JP2016001717A - 回路基板、蓄電装置、電池パックおよび電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
回路基板は、基板と、電極を含む電子部品と、電極とはんだを介して接合されるランドとを備える。ランドとランドより低い位置にある基板の表面が露出された基板露出部との第1の段差並びに、ランドとランドより高い位置にあるランド面に対して法線方向に突設された絶縁突出部との第2の段差のうちの少なくとも何れか一の段差が、ランド面の法線方向において電極と重なる領域内に形成される。ランド面の法線方向において電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、ランド面の法線方向において電極と重なる領域内に形成された少なくとも何れか一の段差の高さの合計より大きくなっている。
【選択図】図1
Description
まず本技術の理解を容易にするため、本技術の概要について説明する。上述した特許文献1(特開2003−318332号公報)には、電子部品を実装する際のはんだ接合時の課題等が記載されている。例えば、電子部品を基板に実装する際のはんだ接合時の課題としては、以下に説明するものがある。
1.第1の実施の形態(回路基板の例)
2.第2の実施の形態(回路基板の例)
3.第3の実施の形態(回路基板の例)
4.他の実施の形態(変形例)
5.応用例
なお、以下に説明する実施の形態等は本技術の好適な具体例であり、本技術の内容がこれらの実施の形態等に限定されるものではない。また、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また例示した効果と異なる効果が存在することを否定するものではない。
(回路基板の構成例)
本技術の第1の実施の形態による回路基板の構成例について説明する。回路基板は、プリント配線板等からなる基板に、IC等の電子部品が実装されたものである。なお、本明細書において、回路基板とは、各部品が実装済みの基板、すなわち、実装済みの各部品も含む基板全体のことをいう。
絶縁突出部12は、絶縁材料で構成されている。絶縁突出部12は、1層の絶縁層で構成されていてもよく、絶縁材料からなる2層以上の絶縁層で構成されていてもよい。2層以上の絶縁層で構成される場合、少なくとも2層以上が同材料種の絶縁層であってもよいし、少なくとも2層以上が互いに異なる材料種の絶縁層であってもよい。
絶縁突出部12の厚さdは、下限については40μm以上であることが好ましく、50μm以上であることがより好ましい。上限を規定する場合には、100μm以下であることが好ましく、80μm以下であることがより好ましい。絶縁突出部12の厚さdを上記範囲で規定することによって、ランド11と電極22下面との間により多くのはんだを留まらせることができ、その結果、はんだのクラックおよび破断を抑制できる。なお、絶縁突出部12の厚さdは、ランド11面を基準面とした絶縁突出部12の最大の厚さのことをいう。
回路基板1のより具体的な構成例について説明する。以下では、絶縁突出部12が、互いに異なる材料種からなる2層の絶縁層で構成されている回路基板1の第1の例、および、絶縁突出部12が1層の絶縁層で構成されている回路基板1の第2の例について説明する。なお、回路基板1の構成は、以下に説明するものに限定されるものではない。
図4Aは、本技術の第1の実施の形態による回路基板の第1の例の構成例を示す概略平面図を示す。図4Bは、図4Aの線II−II’に沿った概略断面図である。図4Cは、図4Aの線III−III’に沿った概略断面図である。なお、図4Aでは、はんだの図示を省略している。
レジスト層14は、基板10に形成される導体パターンを覆って設けられる絶縁材料からなる層である。
シルク層15は、絶縁性インク材料等の絶縁材料からなる層である。回路基板1の製造工程では、典型的には、シルクスクリーン印刷によって、例えば、部品の名称、部品番号、極性等を示すシルクと呼ばれる文字や数字等が印刷される。例えば、このシルクと同様の絶縁材料で、絶縁突出部12を構成するシルク層15が形成されていてもよい。シルク層15は、シルクを形成するシルクスクリーン印刷工程において、シルクと共に絶縁突出部12を構成するシルク層15を形成してもよい。シルク層15は、シルクの少なくとも一部として形成してもよい。
レジスト層14およびシルク層15で構成される絶縁突出部12の厚さdは、上述したように、下限については40μm以上であることが好ましく、50μm以上であることがより好ましい。上限を規定する場合には、100μm以下であることが好ましく、80μm以下であることがより好ましい。レジスト層14の厚さは、下限については、典型的には、40μm以上であることが好ましく、上限を規定する場合には、典型的には、例えば、50μm以下であることが好ましい。シルク層15の厚さは、下限については、例えば、典型的には、10μm以上であることが好ましい。上限を規定する場合には、典型的には、例えば、30μm以下であることが好ましい。
絶縁突出部12を構成するシルク層15は、ランド11との間隙が0.1mm以上0.3mm以下となるように形成されていることが好ましい。なお、図4Aに示す例では、シルク層15とランド11との間隙として、先端部11aの突出方向に対して略垂直方向に沿った幅である間隙sと、先端部11aの突出方向に沿った幅である間隙tとを有している。図4Aに示す例では、間隙sおよび間隙tのそれぞれが、0.1mm以上0.3mm以下であることが好ましい。上記範囲の下限値については、プリント配線板の製造仕様の観点から、0.1mm以上であることが好ましい。上記範囲の上限値については、0.3mmより大きい場合には、プリント配線板の製造仕様上のずれ公差により、電極22の下方にシルク層15を安定して形成することが難しくなるため、0.3mm以下であることが好ましい。
図4A〜図4Cに示す例のシルク層15は、矩形の平面形状を有するシルク層15の長手方向が、ランド11の先端部11aの突出方向と略直交するような縦方向の配置で形成されたものであるが、シルク層15の配置はこれに限定されるものではない。例えば、シルク層15は、図5に示すように、矩形の平面形状を有するシルク層15の長手方向が、先端部11aの突出方向と略平行になるような横方向の配置としてもよい。なお、横方向の配置では、プリント配線板製造仕様上のずれ公差、および電子部品の実装公差の影響が懸念される。ランド11面の法線方向において、電極22と重なる領域内に安定してシルク層15を配置できる観点から、シルク層15の配置は、図4A〜図4Cに示したような縦方向の配置が好ましい。
図6Aは、本技術の第1の実施の形態による回路基板の第2の例の構成例を示す概略平面図を示す。図6Bは、図6Aの線IV−IV’に沿った概略断面図である。図6Cは、図6Aの線V−V’に沿った概略断面図である。なお、図6Aでは、はんだの図示を省略している。
レジスト層14で構成される絶縁突出部12の厚さdは、上述したように、下限については例えば40μm以上であることが好ましく、50μm以上であることがより好ましい。上限を規定する場合には、例えば100μm以下であることが好ましく、80μm以下であることがより好ましい。
図7に典型的な電子部品のサイズの一覧、各電子部品の電極の寸法値の一覧を示す。図7に示す例の1608サイズの電子部品21の電極寸法値(短辺amm×長辺bmm)は0.4mm×0.8mmである。2012サイズの電子部品21の電極寸法値(短辺amm×長辺bmm)は0.5mm×1.25mmである。3216サイズの電子部品21の電極寸法値(短辺amm×長辺bmm)は0.6mm×1.6mmである。3225サイズの電子部品21の電極寸法値(短辺amm×長辺bmm)は0.6mm×2.5mmである。
(回路基板の構成例)
本技術の第2の実施の形態による回路基板の構成例について説明する。図9Aは、本技術の第2の実施の形態による回路基板の構成例を示す概略平面図である。図9Bは、図9Aの線VI−VI’に沿った概略断面図である。なお、図9Aでは、はんだの図示を省略している。
本技術の第3の実施の形態による回路基板の構成例について説明する。図11Aは、本技術の第3の実施の形態による回路基板の構成例を示す概略平面図である。図11Bは、図11Aの線VII−VII’に沿った概略断面図である。図11Cは、図11Aの線VIII−VIII’に沿った概略断面図である。なお、図11Aでは、はんだの図示を省略している。
図4A〜図4Cに示す構成で電子部品(3216サイズ)を実装したテスト用の回路基板を作製した。はんだ接合後にランド面を基準にした絶縁突出部(シルク層+レジスト層)の最大厚さを測定したところ、80μmであった。なお、ランド面を基準にしたレジスト層の厚さは50μm、シルク層の厚さは30μmであった。
図4A〜図4Cに示す構成から絶縁突出部(絶縁突出部を構成するシルク層+レジスト層)を除去した構成で電子部品(3216サイズ)を実装したテスト用の回路基板を作製した。
作製した回路基板について、125℃30分→23℃5分→−40℃30分→23℃5分を1サイクルとする温度サイクル試験を行った。750サイクル時、1000サイクル時、1250サイクル時のはんだ接合部の断面観察を行い、クラックおよび破断が生じているかを確認した。はんだ接合部の断面にクラックおよび破断を確認できない場合をOKと評価し、クラックまたは破断を確認できた場合をNGと評価した。
本技術は、上述した本技術の実施の形態に限定されるものでは無く、本技術の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。
[1]
基板と、
前記基板に実装され、両端部に設けられた一対の電極を含む電子部品と、
前記基板上に形成され、互いに対向して設けられ、前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合される一対のランドと
を備え、
前記ランドと前記ランドより低い位置にある前記基板の表面が露出された基板露出部との第1の段差
並びに、
前記ランドと前記ランドより高い位置にあるランド面に対して法線方向に突設された絶縁突出部との第2の段差
のうちの少なくとも何れか一の段差が、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に形成され、
前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に形成された前記少なくとも何れか一の段差の高さの合計より大きい回路基板。
[2]
前記電子部品は、前記電極の短辺の幅が0.5mm未満であり、
ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に、前記第1の段差のみが形成され、
前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、38μm以上である[1]に記載の回路基板。
[3]
前記電子部品は、前記電極の短辺の幅が0.6mm以上であり、
ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に、前記第2の段差のみが形成され、前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、70μm以上である[1]に記載の回路基板。
[4]
前記電子部品は、前記電極の短辺の幅が0.5mm以上であり、
ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に、前記第1の段差および前記第2の段差の両方が形成され、
前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、88μm以上である[1]に記載の回路基板。
[5]
両端部に設けられた一対の電極を含む電子部品と、
互いに対向して設けられ、前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合される一対のランドと、
前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合され、ランド面に対して法線方向に突設された2組の一対の絶縁突出部と
を備え、
前記一対のランドのそれぞれは、互いに対向する2辺のそれぞれに、他方のランド側に向かって突出され、且つ、少なくとも一部がランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある先端部を有し、
前記一対の絶縁突出部は、前記ランドの前記先端部の少なくとも一部を挟むように離間され、且つ、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある回路基板。
[6]
前記絶縁突出部のランド面に対する厚さは、40μm以上である[5]に記載の回路基板。
[7]
前記絶縁突出部は、1層または2層以上の絶縁層で構成された[5]〜[6]の何れかに記載の回路基板。
[8]
前記絶縁層は、レジスト層およびシルク層の少なくとも何れかである[7]に記載の回路基板。
[9]
前記絶縁層は、前記レジスト層と前記レジスト層上に形成された前記シルク層であり、
前記シルク層は、シルク層の平面形状の長手方向が、前記先端部の突出方向と略直交する縦方向の配置とされた[8]に記載の回路基板。
[10]
前記シルク層と前記ランドとの間隙は、0.1mm以上0.3mm以下である[8]〜[9]の何れかに記載の回路基板。
[11]
前記電極の下面と前記ランドとの間に介在された前記はんだの厚さは、70μm以上である[5]〜[10]の何れかに記載の回路基板。
[12]
前記ランドの先端部の形状は、多角形状または曲線を含む形状である[5]〜[11]の何れかに記載の回路基板。
[13]
基板と、
前記基板に実装され、両端部に設けられた一対の電極を含む電子部品と、
前記基板上に形成され、互いに対向して設けられ、前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合される一対のランドと
を備え、
前記ランドの一部および前記基板の表面が露出された基板露出部の少なくとも一部が、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある回路基板。
[14]
前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合され、ランド面に対して法線方向に突設された2組の一対の絶縁突出部をさらに備え、
前記ランドは、対向する他方のランド側に向かうほど幅が狭くなる形状を有し、
前記一対の絶縁突出部は、前記ランドの幅が狭くなっている部分の少なくとも一部を挟むように離間され、且つ、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある[13]に記載の回路基板。
[15]
[1]〜[14]の何れかに記載の回路基板を備えた蓄電装置。
[16]
[1]〜[14]の何れかに記載の回路基板を備えた電池パック。
[17]
[1]〜[14]の何れかに記載の回路基板を備えた電子機器。
上述した第1〜第3の実施の形態および他の実施の形態による回路基板は、例えば電子機器、蓄電装置、電池パック等に内蔵される。
回路基板を備えた蓄電装置の一例としては、例えば、図13に示す構成の蓄電装置等が挙げられる。図示は省略するが、蓄電装置の外装ケース90内には、電池ユニットと、制御回路ブロック等が搭載された回路基板等が収容されている。この回路基板に対して、本技術の第1の実施の形態または他の実施の形態による回路基板が適用される。図示は省略するが、電池ユニットは、電池ブロック群および複数の電池セルを電気的に接続するタブ等の部材が、電池ケースに収容されたものである。電池ブロック群は、例えば、直列に接続された複数の電池ブロックで構成され、1つの電池ブロックは、並列に接続された複数の電池セルで構成される。電池セルは、例えば、円筒型リチウムイオン二次電池等の二次電池である。なお、電池セルは、リチウムイオン二次電池に限定されるものではない。また、電池セルはラミネート型でもよい。
回路基板を備えた電池パックの一例としては、例えば、図14に示す構成の電池パック等が挙げられる。
回路基板を備えた電子機器として、例えばノート型パソコン、PDA(携帯情報端末)、携帯電話、スマートフォン、コードレスフォン子機、プロジェクター、ビデオムービー、デジタルスチルカメラ、電子書籍、電子辞書、音楽プレイヤー、ラジオ、ヘッドホン、ゲーム機、ナビゲーションシステム、メモリーカード、ペースメーカー、補聴器、電動工具、電気シェーバー、冷蔵庫、エアコン、テレビ、ステレオ、温水器、電子レンジ、食器洗い器、洗濯機、乾燥器、照明機器、玩具、医療機器、ロボット、サーバー、ロードコンディショナー、信号機等が挙げられる。
Claims (17)
- 基板と、
前記基板に実装され、両端部に設けられた一対の電極を含む電子部品と、
前記基板上に形成され、互いに対向して設けられ、前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合される一対のランドと
を備え、
前記ランドと前記ランドより低い位置にある前記基板の表面が露出された基板露出部との第1の段差
並びに、
前記ランドと前記ランドより高い位置にあるランド面に対して法線方向に突設された絶縁突出部との第2の段差
のうちの少なくとも何れか一の段差が、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に形成され、
前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に形成された前記少なくとも何れか一の段差の高さの合計より大きい回路基板。 - 前記電子部品は、前記電極の短辺の幅が0.5mm未満であり、
ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に、前記第1の段差のみが形成され、
前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、38μm以上である請求項1に記載の回路基板。 - 前記電子部品は、前記電極の短辺の幅が0.6mm以上であり、
ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に、前記第2の段差のみが形成され、前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、70μm以上である請求項1に記載の回路基板。 - 前記電子部品は、前記電極の短辺の幅が0.5mm以上であり、
ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内に、前記第1の段差および前記第2の段差の両方が形成され、
前記ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にあるはんだの最大厚さは、88μm以上である請求項1に記載の回路基板。 - 両端部に設けられた一対の電極を含む電子部品と、
互いに対向して設けられ、前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合される一対のランドと、
前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合され、ランド面に対して法線方向に突設された2組の一対の絶縁突出部と
を備え、
前記一対のランドのそれぞれは、互いに対向する2辺のそれぞれに、他方のランド側に向かって突出され、且つ、少なくとも一部がランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある先端部を有し、
前記一対の絶縁突出部は、前記ランドの前記先端部の少なくとも一部を挟むように離間され、且つ、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある回路基板。 - 前記絶縁突出部のランド面に対する厚さは、40μm以上である請求項5に記載の回路基板。
- 前記絶縁突出部は、1層または2層以上の絶縁層で構成された請求項5に記載の回路基板。
- 前記絶縁層は、レジスト層およびシルク層の少なくとも何れかである請求項7に記載の回路基板。
- 前記絶縁層は、前記レジスト層と前記レジスト層上に形成された前記シルク層であり、
前記シルク層は、シルク層の平面形状の長手方向が、前記先端部の突出方向と略直交する縦方向の配置とされた請求項8に記載の回路基板。 - 前記シルク層と前記ランドとの間隙は、0.1mm以上0.3mm以下である請求項8に記載の回路基板。
- 前記電極の下面と前記ランドとの間に介在された前記はんだの厚さは、70μm以上である請求項5に記載の回路基板。
- 前記ランドの先端部の形状は、多角形状または曲線を含む形状である請求項5に記載の回路基板。
- 基板と、
前記基板に実装され、両端部に設けられた一対の電極を含む電子部品と、
前記基板上に形成され、互いに対向して設けられ、前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合される一対のランドと
を備え、
前記ランドの一部および前記基板の表面が露出された基板露出部の少なくとも一部が、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある回路基板。 - 前記一対の電極のそれぞれとはんだを介して接合され、ランド面に対して法線方向に突設された2組の一対の絶縁突出部をさらに備え、
前記ランドは、対向する他方のランド側に向かうほど幅が狭くなる形状を有し、
前記一対の絶縁突出部は、前記ランドの幅が狭くなっている部分の少なくとも一部を挟むように離間され、且つ、ランド面の法線方向において前記電極と重なる領域内にある請求項13に記載の回路基板。 - 請求項1に記載の回路基板を備えた蓄電装置。
- 請求項1に記載の回路基板を備えた電池パック。
- 請求項1に記載の回路基板を備えた電子機器。
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