JP2016058734A - 熱電発電モジュール及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、異なる二つの熱源の間に介在された熱電発電をなす基礎構造である単位体10の集合からなる熱電発電モジュールにおいて、前記単位体10は、いずれか一つの熱源側に配置される第一の電極と、他の一つの熱源側に前記第一の電極と離隔して配置される第二の電極と、前記第一の電極と前記第二の電極を連結させて、nタイプかpタイプの半導体からなる第一のナノワイヤー50と、前記第一のナノワイヤー50を形成するタイプと異なるイプの導体または半導体からなり、一側は前記第一の電極側に連結されて、他側は前記単位体10と隣接する他の単位体の第二の電極側に連結される第二のナノワイヤー60を備えることを特徴とする熱電発電モジュール及びこれの製造方法を提供する。
【選択図】図3A
Description
前記PDMS層1500上に紫外線によって硬化する有機物層1600を形成するステップと;浮揚された状態のシリコンナノワイヤー1400、1401を形成したシリコンウェハー1000基板を前記PDMS層1500の上部に整列させて圧力を加えてPDMS層1500にコーティングされた有機物層1600の内部にナノワイヤー1400、1401を内挿させるステップと;前記ナノワイヤー1400、1401が有機物層1600の内部に内挿されると、上部のシリコンウェハー1000を除去して有機物層1600を紫外線に露出させて有機物層1600を硬化させるステップと;前記有機物層1600の硬化が完了した後有機物層1600を除去するステップとによりPDMS層1500に転写されてもよい。
また、互いに反対面に向かうように配置される両電極の間にナノワイヤー素子が連結される構造であるため、連続的直列連結構造配置を介して熱電発電モジュールの発電効率を増大させて発電性能も向上させる効果がある。
また、製造工程及び構造の単純化を介して熱電発電モジュールの製造原価を節減できるだけでなく、小型コンパクトな構造として熱電発電モジュールの開発を可能にする効果がある。
また、電極とナノワイヤーを利用するブリッジ構造が様々なパターンで配置できるため、熱電発電効率を向上させるための設計上の自由度を増大させることができる効果がある非常に進歩した発明である。
また、本発明の熱電発電モジュールは、熱の流れ経路と電気的流れ経路を垂直配置される構造を介して二つの熱源の間に間隙を最小化させた場合でも大面積化を介した直列連結配置構造を可能にして熱電性能を最大化させることもできる。
本発明の熱電発電モジュールは、熱電発電のための基本的な基礎構造である単位体10の集合体である。
図面を参照すると、本発明の熱電発電モジュールは、異なる温度を備えて両者間に温度差を有する異なる二つの熱源の間に介在されて、一つ以上の単位体10を備える。
シリコンウェハー100上にフォトリソグラフィ(Photo Lithography)法を利用して第一の電極のための四角形のパターン200を形成する。
具体的には、前記シリコンウェハー100上に感光液を塗布して、露光装備を利用して該当パターンが入れられたマスクに光を通過させて選択的に照射させた後(露光過程)、現像液を噴射してシリコンウェハー100上に第一の電極のためのパターン200を形成する。
必要に応じて、測定装備や光学顕微鏡または目視で該当パターンが良好に形成されたかを検査する。
前記の通り第一の電極20のためのパターン200が形成されると、公知の表面処理過程を介して前記シリコンウェハー100上にシロキサン重合体であるPDMS(polydimethylsiloxan、ポリジメチルシロキサン)層300を形成する。
前記PDMSは、オイル、エマルジョン、化合物、潤滑剤、樹脂、弾性体、ゴムなどを製造時表面処理に利用される多目的重合体素材である。
本実施形態で基板層はPDMSを利用したが、本発明はこれに限定されず、前記の通り様々な材料が使用されてもよい。
前記PDMS基板層、すなわち基板層300が形成されると、公知のリフトオフ(Lift−Off)工程を介して前記シリコンウェハー100上に形成されたパターン200を除去する。
パターン200が除去されると、除去された位置にビア(via、貫通孔)210が残った形態のPDMS基板層300が作られることになる。
前記の通りビア210が形成されたPDMS基板層300上に形成されたビア210部分にだけフォトリソグラフィ(Photo Lithography)処理を行って第一の電極用導電層蒸着のための四角形のパターン400を形成する。
ここで、図示された(d)ステップの図面は、前記PDMS基板層300に形成されたビア210の位置に後にパターン400として残ることになる感光層400上にビア410を形成させた状態を図示したものであり、以後、露光過程と現象過程を経ると、下記(e)ステップの図面に図示された通り、前記PDMS基板層300のビア210の部分にだけ電極用導電層蒸着のためのパターン400が形成されることになる。
前記の通りPDMS基板層300上にパターン400が形成されると、公知の真空熱蒸着工程(thermal evaporation process)やスパッタ工程(sputter deposition process)を介して前記パターン400上に電気伝導度が良好な導電層を蒸着させて第一の電極500を形成する。
前記の通り第一の電極500が蒸着されると、前記PDMS基板層300とシリコンウェハー100を分離させる。
前述した通り、本発明の熱電発電モジュールの製造方法上の最も特徴的な工程であり、分離したPDMS基板層300のパターン400上に形成された第一の電極500に第一のナノワイヤー50と第二のナノワイヤー60を転写(transcription)させて前記第一の電極500にナノワイヤー50、60を結線させる。このステップのナノワイヤーの転写のための詳細工程は、図5を参照して後述する。
前記の通りにナノワイヤー50、60が転写されると、一側が前記第一の電極500に結線されたナノワイヤー50、60の他側の部分にフォトリソグラフィ(Photo Lithography)処理を行って第二の電極用導電層蒸着のための四角形のパターンを形成する。
ここで、図示された(h)ステップの図面は、第二の電極用導電層蒸着のためのパターンに残る感光層600上にビア610を形成させた状態を図示したものであり、以後、露光過程と現象過程を経ると、前記の感光層600上のビア610の部分にだけ第二の電極用導電層蒸着のためのパターンが形成されることになる。
前記の通り第二の電極用導電層蒸着のためのパターンが形成されると、公知の化学的気相蒸着工程(chemical vapor deposition process)を介して形成されたパターン上に電気伝導度が良好な導電層を蒸着させて第二の電極700を形成する。
前記の通り第二の電極700が形成されると、第一の電極及び第二の電極の導電層電極500と第二の電極700との間にシリコン酸化膜からなる保護層800(passivation layer)を形成する。前記の保護層800は断熱効果と共に外部からの異物流入を防止する機能をする。
ナノワイヤー素子の製造は、アプローチにより二つに大別することができる。極微細写真エッチング工程などを利用してシリコンなどの材料をエッチングして所望の位置にナノワイヤー素子を直接製作するトップダウン(top-down)方式と、ナノワイヤーをVLS(Vapor−Liquid Solid)成長法などを利用して合成した後、特定位置に整列してナノワイヤー素子を製作するボトムアップ(bottom-up)方式があり、本発明のナノワイヤーの製造は、前記のトップダウン方式といえる。
シリコンウェハー1000基板上にシリコンオキシド(SiO2)層1100とシリコンニトリド(Si3N4)層1200を形成して、前記シリコンニトリド層1200上に前述したフォトリソグラフィ(Photo Lithography)法を利用して、ナノワイヤーの直線形状のパターン1300を形成する。
前記の通りシリコンニトリド層1200上にナノワイヤー形状のパターン1300が形成されると、公知の反応性イオンエッチング(Reactive Ion Etching)処理を行って、前記パターン1300の部分をエッチングさせて、後にナノワイヤー形成のためのボディー(body)の役割をするトレンチ(trench、溝)1001を形成する。
前記トレンチ1001は、シリコンウェハー1000上で垂直に突出したバー形状であり、シリコンウェハー1000上にシリコンオキシド(SiO2)層1100とシリコンニトリド(Si3N4)層1200が積層された状態である。
前記トレンチ1001をシリコンウェハー1000の物性特性に従って、非等方性湿式エッチング(Wet-etching)法でエッチングして、三角形ラインを有する下部トライアングル部1002と逆三角形ラインを有する上部トライアングル部1003を形成する。
前記トレンチ1001のシリコンウェハー1000を公知の酸化工程を介して部分的に酸化させながら前記下部トライアングル部1002と上部トライアングル部1003の大きさを縮小させて、前記下部トライアングル部1002と上部トライアングル部1003を互いに分離させる。未説明符号1300は、下部トライアングル部1002と上部トライアングル部1003の外壁を示す。
n型またはp型のナノワイヤーを製造するために、前記の通り分離された状態の上部トライアングル部1003にフォトリソグラフィ(Photo Lithography)法とAs(ヒ素)やBF2(フッ化ホウ素)等のイオン注入工程を介して上部トライアングル部1003の特定区間や特定位置をn型またはp型の半導体タイプと特定濃度を有するように形成する。
前記のようなイオン注入を完了して所望のタイプのn型またはp型半導体タイプが形成されると、バッファーオキシドエッチャント(Buffer Oxide Etchant)法によって前記上部トライアングル部1003と下部トライアングル部1002及びその外壁1300に残っていたシリコンオキシド層1100を溶かして除去する。
すると、シリコンウェハー1000基板上でナノワイヤーの両端が槌形状の支持体(図示せず)で固定されて空中に浮揚された(suspended)状態のシリコンナノワイヤー1400、1401が完成されることになる。
前記PDMS層1500上に紫外線によって硬化するUVコーティング層のような有機物層1600を形成する。
空中に浮揚された状態のシリコンナノワイヤー1400、1401を形成した状態の前記シリコンウェハー1000基板を前記PDMS層1500の上部に整列させて下方に圧力を加えてPDMS層1500にコーティングされた有機物層1600の内部にナノワイヤー1400、1401が内挿されるようにする。
前記の通りナノワイヤー1400、1401が有機物層1600の内部に内挿されると、上部のPDMS基板層1500を除去して有機物層1600を紫外線に露出させて有機物層1600を硬化させる。
有機物層1600の硬化が完了した後、有機物層1600を酸素プラズマまたはエタノールに溶かして除去すると、最終的にナノワイヤー1400、1401のPDMS層1500に対する転写が完了して、強固な転写状態を維持できる。
20 第一の電極
30 第二の電極
50 第一のナノワイヤー
60 第二のナノワイヤー
70 熱源
100 基板
Claims (13)
- 異なる二つの熱源の間に介在して熱電発電をなす基礎構造である単位体10の集合からなる熱電発電モジュールにおいて、
前記単位体10は、
いずれか一つの熱源側に配置される第一の電極と、
他の一つの熱源側に前記第一の電極と離隔して配置される第二の電極と、
前記第一の電極と前記第二の電極を連結させて、nタイプかpタイプの半導体からなる第一のナノワイヤー50と、
前記第一のナノワイヤー50を形成するタイプと異なるタイプの導体または半導体からなり、一側は前記第一の電極側に連結されて、他側は前記単位体10と隣接する他の単位体の第二の電極側に連結される第二のナノワイヤー60と、を備えることを特徴とする熱電発電モジュール。 - 前記第一の電極と前記第二の電極は、同じ平面上に配置され、
前記第一のナノワイヤー50と第二のナノワイヤー60のうちいずれか一つは、前記第一の電極20から延びて離隔配置される同じ単位体内の第二の電極30と連結され、他の一つは隣接単位体内の第二の電極と連結され、
前記単位体10のうち少なくとも一つの前記第一の電極及び第一のナノワイヤー50と第二のナノワイヤー60は、「コ」の字形態に形成が可能であることを特徴とする請求項1に記載の熱電発電モジュール。 - 前記「コ」の字形状をなす前記第一の電極及び第一のナノワイヤー50と第二のナノワイヤー60の単位体を含む前記単位体を基板100上に直列連続配置していずれか一つの熱源を囲繞可能であることを特徴とする請求項2に記載の熱電発電モジュール。
- 異なる二つの熱源の間に配置される基板100を備え、
前記第二の電極及び前記第一のナノワイヤーと第二のナノワイヤーは、前記基板の一面上に配置される一方、前記第一の電極は、前記基板を貫いて前記第一の電極の他面が前記基板の他面に露出されるように配置され、
前記第一の電極及び前記第二の電極の間の前記基板の一面には熱遮断保護層が配置されることを特徴とする請求項1に記載の熱電発電モジュール。 - 前記熱遮断保護層は、前記第一のナノワイヤー、前記第二のナノワイヤー及び前記第一の電極の他面に塗布されることを特徴とする請求項4に記載の熱電発電モジュール。
- 前記熱遮断保護層は、ZrO2、Si O2、Al2O3、Ti O2,SiCまたはZrO2を含むセラミック系列材料及びポリマーのうち一つ以上を含むことを特徴とする請求項5に記載の熱電発電モジュール。
- 前記基板は、フレキシブル基板であることを特徴とする請求項4に記載の熱電発電モジュール。
- 前記フレキシブルベース基板は、PDMS(Poly dimethyl siloxane)、ポリイミド(Polyimide)、ポリカーボネート(Poly carbonate)、PMMA(Poly methyl methacrylate)、シクロオレフィンコポリマー(COC;Cyclo olefin copolymer)、パリレン(Parylene)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシラン(polysilane)、ポリシロキサン(polysiloxane)、ポリシラザン(polysilazane)、ポリカルボシラン(polycarbosilane)、ポリアクリレート(polyacrylate)、ポリメタリルレート(polymethacrylate)、ポリメチルアクリレート(polymethylacrylate)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチルアクリレート(polyethylacrylate)、ポリエチルメタクリレート(polyethylmetacrylate)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)、ポリアセタール(POM)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエステルスルホン(PES)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリビニルクロリド(PVC)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、パーフルオロアルキル高分子(PFA)のうちいずれか一つで構成されるかこれらの組合せから構成されることを特徴とする請求項7に記載の熱電発電モジュール。
- 前記第一のナノワイヤー50と前記第二のナノワイヤー60は、転写方式で前記第一の電極20及び第二の電極30に連結配置されることを特徴とする請求項1に記載の熱電発電モジュール。
- 前記第一のナノワイヤーまたは第二のナノワイヤーは、50nm以下の径のフォノンチョーク部を備えることを特徴とする請求項9に記載の熱電発電モジュール。
- シリコンウェハー100上にフォトリソグラフィ処理を行って第一の電極のためのパターン200を形成する第一の電極パターン形成ステップと;
前記シリコンウェハー100上にPDMS基板層300を形成する基板形成ステップと;
前記シリコンウェハー100上に形成されたパターン200を除去してパターン200が除去された位置にビア210を形成する基板ビア形成ステップと;
前記ビア210が形成された部分にだけフォトリソグラフィ処理を行って第一の電極用導電層蒸着のためのパターン400を形成する第一の電極蒸着パターン形成ステップと;
前記パターン400上に導電層を蒸着させて第一の電極500を形成する第一の電極蒸着ステップと;
前記第一の電極500が蒸着された前記PDMS基板層300をシリコンウェハー100から分離させる基板層分離ステップと;
前記分離されたPDMS基板層300に形成された第一の電極500に第一のナノワイヤー50と第二のナノワイヤー60を転写させて前記第一の電極500に第一及び第二のナノワイヤー50、60を結線させる転写及び結線ステップと;
前記第一及び第二のナノワイヤー50、60の他側の部分にフォトリソグラフィ処理を行って第二の電極用導電層蒸着のためのパターンを形成する第二の電極蒸着パターン形成ステップと;
前記パターン上に導電層を蒸着させて第二の電極700を形成する第二の電極蒸着ステップと;
前記第一の電極500と第二の電極700との間に熱遮断保護層800を形成する保護層形成ステップと;を含んで構成されることを特徴とする熱電発電モジュールの製造方法。 - 前記第一のナノワイヤー50と第二のナノワイヤー60は、
前記PDMS層1500上に紫外線によって硬化する有機物層1600を形成するステップと;
浮揚された状態のシリコンナノワイヤー1400、1401を形成したシリコンウェハー1000基板を前記PDMS層1500の上部に整列させて圧力を加えてPDMS層1500にコーティングされた有機物層1600の内部にナノワイヤー1400、1401を内挿させるステップと;
前記ナノワイヤー1400、1401が有機物層1600の内部に内挿されると、上部のシリコンウェハー1000を除去して有機物層1600を紫外線に露出させて有機物層1600を硬化させるステップと;
前記有機物層1600の硬化が完了した後有機物層1600を除去するステップと
によりPDMS層1500に転写されることを特徴とする請求項11に記載の熱電発電モジュールの製造方法。 - 請求項11または請求項12に記載の製造方法によって製造された熱電発電モジュール。
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