JP2016068188A - 付着物除去方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 弾性を有するコア10の表面に砥材11を備えた噴射材1を、治具100の表面100aに斜め方向から所定の傾斜角αで噴射する。噴射材1が付着物110に衝突すると、コア10が弾性変形し、砥材11はコア10の変形に伴い、治具100の表面100aの面方向に変位する。砥材11が面方向に変位することにより、付着物110は砥材11により面方向にこすられることとなり、付着物110が除去される。
【選択図】図3
Description
ここで、「石英ガラスまたはカーボンを主材料として形成されている」とは、他の成分が添加されている場合や、被膜が形成されている場合(例えば、SiCコーティングを施したカーボン)、などを含む概念である。
という技術的手段を用いる。
複数個のノズルを用いて付着物の除去を行うことができる。この場合、それぞれのノズルが噴射する噴射材が互いに干渉することがないように配置する。これにより、処理効率を向上させることができる。
本発明の付着物除去方法によれば、治具100の損傷を小さくすることができるとともに、噴射材1を治具100に噴射するだけで治具100から付着物110を除去することができるため、簡単かつ短時間に付着物110の除去を行うことができる。また、コア10、砥材11の構成、噴射角αなどを適切なものとすることにより、より一層上記効果を有効に奏することができる。
2…ブラスト加工装置
10…コア
11…砥材
12…固着剤
21…ノズル
22…ブラスト室
23…テーブル
24…噴射材ホッパー
25…圧縮空気供給装置
26…分級装置
27…集塵機
100…治具
100a…表面
110…付着物
Claims (8)
- 成膜プロセスにおいて治具に付着する付着物を除去する付着物除去方法であって、
弾性を有するコアの表面に硬質粒子からなる砥材を突出させてなる、または弾性を有するコアの表面に硬質粒子からなる砥材を固着させてなる噴射材を用意し、
前記噴射材を治具表面に斜め方向から噴射し、
前記噴射材が治具表面に衝突したときに前記コアが弾性変形し、前記砥材を治具表面で面方向に変位させることにより付着物を除去することを特徴とする付着物除去方法。 - 前記付着物は、前記治具よりも硬質であることを特徴とする請求項1に記載の付着物除去方法。
- 前記噴射材のコアはゴムからなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の付着物除去方法。
- 前記噴射材のコアは平均粒径が0.1〜2.0mmであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載の付着物除去方法。
- 前記噴射材の硬質粒子は、付着物よりも硬質な材料からなり、平均粒径が0.9〜22.0μmであることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の付着物除去方法。
- 前記噴射材を治具表面に噴射する噴射角αは、治具表面に対して40°≦α≦80°であることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載の付着物除去方法。
- 前記治具は石英ガラスまたはカーボンを主材料として形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1つに記載の付着物除去方法。
- 前記成膜プロセスは、有機金属気相成長法(MOCVD法)であることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1つに記載の付着物除去方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014199638A JP6384758B2 (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 付着物除去方法 |
| TW104129179A TW201618865A (zh) | 2014-09-30 | 2015-09-03 | 附著物去除方法 |
| KR1020150132336A KR102378196B1 (ko) | 2014-09-30 | 2015-09-18 | 부착물 제거 방법 |
| CN201510626589.0A CN105458940A (zh) | 2014-09-30 | 2015-09-28 | 附着物除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014199638A JP6384758B2 (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 付着物除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016068188A true JP2016068188A (ja) | 2016-05-09 |
| JP6384758B2 JP6384758B2 (ja) | 2018-09-05 |
Family
ID=55597328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014199638A Active JP6384758B2 (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 付着物除去方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6384758B2 (ja) |
| KR (1) | KR102378196B1 (ja) |
| CN (1) | CN105458940A (ja) |
| TW (1) | TW201618865A (ja) |
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2014
- 2014-09-30 JP JP2014199638A patent/JP6384758B2/ja active Active
-
2015
- 2015-09-03 TW TW104129179A patent/TW201618865A/zh unknown
- 2015-09-18 KR KR1020150132336A patent/KR102378196B1/ko active Active
- 2015-09-28 CN CN201510626589.0A patent/CN105458940A/zh active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201618865A (zh) | 2016-06-01 |
| KR20160038752A (ko) | 2016-04-07 |
| KR102378196B1 (ko) | 2022-03-24 |
| CN105458940A (zh) | 2016-04-06 |
| JP6384758B2 (ja) | 2018-09-05 |
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