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JP2016080474A - Droplet inspection device, droplet inspection method, program, and computer storage medium - Google Patents

Droplet inspection device, droplet inspection method, program, and computer storage medium Download PDF

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JP2016080474A
JP2016080474A JP2014210851A JP2014210851A JP2016080474A JP 2016080474 A JP2016080474 A JP 2016080474A JP 2014210851 A JP2014210851 A JP 2014210851A JP 2014210851 A JP2014210851 A JP 2014210851A JP 2016080474 A JP2016080474 A JP 2016080474A
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JP
Japan
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droplet
unit
irradiation
inspection
inspection apparatus
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JP2014210851A
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Japanese (ja)
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幸太朗 尾上
Kotaro Onoe
幸太朗 尾上
八尋 俊一
Shunichi Yahiro
俊一 八尋
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To properly inspect a droplet discharged to a discharged body.SOLUTION: A droplet inspection device 1 includes: a radiation portion 10 that radiates an ultraviolet lay on a radiation area 22 on an inspection sheet 20 including a droplet 21; an imaging portion 11 that picks up an image of the radiation area 22 where the droplet 21 (or the inspection sheet 20) emits light; an ultraviolet lay blocking filter 12 that is provided on an optical axis of the imaging portion 11 and blocks an ultraviolet lay 31 reflected from the inspection sheet 20; and a measurement portion 13a that measures the size of the droplet 21 and the position of the droplet 21 on the inspection sheet 20 on the basis of the image picked up by the imaging portion 11.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、被吐出体に吐出される液滴を検査する液滴検査装置、当該液滴検査装置を用いた液滴検査方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体に関する。   The present invention relates to a droplet inspection apparatus that inspects droplets discharged onto a discharge target, a droplet inspection method using the droplet inspection apparatus, a program, and a computer storage medium.

従来、有機EL(Electroluminescence)の発光を利用した発光ダイオードである有機発光ダイオード(OLED:Organic Light Emitting Diode)が知られている。かかる有機発光ダイオードを用いた有機ELディスプレイは、薄型軽量かつ低消費電力であるうえ、応答速度や視野角、コントラスト比の面で優れているといった利点を有していることから、次世代のフラットパネルディスプレイ(FPD)として近年注目されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an organic light emitting diode (OLED) that is a light emitting diode using light emission of organic EL (Electroluminescence) is known. An organic EL display using such an organic light emitting diode is advantageous in that it is thin and lightweight, has low power consumption, and is excellent in response speed, viewing angle, and contrast ratio. In recent years, it has attracted attention as a panel display (FPD).

有機発光ダイオードは、基板上の陽極と陰極の間に有機EL層を挟んだ構造を有している。有機EL層は、例えば陽極側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層が積層されて形成される。これらの有機EL層の各層(特に正孔注入層、正孔輸送層及び発光層)を形成するにあたっては、例えばインクジェット方式で有機材料の液滴を基板上に吐出するといった方法が用いられる。   The organic light emitting diode has a structure in which an organic EL layer is sandwiched between an anode and a cathode on a substrate. The organic EL layer is formed, for example, by laminating a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in this order from the anode side. In forming each layer of these organic EL layers (in particular, a hole injection layer, a hole transport layer, and a light emitting layer), for example, a method of discharging droplets of an organic material onto a substrate by an inkjet method is used.

ところで、有機発光ダイオードは、有機EL層の各層がそれぞれ数十nmの薄膜にて形成されるため、各層のいずれかにおいて例えば液滴の吐出不良が生じていれば、その影響が製品を動作させた場合に顕著に現れてしまう。このため、かかる液滴の吐出不良を抑制するべく、吐出される液滴を検査することが必要となる。   By the way, in the organic light emitting diode, each layer of the organic EL layer is formed by a thin film of several tens of nanometers. Therefore, for example, if a droplet ejection failure occurs in any of the layers, the influence causes the product to operate. Appears prominently. For this reason, it is necessary to inspect the ejected liquid droplets in order to suppress such liquid droplet ejection defects.

例えば特許文献1には、上述したインクジェット方式を用いた液滴吐出装置が開示され、当該液滴吐出装置には、液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける検査シートと、当該検査シートに検査吐出された液滴の着弾ドットを画像認識する認識カメラが設けられている。かかる液滴吐出装置では、認識カメラでの画像認識に基づいて、液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルが正常に液滴を吐出しているか否かの検査が行われる。   For example, Patent Document 1 discloses a droplet discharge device that uses the above-described inkjet method. The droplet discharge device includes an inspection sheet that receives inspection discharge from a droplet discharge head, and an inspection discharge on the inspection sheet. A recognition camera for recognizing an image of the landed dots of the droplets is provided. In such a droplet discharge device, an inspection is performed as to whether or not each discharge nozzle of the droplet discharge head normally discharges a droplet based on image recognition by a recognition camera.

また、例えば特許文献2には、液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルから液滴を吐出して被検出紙に着弾させ、被検出紙に着弾した液滴を撮像装置で撮像し、撮像された画像データに基づいて、液滴のノズル抜けや飛行曲りなどの吐出ノズルの吐出不良を検査することが提案されている。   Further, for example, in Patent Document 2, a droplet is ejected from each ejection nozzle of a droplet ejection head and landed on a detected paper, and a droplet landed on the detected paper is captured by an imaging device, and the captured image is captured. Based on the data, it has been proposed to inspect for ejection defects of the ejection nozzle such as missing nozzles or flying bends.

さらに、例えば特許文献3には、上述したように液滴の着弾ドットを撮像するにあたり、切替式リング照明器(3色に照明光を切り替え可能)を備えた吐出検査カメラを用いることが提案されている。具体的に吐出検査カメラは、液滴の種類(色調)に応じて、切替式リング照明器により適切な色に切り替えた照明光の下で着弾ドットを撮像する。   Further, for example, in Patent Document 3, it is proposed to use a discharge inspection camera equipped with a switchable ring illuminator (which can switch illumination light to three colors) when imaging a landing dot of a droplet as described above. ing. Specifically, the ejection inspection camera images the landing dot under illumination light that is switched to an appropriate color by the switchable ring illuminator according to the type (color tone) of the droplet.

なお、このように液滴の着弾ドットを撮像するにあたり、液滴の色調に応じて照明光の色調を変更することは、例えば特許文献4にも開示されている。   In addition, changing the color tone of illumination light according to the color tone of a droplet in imaging the landing dot of a droplet in this way is also disclosed in Patent Document 4, for example.

特開2008−233833号公報JP 2008-233833 A 特開2009−95725号公報JP 2009-95725 A 特開2010−82490号公報JP 2010-82490 A 特開2010−214318号公報JP 2010-214318 A

しかしながら、有機EL層を形成する際に用いられる有機材料は、通常、無色透明または無色半透明であるため、液滴と、当該液滴が吐出される被吐出体とのコントラストを付け難い。特に被吐出体も無色透明または無色半透明であると、さらにコントラストを付け難くなる。また、有機材料の吐出量が少量である場合にも、液滴と被吐出体とのコントラストを付け難い。   However, since the organic material used for forming the organic EL layer is usually colorless and transparent or colorless and translucent, it is difficult to provide contrast between the droplet and the discharge target to which the droplet is discharged. In particular, if the discharge target is also colorless and transparent or colorless and translucent, it becomes more difficult to provide contrast. Even when the discharge amount of the organic material is small, it is difficult to provide contrast between the droplet and the discharge target.

かかる場合、特許文献1、2に開示された方法を用いても、単に液滴をそのまま撮像するだけでは、当該液滴を適切に撮像することができない。また、特許文献3、4では、液滴の色調に応じて照明光の色調を変更しているが、当該照明光が可視光である以上、やはり液滴を適切に撮像することができない。そうすると、液滴の検査を行うにあたり、当該液滴の大きさや被吐出体上の液滴の位置を計測する際、計測誤差が生じる。したがって、液滴の検査には改善の余地がある。   In such a case, even if the methods disclosed in Patent Documents 1 and 2 are used, the liquid droplets cannot be appropriately imaged by simply imaging the liquid droplets as they are. In Patent Documents 3 and 4, the color tone of the illumination light is changed according to the color tone of the droplet. However, as long as the illumination light is visible light, the droplet cannot be appropriately imaged. Then, when inspecting the droplet, a measurement error occurs when measuring the size of the droplet and the position of the droplet on the discharge target. Therefore, there is room for improvement in the inspection of droplets.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、被吐出体に吐出される液滴を適切に検査することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a point, and an object thereof is to appropriately inspect a droplet discharged to a discharge target.

前記の目的を達成するため、本発明は、被吐出体に吐出される液滴を検査する液滴検査装置であって、前記液滴を含む前記被吐出体上の照射領域に紫外線を照射する照射部と、前記液滴又は前記前記被吐出体が発光した前記照射領域を撮像する撮像部と、前記撮像部によって撮像された撮像画像に基づいて、前記液滴の大きさ及び前記被吐出体上の前記液滴の位置を計測する計測部と、を有することを特徴としている。なお、本発明における液滴には、粒状の液滴に加え、被吐出体に一定量で吐出される液も含まれる。   In order to achieve the above object, the present invention is a droplet inspection apparatus for inspecting a droplet discharged to a discharge target, and irradiates an irradiation region on the discharge target including the droplet with ultraviolet rays. Based on an irradiation unit, an imaging unit that images the droplet or the irradiation region emitted by the discharge target, and a size of the droplet and the discharge target based on a captured image captured by the imaging unit And a measuring unit for measuring the position of the droplet above. Note that the liquid droplets in the present invention include not only granular liquid droplets but also liquid ejected in a fixed amount onto the body to be ejected.

本発明によれば、照射領域に照射部から紫外線を照射して、当該照射領域における液滴又は被吐出体を発光させ、そして、この照射領域を撮像部によって撮像する。かかる場合、例えば紫外線照射前の液滴が無色透明または無色半透明であったり、あるいは液滴の吐出量が少量であっても、紫外線照射後の液滴又は被吐出体を発光させることで、撮像画像において液滴と被吐出体とのコントラストを高めることができる。その結果、当該撮像画像に基づいて、液滴の大きさ及び被吐出体上の液滴の位置を適切に計測することができ、従来の計測誤差を抑制することができる。そして、被吐出体に吐出される液滴を適切に検査することができる。   According to the present invention, the irradiation region is irradiated with ultraviolet rays from the irradiation unit, the droplets or the discharge target in the irradiation region are caused to emit light, and the irradiation region is imaged by the imaging unit. In such a case, for example, even when the droplet before ultraviolet irradiation is colorless and transparent or colorless and translucent, or even when the amount of droplets discharged is small, the droplets after being irradiated with ultraviolet rays or the discharge target are made to emit light, In the captured image, the contrast between the droplet and the discharge target can be increased. As a result, the size of the droplet and the position of the droplet on the discharge target can be appropriately measured based on the captured image, and a conventional measurement error can be suppressed. Then, it is possible to appropriately inspect the droplets discharged to the discharge target.

前記液滴検査装置は、前記撮像部の光軸上に設けられ、前記被吐出体で反射した紫外線を遮断する紫外線遮断フィルタをさらに有していてもよい。   The droplet inspection apparatus may further include an ultraviolet blocking filter that is provided on the optical axis of the imaging unit and blocks ultraviolet rays reflected by the discharge target.

前記撮像部は、前記被吐出体の主面に対して当該撮像部の光軸が垂直となる向きに配置され、前記照射部は、前記液滴に対して斜め上方から紫外線を照射する向きに配置されてもよい。   The imaging unit is disposed in a direction in which the optical axis of the imaging unit is perpendicular to the main surface of the discharge target body, and the irradiation unit is configured to irradiate the droplets with ultraviolet rays obliquely from above. It may be arranged.

また、前記撮像部は、前記被吐出体の主面に対して当該撮像部の光軸が垂直となる向きに配置され、前記照射部は、前記液滴の下方から紫外線を照射する向きに配置されてもよい。   Further, the imaging unit is arranged in a direction in which the optical axis of the imaging unit is perpendicular to the main surface of the discharge target body, and the irradiation unit is arranged in a direction to irradiate ultraviolet rays from below the droplet. May be.

さらに、前記液滴検査装置は、前記照射部からの紫外線の光路を前記照射領域に向ける光路変更部をさらに有していてもよい。   Furthermore, the droplet inspection apparatus may further include an optical path changing unit that directs an optical path of ultraviolet rays from the irradiation unit toward the irradiation region.

前記液滴検査装置は、インクジェット方式で前記被吐出体に前記液滴を吐出する液滴吐出装置の内部に設けられていてもよい。   The droplet inspection device may be provided inside a droplet discharge device that discharges the droplet onto the discharge target body by an ink jet method.

前記液滴は、有機EL層に用いられる有機材料であってもよい。   The droplet may be an organic material used for the organic EL layer.

別な観点による本発明は、被吐出体に吐出される液滴を検査する液滴検査方法であって、前記液滴を含む前記被吐出体上の照射領域に照射部から紫外線を照射して、当該照射領域における前記液滴又は前記被吐出体を発光させ、前記照射領域を撮像部によって撮像し、前記撮像部によって撮像された撮像画像に基づいて、前記液滴の大きさ及び前記被吐出体上の前記液滴の位置を計測することを特徴としている。   Another aspect of the present invention is a droplet inspection method for inspecting a droplet discharged to a discharge target body, wherein an irradiation region on the discharge target body including the droplet is irradiated with ultraviolet rays from an irradiation unit. The liquid droplets or the discharge target in the irradiation region are caused to emit light, the irradiation region is imaged by the imaging unit, and the size of the droplet and the discharge target are determined based on the captured image captured by the imaging unit. The position of the droplet on the body is measured.

前記撮像部によって前記被吐出体を撮像する際、当該撮像部の光軸上に設けられた紫外線遮断フィルタによって、前記被吐出体で反射した紫外線を遮断してもよい。   When the object to be ejected is imaged by the imaging unit, the ultraviolet rays reflected by the object to be ejected may be blocked by an ultraviolet blocking filter provided on the optical axis of the imaging unit.

前記液滴の検査は、インクジェット方式で前記被吐出体に前記液滴を吐出する液滴吐出装置の内部で行われてもよい。   The droplet inspection may be performed inside a droplet discharge device that discharges the droplet onto the discharge target by an inkjet method.

前記液滴は、有機EL層に用いられる有機材料であってもよい。   The droplet may be an organic material used for the organic EL layer.

また別な観点による本発明によれば、前記液滴検査方法を液滴検査装置によって実行させるように、当該液滴検査装置のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a program that operates on a computer of the droplet inspection apparatus so that the droplet inspection method is executed by the droplet inspection apparatus.

さらに別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。   According to another aspect of the present invention, a readable computer storage medium storing the program is provided.

本発明によれば、被吐出体に吐出される液滴の大きさ及び被吐出体上の液滴の位置を適切に計測することができ、当該液滴を適切に検査することができる。   According to the present invention, it is possible to appropriately measure the size of a droplet discharged to a discharge target and the position of the droplet on the discharge target, and to inspect the droplet appropriately.

本実施の形態にかかる液滴検査装置の構成の概略を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline of a structure of the droplet test | inspection apparatus concerning this Embodiment. 液滴検査装置で撮像される撮像画像の説明図である。It is explanatory drawing of the captured image imaged with a droplet test | inspection apparatus. 液滴検査が適切に行われない比較例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the comparative example in which a droplet test | inspection is not performed appropriately. 他の実施の形態にかかる液滴検査装置の構成の概略を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline of a structure of the droplet test | inspection apparatus concerning other embodiment. 他の実施の形態にかかる液滴検査装置の構成の概略を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline of a structure of the droplet test | inspection apparatus concerning other embodiment. 他の実施の形態にかかる液滴検査装置の構成の概略を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline of a structure of the droplet test | inspection apparatus concerning other embodiment. 液滴検査装置を備えた基板処理システムの構成の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a structure of the substrate processing system provided with the droplet test | inspection apparatus. 有機発光ダイオードの構成の概略を示す側面図である。It is a side view which shows the outline of a structure of an organic light emitting diode. 有機発光ダイオードの隔壁の構成の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a structure of the partition of an organic light emitting diode.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に示す実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the embodiments described below.

先ず、本実施の形態に係る液滴検査装置の構成について、図1を参照して説明する。図1は、液滴検査装置1の構成の概略を示す模式図である。なお、各構成要素の寸法は、技術の理解の容易さを優先させるため、必ずしも実際の寸法に対応していない。   First, the configuration of the droplet inspection apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram showing an outline of the configuration of the droplet inspection apparatus 1. Note that the dimensions of each component do not necessarily correspond to actual dimensions in order to prioritize easy understanding of the technology.

液滴検査装置1は、照射部10と、撮像部11と、紫外線遮断フィルタ12と、制御部13とを有している。液滴検査装置1の内部は、光のない暗所に維持される。そして、液滴検査装置1は、被吐出体としての検査シート20に吐出される液滴21の検査を行う。なお、検査対象となる液滴21は、紫外線を吸収して発光(燐光や蛍光)するものとなる。具体的には、例えば後述するように有機材料などが検査対象となる。   The droplet inspection apparatus 1 includes an irradiation unit 10, an imaging unit 11, an ultraviolet blocking filter 12, and a control unit 13. The inside of the droplet inspection apparatus 1 is maintained in a dark place without light. Then, the droplet inspection apparatus 1 inspects the droplets 21 that are discharged onto the inspection sheet 20 as the discharge target. The droplet 21 to be inspected absorbs ultraviolet rays and emits light (phosphorescence or fluorescence). Specifically, for example, as described later, an organic material or the like is an inspection target.

照射部10は、検査シート20上の液滴21に対して斜め上方から紫外線を照射する向きに配置される。照射部10は紫外線の光源(図示せず)を有し、当該照射部10から照射される紫外線の波長は例えば365nmである。かかる波長の紫外線を用いる場合、液滴検査装置1の内部にオゾンが発生するのを抑制することができる。そして、照射部10は、検査シート20に吐出された液滴21に向けて紫外線を照射する。以下、液滴21を含め、照射部10からの紫外線が照射される検査シート20上の領域を照射領域22という。   The irradiation unit 10 is arranged in a direction in which the droplets 21 on the inspection sheet 20 are irradiated with ultraviolet rays obliquely from above. The irradiation unit 10 includes an ultraviolet light source (not shown), and the wavelength of the ultraviolet light emitted from the irradiation unit 10 is, for example, 365 nm. When ultraviolet rays having such a wavelength are used, it is possible to suppress the generation of ozone inside the droplet inspection apparatus 1. The irradiation unit 10 irradiates ultraviolet rays toward the droplets 21 discharged onto the inspection sheet 20. Hereinafter, an area on the inspection sheet 20 including the droplet 21 and irradiated with ultraviolet rays from the irradiation unit 10 is referred to as an irradiation area 22.

撮像部11は、検査シート20の主面に対して当該撮像部11の光軸が垂直となる向きに配置され、本実施の形態においては液滴21(照射領域22)の鉛直上方に配置される。撮像部11には、種々のカメラを用いることができるが、例えばエリアスキャンカメラが用いられる。そして、撮像部11は、照射部10からの紫外線が照射された検査シート20の照射領域22を撮像する。撮像部11で撮像された撮像画像は、後述する制御部13の計測部13aに出力される。   The imaging unit 11 is disposed in a direction in which the optical axis of the imaging unit 11 is perpendicular to the main surface of the inspection sheet 20, and is disposed vertically above the droplet 21 (irradiation region 22) in the present embodiment. The Although various cameras can be used for the imaging unit 11, for example, an area scan camera is used. And the imaging part 11 images the irradiation area | region 22 of the test | inspection sheet 20 irradiated with the ultraviolet-ray from the irradiation part 10. FIG. The captured image captured by the imaging unit 11 is output to the measurement unit 13a of the control unit 13 described later.

紫外線遮断フィルタ12は、撮像部11の光軸上に設けられ、本実施の形態においては撮像部11のレンズ11aに取り付けられる。紫外線遮断フィルタ12には、上記波長の紫外線の進行を遮断するものであれば、任意のフィルタを用いることができる。そして、検査シート20の照射領域22で反射した紫外線は、
紫外線遮断フィルタ12によって撮像部11に入光するのを遮断される。
The ultraviolet blocking filter 12 is provided on the optical axis of the imaging unit 11, and is attached to the lens 11a of the imaging unit 11 in the present embodiment. As the ultraviolet blocking filter 12, any filter can be used as long as it blocks the progress of ultraviolet rays having the above wavelength. And the ultraviolet rays reflected by the irradiation region 22 of the inspection sheet 20 are
Light entering the imaging unit 11 is blocked by the ultraviolet blocking filter 12.

制御部13は、液滴検査装置1における照射部10や撮像部11の動作を制御するほか、撮像部11によって撮像された撮像画像に基づいて、液滴21の大きさ及び検査シート20上の液滴21の位置(着弾位置)を計測する。制御部13は計測部13aを有し、この計測部13aにおいて、上述した液滴21の大きさ及び位置の計測が行われる。このように液滴21の大きさを計測することで、液滴21の重量も計測されることになる。また、検査シート20上の液滴21の位置は、撮像部11の位置が予め判明しているため、当該撮像部11と検査シート20の関係から計測できる。なお、計測部13aでは、上述したように少なくとも液滴21の大きさ及び位置が計測されるが、その他の液滴21の寸法や形状を計測してもよい。   The control unit 13 controls the operations of the irradiation unit 10 and the imaging unit 11 in the droplet inspection apparatus 1, and also determines the size of the droplet 21 and the inspection sheet 20 based on the captured image captured by the imaging unit 11. The position (landing position) of the droplet 21 is measured. The control unit 13 includes a measurement unit 13a, and the measurement and measurement of the size and position of the droplet 21 are performed in the measurement unit 13a. By measuring the size of the droplet 21 in this way, the weight of the droplet 21 is also measured. Further, the position of the droplet 21 on the inspection sheet 20 can be measured from the relationship between the imaging unit 11 and the inspection sheet 20 since the position of the imaging unit 11 is known in advance. In the measurement unit 13a, at least the size and position of the droplet 21 are measured as described above, but the size and shape of other droplets 21 may be measured.

制御部13は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部(図示せず)を有している。プログラム格納部には、照射部10や撮像部11の動作を制御するためのプログラムに加えて、撮像画像を画像処理するプログラムや、当該画像処理されたデータに基づいて、液滴21の大きさ及び検査シート20上の液滴21の位置を算出するプログラムなどが格納されている。なお、前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部13にインストールされたものであってもよい。   The control unit 13 is a computer, for example, and has a program storage unit (not shown). In the program storage unit, in addition to the program for controlling the operation of the irradiation unit 10 and the imaging unit 11, the size of the droplet 21 is determined based on the program for image processing of the captured image and the image processed data. A program for calculating the position of the droplet 21 on the inspection sheet 20 is stored. The program is recorded on a computer-readable storage medium such as a computer-readable hard disk (HD), flexible disk (FD), compact disk (CD), magnetic optical desk (MO), or memory card. Or installed in the control unit 13 from the storage medium.

次に、以上のように構成された液滴検査装置1を用いて行われる液滴21の検査方法について説明する。   Next, a method for inspecting the droplet 21 performed using the droplet inspection apparatus 1 configured as described above will be described.

検査シート20に液滴21が吐出されると、照射部10から検査シート20上の照射領域22に紫外線が照射される。そうすると、照射領域22にある液滴21が紫外線を吸収して発光する。なお、照射領域22において、液滴21の周囲にある検査シート20は、紫外線が照射されても発光しない材料を使うのが好ましい。   When the droplet 21 is discharged onto the inspection sheet 20, the irradiation unit 10 irradiates the irradiation region 22 on the inspection sheet 20 with ultraviolet rays. Then, the droplet 21 in the irradiation region 22 absorbs ultraviolet rays and emits light. In the irradiation region 22, the inspection sheet 20 around the droplet 21 is preferably made of a material that does not emit light even when irradiated with ultraviolet rays.

そして、撮像部11によって照射領域22が撮像される。このとき、照射領域22で発光した液滴21の可視光成分30と照射領域22で反射した紫外線31は、鉛直上方に進行するが、上記紫外線31は紫外線遮断フィルタ12によって遮断される。   Then, the irradiation area 22 is imaged by the imaging unit 11. At this time, the visible light component 30 of the droplet 21 emitted from the irradiation region 22 and the ultraviolet light 31 reflected by the irradiation region 22 travel vertically upward, but the ultraviolet light 31 is blocked by the ultraviolet blocking filter 12.

図2は、撮像部11によって撮像された撮像画像を示す。上述したように照射領域22において、液滴21は発光するため、液滴21と検査シート20のコントラストを高めることができる。なお、検査シート20が発光しない場合には、液滴21と検査シート20のコントラストをさらに高めることができる。   FIG. 2 shows a captured image captured by the imaging unit 11. As described above, since the droplet 21 emits light in the irradiation region 22, the contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 can be increased. When the inspection sheet 20 does not emit light, the contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 can be further increased.

撮像部11で撮像された撮像画像は、制御部13の計測部13aに出力される。計測部13aでは、撮像画像に基づいて、液滴21の大きさ及び検査シート20上の液滴21の位置が計測される。こうして、液滴21の検査が行われる。   The captured image captured by the imaging unit 11 is output to the measurement unit 13 a of the control unit 13. In the measurement unit 13a, the size of the droplet 21 and the position of the droplet 21 on the inspection sheet 20 are measured based on the captured image. In this way, the droplet 21 is inspected.

以上の実施の形態によれば、検査シート20上の液滴21に向けて照射部10から紫外線を照射して、当該液滴21を発光させ、そして、発光した液滴21を含む照射領域22を撮像部11によって撮像する。かかる場合、例えば紫外線照射前の液滴21が無色透明または無色半透明であったり、あるいは液滴21の吐出量が少量であっても、紫外線照射後の液滴21を発光させることで、撮像画像において液滴21と検査シート20とのコントラストを高めることができる。また、撮像部11で照射領域22を撮像する際には、紫外線遮断フィルタ12によって照射領域22で反射した紫外線31が遮断されるので、撮像画像における液滴21と検査シート20とのコントラストをさらに高めることができる。その結果、制御部13の計測部13aでは、当該撮像画像に基づいて、液滴21の大きさ及び検査シート20上の液滴21の位置を適切に計測することができ、検査シート20に吐出される液滴21を適切に検査することができる。   According to the above embodiment, the irradiation unit 10 emits ultraviolet rays toward the droplet 21 on the inspection sheet 20 to cause the droplet 21 to emit light, and the irradiation region 22 including the emitted droplet 21. Is imaged by the imaging unit 11. In this case, for example, even when the droplet 21 before ultraviolet irradiation is colorless and transparent or colorless and translucent, or even when the discharge amount of the droplet 21 is small, imaging is performed by causing the droplet 21 after ultraviolet irradiation to emit light. The contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 can be increased in the image. Further, when the imaging unit 11 captures the irradiation region 22, since the ultraviolet rays 31 reflected by the irradiation region 22 are blocked by the ultraviolet blocking filter 12, the contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 in the captured image is further increased. Can be increased. As a result, the measurement unit 13 a of the control unit 13 can appropriately measure the size of the droplet 21 and the position of the droplet 21 on the inspection sheet 20 based on the captured image, and ejects the droplet onto the inspection sheet 20. It is possible to properly inspect the droplet 21 to be formed.

なお、本実施の形態では、液滴21を検査するにあたり、紫外線照射によって液滴21を発光させたが、検査シート20を発光させてもよい。かかる場合、液滴21を発光させなくても、撮像部11で撮像される撮像画像において、液滴21と検査シート20のコントラストを高めることができる。そして、このように液滴21を発光させる必要がないため、検査対象の幅が広がり、例えばレジスト、色彩レジスト、ナノメタルインクなどの液滴21も検査可能となる。   In the present embodiment, when the droplet 21 is inspected, the droplet 21 is caused to emit light by ultraviolet irradiation, but the inspection sheet 20 may be caused to emit light. In such a case, the contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 can be increased in the captured image captured by the imaging unit 11 without causing the droplet 21 to emit light. Since it is not necessary to cause the droplets 21 to emit light in this way, the width of the inspection object is widened, and for example, the droplets 21 such as resist, color resist, and nanometal ink can be inspected.

次に、照射部10の配置について説明する。照射部10の配置は、紫外線31が照射領域22に適切に照射されれば、任意に選択できる。例えば図3は、紫外線31が照射領域22に適切に照射されない比較例を示したものである。図3に示すように照射部10から照射された紫外線31が撮像部11のレンズ11aの内部に照射される場合、当該紫外線31が紫外線遮断フィルタ12に遮断されて、検査シート20の照射領域22に到達しない。このため、液滴21又は検査シート20を発光させることができず、上述した本実施の形態の効果を享受できない。   Next, the arrangement of the irradiation unit 10 will be described. The arrangement of the irradiation unit 10 can be arbitrarily selected if the irradiation region 22 is appropriately irradiated with the ultraviolet ray 31. For example, FIG. 3 shows a comparative example in which the ultraviolet ray 31 is not properly applied to the irradiation region 22. As shown in FIG. 3, when the ultraviolet ray 31 irradiated from the irradiation unit 10 is irradiated inside the lens 11 a of the imaging unit 11, the ultraviolet ray 31 is blocked by the ultraviolet blocking filter 12 and the irradiation region 22 of the inspection sheet 20. Not reach. For this reason, the droplet 21 or the inspection sheet 20 cannot be caused to emit light, and the effects of the present embodiment described above cannot be enjoyed.

この点、本実施の形態では、照射部10を液滴21に対して斜め上方から紫外線を照射する向きに配置されるので、当該照射部10から照射領域22に紫外線31を適切に照射することができる。しかも、照射領域22で反射する紫外線31が強くなり過ぎないので、紫外線遮断フィルタ12で紫外線31を確実に遮断することができる。したがって、撮像部11で撮像される撮像画像において、液滴21と検査シート20のコントラストをさらに高めることができる。   In this respect, in the present embodiment, the irradiation unit 10 is arranged in a direction to irradiate the droplets 21 with ultraviolet rays obliquely from above, so that the irradiation region 22 is appropriately irradiated with the ultraviolet rays 31 from the irradiation unit 10. Can do. In addition, since the ultraviolet rays 31 reflected by the irradiation region 22 do not become too strong, the ultraviolet rays 31 can be reliably blocked by the ultraviolet blocking filter 12. Therefore, the contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 in the captured image captured by the imaging unit 11 can be further increased.

また、このように照射部10を液滴21に対して斜め上方に配置することにより、拡散光の影響によって撮像画像の品質が低下するのを防止することができる。さらに、撮像画像の品質を高めるうえで、照射部10と検査シート20との間に集光レンズ(図示せず)を配置する等の導光手段をとってもよい。   In addition, by arranging the irradiation unit 10 obliquely above the droplet 21 in this way, it is possible to prevent the quality of the captured image from being deteriorated due to the influence of the diffused light. Furthermore, in order to improve the quality of the captured image, light guiding means such as a condensing lens (not shown) may be provided between the irradiation unit 10 and the inspection sheet 20.

なお、照射部10の配置は、上記実施の形態のように液滴21に対して斜め上方に限定されず、上述したように紫外線31が照射領域22に適切に照射されれば、任意に選択できる。   Note that the arrangement of the irradiation unit 10 is not limited to an obliquely upward direction with respect to the droplet 21 as in the above embodiment, and can be arbitrarily selected as long as the ultraviolet ray 31 is appropriately irradiated to the irradiation region 22 as described above. it can.

例えば図4に示すように、照射部10は、照射領域22の鉛直下方に配置されていてもよい。かかる場合、照射部10から照射領域22に紫外線31を適切に照射することができる。しかも、図1に示した液滴検査装置1と同様に、検査シート20の照射領域22を透過する紫外線31を弱めることができ、紫外線遮断フィルタ12で紫外線31を確実に遮断できる。その結果、撮像部11で撮像される撮像画像において、液滴21と検査シート20のコントラストを高めることができる。   For example, as illustrated in FIG. 4, the irradiation unit 10 may be disposed vertically below the irradiation region 22. In such a case, the irradiation unit 10 can appropriately irradiate the irradiation region 22 with the ultraviolet rays 31. Moreover, similarly to the droplet inspection apparatus 1 shown in FIG. 1, the ultraviolet rays 31 that pass through the irradiation region 22 of the inspection sheet 20 can be weakened, and the ultraviolet rays 31 can be reliably blocked by the ultraviolet blocking filter 12. As a result, the contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 can be increased in the captured image captured by the imaging unit 11.

また、例えば液滴検査装置1には、照射部10からの紫外線31の光路を照射領域22に向ける光路変更部が設けられてもよい。例えば図5に示すように、撮像部11の下方において、反射鏡などの光路変更部40が設けられてもよい。あるいは、例えば図6に示すように、撮像部11のレンズ11aの下部において、照射部10の光源に接続されたドーム型の照明である光路変更部41が設けられてもよい。いずれの場合でも、照射部10からの紫外線31の光路は光路変更部40、41によって照射領域22に向かうように変更される。したがって、照射部10から照射領域22に紫外線31を適切に照射することができ、撮像部11で撮像される撮像画像において、液滴21と検査シート20のコントラストを高めることができる。   For example, the droplet inspection apparatus 1 may be provided with an optical path changing unit that directs the optical path of the ultraviolet rays 31 from the irradiation unit 10 toward the irradiation region 22. For example, as illustrated in FIG. 5, an optical path changing unit 40 such as a reflecting mirror may be provided below the imaging unit 11. Alternatively, for example, as illustrated in FIG. 6, an optical path changing unit 41 that is dome-shaped illumination connected to the light source of the irradiation unit 10 may be provided below the lens 11 a of the imaging unit 11. In any case, the optical path of the ultraviolet rays 31 from the irradiation unit 10 is changed by the optical path changing units 40 and 41 so as to go to the irradiation region 22. Accordingly, the irradiation unit 10 can appropriately irradiate the irradiation region 22 with the ultraviolet rays 31, and the contrast between the droplet 21 and the inspection sheet 20 in the captured image captured by the imaging unit 11 can be increased.

次に、以上のように構成された液滴検査装置1の適用例について説明する。図7は、液滴検査装置1を備えた基板処理システム100の構成の概略を示す説明図である。基板処理システム100では、有機発光ダイオードの有機EL層が形成される。   Next, an application example of the droplet inspection apparatus 1 configured as described above will be described. FIG. 7 is an explanatory diagram showing an outline of the configuration of the substrate processing system 100 including the droplet inspection apparatus 1. In the substrate processing system 100, an organic EL layer of an organic light emitting diode is formed.

先ず、有機発光ダイオードの構成の概略及びその製造方法について説明する。図8は、有機発光ダイオード500の構成の概略を示す側面図である。図8に示すように有機発光ダイオード500は、ガラス基板G上で、陽極(アノード)510及び陰極(カソード)520の間に有機EL層530を挟んだ構造を有している。有機EL層530は、陽極510側から順に、正孔注入層531、正孔輸送層532、発光層533、電子輸送層534及び電子注入層535が積層されて形成されている。   First, the outline of the structure of the organic light emitting diode and the manufacturing method thereof will be described. FIG. 8 is a side view schematically showing the configuration of the organic light emitting diode 500. As shown in FIG. 8, the organic light emitting diode 500 has a structure in which an organic EL layer 530 is sandwiched between an anode (anode) 510 and a cathode (cathode) 520 on a glass substrate G. The organic EL layer 530 is formed by laminating a hole injection layer 531, a hole transport layer 532, a light emitting layer 533, an electron transport layer 534, and an electron injection layer 535 in this order from the anode 510 side.

有機発光ダイオード500を製造するに際しては、先ず、ガラス基板G上に陽極510が形成される。陽極510は、たとえば蒸着法を用いて形成される。なお、陽極510には、たとえばITO(Indium Tin Oxide)からなる透明電極が用いられる。   In manufacturing the organic light emitting diode 500, first, the anode 510 is formed on the glass substrate G. The anode 510 is formed using, for example, a vapor deposition method. For the anode 510, for example, a transparent electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) is used.

その後、陽極510上に、図9に示すように隔壁540が形成される。隔壁540は、例えばフォトリソグラフィー処理やエッチング処理等を行うことによって所定のパターンにパターニングされる。そして隔壁540には、スリット状の開口部541が行方向(X方向)と列方向(Y方向)に複数並べて形成されている。この開口部541の内部において、後述するように有機EL層530と陰極520が積層されて画素が形成される。なお、隔壁540には、例えば感光性ポリイミド樹脂が用いられる。   Thereafter, a partition 540 is formed on the anode 510 as shown in FIG. The partition 540 is patterned into a predetermined pattern by performing, for example, a photolithography process or an etching process. A plurality of slit-shaped openings 541 are formed in the partition wall 540 side by side in the row direction (X direction) and the column direction (Y direction). Inside the opening 541, as will be described later, an organic EL layer 530 and a cathode 520 are stacked to form a pixel. For the partition 540, for example, a photosensitive polyimide resin is used.

その後、隔壁540の開口部541内において、陽極510上に有機EL層530が形成される。具体的には、陽極510上に正孔注入層531が形成され、正孔注入層531上に正孔輸送層532が形成され、正孔輸送層532上に発光層533が形成され、発光層533上に電子輸送層534が形成され、電子輸送層534上に電子注入層535が形成される。   Thereafter, an organic EL layer 530 is formed on the anode 510 in the opening 541 of the partition wall 540. Specifically, the hole injection layer 531 is formed on the anode 510, the hole transport layer 532 is formed on the hole injection layer 531, the light emitting layer 533 is formed on the hole transport layer 532, and the light emitting layer is formed. An electron transport layer 534 is formed on the electron transport layer 533, and an electron injection layer 535 is formed on the electron transport layer 534.

本実施の形態では、正孔注入層531、正孔輸送層532及び発光層533は、それぞれ基板処理システム100において形成される。すなわち、基板処理システム100では、インクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理が順次行われて、これら正孔注入層531、正孔輸送層532及び発光層533が形成される。   In the present embodiment, the hole injection layer 531, the hole transport layer 532, and the light emitting layer 533 are each formed in the substrate processing system 100. That is, in the substrate processing system 100, an organic material coating process, an organic material decompression drying process, and an organic material baking process are sequentially performed by an inkjet method, and the hole injection layer 531, the hole transport layer 532, and the light emitting layer are sequentially processed. 533 is formed.

また電子輸送層534と電子注入層535は、それぞれ例えば蒸着法を用いて形成される。   Further, the electron transport layer 534 and the electron injection layer 535 are each formed using, for example, a vapor deposition method.

その後、電子注入層535上に陰極520が形成される。陰極520は、例えば蒸着法を用いて形成される。なお、陰極520には、例えばアルミニウムが用いられる。   Thereafter, a cathode 520 is formed on the electron injection layer 535. The cathode 520 is formed using, for example, a vapor deposition method. For the cathode 520, for example, aluminum is used.

このようにして製造された有機発光ダイオード500では、陽極510と陰極520との間に電圧を印可することによって、正孔注入層531で注入された所定数量の正孔が正孔輸送層532を介して発光層533に輸送され、また電子注入層535で注入された所定数量の電子が電子輸送層534を介して発光層533に輸送される。そして、発光層533内で正孔と電子が再結合して励起状態の分子を形成し、当該発光層533が発光する。   In the organic light emitting diode 500 manufactured as described above, a predetermined number of holes injected in the hole injection layer 531 are applied to the hole transport layer 532 by applying a voltage between the anode 510 and the cathode 520. A predetermined number of electrons injected by the electron injection layer 535 are transported to the light emitting layer 533 through the electron transport layer 534. Then, holes and electrons recombine in the light emitting layer 533 to form excited molecules, and the light emitting layer 533 emits light.

次に、図7に示した基板処理システム100について説明する。なお、基板処理システム100で処理されるガラス基板G上には予め陽極510と隔壁540が形成されており、当該基板処理システム100では正孔注入層531、正孔輸送層532及び発光層533が形成される。   Next, the substrate processing system 100 shown in FIG. 7 will be described. Note that an anode 510 and a partition wall 540 are formed in advance on a glass substrate G to be processed by the substrate processing system 100. In the substrate processing system 100, a hole injection layer 531, a hole transport layer 532, and a light emitting layer 533 are formed. It is formed.

基板処理システム100は、複数のガラス基板Gをカセット単位で外部から基板処理システム100に搬入し、カセットCから処理前のガラス基板Gを取り出す搬入ステーション101と、ガラス基板Gに対して所定の処理を施す複数の処理装置を備えた処理ステーション102と、処理後のガラス基板GをカセットC内に収納し、複数のガラス基板Gをカセット単位で基板処理システム100から外部に搬出する搬出ステーション103とを一体に接続した構成を有している。搬入ステーション101、処理ステーション102、搬出ステーション103は、X方向にこの順で並べて配置されている。   The substrate processing system 100 carries a plurality of glass substrates G into the substrate processing system 100 from the outside in units of cassettes, takes out the glass substrate G before processing from the cassette C, and performs predetermined processing on the glass substrates G. A processing station 102 including a plurality of processing apparatuses for performing processing, a glass substrate G after processing in a cassette C, and a carrying-out station 103 for carrying out the plurality of glass substrates G from the substrate processing system 100 to the outside in units of cassettes; Are integrally connected. The carry-in station 101, the processing station 102, and the carry-out station 103 are arranged in this order in the X direction.

搬入ステーション101には、カセット載置台110が設けられている。カセット載置台110は、複数のカセットCをY方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬入ステーション101は、複数のガラス基板Gを保有可能に構成されている。   The loading station 101 is provided with a cassette mounting table 110. The cassette mounting table 110 can mount a plurality of cassettes C in a line in the Y direction. That is, the carry-in station 101 is configured to be able to hold a plurality of glass substrates G.

搬入ステーション101には、Y方向に延伸する搬送路111上を移動可能な基板搬送体112が設けられている。基板搬送体112は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットCと処理ステーション102との間でガラス基板Gを搬送できる。なお、基板搬送体112は、例えばガラス基板Gを吸着保持して搬送する。   The carry-in station 101 is provided with a substrate transport body 112 that can move on a transport path 111 extending in the Y direction. The substrate transfer body 112 is also movable in the vertical direction and the vertical direction, and can transfer the glass substrate G between the cassette C and the processing station 102. The substrate transport body 112 transports the glass substrate G by suction and holding, for example.

処理ステーション102には、正孔注入層531を形成する正孔注入層形成部120と、正孔輸送層532を形成する正孔輸送層形成部121と、発光層533を形成する発光層形成部122とが、搬入ステーション101側からX方向にこの順で並べて配置されている。   The processing station 102 includes a hole injection layer forming unit 120 that forms the hole injection layer 531, a hole transport layer forming unit 121 that forms the hole transport layer 532, and a light emitting layer forming unit that forms the light emitting layer 533. 122 are arranged in this order in the X direction from the loading station 101 side.

正孔注入層形成部120には、第1の基板搬送領域130と、第2の基板搬送領域131と、第3の基板搬送領域132とが、搬入ステーション101側からX方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域130、131、132はX方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域130、131、132にはガラス基板Gを搬送する基板搬送装置(図示せず)が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域130、131、132に隣接して設けられる各装置にガラス基板Gを搬送できる。   In the hole injection layer forming unit 120, a first substrate transfer region 130, a second substrate transfer region 131, and a third substrate transfer region 132 are arranged in this order from the loading station 101 side in the X direction. Has been placed. Each substrate transport region 130, 131, 132 is provided extending in the X direction, and a substrate transport device (not shown) for transporting the glass substrate G is provided in the substrate transport region 130, 131, 132. The substrate transfer device is also movable in the horizontal direction, the vertical direction, and the vertical direction, and can transfer the glass substrate G to each device provided adjacent to these substrate transfer regions 130, 131, 132.

搬入ステーション101と第1の基板搬送領域130との間には、ガラス基板Gを受け渡すためのトランジション装置133が設けられている。同様に第1の基板搬送領域130と第2の基板搬送領域131との間、及び第2の基板搬送領域131と第3の基板搬送領域132との間にも、それぞれトランジション装置134、135が設けられている。   Between the carry-in station 101 and the first substrate transfer area 130, a transition device 133 for delivering the glass substrate G is provided. Similarly, transition devices 134 and 135 are provided between the first substrate transfer region 130 and the second substrate transfer region 131 and between the second substrate transfer region 131 and the third substrate transfer region 132, respectively. Is provided.

第1の基板搬送領域130のY方向正方向側には、ガラス基板G(陽極510)上に正孔注入層531を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置140が設けられている。塗布装置140では、インクジェット方式でガラス基板G上の所定の位置、すなわち隔壁540の開口部541の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔注入層531を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。   On the positive side in the Y direction of the first substrate transport region 130, a coating device 140 as a droplet discharge device that coats an organic material for forming the hole injection layer 531 on the glass substrate G (anode 510). Is provided. In the coating device 140, an organic material is applied to a predetermined position on the glass substrate G, that is, inside the opening 541 of the partition wall 540 by an inkjet method. Note that the organic material of this embodiment is a solution in which a predetermined material for forming the hole injection layer 531 is dissolved in an organic solvent.

上記実施の形態の液滴検査装置1は、塗布装置140の内部に配置され、液滴吐出ヘッド(図示せず)からインクジェット方式で吐出される液滴21の検査を行う。なお、塗布装置140における液滴検査装置1の配置は任意に設定できる。   The droplet inspection apparatus 1 according to the above-described embodiment is disposed inside the coating apparatus 140 and inspects the droplets 21 ejected from a droplet ejection head (not shown) by an inkjet method. The arrangement of the droplet inspection apparatus 1 in the coating apparatus 140 can be arbitrarily set.

第1の基板搬送領域130のY方向負方向側には、複数のガラス基板Gを一時的に収容するバッファ装置141が設けられている。   A buffer device 141 that temporarily stores a plurality of glass substrates G is provided on the Y direction negative direction side of the first substrate transfer region 130.

第2の基板搬送領域131のY方向正方向側とY方向負方向側には、塗布装置140で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置142が複数積層されて、全部で例えば5つ設けられている。減圧乾燥装置142は、例えばターボ分子ポンプ(図示せず)を有し、当該ターボ分子ポンプによって内部雰囲気を例えば1Pa以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。   A plurality of reduced-pressure drying apparatuses 142 for drying the organic material applied by the application apparatus 140 under reduced pressure are stacked on the Y-direction positive direction side and the Y-direction negative direction side of the second substrate transfer region 131, for example, a total of five Is provided. The vacuum drying apparatus 142 has, for example, a turbo molecular pump (not shown), and is configured to dry the organic material by reducing the internal atmosphere to 1 Pa or less, for example, with the turbo molecular pump.

第3の基板搬送領域132のY方向正方向側には、減圧乾燥装置142で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置143が複数、例えば20段に積層されて設けられている。熱処理装置143は、その内部にガラス基板Gを載置する熱板(図示せず)を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。   On the positive side in the Y direction of the third substrate transport region 132, a plurality of, for example, 20 heat treatment devices 143 for heat treating and baking the organic material dried by the reduced pressure drying device 142 are provided. The heat treatment apparatus 143 has a hot plate (not shown) on which the glass substrate G is placed, and is configured to fire the organic material by the hot plate.

第3の基板搬送領域132のY方向負方向側には、熱処理装置143で熱処理されたガラス基板Gを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置144が複数設けられている。   On the Y direction negative direction side of the third substrate transfer region 132, a plurality of temperature adjusting devices 144 for adjusting the glass substrate G heat-treated by the heat treatment device 143 to a predetermined temperature, for example, room temperature, are provided.

なお、正孔注入層形成部120において、これら塗布装置140、バッファ装置141、減圧乾燥装置142、熱処理装置143及び温度調節装置144の数や配置は、任意に選択できる。   In the hole injection layer forming unit 120, the number and arrangement of the coating device 140, the buffer device 141, the reduced pressure drying device 142, the heat treatment device 143, and the temperature control device 144 can be arbitrarily selected.

正孔輸送層形成部121には、第1の基板搬送領域150と、第2の基板搬送領域151と、第3の基板搬送領域152とが、正孔注入層形成部120側からX方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域150、151、152はX方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域150、151、152には、ガラス基板Gを搬送する基板搬送装置(図示せず)が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域150、151、152に隣接して設けられる各装置にガラス基板Gを搬送できる。   In the hole transport layer forming portion 121, a first substrate transport region 150, a second substrate transport region 151, and a third substrate transport region 152 are arranged in the X direction from the hole injection layer formation portion 120 side. They are arranged in this order. Each substrate transport region 150, 151, 152 is provided extending in the X direction, and a substrate transport device (not shown) for transporting the glass substrate G is provided in the substrate transport region 150, 151, 152. . The substrate transfer device is also movable in the horizontal direction, the vertical direction, and the vertical direction, and can transfer the glass substrate G to each device provided adjacent to these substrate transfer regions 150, 151, 152.

なお、第3の基板搬送領域152には後述する熱処理装置163及び温度調節装置164が隣接されて設けられており、これら各装置163、164の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第3の基板搬送領域152においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。以下の説明において、低酸素雰囲気とは大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が10ppm以下の雰囲気をいい、また低露点雰囲気とは大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−10℃以下の雰囲気をいう。そして、かかる低酸素且つ低露点雰囲気として、例えば窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。   Note that a heat treatment apparatus 163 and a temperature adjustment apparatus 164, which will be described later, are provided adjacent to the third substrate transfer region 152, and the insides of these apparatuses 163 and 164 are maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. For this reason, the inside of the third substrate transfer region 152 is also maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. In the following description, a low oxygen atmosphere refers to an atmosphere having an oxygen concentration lower than that of the air, for example, an atmosphere having an oxygen concentration of 10 ppm or less, and a low dew point atmosphere refers to an atmosphere having a dew point temperature lower than that of the air, such as a dew point temperature of − An atmosphere of 10 ° C. or lower. For example, an inert gas such as nitrogen gas is used as the low oxygen and low dew point atmosphere.

正孔注入層形成部120と第1の基板搬送領域150との間、及び第1の基板搬送領域150と第2の基板搬送領域151との間には、それぞれガラス基板Gを受け渡すためのトランジション装置153、154が設けられている。第2の基板搬送領域151と第3の基板搬送領域152の間には、ガラス基板Gを一時的に収容可能なロードロック装置155が設けられている。ロードロック装置155は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。   For transferring the glass substrate G between the hole injection layer forming part 120 and the first substrate transport region 150 and between the first substrate transport region 150 and the second substrate transport region 151, respectively. Transition devices 153 and 154 are provided. Between the second substrate transfer region 151 and the third substrate transfer region 152, a load lock device 155 capable of temporarily storing the glass substrate G is provided. The load lock device 155 is configured to be able to switch the internal atmosphere, that is, to switch between an air atmosphere and a low oxygen and low dew point atmosphere.

第1の基板搬送領域150のY方向正方向側には、ガラス基板G(正孔注入層531)上に正孔輸送層532を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置160が設けられている。塗布装置160では、インクジェット方式でガラス基板G上の所定の位置、すなわち隔壁540の開口部541の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔輸送層532を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。   As a droplet discharge device, an organic material for forming a hole transport layer 532 is applied on the glass substrate G (hole injection layer 531) on the positive side in the Y direction of the first substrate transport region 150. A coating device 160 is provided. In the coating device 160, an organic material is applied to a predetermined position on the glass substrate G, that is, inside the opening 541 of the partition wall 540 by an inkjet method. Note that the organic material in this embodiment is a solution in which a predetermined material for forming the hole-transport layer 532 is dissolved in an organic solvent.

上記実施の形態の液滴検査装置1は、塗布装置160の内部に配置され、液滴吐出ヘッド(図示せず)からインクジェット方式で吐出される液滴21の検査を行う。なお、塗布装置160における液滴検査装置1の配置は任意に設定できる。   The droplet inspection apparatus 1 according to the above-described embodiment is disposed inside the coating apparatus 160, and inspects the droplet 21 ejected by an inkjet method from a droplet ejection head (not shown). The arrangement of the droplet inspection apparatus 1 in the coating apparatus 160 can be arbitrarily set.

第1の基板搬送領域150のY方向負方向側には、複数のガラス基板Gを一時的に収容するバッファ装置161が設けられている。   A buffer device 161 that temporarily accommodates a plurality of glass substrates G is provided on the Y direction negative direction side of the first substrate transfer region 150.

第2の基板搬送領域151のY方向正方向側とY方向負方向側には、塗布装置160で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置162が複数積層されて、全部で例えば5つ設けられている。減圧乾燥装置162は、例えばターボ分子ポンプ(図示せず)を有し、その内部雰囲気を例えば1Pa以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。   On the Y direction positive direction side and Y direction negative direction side of the second substrate transfer region 151, a plurality of reduced pressure drying devices 162 for drying the organic material applied by the coating device 160 under reduced pressure are stacked, for example, five in total. Is provided. The vacuum drying apparatus 162 includes, for example, a turbo molecular pump (not shown), and is configured to dry the organic material by reducing the internal atmosphere to 1 Pa or less, for example.

第3の基板搬送領域152のY方向正方向側には、減圧乾燥装置162で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置163が複数、例えば20段に積層されて設けられている。熱処理装置163は、その内部にガラス基板Gを載置する熱板(図示せず)を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置163の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。   On the positive side in the Y direction of the third substrate transfer region 152, a plurality of, for example, 20 heat treatment devices 163 for heat treating and baking the organic material dried by the reduced pressure drying device 162 are provided. The heat treatment apparatus 163 includes a hot plate (not shown) on which the glass substrate G is placed, and is configured to fire the organic material using the hot plate. Further, the inside of the heat treatment apparatus 163 is maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere.

第3の基板搬送領域152のY方向負方向側には、熱処理装置163で熱処理されたガラス基板Gを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置164が複数設けられている。温度調節装置164の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。   A plurality of temperature adjusting devices 164 for adjusting the glass substrate G heat-treated by the heat treatment device 163 to a predetermined temperature, for example, room temperature, are provided on the Y direction negative direction side of the third substrate transfer region 152. The inside of the temperature control device 164 is maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere.

なお、正孔輸送層形成部121において、これら塗布装置160、バッファ装置161、減圧乾燥装置162、熱処理装置163及び温度調節装置164の数や配置は、任意に選択できる。   In the hole transport layer forming unit 121, the number and arrangement of the coating device 160, the buffer device 161, the vacuum drying device 162, the heat treatment device 163, and the temperature control device 164 can be arbitrarily selected.

発光層形成部122には、第1の基板搬送領域170と、第2の基板搬送領域171と、第3の基板搬送領域172とが、正孔輸送層形成部121側からX方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域170、171、172はX方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域170、171、172には、ガラス基板Gを搬送する基板搬送装置(図示せず)が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域170、171、172に隣接して設けられる各装置にガラス基板Gを搬送できる。   In the light emitting layer forming unit 122, a first substrate transport region 170, a second substrate transport region 171 and a third substrate transport region 172 are arranged in this order from the hole transport layer forming unit 121 side in the X direction. Are arranged side by side. Each of the substrate transfer areas 170, 171 and 172 is provided extending in the X direction, and a substrate transfer apparatus (not shown) for transferring the glass substrate G is provided in each of the substrate transfer areas 170, 171 and 172. . The substrate transfer device is also movable in the horizontal direction, the vertical direction, and the vertical direction, and can transfer the glass substrate G to each device provided adjacent to these substrate transfer regions 170, 171, and 172.

なお、第3の基板搬送領域172には後述する熱処理装置183及び温度調節装置184が隣接されて設けられており、これら各装置183、184の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第3の基板搬送領域172においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。   The third substrate transfer region 172 is provided with a heat treatment apparatus 183 and a temperature adjustment apparatus 184 which will be described later, and the inside of each of these apparatuses 183 and 184 is maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. For this reason, the inside of the third substrate transfer region 172 is also maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere.

正孔輸送層形成部121と第1の基板搬送領域170との間、及び第1の基板搬送領域170と第2の基板搬送領域171との間には、それぞれガラス基板Gを受け渡すためのトランジション装置173、174が設けられている。第2の基板搬送領域171と第3の基板搬送領域172の間、及び第3の基板搬送領域172と搬出ステーション103との間には、それぞれガラス基板Gを一時的に収容可能なロードロック装置175、176が設けられている。ロードロック装置175、176は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。   For transferring the glass substrate G between the hole transport layer forming part 121 and the first substrate transport region 170 and between the first substrate transport region 170 and the second substrate transport region 171, respectively. Transition devices 173 and 174 are provided. A load lock device that can temporarily store the glass substrate G between the second substrate transfer region 171 and the third substrate transfer region 172, and between the third substrate transfer region 172 and the unloading station 103, respectively. 175, 176 are provided. The load lock devices 175 and 176 are configured to be able to switch the internal atmosphere, that is, to switch between an air atmosphere and a low oxygen and low dew point atmosphere.

第1の基板搬送領域170のY方向正方向側には、ガラス基板G(正孔輸送層532)上に発光層533を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置180が例えば2つ設けられている。塗布装置180では、インクジェット方式でガラス基板G上の所定の位置、すなわち隔壁540の開口部541の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、発光層533を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。   On the positive side in the Y direction of the first substrate transport region 170, a coating device as a droplet discharge device that coats an organic material for forming the light emitting layer 533 on the glass substrate G (hole transport layer 532) For example, two 180 are provided. In the coating device 180, an organic material is applied to a predetermined position on the glass substrate G, that is, inside the opening 541 of the partition wall 540 by an inkjet method. Note that the organic material in this embodiment is a solution in which a predetermined material for forming the light-emitting layer 533 is dissolved in an organic solvent.

上記実施の形態の液滴検査装置1は、塗布装置180の内部に配置され、液滴吐出ヘッド(図示せず)からインクジェット方式で吐出される液滴21の検査を行う。なお、塗布装置180における液滴検査装置1の配置は任意に設定できる。   The droplet inspection apparatus 1 according to the above-described embodiment is disposed inside the coating apparatus 180 and inspects the droplets 21 ejected by an inkjet method from a droplet ejection head (not shown). The arrangement of the droplet inspection device 1 in the coating device 180 can be arbitrarily set.

第1の基板搬送領域170のY方向負方向側には、複数のガラス基板Gを一時的に収容するバッファ装置181が設けられている。   A buffer device 181 that temporarily accommodates a plurality of glass substrates G is provided on the Y direction negative direction side of the first substrate transfer region 170.

第2の基板搬送領域171のY方向正方向側とY方向負方向側には、塗布装置180で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置182が複数積層されて、全部で例えば5つ設けられている。減圧乾燥装置182は、例えばターボ分子ポンプ(図示せず)を有し、その内部雰囲気を例えば1Pa以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。   A plurality of reduced-pressure drying apparatuses 182 for drying the organic material applied by the application apparatus 180 under reduced pressure are stacked on the Y-direction positive direction side and the Y-direction negative direction side of the second substrate transfer region 171, for example, a total of five Is provided. The vacuum drying apparatus 182 has, for example, a turbo molecular pump (not shown), and is configured to dry the organic material by reducing the internal atmosphere to 1 Pa or less, for example.

第3の基板搬送領域172のY方向正方向側には、減圧乾燥装置182で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置183が複数、例えば20段に積層されて設けられている。熱処理装置183は、その内部にガラス基板Gを載置する熱板(図示せず)を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置183の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。   On the positive side in the Y direction of the third substrate transfer region 172, a plurality of, for example, 20 heat treatment devices 183 for heat-treating and baking the organic material dried by the reduced pressure drying device 182 are provided. The heat treatment apparatus 183 includes a hot plate (not shown) on which the glass substrate G is placed, and is configured to fire the organic material using the hot plate. Further, the inside of the heat treatment apparatus 183 is maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere.

第3の基板搬送領域172のY方向負方向側には、熱処理装置183で熱処理されたガラス基板Gを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置184が複数設けられている。温度調節装置184の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。   A plurality of temperature adjusting devices 184 for adjusting the glass substrate G heat-treated by the heat treatment device 183 to a predetermined temperature, for example, room temperature, are provided on the Y direction negative direction side of the third substrate transfer region 172. The inside of the temperature control device 184 is maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere.

なお、発光層形成部122において、これら塗布装置180、バッファ装置181、減圧乾燥装置182、熱処理装置183及び温度調節装置184の数や配置は、任意に選択できる。   In the light emitting layer forming unit 122, the number and arrangement of the coating device 180, the buffer device 181, the reduced pressure drying device 182, the heat treatment device 183, and the temperature adjusting device 184 can be arbitrarily selected.

搬出ステーション103には、カセット載置台190が設けられている。カセット載置台190は、複数のカセットCをY方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬出ステーション103は、複数のガラス基板Gを保有可能に構成されている。   The unloading station 103 is provided with a cassette mounting table 190. The cassette mounting table 190 can mount a plurality of cassettes C in a line in the Y direction. That is, the carry-out station 103 is configured to be able to hold a plurality of glass substrates G.

搬出ステーション103には、Y方向に延伸する搬送路191上を移動可能な基板搬送体192が設けられている。基板搬送体192は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットCと処理ステーション102との間でガラス基板Gを搬送できる。なお、基板搬送体192は、例えばガラス基板Gを吸着保持して搬送する。   The unloading station 103 is provided with a substrate transport body 192 that can move on a transport path 191 extending in the Y direction. The substrate transfer body 192 is movable in the vertical direction and also around the vertical direction, and can transfer the glass substrate G between the cassette C and the processing station 102. The substrate transport body 192 transports, for example, the glass substrate G by suction.

また、搬出ステーション103の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されているのが好ましい。   Further, the inside of the carry-out station 103 is preferably maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere.

以上の基板処理システム100には、上述した制御部13が設けられている。したがって、塗布装置140、160、180の内部に設けられた液滴検査装置1は、制御部13によって制御される。但し、この制御部13のプログラム格納部(図示せず)には、液滴検査装置1を制御するためのプログラムに加えて、基板処理システム100におけるガラス基板Gの処理を制御するプログラムも格納されている。   The substrate processing system 100 described above is provided with the control unit 13 described above. Therefore, the droplet inspection apparatus 1 provided inside the coating apparatuses 140, 160, and 180 is controlled by the control unit 13. However, a program storage unit (not shown) of the control unit 13 stores a program for controlling the processing of the glass substrate G in the substrate processing system 100 in addition to the program for controlling the droplet inspection apparatus 1. ing.

また、制御部13は、データ格納部(図示せず)も有している。データ格納部には、例えば塗布装置140、160、180で吐出される液滴の大きさ及位置の正常データ、すなわち所望の大きさ及び位置に適合する描画データ(ビットマップデータ)が予め格納されている。   The control unit 13 also includes a data storage unit (not shown). In the data storage unit, for example, normal data of the size and position of droplets ejected by the coating apparatuses 140, 160, and 180, that is, drawing data (bitmap data) that matches a desired size and position is stored in advance. ing.

次に、以上のように構成された基板処理システム100を用いて行われるガラス基板Gの処理方法について説明する。   Next, the processing method of the glass substrate G performed using the substrate processing system 100 configured as described above will be described.

先ず、複数のガラス基板Gを収容したカセットCが、搬入ステーション101に搬入され、カセット載置台110上に載置される。その後、基板搬送体112によって、カセット載置台110上のカセットCからガラス基板Gが順次取り出される。   First, a cassette C containing a plurality of glass substrates G is carried into the carry-in station 101 and placed on the cassette placing table 110. Thereafter, the glass substrates G are sequentially taken out from the cassette C on the cassette mounting table 110 by the substrate carrier 112.

カセットCから取り出されたガラス基板Gは、基板搬送体112によって正孔注入層形成部120のトランジション装置133に搬送され、さらに第1の基板搬送領域130を介して塗布装置140に搬送される。そして塗布装置140では、インクジェット方式でガラス基板G(陽極510)上の所定の位置、すなわち隔壁540の開口部541の内部に、正孔注入層531用の有機材料が塗布される。   The glass substrate G taken out from the cassette C is transported to the transition device 133 of the hole injection layer forming unit 120 by the substrate transport body 112 and further transported to the coating device 140 through the first substrate transport region 130. In the coating apparatus 140, an organic material for the hole injection layer 531 is applied to a predetermined position on the glass substrate G (anode 510), that is, inside the opening 541 of the partition wall 540 by an inkjet method.

ここで、塗布装置140では、ガラス基板Gに対する塗布処理が終了すると、液滴検査装置1によって、液滴吐出ヘッド(図示せず)から吐出される液滴21の検査が行われる。具体的には、液滴吐出ヘッドの下方に検査シート20が配置され、当該液滴吐出ヘッドから検査シート20に対して検査用として液滴21が吐出される。この液滴21が吐出された直後に、照射部10から照射領域22に紫外線を照射して液滴21を発光させ、そして、発光した液滴21を含む照射領域22を撮像部11によって撮像する。撮像された撮像画像は制御部13の計測部13aに出力され、当該計測部13aでは、撮像画像に基づいて、液滴21の大きさ及び検査シート20上の液滴21の位置が計測される。こうして、液滴21の検査が行われる。   Here, in the coating device 140, when the coating process on the glass substrate G is completed, the droplet inspection device 1 inspects the droplet 21 ejected from a droplet ejection head (not shown). Specifically, the inspection sheet 20 is disposed below the droplet discharge head, and the droplet 21 is discharged from the droplet discharge head to the inspection sheet 20 for inspection. Immediately after the droplet 21 is discharged, the irradiation unit 10 irradiates the irradiation region 22 with ultraviolet rays to cause the droplet 21 to emit light, and the imaging unit 11 images the irradiation region 22 including the emitted droplet 21. . The captured image is output to the measurement unit 13a of the control unit 13, and the measurement unit 13a measures the size of the droplet 21 and the position of the droplet 21 on the inspection sheet 20 based on the captured image. . In this way, the droplet 21 is inspected.

なお、液滴21の検査は、当該液滴21が継時的に乾燥して大きさが変化するのを回避するため、上述したように液滴21が吐出された直後に行われるのが好ましい。ここで、例えば塗布装置140に液滴吐出ヘッドが複数設けられている場合、最初の液滴吐出ヘッドから液滴21が吐出されてから、最後の液滴吐出ヘッドから液滴21が吐出されるまでに時間差があり、この間に吐出された液滴21が継時的に乾燥して大きさが変化する場合がある。この点、上述したように塗布直後の液滴21を検査するためには、例えば複数の撮像部11を設けてもよいし、撮像部11を移動自在に構成してもよい。かかる構成をとることで、液滴吐出ヘッドから液滴21が吐出される毎に、当該液滴21の検査を行うことができる。   Note that the inspection of the droplet 21 is preferably performed immediately after the droplet 21 is ejected as described above in order to avoid the droplet 21 from drying and changing in size over time. . Here, for example, when a plurality of droplet discharge heads are provided in the coating apparatus 140, the droplets 21 are discharged from the last droplet discharge head after the droplets 21 are discharged from the first droplet discharge head. There is a time difference until the droplets 21 discharged during this time are dried over time and the size may change. In this regard, as described above, in order to inspect the droplet 21 immediately after application, for example, a plurality of imaging units 11 may be provided, or the imaging unit 11 may be configured to be movable. With this configuration, every time the droplet 21 is ejected from the droplet ejection head, the droplet 21 can be inspected.

計測部13aで液滴21の大きさ及び位置が計測されると、続いて制御部13では、液滴21の大きさ及び位置の計測データと、予め格納された液滴の大きさ及び位置の正常データとの比較を行う。そして、計測データが正常データからずれている場合には、塗布装置140の液滴吐出ヘッドが正常な液滴21を吐出するようにフィードバック制御される。なお、この液滴21の検査と液滴吐出ヘッドに対するフィードバック制御は、1枚のガラス基板G毎に行ってもよいし、所定枚数のガラス基板G毎に行ってもよい。   When the size and position of the droplet 21 are measured by the measurement unit 13a, the control unit 13 subsequently measures the measurement data of the size and position of the droplet 21 and the size and position of the droplet stored in advance. Compare with normal data. When the measurement data deviates from normal data, feedback control is performed so that the droplet discharge head of the coating apparatus 140 discharges normal droplets 21. The inspection of the droplets 21 and the feedback control for the droplet discharge head may be performed for each glass substrate G or for each predetermined number of glass substrates G.

一方、塗布装置140での塗布処理が終了したガラス基板Gは、第1の基板搬送領域130を介してトランジション装置134に搬送され、さらに第2の基板搬送領域131を介して減圧乾燥装置142に搬送される。そして減圧乾燥装置142では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板G上に塗布された有機材料が乾燥される。   On the other hand, the glass substrate G that has been subjected to the coating process in the coating apparatus 140 is transported to the transition apparatus 134 via the first substrate transport area 130, and further transferred to the vacuum drying apparatus 142 via the second substrate transport area 131. Be transported. In the vacuum drying apparatus 142, the internal atmosphere is decompressed, and the organic material applied on the glass substrate G is dried.

次にガラス基板Gは、第2の基板搬送領域131を介してトランジション装置135に搬送され、さらに第3の基板搬送領域132を介して熱処理装置143に搬送される。そして熱処理装置143では、熱板上に載置されたガラス基板Gが所定の温度、例えば180℃に加熱され、当該ガラス基板Gの有機材料が焼成される。   Next, the glass substrate G is transferred to the transition apparatus 135 via the second substrate transfer area 131 and further transferred to the heat treatment apparatus 143 via the third substrate transfer area 132. In the heat treatment apparatus 143, the glass substrate G placed on the hot plate is heated to a predetermined temperature, for example, 180 ° C., and the organic material of the glass substrate G is baked.

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域132を介して温度調節装置144に搬送される。そして温度調節装置144では、ガラス基板Gが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板G(陽極510)上に正孔注入層531が形成される。   Next, the glass substrate G is transported to the temperature adjustment device 144 via the third substrate transport region 132. In the temperature adjusting device 144, the temperature of the glass substrate G is adjusted to a predetermined temperature, for example, room temperature. Thus, the hole injection layer 531 is formed on the glass substrate G (anode 510).

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域132を介して正孔輸送層形成部121のトランジション装置153に搬送され、さらに第1の基板搬送領域150を介して塗布装置160に搬送される。そして塗布装置160では、インクジェット方式でガラス基板G(正孔注入層531)上に、正孔輸送層532用の有機材料が塗布される。ここで、塗布装置160におけるガラス基板Gへの塗布処理が終了すると、液滴検査装置1による液滴21の検査と、液滴吐出ヘッドに対するフィードバック制御が行われる。これら液滴21の検査と液滴吐出ヘッドに対するフィードバック制御は、上記塗布装置140で行われるものと同様であるので説明を省略する。   Next, the glass substrate G is transferred to the transition device 153 of the hole transport layer forming unit 121 via the third substrate transfer region 132 and further transferred to the coating device 160 via the first substrate transfer region 150. . In the coating device 160, an organic material for the hole transport layer 532 is applied onto the glass substrate G (hole injection layer 531) by an inkjet method. Here, when the coating process on the glass substrate G in the coating apparatus 160 is completed, the droplet inspection apparatus 1 inspects the droplet 21 and performs feedback control on the droplet discharge head. Since the inspection of the droplets 21 and the feedback control for the droplet discharge head are the same as those performed in the coating apparatus 140, description thereof is omitted.

次にガラス基板Gは、第1の基板搬送領域150を介してトランジション装置154に搬送され、さらに第2の基板搬送領域151を介して減圧乾燥装置162に搬送される。そして減圧乾燥装置162では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板G上に塗布された有機材料が乾燥される。   Next, the glass substrate G is transferred to the transition device 154 via the first substrate transfer region 150 and further transferred to the reduced-pressure drying device 162 via the second substrate transfer region 151. In the vacuum drying apparatus 162, the internal atmosphere is decompressed, and the organic material applied on the glass substrate G is dried.

次にガラス基板Gは、第2の基板搬送領域151を介してロードロック装置155に搬送される。ロードロック装置155にガラス基板Gが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置155の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第3の基板搬送領域152の内部とが連通させられる。   Next, the glass substrate G is transported to the load lock device 155 via the second substrate transport region 151. When the glass substrate G is carried into the load lock device 155, the inside thereof is switched to a low oxygen and low dew point atmosphere. Thereafter, the inside of the load lock device 155 and the inside of the third substrate transport region 152 that is similarly maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere are communicated.

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域152を介して熱処理装置163に搬送される。この熱処理装置163の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置163では、熱板上に載置されたガラス基板Gが所定の温度、例えば200℃に加熱され、当該ガラス基板Gの有機材料が焼成される。   Next, the glass substrate G is transferred to the heat treatment apparatus 163 via the third substrate transfer region 152. The inside of the heat treatment apparatus 163 is also maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. In the heat treatment apparatus 163, the glass substrate G placed on the hot plate is heated to a predetermined temperature, for example, 200 ° C., and the organic material of the glass substrate G is baked.

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域152を介して温度調節装置164に搬送される。この温度調節装置164の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置164では、ガラス基板Gが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板G(正孔注入層531)上に正孔輸送層532が形成される。   Next, the glass substrate G is transported to the temperature adjustment device 164 via the third substrate transport region 152. The inside of the temperature control device 164 is also maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. In the temperature adjusting device 164, the temperature of the glass substrate G is adjusted to a predetermined temperature, for example, room temperature. Thus, the hole transport layer 532 is formed on the glass substrate G (hole injection layer 531).

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域152を介して発光層形成部122のトランジション装置173に搬送され、さらに第1の基板搬送領域170を介して塗布装置180に搬送される。そして塗布装置180では、インクジェット方式でガラス基板G(正孔輸送層532)上に、発光層533用の有機材料が塗布される。ここで、塗布装置180におけるガラス基板Gへの塗布処理が終了すると、液滴検査装置1による液滴21の検査と、液滴吐出ヘッドに対するフィードバック制御が行われる。これら液滴21の検査と液滴吐出ヘッドに対するフィードバック制御は、上記塗布装置140で行われるものと同様であるので説明を省略する。   Next, the glass substrate G is transferred to the transition device 173 of the light emitting layer forming unit 122 via the third substrate transfer region 152 and further transferred to the coating device 180 via the first substrate transfer region 170. In the coating apparatus 180, an organic material for the light emitting layer 533 is applied onto the glass substrate G (hole transport layer 532) by an inkjet method. Here, when the coating process on the glass substrate G in the coating device 180 is completed, the droplet inspection device 1 inspects the droplet 21 and performs feedback control on the droplet discharge head. Since the inspection of the droplets 21 and the feedback control for the droplet discharge head are the same as those performed in the coating apparatus 140, description thereof is omitted.

次にガラス基板Gは、第1の基板搬送領域170を介してトランジション装置174に搬送され、さらに第2の基板搬送領域171を介して減圧乾燥装置182に搬送される。そして減圧乾燥装置182では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板G上に塗布された有機材料が乾燥される。   Next, the glass substrate G is transported to the transition device 174 via the first substrate transport region 170 and further transported to the vacuum drying device 182 via the second substrate transport region 171. In the vacuum drying apparatus 182, the internal atmosphere is decompressed, and the organic material applied on the glass substrate G is dried.

次にガラス基板Gは、第2の基板搬送領域171を介してロードロック装置175に搬送される。ロードロック装置175にガラス基板Gが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置175の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第3の基板搬送領域172の内部とが連通させられる。   Next, the glass substrate G is transferred to the load lock device 175 via the second substrate transfer region 171. When the glass substrate G is carried into the load lock device 175, the inside thereof is switched to a low oxygen and low dew point atmosphere. Thereafter, the inside of the load lock device 175 and the inside of the third substrate transport region 172 that are similarly maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere are communicated.

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域172を介して熱処理装置183に搬送される。この熱処理装置183の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置183では、熱板上に載置されたガラス基板Gが所定の温度、例えば160℃に加熱され、当該ガラス基板Gの有機材料が焼成される。   Next, the glass substrate G is transferred to the heat treatment apparatus 183 through the third substrate transfer region 172. The inside of the heat treatment apparatus 183 is also maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. In the heat treatment apparatus 183, the glass substrate G placed on the hot plate is heated to a predetermined temperature, for example, 160 ° C., and the organic material of the glass substrate G is baked.

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域172を介して温度調節装置184に搬送される。この温度調節装置184の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置184では、ガラス基板Gが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板G(正孔輸送層532)上に発光層533が形成される。   Next, the glass substrate G is transferred to the temperature adjustment device 184 via the third substrate transfer region 172. The inside of the temperature control device 184 is also maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. In the temperature adjusting device 184, the temperature of the glass substrate G is adjusted to a predetermined temperature, for example, room temperature. Thus, the light emitting layer 533 is formed on the glass substrate G (hole transport layer 532).

次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域172を介してロードロック装置176に搬送される。このロードロック装置176の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして、ロードロック装置176の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された搬出ステーション103の内部とが連通させられる。   Next, the glass substrate G is transferred to the load lock device 176 via the third substrate transfer region 172. The inside of the load lock device 176 is maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere. Then, the inside of the load lock device 176 and the inside of the carry-out station 103 that is similarly maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere are communicated.

次にガラス基板Gは、搬出ステーション103の基板搬送体192によってカセット載置台190上の所定のカセットCに搬送される。こうして、基板処理システム100における一連のガラス基板Gの処理が終了する。   Next, the glass substrate G is transferred to a predetermined cassette C on the cassette mounting table 190 by the substrate transfer body 192 of the carry-out station 103. Thus, a series of processing of the glass substrates G in the substrate processing system 100 is completed.

以上の実施の形態によれば、塗布装置140、160、180の内部に液滴検査装置1を設けているので、当該塗布装置140、160、180の液滴吐出ヘッドから吐出される液滴21を検査し、さらに液滴吐出ヘッドをフィードバック制御することができる。したがって、塗布装置140、160、180における液滴21の吐出不良を抑制し、液滴21の大きさ(すなわち、液滴21の重量)及びガラス基板Gに吐出される液滴21の位置を適切に制御して、ガラス基板Gに有機材料を適切に塗布することができる。   According to the above embodiment, since the droplet inspection apparatus 1 is provided inside the coating apparatuses 140, 160, 180, the droplets 21 ejected from the droplet ejection heads of the coating apparatuses 140, 160, 180 are provided. In addition, the droplet discharge head can be feedback controlled. Therefore, the ejection failure of the droplet 21 in the coating apparatuses 140, 160, and 180 is suppressed, and the size of the droplet 21 (that is, the weight of the droplet 21) and the position of the droplet 21 ejected onto the glass substrate G are appropriately set. Thus, the organic material can be appropriately applied to the glass substrate G.

なお、以上の実施の形態の基板処理システム100のレイアウトは、図7に示したレイアウトに限定されず、任意に設定できる。   Note that the layout of the substrate processing system 100 of the above embodiment is not limited to the layout shown in FIG. 7 and can be arbitrarily set.

また、以上の実施の形態の基板処理システム100では、正孔注入層531、正孔輸送層532及び発光層533を形成したが、同様に有機発光ダイオード500の他の電子輸送層534と電子注入層535も形成するようにしてもよい。すなわち、電子輸送層534と電子注入層535に用いられる有機材料に応じて、当該電子輸送層534と電子注入層535は、それぞれインクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理を行ってガラス基板G上に形成される。そして、これら電子輸送層534と電子注入層535の塗布処理においても、液滴検査装置1による液滴21の検査を行ってもよい。   In the substrate processing system 100 of the above embodiment, the hole injection layer 531, the hole transport layer 532, and the light emitting layer 533 are formed. Similarly, other electron transport layers 534 and electron injections of the organic light emitting diode 500 are formed. A layer 535 may also be formed. In other words, depending on the organic material used for the electron transport layer 534 and the electron injection layer 535, the electron transport layer 534 and the electron injection layer 535 are each coated with an organic material by an inkjet method, reduced pressure drying treatment of an organic material, organic The material is baked to form on the glass substrate G. In the coating process of the electron transport layer 534 and the electron injection layer 535, the droplet 21 may be inspected by the droplet inspection apparatus 1.

また、液滴検査装置1の適用例として、有機発光ダイオード500の有機EL層530を形成する基板処理システム100を説明したが、液滴検査装置1の適用例はこれに限定されない。例えばカラーレジストを塗布する基板処理システムなどに液滴検査装置1を適用してもよい。   In addition, the substrate processing system 100 that forms the organic EL layer 530 of the organic light emitting diode 500 has been described as an application example of the droplet inspection apparatus 1, but the application example of the droplet inspection apparatus 1 is not limited to this. For example, the droplet inspection apparatus 1 may be applied to a substrate processing system for applying a color resist.

さらに、液滴検査装置1の適用例として、インクジェット方式の塗布装置140、160、180を説明したが、液滴検査装置1の適用例はこれに限定されない。インクジェット方式のように液滴を吐出する場合に限定されず、例えば一定量の塗布液を連続して吐出する塗布装置に液滴検査装置1を適用し、当該塗布液を検査してもよい。かかる場合、液滴検査装置1では、被吐出体に吐出された塗布液の大きさ(重量)及び被吐出体上の塗布液の位置を計測する。なお、本実施の形態では、この一定量の塗布液が本発明の液滴を構成する。   Furthermore, as an application example of the droplet inspection apparatus 1, the inkjet type coating apparatuses 140, 160, and 180 have been described, but the application example of the droplet inspection apparatus 1 is not limited to this. For example, the droplet inspection apparatus 1 may be applied to a coating apparatus that continuously discharges a predetermined amount of coating liquid, and the coating liquid may be inspected. In such a case, the droplet inspection apparatus 1 measures the size (weight) of the coating liquid discharged onto the discharge target and the position of the coating liquid on the discharge target. In the present embodiment, this fixed amount of coating liquid constitutes the droplet of the present invention.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious for those skilled in the art that various modifications or modifications can be conceived within the scope of the idea described in the claims, and these naturally belong to the technical scope of the present invention. It is understood.

1 液滴検査装置
10 照射部
11 撮像部
12 紫外線遮断フィルタ
13 制御部
13a 計測部
20 検査シート
21 液滴
22 照射領域
30 可視光成分
31 紫外線
40、41 光路変更部
100 基板処理システム
140、160、180 塗布装置
500 有機発光ダイオード
530 有機EL層
531 正孔注入層
532 正孔輸送層
533 発光層
534 電子輸送層
535 電子注入層
G ガラス基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Droplet inspection apparatus 10 Irradiation part 11 Imaging part 12 Ultraviolet blocking filter 13 Control part 13a Measurement part 20 Inspection sheet 21 Droplet 22 Irradiation area 30 Visible light component 31 Ultraviolet light 40, 41 Optical path change part 100 Substrate processing system 140,160, 180 coating device 500 organic light emitting diode 530 organic EL layer 531 hole injection layer 532 hole transport layer 533 light emission layer 534 electron transport layer 535 electron injection layer G glass substrate

Claims (13)

被吐出体に吐出される液滴を検査する液滴検査装置であって、
前記液滴を含む前記被吐出体上の照射領域に紫外線を照射する照射部と、
前記液滴又は前記前記被吐出体が発光した前記照射領域を撮像する撮像部と、
前記撮像部によって撮像された撮像画像に基づいて、前記液滴の大きさ及び前記被吐出体上の前記液滴の位置を計測する計測部と、を有することを特徴とする、液滴検査装置。
A droplet inspection apparatus for inspecting droplets discharged to a discharge target body,
An irradiation unit for irradiating the irradiation region on the discharge target body containing the droplet with ultraviolet rays;
An imaging unit that images the irradiation region emitted by the droplet or the discharge target;
A droplet inspection apparatus comprising: a measurement unit that measures a size of the droplet and a position of the droplet on the discharge target based on a captured image captured by the imaging unit. .
前記撮像部の光軸上に設けられ、前記被吐出体で反射した紫外線を遮断する紫外線遮断フィルタをさらに有することを特徴とする、請求項1に記載の液滴検査装置。 The droplet inspection apparatus according to claim 1, further comprising an ultraviolet blocking filter that is provided on an optical axis of the imaging unit and blocks ultraviolet rays reflected by the discharge target. 前記撮像部は、前記被吐出体の主面に対して当該撮像部の光軸が垂直となる向きに配置され、
前記照射部は、前記液滴に対して斜め上方から紫外線を照射する向きに配置されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の液滴検査装置。
The imaging unit is disposed in a direction in which the optical axis of the imaging unit is perpendicular to the main surface of the discharge target body,
The droplet inspection apparatus according to claim 1, wherein the irradiation unit is arranged in a direction in which ultraviolet rays are irradiated obliquely from above the droplet.
前記撮像部は、前記被吐出体の主面に対して当該撮像部の光軸が垂直となる向きに配置され、
前記照射部は、前記液滴の下方から紫外線を照射する向きに配置されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の液滴検査装置。
The imaging unit is disposed in a direction in which the optical axis of the imaging unit is perpendicular to the main surface of the discharge target body,
The droplet inspection apparatus according to claim 1, wherein the irradiation unit is disposed in a direction in which ultraviolet rays are irradiated from below the droplet.
前記照射部からの紫外線の光路を前記照射領域に向ける光路変更部をさらに有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の液滴検査装置。 The droplet inspection apparatus according to claim 1, further comprising an optical path changing unit that directs an optical path of ultraviolet rays from the irradiation unit toward the irradiation region. 前記液滴検査装置は、インクジェット方式で前記被吐出体に前記液滴を吐出する液滴吐出装置の内部に設けられていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の液滴検査装置。 The droplet inspection apparatus is provided inside a droplet discharge device that discharges the droplet onto the discharge target by an inkjet method. Droplet inspection device. 前記液滴は、有機EL層に用いられる有機材料であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の液滴検査装置。 The droplet inspection apparatus according to claim 1, wherein the droplet is an organic material used for an organic EL layer. 被吐出体に吐出される液滴を検査する液滴検査方法であって、
前記液滴を含む前記被吐出体上の照射領域に照射部から紫外線を照射して、当該照射領域における前記液滴又は前記被吐出体を発光させ、
前記照射領域を撮像部によって撮像し、
前記撮像部によって撮像された撮像画像に基づいて、前記液滴の大きさ及び前記被吐出体上の前記液滴の位置を計測することを特徴とする、液滴検査方法。
A droplet inspection method for inspecting droplets to be discharged onto a discharge target body,
By irradiating the irradiation area on the discharge target body containing the droplet with ultraviolet rays from an irradiation unit, the liquid drop or the discharge target body in the irradiation area is caused to emit light,
The irradiation area is imaged by an imaging unit,
A droplet inspection method, comprising: measuring a size of the droplet and a position of the droplet on the ejection target based on a captured image captured by the imaging unit.
前記撮像部によって前記被吐出体を撮像する際、当該撮像部の光軸上に設けられた紫外線遮断フィルタによって、前記被吐出体で反射した紫外線を遮断することを特徴とする、請求項8に記載の液滴検査方法。 9. The method according to claim 8, wherein when the object to be ejected is imaged by the image capturing unit, ultraviolet rays reflected by the object to be ejected are blocked by an ultraviolet blocking filter provided on an optical axis of the image capturing unit. The droplet inspection method described. 前記液滴の検査は、インクジェット方式で前記被吐出体に前記液滴を吐出する液滴吐出装置の内部で行われることを特徴とする、請求項8又は9に記載の液滴検査方法。 10. The droplet inspection method according to claim 8, wherein the droplet inspection is performed inside a droplet discharge device that discharges the droplet onto the discharge target by an inkjet method. 前記液滴は、有機EL層に用いられる有機材料であることを特徴とする、請求項8〜10のいずれか一項に記載の液滴検査方法。 The droplet inspection method according to claim 8, wherein the droplet is an organic material used for an organic EL layer. 請求項8〜11のいずれか一項に記載の液滴検査方法を液滴検査装置によって実行させるように、当該液滴検査装置のコンピュータ上で動作するプログラム。 The program which operate | moves on the computer of the said droplet test | inspection apparatus so that the droplet test | inspection method as described in any one of Claims 8-11 may be performed by a droplet test | inspection apparatus. 請求項12に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。 A readable computer storage medium storing the program according to claim 12.
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