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JP2016048744A - Processing device - Google Patents

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JP2016048744A
JP2016048744A JP2014173459A JP2014173459A JP2016048744A JP 2016048744 A JP2016048744 A JP 2016048744A JP 2014173459 A JP2014173459 A JP 2014173459A JP 2014173459 A JP2014173459 A JP 2014173459A JP 2016048744 A JP2016048744 A JP 2016048744A
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JP
Japan
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workpiece
temporary
cassette
light
diameter
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Pending
Application number
JP2014173459A
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Japanese (ja)
Inventor
秀夫 岩田
Hideo Iwata
秀夫 岩田
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Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing device which efficiently detects displacement generated in a laminated semiconductor device wafer without providing any special inspection step and is capable of removing the displacement in the case where a displacement amount exceeds an allowable value.SOLUTION: The processing device is configured to apply predetermined processing to a workpiece 13 that is formed by pasting a plurality of circular tabular objects. The processing device includes outer edge detection means for detecting a position of an outer edge of the workpiece mounted on a temporary placement table 20. The processing device also includes: first and second light-emitting means 24a and 24b which are disposed at an upper side of the temporary placement table; and first and second light-receiving means 26a and 26b for receiving detection lights from the first light-emitting means and the second light-emitting means. The workpiece is irradiated with first and second detection lights in the state where the temporary placement table is rotated, positions of a pair of outer edges in the workpiece are detected multiple times, a diameter of the workpiece is calculated multiple times by diameter calculation means, and a difference between a maximum value and a minimum value of the diameter is calculated by displacement amount calculation means.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明はそれぞれ複数のデバイスを表面に有する複数のウエーハを積層して構成された積層ウエーハを加工する加工装置に関する。   The present invention relates to a processing apparatus for processing a laminated wafer formed by laminating a plurality of wafers each having a plurality of devices on the surface.

半導体デバイスの製造プロセスにおいては、半導体ウエーハの表面にストリートと呼ばれる分割予定ラインによって区画された各領域にICやLSI等のデバイスが形成される。そして、分割予定ラインに沿って半導体ウエーハをチップに分割することで、個々の半導体デバイスが製造される。このようにして製造された半導体デバイスは各種電気機器に広く利用されている。   In the manufacturing process of semiconductor devices, devices such as ICs and LSIs are formed in each region partitioned by dividing lines called streets on the surface of the semiconductor wafer. Then, individual semiconductor devices are manufactured by dividing the semiconductor wafer into chips along the planned dividing lines. The semiconductor device manufactured in this way is widely used in various electric appliances.

近年、電気機器の小型化・薄型化に伴い半導体デバイスパッケージも小型化・薄型化が要求され、実装の高密度化が要求されている。複数の半導体デバイスを一つのパッケージに集積する手法の一つに複数の半導体デバイスチップを縦方向に積層して実装する三次元実装がある。   In recent years, along with miniaturization and thinning of electrical equipment, semiconductor device packages are also required to be miniaturized and thin, and higher density of packaging is required. One technique for integrating a plurality of semiconductor devices in one package is a three-dimensional mounting in which a plurality of semiconductor device chips are stacked in the vertical direction and mounted.

従来の三次元実装では、ワイヤボンディングを用いて半導体デバイスチップ間、或いは半導体デバイスチップとインターポーザとを接続していた。ワイヤボンディングによる接続では、その配線長分インダクタンス等が大きくなるので高速での信号のやり取りには向かないという問題があるとともに、ワイヤが半導体デバイスチップ等に触れないようにチップを積層する必要があるため小型化が難しい等の問題がある。   In conventional three-dimensional packaging, wire bonding is used to connect between semiconductor device chips or between a semiconductor device chip and an interposer. In connection by wire bonding, inductance and the like increase by the length of the wiring, so that there is a problem that it is not suitable for high-speed signal exchange, and it is necessary to stack chips so that wires do not touch semiconductor device chips and the like Therefore, there are problems such as difficulty in miniaturization.

近年、新たな三次元実装技術として、ワイヤの代わりにSi貫通電極(Through−Silicon Via:TSV)を用いた実装技術が注目されている。TSV技術を用いると、配線長がワイヤより短いため配線抵抗やインダクタンスが大幅に低減でき、消費電力も大幅に低減できるというメリットがある。   In recent years, as a new three-dimensional mounting technique, a mounting technique using a through-silicon via (TSV) instead of a wire has attracted attention. When the TSV technology is used, since the wiring length is shorter than that of the wire, the wiring resistance and inductance can be greatly reduced, and the power consumption can be greatly reduced.

一方、半導体デバイスチップの積層方法の一つとして、複数の半導体デバイスウエーハ同士を積層し、積層した半導体デバイスウエーハを貫く貫通電極を形成してウエーハ同士を接続する積層方法(Wafer On Wafer:WOW)がある。   On the other hand, as one method for laminating semiconductor device chips, a plurality of semiconductor device wafers are laminated together, and a through electrode passing through the laminated semiconductor device wafers is formed to connect the wafers (Wafer On Wafer: WOW). There is.

特開2003−249620号公報JP 2003-249620 A

積層された半導体デバイスウエーハは研削又は研磨による薄化や樹脂によるモールディングなどの工程を経て個々のデバイスチップに分割されるが、積層された段階で半導体デバイスウエーハ同士にずれが発生する場合がある。   The laminated semiconductor device wafer is divided into individual device chips through processes such as thinning by grinding or polishing and molding by resin, but there may be a case where the semiconductor device wafers are displaced from each other at the stage of lamination.

このずれを検出するためには顕微鏡を用いた専用の検査工程を設ける必要があるが、工程数が増える上に検査に時間がかかり、生産コストが高くなってしまうなどの問題が発生している。   In order to detect this deviation, it is necessary to provide a dedicated inspection process using a microscope. However, there are problems such as an increase in the number of processes and a long time for inspection and an increase in production cost. .

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、特別な検査工程を設けることなく積層した半導体デバイスウエーハに発生したずれを効率的に検出し、ずれ量が許容値を超える場合には次の工程に積層デバイスウエーハを送ることなく取り除くことが可能な加工装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above points, and the object of the present invention is to efficiently detect the deviation generated in the laminated semiconductor device wafer without providing a special inspection process, and the deviation amount is The object of the present invention is to provide a processing apparatus that can be removed without sending the laminated device wafer to the next step when the allowable value is exceeded.

本発明によると、複数の円形の板状物が張り合わされた被加工物に所定の加工を施す加工装置であって、被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、被加工物を複数収容するカセットと、該カセットが載置されるカセット載置台と、該カセットに収容された被加工物を搬出する第1の搬送手段と、該第1の搬送手段によって該カセットから搬出された被加工物を突き当てる突き当て部材と、被加工物よりも小さい直径を有し被加工物を保持する仮置きテーブルと、該仮置きテーブルを回転させる回転手段と、被加工物を該チャックテーブルへ搬送する第2の搬送手段と、該第1の搬送手段と該第2の搬送手段とを制御する制御手段と、該仮置きテーブルに載置された被加工物の外周縁の位置を検出する外周縁検出手段と、を備え、該第1の搬送手段は、該カセットに収容された被加工物の下面を吸引して搬出し、被加工物の中心と想定される仮の中心を該仮置きテーブルの回転中心と一致させて被加工物を該仮置きテーブル上に載置し、該外周縁検出手段は、該仮置きテーブルの上方に配設され、該仮置きテーブルに載置された被加工物の外周縁部に外側エッジが被加工物の外周縁よりも外側に位置し内側エッジが被加工物に照射される第1検出光を照射する第1の発光手段と、該仮置きテーブルの上方で且つ該仮置きテーブルの回転中心を挟んで該第1の発光手段と点対称となる位置に配設され、被加工物の外周縁部に外側エッジが被加工物の外周縁よりも外側に位置し内側エッジが被加工物に照射される第2検出光を照射する第2の発光手段と、該第1の発光手段に対応して該仮置きテーブルの下方に配設され該第1検出光を受光する第1の受光手段と、該第2の発光手段に対応して該仮置きテーブルの下方に配設され該第2検出光を受光する第2の受光手段と、を含み、該第1及び第2の発光手段は被加工物が載置された該仮置きテーブルを回転させた状態で該第1及び第2検出光を被加工物に照射し、該第1及び第2の受光手段は被加工物によって一部が遮られた該第1及び第2検出光の受光位置から被加工物における一対の外周縁の位置を複数回検出し、該制御手段は、該外周縁検出手段によって複数回検出された一対の外周縁の位置から被加工物の直径の値を複数回算出する直径算出手段と、該直径算出手段によって算出された複数の直径の値と予め設定された被加工物を構成する複数の板状物のずれ量の許容値とを記憶する記憶手段と、該記憶手段に記憶された該複数の直径の値の最大値と最小値との差をずれ量として算出するずれ量算出手段と、を有し、該実際のずれ量の値が該許容値以下の場合は該第2の搬送手段によって被加工物を該チャックテーブルに搬送して該加工手段によって加工を行い、該実際のずれ量の値が該許容値を超える場合は該第1の搬送手段によって被加工物を該カセットに戻すことを特徴とする加工装置が提供される。   According to the present invention, there is provided a processing apparatus for performing a predetermined processing on a workpiece on which a plurality of circular plate-like objects are bonded together, and a chuck table having a holding surface for holding the workpiece and the chuck table. Processing means for processing the processed workpiece, a cassette for storing a plurality of workpieces, a cassette mounting table on which the cassette is mounted, and a first transport for unloading the workpiece stored in the cassette Means, an abutting member for abutting the workpiece carried out from the cassette by the first conveying means, a temporary placing table having a smaller diameter than the workpiece, and holding the workpiece, Rotating means for rotating the placing table, second conveying means for conveying the workpiece to the chuck table, control means for controlling the first conveying means and the second conveying means, and the temporary placing Placed on the table Outer peripheral edge detecting means for detecting the position of the outer peripheral edge of the workpiece, the first transport means sucking and unloading the lower surface of the workpiece accommodated in the cassette, The work piece is placed on the temporary placement table so that the temporary center assumed to be the center of rotation of the temporary placement table coincides with the temporary placement table, and the outer periphery detection means is disposed above the temporary placement table. A first detection light that is provided on the outer peripheral edge of the workpiece placed on the temporary table and whose outer edge is positioned outside the outer peripheral edge of the workpiece and whose inner edge is irradiated to the workpiece; The first light emitting means for irradiating and the outer peripheral edge of the work piece disposed above the temporary table and at a position symmetrical to the first light emitting means across the rotation center of the temporary table. The outer edge is located outside the outer periphery of the work piece and the inner edge is irradiated to the work piece. Second light emitting means for emitting the second detection light, and first light receiving means for receiving the first detection light disposed below the temporary table corresponding to the first light emitting means, Corresponding to the second light emitting means, and a second light receiving means that is disposed below the temporary table and receives the second detection light. The first and second light emitting means are processed. The workpiece is irradiated with the first and second detection lights while the temporary table on which the workpiece is placed is rotated, and the first and second light receiving means are partially blocked by the workpiece. The position of the pair of outer peripheral edges in the workpiece is detected a plurality of times from the received light receiving positions of the first and second detection lights, and the control means detects the pair of outer peripheral edges detected a plurality of times by the outer peripheral edge detecting means. A diameter calculating means for calculating the value of the diameter of the workpiece a plurality of times from the position of the workpiece, and a compound calculated by the diameter calculating means Storage means for storing a value of the number of diameters and a preset allowable value of deviation amounts of the plurality of plate-like objects constituting the workpiece, and a maximum of the plurality of diameter values stored in the storage means Deviation amount calculating means for calculating the difference between the value and the minimum value as the deviation amount, and when the actual deviation amount value is less than or equal to the allowable value, the second conveying means removes the workpiece. Processing performed by transporting to a chuck table and performing processing by the processing means, and returning the workpiece to the cassette by the first transporting means when the actual deviation amount exceeds the allowable value An apparatus is provided.

好ましくは、該第1の搬送手段は、該カセットに収納された被加工物の下面を吸引して被加工物を該カセットから搬出し、被加工物を該突き当て部材に突き当て可能な位置に搬送し、被加工物の吸引を解除して被加工物が該第1の搬送手段上に載置された状態で被加工物を該突き当て部材に突き当てて被加工物と該第1の搬送手段との位置関係を所定の位置関係に設定し、該第1の搬送手段と被加工物の位置関係から被加工物の中心と想定される仮の中心を該仮置きテーブルの回転中心と一致させて被加工物を該仮置きテーブル上に載置する。   Preferably, the first transport means is a position where the lower surface of the workpiece stored in the cassette is sucked to unload the workpiece from the cassette and the workpiece can be abutted against the abutting member. In a state where the suction of the workpiece is released and the workpiece is placed on the first conveying means, the workpiece is abutted against the abutting member and the workpiece and the first The positional relationship between the first conveying unit and the workpiece is set to a predetermined positional relationship, and a temporary center assumed to be the center of the workpiece is determined from the positional relationship between the first conveying unit and the workpiece. The work piece is placed on the temporary placement table so as to match.

本発明によると、外周縁検出手段で被加工物が載置された仮置きテーブルを回転させた状態で被加工物に対して第1及び第2検出光を照射して被加工物における一対の外周縁の位置を複数回検出し、この検出値に基づいて直径算出手段で被加工物の直径の値を複数算出し、複数の直径の値の最大値と最小値との差をずれ量算出手段で算出し、ずれ量の値が許容値以下の場合にはチャックテーブルに搬送して被加工物を加工し、ずれ量の値が許容値を超える場合は被加工物をカセットに戻すように制御するので、検査工程を加工装置内で実施することができ、検査工程にかかる時間を抑制し生産コストを抑えることができる。   According to the present invention, the work piece is irradiated with the first and second detection lights in a state in which the temporary placement table on which the work piece is placed is rotated by the outer peripheral edge detection means, and a pair of the work pieces on the work piece is irradiated The position of the outer periphery is detected a plurality of times, the diameter calculation means calculates a plurality of workpiece diameter values based on the detected value, and the difference between the maximum value and the minimum value of the plurality of diameter values is calculated. If the deviation value is less than the allowable value, the workpiece is transferred to the chuck table and processed. If the deviation exceeds the allowable value, the workpiece is returned to the cassette. Since it controls, an inspection process can be implemented in a processing apparatus, the time concerning an inspection process can be suppressed, and production cost can be suppressed.

本発明実施形態の切削装置の斜視図である。It is a perspective view of the cutting device of an embodiment of the present invention. カセット及びカセット載置台上に収容された外周縁検出手段の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the outer periphery detection means accommodated on the cassette and the cassette mounting base. 外周縁検出手段の側面図及び制御手段のブロック図である。It is a side view of an outer periphery detection means, and a block diagram of a control means. 第1の搬送手段の作用を説明する模式的平面図である。It is a typical top view explaining an operation of the 1st conveyance means. 図5(A)は複数のウエーハが積層された被加工物のずれ量算出手段で算出されたずれ量の最大値を示す図、図5(B)はずれ量の最小値を示す図である。FIG. 5A is a diagram showing the maximum value of the deviation amount calculated by the deviation amount calculation means of the workpiece on which a plurality of wafers are stacked, and FIG. 5B is a diagram showing the minimum value of the deviation amount.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明実施形態に係る切削装置2の斜視図が示されている。4は切削装置2のベースであり、ベース4に隣接してカセット載置台6が上下動可能に配設されている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of a cutting device 2 according to an embodiment of the present invention is shown. Reference numeral 4 denotes a base of the cutting apparatus 2, and a cassette mounting table 6 is disposed adjacent to the base 4 so as to be movable up and down.

図2に最も良く示されるように、カセット載置台6は開口7を有する箱形状に形成されており、支持部14と一体的に形成された係合部14a内に内蔵されたナットがボールねじ8に螺合している。ボールねじ8とボールねじ8の一端に連結されたパルスモータ10とでカセット載置台移動機構12を構成する。   As best shown in FIG. 2, the cassette mounting table 6 is formed in a box shape having an opening 7, and a nut built in an engaging portion 14 a formed integrally with the support portion 14 is a ball screw. 8 is screwed. A cassette mounting table moving mechanism 12 is configured by the ball screw 8 and the pulse motor 10 connected to one end of the ball screw 8.

カセット載置台6上には複数の載置棚17を有するカセット16が載置されている。特に図示しないがカセット16内には複数の積層ウエーハ13が載置棚17で両側を支持されて収容されている。   A cassette 16 having a plurality of placement shelves 17 is placed on the cassette placement table 6. Although not shown in the drawing, a plurality of laminated wafers 13 are accommodated in a cassette 16 with both sides supported by a mounting shelf 17.

カセット載置台6は、底壁6aと、上壁6bと、後壁6cを有しており、カセット載置台6内には外周縁検出ユニット(外周縁検出手段)18が配設されている。外周縁検出ユニット18は、カセット載置台6の底壁6a上に配設された仮置きテーブル20と、後壁6cの内側に取り付けられた突き当て部材22と、を含んでいる。   The cassette mounting table 6 has a bottom wall 6 a, an upper wall 6 b, and a rear wall 6 c, and an outer peripheral edge detection unit (outer peripheral edge detection means) 18 is disposed in the cassette mounting table 6. The outer periphery detection unit 18 includes a temporary placement table 20 disposed on the bottom wall 6a of the cassette mounting table 6, and an abutting member 22 attached to the inner side of the rear wall 6c.

外周縁検出ユニット18は更に、仮置きテーブル20上に載置された積層ウエーハ(被加工物)18の外周縁部に向かって第1検出光を照射する上壁6bの下面に取り付けられた第1の発光ユニット(第1の発光手段)24aと、第1の発光ユニット24aに対向して底壁6a上に配設された第1の受光ユニット(第1の受光手段)26aと、仮置きテーブル20の回転中心の延長線に対して点対称となる位置で上壁6bの下面に取り付けられた第2の発光ユニット(第2の発光手段)24bと、第2の発光ユニット24bに対向して底壁6a上に配設された第2の受光ユニット(第2の受光手段)26bと、を含んでいる。   The outer periphery detection unit 18 is further attached to the lower surface of the upper wall 6b that irradiates the first detection light toward the outer periphery of the laminated wafer (workpiece) 18 placed on the temporary placement table 20. One light emitting unit (first light emitting means) 24a, a first light receiving unit (first light receiving means) 26a disposed on the bottom wall 6a opposite to the first light emitting unit 24a, and temporarily placed A second light emitting unit (second light emitting means) 24b attached to the lower surface of the upper wall 6b at a position that is point-symmetric with respect to the extension line of the rotation center of the table 20, and the second light emitting unit 24b. And a second light receiving unit (second light receiving means) 26b disposed on the bottom wall 6a.

ここで、積層ウエーハ(貼り合わせウエーハ)13は表面に複数のデバイスが形成された第1ウエーハ11aと、同じく表面に複数のデバイスが形成された第2ウエーハ11bとを、それぞれのデバイスの位置関係が対応するように接着されて構成されている。   Here, the laminated wafer (bonded wafer) 13 includes a first wafer 11a having a plurality of devices formed on the surface and a second wafer 11b having a plurality of devices formed on the surface, and the positional relationship between the devices. Are bonded to correspond to each other.

この接着時には第1ウエーハ11aと第2ウエーハ11bとの外周縁が一致するように注意して接着するが、多少の誤差が出るものであり、本発明の外周縁検出手段は積層ウエーハ13の外周縁の位置を検出するものである。   At the time of bonding, the first wafer 11a and the second wafer 11b are bonded with care so that the outer peripheral edges thereof coincide with each other. However, there is a slight error, and the outer peripheral edge detecting means of the present invention is the outer periphery of the laminated wafer 13. The position of the periphery is detected.

再び図1を参照すると、28は第1の搬送ユニット(第1の搬送手段)であり、表面に複数の吸引孔32を有するハンド30と、ハンド30を支持するL形状の支持部材34と、支持部材34の下端部に連結されたY軸移動ブロック36を含んでいる。   Referring again to FIG. 1, reference numeral 28 denotes a first transport unit (first transport means), which includes a hand 30 having a plurality of suction holes 32 on the surface, an L-shaped support member 34 that supports the hand 30, and A Y-axis moving block 36 connected to the lower end portion of the support member 34 is included.

Y軸移動ブロック36内にはナットが内蔵されており、このナットがY軸方向に伸長するようにベース4に回転可能に取り付けられたボールねじ38に螺合している。ボールねじ38と、ボールねじ38の一端に連結されたパルスモータ40とで第1の搬送ユニット28の移動機構42を構成する。パルスモータ40を駆動するとボールねじ38が回転し、第1の搬送ユニット28がY軸方向に移動される。   A nut is built in the Y-axis moving block 36, and this nut is screwed to a ball screw 38 rotatably attached to the base 4 so as to extend in the Y-axis direction. The ball screw 38 and the pulse motor 40 connected to one end of the ball screw 38 constitute a moving mechanism 42 of the first transport unit 28. When the pulse motor 40 is driven, the ball screw 38 rotates and the first transport unit 28 is moved in the Y-axis direction.

ベース4上には第1の門型フレーム44が立設されている。この第1の門型フレーム44の前面にはY軸方向に伸長する2本のガイドレール46,48が配設されている。50は第2の搬送ユニット(第2の搬送手段)であり、ガイドレール46に案内されてY軸方向に移動するとともに、上下方向(Z軸方向)にも移動可能なように配設されている。   A first portal frame 44 is erected on the base 4. Two guide rails 46 and 48 extending in the Y-axis direction are disposed on the front surface of the first portal frame 44. Reference numeral 50 denotes a second transport unit (second transport means) that is guided by the guide rail 46 and moves in the Y-axis direction, and is also arranged to be movable in the vertical direction (Z-axis direction). Yes.

52は第3の搬送ユニット(第3の搬送手段)であり、ガイドレール48に案内されてY軸方向に移動可能に配設されるとともに、上下方向(Z軸方向)にも移動可能に配設されている。   Reference numeral 52 denotes a third transport unit (third transport means) which is guided by the guide rail 48 and arranged to be movable in the Y-axis direction, and is also movably arranged in the vertical direction (Z-axis direction). It is installed.

ベース4の概略中央部には被加工物13を吸引保持するチャックテーブル54が回転可能且つX軸方向に往復動可能に配設されている。第1の門型フレーム44の背面側には第2の門型フレーム56がベース4上に立設されている。第2の門型フレーム56には第1Y軸移動ブロック58aと第2Y軸移動ブロック58bがそれぞれ独立してY軸方向に移動可能なように配設されている。   A chuck table 54 for sucking and holding the workpiece 13 is disposed at a substantially central portion of the base 4 so as to be rotatable and reciprocally movable in the X-axis direction. A second portal frame 56 is erected on the base 4 on the back side of the first portal frame 44. A first Y-axis moving block 58a and a second Y-axis moving block 58b are disposed on the second portal frame 56 so as to be independently movable in the Y-axis direction.

第1Y軸移動ブロック58aには、第1Z軸移動ブロック60aが第1Z軸移動機構62aによりZ軸方向に移動可能なように取り付けられており、第2Y軸移動ブロック58bには、第2Z軸移動ブロック60bが第2Z軸移動機構62bによりZ軸方向に移動可能なように取り付けられている。   A first Z-axis movement block 60a is attached to the first Y-axis movement block 58a so as to be movable in the Z-axis direction by the first Z-axis movement mechanism 62a, and a second Z-axis movement block 58b is moved to the second Z-axis movement block 58b. The block 60b is attached so as to be movable in the Z-axis direction by the second Z-axis moving mechanism 62b.

第1Z軸移動ブロック60aには先端に切削ブレードを有する第1切削ユニット64aが配設されており、第2Z軸60bには先端に切削ブレードを有する第2切削ユニット64bが配設されている。   The first Z-axis moving block 60a is provided with a first cutting unit 64a having a cutting blade at the tip, and the second Z-axis 60b is provided with a second cutting unit 64b having a cutting blade at the tip.

66はスピンナ洗浄ユニットであり、第1切削ユニット64a及び/又は第2切削ユニット64bで切削加工の完了した被加工物は第3の搬送ユニット52によりスピンナ洗浄ユニット66まで搬送され、スピンナ洗浄ユニット66でスピン洗浄及びスピン乾燥される。   Reference numeral 66 denotes a spinner cleaning unit, and the workpiece that has been cut by the first cutting unit 64a and / or the second cutting unit 64b is transported to the spinner cleaning unit 66 by the third transport unit 52. Spin cleaning and spin drying.

次に、図3を参照して、第1及び第2の発光ユニット24a,24bと第1及び第2の受光ユニット26a,26bとの配置関係について説明する。第1の発光ユニット24aは光源として半導体レーザーを有しており、半導体レーザーから出射されたレーザー光をミラーにより反射してから横に長い長方形のスリットを通し、このスリットの透過光をコリメートレンズを通して平行光に変換し、第1検出光を25aとして出射する。   Next, the arrangement relationship between the first and second light emitting units 24a and 24b and the first and second light receiving units 26a and 26b will be described with reference to FIG. The first light emitting unit 24a has a semiconductor laser as a light source. After the laser light emitted from the semiconductor laser is reflected by a mirror, the first light emitting unit 24a is passed through a long rectangular slit, and the light transmitted through the slit is passed through a collimating lens. The light is converted into parallel light, and the first detection light is emitted as 25a.

第1検出光25aの幅は本実施形態では28mmに設定されている。同様に、第2の発光ユニット24bから出射される第2検出光25bもその幅が28mmのコリメートされた第2検出光として出射される。   The width of the first detection light 25a is set to 28 mm in this embodiment. Similarly, the second detection light 25b emitted from the second light emitting unit 24b is also emitted as collimated second detection light having a width of 28 mm.

第1の発光ユニット24aは第1検出光25aの外側エッジが積層ウエーハ13の外周縁よりも外側に位置し、第1検出光25aが部分的に積層ウエーハ13の外周縁部に遮られるようにカセット載置台6の上壁6bに取り付けられている。第1の発光ユニット24aに対向して第1の受光ユニット26aがカセット載置台6の底壁6aに固定されている。   In the first light emitting unit 24 a, the outer edge of the first detection light 25 a is positioned outside the outer peripheral edge of the laminated wafer 13, and the first detection light 25 a is partially blocked by the outer peripheral edge of the laminated wafer 13. The cassette mounting table 6 is attached to the upper wall 6b. A first light receiving unit 26 a is fixed to the bottom wall 6 a of the cassette mounting table 6 so as to face the first light emitting unit 24 a.

第2の発光ユニット24bは仮置きテーブル20の回転中心の延長線に対して第1の発光ユニット24aと点対称となる位置でカセット載置台6の上壁6bに取り付けられている。この取り付け位置では、第2の発光ユニット24bから出射された第2検出光25bは仮置きテーブル20上に載置された積層ウエーハ13に対して、その外側エッジが積層ウエーハ13の外周縁よりも外側に位置し第2検出光25bは部分的に積層ウエーハ13に遮られるようになる。第2の発光ユニット24bに対向して第2の受光ユニット26bがカセット載置台6の底壁6aに固定されている。   The second light emitting unit 24 b is attached to the upper wall 6 b of the cassette mounting table 6 at a position that is point-symmetric with the first light emitting unit 24 a with respect to the extension line of the rotation center of the temporary table 20. At this attachment position, the second detection light 25b emitted from the second light emitting unit 24b is positioned on the temporary placement table 20 with the outer edge of the second detection light 25b being more than the outer peripheral edge of the laminated wafer 13. The second detection light 25 b located outside is partially blocked by the laminated wafer 13. A second light receiving unit 26b is fixed to the bottom wall 6a of the cassette mounting table 6 so as to face the second light emitting unit 24b.

第1の受光ユニット26a及び第2の受光ユニット26bとも、Y軸方向に整列したラインセンサから構成されており、ラインセンサの各セグメントの座標値は制御手段68に格納されている。   Both the first light receiving unit 26 a and the second light receiving unit 26 b are composed of line sensors aligned in the Y-axis direction, and the coordinate values of each segment of the line sensor are stored in the control means 68.

制御手段68は、第1の受光ユニット26a及び第2の受光ユニット26bの出力から積層ウエーハ13の直径を算出する直径算出手段70と、直径算出手段70で算出された直径と予め設定された積層ウエーハ13を構成する第1ウエーハ11aと第2ウエーハ11Bとのずれ量の許容値とを記憶する記憶手段72と、記憶手段72に記憶された複数の直径の値の最大値と最小値との差を実際のずれ量として算出するずれ量算出手段74とを含んでいる。   The control means 68 includes a diameter calculating means 70 for calculating the diameter of the laminated wafer 13 from the outputs of the first light receiving unit 26a and the second light receiving unit 26b, and a diameter calculated by the diameter calculating means 70 and a preset laminated value. A storage means 72 for storing an allowable value of a deviation amount between the first wafer 11a and the second wafer 11B constituting the wafer 13, and a maximum value and a minimum value of a plurality of diameter values stored in the storage means 72; And a deviation amount calculating means 74 for calculating the difference as an actual deviation amount.

以下、上述したように構成された外周縁検出ユニット18の作用について説明する。まず、第1の搬送ユニット28をY軸方向に移動してハンド30をカセット16内に挿入させ、ハンド30の吸引孔32によりカセット16内に収納された積層ウエーハ13の下面を吸引してカセット16内から搬出する。   Hereinafter, the operation of the outer peripheral edge detection unit 18 configured as described above will be described. First, the first transport unit 28 is moved in the Y-axis direction, the hand 30 is inserted into the cassette 16, and the lower surface of the laminated wafer 13 accommodated in the cassette 16 is sucked by the suction holes 32 of the hand 30. Unload from 16

次いで、カセット載置台移動機構12を駆動してカセット載置台6を上昇させ、次いで、図4(A)に示すように、第1の搬送ユニット28をY軸方向に移動して積層ウエーハ13を吸引保持したハンド30をカセット載置台6内に侵入させる。   Next, the cassette mounting table moving mechanism 12 is driven to raise the cassette mounting table 6, and then, as shown in FIG. 4A, the first transport unit 28 is moved in the Y-axis direction to move the laminated wafer 13. The sucked and held hand 30 is allowed to enter the cassette mounting table 6.

次いで、図4(B)に示すように、ハンド30による積層ウエーハ13の吸着を解除してから、第1の搬送ユニット28をY軸方向に更に移動して、ハンド30上に載置されている積層ウエーハ13を突き当て部材22の円弧状突き当て面22aに突き当てる。   Next, as shown in FIG. 4B, after the suction of the laminated wafer 13 by the hand 30 is released, the first transport unit 28 is further moved in the Y-axis direction and placed on the hand 30. The laminated wafer 13 is abutted against the arc-shaped abutting surface 22 a of the abutting member 22.

ここで、突き当て部材22の円弧状突き当て面22aの曲率半径は積層ウエーハ13の曲率半径に一致するように形成されているため、積層ウエーハ13は突き当て部材22の円弧状突き当て面22aに密着するように突き当てられ、積層ウエーハ13の中心のX軸方向の座標値は仮置きテーブル20の回転中心のX軸方向の座標値と一致する。   Here, since the radius of curvature of the arc-shaped abutting surface 22 a of the abutting member 22 is formed so as to coincide with the radius of curvature of the laminated wafer 13, the laminated wafer 13 is the arc-shaped abutting surface 22 a of the abutting member 22. The coordinate value in the X-axis direction of the center of the laminated wafer 13 coincides with the coordinate value in the X-axis direction of the rotation center of the temporary placement table 20.

この状態でハンド30で積層ウエーハ13を再び吸引保持し、図4(C)に示すように、第1の搬送ユニット28を矢印Y2方向に予め定められた距離だけ移動すると、積層ウエーハ13の中心が仮置きテーブル20の回転中心と一致するように第1の搬送ユニット28が組み立てられている。   In this state, the laminated wafer 13 is again sucked and held by the hand 30, and as shown in FIG. 4C, when the first transport unit 28 is moved by a predetermined distance in the direction of the arrow Y2, the center of the laminated wafer 13 is obtained. The first transport unit 28 is assembled so as to coincide with the rotation center of the temporary table 20.

ハンド30の積層ウエーハ13に対する吸引保持を解除し、カセット載置台移動機構12を駆動して仮置きテーブル20を上昇させると、積層ウエーハ13の中心と想定される仮の中心を仮置きテーブル20の回転中心と一致させて積層ウエーハ13を仮置きテーブル20上に載置することができる。   When the suction holding of the hand 30 with respect to the laminated wafer 13 is released and the cassette placing table moving mechanism 12 is driven to raise the temporary placing table 20, the temporary center assumed to be the center of the laminated wafer 13 is set to the temporary placing table 20. The laminated wafer 13 can be placed on the temporary placement table 20 so as to coincide with the rotation center.

次いで、仮置きテーブル20で積層ウエーハ13を吸引保持し、仮置きテーブル20を回転させた状態で第1の発光ユニット24a及び第2の発光ユニット24bから第1検出光25a及び第2検出光25bを同時に照射する。   Next, the laminated wafer 13 is sucked and held by the temporary placement table 20, and the first detection light 25a and the second detection light 25b from the first light emission unit 24a and the second light emission unit 24b in a state where the temporary placement table 20 is rotated. At the same time.

第1の受光ユニット26a及び第2の受光ユニット26bは、積層ウエーハ13によって遮られた第1検出光25a、第2検出光25bの位置から、積層ウエーハ13における一対の外周縁の位置を複数回検出し、この検出値を制御手段68に送信する。   The first light receiving unit 26a and the second light receiving unit 26b are configured to change the position of the pair of outer peripheral edges of the laminated wafer 13 a plurality of times from the positions of the first detection light 25a and the second detection light 25b blocked by the laminated wafer 13. The detected value is transmitted to the control means 68.

制御手段68は、外周縁検出ユニット18によって複数回検出された一対の外周縁の位置から積層ウエーハ13の直径を直径算出手段70で複数回算出する。この複数回の算出には、図5(A)に示す積層ウエーハ13の直径の最大値と、図5(B)に示す積層ウエーハ13の直径の最小値とが含まれる。   The control means 68 calculates the diameter of the laminated wafer 13 a plurality of times by the diameter calculating means 70 from the position of the pair of outer periphery detected by the outer periphery detection unit 18 a plurality of times. This multiple calculation includes the maximum value of the diameter of the laminated wafer 13 shown in FIG. 5 (A) and the minimum value of the diameter of the laminated wafer 13 shown in FIG. 5 (B).

ずれ量算出手段74では、記憶手段72に記憶された複数の直径の値の最大値と最小値との差を実際のずれ量として算出し、この実際のずれ量の値が記憶手段72に記憶されている許容値以下の場合は、第1の搬送ユニット28で積層ウエーハ13をカセット載置台6内から搬出した後、第2の搬送ユニット50で第1の搬送ユニット28から積層ウエーハ13を受け取り、積層ウエーハ13をチャックテーブル54まで搬送して、第1切削ユニット64a及び第2切削ユニット64bでチャックテーブル54に保持された積層ウエーハ13のエッジトリミングを実施する。   In the deviation amount calculation means 74, the difference between the maximum value and the minimum value of the plurality of diameter values stored in the storage means 72 is calculated as an actual deviation amount, and this actual deviation amount value is stored in the storage means 72. When the value is less than the allowable value, the laminated wafer 13 is unloaded from the cassette mounting table 6 by the first carrying unit 28, and then the laminated wafer 13 is received from the first carrying unit 28 by the second carrying unit 50. Then, the laminated wafer 13 is conveyed to the chuck table 54, and edge trimming of the laminated wafer 13 held on the chuck table 54 by the first cutting unit 64a and the second cutting unit 64b is performed.

一方、ずれ量算出手段74で算出した実際のずれ量の値が記憶手段72に記憶されている許容値を超える場合には、この積層ウエーハ13をチャックテーブル54まで搬送せずに、第1の搬送ユニット28で積層ウエーハ13をカセット16の所定位置に戻し、この位置を制御手段68で記憶する。   On the other hand, when the actual deviation amount calculated by the deviation amount calculation means 74 exceeds the allowable value stored in the storage means 72, the first layered wafer 13 is not transported to the chuck table 54, and the first The laminated wafer 13 is returned to a predetermined position of the cassette 16 by the transport unit 28, and this position is stored by the control means 68.

上述した実施形態によると、カセット載置台6内に配置された外周縁検出ユニット18により仮置きテーブル20上に載置された積層ウエーハ13の外周縁を複数箇所で検出して、積層ウエーハ13の直径の最大値と最小値とをずれ量として検出することができるため、ずれ量が予め定められた許容値を超える積層ウエーハの場合には、この積層ウエーハを次の工程に送ることなく容易に取り除くことができる。   According to the above-described embodiment, the outer peripheral edge of the laminated wafer 13 placed on the temporary placement table 20 is detected at a plurality of locations by the outer peripheral edge detection unit 18 arranged in the cassette placing table 6. Since the maximum and minimum values of the diameter can be detected as a deviation amount, in the case of a laminated wafer whose deviation amount exceeds a predetermined allowable value, it is easy to send this laminated wafer to the next process. Can be removed.

上述した実施形態では、本発明をエッジトリミングを実施する切削装置に適用した例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、積層ウエーハを加工する研削装置、レーザー加工装置等の他の加工装置にも同様に適用することができる。   In the embodiment described above, an example in which the present invention is applied to a cutting apparatus that performs edge trimming has been described. However, the present invention is not limited to this, and a grinding apparatus that processes a laminated wafer, a laser processing apparatus, or the like is used. The present invention can be similarly applied to other processing apparatuses.

2 切削装置
6 カセット載置台
11a 第1ウエーハ
11b 第2ウエーハ
12 カセット載置台移動機構
13 積層ウエーハ(被加工物)
18 外周縁検出ユニット
20 仮置きテーブル
22 突き当て部材
24a 第1の発光ユニット
24b 第2の発光ユニット
26a 第1の受光ユニット
26b 第2の受光ユニット
28 第1の搬送ユニット
30 ハンド
42 Y軸移動機構
44 第1門型フレーム
50 第2の搬送ユニット
52 第3の搬送ユニット
54 チャックテーブル
56 第2門型フレーム
64a 第1切削ユニット
64b 第2切削ユニット
68 制御手段
70 直径算出手段
72 記憶手段
74 ずれ量算出手段
2 Cutting device 6 Cassette mounting table 11a First wafer 11b Second wafer 12 Cassette mounting table moving mechanism 13 Laminated wafer (workpiece)
18 Outer rim detection unit 20 Temporary table 22 Abutting member 24a First light emitting unit 24b Second light emitting unit 26a First light receiving unit 26b Second light receiving unit 28 First transport unit 30 Hand 42 Y-axis moving mechanism 44 First portal frame 50 Second conveyance unit 52 Third conveyance unit 54 Chuck table 56 Second portal frame 64a First cutting unit 64b Second cutting unit 68 Control means 70 Diameter calculation means 72 Storage means 74 Deviation amount Calculation means

Claims (2)

複数の円形の板状物が張り合わされた被加工物に所定の加工を施す加工装置であって、
被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、
被加工物を複数収容するカセットと、
該カセットが載置されるカセット載置台と、
該カセットに収容された被加工物を搬出する第1の搬送手段と、
該第1の搬送手段によって該カセットから搬出された被加工物を突き当てる突き当て部材と、
被加工物よりも小さい直径を有し被加工物を保持する仮置きテーブルと、
該仮置きテーブルを回転させる回転手段と、
被加工物を該チャックテーブルへ搬送する第2の搬送手段と、
該第1の搬送手段と該第2の搬送手段とを制御する制御手段と、
該仮置きテーブルに載置された被加工物の外周縁の位置を検出する外周縁検出手段と、を備え、
該第1の搬送手段は、該カセットに収容された被加工物の下面を吸引して搬出し、被加工物の中心と想定される仮の中心を該仮置きテーブルの回転中心と一致させて被加工物を該仮置きテーブル上に載置し、
該外周縁検出手段は、
該仮置きテーブルの上方に配設され、該仮置きテーブルに載置された被加工物の外周縁部に外側エッジが被加工物の外周縁よりも外側に位置し内側エッジが被加工物に照射される第1検出光を照射する第1の発光手段と、
該仮置きテーブルの上方で且つ該仮置きテーブルの回転中心を挟んで該第1の発光手段と点対称となる位置に配設され、被加工物の外周縁部に外側エッジが被加工物の外周縁よりも外側に位置し内側エッジが被加工物に照射される第2検出光を照射する第2の発光手段と、
該第1の発光手段に対応して該仮置きテーブルの下方に配設され該第1検出光を受光する第1の受光手段と、
該第2の発光手段に対応して該仮置きテーブルの下方に配設され該第2検出光を受光する第2の受光手段と、を含み、
該第1及び第2の発光手段は被加工物が載置された該仮置きテーブルを回転させた状態で該第1及び第2検出光を被加工物に照射し、該第1及び第2の受光手段は被加工物によって一部が遮られた該第1及び第2検出光の受光位置から被加工物における一対の外周縁の位置を複数回検出し、
該制御手段は、該外周縁検出手段によって複数回検出された一対の外周縁の位置から被加工物の直径の値を複数回算出する直径算出手段と、
該直径算出手段によって算出された複数の直径の値と予め設定された被加工物を構成する複数の板状物のずれ量の許容値とを記憶する記憶手段と、
該記憶手段に記憶された該複数の直径の値の最大値と最小値との差を実際のずれ量として算出するずれ量算出手段と、を有し、
該実際のずれ量の値が該許容値以下の場合は該第2の搬送手段によって被加工物を該チャックテーブルに搬送して該加工手段によって加工を行い、該実際のずれ量の値が該許容値を超える場合は該第1の搬送手段によって被加工物を該カセットに戻すことを特徴とする加工装置。
A processing device that performs a predetermined processing on a workpiece on which a plurality of circular plate-shaped objects are bonded,
A chuck table having a holding surface for holding a workpiece;
Processing means for processing the workpiece held on the chuck table;
A cassette for storing a plurality of workpieces;
A cassette mounting table on which the cassette is mounted;
First transport means for unloading the workpieces contained in the cassette;
An abutting member that abuts the workpiece carried out of the cassette by the first conveying means;
A temporary table that has a smaller diameter than the workpiece and holds the workpiece;
Rotating means for rotating the temporary placement table;
A second conveying means for conveying the workpiece to the chuck table;
Control means for controlling the first transport means and the second transport means;
An outer periphery detecting means for detecting the position of the outer periphery of the workpiece placed on the temporary table,
The first conveying means sucks and unloads the lower surface of the workpiece contained in the cassette, and makes the temporary center assumed to be the center of the workpiece coincide with the rotation center of the temporary table. Place the workpiece on the temporary table,
The outer periphery detection means includes
The outer edge of the workpiece placed on the temporary table and placed on the temporary table is positioned outside the outer edge of the workpiece, and the inner edge of the workpiece is placed on the workpiece. First light emitting means for irradiating irradiated first detection light;
It is arranged above the temporary table and at a position that is point-symmetric with the first light emitting means across the rotation center of the temporary table, and the outer edge of the workpiece has an outer edge. A second light emitting means for irradiating a second detection light that is located outside the outer peripheral edge and the inner edge is irradiated to the workpiece;
A first light receiving means disposed below the temporary table corresponding to the first light emitting means and receiving the first detection light;
A second light receiving means disposed below the temporary table corresponding to the second light emitting means and receiving the second detection light,
The first and second light emitting means irradiate the workpiece with the first and second detection lights in a state where the temporary placement table on which the workpiece is placed is rotated. The light receiving means detects the position of the pair of outer peripheral edges of the workpiece a plurality of times from the light receiving positions of the first and second detection lights partially blocked by the workpiece,
The control means includes a diameter calculating means for calculating the value of the diameter of the workpiece a plurality of times from the position of the pair of outer peripheral edges detected a plurality of times by the outer peripheral edge detecting means;
Storage means for storing a plurality of diameter values calculated by the diameter calculation means and a preset allowable value of deviation amounts of a plurality of plate-like objects constituting the workpiece;
Deviation amount calculating means for calculating a difference between the maximum value and the minimum value of the plurality of diameter values stored in the storage means as an actual deviation amount;
If the actual deviation value is less than or equal to the allowable value, the workpiece is conveyed to the chuck table by the second conveying means and processed by the machining means, and the actual deviation value is A processing apparatus characterized by returning a workpiece to the cassette by the first conveying means when an allowable value is exceeded.
該第1の搬送手段は、該カセットに収納された被加工物の下面を吸引して被加工物を該カセットから搬出し、被加工物を該突き当て部材に突き当て可能な位置に搬送し、被加工物の吸引を解除して被加工物が該第1の搬送手段上に載置された状態で被加工物を該突き当て部材に突き当てて被加工物と該第1の搬送手段との位置関係を所定の位置関係に設定し、該第1の搬送手段と被加工物の位置関係から被加工物の中心と想定される仮の中心を該仮置きテーブルの回転中心と一致させて被加工物を該仮置きテーブル上に載置することを特徴とする請求項1記載の加工装置。   The first conveying means sucks the lower surface of the workpiece stored in the cassette, carries the workpiece out of the cassette, and conveys the workpiece to a position where it can abut against the abutting member. The workpiece is abutted against the abutting member in a state where the suction of the workpiece is released and the workpiece is placed on the first conveying means, and the workpiece and the first conveying means Is set to a predetermined positional relationship, and the temporary center assumed to be the center of the workpiece from the positional relationship between the first conveying means and the workpiece is made to coincide with the rotation center of the temporary table. The processing apparatus according to claim 1, wherein the workpiece is placed on the temporary placement table.
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