JP2015118074A - X線断層撮影装置およびx線断層撮影方法 - Google Patents
X線断層撮影装置およびx線断層撮影方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015118074A JP2015118074A JP2013263596A JP2013263596A JP2015118074A JP 2015118074 A JP2015118074 A JP 2015118074A JP 2013263596 A JP2013263596 A JP 2013263596A JP 2013263596 A JP2013263596 A JP 2013263596A JP 2015118074 A JP2015118074 A JP 2015118074A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- subject
- image
- detector
- projection images
- background
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G06T12/30—
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
- G01N23/046—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using tomography, e.g. computed tomography [CT]
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Pulmonology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【課題】従来のものよりも断層像に現れるアーチファクトを低減することが可能なX線断層撮影装置を提供する。
【解決手段】被検体を透過したX線より周期パターンを形成する回折格子と、X線を検出する検出器の検出結果に基づいて、被検体の情報を演算する演算手段と、被検体に複数の角度からX線を照射するように被検体を回転させ、被検体を検出器の視野から外れるように移動させる回転、移動機構と、を備え、回転、移動機構を作動させて、複数の被検体投影像を取得する過程で、被検体を撮影した後に、被検体を検出器の視野から外れるように移動させ、被検体のない状態で参照投影像を取得し、再び被検体のある状態の被検体投影像を取得し、演算手段により、被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、複数の参照投影像より算出し、複数の被検体投影像と背景像から、背景補正された被検体断層像を算出する。
【選択図】図2
【解決手段】被検体を透過したX線より周期パターンを形成する回折格子と、X線を検出する検出器の検出結果に基づいて、被検体の情報を演算する演算手段と、被検体に複数の角度からX線を照射するように被検体を回転させ、被検体を検出器の視野から外れるように移動させる回転、移動機構と、を備え、回転、移動機構を作動させて、複数の被検体投影像を取得する過程で、被検体を撮影した後に、被検体を検出器の視野から外れるように移動させ、被検体のない状態で参照投影像を取得し、再び被検体のある状態の被検体投影像を取得し、演算手段により、被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、複数の参照投影像より算出し、複数の被検体投影像と背景像から、背景補正された被検体断層像を算出する。
【選択図】図2
Description
本発明は、断層像の画質を向上させるためのX線断層撮影装置およびX線断層撮影方
法に関する。
法に関する。
近年、X線源、検出器、回折格子などからなるX線断層撮影装置により、被検体の吸
収情報や位相情報などを持った断層像を得られることが知られている(特許文献1)。
一方、X線断層撮影装置において、被検体を除いて撮影した参照像を用いて、被検体を撮影した被検体像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラなど(以後、背景と呼ぶ)の影響を補正することが一般的に行われている。
本明細書ではこれを背景補正と呼ぶ。背景補正は、参照像と被検体像で同一の背景を持つ場合には、正しく補正することができるが、参照像と被検体像が異なる背景を持つ場合には正しく補正できないことがある。
収情報や位相情報などを持った断層像を得られることが知られている(特許文献1)。
一方、X線断層撮影装置において、被検体を除いて撮影した参照像を用いて、被検体を撮影した被検体像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラなど(以後、背景と呼ぶ)の影響を補正することが一般的に行われている。
本明細書ではこれを背景補正と呼ぶ。背景補正は、参照像と被検体像で同一の背景を持つ場合には、正しく補正することができるが、参照像と被検体像が異なる背景を持つ場合には正しく補正できないことがある。
X線輝度分布や検出器の感度特性、回折格子の位置などが時間の経過とともに変化するため、背景が時間の経過とともに変化することがある。
このため、参照像を一度しか取得しない場合、複数の投影像を取得する必要がある断層撮影には時間がかかるため、背景補正された投影像や断層像に、補正が不十分であることに起因するアーチファクトが現れることがある。
ここで、本明細書では、被検体を含む状態で取得した投影像を被検体投影像、被検体のない状態で取得した投影像を参照投影像と呼ぶことにする。
従来において、非特許文献1では、背景が時間とともに変化することを考慮し、断層撮影の際に、被検体投影像を合計1,119枚取得するのに加えて、被検体投影像を100枚取得する毎に参照投影像を取得し、アーチファクトを低減する手法が開示されている。
このため、参照像を一度しか取得しない場合、複数の投影像を取得する必要がある断層撮影には時間がかかるため、背景補正された投影像や断層像に、補正が不十分であることに起因するアーチファクトが現れることがある。
ここで、本明細書では、被検体を含む状態で取得した投影像を被検体投影像、被検体のない状態で取得した投影像を参照投影像と呼ぶことにする。
従来において、非特許文献1では、背景が時間とともに変化することを考慮し、断層撮影の際に、被検体投影像を合計1,119枚取得するのに加えて、被検体投影像を100枚取得する毎に参照投影像を取得し、アーチファクトを低減する手法が開示されている。
European Radiology,23,381(2013)
背景補正が不十分であることに起因する断層像に現れるアーチファクトを低減することは、上記非特許文献1に記載のように参照投影像を断層撮影中に複数枚取得することである程度は可能であるが、必ずしも十分ではない場合がある。
また、投影像には統計ノイズが含まれるため、参照投影像のSN比が十分でない場合、背景補正をしても断層像にアーチファクトが現れることがある。
本発明は、上記課題に鑑み、従来のものよりも断層像に現れるアーチファクトを低減することが可能となるX線断層撮影装置およびX線断層撮影方法を提供することを目的とする。
また、投影像には統計ノイズが含まれるため、参照投影像のSN比が十分でない場合、背景補正をしても断層像にアーチファクトが現れることがある。
本発明は、上記課題に鑑み、従来のものよりも断層像に現れるアーチファクトを低減することが可能となるX線断層撮影装置およびX線断層撮影方法を提供することを目的とする。
本発明のX線断層撮影装置は、
X線源と、
前記X線源より射出され、被検体を透過したX線より周期パターンを形成する回折格子と、
前記回折格子を透過したX線を検出する検出器と、
前記検出器で検出された検出結果に基づいて、前記被検体の情報を演算する演算手段と、
前記被検体に複数の角度からX線を照射するように該被検体を回転させると共に、前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させることが可能に構成された回転、移動機構と、
を備え、前記回転、移動機構を作動させて、前記被検体に複数の角度からX線を照射して複数の被検体投影像を取得する過程において、
前記被検体を撮影した後に、前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させ、該被検体のない状態で参照投影像を取得し、再び前記被検体を前記検出器の視野に入るように移動させ該被検体のある状態の被検体投影像を取得し、
前記演算手段によって、前記被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、前記複数の参照投影像より算出し、
前記複数の被検体投影像と前記背景像から、前記背景補正された被検体断層像を算出することを特徴とする。
本発明のその他の側面に関しては、発明を実施するための形態で説明する。
X線源と、
前記X線源より射出され、被検体を透過したX線より周期パターンを形成する回折格子と、
前記回折格子を透過したX線を検出する検出器と、
前記検出器で検出された検出結果に基づいて、前記被検体の情報を演算する演算手段と、
前記被検体に複数の角度からX線を照射するように該被検体を回転させると共に、前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させることが可能に構成された回転、移動機構と、
を備え、前記回転、移動機構を作動させて、前記被検体に複数の角度からX線を照射して複数の被検体投影像を取得する過程において、
前記被検体を撮影した後に、前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させ、該被検体のない状態で参照投影像を取得し、再び前記被検体を前記検出器の視野に入るように移動させ該被検体のある状態の被検体投影像を取得し、
前記演算手段によって、前記被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、前記複数の参照投影像より算出し、
前記複数の被検体投影像と前記背景像から、前記背景補正された被検体断層像を算出することを特徴とする。
本発明のその他の側面に関しては、発明を実施するための形態で説明する。
本発明によれば、従来のものよりも断層像に現れるアーチファクトを低減することが可能となるX線断層撮影装置およびX線断層撮影方法を実現することができる。
本発明の実施形態では、Talbot−Lau干渉計を用いたX線断層撮像装置およびX線断層撮影方法の例について説明する。
Talbot干渉を用いたX線撮像装置については、Optics Express, 36,3551(2011)に記載があるので概略のみ記載する。
図1に本実施形態におけるX線断層撮像装置を模式的に示す。
本実施形態のX線断層撮像装置は、図1に示すように、X線源110と、X線源から射出されたX線を分割する2次元分割格子である線源格子120と、被検体130を回転軸に対して回転させる回転機構140及び並進移動させる移動機構190を備える。
また、X線源からのX線を回折する2次元回折格子である回折格子150と、X線の一部
を吸収する2次元吸収格子である吸収格子160と、吸収格子を透過したX線を検出する検出器170と、検出器の検出結果について演算を行う演算部180を備えている。尚、回折格子が形成する干渉パターンを検出器で直接検出できる場合、吸収格子を用いなくても良い。
Talbot干渉を用いたX線撮像装置については、Optics Express, 36,3551(2011)に記載があるので概略のみ記載する。
図1に本実施形態におけるX線断層撮像装置を模式的に示す。
本実施形態のX線断層撮像装置は、図1に示すように、X線源110と、X線源から射出されたX線を分割する2次元分割格子である線源格子120と、被検体130を回転軸に対して回転させる回転機構140及び並進移動させる移動機構190を備える。
また、X線源からのX線を回折する2次元回折格子である回折格子150と、X線の一部
を吸収する2次元吸収格子である吸収格子160と、吸収格子を透過したX線を検出する検出器170と、検出器の検出結果について演算を行う演算部180を備えている。尚、回折格子が形成する干渉パターンを検出器で直接検出できる場合、吸収格子を用いなくても良い。
以下に、上記した各構成について更に説明する。
X線源110からのX線は線源格子120によって分割される。線源格子120を透過したX線は被検体設置部に設置された被検体130に照射される。
回転機構140と移動機構190は、これらの機構の作動により回転軸に対して回転でき、複数の角度から被検体にX線を照射することを可能にする一方、被検体を検出器の視野から外れるように移動させ、該被検体のない状態にすることを可能にする。
回折格子150は、被検体130を透過したX線を回折する。
回折格子150はX線の位相を周期的に変化させ、位相基準部と位相シフト部が周期的に配列されている。
回折格子150が被検体130を透過したX線を回折すると、Talbot距離と呼ばれる所定の距離に干渉パターンを形成する。
尚、本実施形態では、周期パターンは必ずしも一定の周期をもたなくても良い。
X線源110からのX線は線源格子120によって分割される。線源格子120を透過したX線は被検体設置部に設置された被検体130に照射される。
回転機構140と移動機構190は、これらの機構の作動により回転軸に対して回転でき、複数の角度から被検体にX線を照射することを可能にする一方、被検体を検出器の視野から外れるように移動させ、該被検体のない状態にすることを可能にする。
回折格子150は、被検体130を透過したX線を回折する。
回折格子150はX線の位相を周期的に変化させ、位相基準部と位相シフト部が周期的に配列されている。
回折格子150が被検体130を透過したX線を回折すると、Talbot距離と呼ばれる所定の距離に干渉パターンを形成する。
尚、本実施形態では、周期パターンは必ずしも一定の周期をもたなくても良い。
吸収格子160は、吸収格子上に干渉パターンが形成されるように、回折格子150からTalbot距離離れた位置に配置される。吸収格子160はX線吸収部とX線透過部とが周期的に配列されている。
吸収部と透過部とが配列された周期は、吸収格子上に形成される干渉パターンの周期とわずかに異なるため、吸収格子160を透過したX線は、モアレパターンを形成する。
本実施形態では、回折格子150と吸収格子160により形成されたモアレパターンを検出し、このモアレパターンから被検体130の情報を算出する。
検出器170はX線の強度を検出する画素を有しており、吸収格子160を通過したX線で形成されたモアレパターンを検出する。
吸収部と透過部とが配列された周期は、吸収格子上に形成される干渉パターンの周期とわずかに異なるため、吸収格子160を透過したX線は、モアレパターンを形成する。
本実施形態では、回折格子150と吸収格子160により形成されたモアレパターンを検出し、このモアレパターンから被検体130の情報を算出する。
検出器170はX線の強度を検出する画素を有しており、吸収格子160を通過したX線で形成されたモアレパターンを検出する。
演算部180は検出器170による検出結果に基づいて、被検体130の吸収、位相、散乱情報を算出する。本明細書では被検体の情報の算出にフーリエ変換法(Journal of the Optical Society of America,72,156)を用いた。この際、被検体を撮影した検出結果(被検体投影像)と、複数の参照像とを用いて被検体130の吸収、位相、散乱情報を算出する。モアレパターンから算出されるこれらの情報を持った投影像を以下では吸収投影像、位相投影像、散乱投影像と呼ぶ。
また、演算部180は複数の投影像より断層像を再構成する。
以下では、吸収投影像、位相投影像、散乱投影像より再構成される各断層像を吸収断層像、位相断層像、散乱断層像と呼ぶ。なお、本明細書では画像再構成法としてFiltered Back Projection法を用いた。
また、演算部180は複数の投影像より断層像を再構成する。
以下では、吸収投影像、位相投影像、散乱投影像より再構成される各断層像を吸収断層像、位相断層像、散乱断層像と呼ぶ。なお、本明細書では画像再構成法としてFiltered Back Projection法を用いた。
次に、このX線断層撮影装置を用いた撮影の条件について説明する。本実施形態のX線断層撮影装置は、被検体を1つ以上投影角度で撮影した後に、被検体を検出器の視野から外し、被検体が検出器の視野から外れた状態で参照投影像を取得する。参照投影像を取得した後に、再度被検体を検出器の視野にいれ、参照投影像を取得する前の投影角度と異なる投影角度で被検体を撮影する。移動機構190によって被検体を検出器の視野に入れたり、外したりを行い、回転機構に140によって投影角度の変更を行う。被検体としてホルマリン固定されたマウスの腎臓を緩衝液で満たしたエッペンドルフチューブに入れたものを用いた場合を例に、本実施形態のX線断層撮影装置が行う撮影について具体的に説明をする。
被検体としたエッペンドルフチューブは水で満たしたプラスチック容器内に沈められてお
り、エッペンドルフチューブだけが回転されるようになっている。
被検体を回転軸まわりに0.5度回転させる度に撮影を行い、被検体投影像を合計360枚取得した。以下では各被検体投影像をS1、S2、・・・、S360と呼ぶ。また、被検体
を30度回転させる度に、被検体を検出器の視野から外して撮影し、参照投影像を合計7枚取得した。
以下では各参照投影像をR1、R2、・・・R7と呼ぶ。すなわち、R1〜R6の取得はそれ
ぞれS1、S61、S121、S181、S241、S301を撮影する直前に行われ、またR7はS360
の撮影の直後に取得した。
撮影フローを図2に示す。
被検体としたエッペンドルフチューブは水で満たしたプラスチック容器内に沈められてお
り、エッペンドルフチューブだけが回転されるようになっている。
被検体を回転軸まわりに0.5度回転させる度に撮影を行い、被検体投影像を合計360枚取得した。以下では各被検体投影像をS1、S2、・・・、S360と呼ぶ。また、被検体
を30度回転させる度に、被検体を検出器の視野から外して撮影し、参照投影像を合計7枚取得した。
以下では各参照投影像をR1、R2、・・・R7と呼ぶ。すなわち、R1〜R6の取得はそれ
ぞれS1、S61、S121、S181、S241、S301を撮影する直前に行われ、またR7はS360
の撮影の直後に取得した。
撮影フローを図2に示す。
以下の実施例で、種々の方法を用いて参照投影像より背景像を算出し、算出した背景像を用いた背景補正の効果を示す。以下では被検体像Sn(n=1、2、・・・360)の背景補正に用いる背景像をBn(n=1、2、・・・360)と呼ぶ。
なお、以下の実施例では、被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、複数の参照投影像より算出し、
該複数の被検体投影像と前記背景像から、該背景補正された被検体断層像を算出する例を中心に説明するが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。
例えば、被検体投影像の総数を参照投影像の総数の2倍とし、この複数の被検体像および複数の参照投影像より、背景補正された被検体断層像を算出するようにしてもよい。
また、アーチファクト低減の効果をみるための参考例として、被検体投影像を1枚取得する毎に参照投影像を取得し、取得した360枚の被検体投影像と360枚の参照投影像から被検体断層像を算出した。
図9(a)、図9(b)に、上記参考例での方法で背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を示す。
以下実施例では、この参考例におけるサイノグラムおよび断層像を参考にアーチファクトの低減度合いを比較する。
なお、サイノグラムとは投影像を投影角度毎に順に並べたものであり、横軸に検出器の位置をとり、縦軸に角度をとる。また、本明細書において位相断層像とは複素屈折率の実部の二次元分布をあらわす。
ここでは、Talbot−Lau干渉計を用いたX線断層撮像装置を例にしているが、本発明はこの実施形態に限定されない。
なお、以下の実施例では、被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、複数の参照投影像より算出し、
該複数の被検体投影像と前記背景像から、該背景補正された被検体断層像を算出する例を中心に説明するが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。
例えば、被検体投影像の総数を参照投影像の総数の2倍とし、この複数の被検体像および複数の参照投影像より、背景補正された被検体断層像を算出するようにしてもよい。
また、アーチファクト低減の効果をみるための参考例として、被検体投影像を1枚取得する毎に参照投影像を取得し、取得した360枚の被検体投影像と360枚の参照投影像から被検体断層像を算出した。
図9(a)、図9(b)に、上記参考例での方法で背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を示す。
以下実施例では、この参考例におけるサイノグラムおよび断層像を参考にアーチファクトの低減度合いを比較する。
なお、サイノグラムとは投影像を投影角度毎に順に並べたものであり、横軸に検出器の位置をとり、縦軸に角度をとる。また、本明細書において位相断層像とは複素屈折率の実部の二次元分布をあらわす。
ここでは、Talbot−Lau干渉計を用いたX線断層撮像装置を例にしているが、本発明はこの実施形態に限定されない。
以下に、本発明の実施例について説明する。
[実施例1]
実施例1では、被検体投影像Snの背景補正のために用いる背景像Bnを参照投影像Rmより、以下の[数1]に示すように算出した。
すなわち、背景像は全参照投影像の平均である。この背景像を用いて背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を図3(a)、図3(b)に示す。
また、比較のための従来法として背景補正に用いる背景像Bnを、以下の[数2]に示すように算出した。
上記従来法のこの背景像を用いて背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を図8(a)、図8(b)に示す。
従来法では1枚の参照投影像を背景像として用いているため、サイノグラムに縦のライン状ノイズが強く出ているのが、本手法では複数の参照投影像から背景像を算出しているため統計ノイズが減りサイノグラムのライン状ノイズが減少している。その結果、位相断層像においても円弧状のアーチファクトが従来法に比べて低減しており、上記参考例における図9(b)の位相断層像の画質に近づいている。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は従来法では1.24×10−9であるのに対して提案手法では0.83×10−9であった。
゜
[実施例1]
実施例1では、被検体投影像Snの背景補正のために用いる背景像Bnを参照投影像Rmより、以下の[数1]に示すように算出した。
また、比較のための従来法として背景補正に用いる背景像Bnを、以下の[数2]に示すように算出した。
従来法では1枚の参照投影像を背景像として用いているため、サイノグラムに縦のライン状ノイズが強く出ているのが、本手法では複数の参照投影像から背景像を算出しているため統計ノイズが減りサイノグラムのライン状ノイズが減少している。その結果、位相断層像においても円弧状のアーチファクトが従来法に比べて低減しており、上記参考例における図9(b)の位相断層像の画質に近づいている。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は従来法では1.24×10−9であるのに対して提案手法では0.83×10−9であった。
゜
[実施例2]
実施例2では、各被検体投影像Snの背景補正のために用いる各背景像Bnを各参照投影像より、以下の[数3]に示すように算出した。
cm(m=1,2、・・・、7)は重み付け係数であり、被検体投影像と各参照投影像との撮影時間間隔に応じて重み付けした平均として背景像を算出している。背景像の算出に全参照投影像を用いる点で実施例1と同様だが、被検体投影像の撮影から時間が経過している参照投影像ほど背景像への寄与を小さくしている。
時間の経過とともに背景が変化する場合は、本手法でその影響を低減できる。この背景像を用いて背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を図4(a)、(b)に示す。
従来法と比べてサイノグラムのライン状ノイズが低減した結果、断層像の円弧状アーチファクトが低減している。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は0.85×10−9であった。
実施例2では、各被検体投影像Snの背景補正のために用いる各背景像Bnを各参照投影像より、以下の[数3]に示すように算出した。
時間の経過とともに背景が変化する場合は、本手法でその影響を低減できる。この背景像を用いて背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を図4(a)、(b)に示す。
従来法と比べてサイノグラムのライン状ノイズが低減した結果、断層像の円弧状アーチファクトが低減している。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は0.85×10−9であった。
[実施例3]
実施例3では、各被検体投影像Snの背景補正のために用いる各背景像Bnを各参照投影像より、以下の[数4]に示すように算出した。
本実施例では、被検体投影像が撮影されてからの撮影時間間隔が短い2または3枚の参照投影像から背景像を算出する。背景が時間の経過とともに大きく変化する場合には、背景の変化の影響と統計ノイズとのバランスを考慮する必要があるため本手法が有効である。この背景像を用いて背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を図5(a)、(b)に示す。
従来法と比べてサイノグラムのライン状ノイズが低減した結果、断層像の円弧状アーチファクトが低減している。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は1.06×10−9であった。
実施例3では、各被検体投影像Snの背景補正のために用いる各背景像Bnを各参照投影像より、以下の[数4]に示すように算出した。
従来法と比べてサイノグラムのライン状ノイズが低減した結果、断層像の円弧状アーチファクトが低減している。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は1.06×10−9であった。
[実施例4]
実施例4では、各被検体投影像Snの背景補正のために用いる各背景像Bnを各参照投影像より、以下の[数5]に示すように算出した。
本実施例では、被検体投影像が撮影されてからの撮影時間間隔が短い2枚の参照投影像から背景像を算出する。
本手法では、重み付け係数の組み合わせが、各被検体投影像それぞれに対して固有である点である。サイノグラムのライン状ノイズの原因の一つとして、同一の参照投影像で連続する複数の被検体投影像の背景補正を行うことが挙げられる。
従って、各被検体投影像をそれぞれ固有の背景像で背景補正を行う本手法でこの影響が低減できる。この背景像を用いて背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を図6(a)、(b)に示す。
従来法と比べてサイノグラムのライン状ノイズが低減した結果、断層像の円弧状アーチファクトが低減している。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は1.07×10−9であった。
実施例4では、各被検体投影像Snの背景補正のために用いる各背景像Bnを各参照投影像より、以下の[数5]に示すように算出した。
本手法では、重み付け係数の組み合わせが、各被検体投影像それぞれに対して固有である点である。サイノグラムのライン状ノイズの原因の一つとして、同一の参照投影像で連続する複数の被検体投影像の背景補正を行うことが挙げられる。
従って、各被検体投影像をそれぞれ固有の背景像で背景補正を行う本手法でこの影響が低減できる。この背景像を用いて背景補正した被検体投影像より算出したサイノグラムと位相断層像を図6(a)、(b)に示す。
従来法と比べてサイノグラムのライン状ノイズが低減した結果、断層像の円弧状アーチファクトが低減している。
また、位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は1.07×10−9であった。
[実施例5]
実施例5では、複数の異なる方法で算出した被検体断層像同士を組み合わせて新たな被検体断層像を算出する例について説明する。
これにより参照領域の標準偏差が改善される。本実施例では、実施例3と実施例4で算出した2枚の位相断層像の平均を算出する。
図7に算出された位相断層像を示す。位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は1.05×10−9であった。
実施例5では、複数の異なる方法で算出した被検体断層像同士を組み合わせて新たな被検体断層像を算出する例について説明する。
これにより参照領域の標準偏差が改善される。本実施例では、実施例3と実施例4で算出した2枚の位相断層像の平均を算出する。
図7に算出された位相断層像を示す。位相断層像内に黒枠で示した参照領域の標準偏差は1.05×10−9であった。
110:X線源
120:線源格子
130:被検体
140:機構1
150:回折格子
160:吸収格子
170:検出器
180:演算部
190:機構2
120:線源格子
130:被検体
140:機構1
150:回折格子
160:吸収格子
170:検出器
180:演算部
190:機構2
Claims (12)
- X線源と、
前記X線源より射出され、被検体を透過したX線より周期パターンを形成する回折格子と、
前記回折格子を透過したX線を検出する検出器と、
前記検出器で検出された検出結果に基づいて、前記被検体の情報を演算する演算手段と、
前記被検体に複数の角度からX線を照射するように該被検体を回転させると共に、
前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させることが可能に構成された回転、移動機構と、
を備え、
前記回転、移動機構を作動させて、前記被検体に複数の角度からX線を照射して複数の被検体投影像を取得する過程において、
前記被検体を撮影した後に、前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させ、該被検体のない状態で参照投影像を取得し、再び前記被検体を前記検出器の視野に入るように移動させ該被検体のある状態の被検体投影像を取得し、
前記演算手段によって、前記被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、前記複数の参照投影像より算出し、
前記複数の被検体投影像と前記背景像から、前記背景補正された被検体断層像を算出することを特徴とするX線断層撮影装置。 - 前記演算手段は、前記複数の参照投影像を重み付けして前記背景像を算出することを特徴とする請求項1に記載のX線断層撮影装置。
- 前記複数の参照投影像における各参照投影像を、前記被検体投影像との撮影時間間隔に応じて重み付けして前記背景像を算出することを特徴とする請求項2に記載のX線断層撮影装置。
- 前記演算手段は、前記複数の被検体投影像における各被検体投影像のそれぞれに固有の背景像を、前記複数の参照投影像における各参照投影像より算出することを特徴とする請求項1または請求項3に記載のX線断層撮影装置。
- 前記演算手段は、複数の異なる方法で算出された被検体断層像より新たな被検体断層像を算出することを特徴とする請求項1、3、4のいずれか1項に記載のX線断層撮影装置。
- X線源と、
前記X線源より射出され、被検体を透過したX線より周期パターンを形成する回折格子と、
前記回折格子を透過したX線を検出する検出器と、
前記検出器で検出された検出結果に基づいて、前記被検体の情報を演算する演算手段と、
前記被検体に複数の角度からX線を照射するように該被検体を回転させると共に、
前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させることが可能に構成された回転、移動機構と、
を備え、
前記回転、移動機構を作動させて、前記被検体に複数の角度からX線を照射して複数の被検体投影像を取得する過程において、
前記被検体を撮影した後に、前記被検体を前記検出器の視野から外れるように移動させ
、該被検体のない状態で参照投影像を取得し、
前記取得される複数の被検体投影像の総数が、前記参照投影像の総数の2倍であり、
前記演算手段によって、前記複数の被検体像および前記複数の参照投影像より、背景補正された被検体断層像を算出することを特徴とするX線断層撮影装置。 - X線源より射出され、被検体を透過したX線により周期パターンを形成する回折格子を透過したX線の少なくとも一部を検出器により検出し、
前記検出器で検出された検出結果に基づいて、前記被検体の情報を演算し被検体断層像を取得するX線断層撮影方法であって、
前記被検体を複数の角度から撮影して複数の被検体投影像を取得する過程において、前記被検体を撮影した後に、前記被検体のない状態で参照投影像を取得し、再び前記被検体を前記検出器の視野に入るように移動させ該被検体のある状態の被検体投影像を取得し、
前記被検体投影像からX線源の照射ムラや検出器の感度ムラの影響を補正する背景補正のための背景像を、前記複数の参照投影像より算出し、
前記複数の被検体投影像と前記背景像より背景補正された被検体断層像を算出することを特徴とするX線断層撮影方法。 - 前記複数の参照投影像を重み付けして前記背景像を算出することを特徴とする請求項7に記載のX線断層撮影方法。
- 前記複数の参照投影像における各参照投影像を、前記被検体投影像との撮影時間間隔に応じて重み付けして前記背景像を算出することを特徴とする請求項8に記載のX線断層撮影方法。
- 前記複数の被検体投影像における各被検体投影像のそれぞれに固有の背景像を、前記複数の参照投影像における各参照投影像より算出することを特徴とする請求項7または請求項9に記載のX線断層撮影方法。
- 複数の異なる方法で算出された被検体断層像より新たな被検体断層像を算出することを特徴とする請求項7、9、10のいずれか1項に記載のX線断層撮影方法。
- X線源より射出され、被検体を透過したX線により周期パターンを形成する回折格子を透過したX線の少なくとも一部を検出器により検出し、
前記検出器で検出された検出結果に基づいて、前記被検体の情報を演算し被検体断層像を取得するX線断層撮影方法であって、
前記被検体を複数の角度から撮影して複数の被検体投影像を取得する過程において、前記被検体を撮影した後に、前記被検体のない状態で参照投影像を取得し、再び前記被検体を前記検出器の視野に入るように移動させ該被検体のある状態の被検体投影像を取得し、
前記被検体投影像の総数を前記参照投影像の総数の2倍とし、前記複数の被検体投影像と前記複数の参照投影像より、背景補正された被検体断層像を算出することを特徴とするX線断層撮影方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013263596A JP2015118074A (ja) | 2013-12-20 | 2013-12-20 | X線断層撮影装置およびx線断層撮影方法 |
| US14/571,962 US20150178960A1 (en) | 2013-12-20 | 2014-12-16 | X-ray tomography apparatus and x-ray tomography imaging method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013263596A JP2015118074A (ja) | 2013-12-20 | 2013-12-20 | X線断層撮影装置およびx線断層撮影方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015118074A true JP2015118074A (ja) | 2015-06-25 |
Family
ID=53400586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013263596A Pending JP2015118074A (ja) | 2013-12-20 | 2013-12-20 | X線断層撮影装置およびx線断層撮影方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20150178960A1 (ja) |
| JP (1) | JP2015118074A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016200582A (ja) * | 2015-04-07 | 2016-12-01 | ヌクテック カンパニー リミテッド | X線走査方法及び走査システム |
| JP2018105773A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | コニカミノルタ株式会社 | X線撮影システム |
| JP2019045471A (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-22 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| JP2019045394A (ja) * | 2017-09-05 | 2019-03-22 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| WO2019142451A1 (ja) * | 2018-01-19 | 2019-07-25 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| WO2019167324A1 (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-06 | 株式会社島津製作所 | X線位相差撮像システム |
| WO2020039660A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置 |
| JP2020176980A (ja) * | 2019-04-22 | 2020-10-29 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置およびx線位相コントラスト画像生成方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7949095B2 (en) * | 2009-03-02 | 2011-05-24 | University Of Rochester | Methods and apparatus for differential phase-contrast fan beam CT, cone-beam CT and hybrid cone-beam CT |
-
2013
- 2013-12-20 JP JP2013263596A patent/JP2015118074A/ja active Pending
-
2014
- 2014-12-16 US US14/571,962 patent/US20150178960A1/en not_active Abandoned
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016200582A (ja) * | 2015-04-07 | 2016-12-01 | ヌクテック カンパニー リミテッド | X線走査方法及び走査システム |
| JP2018105773A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | コニカミノルタ株式会社 | X線撮影システム |
| JP2019045471A (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-22 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| JP7110697B2 (ja) | 2017-09-01 | 2022-08-02 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| JP2019045394A (ja) * | 2017-09-05 | 2019-03-22 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| WO2019142451A1 (ja) * | 2018-01-19 | 2019-07-25 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| CN111566471B (zh) * | 2018-01-19 | 2023-06-16 | 株式会社岛津制作所 | X射线成像装置 |
| CN111566471A (zh) * | 2018-01-19 | 2020-08-21 | 株式会社岛津制作所 | X射线成像装置 |
| JPWO2019142451A1 (ja) * | 2018-01-19 | 2020-11-26 | 株式会社島津製作所 | X線イメージング装置 |
| WO2019167324A1 (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-06 | 株式会社島津製作所 | X線位相差撮像システム |
| JPWO2019167324A1 (ja) * | 2018-03-01 | 2021-02-04 | 株式会社島津製作所 | X線位相差撮像システム |
| JP6992902B2 (ja) | 2018-08-24 | 2022-01-13 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置 |
| JPWO2020039660A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2021-05-13 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置 |
| WO2020039660A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置 |
| JP2020176980A (ja) * | 2019-04-22 | 2020-10-29 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置およびx線位相コントラスト画像生成方法 |
| US11415529B2 (en) | 2019-04-22 | 2022-08-16 | Shimadzu Corporation | X-ray phase imaging apparatus and X-ray phase contrast image generation method |
| JP7200816B2 (ja) | 2019-04-22 | 2023-01-10 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置およびx線位相コントラスト画像生成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20150178960A1 (en) | 2015-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015118074A (ja) | X線断層撮影装置およびx線断層撮影方法 | |
| JP5815048B2 (ja) | X線ct装置 | |
| JP6066596B2 (ja) | X線撮像における散乱補正の方法及びシステム | |
| US8818065B2 (en) | Methods and apparatus for scatter correction for CBCT system and cone-beam image reconstruction | |
| JP6187298B2 (ja) | X線撮影システム及び画像処理方法 | |
| JP5343065B2 (ja) | 放射線撮影システム | |
| JP2017143943A (ja) | 放射線画像処理装置、方法およびプログラム | |
| US9375192B2 (en) | Reconstruction of a cone beam scanned object | |
| JP2012200567A (ja) | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 | |
| JP6556005B2 (ja) | 断層画像生成装置、方法およびプログラム | |
| JP6670398B2 (ja) | 暗視野又は位相コントラストx線撮像における特徴抑制 | |
| JP2009153829A (ja) | 画像処理装置、プログラムおよびx線ct装置 | |
| WO2006078085A1 (en) | Method for reconstructing a local high resolution x-ray ct image and apparatus for reconstructing a local high resolution x-ray ct image | |
| CN105326519B (zh) | X射线图像形成、散射成分计算以及重建的方法及装置 | |
| JP6185023B2 (ja) | 断層画像生成装置、方法およびプログラム | |
| JP2012115577A (ja) | 放射線撮影システム | |
| CN104144648A (zh) | 图像处理装置及方法 | |
| CN107533766B (zh) | 用于来自牙齿图像产生系统的图像数据的图像改进方法 | |
| JP2009106433A (ja) | 放射線撮像装置 | |
| WO2011058612A1 (ja) | 放射線撮影装置 | |
| US9105124B2 (en) | Methods and systems for reducing noise- related imaging artifacts | |
| JP6413685B2 (ja) | X線撮影システム | |
| JP5753502B2 (ja) | 画像処理装置および方法 | |
| KR101140342B1 (ko) | 디지털 단층합성 촬영 장치의 영상 재구성 방법 및 장치 | |
| JP6365746B2 (ja) | 画像処理装置、x線撮影システム及び画像処理方法 |