極の中心軸に直交する方向に距離を設けて並んでいる。放電電極31は、筐体10の一方端側(図1,2中の左側)に配置されており、放電電極32は、筐体10の他方端側(図1,2中の右側)に配置されている。
放電電極31は、平板状の基板21に設けられている。基板21は、放電電極31を支持している。基板21はまた、誘導電極41を支持している。放電電極31と誘導電極41とは、基板21に搭載されている。基板21は、主表面21aおよび裏面21b(図3)を有している。放電電極31および誘導電極41は、基板21の主表面21aから突出している。
放電電極31は、基板21の厚み方向に延びている。放電電極31は、図3に示すように、尖鋭な形状の尖端31aと、尖端31aに対し反対側の基端31bと、基板21により支持された根元部31dと、根元部31dから尖端31aへ向けて先細るテーパ部31cとを有している。尖端31aは、基板21の主表面21aから突出している。基端31bは、基板21の裏面21bから突出している。放電電極31は、基板21を貫通した状態で基板21に固定されている。基板21には、放電電極31の根元部31dを挿通させるための貫通孔が形成されている。
誘導電極41は、放電電極31から離れて配置されている。誘導電極41は、一体の金属板により形成されている。誘導電極41は、図3に示すように、平板部41cと、屈曲部41dと、脚部41eとを有している。平板部41cは、基板21と平行に、基板21と間隔を空けて配置されている。図4に示すように、平板部41cには、円形の貫通孔が形成されている。誘導電極41の平板部41cは、穴あき板金よりなっている。
屈曲部41dは、平板部41cおよび脚部41eに対して屈曲した平板状の形状を有しており、平板部41cおよび脚部41eに対して傾斜する方向に延びている。平板部41cと屈曲部41dとの延びる方向は鋭角を形成しており、屈曲部41dと脚部41eとの延びる方向は鋭角を形成している。屈曲部41dの一方端は平板部41cに繋がっており、他方端は脚部41eに繋がっている。脚部41eは、誘導電極41の根元部を構成しており、平板部41cに直交する方向に延びている。脚部41eは、基板21の厚み方向に延びる平板状の形状を有しており、基板21を貫通した状態で基板21に支持されている。基板21には、脚部41eを挿通させるための貫通孔が形成されている。
誘導電極41は、先端41aと、基端41bとを有している。先端41aは、平板部41cに形成された貫通孔の内周面に相当する部分であり、放電電極31に対向している。先端41aは、誘導電極41のうち、放電電極31の最も近くに配置された部分である。先端41aと放電電極31との間の距離は、屈曲部41dと放電電極31との間の距離よりも小さく、かつ、脚部41eと放電電極31との間の距離よりも小さい。基端41bは、脚部41eの端部に相当し、基板21に対し裏面21b側に突出している。
放電電極31および誘導電極41が基板21に取り付けられた状態で、放電電極31は、誘導電極41の平板部41cに形成された貫通孔の略中心に位置している。
放電電極32は、平板状の基板22に設けられている。基板22は、放電電極32を支持している。基板22はまた、誘導電極42を支持している。誘導電極42は、一体の金属板により形成されている。放電電極32および誘導電極42は、図3,4に示す放電電極31および誘導電極41と、同じ形状に形成されている。
高電圧発生部60は、放電電極31,32に印加するための高電圧を発生する。高電圧発生部60は、放電電極31と放電電極32との間に配置されている。高電圧発生部60と、放電電極31,32および誘導電極41,42とは、図示しない配線を介して電気的に接続されている。
筐体10は、イオン発生装置1の外観をなしている。筐体10は、PBT(ポリブチレンテレフタラート)、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン)、PP(ポリプロピレン)などの熱可塑性樹脂を用いて、射出成形などにより一体に成形されている。筐体10は、内部に中空空間を有する薄型箱形状に形成されている。図2,3中の上下方向が、筐体10の厚み方向である。基板21,22は、筐体10の厚み方向に直交する方向に延び、筐体10の天井部および床部と平行に、天井部および床部と間隔を空けて配置されている。放電電極31は、筐体10の厚み方向に延びている。誘導電極41の脚部41eは、筐体10の厚み方向に延びている。
筐体10の天井部に、筐体10を厚み方向に貫通する2箇所の貫通孔11,12が形成されている。貫通孔11は、放電電極31で発生するイオンを筐体10の外部へ放出するための開口である。貫通孔12は、放電電極32で発生するイオンを筐体10の外部へ放出するための開口である。放電電極31は、貫通孔11を介して、筐体10の外部に露出している。放電電極32は、貫通孔12を介して、筐体10の外部に露出している。放電電極31,32は、図1に示すイオン発生装置1を平面視した状態で、それぞれ貫通孔11,12を介して外部から視認可能に設けられている。
筐体10は、壁部17,18をその内部に有している。筐体10の内部空間は、壁部17,18により、放電電極31および誘導電極41を収容する領域と、高電圧発生部60を収容する領域と、放電電極32および誘導電極42を収容する領域とに区画されている。
基板21、放電電極31および誘導電極41は、第1のイオン発生素子を構成している。基板22、放電電極32および誘導電極42は、第2のイオン発生素子を構成している。図1に示す平面視矩形の筐体10の長手方向に、第1のイオン発生素子、高電圧発生部60、第2のイオン発生素子が、順に並べられている。第1のイオン発生素子と第2のイオン発生素子とは、互いにスペースを挟んで筐体10内に配置されている。第1のイオン発生素子と第2のイオン発生素子とは、互いに空間的に分離されている。
放電電極31,32は、その全体が筐体10の内部に収容されており、針先(放電電極31の尖端31a)が筐体10の外部へ突出しない配置とされている。この配置に替えて、放電電極31,32がそれぞれ貫通孔11,12を貫通して、筐体10の外部にまで延出する配置としてもよく、この場合、安全性を向上させるために、放電電極31,32の針先に直接触れられなくする保護カバーを設けてもよい。
筐体10は、周壁16を有している。周壁16は、筐体10の厚み方向に延びている。周壁16の一方端は、貫通孔11,12の形成された天井部に繋がっている。周壁16の他方端は、筐体10の床部に繋がっている。周壁16は、筐体10の側面を構成している。基板21は、周壁16と壁部17とによって、筐体10の内部に支持されている。基板22は、周壁16と壁部18とによって、筐体10の内部に支持されている。
誘導電極41の脚部41eと周壁16とは、図3に示す距離D1を隔てて、平行に延びている。誘導電極41の平板部41cと基板21とは、距離D2を隔てて、平行に延びている。筐体10の天井部と平板部41cとは、距離D3を隔てて、平行に延びている。本実施の形態では、距離D1〜D3のうち、脚部41eと周壁16との間の距離D1が最も小さい。誘導電極41と筐体10との隙間、および誘導電極41と基板21との隙間のうち、誘導電極41の脚部41eと筐体10の周壁16との隙間が、最も距離の短い隙間とされている。
基板21の裏面21bは、モールド材55によって覆われている。基板22の裏面も同様に、モールド材55によって覆われている。モールド材55は、高電圧発生部60を封止している。高電圧発生部60と基板21,22とを接続している配線もまた、モールド材55により封止され密閉されている。モールド材55は、エポキシ樹脂に代表される、高絶縁性の材料である。筐体10の内部の、基板21に対して裏面21b側の空間、基板22に対して裏面側の空間、および高電圧発生部60を収容している領域に、モールド材55が充填されている。放電電極31の基端31b、および誘導電極41の基端41bは、モールド材55により封止されている。
基板21の主表面21aは、閉塞材51によって覆われている。放電電極31の根元部31dの一部は、閉塞材51の内部に埋め込まれている。根元部31dの下方部分は、閉塞材51により封止されている。放電電極31の尖端31aは、閉塞材51の表面51aから突出している。尖端31aが閉塞材51から突出していることにより、放電電極31で発生したイオンを速やかに搬送できる構成とされている。
誘導電極41の脚部41eは、その全部が閉塞材51の内部に埋め込まれている。脚部41eは、その全体が、閉塞材51によって封止されている。誘導電極41の平板部41cの一部は、閉塞材51の表面51aから突出している。誘導電極41の先端41aは、閉塞材51の表面51aから突出し閉塞材51の外部に設けられている部分を有している。
誘導電極41のうち、筐体10または基板21と最も距離の短い隙間を形成している脚部41eは、閉塞材51により密閉されている。誘導電極41の脚部41eと、筐体10の周壁16との間の微小な隙間は、閉塞材51によって埋められている。脚部41eと周壁16との間には閉塞材51が充填され、脚部41eと周壁16との間に空洞が残存しないような構成とされている。
閉塞材51は、誘導電極41の平板部41cに到達する程度の厚みを有して、基板21の主表面21a上に堆積されている。誘導電極41の平板部41cと、基板21の主表面21aとの間の微小な隙間は、閉塞材51によって埋められている。平板部41cと基板21との間には閉塞材51が充填され、平板部41cと基板21との間に空洞が残存しないような構成とされている。
基板22の主表面も同様に、閉塞材52によって覆われている。放電電極32の根元部の下方部分は、閉塞材52の内部に埋め込まれており、尖端は閉塞材52から突出している。誘導電極42の脚部は、その全体が閉塞材52に埋め込まれている。誘導電極42の先端は、閉塞材52の表面から突出し、閉塞材52に外部に設けられている。誘導電極42の脚部と筐体10の周壁16との間の隙間、および、誘導電極42の平板部と基板22との間の隙間は、閉塞材52によって完全に塞がれている。
閉塞材51,52は、絶縁耐圧に優れる材料であって、製造の容易のために流動性に優れる材料であるのが望ましい。閉塞材51,52は、フッ素系樹脂コーティング材に代表される、撥水性、絶縁耐圧および機械的強度に優れた各種樹脂コーティング材であってもよく、または、エポキシ樹脂に代表される絶縁耐圧に優れた各種充填剤であってもよい。閉塞材51,52は、モールド材55と同じ材料で形成されてもよく、またはモールド材55と異なる材料で形成されてもよい。
閉塞材51,52は、以下のようにして形成することができる。まず、放電電極31と誘導電極41とを搭載した基板21、放電電極32と誘導電極42とを搭載した基板22、および高電圧発生部60を筐体10の内部に収容し、モールド材55を充填した構造体を準備する。次に、貫通孔11を経由して樹脂材料を基板21上に流し込み、貫通孔12を経由して樹脂材料を基板22上に流し込む。さらに、流し込んだ樹脂材料を硬化させる。このようにして、好適な閉塞材51,52を形成することができる。
図5は、実施の形態1のイオン発生装置1の構成を示す回路図である。図5に示すように、イオン発生装置1は、放電電極31,32および誘導電極41,42の他に、端子T1,T2、昇圧回路90、昇圧トランス91、ダイオード92,93、およびコンデンサ94,95を備えている。昇圧回路90、昇圧トランス91、ダイオード92,93、およびコンデンサ94,95は、図2に示す高電圧発生部60の構成に含まれている。
昇圧回路90は、ダイオード、抵抗素子およびNPNバイポーラトランジスタなどを適宜含んで構成されている。昇圧トランス91は、一次巻線91aと、二次巻線91bとを含んでいる。ダイオード92,93およびコンデンサ94,95は、整流のために設けられている。二次巻線91bの一端は、放電電極31,32に電気的に接続されている。二次巻線91bの他端は、誘導電極41,42に電気的に接続されている。昇圧トランス91は、放電電極31,32のそれぞれに印加される正または負の高電圧を発生する。
端子T1,T2間に電圧が印加されると、ダイオード92を介して正の高電圧パルスが放電電極31に印加され、ダイオード93を介して負の高電圧パルスが放電電極32に印加される。これにより、放電電極31と誘導電極41との間に電位差が生じ、放電電極31の針先と誘導電極41との間でコロナ放電が発生し、正イオンが発生する。また、放電電極32と誘導電極42との間に電位差が生じ、放電電極32の針先と誘導電極42との間でコロナ放電が発生し、負イオンが発生する。放電電極31と放電電極32とは、互いに異なる極性のイオンを発生させる。
なお、正イオンは、水素イオン(H)の周囲に複数の水分子が付随したクラスターイオンであり、H(HO)m(mは0以上の任意の整数)と表わされる。負イオンは、酸素イオン(O )の周囲に複数の水分子が付随したクラスターイオンであり、O (HO)n(nは0以上の任意の整数)と表わされる。正イオンおよび負イオンを放出すると、両イオンが空気中を浮遊するカビ菌やウィルスの周りを取り囲み、その表面上で互いに化学反応を起こす。その際に生成される活性種の水酸化ラジカル(・OH)の作用により、浮遊カビ菌などが除去される。
以上説明した、実施の形態1のイオン発生装置1によると、図3に示すように、誘導電極41と筐体10との隙間、および誘導電極41と基板21との隙間のうち、最も距離の短い隙間が、誘導電極41の脚部41eと筐体10の周壁16との間に形成されている。脚部41eと周壁16との間の隙間は、閉塞材51によって閉塞されている。誘導電極41の脚部41eは、閉塞材51に覆われている。誘導電極41の先端41aは、閉塞材51から突出している。
誘導電極41と筐体10との隙間、および誘導電極41と基板21との隙間のうち、最も距離の短い隙間において、異常放電または微小リークが発生し易い。最も距離の短い隙間を閉塞材51で閉塞することにより、当該隙間への塵埃の堆積を防止でき、堆積した塵埃への結露の付着を防止できる。水分を含んだ塵埃が電気抵抗を低下させ微小リークの経路となることを回避できるので、誘導電極41と周辺の筐体10との間の絶縁性を確保でき、異常放電または微小リークの発生を抑制できる。したがって、結露が生じるような高湿度環境下においても、長期に亘ってイオン発生装置1の性能を維持することができ、高濃度のイオンを十分に供給することができる。
誘導電極41の脚部41eと筐体10の周壁16との間の隙間に加えて、誘導電極41の平板部41cと基板21の主表面21aとの間の隙間を閉塞材51で閉塞することにより、当該隙間への塵埃の堆積を防止でき、堆積した塵埃への結露の付着を防止できる。このようにすれば、誘導電極41と基板21との間の絶縁性を確保できるので、異常放電または微小リークの発生をより確実に抑制することができる。
薄型箱形状の筐体10に放電電極31,32および誘導電極41,42が収容されている本実施の形態の構成において、誘導電極41の先端41aが閉塞材51から突出するように閉塞材51を設けることにより、閉塞材51の厚みが過大になり放電電極31が閉塞材51に埋め込まれる事態の発生を、確実に回避できる。よって、放電電極31における放電性能を確保することができる。
また図5に示すように、昇圧トランス91の二次巻線91bは誘導電極41,42に電気的に接続されており、そのため誘導電極41,42は接地されていない。誘導電極41,42が非接地の状態であり電位を受けていることにより、帯電した塵埃が誘導電極41,42に付着し堆積しやすくなるが、誘導電極41と周辺の筐体10および基板21との隙間が閉塞材51で塞がれているために、誘導電極41,42への塵埃の付着が抑制されている。したがって、誘導電極41と、周辺の筐体10および基板21との間の絶縁性を、長期に亘って確実に維持することができる。
また図2,3に示すように、誘導電極41の先端41aと放電電極31との間の距離は、誘導電極41の脚部41eと放電電極31との間の距離よりも小さい。脚部41eと放電電極31との間の距離を相対的に大きくすることにより、放電電極31と誘導電極41との間の沿面距離を増大できるので、微小リークの発生を抑制できる。
誘導電極41の先端41aは、誘導電極41のうち放電電極31に最も近い箇所である。そのため、先端41aと放電電極31との距離が、誘導電極41と放電電極31との最短距離になる。先端41aと放電電極31との間の距離を相対的に小さくすることにより、放電電極31の針先と誘導電極41との間でのコロナ放電を最も効率よく発生できるように、誘導電極41と放電電極31との最短距離を規定することができる。したがって、放電電極31における放電性能を効果的に維持することができる。
また図2に示すように、高電圧発生部60は、筐体10に収容されており、モールド材55によって封止されている。高電圧発生部60を筐体10で覆い、さらにモールド材55で密閉することで、高電圧発生部60が外部環境に触れるのを防ぐことができる。したがって、イオン発生素子以外の箇所におけるリークの発生を抑制することができる。
実施の形態1の説明においては、誘導電極41の平板部41cと脚部41eとが屈曲部41dにより連結されている例について説明したが、この構成に限られるものではない。基板21の主表面21aに対し直立する脚部41eと、主表面21aと平行な平板部41cとが、曲面形状を有する部材によって連結されていてもよい。さらに、貫通孔の形成された平板部41cに替えて、脚部41eから放電電極31に向かって延びる棒状または板状の部材が、誘導電極41を構成してもよい。
このような代替的な構成においても、脚部41eと筐体10との間の隙間、および平板部41cと基板21との間の隙間を、閉塞材51で封止することにより、誘導電極41と筐体10および基板21との間の絶縁性を保ち、異常放電または微小リークの発生を抑制できる効果を、同様に得ることができる。
(実施の形態2)
図6は、実施の形態2のイオン発生装置1の構成を示す平面図である。図7は、図6に示すVII−VII線に沿うイオン発生装置1の断面図である。実施の形態2のイオン発生装置1は、複数個の放電電極31,32を備えている点で、実施の形態1と異なっている。より具体的には、実施の形態2のイオン発生装置は、2本の放電電極31と、2本の放電電極32とを備えている。
同じ極性のイオンを発生させるための複数の放電電極31に対して、共通の誘導電極41が設けられている。誘導電極41の平板部には、放電電極31の個数に対応して、2つの貫通孔が形成されている。放電電極31は、その針状の先端が、平面視において貫通孔の略中心に位置している。実施の形態2の正イオン発生素子は、2本の放電電極31と、共通の誘導電極41とを含んで構成されており、複数(たとえば2つ)の正イオン発生部において正イオンを発生できるように構成されている。
同じ極性のイオンを発生させるための複数の放電電極32に対して、共通の誘導電極42が設けられている。誘導電極42の平板部には、放電電極32の個数に対応して、2つの貫通孔が形成されている。放電電極32は、その針状の先端が、平面視において貫通孔の略中心に位置している。実施の形態2の負イオン発生素子は、2本の放電電極32と、共通の誘導電極42とを含んで構成されており、複数(たとえば2つ)の負イオン発生部において負イオンを発生できるように構成されている。
誘導電極41の脚部は、その全部が閉塞材51の内部に埋め込まれている。誘導電極41のうち、筐体10または基板21と最も距離の短い隙間を形成している脚部は、閉塞材51により密閉されている。誘導電極41の脚部と、筐体10の周壁16との間の微小な隙間は、閉塞材51によって埋められている。脚部と周壁16との間には閉塞材51が充填され、脚部と周壁16との間に空洞が残存しないような構成とされている。
同様に、誘導電極42の脚部は、その全体が閉塞材52に埋め込まれている。誘導電極42の脚部と筐体10の周壁16との間の隙間は、閉塞材52によって完全に塞がれている。
以上の構成を備えている実施の形態2のイオン発生装置1では、実施の形態1と同様に、誘導電極41,42と脚部と周壁16との間の隙間は、それぞれ閉塞材51,52によって閉塞されている。これにより、誘導電極と周辺の筐体および基板との間の絶縁性を確保でき、異常放電または微小リークの発生を抑制できるので、長期に亘ってイオン発生装置1の性能を維持することができる。
また図7に示すように、イオン発生装置1は、複数個の放電電極31,32と、複数個の誘導電極41,42とを備えている。このようにすれば、複数の放電電極31の針先と誘導電極41との間でコロナ放電を発生させ、また複数の放電電極32の針先と誘導電極42との間でコロナ放電を発生させることができるので、イオン発生装置1のイオン発生量を効果的に増大することができる。
(実施の形態3)
図8は、実施の形態3のイオン発生装置1の構成を示す平面図である。図9は、図8に示すIX−IX線に沿うイオン発生装置1の断面図である。実施の形態3のイオン発生装置1は、放電電極31,32が共通の基板21により支持されている点、および、高電圧発生部60が基板21の裏面に対向する位置に配置されている点で、実施の形態1と異なっている。
誘導電極41,42の脚部は、その全部が閉塞材51の内部に埋め込まれている。誘導電極41,42のうち、筐体10または基板21と最も距離の短い隙間を形成している脚部は、閉塞材51により密閉されている。誘導電極41,42の脚部と、筐体10の周壁16との間の微小な隙間は、閉塞材51によって埋められている。脚部と周壁16との間には閉塞材51が充填され、脚部と周壁16との間に空洞が残存しないような構成とされている。
以上の構成を備えている実施の形態3のイオン発生装置1では、実施の形態1と同様に、誘導電極41,42と脚部と周壁16との間の隙間は、閉塞材51によって閉塞されている。これにより、誘導電極と周辺の筐体および基板との間の絶縁性を確保でき、異常放電または微小リークの発生を抑制できるので、長期に亘ってイオン発生装置1の性能を維持することができる。
実施の形態1,2に係るイオン発生装置1では、放電電極および誘導電極を搭載した基板21,22と高電圧発生部60とを平面状に配置することで、薄型の形状に形成していた。図9に示すように、高電圧発生部60を、放電電極および誘導電極を搭載した基板21の下部に配置する構成としてもよい。このようにすれば、イオン発生装置1をよりコンパクトな形状に形成することが可能になる。
図10は、イオン発生装置1を用いた空気調和機100の内部構造を示す側面図である。図10に示す空気調和機100は、上述した各実施の形態のイオン発生装置1が搭載された電気機器の一例である。
空気調和機100は、ケーシング112と、ケーシング112に収容されたイオン送出ユニット114,116とを備えている。イオン送出ユニット114およびイオン送出ユニット116は、それぞれ単独でイオンを室内に向けて送出可能で、図10に示す構成では、ケーシング112の内部で上下方向に積み重なって設けられている。
イオン送出ユニット114は、シロッコファン121Aと、ダクト122Aと、イオン発生装置1Aとを有している。イオン送出ユニット116は、シロッコファン121Bと、ダクト122Bと、イオン発生装置1Bとを有している。
シロッコファン121A,121Bは、室内の空気を取り込み、その空気をそれぞれダクト122A,122Bに向けて送出する。シロッコファン121Aとシロッコファン121Bとは、それぞれのファン回転軸が互いに平行となるように設けられている。ダクト122Aは、シロッコファン121Aに接続されている。ダクト122Bは、シロッコファン121Bに接続されている。ダクト122A,122Bは、シロッコファン121A,121Bから送出された空気の通風路を形成している。
イオン発生装置1A,1Bは、上述した各実施の形態のイオン発生装置1である。イオン発生装置1Aは、ダクト122Aの経路上に設けられており、ダクト122Aを流れる空気中に発生したイオンを放出する。イオン発生装置1Bは、ダクト122Bの経路上に設けられており、ダクト122Bを流れる空気中に発生したイオンを放出する。これにより、空気調和機100は、図10中の白抜き矢印に示すように、空気調和機100の設置された室内に向けてイオンを送出する。
なお、空気を送風する送風装置としては、シロッコファンに限られず、たとえば、クロスフローファン(貫流ファン)が用いられてもよい。
イオン発生装置1が搭載された電気機器は、図10に示す空気調和機100のほか、除湿機、加湿器、エアコンディショナ、空気清浄機などの、室内の空気の状態を調整するための各種の電気機器であってもよく、または、冷蔵庫、ファンヒータ、洗濯乾燥機、掃除機、殺菌装置、電子レンジ、複写機などの各種の電気機器であってもよい。
以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、各実施の形態の構成を適宜組み合わせてもよい。また、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 イオン発生装置、10 筐体、11,12 貫通孔、16 周壁、17,18 壁部、21,22 基板、21a 主表面、21b 裏面、31,32 放電電極、31a 尖端、31b,41b 基端、31c テーパ部、31d 根元部、41,42 誘導電極、41a 先端、41c 平板部、41d 屈曲部、41e 脚部、51,52 閉塞材、51a 表面、55 モールド材、60 高電圧発生部、100 空気調和機、D1,D2,D3 距離。

Claims (6)

  1. 基板と、
    前記基板に支持された放電電極と、
    前記放電電極から離れて前記基板に支持され、前記放電電極との間でイオンを発生させる誘導電極と、
    前記基板および前記誘導電極を収容し、前記放電電極を外部に露出させる開口が形成された筐体と、
    前記誘導電極と前記筐体との隙間、および前記誘導電極と前記基板との隙間のうち、最も距離の短い隙間を閉塞する閉塞材とを備え、
    前記誘導電極は、前記閉塞材に覆われた根元部と、前記閉塞材から突出する先端とを有する、イオン発生装置。
  2. 前記誘導電極は非接地である、請求項1に記載のイオン発生装置。
  3. 前記先端と前記放電電極との間の距離は、前記根元部と前記放電電極との間の距離よりも小さい、請求項1または2に記載のイオン発生装置。
  4. 前記放電電極に印加するための高電圧を発生する高電圧発生部をさらに備え、
    前記高電圧発生部は、前記筐体に収容されており、モールド材によって封止されている、請求項1から3のいずれか1項に記載のイオン発生装置。
  5. 前記放電電極と前記誘導電極との少なくともいずれか一方を複数個備える、請求項1から4のいずれか1項に記載のイオン発生装置。
  6. 請求項1から5のいずれか1項に記載のイオン発生装置と、気体を送風する送風装置とを備え、機器外に正イオンおよび負イオンの少なくともいずれか一方を送出する、電気機器。
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