JP2015135671A - Light-transmitting conductive film and touch panel including the light-transmitting conductive film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光透過性導電性フィルム、及びその光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネルに関する。 The present invention relates to a light transmissive conductive film and a touch panel containing the light transmissive conductive film.
タッチパネルの方式として、静電容量型タッチパネルが使用されている。これらのタッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の金属酸化物を含有する光透過性導電層を含有するフィルムが数多く使用されている。静電容量型タッチパネルに用いられる導電性フィルムとしては、タッチパネルの小型、軽量化に加えて意匠性も兼ね備えたタッチパネルでの使用にも耐えうることが求められる。 As a touch panel system, a capacitive touch panel is used. As a light transmissive conductive film mounted on these touch panels, many films containing a light transmissive conductive layer containing a metal oxide such as indium tin oxide (ITO) are used. As a conductive film used for a capacitive touch panel, it is required to be able to withstand the use of a touch panel having design characteristics in addition to the small size and light weight of the touch panel.
従来のタッチパネルにおいては、通常、板状のタッチパネルの裏面に金属配線を形成した透過性導電性フィルムを配置する。したがって、厚みが薄くても十分な程度にまで低抵抗化された光透過性導電性フィルムであればよい（特許文献１）。 In a conventional touch panel, a transparent conductive film in which metal wiring is formed on the back surface of a plate-shaped touch panel is usually arranged. Therefore, the light-transmitting conductive film may be a light-transmitting conductive film whose resistance is reduced to a sufficient level even if the thickness is thin (Patent Document 1).
しかし、タッチパネルの意匠性を高めるうえで、タッチパネル表面に曲面を持たせた意匠や、タッチパネル面を折りたたむことができる意匠のタッチパネルが検討されてきており、これら意匠に耐えうる光透過性導電性フィルムが求められていた。 However, in order to enhance the design of touch panels, designs with curved surfaces on the touch panel surface and touch panels with designs that can fold the touch panel surface have been studied, and a light-transmissive conductive film that can withstand these designs. Was demanded.
本発明者らは、曲面を有するタッチパネルやタッチパネル面を折りたたむ意匠のタッチパネルに従来の光透過性導電性フィルムを用いると導電層にクラックが多数発生して導電層が絶縁するという問題を見出した。そこで、本発明は、曲面を有するタッチパネルやタッチパネル面を折りたたむ意匠のタッチパネルに対して用いることができる、高い耐屈曲性を有する光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。 The present inventors have found a problem that when a conventional light-transmitting conductive film is used for a touch panel having a curved surface or a touch panel with a design that folds the touch panel surface, a large number of cracks are generated in the conductive layer and the conductive layer is insulated. Then, this invention makes it a subject to provide the transparent conductive film which has high bending resistance which can be used with respect to the touchscreen of the design which folds the touchscreen which has a curved surface, or a touchscreen surface.
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、本発明を完成させた。具体的には、本発明者らは、導電層の下地として形成される下地層又は裏面コート層として特定のものを使用することにより、高い耐屈曲性を有する光透過性導電性フィルムを実現することに成功した。本発明はかかる知見に基づきさらに検討を重ねることにより完成された。本発明は次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）下地層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記下地層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも下地層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記下地層（Ｂ）が、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）を含有し、かつ重量が０．０１〜５μｇ／ｃｍ２であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
項２．
前記ＳｉＯｘにおいて、ｘ＝１．５〜２．０である、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
前記光透過性支持層（Ａ）が、少なくとも２層の樹脂フィルムを含む複数層のフィルムからなる、項１〜２のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項４．
前記樹脂フィルムが、厚さ１μｍ〜５０μｍの光学透明接着剤を介して隣接するフィルムと貼り合わされている、項３に記載の光透過性導電性フィルム。
項５．
１５０℃で６０分加熱した際の前記樹脂フィルムの間の熱収縮率差がいずれも１．０〜１．２倍である、項３又は４に記載の光透過性導電性フィルム。
項６．
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｃ）光透過性導電層；及び
（Ｄ）裏面コート層
を含有し、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性支持層（Ａ）の、前記光透過性導電層（Ｃ）が配置されていない面に、前記裏面コート層（Ｄ）が、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記裏面コート層（Ｄ）が、無機フィラーが有機ポリマー中又は有機バインダー中に分散した構造を有し、かつ前記フィラーが球状、板状、隗状又は燐片状の無機酸化物であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
項７．
前記無機フィラーが、シリカ、アルミナ、チタニア及びジルコニアからなる群より選択される少なくとも一種を含有する、項６に記載の光透過性導電性フィルム。
項８．
前記無機フィラーの短辺が２ｎｍ〜１０００ｎｍであり、かつ長辺が５ｎｍ〜５０００ｎｍである、項６又は７に記載の光透過性導電性フィルム。
項９．
前記無機フィラーが、粒径５ｎｍ〜４００ｎｍの球状シリカである、項６〜８のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１０．
前記裏面コート層（Ｄ）の無機成分／有機成分の重量比が、０．１〜１０である、項６〜９のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１１．
前記裏面コート層（Ｄ）の有機成分が、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタンレート樹脂及びエポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の有機成分である、項６〜１０のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１２．
前記光透過性支持層（Ａ）が、少なくとも２層の樹脂フィルムを含む複数層のフィルムからなる、項６〜１１のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１３．
前記樹脂フィルムが、厚さ１μｍ〜５０μｍの光学透明接着剤を介して隣接するフィルムと貼り合わされている、項１２に記載の光透過性導電性フィルム。
項１４．
１５０℃で６０分加熱した際の前記樹脂フィルムの間の熱収縮率差がいずれも１．０〜１．２倍である、項１２又は１３に記載の光透過性導電性フィルム。
項１５．
前記裏面コート層（Ｄ）の厚さが、０．４μｍ〜５．０μｍである、項６〜１４のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１６．
前記裏面コート層（Ｄ）が、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、メラミン樹脂及びシアネート樹脂からなる群より選択される少なくとも一種を含有する有機フィラーが、有機ポリマー中又は有機バインダー中に分散した構造を有する、項６〜１５のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１７．
前記有機フィラーが、粒径０．３μｍ〜３．０μｍのアクリル樹脂である、項１６に記載の光透過性導電性フィルム。
項１８．
前記裏面コート層（Ｄ）の鉛筆硬度が、Ｈ以上である、項６〜１７のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１９．
前記裏面コート層（Ｄ）の算術表面粗さＲａが、１ｎｍ〜３００ｎｍである、項６〜１８のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項２０．
項１〜１９のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
The inventors of the present invention have intensively studied to solve the above problems and have completed the present invention. Specifically, the present inventors realize a light-transmitting conductive film having high bending resistance by using a specific base layer or back coat layer formed as the base of the conductive layer. Succeeded. The present invention has been completed by further studies based on such findings. The present invention is as follows.
Item 1.
(A) a light transmissive support layer;
(B) an underlayer; and (C) a light-transmitting conductive layer,
The underlayer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the underlayer (B):
The light-transmitting conductive film, wherein the base layer (B) contains SiO x (x = 0.1 to 2.0) and has a weight of 0.01 to 5 μg / cm 2 .
Item 2.
Item 2. The light transmissive conductive film according to Item 1, wherein x is 1.5 to 2.0 in the SiO x .
Item 3.
Item 3. The light transmissive conductive film according to any one of Items 1 to 2, wherein the light transmissive support layer (A) is composed of a plurality of layers of film including at least two resin films.
Item 4.
Item 4. The light transmissive conductive film according to Item 3, wherein the resin film is bonded to an adjacent film via an optical transparent adhesive having a thickness of 1 μm to 50 μm.
Item 5.
Item 5. The light-transmitting conductive film according to Item 3 or 4, wherein the difference in thermal shrinkage between the resin films when heated at 150 ° C. for 60 minutes is 1.0 to 1.2 times.
Item 6.
(A) a light transmissive support layer;
(C) a light transmissive conductive layer; and (D) a back coat layer,
The light transmissive conductive layer (C) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive support layer ( A) The light-transmitting conductive material in which the back coat layer (D) is disposed directly or via one or more other layers on the surface where the light-transmitting conductive layer (C) is not disposed. With film:
The back coat layer (D) has a structure in which an inorganic filler is dispersed in an organic polymer or an organic binder, and the filler is a spherical, plate-like, bowl-like or flake-like inorganic oxide. A light-transmitting conductive film characterized.
Item 7.
Item 7. The light transmissive conductive film according to Item 6, wherein the inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of silica, alumina, titania and zirconia.
Item 8.
Item 8. The light-transmitting conductive film according to Item 6 or 7, wherein the inorganic filler has a short side of 2 nm to 1000 nm and a long side of 5 nm to 5000 nm.
Item 9.
Item 9. The light transmissive conductive film according to any one of Items 6 to 8, wherein the inorganic filler is spherical silica having a particle size of 5 nm to 400 nm.
Item 10.
Item 10. The light transmissive conductive film according to any one of Items 6 to 9, wherein the weight ratio of the inorganic component / organic component of the back coat layer (D) is 0.1 to 10.
Item 11.
Item 10. The organic component of the back coat layer (D) is at least one organic component selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin, an acrylic urethane rate resin, and an epoxy resin. The light-transmitting conductive film described in 1.
Item 12.
Item 12. The light transmissive conductive film according to any one of Items 6 to 11, wherein the light transmissive support layer (A) is formed of a plurality of layers including at least two resin films.
Item 13.
Item 13. The light transmissive conductive film according to Item 12, wherein the resin film is bonded to an adjacent film through an optical transparent adhesive having a thickness of 1 μm to 50 μm.
Item 14.
Item 14. The light transmissive conductive film according to Item 12 or 13, wherein the difference in thermal shrinkage between the resin films when heated at 150 ° C. for 60 minutes is 1.0 to 1.2 times.
Item 15.
Item 15. The light transmissive conductive film according to any one of Items 6 to 14, wherein the back coat layer (D) has a thickness of 0.4 μm to 5.0 μm.
Item 16.
The organic filler containing at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a urethane acrylate resin, a melamine resin, and a cyanate resin is included in the organic polymer or the organic binder. Item 16. The light transmissive conductive film according to any one of Items 6 to 15, which has a structure dispersed in a film.
Item 17.
Item 17. The light transmissive conductive film according to Item 16, wherein the organic filler is an acrylic resin having a particle size of 0.3 μm to 3.0 μm.
Item 18.
Item 18. The light transmissive conductive film according to any one of Items 6 to 17, wherein the back surface coating layer (D) has a pencil hardness of H or more.
Item 19.
Item 19. The light transmissive conductive film according to any one of Items 6 to 18, wherein the back surface coating layer (D) has an arithmetic surface roughness Ra of 1 nm to 300 nm.
Item 20.
Item 20. A touch panel comprising the light transmissive conductive film according to any one of Items 1 to 19.
本発明の光透過性導電性フィルムは、高い耐屈曲性を有する。 The light transmissive conductive film of the present invention has high bending resistance.
１． 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムの一つの態様は、
（Ａ）光透過性支持層：及び
（Ｂ）下地層
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記下地層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも下地層（Ｂ）を介して配置されている。
1. Light transmissive conductive film One aspect of the light transmissive conductive film of the present invention is:
(A) a light transmissive support layer: and (B) a base layer (C) a light transmissive conductive layer,
The underlayer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). However, it is disposed on at least one surface of the light-transmitting support layer (A) via at least the base layer (B).
また、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様は、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｃ）光透過性導電層；及び
（Ｄ）裏面コート層
を含有し、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性支持層（Ａ）の、前記光透過性導電層（Ｃ）が配置されていない面に、前記裏面コート層（Ｄ）が、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
Another aspect of the light transmissive conductive film of the present invention is as follows.
(A) a light transmissive support layer;
(C) a light transmissive conductive layer; and (D) a back coat layer,
The light transmissive conductive layer (C) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive support layer ( The back coat layer (D) is disposed directly or via one or more other layers on the surface of A) where the light-transmissive conductive layer (C) is not disposed.
光透過性支持層とは、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。 The light transmissive support layer refers to a layer that supports a layer including a light transmissive conductive layer.
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。 In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 88% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or equivalent).
本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００（製品名）、又はその同等品）を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。 In the present invention, the thickness of each layer is determined using a commercially available reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics, FE-3000 (product name), or equivalent). Alternatively, it may be obtained by observation using a commercially available transmission electron microscope. Specifically, the light-transmitting conductive film is thinly cut in a direction perpendicular to the film surface using a microtome or a focus ion beam, and the cross section is observed.
ＳｉＯｘの付着量は、市販の波長分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＲＩＧＡＫＵ社製ＺＳＸ Ｐｒｉｍｕｓ ＩＩＩ＋、又はその同等品）により測定される蛍光Ｘ線強度を用いて、ＦＰ法によりＳｉの付着量を算出し、同量のＳｉ付着量を含むＳｉＯ２の付着量に換算して求める。 The amount of SiO x deposited is determined by the FP method using the fluorescent X-ray intensity measured by a commercially available wavelength dispersive X-ray fluorescence analyzer (ZSX Primus III + manufactured by RIGAKU) or its equivalent. calculated, determined in terms of the amount of deposition of SiO 2 containing Si deposition amount of the same amount.
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということがある。 In this specification, when mentioning the relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (A), the light transmissive support layer (A) is used as a reference. Thus, one layer having a large distance from the light transmissive support layer (A) may be referred to as an “upper” layer or the like.
１．１ 光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。
1.1 Light transmissive support layer (A)
In the present invention, the light-transmitting support layer refers to a light-transmitting conductive film containing a light-transmitting conductive layer that plays a role of supporting a layer including the light-transmitting conductive layer.
光透過性支持層（Ａ）は、本発明の効果の点で好ましくは、互いに同一の又は異なる、少なくとも２層の樹脂フィルム（ａ）を含む複数層のフィルムからなる。 From the viewpoint of the effects of the present invention, the light-transmitting support layer (A) is preferably composed of a plurality of layers including at least two resin films (a) which are the same or different from each other.
樹脂フィルム（ａ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。 Although it does not specifically limit as a resin film (a), For example, in the transparent conductive film for touchscreens, what is normally used as a transparent support layer can be used.
樹脂フィルム（ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。樹脂フィルム（ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でも特にＰＥＴが好ましい。樹脂フィルム（ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 Although the raw material of a resin film (a) is not specifically limited, For example, various organic polymers etc. can be mentioned. The organic polymer is not particularly limited. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, etc. Examples thereof include resins, polyamide resins, polyvinyl chloride resins, polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. The material of the resin film (a) is preferably a polyester resin, and particularly preferably PET. The resin film (a) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.
なお、複数層のフィルムである光透過性支持層（Ａ）を得る方法は特に限定されず、それぞれの樹脂フィルム（ａ）を接着剤や粘着剤で貼り合わせる方法や熱ラミネートする方法などが挙げられる。 In addition, the method of obtaining the light transmissive support layer (A) which is a multi-layer film is not particularly limited, and examples thereof include a method of bonding each resin film (a) with an adhesive or a pressure sensitive adhesive, a method of heat laminating, and the like. It is done.
樹脂フィルム（ａ）の厚さは、１０〜２００μｍ、好ましくは２０〜１５０μｍである。 The thickness of the resin film (a) is 10 to 200 μm, preferably 20 to 150 μm.
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）が、２枚の樹脂フィルム（ａ）を透明な粘着剤（光学透明接着剤）を介して積層した複数層のフィルムである場合は、粘着剤層を含めた総厚さが２〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。 Although the thickness of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, the range of 2-300 micrometers is mentioned. When the light transmissive support layer (A) is a multi-layer film in which two resin films (a) are laminated via a transparent adhesive (optical transparent adhesive), the total including the adhesive layer The thickness is preferably in the range of 2 to 300 μm.
透明な粘着剤としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、酢酸ビニル系粘着剤、塩化ビニル系粘着剤、エポキシ系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤等が挙げられる。
なかでもアクリル系粘着剤が好ましい。
Although it does not specifically limit as a transparent adhesive, For example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a polyurethane adhesive, a polyamide adhesive, a vinyl acetate adhesive, a vinyl chloride adhesive, an epoxy adhesive , Natural rubber adhesives, synthetic rubber adhesives, and the like.
Of these, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferred.
好ましくは、樹脂フィルム（ａ）が、厚さ１μｍ〜５０μｍ、より好ましくは５μｍ〜３０μｍの光学透明接着剤を介して隣接するフィルムと貼り合わされている。これにより、十分な接着性を保持しながら、光透過性導電性フィルムのアニール後のカールを低減できるという効果が得られる。 Preferably, the resin film (a) is bonded to an adjacent film via an optical transparent adhesive having a thickness of 1 μm to 50 μm, more preferably 5 μm to 30 μm. Thereby, the effect that curl after annealing of the light-transmitting conductive film can be reduced while maintaining sufficient adhesiveness is obtained.
好ましくは、１５０℃で６０分加熱した際の樹脂フィルム（ａ）の間の熱収縮率差がいずれも１．０〜１．２倍、より好ましくは１．０〜１．１倍である。これにより、光透過性導電性フィルムのアニール後のカールを低減できるという効果が得られる。 Preferably, the heat shrinkage difference between the resin films (a) when heated at 150 ° C. for 60 minutes is 1.0 to 1.2 times, more preferably 1.0 to 1.1 times. Thereby, the effect that the curl after annealing of a transparent conductive film can be reduced is acquired.
１．２ 下地層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、下地層（Ｂ）を含有していてもよく、この場合、下地層（Ｂ）は透過性導電層（Ｃ）と光透過性支持層（Ａ）との間に配置されている。なお、光透過性導電層（Ｃ）は、下地層（Ｂ）に隣接して配置されていてもよい。
1.2 Underlayer (B)
The light-transmitting conductive film of the present invention may contain a base layer (B). In this case, the base layer (B) includes a light-transmitting conductive layer (C) and a light-transmitting support layer (A). It is arranged between. The light transmissive conductive layer (C) may be disposed adjacent to the base layer (B).
下地層（Ｂ）は、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）を含む。ＳｉＯｘは、本発明の効果の点で好ましくはＳｉＯｘ（ｘ＝１．５〜２．０）である。 The underlayer (B) contains SiO x (x = 0.1 to 2.0). SiO x is preferably SiO x (x = 1.5 to 2.0) in view of the effects of the present invention.
下地層（Ｂ）は、単位面積当たりの密度（付着量）が、特に限定されないが、本発明の効果の点で、好ましくは０．０１〜５μｇ／ｃｍ２、より好ましくは０．０２〜３μｇ／ｃｍ２であり、さらに好ましくは０．０５〜１．５μｇ／ｃｍ２である。 The density (adhesion amount) per unit area of the underlayer (B) is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 μg / cm 2 , more preferably 0.02 to 3 μg from the viewpoint of the effect of the present invention. / Cm 2 , more preferably 0.05 to 1.5 μg / cm 2 .
下地層（Ｂ）は、さらに有機成分を含有していてもよい。有機成分は、特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタンレート樹脂及びエポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の有機成分等が挙げられる。 The underlayer (B) may further contain an organic component. Although an organic component is not specifically limited, For example, the at least 1 sort (s) of organic component selected from the group which consists of an acrylic resin, a urethane resin, an acrylic urethane rate resin, and an epoxy resin etc. are mentioned.
下地層（Ｂ）は、本発明の効果の点で好ましくは、ＳｉＯｘを含有するフィラーが有機ポリマー中又は有機バインダー中に分散した構造を有し、かつ前記フィラーの形状が球状、板状、隗状又は燐片状である。有機ポリマー又は有機バインダーとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタンレート樹脂及びエポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂等が挙げられる。 From the viewpoint of the effects of the present invention, the underlayer (B) preferably has a structure in which a filler containing SiO x is dispersed in an organic polymer or an organic binder, and the filler has a spherical shape, a plate shape, It is in the shape of a bowl or flake. Although it does not specifically limit as an organic polymer or an organic binder, For example, at least 1 sort (s) of resin selected from the group which consists of an acrylic resin, a urethane resin, an acrylic urethane rate resin, and an epoxy resin etc. are mentioned.
特に限定されないが、本発明の効果の点で好ましくは、ＳｉＯｘを含有するフィラーの短辺が２ｎｍ〜１０００ｎｍであり、かつ長辺が５〜５０００ｎｍである。本発明の効果の点でより好ましくは、ＳｉＯｘを含有するフィラーの短辺が２ｎｍ〜３００ｎｍであり、かつ長辺が５〜３００ｎｍである。この範囲にある場合、下地層の透過率を高くできる。 Is not particularly limited, preferably the viewpoint of the effect of the present invention, the short sides of the filler containing SiO x is 2 nm to 1000 nm, and long sides is 5 to 5000 nm. More preferably, the short side of the filler containing SiO x is 2 nm to 300 nm and the long side is 5 to 300 nm in view of the effect of the present invention. When it exists in this range, the transmittance | permeability of a base layer can be made high.
下地層（Ｂ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。下地層（Ｂ）が二層以上互いに隣接して配置されているのが好ましい。このような態様の例としては、例えば、ｘが異なる二以上のＳｉＯｘ層が隣接する積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）が挙げられる。 One layer of the underlayer (B) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers. It is preferable that two or more underlayers (B) are disposed adjacent to each other. Examples of such an embodiment include stacking in which two or more SiO x layers having different x are adjacent to each other.
下地層（Ｂ）の一層あたりの厚さとしては、特に限定されないが、例えば０．１〜１０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての下地層（Ｂ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。 Although it does not specifically limit as thickness per layer of a base layer (B), For example, 0.1-10 nm etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the underlying layers (B) adjacent to each other may be within the above range.
下地層（Ｂ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。 Although the refractive index of a base layer (B) is not specifically limited as long as the light transmissive conductive film of this invention can be used as a light transmissive conductive film for touch panels, For example, 1.4-1.5 are preferable.
下地層（Ｂ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法及びパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。 Examples of the method for disposing the base layer (B) include a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum evaporation method, and a pulse laser deposition method.
１．３ 光透過性導電層（Ｃ）
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層（Ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
1.3 Light transmissive conductive layer (C)
In the present invention, the light-transmitting conductive layer means a layer that conducts electricity and transmits visible light. Although it does not specifically limit as a light transmissive conductive layer (C), For example, what is normally used as a light transmissive conductive layer in the light transmissive conductive film for touch panels can be used.
光透過性導電層（Ｃ）は、金属酸化物を含有する。金属酸化物としては、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。金属酸化物としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものが好ましい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。 The light transmissive conductive layer (C) contains a metal oxide. The metal oxide is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. As the metal oxide, indium oxide doped with a dopant is preferable in terms of achieving both transparency and conductivity. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.
金属酸化物として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ ｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを金属酸化物として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as a metal oxide, indium oxide (III) (In 2 O 3 ) doped with tin oxide (IV) (SnO 2 ) (tin-doped indium oxide; ITO) is preferred. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, what added the other dopant to indium tin oxide in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left description may be used as a metal oxide. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.
光透過性導電層（Ｃ）は、上記の各種金属酸化物のうちいずれか単独を含有するものであってもよいし、複数種を含有するものであってもよい。 The light transmissive conductive layer (C) may contain any one of the various metal oxides described above, or may contain a plurality of types.
また、光透過性導電層（Ｃ）は、上記の各種金属酸化物のうちいずれか単独からなるものであってよいし、複数種からなるものであってよい。 Further, the light transmissive conductive layer (C) may be composed of any one of the various metal oxides described above, and may be composed of a plurality of types.
光透過性導電層（Ｃ）は、特に限定されないが、その全部又は一部が、前記金属酸化物の結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。 The light-transmitting conductive layer (C) is not particularly limited, but all or a part thereof may be a crystalline or amorphous body of the metal oxide, or a mixture thereof.
光透過性導電層（Ｃ）の厚さは、特に限定されないが、導電性及び／又は透明性の点で、好ましくは１０〜３００ｎｍであり、より好ましくは１０〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１５〜５０ｎｍである。 The thickness of the light transmissive conductive layer (C) is not particularly limited, but is preferably 10 to 300 nm, more preferably 10 to 100 nm, and still more preferably 15 to 50 nm in terms of conductivity and / or transparency. It is.
１．４ 裏面コート層（Ｄ）
裏面コート層（Ｄ）が、光透過性支持層（Ａ）の、前記光透過性導電層（Ｃ）が配置されていない面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されていてもよい。
1.4 Back coat layer (D)
The back coat layer (D) is disposed directly or via one or more other layers on the surface of the light transmissive support layer (A) where the light transmissive conductive layer (C) is not disposed. Also good.
裏面コート層（Ｄ）は、シリカ、アルミナ及びジルコニアのうち少なくとも一種の無機成分及び有機成分を含有する。 The back coat layer (D) contains at least one inorganic component and organic component of silica, alumina, and zirconia.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、裏面コート層（Ｄ）に含まれるシリカが、粒径５ｎｍ〜４００ｎｍの球状シリカであれば好ましい。裏面コート層（Ｄ）に含まれるシリカが、粒径５ｎｍ〜３００ｎｍの球状シリカであればより好ましい。なお、本発明において、球状シリカの粒系は動的光散乱式粒子径分布測定装置（堀場製作所製、ＳＺ−１００）又はその同等品で測定することができる。 Although it does not specifically limit, If the silica contained in a back surface coating layer (D) is a spherical silica with a particle size of 5 nm-400 nm from the point of the effect of this invention, it is preferable. More preferably, the silica contained in the back coat layer (D) is spherical silica having a particle size of 5 nm to 300 nm. In the present invention, the spherical silica particle system can be measured with a dynamic light scattering type particle size distribution measuring device (manufactured by Horiba, SZ-100) or an equivalent thereof.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、裏面コート層（Ｄ）に含まれるシリカが、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）であれば好ましい。 Is not particularly limited in terms of the effect of the present invention, silica contained in the back surface coating layer (D) is preferred if the SiO x (x = 0.1~2.0).
特に限定されないが、本発明の効果の点で、裏面コート層（Ｄ）のＳｉ／Ｃの元素比が、０．１〜１０であれば好ましく、０．２〜５であればより好ましい。 Although not particularly limited, in terms of the effects of the present invention, the Si / C element ratio of the back coat layer (D) is preferably 0.1 to 10, more preferably 0.2 to 5.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、裏面コート層（Ｄ）の有機成分が、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタンレート樹脂及びエポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の有機成分であれば好ましい。 Although not particularly limited, at least one organic component selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin, an acrylic urethane rate resin, and an epoxy resin is used as the organic component of the back coat layer (D) in terms of the effects of the present invention. Is preferable.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、裏面コート層（Ｄ）が、前記ＳｉＯｘを含有するフィラーが有機ポリマー中又は有機バインダー中に分散した構造を有し、かつ前記フィラーの形状が球状、板状、隗状又は燐片状であれば好ましい。 Although not particularly limited, in terms of the effects of the present invention, the back coat layer (D) has a structure in which the filler containing the SiO x is dispersed in an organic polymer or an organic binder, and the shape of the filler is Spherical, plate-like, bowl-like or flake-like shapes are preferred.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、ＳｉＯｘフィラーの短辺が２ｎｍ〜１０００ｎｍであり、かつ長辺が５ｎｍ〜５０００ｎｍであれば好ましい。ＳｉＯｘフィラーの短辺が２ｎｍ〜３００ｎｍであり、かつ長辺が５ｎｍ〜３００ｎｍであればより好ましい。左記において、短辺及び長辺の長さは以下のようにして測定する。原子分解能分析電子顕微鏡 （日本電子製、ＪＥＭ−ＡＲＭ３００Ｆ）若しくは走査型電子顕微鏡（日本電子製、ＪＣＭ−６０００）又はそれらの同等品で測定した５０個の粒子の平均値から求めることができる。 Although not particularly limited, it is preferable that the short side of the SiO x filler is 2 nm to 1000 nm and the long side is 5 nm to 5000 nm in terms of the effect of the present invention. More preferably, the short side of the SiO x filler is 2 nm to 300 nm and the long side is 5 nm to 300 nm. In the left column, the lengths of the short side and the long side are measured as follows. It can be determined from an average value of 50 particles measured with an atomic resolution analytical electron microscope (JEOL, JEM-ARM300F), a scanning electron microscope (JEOL, JCM-6000) or an equivalent thereof.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、裏面コート層（Ｄ）の厚さが、０．５μｍ〜５．０μｍであれば好ましく、０．５μｍ〜３．０μｍであればより好ましい。 Although not particularly limited, in view of the effects of the present invention, the thickness of the back coat layer (D) is preferably 0.5 μm to 5.0 μm, more preferably 0.5 μm to 3.0 μm.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、裏面コート層（Ｄ）が、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、メラミン樹脂及びシアネート樹脂からなる群より選択される少なくとも一種を含有する有機フィラーが有機ポリマー中又は有機バインダー中に分散した構造を有するものであれば好ましい。 Although not particularly limited, the back coat layer (D) contains at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a urethane acrylate resin, a melamine resin, and a cyanate resin in terms of the effects of the present invention. It is preferable if the organic filler to be formed has a structure dispersed in an organic polymer or an organic binder.
特に限定されないが、本発明の効果の点で、有機フィラーが、粒径０．５μｍ〜３．０μｍのアクリル樹脂であればより好ましい。 Although not particularly limited, it is more preferable that the organic filler is an acrylic resin having a particle size of 0.5 μm to 3.0 μm from the viewpoint of the effect of the present invention.
特に限定されないが、裏面コート層（Ｄ）の鉛筆硬度が、Ｈ以上であれば好ましい。この場合、光透過性導電層のパターンエッチング後のフィルムの変形を抑制できるという効果が得られる。左記において、鉛筆硬度は鉛筆引っかき硬度試験機（安田精機製作所製、No.553）又はその同等品を用いて計測する。 Although it does not specifically limit, It is preferable if the pencil hardness of a back surface coating layer (D) is H or more. In this case, the effect that the deformation | transformation of the film after the pattern etching of the transparent conductive layer can be suppressed is acquired. In the left column, the pencil hardness is measured using a pencil scratch hardness tester (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho, No.553) or its equivalent.
特に限定されないが、裏面コート層（Ｄ）の算術表面粗さＲａが、１ｎｍ〜３００ｎｍであれば好ましい。この場合、コート層表面での光散乱を抑制するという効果が得られる。左記において、算術表面粗さＲａは白色干渉計（菱化システム製、Ｖｅｒｔｓｃａｎ２．０）又はその同等品を用いて測定する。 Although it does not specifically limit, It is preferable if arithmetic surface roughness Ra of a back surface coating layer (D) is 1 nm-300 nm. In this case, the effect of suppressing light scattering on the surface of the coat layer can be obtained. In the left column, the arithmetic surface roughness Ra is measured by using a white interferometer (manufactured by Ryoka System, Vertscan 2.0) or an equivalent thereof.
１．５ ハードコート層（Ｅ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、ハードコート層（Ｅ）を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層（Ｃ）が、少なくともハードコート層（Ｅ）を介して光透過性支持層（Ａ）の面に配置されていてもよい。
1.5 Hard coat layer (E)
The light transmissive conductive film of the present invention further contains a hard coat layer (E), and at least one light transmissive conductive layer (C) is light transmissive through at least the hard coat layer (E). You may arrange | position to the surface of a support layer (A).
本発明の光透過性導電性フィルムが下地層（Ｂ）及びハードコート層（Ｅ）の両者を光透過性支持層（Ａ）の同じ面側に含む場合は、その下地層（Ｂ）が、少なくともそのハードコート層（Ｅ）を介して前記光透過性支持層（Ａ）の面に配置されている。この場合、下地層（Ｂ）は、好ましくはハードコート層（Ｅ）に隣接して配置されている。 When the light-transmitting conductive film of the present invention includes both the base layer (B) and the hard coat layer (E) on the same surface side of the light-transmitting support layer (A), the base layer (B) At least the hard coat layer (E) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A). In this case, the base layer (B) is preferably disposed adjacent to the hard coat layer (E).
ハードコート層（Ｅ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に隣接して配置されている。 The hard coat layer (E) is preferably disposed adjacent to at least one surface of the light transmissive support layer (A).
ハードコート層（Ｅ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。 One layer of the hard coat layer (E) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers.
ハードコート層（Ｅ）は、光透過性支持層（Ａ）の両面に配置されていてもよい。 The hard coat layer (E) may be disposed on both surfaces of the light transmissive support layer (A).
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。 In the present invention, the hard coat layer means a layer that prevents the plastic surface from being damaged. Although it does not specifically limit as a hard-coat layer (E), For example, what is normally used as a hard-coat layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used.
ハードコート層（Ｅ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ｅ）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層（Ｅ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層（Ｅ）としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。 The material for the hard coat layer (E) is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, urethane resins, melamine resins, and alkyd resins. Examples of the material of the hard coat layer (E) further include those obtained by dispersing colloidal particles such as silica, zirconia, titania and alumina in the resin. The hard coat layer (E) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. As the hard coat layer (E), an acrylic resin in which zirconia particles are dispersed is preferable.
ハードコート層（Ｅ）の一層あたりの厚さは、特に限定されないが、例えば０．１〜１０μｍ、１〜７μｍ、及び２〜６μｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのハードコート層（Ｅ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。 Although the thickness per one layer of a hard-coat layer (E) is not specifically limited, For example, 0.1-10 micrometers, 1-7 micrometers, 2-6 micrometers, etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the hard coat layers (E) adjacent to each other may be within the above range. In the example list shown on the left, the following are more preferable than the above.
ハードコート層（Ｅ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．７等が挙げられる。 The refractive index of the hard coat layer (E) is not particularly limited as long as the light-transmitting conductive film of the present invention can be used as a light-transmitting conductive film for a touch panel, and examples thereof include 1.4 to 1.7. It is done.
ハードコート層（Ｅ）は、下地層（Ｂ）よりも高い屈折率を有していてもよい。この場合、下地層（Ｂ）は好ましくはハードコート層（Ｅ）の一方の面に隣接して配置されている。このような構成を採ることにより、下地層（Ｂ）及びハードコート層（Ｅ）の光学干渉作用により光透過性導電性フィルムの透過率が向上するので好ましい。また、このような構成を採ることにより、パターン化された光透過性導電性層のパターン見えが軽減される。 The hard coat layer (E) may have a higher refractive index than the base layer (B). In this case, the underlayer (B) is preferably disposed adjacent to one surface of the hard coat layer (E). Adopting such a configuration is preferable because the transmittance of the light-transmitting conductive film is improved by the optical interference action of the base layer (B) and the hard coat layer (E). Further, by adopting such a configuration, the pattern appearance of the patterned light-transmitting conductive layer is reduced.
ハードコート層（Ｅ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。 The method of disposing the hard coat layer (E) is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying to a film and curing with heat, a method of curing with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and the like. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.
１．５ その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）に加えて裏面コート層（Ｄ）、ハードコート層（Ｅ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｆ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
1.5 Other layers The light-transmitting conductive film of the present invention has a base layer (B) and a light-transmitting conductive layer (C) on at least one surface of the light-transmitting support layer (A). In addition to this, at least one layer selected from the group consisting of the back coat layer (D), the hard coat layer (E) and at least one other layer (F) different from them may be further arranged. .
（Ａ）〜（Ｅ）のいずれとも異なるその他の層としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as another layer different from any of (A)-(E), For example, an adhesive layer etc. are mentioned.
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The adhesive layer is a layer that is disposed between two layers so as to be adjacent to each other and to adhere the two layers to each other. Although it does not specifically limit as a contact bonding layer, For example, what is normally used as a contact bonding layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used. The adhesive layer may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.
１．６ 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルの意匠の自由度が高い静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの場合はタッチペンが必要となるため平面では無いタッチパネルでは画面をなぞる際に指でなぞるより不利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、耐屈曲性が高いので、繰り返し折り曲げられたり、大きな曲率で曲げて光透過性導電性フィルムを使用しても低抵抗で駆動する静電容量型タッチパネルが得られる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
1.6 Use of light-transmitting conductive film of the present invention The light-transmitting conductive film of the present invention is preferably used for the production of a capacitive touch panel having a high degree of freedom in design of the touch panel. In the case of a resistive touch panel, a touch pen is required, and a non-planar touch panel is more disadvantageous than tracing with a finger when tracing the screen. Since the light-transmitting conductive film of the present invention has high bending resistance, a capacitive touch panel that is driven with low resistance even when it is repeatedly bent or bent with a large curvature to use a light-transmitting conductive film. can get. The details of the capacitive touch panel are as described in 2.
２． 本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
2. Capacitive touch panel of the electrostatic capacitance type touch panel <br/> invention of the present invention comprises a light transmissive, electrically-conductive film of the present invention, comprise other members according to necessity.
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel according to the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen.
(1) Protective layer (2) Light transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, for example, it can be produced by combining the above (1) to (5) and other members as required according to a usual method. it can.
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
実施例１
一方の面にハードコート層を有する透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ２５μｍ）を用意した。ポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート面に、酸素分圧６×１０−３Ｐａの不活性ガス雰囲気下でシリコンターゲットを用いてスパッタリングを行い付着量０．０５μｇ／ｃｍ２のＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）層を形成した。次いで、ＳｉＯｘ層のうえに、スパッタリングにより２５ｎｍの厚さのＩＴＯ膜を形成した。
次いで、ＩＴＯ膜が形成されていないポリエチレンテレフタレートフィルムの他方の面に厚さ２０μｍのアクリル粘着剤層を設け、透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さが１２５μｍ）をアクリル粘着剤層の上に貼りつけて、２枚のフィルムを粘着剤層で貼り合わせた。２枚のポリエチレンテレフタレートフィルムを１５０℃で６０分加熱した際の互いの熱収縮率差は、１．０５であった。
これにより、透明なフィルムを２枚重ねた基材フィルムを有する光透過性導電性積層フィルムを作製した。
Example 1
A transparent polyethylene terephthalate film (thickness 25 μm) having a hard coat layer on one side was prepared. The hard coat surface of a polyethylene terephthalate film, the oxygen partial pressure 6 × 10 -3 perform sputtering using a silicon target in an atmosphere of an inert gas Pa coating weight 0.05 [mu] g / cm 2 of SiO x (x = 0.1 ~ 2.0) layer was formed. Next, an ITO film having a thickness of 25 nm was formed on the SiO x layer by sputtering.
Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 20 μm is provided on the other surface of the polyethylene terephthalate film on which the ITO film is not formed, and a transparent polyethylene terephthalate film (thickness of 125 μm) is attached onto the acrylic pressure-sensitive adhesive layer. Two films were bonded together with an adhesive layer. The difference in heat shrinkage between the two polyethylene terephthalate films when heated at 150 ° C. for 60 minutes was 1.05.
Thus, a light-transmitting conductive laminated film having a base film in which two transparent films were stacked was produced.
実施例２
ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）の付着量を１．４９μｇ／ｃｍ２に変えたこと以外は、実施例１と同様にして光透過性導電性積層フィルムを作製した。
Example 2
A light-transmitting conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the adhesion amount of SiO x (x = 0.1 to 2.0) was changed to 1.49 μg / cm 2 .
比較例１
ポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート面にＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）層を形成せず、ハードコート面に直接ＩＴＯ膜を形成したこと以外は、実施例１と同様にして光透過性導電性積層フィルムを作製した。
Comparative Example 1
Light transmission is carried out in the same manner as in Example 1 except that the SiO x (x = 0.1 to 2.0) layer is not formed on the hard coat surface of the polyethylene terephthalate film, and the ITO film is directly formed on the hard coat surface. A conductive conductive laminated film was produced.
比較例２
ポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート面に形成したＳｉＯｘ層の付着量を６μｇ／ｃｍ２にしたこと以外は、実施例１と同様にして光透過性導電性積層フィルムを作製した。
Comparative Example 2
A light-transmitting conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the adhesion amount of the SiO x layer formed on the hard coat surface of the polyethylene terephthalate film was 6 μg / cm 2 .
<屈曲性試験>
図１のように、光透過性導電層が上向きとなるように、フィルムを直径５ｍｍのステンレス製の棒に巻きつけ、５００ｇの荷重で両端を鉛直下方に引っ張りフィルムを摺動させ、１往復ごとに四探針法で表面抵抗値を測定し、初期表面抵抗値で除したものを変化の値とする。
<Flexibility test>
As shown in FIG. 1, the film is wound around a stainless steel rod having a diameter of 5 mm so that the light-transmitting conductive layer faces upward, and the film is slid vertically by pulling both ends vertically under a load of 500 g. Then, the surface resistance value is measured by the four-probe method, and the value obtained by dividing by the initial surface resistance value is taken as the change value.
１０往復後、変化のないものを○、変化が１以上あったものを×と評価した。結果を表１に示す。また、耐屈曲性試験の試験回数と表面抵抗変化率との関係を図２に示した。 After 10 round trips, the case where there was no change was evaluated as ○, and the case where there was one or more changes was evaluated as ×. The results are shown in Table 1. FIG. 2 shows the relationship between the number of flex resistance tests and the surface resistance change rate.
＜透明性の評価＞
全光線透過率を測定した。８５％以上を○、８５％未満のものを×と評価した。結果を表１に示す。
<Evaluation of transparency>
The total light transmittance was measured. 85% or more was evaluated as ○, and less than 85% was evaluated as ×. The results are shown in Table 1.
実施例３
ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）層の代わりにＳｉＯｘ（ｘ＝１．８）層を設けた他は、実施例１と同様にして光透過性導電性積層フィルムを作製した。実施例３で得られた光透過性導電性積層フィルムは実施例１と同じく、屈曲性試験、透明性について○の評価が得られた。
Example 3
A light-transmitting conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that a SiO x (x = 1.8) layer was provided instead of the SiO x (x = 0.1 to 2.0) layer. . The light-transmitting conductive laminated film obtained in Example 3 was evaluated as ◯ for the flexibility test and transparency as in Example 1.
実施例４〜１３
ポリエチレンテレフタレートフィルムを含む光透過性支持層の一方の面に、下地層、ＳｉＯｘ層及びＩＴＯ層がこの順で配置されており、かつポリエチレンテレフタレートフィルムの反対側の面に裏面コート層として厚さ２μｍの無機物層が配置されている光透過性導電性積層フィルムを作製した。裏面コート層においては、有機ポリマー（ウレタンアクリレート樹脂）中にシリカフィラーが分散している。
Examples 4-13
A base layer, a SiO x layer, and an ITO layer are arranged in this order on one side of a light-transmitting support layer containing a polyethylene terephthalate film, and the back side coating layer has a thickness on the opposite side of the polyethylene terephthalate film. A light-transmitting conductive laminated film in which a 2 μm inorganic layer was disposed was produced. In the back coat layer, silica filler is dispersed in the organic polymer (urethane acrylate resin).
裏面コート層に含まれるシリカフィラーの形状及び裏面コート層における無機成分／有機成分の重量比をそれぞれ表２に示した。 The shape of the silica filler contained in the back coat layer and the weight ratio of the inorganic component / organic component in the back coat layer are shown in Table 2, respectively.
実施例４、６、８、１０、１２及び１３においては、２枚のポリエチレンテレフタレートフィルムを粘着剤層を介して貼り合わせた積層フィルムが用いられており、片側のポリエチレンテレフタレートフィルムの表面（積層フィルムの外面）に裏面コート層が配置されている。 In Examples 4, 6, 8, 10, 12, and 13, a laminated film in which two polyethylene terephthalate films were bonded together through an adhesive layer was used, and the surface of the polyethylene terephthalate film on one side (laminated film) The back surface coating layer is disposed on the outer surface of the material.
実施例１４〜２３及び比較例３
表３及び以下に示す条件を除き、他は実施例４と同様にして、光透過性導電性積層フィルムを作製した。
Examples 14 to 23 and Comparative Example 3
Except for the conditions shown in Table 3 and below, a light transmissive conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 4 except for the following.
実施例１４〜１７、１９、２１及び２３、並びに比較例３においては、２枚のポリエチレンテレフタレートフィルムを粘着剤層を介して貼り合わせた積層フィルムが用いられており、片側のポリエチレンテレフタレートフィルムの表面（積層フィルムの外面）に裏面コート層が配置されている。 In Examples 14-17, 19, 21, and 23 and Comparative Example 3, a laminated film in which two polyethylene terephthalate films were bonded together through an adhesive layer was used, and the surface of one side of the polyethylene terephthalate film A back coat layer is disposed on the outer surface of the laminated film.
実施例１６においては、光透過性支持層として用いる２枚のＰＥＴフィルムを１５０℃で６０分加熱した際の互いの熱収縮率差が１．３であるものを用いた。 In Example 16, the two PET films used as the light-transmitting support layer had a heat shrinkage difference of 1.3 when heated at 150 ° C. for 60 minutes.
実施例２１及び２２においては、裏面コート層の厚さをそれぞれ、０．３μｍ及び７μｍとした。 In Examples 21 and 22, the thickness of the back coat layer was 0.3 μm and 7 μm, respectively.
実施例４〜２３、及び比較例３について、表４に示す通り評価を行った。「−」は評価を行っていないことを表わす。 Examples 4 to 23 and Comparative Example 3 were evaluated as shown in Table 4. “-” Indicates that evaluation is not performed.
Claims (20)
（Ｂ）下地層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記下地層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも下地層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記下地層（Ｂ）が、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．１〜２．０）を含有し、かつ重量が０．０１〜５μｇ／ｃｍ２であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。 (A) a light transmissive support layer;
(B) an underlayer; and (C) a light-transmitting conductive layer,
The underlayer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the underlayer (B):
The light-transmitting conductive film, wherein the base layer (B) contains SiO x (x = 0.1 to 2.0) and has a weight of 0.01 to 5 μg / cm 2 .
（Ｃ）光透過性導電層；及び
（Ｄ）裏面コート層
を含有し、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性支持層（Ａ）の、前記光透過性導電層（Ｃ）が配置されていない面に、前記裏面コート層（Ｄ）が、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記裏面コート層（Ｄ）が、無機フィラーが有機ポリマー中又は有機バインダー中に分散した構造を有し、かつ前記フィラーが球状、板状、隗状又は燐片状の無機酸化物であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。 (A) a light transmissive support layer;
(C) a light transmissive conductive layer; and (D) a back coat layer,
The light transmissive conductive layer (C) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive support layer ( A) The light-transmitting conductive material in which the back coat layer (D) is disposed directly or via one or more other layers on the surface where the light-transmitting conductive layer (C) is not disposed. For film:
The back coat layer (D) has a structure in which an inorganic filler is dispersed in an organic polymer or an organic binder, and the filler is a spherical, plate-like, bowl-like or flake-like inorganic oxide. A light-transmitting conductive film characterized.
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