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JP2015184399A - camera - Google Patents

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JP2015184399A
JP2015184399A JP2014059495A JP2014059495A JP2015184399A JP 2015184399 A JP2015184399 A JP 2015184399A JP 2014059495 A JP2014059495 A JP 2014059495A JP 2014059495 A JP2014059495 A JP 2014059495A JP 2015184399 A JP2015184399 A JP 2015184399A
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electrodeposition element
electrodeposition
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pixels
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重宏 柳澤
Shigehiro Yanagisawa
重宏 柳澤
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Stanley Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a downsized camera.SOLUTION: A camera is provided that comprises: a lens upon which subject light is incident; an electrodeposition element that is arranged on an optical path of the subject light passing through the lens, can control a state of transmission and reflection, makes the subject light transmitting the electrodeposition element incident upon one of an imaging plane and a finder optical system, and makes the subject light reflected by the electrodeposition element incident upon other of the imaging plane and the finder optical system; a shutter that is arranged on the optical path of the subject light; and a control device that controls the electrodeposition element and the shutter.

Description

本発明は、エレクトロデポジション素子を備えるカメラに関する。   The present invention relates to a camera including an electrodeposition element.

一眼レフカメラでは、たとえば撮影レンズを通過した光を揺動ミラーで反射し、ファインダの観察面に結像させることで、撮影される像(被写体像)そのものを観察する。一眼レフカメラの利点は、撮影者が撮影される像そのものを観察することができるほか、焦点距離、被写体深度、画角等をファインダで確認可能な点にある。   In a single-lens reflex camera, for example, light that has passed through a photographic lens is reflected by a oscillating mirror and imaged on the observation surface of the finder, thereby observing the image (subject image) itself. The advantage of a single-lens reflex camera is that the photographer can observe the image itself, and that the focal length, subject depth, angle of view, etc. can be confirmed with a viewfinder.

図4A及び図4Bは、一眼レフカメラの構造を示す概略図である。   4A and 4B are schematic views showing the structure of a single-lens reflex camera.

図4Aに、シャッタ34が閉じられた状態を示す。シャッタ34が閉じられた状態においては、入射光(被写体光)は、撮影レンズ31を透過し、撮影レンズ31とシャッタ34の間の光路上に配置された揺動ミラー32で反射され、プリズム33に入射する。プリズム33には、ペンタプリズム、ペンタダハプリズム、ダハミラーなどが好適に用いられる。そしてプリズム33で二度または三度反射(偏向)されて、ファインダの観察面に結像され、撮影者40に観察される。揺動ミラー32で反射された光が入射する光学系をファインダ光学系(被写体像の観察光学系(視認光学系))という。ファインダ光学系を経由した光が、撮影者40の目に到達する。   FIG. 4A shows a state where the shutter 34 is closed. In a state where the shutter 34 is closed, incident light (subject light) is transmitted through the photographic lens 31, reflected by the oscillating mirror 32 disposed on the optical path between the photographic lens 31 and the shutter 34, and the prism 33. Is incident on. As the prism 33, a pentaprism, a penta roof prism, a roof mirror, or the like is preferably used. Then, the light is reflected (deflected) twice or three times by the prism 33, is imaged on the observation surface of the finder, and is observed by the photographer 40. The optical system on which the light reflected by the oscillating mirror 32 enters is referred to as a viewfinder optical system (subject image observation optical system (viewing optical system)). Light passing through the finder optical system reaches the eyes of the photographer 40.

図4Bに露光時の状態を示す。シャッタリリースボタンが操作されると、シャッタ34があらかじめ設定された露光時間、開放されるとともに、これに同期して揺動ミラー32が跳ね上げられ、レンズ31の透過光は、撮像面(結像面)に配置されたフィルム35に入射する。被写体像がフィルム35面に結像、露光され、露光後、シャッタ34は閉じられて、揺動ミラー32は初期位置に戻る(図4A参照)。   FIG. 4B shows a state at the time of exposure. When the shutter release button is operated, the shutter 34 is opened for a preset exposure time, and the oscillating mirror 32 is flipped up in synchronization with this, and the transmitted light of the lens 31 is reflected on the imaging surface (image formation). Is incident on the film 35 arranged on the surface). A subject image is formed on the surface of the film 35 and exposed. After exposure, the shutter 34 is closed and the swing mirror 32 returns to the initial position (see FIG. 4A).

なお、デジタル一眼レフカメラの場合は、たとえば撮像面35に撮像素子(光電変換素子)が配置される。   In the case of a digital single-lens reflex camera, for example, an imaging element (photoelectric conversion element) is disposed on the imaging surface 35.

図4A及び図4Bに示す構造の一眼レフカメラにおいては、揺動ミラー32を動作させるためのスペースが必要であるため、小型化が困難である。また、揺動ミラー32の動作によって発生する振動で、撮影画像にぶれが生じる場合がある。更に、ミラー32は不快な動作音を発生させる。   In the single-lens reflex camera having the structure shown in FIGS. 4A and 4B, a space for operating the oscillating mirror 32 is required, and thus it is difficult to reduce the size. In addition, vibrations generated by the operation of the oscillating mirror 32 may cause blur in the captured image. Furthermore, the mirror 32 generates an unpleasant operation sound.

一眼レフカメラにおいて、揺動ミラーに代え、液晶素子と偏光ビームスプリッタを用いる提案がなされている(特許文献1参照)。特許文献1に記載される発明においては、液晶素子は偏光を目的として使用される。揺動ミラーの代わりに、液晶素子と偏光ビームスプリッタを用いた場合、入射する光の光量の、少なくとも50%の損失が生じるという問題がある。   In a single-lens reflex camera, a proposal has been made to use a liquid crystal element and a polarization beam splitter in place of the oscillating mirror (see Patent Document 1). In the invention described in Patent Document 1, the liquid crystal element is used for the purpose of polarization. When a liquid crystal element and a polarizing beam splitter are used instead of the oscillating mirror, there is a problem that a loss of at least 50% of the amount of incident light occurs.

静電力を用いてシャッタ幕をスライドさせる静電シャッタ装置を備える一眼レフカメラの発明が開示されている(特許文献2参照)。特許文献2に記載される一眼レフカメラにおいては、発生する振動が少ない。しかし振動を完全になくすことはできない。   An invention of a single-lens reflex camera including an electrostatic shutter device that slides a shutter curtain using an electrostatic force is disclosed (see Patent Document 2). In the single-lens reflex camera described in Patent Document 2, there is little vibration generated. However, the vibration cannot be eliminated completely.

電圧の印加(通電)による電気化学的可逆反応(電解酸化還元反応)による物質の色変化現象を利用した非発光型素子として、エレクトロクロミック素子が知られている。   An electrochromic element is known as a non-light-emitting element utilizing a color change phenomenon of a substance caused by an electrochemical reversible reaction (electrolytic oxidation-reduction reaction) due to application of voltage (energization).

エレクトロクロミック材料(通電によって電気化学的な酸化または還元反応を起こし、発色または消色等の変色を生じる材料)のうち、酸化または還元反応によって、材料の一部が、たとえば電極上に析出・堆積(エレクトロデポジション)、または、電極上から消失するものを、エレクトロデポジション材料と呼ぶ。また、エレクトロデポジション材料を用いた素子をエレクトロデポジション素子と呼ぶ。   Among electrochromic materials (materials that cause an electrochemical oxidation or reduction reaction when energized and cause discoloration such as coloring or decoloring), a part of the material is deposited and deposited on, for example, electrodes by the oxidation or reduction reaction. (Electrodeposition) or what disappears from the electrode is called an electrodeposition material. An element using an electrodeposition material is called an electrodeposition element.

高品質の鏡面状態を有するエレクトロデポジション素子の発明が開示されている(特許文献3参照)。エレクトロデポジション素子は、たとえば銀の錯体を含む電解質層を備え、通電により電極上に銀を析出させることで鏡面状態を実現する。電解質層は、更に、たとえば銅を含む。エレクトロデポジション素子は、電圧無印加時には透明状態を実現する。   An invention of an electrodeposition element having a high-quality mirror surface state is disclosed (see Patent Document 3). The electrodeposition element includes an electrolyte layer containing, for example, a silver complex, and realizes a mirror state by depositing silver on the electrode by energization. The electrolyte layer further includes, for example, copper. The electrodeposition element realizes a transparent state when no voltage is applied.

特開平7−5565号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-5565 特開2005−331828号公報JP-A-2005-331828 特開2012−181389号公報JP 2012-181389 A

本発明の目的は、小型化されたカメラを提供することである。   An object of the present invention is to provide a miniaturized camera.

また、撮像品質が向上されたカメラを提供することである。   Another object is to provide a camera with improved imaging quality.

更に、快適な操作が可能なカメラを提供することである。   Furthermore, it is to provide a camera capable of comfortable operation.

本発明の一観点によると、被写体光が入射するレンズと、前記レンズを透過した被写体光の光路上に配置され、透過及び反射の状態を制御可能なエレクトロデポジション素子であって、該エレクトロデポジション素子を透過した被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の一方に入射させ、該エレクトロデポジション素子で反射された被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の他方に入射させるエレクトロデポジション素子と、前記レンズと前記撮像面の間の、被写体光の光路上に配置されたシャッタと、前記エレクトロデポジション素子と前記シャッタの動作を制御する制御装置とを有するカメラが提供される。   According to one aspect of the present invention, a lens on which subject light is incident and an electrodeposition element that is disposed on an optical path of the subject light that has passed through the lens and that can control the state of transmission and reflection. An electrodeposition element that causes subject light transmitted through the position element to enter one of the imaging surface and the finder optical system, and causes subject light reflected by the electrodeposition element to enter the other of the imaging surface and the finder optical system; There is provided a camera having a shutter disposed on an optical path of subject light between the lens and the imaging surface, a control device for controlling the operation of the electrodeposition element and the shutter.

本発明によれば、小型化されたカメラを提供することができる。   According to the present invention, a miniaturized camera can be provided.

また、撮像品質が向上されたカメラを提供することができる。   In addition, a camera with improved imaging quality can be provided.

更に、快適な操作が可能なカメラを提供することができる。   Furthermore, a camera capable of comfortable operation can be provided.

図1は、実施例による一眼レフカメラの構造を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating the structure of a single-lens reflex camera according to an embodiment. 図2Aは、エレクトロデポジション素子36を示す概略的な断面図であり、図2Bは、上側透明電極12a及び下側透明電極12bを示す概略的な平面図であり、図2Cは、入射光の光軸方向に沿って見たエレクトロデポジション素子36を示す概略図である。FIG. 2A is a schematic sectional view showing the electrodeposition element 36, FIG. 2B is a schematic plan view showing the upper transparent electrode 12a and the lower transparent electrode 12b, and FIG. It is the schematic which shows the electrodeposition element 36 seen along the optical axis direction. 図3A及び図3Bは、実施例による一眼レフカメラの動作の一例を示す概略図である。3A and 3B are schematic diagrams illustrating an example of the operation of the single-lens reflex camera according to the embodiment. 図4A及び図4Bは、一眼レフカメラの構造を示す概略図である。4A and 4B are schematic views showing the structure of a single-lens reflex camera.

図1は、実施例による一眼レフカメラの構造を示す概略図である。実施例による一眼レフカメラは、撮影レンズ31とシャッタ34の間の光路上に、揺動ミラーではなく、エレクトロデポジション素子36が配置される点で、図4A及び図4Bに示した例と相違する。また、たとえばシャッタ34とエレクトロデポジション素子36の動作を制御する制御装置37を備える。制御装置37は、たとえばシャッタ34の開閉に応じて、エレクトロデポジション素子36の動作を制御する。他の構成は、図4A及び図4Bに示した例と同様である。   FIG. 1 is a schematic diagram illustrating the structure of a single-lens reflex camera according to an embodiment. The single-lens reflex camera according to the embodiment is different from the example shown in FIGS. 4A and 4B in that an electrodeposition element 36 is arranged on the optical path between the photographing lens 31 and the shutter 34 instead of the oscillating mirror. To do. Further, for example, a control device 37 for controlling the operation of the shutter 34 and the electrodeposition element 36 is provided. The control device 37 controls the operation of the electrodeposition element 36 according to the opening / closing of the shutter 34, for example. Other configurations are similar to the example shown in FIGS. 4A and 4B.

なお、たとえば撮像面35に撮像素子(光電変換素子)を配置して、デジタル一眼レフカメラとしてもよい。   Note that, for example, an image sensor (photoelectric conversion element) may be disposed on the imaging surface 35 to form a digital single lens reflex camera.

図2Aは、エレクトロデポジション素子36を示す概略的な断面図である。   FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing the electrodeposition element 36.

エレクトロデポジション素子36は、たとえば略平行に離間して対向配置された上側基板10a、下側基板10b、及び、両基板10a、10b間に配置された電解質層14を含んで構成される。   The electrodeposition element 36 includes, for example, an upper substrate 10a, a lower substrate 10b, and an electrolyte layer 14 disposed between the substrates 10a and 10b.

上側基板10a、下側基板10bは、それぞれ上側透明基板11a、下側透明基板11b、及び、各透明基板11a、11b上に形成された上側透明電極12a、下側透明電極12bを含む。透明電極12a、12bは、表面が平滑な電極である。上側透明基板11a及び下側透明基板11bは、たとえばガラス基板もしくはフィルム基板であり、上側透明電極12a及び下側透明電極12bは、たとえばITO等の透明導電材料で形成される。   The upper substrate 10a and the lower substrate 10b include an upper transparent substrate 11a, a lower transparent substrate 11b, and an upper transparent electrode 12a and a lower transparent electrode 12b formed on the transparent substrates 11a and 11b, respectively. The transparent electrodes 12a and 12b are electrodes having a smooth surface. The upper transparent substrate 11a and the lower transparent substrate 11b are, for example, glass substrates or film substrates, and the upper transparent electrode 12a and the lower transparent electrode 12b are formed of a transparent conductive material such as ITO.

電解質層14は、上側基板10aと下側基板10bの間の、シール部13の内側領域に配置され、銀を含有するエレクトロデポジション材料を含む。   The electrolyte layer 14 is disposed in an inner region of the seal portion 13 between the upper substrate 10a and the lower substrate 10b, and includes an electrodeposition material containing silver.

図2Bは、上側透明電極12a及び下側透明電極12bを示す概略的な平面図である。上側透明電極12a、下側透明電極12bは、各々一方向に延在する複数の短冊状電極で構成される。各短冊状電極は、相互に電気的に独立している。両電極(短冊状電極)12a、12bの延在方向は相互に交差、たとえば直交する方向であり、電極12a、12bの各短冊状電極の電極幅は、一例として、すべて等しい。このため、平面視上(上側及び下側基板10a、10bの法線方向から見たとき)、電極12a、12bの各短冊状電極が重なる領域(画素)は正方形状である。本図には、画素に斜線を付して示した。画素は、シール部13の内側領域に、ドットマトリクス状に分布する。   FIG. 2B is a schematic plan view showing the upper transparent electrode 12a and the lower transparent electrode 12b. The upper transparent electrode 12a and the lower transparent electrode 12b are each composed of a plurality of strip-shaped electrodes extending in one direction. Each strip-shaped electrode is electrically independent from each other. The extending directions of the two electrodes (strip-shaped electrodes) 12a and 12b intersect each other, for example, are orthogonal to each other, and the electrode widths of the strip-shaped electrodes of the electrodes 12a and 12b are all equal as an example. For this reason, in plan view (when viewed from the normal direction of the upper and lower substrates 10a and 10b), the region (pixel) where the strip electrodes of the electrodes 12a and 12b overlap is a square shape. In this figure, the pixels are indicated by hatching. The pixels are distributed in a dot matrix in the inner area of the seal portion 13.

図2Cに、入射光の光軸方向(図1の左右方向)に沿って見たエレクトロデポジション素子36を示す。エレクトロデポジション素子36は、その法線方向(上側及び下側基板10a、10bの法線方向)と、入射光の光軸方向とが非平行となるように配置される。   FIG. 2C shows the electrodeposition element 36 viewed along the optical axis direction of incident light (left-right direction in FIG. 1). The electrodeposition element 36 is arranged such that the normal direction thereof (the normal direction of the upper and lower substrates 10a and 10b) and the optical axis direction of incident light are not parallel.

エレクトロデポジション素子36は、電圧無印加時、入射光を透過させる。   The electrodeposition element 36 transmits incident light when no voltage is applied.

また、たとえば上側透明電極12aを負、下側透明電極12bを正として両電極12a、12b間に直流電圧を印加し、両電極12a、12b間の電解質層14に電流を流すと、通電した位置の電解質層14に含まれる銀イオンが還元されて、上側透明電極12a(負電圧側となる電極)近傍で金属の銀に変化し、電極12a上に析出・堆積して、銀薄膜が形成される。銀薄膜は鏡面として作用し、銀薄膜形成位置(ミラー状態となった画素)への入射光を正反射する。   Further, for example, when the upper transparent electrode 12a is negative and the lower transparent electrode 12b is positive, a direct current voltage is applied between the electrodes 12a and 12b, and a current is passed through the electrolyte layer 14 between the electrodes 12a and 12b, the energized position The silver ions contained in the electrolyte layer 14 are reduced and converted to metallic silver in the vicinity of the upper transparent electrode 12a (electrode on the negative voltage side), and deposited and deposited on the electrode 12a to form a silver thin film. The The silver thin film acts as a mirror surface, and regularly reflects the incident light on the silver thin film formation position (pixel in the mirror state).

エレクトロデポジション素子36の各画素には独立に電圧を印加可能(各画素位置の電解質層14には独立に通電可能)である。したがって、エレクトロデポジション素子36は、画素単位で任意に、透明状態とミラー状態を電気的に切り替えることができる。このようにエレクトロデポジション素子36は、各短冊状電極12a、12bへの直流電圧の印加態様によって、各画素の透明状態とミラー状態を可換的に実現するミラーデバイスである。   A voltage can be independently applied to each pixel of the electrodeposition element 36 (the electrolyte layer 14 at each pixel position can be independently energized). Therefore, the electrodeposition element 36 can electrically switch between the transparent state and the mirror state arbitrarily in units of pixels. Thus, the electrodeposition element 36 is a mirror device that realizes a transparent state and a mirror state of each pixel in a commutative manner by applying a DC voltage to each of the strip electrodes 12a and 12b.

更に、エレクトロデポジション素子36は、電極12a、12bに印加する電圧値や電圧印加時間(電解質層14に与える電流値や通電時間)を変えることによって、各画素の透過率及び反射率(透過及び反射の状態)を独立に制御することができる。したがって一例として、一部の画素を透明状態、他の一部の画素をハーフミラー状態、そして残部の画素をミラー状態とすること等が可能である。   Furthermore, the electrodeposition element 36 changes the transmittance and reflectance (transmission and reflectance) of each pixel by changing the voltage value applied to the electrodes 12a and 12b and the voltage application time (the current value applied to the electrolyte layer 14 and the energization time). The state of reflection) can be controlled independently. Therefore, as an example, some pixels can be in a transparent state, some other pixels can be in a half mirror state, and the remaining pixels can be in a mirror state.

なお銀薄膜は、電圧をOFF(0Vもしくは開放状態)とするか、逆バイアスを印加することにより、電極上から消失する。逆バイアスを印加する方が、速やかに銀を消失させてエレクトロデポジション素子36を透明状態とすることができる。   The silver thin film disappears from the electrode when the voltage is turned off (0 V or in an open state) or a reverse bias is applied. When the reverse bias is applied, silver can disappear more quickly and the electrodeposition element 36 can be made transparent.

エレクトロデポジション素子36は、たとえば以下のように作製した。   The electrodeposition element 36 was produced as follows, for example.

透明導電膜が形成された、一対のガラス基板もしくはフィルム基板(透明基板11a、11b)を準備する。透明基板11a、11b上の透明導電膜には、たとえば平滑性のあるITO膜を用いる。透明導電膜は、スパッタ、蒸着等により成膜することができる。   A pair of glass substrates or film substrates (transparent substrates 11a and 11b) on which a transparent conductive film is formed are prepared. For the transparent conductive film on the transparent substrates 11a and 11b, for example, a smooth ITO film is used. The transparent conductive film can be formed by sputtering, vapor deposition, or the like.

透明基板11a、11b上の透明導電膜をパターニングして、各々一方向に延在する複数の短冊状電極(透明電極12a、12b)を形成した。   The transparent conductive film on the transparent substrates 11a and 11b was patterned to form a plurality of strip electrodes (transparent electrodes 12a and 12b) each extending in one direction.

次に、一対の透明基板11a、11bを、透明電極12a、12bが対向し、かつ、透明電極(短冊状電極)12a、12bの延在方向が、相互に直交するように配置してセル化を行った。   Next, a pair of transparent substrates 11a and 11b are placed in a cell by arranging the transparent electrodes 12a and 12b so that the extending directions of the transparent electrodes (strip-shaped electrodes) 12a and 12b are orthogonal to each other. Went.

たとえば20μm〜数百μm径、実施例においては500μm径のギャップコントロール剤を、一対の基板11a、11bの一方上に、一例として1個〜3個/mmとなるように散布する。ギャップコントロール剤の径に応じ、カメラの透過像及び反射像に影響を与えにくい散布量とすることが望ましい。なお、実施例による一眼レフカメラに使用されるエレクトロデポジション素子36においては、多少ギャップムラがあっても像への影響は少ないため、ギャップコントロール剤の散布量の重要性は高くない。また実施例においては、ギャップコントロール剤を用いたギャップコントロールを行うが、リブなどの突起によってギャップコントロールを行うことも可能である。更に、小型セルの場合は、シール部分に所定厚さのフィルム状スペーサを配置してギャップを制御してもよい。 For example, a gap control agent having a diameter of 20 μm to several hundred μm, and in the embodiment, a diameter of 500 μm is spread on one of the pair of substrates 11a and 11b so as to be 1 to 3 / mm 2 as an example. Depending on the diameter of the gap control agent, it is desirable to set the spray amount so as not to affect the transmitted image and reflected image of the camera. In addition, in the electrodeposition element 36 used in the single-lens reflex camera according to the embodiment, even if there is some gap unevenness, the influence on the image is small, and therefore the importance of the amount of the gap control agent applied is not high. In the embodiment, gap control using a gap control agent is performed, but it is also possible to perform gap control using protrusions such as ribs. Further, in the case of a small cell, a gap may be controlled by arranging a film-like spacer having a predetermined thickness at the seal portion.

一対の基板11a、11bの他方上に、メインシールパターンを形成した。実施例では、紫外線+熱硬化タイプのシール材を用いた。シール材として、光硬化タイプ、または熱硬化タイプを使用してもよい。なお、ギャップコントロール剤の散布とメインシールパターンの形成は同一基板側に行ってもよい。   A main seal pattern was formed on the other of the pair of substrates 11a and 11b. In the examples, an ultraviolet ray + thermosetting type sealing material was used. As the sealing material, a photocuring type or a thermosetting type may be used. The gap control agent spraying and the main seal pattern may be formed on the same substrate side.

次に、エレクトロデポジション材料を含む電解液を一対の基板11a、11b間に封入した。   Next, an electrolytic solution containing an electrodeposition material was sealed between the pair of substrates 11a and 11b.

実施例では、ODF工法を用いた。一対の基板11a、11bの一方上に、エレクトロデポジション材料を含む電解液を適量滴下する。滴下方法として、ディスペンサーやインクジェットを含む各種印刷方式が適用可能である。ここではディスペンサーを用いた。なお前述のシール材は、用いる電解液に耐えるシール材料(腐食されないシール材)であることが好ましい。   In the examples, the ODF method was used. An appropriate amount of an electrolytic solution containing an electrodeposition material is dropped on one of the pair of substrates 11a and 11b. As a dropping method, various printing methods including a dispenser and an ink jet can be applied. Here, a dispenser was used. Note that the above-described sealing material is preferably a sealing material (a non-corrosive sealing material) that can withstand the electrolytic solution used.

真空中で、一対の基板11a、11bの重ね合わせを行った。大気中、もしくは窒素雰囲気中で行ってもよい。   In a vacuum, the pair of substrates 11a and 11b was superposed. You may carry out in air | atmosphere or nitrogen atmosphere.

紫外線を、たとえば21J/cmのエネルギ密度でシール材に照射し、シール材を硬化して、シール部13を形成した。なお、紫外線がシール材のみに照射されるように、SUSマスクを使用した。 The sealing material was formed by irradiating the sealing material with, for example, ultraviolet rays with an energy density of 21 J / cm 2 to cure the sealing material. A SUS mask was used so that only the sealing material was irradiated with ultraviolet rays.

エレクトロデポジション材料を含む電解液は、エレクトロデポジション材料(AgNO等)、電解質(TBABr; tetrabutylammonium bromide 等)、メディエータ(CuCl等)、支持電解質(LiBr等)、溶媒(DMSO; dimethyl sulfoxide 等)、ゲル化用ポリマー(PVB; polyvinyl butyral 等)などにより構成される。実施例においては、電解質をTBABrとした。溶媒であるDMSO中に、エレクトロデポジション材料としてAgNOを50mM添加し、支持電解質としてLiBrを250mM加え、メディエータとしてCuClを10mM添加した。そしてホストポリマーとしてPVBを10wt%加え、ゲル状(ゼリー状)の電解質層14とした。 The electrolytic solution containing the electrodeposition material includes an electrodeposition material (AgNO 3 etc.), an electrolyte (TBABr; tetrabutylammonium bromide etc.), a mediator (CuCl 2 etc.), a supporting electrolyte (LiBr etc.), a solvent (DMSO; dimethyl sulfoxide etc.) ), A gelling polymer (PVB; polyvinyl butyral etc.) and the like. In the examples, the electrolyte was TBABr. In DMSO as a solvent, 50 mM of AgNO 3 was added as an electrodeposition material, 250 mM of LiBr was added as a supporting electrolyte, and 10 mM of CuCl 2 was added as a mediator. Then, 10 wt% of PVB was added as a host polymer to form a gel (jelly-like) electrolyte layer 14.

エレクトロデポジション材料には、たとえば銀を含むAgNO、AgClO、AgBr等を使用することができる。 As the electrodeposition material, for example, AgNO 3 containing silver, AgClO 4 , AgBr, or the like can be used.

支持電解質は、エレクトロデポジション材料の酸化還元反応等を促進するものであれば限定されず、たとえばリチウム塩(LiCl、LiBr、LiI、LiBF、LiClO等)、カリウム塩(KCl、KBr、KI等)、ナトリウム塩(NaCl、NaBr、NaI等)を好適に用いることができる。支持電解質の濃度は、たとえば10mM以上1M以下であることが好ましいが、特に限定されるものではない。 The supporting electrolyte is not limited as long as it promotes the redox reaction or the like of the electrodeposition material. For example, lithium salt (LiCl, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiClO 4 etc.), potassium salt (KCl, KBr, KI) Etc.) and sodium salts (NaCl, NaBr, NaI, etc.) can be preferably used. The concentration of the supporting electrolyte is preferably 10 mM or more and 1 M or less, but is not particularly limited.

溶媒は、エレクトロデポジション材料等を安定的に保持することができるものであれば限定されない。水や炭酸プロピレン等の極性溶媒、極性のない有機溶媒、更にはイオン性液体、イオン導電性高分子、高分子電解質等を使用することが可能である。具体的には、DMSOの他、炭酸プロピレン、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ポリビニル硫酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸等を好適に用いることができる。   The solvent is not limited as long as it can stably hold the electrodeposition material and the like. Polar solvents such as water and propylene carbonate, non-polar organic solvents, ionic liquids, ionic conductive polymers, polymer electrolytes, and the like can be used. Specifically, in addition to DMSO, propylene carbonate, N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, polyvinyl sulfate, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, and the like can be suitably used.

図3A及び図3Bは、実施例による一眼レフカメラの動作の一例を示す概略図である。   3A and 3B are schematic diagrams illustrating an example of the operation of the single-lens reflex camera according to the embodiment.

図3Aに、シャッタ34が閉じられた状態を示す。シャッタ34が閉じられた状態においては、制御装置37は、たとえばエレクトロデポジション素子36の全画素がミラー状態となるように、電極12a、12bに直流電圧を印加(一例として2V〜3V程度)する。   FIG. 3A shows a state where the shutter 34 is closed. In a state where the shutter 34 is closed, the control device 37 applies a DC voltage to the electrodes 12a and 12b (for example, about 2V to 3V) so that all the pixels of the electrodeposition element 36 are in a mirror state. .

入射光(被写体光)は、撮影レンズ31を透過し、全画素がミラー状態にあるエレクトロデポジション素子36で反射され、ファインダ光学系(プリズム33)に入射する。そしてファインダの観察面に結像され、撮影者40に観察される。   Incident light (subject light) passes through the photographic lens 31, is reflected by the electrodeposition element 36 in which all pixels are in a mirror state, and enters the finder optical system (prism 33). Then, the image is formed on the observation surface of the finder and observed by the photographer 40.

図3Bに露光時の状態を示す。シャッタリリースボタンが操作され、シャッタ34があらかじめ設定された露光時間、開放されると、制御装置37は、それと同期して、たとえば全画素が透明状態となるように、エレクトロデポジション素子36の動作を制御する。一例として、電極12a、12bに逆バイアスの直流電圧を印加し、電極上から銀を消失させる。   FIG. 3B shows a state at the time of exposure. When the shutter release button is operated and the shutter 34 is opened for a preset exposure time, the control device 37 operates the electrodeposition element 36 so that, for example, all the pixels are in a transparent state in synchronism therewith. To control. As an example, a reverse bias DC voltage is applied to the electrodes 12a and 12b, and silver is eliminated from the electrodes.

この状態においては、レンズ31の透過光は、エレクトロデポジション素子36を透過して、撮像面(結像面)に配置されたフィルム35に入射し、被写体像がフィルム35面に結像、露光される。露光後、制御装置37は、シャッタ34を閉じるとともに、エレクトロデポジション素子36の全画素がミラー状態となるように、電極12a、12bに直流電圧を印加する(図3A参照)。   In this state, the light transmitted through the lens 31 passes through the electrodeposition element 36 and enters the film 35 disposed on the imaging surface (imaging surface), and the subject image is imaged and exposed on the film 35 surface. Is done. After the exposure, the control device 37 closes the shutter 34 and applies a DC voltage to the electrodes 12a and 12b so that all the pixels of the electrodeposition element 36 are in a mirror state (see FIG. 3A).

実施例による一眼レフカメラは、揺動ミラーを用いず、エレクトロデポジション素子36を使用して、電気的に被写体光の透過と反射を切り替える。切り替えは、たとえば制御装置37により、シャッタ34とエレクトロデポジション素子36の動作を同期させて行う。揺動ミラーを機械的に動作させるスペースが不要であるため、小型化が可能である。また、透過と反射の切り替え時に振動が発生しないため、これに起因する撮影画像のぶれ(画質の劣化)は生じず、撮像品質を向上させることができる。更に、ミラーの不快な動作音がなく、快適な操作が可能である。また、たとえば揺動ミラーの代わりに、液晶素子と偏光ビームスプリッタを用いた場合に比べ、被写体光の利用効率が高い。ダイナミックレンジも大きい。   The single-lens reflex camera according to the embodiment uses the electrodeposition element 36 instead of the swing mirror to electrically switch between transmission and reflection of the subject light. The switching is performed by synchronizing the operations of the shutter 34 and the electrodeposition element 36 by the control device 37, for example. Since a space for mechanically operating the oscillating mirror is not required, the size can be reduced. Further, since vibration does not occur when switching between transmission and reflection, there is no blurring of the captured image (degradation of image quality) due to this, and the imaging quality can be improved. Furthermore, there is no unpleasant operation sound of the mirror, and comfortable operation is possible. Further, for example, the use efficiency of the subject light is higher than when a liquid crystal element and a polarization beam splitter are used instead of the oscillating mirror. The dynamic range is also large.

なお、実施例による一眼レフカメラにおいて、露光時に、たとえば全画素の透過率を等しく減じ、エレクトロデポジション素子36をハーフミラー状態としてもよい。画素の透過率は、制御装置37で、電極12a、12bに印加する電圧値や電圧印加時間(電解質層14に与える電流値や通電時間)を制御することにより、任意に変更可能である。実施例による一眼レフカメラは、全画素の透過率を一様に変更することでフィルム35への露光量を調整することができる。エレクトロデポジション素子36に、露光量(透過率)調整フィルタの機能をもたせることができるため、同様の機能を有するフィルタを別途付加することなく、撮像品質を向上させることが可能である。   In the single-lens reflex camera according to the embodiment, at the time of exposure, for example, the transmittance of all the pixels may be equally reduced, and the electrodeposition element 36 may be in a half mirror state. The transmittance of the pixel can be arbitrarily changed by controlling the voltage value applied to the electrodes 12a and 12b and the voltage application time (the current value applied to the electrolyte layer 14 and the energization time) by the control device 37. The single-lens reflex camera by the Example can adjust the exposure amount to the film 35 by changing the transmittance | permeability of all the pixels uniformly. Since the electrodeposition element 36 can be provided with the function of an exposure amount (transmittance) adjustment filter, it is possible to improve the imaging quality without separately adding a filter having the same function.

更に、たとえば露光時に、画素の透過率を一様としないように、一例として、一部の画素の透過率が高く、残部の画素の透過率が低くなるように、エレクトロデポジション素子36の動作を制御してもよい。   Further, for example, the operation of the electrodeposition element 36 is such that the transmittance of some pixels is high and the transmittance of the remaining pixels is low so that the transmittance of the pixels is not uniform during exposure. May be controlled.

たとえば、撮像面35に撮像素子(光電変換素子)を配置してデジタル一眼レフカメラとする場合、画像処理によって、被写体像の輝度が著しく高い座標を検出し、対応する位置の画素の透過率を低くする。このように、画素によって透過率を異ならせることにより、撮像面における光量を調節し、撮像品質を向上させることができる。   For example, when an imaging device (photoelectric conversion device) is arranged on the imaging surface 35 to form a digital single-lens reflex camera, coordinates with extremely high luminance of the subject image are detected by image processing, and the transmittance of the pixel at the corresponding position is determined. make low. Thus, by varying the transmittance depending on the pixel, the amount of light on the imaging surface can be adjusted and the imaging quality can be improved.

以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。   As mentioned above, although this invention was demonstrated along the Example, this invention is not limited to these.

たとえば、実施例においては、エレクトロデポジション素子36を透過した被写体光を撮像面に入射させ、エレクトロデポジション素子36で反射された被写体光をファインダ光学系に入射させたが、エレクトロデポジション素子36を透過した被写体光をファインダ光学系に入射させ、エレクトロデポジション素子36で反射された被写体光を撮像面に入射させてもよい。   For example, in the embodiment, subject light transmitted through the electrodeposition element 36 is incident on the imaging surface, and subject light reflected by the electrodeposition element 36 is incident on the finder optical system. May be incident on the finder optical system, and the subject light reflected by the electrodeposition element 36 may be incident on the imaging surface.

また、画素は、ドットマトリクス状以外の分布形状となるように形成してもよい。なお、ベタ電極を用い、1画素とした場合であっても、露光量(透過率)調整フィルタの機能を備える一眼レフカメラを構成することが可能である。   The pixels may be formed to have a distribution shape other than the dot matrix shape. Note that a single-lens reflex camera having a function of an exposure amount (transmittance) adjustment filter can be configured even when a solid electrode is used and one pixel is used.

更に、シャッタ34は、レンズ31と撮像面35の間の、被写体光の光路上に配置することができる。   Further, the shutter 34 can be disposed on the optical path of the subject light between the lens 31 and the imaging surface 35.

その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。     It will be apparent to those skilled in the art that other various modifications, improvements, combinations, and the like are possible.

種々の一眼レフカメラに好適に利用することができる。   It can be suitably used for various single-lens reflex cameras.

10a 上側基板
10b 下側基板
11a 上側透明基板
11b 下側透明基板
12a 上側透明電極
12b 下側透明電極
13 シール部
14 電解質層
31 レンズ
32 揺動ミラー
33 プリズム
34 シャッタ
35 フィルム(撮像面)
36 エレクトロデポジション素子
37 制御装置
40 撮影者(観察面)
10a Upper substrate 10b Lower substrate 11a Upper transparent substrate 11b Lower transparent substrate 12a Upper transparent electrode 12b Lower transparent electrode 13 Seal portion 14 Electrolyte layer 31 Lens 32 Swing mirror 33 Prism 34 Shutter 35 Film (imaging surface)
36 Electrodeposition element 37 Control device 40 Photographer (observation surface)

Claims (6)

被写体光が入射するレンズと、
前記レンズを透過した被写体光の光路上に配置され、透過及び反射の状態を制御可能なエレクトロデポジション素子であって、該エレクトロデポジション素子を透過した被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の一方に入射させ、該エレクトロデポジション素子で反射された被写体光を、撮像面及びファインダ光学系の他方に入射させるエレクトロデポジション素子と、
前記レンズと前記撮像面の間の、被写体光の光路上に配置されたシャッタと、
前記エレクトロデポジション素子と前記シャッタの動作を制御する制御装置と
を有するカメラ。
A lens on which subject light is incident;
An electrodeposition element arranged on the optical path of subject light that has passed through the lens and capable of controlling the state of transmission and reflection, and the subject light that has passed through the electrodeposition element is transmitted to the imaging surface and the viewfinder optical system. An electrodeposition element that is incident on one side and that makes the subject light reflected by the electrodeposition element enter the other of the imaging surface and the viewfinder optical system;
A shutter disposed on the optical path of subject light between the lens and the imaging surface;
A camera comprising the electrodeposition element and a control device for controlling the operation of the shutter.
前記制御装置は、前記シャッタの開閉に応じて、前記エレクトロデポジション素子の透過及び反射の状態を制御する請求項1に記載のカメラ。   The camera according to claim 1, wherein the control device controls transmission and reflection states of the electrodeposition element in accordance with opening and closing of the shutter. 前記エレクトロデポジション素子は、透過及び反射の状態を独立に制御可能な複数の画素を備える請求項1または2に記載のカメラ。   The camera according to claim 1, wherein the electrodeposition element includes a plurality of pixels capable of independently controlling transmission and reflection states. 前記複数の画素は、ドットマトリクス状に分布する請求項3に記載のカメラ。   The camera according to claim 3, wherein the plurality of pixels are distributed in a dot matrix. 前記制御装置は、前記シャッタが開状態のときに、前記複数の画素の透過及び反射の状態が一様となるように、前記複数の画素の透過及び反射の状態を制御する請求項3または4に記載のカメラ。   The control device controls the transmission and reflection states of the plurality of pixels so that the transmission and reflection states of the plurality of pixels are uniform when the shutter is in an open state. Camera described in. 前記制御装置は、前記シャッタが開状態のときに、前記複数の画素の透過及び反射の状態が一様とならないように、前記複数の画素の透過及び反射の状態を制御する請求項3または4に記載のカメラ。   The control device controls the transmission and reflection states of the plurality of pixels so that the transmission and reflection states of the plurality of pixels are not uniform when the shutter is in an open state. Camera described in.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005140814A (en) * 2003-11-04 2005-06-02 Sony Corp Electrochemical dimmer and polymer electrolyte
JP2006349804A (en) * 2005-06-14 2006-12-28 Canon Inc Imaging device
JP2008199269A (en) * 2007-02-13 2008-08-28 Nikon Corp camera
JP2009180822A (en) * 2008-01-29 2009-08-13 Olympus Corp Imaging apparatus
JP2012159581A (en) * 2011-01-31 2012-08-23 Canon Inc Imaging apparatus
US20130100332A1 (en) * 2011-10-21 2013-04-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Photographing apparatus and method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005140814A (en) * 2003-11-04 2005-06-02 Sony Corp Electrochemical dimmer and polymer electrolyte
JP2006349804A (en) * 2005-06-14 2006-12-28 Canon Inc Imaging device
JP2008199269A (en) * 2007-02-13 2008-08-28 Nikon Corp camera
JP2009180822A (en) * 2008-01-29 2009-08-13 Olympus Corp Imaging apparatus
JP2012159581A (en) * 2011-01-31 2012-08-23 Canon Inc Imaging apparatus
US20130100332A1 (en) * 2011-10-21 2013-04-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Photographing apparatus and method

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