JP2015184399A - camera - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、エレクトロデポジション素子を備えるカメラに関する。 The present invention relates to a camera including an electrodeposition element.
一眼レフカメラでは、たとえば撮影レンズを通過した光を揺動ミラーで反射し、ファインダの観察面に結像させることで、撮影される像(被写体像)そのものを観察する。一眼レフカメラの利点は、撮影者が撮影される像そのものを観察することができるほか、焦点距離、被写体深度、画角等をファインダで確認可能な点にある。 In a single-lens reflex camera, for example, light that has passed through a photographic lens is reflected by a oscillating mirror and imaged on the observation surface of the finder, thereby observing the image (subject image) itself. The advantage of a single-lens reflex camera is that the photographer can observe the image itself, and that the focal length, subject depth, angle of view, etc. can be confirmed with a viewfinder.
図4A及び図4Bは、一眼レフカメラの構造を示す概略図である。 4A and 4B are schematic views showing the structure of a single-lens reflex camera.
図4Aに、シャッタ34が閉じられた状態を示す。シャッタ34が閉じられた状態においては、入射光(被写体光)は、撮影レンズ31を透過し、撮影レンズ31とシャッタ34の間の光路上に配置された揺動ミラー32で反射され、プリズム33に入射する。プリズム33には、ペンタプリズム、ペンタダハプリズム、ダハミラーなどが好適に用いられる。そしてプリズム33で二度または三度反射(偏向)されて、ファインダの観察面に結像され、撮影者40に観察される。揺動ミラー32で反射された光が入射する光学系をファインダ光学系(被写体像の観察光学系(視認光学系))という。ファインダ光学系を経由した光が、撮影者40の目に到達する。
FIG. 4A shows a state where the
図4Bに露光時の状態を示す。シャッタリリースボタンが操作されると、シャッタ34があらかじめ設定された露光時間、開放されるとともに、これに同期して揺動ミラー32が跳ね上げられ、レンズ31の透過光は、撮像面(結像面)に配置されたフィルム35に入射する。被写体像がフィルム35面に結像、露光され、露光後、シャッタ34は閉じられて、揺動ミラー32は初期位置に戻る(図4A参照)。
FIG. 4B shows a state at the time of exposure. When the shutter release button is operated, the
なお、デジタル一眼レフカメラの場合は、たとえば撮像面35に撮像素子(光電変換素子)が配置される。
In the case of a digital single-lens reflex camera, for example, an imaging element (photoelectric conversion element) is disposed on the
図4A及び図4Bに示す構造の一眼レフカメラにおいては、揺動ミラー32を動作させるためのスペースが必要であるため、小型化が困難である。また、揺動ミラー32の動作によって発生する振動で、撮影画像にぶれが生じる場合がある。更に、ミラー32は不快な動作音を発生させる。
In the single-lens reflex camera having the structure shown in FIGS. 4A and 4B, a space for operating the oscillating
一眼レフカメラにおいて、揺動ミラーに代え、液晶素子と偏光ビームスプリッタを用いる提案がなされている(特許文献1参照)。特許文献1に記載される発明においては、液晶素子は偏光を目的として使用される。揺動ミラーの代わりに、液晶素子と偏光ビームスプリッタを用いた場合、入射する光の光量の、少なくとも50%の損失が生じるという問題がある。 In a single-lens reflex camera, a proposal has been made to use a liquid crystal element and a polarization beam splitter in place of the oscillating mirror (see Patent Document 1). In the invention described in Patent Document 1, the liquid crystal element is used for the purpose of polarization. When a liquid crystal element and a polarizing beam splitter are used instead of the oscillating mirror, there is a problem that a loss of at least 50% of the amount of incident light occurs.
静電力を用いてシャッタ幕をスライドさせる静電シャッタ装置を備える一眼レフカメラの発明が開示されている(特許文献2参照)。特許文献2に記載される一眼レフカメラにおいては、発生する振動が少ない。しかし振動を完全になくすことはできない。 An invention of a single-lens reflex camera including an electrostatic shutter device that slides a shutter curtain using an electrostatic force is disclosed (see Patent Document 2). In the single-lens reflex camera described in Patent Document 2, there is little vibration generated. However, the vibration cannot be eliminated completely.
電圧の印加(通電)による電気化学的可逆反応(電解酸化還元反応)による物質の色変化現象を利用した非発光型素子として、エレクトロクロミック素子が知られている。 An electrochromic element is known as a non-light-emitting element utilizing a color change phenomenon of a substance caused by an electrochemical reversible reaction (electrolytic oxidation-reduction reaction) due to application of voltage (energization).
エレクトロクロミック材料(通電によって電気化学的な酸化または還元反応を起こし、発色または消色等の変色を生じる材料)のうち、酸化または還元反応によって、材料の一部が、たとえば電極上に析出・堆積(エレクトロデポジション)、または、電極上から消失するものを、エレクトロデポジション材料と呼ぶ。また、エレクトロデポジション材料を用いた素子をエレクトロデポジション素子と呼ぶ。 Among electrochromic materials (materials that cause an electrochemical oxidation or reduction reaction when energized and cause discoloration such as coloring or decoloring), a part of the material is deposited and deposited on, for example, electrodes by the oxidation or reduction reaction. (Electrodeposition) or what disappears from the electrode is called an electrodeposition material. An element using an electrodeposition material is called an electrodeposition element.
高品質の鏡面状態を有するエレクトロデポジション素子の発明が開示されている(特許文献3参照)。エレクトロデポジション素子は、たとえば銀の錯体を含む電解質層を備え、通電により電極上に銀を析出させることで鏡面状態を実現する。電解質層は、更に、たとえば銅を含む。エレクトロデポジション素子は、電圧無印加時には透明状態を実現する。 An invention of an electrodeposition element having a high-quality mirror surface state is disclosed (see Patent Document 3). The electrodeposition element includes an electrolyte layer containing, for example, a silver complex, and realizes a mirror state by depositing silver on the electrode by energization. The electrolyte layer further includes, for example, copper. The electrodeposition element realizes a transparent state when no voltage is applied.
本発明の目的は、小型化されたカメラを提供することである。 An object of the present invention is to provide a miniaturized camera.
また、撮像品質が向上されたカメラを提供することである。 Another object is to provide a camera with improved imaging quality.
更に、快適な操作が可能なカメラを提供することである。 Furthermore, it is to provide a camera capable of comfortable operation.
本発明の一観点によると、被写体光が入射するレンズと、前記レンズを透過した被写体光の光路上に配置され、透過及び反射の状態を制御可能なエレクトロデポジション素子であって、該エレクトロデポジション素子を透過した被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の一方に入射させ、該エレクトロデポジション素子で反射された被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の他方に入射させるエレクトロデポジション素子と、前記レンズと前記撮像面の間の、被写体光の光路上に配置されたシャッタと、前記エレクトロデポジション素子と前記シャッタの動作を制御する制御装置とを有するカメラが提供される。 According to one aspect of the present invention, a lens on which subject light is incident and an electrodeposition element that is disposed on an optical path of the subject light that has passed through the lens and that can control the state of transmission and reflection. An electrodeposition element that causes subject light transmitted through the position element to enter one of the imaging surface and the finder optical system, and causes subject light reflected by the electrodeposition element to enter the other of the imaging surface and the finder optical system; There is provided a camera having a shutter disposed on an optical path of subject light between the lens and the imaging surface, a control device for controlling the operation of the electrodeposition element and the shutter.
本発明によれば、小型化されたカメラを提供することができる。 According to the present invention, a miniaturized camera can be provided.
また、撮像品質が向上されたカメラを提供することができる。 In addition, a camera with improved imaging quality can be provided.
更に、快適な操作が可能なカメラを提供することができる。 Furthermore, a camera capable of comfortable operation can be provided.
図1は、実施例による一眼レフカメラの構造を示す概略図である。実施例による一眼レフカメラは、撮影レンズ31とシャッタ34の間の光路上に、揺動ミラーではなく、エレクトロデポジション素子36が配置される点で、図4A及び図4Bに示した例と相違する。また、たとえばシャッタ34とエレクトロデポジション素子36の動作を制御する制御装置37を備える。制御装置37は、たとえばシャッタ34の開閉に応じて、エレクトロデポジション素子36の動作を制御する。他の構成は、図4A及び図4Bに示した例と同様である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating the structure of a single-lens reflex camera according to an embodiment. The single-lens reflex camera according to the embodiment is different from the example shown in FIGS. 4A and 4B in that an
なお、たとえば撮像面35に撮像素子(光電変換素子)を配置して、デジタル一眼レフカメラとしてもよい。
Note that, for example, an image sensor (photoelectric conversion element) may be disposed on the
図2Aは、エレクトロデポジション素子36を示す概略的な断面図である。
FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing the
エレクトロデポジション素子36は、たとえば略平行に離間して対向配置された上側基板10a、下側基板10b、及び、両基板10a、10b間に配置された電解質層14を含んで構成される。
The
上側基板10a、下側基板10bは、それぞれ上側透明基板11a、下側透明基板11b、及び、各透明基板11a、11b上に形成された上側透明電極12a、下側透明電極12bを含む。透明電極12a、12bは、表面が平滑な電極である。上側透明基板11a及び下側透明基板11bは、たとえばガラス基板もしくはフィルム基板であり、上側透明電極12a及び下側透明電極12bは、たとえばITO等の透明導電材料で形成される。
The
電解質層14は、上側基板10aと下側基板10bの間の、シール部13の内側領域に配置され、銀を含有するエレクトロデポジション材料を含む。
The
図2Bは、上側透明電極12a及び下側透明電極12bを示す概略的な平面図である。上側透明電極12a、下側透明電極12bは、各々一方向に延在する複数の短冊状電極で構成される。各短冊状電極は、相互に電気的に独立している。両電極(短冊状電極)12a、12bの延在方向は相互に交差、たとえば直交する方向であり、電極12a、12bの各短冊状電極の電極幅は、一例として、すべて等しい。このため、平面視上(上側及び下側基板10a、10bの法線方向から見たとき)、電極12a、12bの各短冊状電極が重なる領域(画素)は正方形状である。本図には、画素に斜線を付して示した。画素は、シール部13の内側領域に、ドットマトリクス状に分布する。
FIG. 2B is a schematic plan view showing the upper
図2Cに、入射光の光軸方向(図1の左右方向)に沿って見たエレクトロデポジション素子36を示す。エレクトロデポジション素子36は、その法線方向(上側及び下側基板10a、10bの法線方向)と、入射光の光軸方向とが非平行となるように配置される。
FIG. 2C shows the
エレクトロデポジション素子36は、電圧無印加時、入射光を透過させる。
The
また、たとえば上側透明電極12aを負、下側透明電極12bを正として両電極12a、12b間に直流電圧を印加し、両電極12a、12b間の電解質層14に電流を流すと、通電した位置の電解質層14に含まれる銀イオンが還元されて、上側透明電極12a(負電圧側となる電極)近傍で金属の銀に変化し、電極12a上に析出・堆積して、銀薄膜が形成される。銀薄膜は鏡面として作用し、銀薄膜形成位置(ミラー状態となった画素)への入射光を正反射する。
Further, for example, when the upper
エレクトロデポジション素子36の各画素には独立に電圧を印加可能(各画素位置の電解質層14には独立に通電可能)である。したがって、エレクトロデポジション素子36は、画素単位で任意に、透明状態とミラー状態を電気的に切り替えることができる。このようにエレクトロデポジション素子36は、各短冊状電極12a、12bへの直流電圧の印加態様によって、各画素の透明状態とミラー状態を可換的に実現するミラーデバイスである。
A voltage can be independently applied to each pixel of the electrodeposition element 36 (the
更に、エレクトロデポジション素子36は、電極12a、12bに印加する電圧値や電圧印加時間(電解質層14に与える電流値や通電時間)を変えることによって、各画素の透過率及び反射率(透過及び反射の状態)を独立に制御することができる。したがって一例として、一部の画素を透明状態、他の一部の画素をハーフミラー状態、そして残部の画素をミラー状態とすること等が可能である。
Furthermore, the
なお銀薄膜は、電圧をOFF(0Vもしくは開放状態)とするか、逆バイアスを印加することにより、電極上から消失する。逆バイアスを印加する方が、速やかに銀を消失させてエレクトロデポジション素子36を透明状態とすることができる。
The silver thin film disappears from the electrode when the voltage is turned off (0 V or in an open state) or a reverse bias is applied. When the reverse bias is applied, silver can disappear more quickly and the
エレクトロデポジション素子36は、たとえば以下のように作製した。
The
透明導電膜が形成された、一対のガラス基板もしくはフィルム基板(透明基板11a、11b)を準備する。透明基板11a、11b上の透明導電膜には、たとえば平滑性のあるITO膜を用いる。透明導電膜は、スパッタ、蒸着等により成膜することができる。
A pair of glass substrates or film substrates (
透明基板11a、11b上の透明導電膜をパターニングして、各々一方向に延在する複数の短冊状電極(透明電極12a、12b)を形成した。
The transparent conductive film on the
次に、一対の透明基板11a、11bを、透明電極12a、12bが対向し、かつ、透明電極(短冊状電極)12a、12bの延在方向が、相互に直交するように配置してセル化を行った。
Next, a pair of
たとえば20μm〜数百μm径、実施例においては500μm径のギャップコントロール剤を、一対の基板11a、11bの一方上に、一例として1個〜3個/mm2となるように散布する。ギャップコントロール剤の径に応じ、カメラの透過像及び反射像に影響を与えにくい散布量とすることが望ましい。なお、実施例による一眼レフカメラに使用されるエレクトロデポジション素子36においては、多少ギャップムラがあっても像への影響は少ないため、ギャップコントロール剤の散布量の重要性は高くない。また実施例においては、ギャップコントロール剤を用いたギャップコントロールを行うが、リブなどの突起によってギャップコントロールを行うことも可能である。更に、小型セルの場合は、シール部分に所定厚さのフィルム状スペーサを配置してギャップを制御してもよい。
For example, a gap control agent having a diameter of 20 μm to several hundred μm, and in the embodiment, a diameter of 500 μm is spread on one of the pair of
一対の基板11a、11bの他方上に、メインシールパターンを形成した。実施例では、紫外線+熱硬化タイプのシール材を用いた。シール材として、光硬化タイプ、または熱硬化タイプを使用してもよい。なお、ギャップコントロール剤の散布とメインシールパターンの形成は同一基板側に行ってもよい。
A main seal pattern was formed on the other of the pair of
次に、エレクトロデポジション材料を含む電解液を一対の基板11a、11b間に封入した。
Next, an electrolytic solution containing an electrodeposition material was sealed between the pair of
実施例では、ODF工法を用いた。一対の基板11a、11bの一方上に、エレクトロデポジション材料を含む電解液を適量滴下する。滴下方法として、ディスペンサーやインクジェットを含む各種印刷方式が適用可能である。ここではディスペンサーを用いた。なお前述のシール材は、用いる電解液に耐えるシール材料(腐食されないシール材)であることが好ましい。
In the examples, the ODF method was used. An appropriate amount of an electrolytic solution containing an electrodeposition material is dropped on one of the pair of
真空中で、一対の基板11a、11bの重ね合わせを行った。大気中、もしくは窒素雰囲気中で行ってもよい。
In a vacuum, the pair of
紫外線を、たとえば21J/cm2のエネルギ密度でシール材に照射し、シール材を硬化して、シール部13を形成した。なお、紫外線がシール材のみに照射されるように、SUSマスクを使用した。 The sealing material was formed by irradiating the sealing material with, for example, ultraviolet rays with an energy density of 21 J / cm 2 to cure the sealing material. A SUS mask was used so that only the sealing material was irradiated with ultraviolet rays.
エレクトロデポジション材料を含む電解液は、エレクトロデポジション材料(AgNO3等)、電解質(TBABr; tetrabutylammonium bromide 等)、メディエータ(CuCl2等)、支持電解質(LiBr等)、溶媒(DMSO; dimethyl sulfoxide 等)、ゲル化用ポリマー(PVB; polyvinyl butyral 等)などにより構成される。実施例においては、電解質をTBABrとした。溶媒であるDMSO中に、エレクトロデポジション材料としてAgNO3を50mM添加し、支持電解質としてLiBrを250mM加え、メディエータとしてCuCl2を10mM添加した。そしてホストポリマーとしてPVBを10wt%加え、ゲル状(ゼリー状)の電解質層14とした。
The electrolytic solution containing the electrodeposition material includes an electrodeposition material (AgNO 3 etc.), an electrolyte (TBABr; tetrabutylammonium bromide etc.), a mediator (CuCl 2 etc.), a supporting electrolyte (LiBr etc.), a solvent (DMSO; dimethyl sulfoxide etc.) ), A gelling polymer (PVB; polyvinyl butyral etc.) and the like. In the examples, the electrolyte was TBABr. In DMSO as a solvent, 50 mM of AgNO 3 was added as an electrodeposition material, 250 mM of LiBr was added as a supporting electrolyte, and 10 mM of CuCl 2 was added as a mediator. Then, 10 wt% of PVB was added as a host polymer to form a gel (jelly-like)
エレクトロデポジション材料には、たとえば銀を含むAgNO3、AgClO4、AgBr等を使用することができる。 As the electrodeposition material, for example, AgNO 3 containing silver, AgClO 4 , AgBr, or the like can be used.
支持電解質は、エレクトロデポジション材料の酸化還元反応等を促進するものであれば限定されず、たとえばリチウム塩(LiCl、LiBr、LiI、LiBF4、LiClO4等)、カリウム塩(KCl、KBr、KI等)、ナトリウム塩(NaCl、NaBr、NaI等)を好適に用いることができる。支持電解質の濃度は、たとえば10mM以上1M以下であることが好ましいが、特に限定されるものではない。 The supporting electrolyte is not limited as long as it promotes the redox reaction or the like of the electrodeposition material. For example, lithium salt (LiCl, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiClO 4 etc.), potassium salt (KCl, KBr, KI) Etc.) and sodium salts (NaCl, NaBr, NaI, etc.) can be preferably used. The concentration of the supporting electrolyte is preferably 10 mM or more and 1 M or less, but is not particularly limited.
溶媒は、エレクトロデポジション材料等を安定的に保持することができるものであれば限定されない。水や炭酸プロピレン等の極性溶媒、極性のない有機溶媒、更にはイオン性液体、イオン導電性高分子、高分子電解質等を使用することが可能である。具体的には、DMSOの他、炭酸プロピレン、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ポリビニル硫酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸等を好適に用いることができる。 The solvent is not limited as long as it can stably hold the electrodeposition material and the like. Polar solvents such as water and propylene carbonate, non-polar organic solvents, ionic liquids, ionic conductive polymers, polymer electrolytes, and the like can be used. Specifically, in addition to DMSO, propylene carbonate, N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, polyvinyl sulfate, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, and the like can be suitably used.
図3A及び図3Bは、実施例による一眼レフカメラの動作の一例を示す概略図である。 3A and 3B are schematic diagrams illustrating an example of the operation of the single-lens reflex camera according to the embodiment.
図3Aに、シャッタ34が閉じられた状態を示す。シャッタ34が閉じられた状態においては、制御装置37は、たとえばエレクトロデポジション素子36の全画素がミラー状態となるように、電極12a、12bに直流電圧を印加(一例として2V〜3V程度)する。
FIG. 3A shows a state where the
入射光(被写体光)は、撮影レンズ31を透過し、全画素がミラー状態にあるエレクトロデポジション素子36で反射され、ファインダ光学系(プリズム33)に入射する。そしてファインダの観察面に結像され、撮影者40に観察される。
Incident light (subject light) passes through the
図3Bに露光時の状態を示す。シャッタリリースボタンが操作され、シャッタ34があらかじめ設定された露光時間、開放されると、制御装置37は、それと同期して、たとえば全画素が透明状態となるように、エレクトロデポジション素子36の動作を制御する。一例として、電極12a、12bに逆バイアスの直流電圧を印加し、電極上から銀を消失させる。
FIG. 3B shows a state at the time of exposure. When the shutter release button is operated and the
この状態においては、レンズ31の透過光は、エレクトロデポジション素子36を透過して、撮像面(結像面)に配置されたフィルム35に入射し、被写体像がフィルム35面に結像、露光される。露光後、制御装置37は、シャッタ34を閉じるとともに、エレクトロデポジション素子36の全画素がミラー状態となるように、電極12a、12bに直流電圧を印加する(図3A参照)。
In this state, the light transmitted through the
実施例による一眼レフカメラは、揺動ミラーを用いず、エレクトロデポジション素子36を使用して、電気的に被写体光の透過と反射を切り替える。切り替えは、たとえば制御装置37により、シャッタ34とエレクトロデポジション素子36の動作を同期させて行う。揺動ミラーを機械的に動作させるスペースが不要であるため、小型化が可能である。また、透過と反射の切り替え時に振動が発生しないため、これに起因する撮影画像のぶれ(画質の劣化)は生じず、撮像品質を向上させることができる。更に、ミラーの不快な動作音がなく、快適な操作が可能である。また、たとえば揺動ミラーの代わりに、液晶素子と偏光ビームスプリッタを用いた場合に比べ、被写体光の利用効率が高い。ダイナミックレンジも大きい。
The single-lens reflex camera according to the embodiment uses the
なお、実施例による一眼レフカメラにおいて、露光時に、たとえば全画素の透過率を等しく減じ、エレクトロデポジション素子36をハーフミラー状態としてもよい。画素の透過率は、制御装置37で、電極12a、12bに印加する電圧値や電圧印加時間(電解質層14に与える電流値や通電時間)を制御することにより、任意に変更可能である。実施例による一眼レフカメラは、全画素の透過率を一様に変更することでフィルム35への露光量を調整することができる。エレクトロデポジション素子36に、露光量(透過率)調整フィルタの機能をもたせることができるため、同様の機能を有するフィルタを別途付加することなく、撮像品質を向上させることが可能である。
In the single-lens reflex camera according to the embodiment, at the time of exposure, for example, the transmittance of all the pixels may be equally reduced, and the
更に、たとえば露光時に、画素の透過率を一様としないように、一例として、一部の画素の透過率が高く、残部の画素の透過率が低くなるように、エレクトロデポジション素子36の動作を制御してもよい。
Further, for example, the operation of the
たとえば、撮像面35に撮像素子(光電変換素子)を配置してデジタル一眼レフカメラとする場合、画像処理によって、被写体像の輝度が著しく高い座標を検出し、対応する位置の画素の透過率を低くする。このように、画素によって透過率を異ならせることにより、撮像面における光量を調節し、撮像品質を向上させることができる。
For example, when an imaging device (photoelectric conversion device) is arranged on the
以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。 As mentioned above, although this invention was demonstrated along the Example, this invention is not limited to these.
たとえば、実施例においては、エレクトロデポジション素子36を透過した被写体光を撮像面に入射させ、エレクトロデポジション素子36で反射された被写体光をファインダ光学系に入射させたが、エレクトロデポジション素子36を透過した被写体光をファインダ光学系に入射させ、エレクトロデポジション素子36で反射された被写体光を撮像面に入射させてもよい。
For example, in the embodiment, subject light transmitted through the
また、画素は、ドットマトリクス状以外の分布形状となるように形成してもよい。なお、ベタ電極を用い、1画素とした場合であっても、露光量(透過率)調整フィルタの機能を備える一眼レフカメラを構成することが可能である。 The pixels may be formed to have a distribution shape other than the dot matrix shape. Note that a single-lens reflex camera having a function of an exposure amount (transmittance) adjustment filter can be configured even when a solid electrode is used and one pixel is used.
更に、シャッタ34は、レンズ31と撮像面35の間の、被写体光の光路上に配置することができる。
Further, the
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。 It will be apparent to those skilled in the art that other various modifications, improvements, combinations, and the like are possible.
種々の一眼レフカメラに好適に利用することができる。 It can be suitably used for various single-lens reflex cameras.
10a 上側基板
10b 下側基板
11a 上側透明基板
11b 下側透明基板
12a 上側透明電極
12b 下側透明電極
13 シール部
14 電解質層
31 レンズ
32 揺動ミラー
33 プリズム
34 シャッタ
35 フィルム(撮像面)
36 エレクトロデポジション素子
37 制御装置
40 撮影者(観察面)
36
Claims (6)
前記レンズを透過した被写体光の光路上に配置され、透過及び反射の状態を制御可能なエレクトロデポジション素子であって、該エレクトロデポジション素子を透過した被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の一方に入射させ、該エレクトロデポジション素子で反射された被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の他方に入射させるエレクトロデポジション素子と、
前記レンズと前記撮像面の間の、被写体光の光路上に配置されたシャッタと、
前記エレクトロデポジション素子と前記シャッタの動作を制御する制御装置と
を有するカメラ。 A lens on which subject light is incident;
An electrodeposition element arranged on the optical path of subject light that has passed through the lens and capable of controlling the state of transmission and reflection, and the subject light that has passed through the electrodeposition element is transmitted to the imaging surface and the viewfinder optical system. An electrodeposition element that is incident on one side and that makes the subject light reflected by the electrodeposition element enter the other of the imaging surface and the viewfinder optical system;
A shutter disposed on the optical path of subject light between the lens and the imaging surface;
A camera comprising the electrodeposition element and a control device for controlling the operation of the shutter.
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Patent Citations (6)
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