JP2016060698A - 1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
一般的に、非水電解質電池の電解液となりうる含フッ素グライム系化合物の合成には、含フッ素アルコキシ金属塩と脱離基の置換したエーテル化合物が用いられる(例えば、特許文献2参照)。しかし、脱離基がハロゲンである場合、反応残渣中にハロゲンイオンが含まれ、単離精製した含フッ素グライム化合物中への残存が危惧される。
すなわち本発明は、下記式(1)
また、本発明の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンを合成するにあたり鋭意検討した結果、炭酸エチレンを用いてオキシエチレン鎖を伸長させた2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールを合成する工程を導入することで、最終的にハロゲンイオン分の少ない1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンを製造でき、本発明を完成するに至った。
本発明の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンは、下記式(1)
この1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンは、下記式(2)
本発明の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンの製造において、アニオン性の脱離基(Lgと称する)は、ハロゲン以外であることが好ましく、反応するものであれば適用可能であり、例えば、パラトルエンスルホン基(p−CH3C6H4SO3−)およびトリフルオロメタンスルホン基(CF3SO3−)などが特に好ましい。式(3)で示される化合物は、反応に具する2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールに対して、1.0モル倍以上、好ましくは1.1モル倍〜2.0モル倍量の使用で良い。
2,2−ジフルオロエタノールと炭酸エチレンとを反応させる際の炭酸エチレンは、反応に具する2,2−ジフルオロエタノールに対し0.1モル倍量以上使用できる。0.05モル倍未満では反応にかかる時間が長くなり効率的ではないことがあり、2.0モル倍より多ければ残存する炭酸エチレンの量が多く精製操作が困難となることがあるため、好ましくは0.2モル倍〜1.2モル倍の使用量で良い。
2,2−ジフルオロエタノールと炭酸エチレンとを反応させる際の反応溶媒は、使用せずとも反応可能であるが、必要に応じて使用する。反応溶媒を使用する場合、その反応溶媒は、特に限定されるものではないが、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、ベンゼン、クメン、キシレン等が挙げられ、反応に具する2,2−ジフルオロエタノールに対して10部以下、更に好ましくは1部以下か、更には塩基としてトリメチルアミンやトリエチルアミン等のアミンを用いる場合は、これを溶媒の代わりにしても良い。
本発明の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンを得る反応後の後処理としては、必要分の水で反応を停止した後に、濃縮や蒸留することで精製可能である。水は、反応に具する塩基性化合物と2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールとのモル差分で良い。また、2,2−ジフルオロエタノールと炭酸エチレンとの反応においては、反応後にそのまま濃縮または蒸留することで2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールが精製可能である。もしくは、そのまま精製せずに次の工程に用いても良い。
1H−NMR、19F−NMR:ブルカー社(BRUKER)製AVANCE II 400.
GC−MS:島津製作所製GCMS−QP2010Plus.
電位差滴定:京都電子工業株式会社 電位差自動的低装置 AT−610.
〔実施例1〕
1H−NMR(MeOD−d4,400MHz);3.69ppm(dt,4H,CH2),3.71ppm(s,4H,OCH2CH2O),5.85ppm(tt,2H,CHF2)。
19F−NMR(MeOD−d4,400MHz);−126.1ppm(dt,4F,CHF2)。
沸点(b.p.)62−63℃(10mmHg)。
GC−MS(m/z):170(m−20,5),139(9),109(50),95(79),65(100),45(51),43(23),31(19)。GC−MSでは分子イオンピークは確認されないが、脱HF(m−20)として観測された。また電位差滴定法により、ハロゲンイオンの含量を求めたところ、0.3ppm(検出限界0.1ppm)であった。
実施例1の2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールと2,2−ジフルオロエチルトシレートの滴下順を逆にして実施した。その結果、1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンの反応収率は65%であった。尚、前駆化合物である2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールの収率は実施例1と同様に70%であった。また電位差滴定法により、ハロゲンイオンの含量を求めたところ、0.4ppm(検出限界0.1ppm)であった。
実施例1の2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールを金属塩にする際の塩基性化合物のみを変更して実施例1と同様に1,2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンの合成を実施した例を以下に示す。なお、ハロゲンイオン含量における検出限界は0.1ppmであった。
Claims (7)
- ハロゲンイオン含有量(ハロゲンイオンは塩素イオン、臭素イオンおよびヨウ素イオンの合計である)が重量比で10ppm未満である、請求項1記載の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタン。
- 塩基性化合物が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム、金属ナトリウム、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリンおよびルチジンよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項3に記載の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンの製造方法。
- 塩基性化合物が、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム、ブチルリチウムおよびリチウムジイソプロピルアミドよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項3に記載の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンの製造方法。
- 一般式(3)の脱離基Lgが、パラトルエンスルホン基(p−CH3C6H4SO3−)またはトリフルオロメタンスルホン基(CF3SO3−)である、請求項3〜5のいずれか1項に記載の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンの製造方法。
- 式(2)の2−(2,2−ジフルオロエトキシ)エタノールを合成する工程において、2,2−ジフルオロエタノールと炭酸エチレンとを反応させる、請求項6に記載の1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンの製造方法。
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