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JP2015168778A - Epoxy resin composition, optical semiconductor encapsulating agent, and optical semiconductor device - Google Patents

Epoxy resin composition, optical semiconductor encapsulating agent, and optical semiconductor device Download PDF

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JP2015168778A
JP2015168778A JP2014045136A JP2014045136A JP2015168778A JP 2015168778 A JP2015168778 A JP 2015168778A JP 2014045136 A JP2014045136 A JP 2014045136A JP 2014045136 A JP2014045136 A JP 2014045136A JP 2015168778 A JP2015168778 A JP 2015168778A
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JP
Japan
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epoxy
group
epoxy resin
resin composition
optical semiconductor
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Pending
Application number
JP2014045136A
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Japanese (ja)
Inventor
菜津美 藤原
Natsumi Fujiwara
菜津美 藤原
遠藤 充輝
Mitsuteru Endo
充輝 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
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Abstract

【課題】硬化速度に優れ、光透過性に優れ、高温下に長時間置かれても黄変しがたい硬化物を与えることができる光半導体の封止用エポキシ樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記の(A)成分〜(C)成分を含有するエポキシ樹脂組成物。(A)成分:テトラヒドロインデンの不飽和結合を酸化して得られるエポキシ化合物と、グリシジルイソシアヌレート系化合物と、を含んでなるエポキシ化合物成分、(B)成分:硬化剤(C)成分:硬化促進剤
【選択図】なし
Disclosed is an epoxy resin composition for sealing an optical semiconductor that can provide a cured product that is excellent in curing speed, excellent in light transmittance, and that does not yellow even when left at high temperature for a long time.
An epoxy resin composition containing the following components (A) to (C). (A) Component: An epoxy compound component comprising an epoxy compound obtained by oxidizing an unsaturated bond of tetrahydroindene and a glycidyl isocyanurate compound, (B) component: curing agent (C) component: curing acceleration Agent [selection figure] None

Description

本発明は、エポキシ樹脂組成物、光半導体封止剤、および光半導体装置に関し、さらに詳しくは、硬化速度に優れ、しかも、光透過性に優れ、かつ、高温下に長時間置かれても黄変しがたい硬化物を与えることができるエポキシ樹脂組成物と、このエポキシ樹脂組成物からなる光半導体封止剤と、この光半導体封止剤の硬化物で封止された光半導体素子を備えてなる光半導体装置と、に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition, an optical semiconductor encapsulant, and an optical semiconductor device. More specifically, the present invention relates to an epoxy resin composition, an optical semiconductor sealing agent, and an optical semiconductor device. An epoxy resin composition capable of giving a hard-to-change cured product, an optical semiconductor encapsulant comprising the epoxy resin composition, and an optical semiconductor element sealed with a cured product of the optical semiconductor encapsulant And an optical semiconductor device.

エポキシ化合物とその硬化剤とを含有してなる硬化性のエポキシ樹脂組成物は、優れた透明性などの種々の特徴を有する硬化物を与えるものであることから、種々の用途に広く用いられている。   A curable epoxy resin composition comprising an epoxy compound and a curing agent thereof provides a cured product having various characteristics such as excellent transparency, and is therefore widely used in various applications. Yes.

硬化性のエポキシ樹脂組成物の用途の例として、各種の屋内・屋外表示板、画像読み取り用光源、交通信号、大型ディスプレイ用ユニットなどとして実用化されている光半導体素子を保護するための封止用途を挙げることができる。近年においては、光半導体素子の高出力化および短波長化が進んでおり、それを封止する材料には、光透過性に優れ、高温下に長時間置かれても黄変しにくいものが望まれている。   Examples of applications of curable epoxy resin compositions include sealing for protecting optical semiconductor elements that are put into practical use as various indoor / outdoor display boards, image reading light sources, traffic signals, large display units, etc. Applications can be mentioned. In recent years, the output of optical semiconductor elements has been increased and the wavelength has been shortened, and materials that seal them are those that have excellent light transmission properties and do not easily yellow even when left at high temperatures for a long time. It is desired.

従来、硬化物の黄変の少ない硬化性のエポキシ樹脂組成物として、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなどの非芳香族系のエポキシ化合物を主剤として用いる技術が知られている。例えば、特許文献1には、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートとメチルヘキサヒドロフタル酸無水物を有効成分とするダイオード封止用樹脂組成物が開示されている。   Conventionally, a technique using a non-aromatic epoxy compound such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate as a main agent as a curable epoxy resin composition with little yellowing of a cured product It has been known. For example, Patent Document 1 discloses a resin composition for encapsulating a diode comprising 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate and methylhexahydrophthalic anhydride as active ingredients. Yes.

しかしながら、このような非芳香族系のエポキシ化合物を用いる場合であっても、その硬化物を高温(150℃)で数日間保管すると黄変は避けられず、特に近年需要の高い高出力タイプの高輝度の光半導体素子の封止材料に求められる耐黄変性は得ることは困難であった。更に、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートは分子中にエステル結合を有するため、空気中の水分などの影響でエステル基が加水分解を起こし易く、硬化物の着色の原因となり易いという問題もあった。   However, even when such a non-aromatic epoxy compound is used, yellowing is inevitable if the cured product is stored for several days at a high temperature (150 ° C.). It was difficult to obtain yellowing resistance required for a sealing material for a high-brightness optical semiconductor element. Furthermore, since 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate has an ester bond in the molecule, the ester group easily undergoes hydrolysis under the influence of moisture in the air, and the cured product There was also a problem of easily causing coloring.

このような問題を解決する手段として、分子中にエステル基を有さないエポキシ化合物を含有する硬化性のエポキシ樹脂組成物が提案されている。例えば、特許文献2や特許文献3には、テトラヒドロインデン骨格を有する脂環式ジエポキシ化合物、酸無水物、および硬化促進剤を配合してなる樹脂組成物が記載されている。   As means for solving such a problem, a curable epoxy resin composition containing an epoxy compound having no ester group in the molecule has been proposed. For example, Patent Document 2 and Patent Document 3 describe resin compositions obtained by blending an alicyclic diepoxy compound having a tetrahydroindene skeleton, an acid anhydride, and a curing accelerator.

特開2000−196151号公報JP 2000-196151 A 国際公開第2012/137880号International Publication No. 2012/137880 特開2013−133339号公報JP 2013-133339 A

しかしながら、本発明者らの検討では、特許文献2や特許文献3に記載されるような樹脂組成物は、硬化に時間を要するために、硬化物の生産性が悪くなるという問題が生じる。しかも、光半導体素子を表面実装型素子にする場合など、薄膜状の封止材料を得る場合には、硬化中の硬化剤の揮発や吸湿に起因するエポキシ樹脂組成物の硬化不良が生じ易い傾向を有するものであることが明らかになった。また、これらの樹脂組成物は、一般的な硬化性のエポキシ樹脂組成物に比して、黄変が防止されたものであるものの、高温下で長時間光の照射を受けるような過酷な条件では、黄変を生じさせてしまうものであった。   However, according to the study by the present inventors, the resin compositions as described in Patent Document 2 and Patent Document 3 require a long time for curing, and thus there is a problem that productivity of the cured product is deteriorated. In addition, when obtaining a thin film-like sealing material, such as when an optical semiconductor element is a surface-mounted element, the epoxy resin composition tends to be poorly cured due to volatilization or moisture absorption of the curing agent during curing. It became clear that it has. In addition, these resin compositions, compared to general curable epoxy resin compositions, have been prevented from yellowing, but are subjected to harsh conditions such as being irradiated with light for a long time at a high temperature. Then, yellowing was caused.

そこで、本発明は、硬化速度に優れ、しかも、光透過性に優れ、かつ、高温下で長時間光の照射を受けても黄変しがたい硬化物を与えることができるエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides an epoxy resin composition that is excellent in curing speed, has excellent light transmittance, and can give a cured product that does not yellow even when irradiated with light for a long time at a high temperature. The purpose is to provide.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、エポキシ化合物として、テトラヒドロインデン骨格を有する脂環式ジエポキシ化合物と、トリアジン環を有するエポキシ化合物とを組み合わせて用いて硬化性のエポキシ樹脂組成物を構成すると、硬化速度に優れ、しかも、光透過性に優れ、かつ、高温下で長時間光の照射を受けても黄変しがたい硬化物を与えることができるエポキシ樹脂組成物が得られることを見出した。さらに、このエポキシ樹脂組成物が、光半導体封止剤として好適に用いられることを見出した。本発明は、この知見に基づいて完成するに至ったものである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a curable epoxy using an alicyclic diepoxy compound having a tetrahydroindene skeleton and an epoxy compound having a triazine ring as an epoxy compound. When the resin composition is constituted, an epoxy resin composition having excellent curing speed, excellent light transmittance, and capable of giving a cured product that does not yellow even when irradiated with light at a high temperature for a long time. It was found that can be obtained. Furthermore, it discovered that this epoxy resin composition was used suitably as an optical semiconductor sealing agent. The present invention has been completed based on this finding.

かくして、本発明によれば、下記の(A)成分〜(C)成分を含有するエポキシ樹脂組成物が提供される。
(A)成分:下記式(I)

Figure 2015168778
(式中、R〜R12は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜20の炭化水素基から選択される基を表す。)で示されるエポキシ化合物(α)と、下記式(II)
Figure 2015168778
(式中、R13〜R15は、互いに独立して、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、エポキシ基含有基、およびエポキシ基含有基から誘導される基から選択される基を表し、R13〜R15のうちの少なくとも2つはエポキシ基含有基である。)で示されるエポキシ化合物(β)と、を含んでなるエポキシ化合物成分
(B)成分:硬化剤
(C)成分:硬化促進剤 Thus, according to the present invention, an epoxy resin composition containing the following components (A) to (C) is provided.
(A) component: following formula (I)
Figure 2015168778
(Wherein R 1 to R 12 each independently represent a group selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms); The following formula (II)
Figure 2015168778
(In the formula, R 13 to R 15 each independently represent a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an epoxy group-containing group, and a group derived from an epoxy group-containing group. And at least two of R 13 to R 15 are epoxy group-containing groups), and an epoxy compound component (B) component: a curing agent (C) component : Curing accelerator

上記のエポキシ樹脂組成物では、エポキシ化合物(α)とエポキシ化合物(β)との重量比(エポキシ化合物(α):エポキシ化合物(β))が、20:80〜80:20であることが好ましい。   In said epoxy resin composition, it is preferable that weight ratio (epoxy compound ((alpha)): epoxy compound ((beta))) of an epoxy compound ((alpha)) and an epoxy compound ((beta)) is 20: 80-80: 20. .

また、本発明によれば、上記のエポキシ樹脂組成物からなる光半導体封止剤が提供される。   Moreover, according to this invention, the optical-semiconductor sealing agent which consists of said epoxy resin composition is provided.

また、本発明によれば、上記の光半導体封止剤の硬化物で封止された光半導体素子を備えてなる光半導体装置が提供される。   Moreover, according to this invention, the optical semiconductor device provided with the optical semiconductor element sealed with the hardened | cured material of said optical semiconductor sealing agent is provided.

本発明によれば、硬化速度に優れ、しかも、光透過性に優れ、かつ、高温下に長時間置かれても黄変しがたい硬化物を与えることができるエポキシ樹脂組成物を提供することができる。そして、このエポキシ樹脂組成物は、光半導体封止剤として好適に用いることができる。   According to the present invention, there is provided an epoxy resin composition that is excellent in curing speed, excellent in light transmittance, and capable of giving a cured product that does not yellow even when placed at a high temperature for a long time. Can do. And this epoxy resin composition can be used suitably as an optical semiconductor sealing agent.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、下記の(A)成分〜(C)成分を含有するものである。
(A)成分:前記式(I)で示されるエポキシ化合物(α)と、前記式(II)で示されるエポキシ化合物(β)と、を含んでなるエポキシ化合物成分
(B)成分:硬化剤
(C)成分:硬化促進剤
The epoxy resin composition of the present invention contains the following components (A) to (C).
Component (A): Epoxy compound component (B) comprising the epoxy compound (α) represented by the formula (I) and the epoxy compound (β) represented by the formula (II): Curing agent ( C) Component: Curing accelerator

本発明のエポキシ樹脂組成物で必須の成分として用いられる(A)成分は、前記式(I)で示されるエポキシ化合物(α)と、前記式(II)で示されるエポキシ化合物(β)と、を含んでなるエポキシ化合物成分である。   The component (A) used as an essential component in the epoxy resin composition of the present invention includes the epoxy compound (α) represented by the formula (I), the epoxy compound (β) represented by the formula (II), Is an epoxy compound component.

エポキシ化合物(α)は、テトラヒドロインデン骨格を有する脂環式ジエポキシ化合物である。エポキシ化合物(α)の構造を示す式(I)において、R〜R12は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、および炭素数1〜20の炭化水素基から選択される基を表す。このR〜R12で表される基となりうるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。炭素数1〜20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素数1〜20のアルキル基;ビニル基、アリル基などの炭素数2〜20のアルケニル基;エチリデン基、プロピリデン基などの炭素数2〜20のアルキリデン基;などが挙げられる。また、R〜R12は、互いに独立して、水素原子、および炭素数1〜20の炭化水素基から選択される基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましく、すべて水素原子であることが最も好ましい。すなわち、式(I)で示されるエポキシ化合物(α)としては、テトラヒドロインデンジエポキシドが最も好ましく用いられる。 The epoxy compound (α) is an alicyclic diepoxy compound having a tetrahydroindene skeleton. In formula (I) showing the structure of the epoxy compound (α), R 1 to R 12 each independently represents a group selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. . Examples of the halogen atom that can be a group represented by R 1 to R 12 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group; an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms such as a vinyl group and an allyl group; And an alkylidene group having 2 to 20 carbon atoms such as a propylidene group. R 1 to R 12 are each independently a group selected from a hydrogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, Most preferably, all are hydrogen atoms. That is, tetrahydroindene diepoxide is most preferably used as the epoxy compound (α) represented by the formula (I).

エポキシ化合物(α)のエポキシ当量は、特に限定されないが、通常76〜200g/当量、好ましくは76〜100g/当量である。   Although the epoxy equivalent of an epoxy compound ((alpha)) is not specifically limited, Usually, 76-200 g / equivalent, Preferably it is 76-100 g / equivalent.

式(I)で示されるエポキシ化合物(α)は、従来公知の方法により製造することができる。例えば、下記の式(III)で表されるように、テトラヒドロインデン骨格を有する環状オレフィン化合物を、酸化剤により酸化(エポキシ化)する方法が挙げられる。   The epoxy compound (α) represented by the formula (I) can be produced by a conventionally known method. For example, as represented by the following formula (III), a method of oxidizing (epoxidizing) a cyclic olefin compound having a tetrahydroindene skeleton with an oxidizing agent can be mentioned.

Figure 2015168778
Figure 2015168778

式(III)における、R〜R12は、式(I)と同じ基を表す。 R < 1 > -R < 12 > in Formula (III) represents the same group as Formula (I).

式(III)で表される環状オレフィン化合物のエポキシ化反応に用いる酸化剤は、特に限定されないが、過硫酸塩、過酸化水素、脂肪族過カルボン酸、有機過酸化物などを例示することができる。また、酸化剤の使用量も特に限定されないが、環状オレフィン化合物に対して、通常当モル以上であり、好ましくは1〜2倍モルである。   Although the oxidizing agent used for the epoxidation reaction of the cyclic olefin compound represented by the formula (III) is not particularly limited, examples thereof include persulfates, hydrogen peroxide, aliphatic percarboxylic acids, and organic peroxides. it can. Moreover, although the usage-amount of an oxidizing agent is not specifically limited, It is an equimolar or more normally with respect to a cyclic olefin compound, Preferably it is 1-2 times mole.

エポキシ化反応は、溶媒中で行うのが好ましい。用いる溶媒は、特に限定されないが、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;トルエンなどの芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;アセトニトリルなどのニトリル類を挙げることができ、これらの有機溶媒と水とを併用することもできる。なお、有機溶媒と水とを併用する際に、有機相と水相とが相分離して不均一系となる場合には、相間移動触媒を用いることが好ましい。反応温度も特に限定されないが、通常0℃以上用いる溶媒の沸点以下であり、好ましくは20〜70℃である。反応時間は、反応規模などに応じて決定すればよく、特に限定されないが、通常10分間〜100時間、好ましくは1〜50時間の範囲で選択される。反応終了後、生成した式(I)で表されるエポキシ化合物は、例えば、貧溶媒で沈殿させる方法、熱水中に攪拌の下で投入し溶媒を蒸留除去する方法、直接脱溶媒法などにより、反応溶液から回収することができる。   The epoxidation reaction is preferably performed in a solvent. The solvent to be used is not particularly limited, but aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene; esters such as ethyl acetate and methyl acetate; alcohols such as methanol and ethanol; acetone and methyl ethyl ketone And ketones such as acetonitrile; and nitriles such as acetonitrile. These organic solvents and water can also be used in combination. In addition, when using an organic solvent and water together, when an organic phase and an aqueous phase are phase-separated to form a heterogeneous system, it is preferable to use a phase transfer catalyst. Although reaction temperature is not specifically limited, Usually, it is 0 degreeC or more and the boiling point or less of the solvent to be used, Preferably it is 20-70 degreeC. The reaction time may be determined according to the reaction scale and the like, and is not particularly limited, but is usually selected in the range of 10 minutes to 100 hours, preferably 1 to 50 hours. After completion of the reaction, the generated epoxy compound represented by the formula (I) is obtained by, for example, a method of precipitating with a poor solvent, a method of adding distilled water under stirring to distilling off the solvent, a direct desolvation method or the like. Can be recovered from the reaction solution.

式(I)で表されるエポキシ化合物には、2つのエポキシ環の立体配置に基づく4つの立体異性体が存在するが、本発明のエポキシ樹脂組成物では、これらの立体異性体のいずれも使用することが可能であり、また、これらの立体異性体が任意の割合で存在する立体異性体混合物を用いることもできる。ただし、より透明性に優れたエポキシ樹脂組成物を得る観点からは、式(I)で表されるエポキシ化合物が、2つのエポキシ環の立体配置に基づく4つの立体異性体のうち、エキソ−エンド体とエンド−エンド体との合計量が占める割合が10重量%以下のものであることが好ましく、この割合が5重量%以下のものであることがより好ましい。なお、この立体異性体の割合は、ガスクロマトグラフィーによるピーク面積比に基づいて、求めることができる。   In the epoxy compound represented by formula (I), there are four stereoisomers based on the configuration of two epoxy rings, and any of these stereoisomers is used in the epoxy resin composition of the present invention. It is also possible to use a stereoisomer mixture in which these stereoisomers are present in an arbitrary ratio. However, from the viewpoint of obtaining an epoxy resin composition with more excellent transparency, the epoxy compound represented by the formula (I) is an exo-endo among four stereoisomers based on the configuration of two epoxy rings. The ratio of the total amount of the body and the end-end body is preferably 10% by weight or less, and more preferably 5% by weight or less. In addition, the ratio of this stereoisomer can be calculated | required based on the peak area ratio by a gas chromatography.

式(I)で表されるエポキシ化合物におけるエキソ−エンド体およびエンド−エンド体の含有量を少なくするために、これらの立体異性体を分離する方法は、常法に従えばよく、特に限定されないが、例えば、精密蒸留やシリカゲルなどを充填剤として用いたカラムクロマトグラフィーを適用することができる。   In order to reduce the content of the exo-endo compound and the endo-endo compound in the epoxy compound represented by the formula (I), a method for separating these stereoisomers may be according to a conventional method, and is not particularly limited. However, column chromatography using, for example, precision distillation or silica gel as a filler can be applied.

エポキシ化合物(β)は、トリアジン環を有するエポキシ化合物である。エポキシ化合物(β)の構造を示す式(II)において、R13〜R15は、互いに独立して、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、エポキシ基含有基、およびエポキシ基含有基から誘導される基から選択される基を表し、R13〜R15のうちの少なくとも2つはエポキシ基含有基である。このR13〜R15で表される基となりうる炭素数1〜20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素数1〜20のアルキル基;ビニル基、アリル基などの炭素数2〜20のアルケニル基;エチリデン基、プロピリデン基などの炭素数2〜20のアルキリデン基;などが挙げられる。また、エポキシ基含有基としては、エポキシ基(1,2−エポキシエチル基)、グリシジル基(2,3−エポキシプロピル基)、3,4−エポキシブチル基、4,5−エポキシペンチル基、5,6−エポキシヘキシル基、6,7−エポキシヘキシル基などが挙げられる。エポキシ基含有基から誘導される基としては、エポキシ基含有基と反応しうる変性剤を反応させて得られる基であれば特に限定されないが、例えば、エポキシ基に酸無水物化合物を反応させて得られるジエステル基を挙げることができる。また、R13〜R15の全てが、互いに独立して、エポキシ基含有基およびエポキシ基含有基から誘導される基から選択される基であることが好ましく、さらに、互いに独立して、グリシジル基およびグリシジル基から誘導される基から選択される基であることが好ましい。すなわち、式(II)で示されるエポキシ化合物(β)としては、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートまたはその変性物がより好ましく用いられる。但し、純粋なトリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートは、結晶性を有し、その結晶性に起因して取扱い性に劣るものであることから、エポキシ化合物(β)の取扱い性を良好にする観点からは、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートのグリシジル基(2,3−エポキシプロピル基)の一部を酸無水物によってジエステル基に変換して用いることが特に好ましい。なお、エポキシ化合物(β)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することもできる。 The epoxy compound (β) is an epoxy compound having a triazine ring. In formula (II) showing the structure of the epoxy compound (β), R 13 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an epoxy group-containing group, and an epoxy group-containing group. Represents a group selected from the group derived from R, and at least two of R 13 to R 15 are epoxy group-containing groups. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that can be a group represented by R 13 to R 15 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group; a vinyl group, an allyl group, and the like And alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms; alkylidene groups having 2 to 20 carbon atoms such as ethylidene group and propylidene group; and the like. Moreover, as an epoxy group containing group, epoxy group (1,2-epoxyethyl group), glycidyl group (2,3-epoxypropyl group), 3,4-epoxybutyl group, 4,5-epoxypentyl group, 5 , 6-epoxyhexyl group, 6,7-epoxyhexyl group and the like. The group derived from the epoxy group-containing group is not particularly limited as long as it is a group obtained by reacting a modifier capable of reacting with the epoxy group-containing group. For example, an acid anhydride compound is reacted with the epoxy group. Mention may be made of the resulting diester groups. Further, it is preferable that all of R 13 to R 15 are groups independently selected from an epoxy group-containing group and a group derived from an epoxy group-containing group, and further, independently of each other, a glycidyl group. And a group selected from a group derived from a glycidyl group. That is, as the epoxy compound (β) represented by the formula (II), tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate or a modified product thereof is more preferably used. However, since pure tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate has crystallinity and is inferior in handleability due to its crystallinity, it is easy to handle the epoxy compound (β). From the viewpoint of improving the quality, it is necessary to convert a part of the glycidyl group (2,3-epoxypropyl group) of tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate into a diester group with an acid anhydride. Particularly preferred. In addition, an epoxy compound ((beta)) may be used individually by 1 type, and can also use 2 or more types together.

また、エポキシ化合物(β)は、他の化合物との混合物として用いてもよく、例えば、式(II)におけるR13〜R15のうちの2つ以上がエポキシ基含有基から誘導される基であるものとなったものがエポキシ化合物(β)とともに混在していてもよい。特に、エポキシ化合物(β)として、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートを用いる場合には、2つ以上のグリシジル基(2,3−エポキシプロピル基)がグリシジル基から誘導される基に変換されたものが、エポキシ化合物(β)とともに混在していてもよい。但し、2つ以上のグリシジル基(2,3−エポキシプロピル基)がグリシジル基から誘導される基に変換されたものの存在量が多すぎると、得られるエポキシ樹脂組成物が黄変しやすくなるおそれがあるので、その存在量は、エポキシ化合物(β)に対して、20重量%以下であることが好ましく、15重量%以下であることがより好ましい。 Moreover, you may use an epoxy compound ((beta)) as a mixture with another compound, for example, two or more of R < 13 > -R < 15 > in Formula (II) are groups derived from an epoxy group containing group. What has become may be mixed together with the epoxy compound (β). In particular, when tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate is used as the epoxy compound (β), two or more glycidyl groups (2,3-epoxypropyl groups) are derived from the glycidyl group. What was converted into the group may be mixed together with the epoxy compound (β). However, if two or more glycidyl groups (2,3-epoxypropyl groups) are converted into groups derived from glycidyl groups, the resulting epoxy resin composition is likely to yellow. Therefore, the abundance thereof is preferably 20% by weight or less, and more preferably 15% by weight or less with respect to the epoxy compound (β).

エポキシ化合物(β)のエポキシ当量は、特に限定されないが、通常100〜500g/当量、好ましくは100〜200g/当量である。   Although the epoxy equivalent of an epoxy compound ((beta)) is not specifically limited, Usually, it is 100-500 g / equivalent, Preferably it is 100-200 g / equivalent.

式(II)で示されるエポキシ化合物(β)は、従来公知の方法により製造することができ、市販品を利用することも可能である。エポキシ化合物(β)として、特に好適に用いられる市販品としては、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートを無水プロピオン酸と反応させることにより、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートのグリシジル基(2,3−エポキシプロピル基)の一部を2,3−ビス(プロピオニルオキシ)プロピル基に変換してなる日産化学工業社製の「TEPIC PAS B26」や「TEPIC PAS B22」を挙げることができる。   The epoxy compound (β) represented by the formula (II) can be produced by a conventionally known method, and a commercially available product can also be used. As an epoxy compound (β), a commercially available product that is particularly preferably used is tris- (2,3-epoxypropyl) by reacting tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate with propionic anhydride. -“TEPIC PAS B26” or “TEPIC PAS” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., which is obtained by converting a part of glycidyl group (2,3-epoxypropyl group) of isocyanurate into 2,3-bis (propionyloxy) propyl group B22 ".

本発明のエポキシ樹脂組成物のエポキシ化合物成分((A)成分)において、エポキシ化合物(α)とエポキシ化合物(β)との重量比は、特に限定されないが、エポキシ化合物(α):エポキシ化合物(β)の値として、20:80〜80:20であることが好ましく、40:60〜60:40であることがより好ましい。エポキシ化合物(α)とエポキシ化合物(β)との重量比がこの範囲にあると、得られるエポキシ樹脂組成物は、特に黄変しがたい硬化物を与えることができるものとなる。   In the epoxy compound component (component (A)) of the epoxy resin composition of the present invention, the weight ratio of the epoxy compound (α) to the epoxy compound (β) is not particularly limited, but epoxy compound (α): epoxy compound ( The value of β) is preferably 20:80 to 80:20, and more preferably 40:60 to 60:40. When the weight ratio of the epoxy compound (α) and the epoxy compound (β) is within this range, the resulting epoxy resin composition can give a cured product that is not particularly easily yellowed.

本発明のエポキシ樹脂組成物で必須の成分として用いられる(B)成分は、硬化剤である。硬化剤は、光や熱などによりエポキシ化合物のエポキシ基と反応できる反応基を有し、その反応基とエポキシ化合物のエポキシ基とが反応することによりエポキシ化合物成分を架橋して硬化しうる硬化剤であれば特に限定されず、エポキシ樹脂用硬化剤として使用される各種の硬化剤を使用することができるが、硬化性組成物の粘度を十分に低くする観点から、25℃で液体の酸無水物硬化剤が好適に用いられる。この25℃で液体の酸無水物硬化剤としては、分子中に、脂肪族環または芳香族環を1個または2個有し、かつ、反応基として酸無水物基を1個または2個有する、炭素原子数4〜25個、好ましくは8〜20個の酸無水物が特に好適である。この酸無水物硬化剤として好適に用いられる化合物の具体例としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、グルタル酸無水物などを挙げることができる。これらのなかでも、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましく用いられる。これらの酸無水物硬化剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて用いることもできる。   The component (B) used as an essential component in the epoxy resin composition of the present invention is a curing agent. The curing agent has a reactive group that can react with the epoxy group of the epoxy compound by light, heat, etc., and the reactive group and the epoxy group of the epoxy compound react to cure and cure the epoxy compound component. If it is, it will not specifically limit, The various hardening | curing agents used as a hardening | curing agent for epoxy resins can be used, but it is liquid acid anhydride at 25 degreeC from a viewpoint of making the viscosity of a curable composition low enough. A material curing agent is preferably used. The acid anhydride curing agent which is liquid at 25 ° C. has one or two aliphatic rings or aromatic rings in the molecule, and one or two acid anhydride groups as reactive groups. Particularly preferred are acid anhydrides having 4 to 25 carbon atoms, preferably 8 to 20 carbon atoms. Specific examples of the compound suitably used as the acid anhydride curing agent include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, glutaric anhydride and the like. Can be mentioned. Of these, methylhexahydrophthalic anhydride is preferably used. These acid anhydride curing agents may be used singly or in combination of two or more.

また、硬化剤として、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などの常温で固体の酸無水物硬化剤も使用することが可能であり、これらの常温で固体の酸無水物硬化剤を用いる場合は、25℃で液体の酸無水物硬化剤に溶解させて、常温で液状の混合物として使用することが好ましい。本発明において特に好ましく用いられる硬化剤としては、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸とヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物を挙げることができる。   Further, as the curing agent, for example, acid anhydride curing agents that are solid at room temperature such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride can be used. When using an acid anhydride curing agent that is solid at room temperature, it is preferably dissolved in a liquid acid anhydride curing agent at 25 ° C. and used as a liquid mixture at room temperature. Examples of the curing agent particularly preferably used in the present invention include methylhexahydrophthalic anhydride, and a mixture of methylhexahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride.

酸無水物硬化剤は、市販品を入手可能であり、その例としては、「リカシッドMH−700」、「リカシッドMH−700G」、「リカシッドHNA−100」(以上、新日本理化社製)、「HN−5500E」、「HN−7000」(以上、日立化成工業社製)、グルタル酸無水物(ジャパンエポキシレジン社製)を挙げることができる。   As the acid anhydride curing agent, commercially available products are available, and examples thereof include “Licacid MH-700”, “Licacid MH-700G”, “Licacid HNA-100” (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), Examples thereof include “HN-5500E”, “HN-7000” (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), and glutaric anhydride (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.).

硬化剤の反応基当量は、特に限定されないが、通常100〜300g/当量、好ましくは150〜200g/当量である。   Although the reactive group equivalent of a hardening | curing agent is not specifically limited, Usually, it is 100-300 g / equivalent, Preferably it is 150-200 g / equivalent.

本発明のエポキシ樹脂組成物における、硬化剤の量は、特に限定されないが、組成物中に含まれるエポキシ化合物全体のエポキシ基のモル数に対する硬化剤のエポキシ基と反応する基のモル数の比が、通常0.5〜2.0、好ましくは0.8〜1.2、特に好ましくは0.9〜1.1となるように硬化剤の量を決定すればよい。すなわち、用いるエポキシ化合物それぞれについての重量をエポキシ当量で除した値の総和に対する硬化剤の重量を反応基当量で除した値の比が、上記の範囲となるように硬化剤の量を決定すればよい。硬化剤の量をこのような範囲とすることにより、得られるエポキシ樹脂組成物を、特に成形性や硬化速度に優れたものとすることができる。   The amount of the curing agent in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but the ratio of the number of moles of the group that reacts with the epoxy group of the curing agent to the number of moles of the epoxy group of the entire epoxy compound contained in the composition. However, what is necessary is just to determine the quantity of a hardening | curing agent so that it may become 0.5-2.0 normally, Preferably it is 0.8-1.2, Most preferably, it is 0.9-1.1. That is, if the amount of the curing agent is determined so that the ratio of the value obtained by dividing the weight of the curing agent by the reactive group equivalent to the sum of the values obtained by dividing the weight of each epoxy compound by the epoxy equivalent is within the above range. Good. By making the quantity of a hardening | curing agent into such a range, the epoxy resin composition obtained can be made excellent in especially a moldability and a cure rate.

本発明のエポキシ樹脂組成物で必須の成分として用いられる(C)成分は、硬化促進剤である。硬化促進剤は、硬化剤((B)成分)によるエポキシ化合物成分((A)成分)の硬化(架橋反応)を促進させるものであれば特に限定されず、エポキシ樹脂用硬化促進剤として使用される各種の硬化促進剤を使用することができる。   The component (C) used as an essential component in the epoxy resin composition of the present invention is a curing accelerator. The curing accelerator is not particularly limited as long as it accelerates the curing (crosslinking reaction) of the epoxy compound component (component (A)) by the curing agent (component (B)), and is used as a curing accelerator for epoxy resin. Various curing accelerators can be used.

硬化促進剤の具体例としては、ベンジルジメチルアミン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ジメチルシクロヘキシルアミンなどの3級アミン系硬化促進剤;1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾールなどのイミダゾール系硬化促進剤;トリフェニルホスフィン、亜リン酸トリフェニルなどの有機リン系硬化促進剤;テトラブチルホスホニウムジエチルホスホロジチオエート、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、メチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイドなどの4級ホスホニウム塩系硬化促進剤;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7などやその有機酸塩などのジアザビシクロアルケン系硬化促進剤;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫やアルミニウムアセチルアセトン錯体などの有機金属化合物系硬化促進剤;テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩系硬化促進剤;三フッ化ホウ素、トリフェニルボレートなどのホウ素化合物系硬化促進剤;塩化亜鉛、塩化第二錫などの金属ハロゲン化物系硬化促進剤;などが挙げられる。   Specific examples of the curing accelerator include tertiary amine-based curing accelerators such as benzyldimethylamine, tris (dimethylaminomethyl) phenol, dimethylcyclohexylamine; 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-ethyl Imidazole curing accelerators such as -4-methylimidazole and 1-benzyl-2-methylimidazole; organophosphorus curing accelerators such as triphenylphosphine and triphenyl phosphite; tetrabutylphosphonium diethyl phosphorodithioate, tetra Quaternary phosphonium salt curing accelerators such as phenylphosphonium bromide, methyltributylphosphonium dimethyl phosphate, and tetra-n-butylphosphonium bromide; 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and the like Diazabicycloalkene curing accelerators such as salts; organometallic compound curing accelerators such as zinc octylate, tin octylate and aluminum acetylacetone complexes; quaternary ammonium salt curing accelerators such as tetraethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide Agents; boron compound-based curing accelerators such as boron trifluoride and triphenylborate; metal halide-based curing accelerators such as zinc chloride and stannic chloride; and the like.

また、高融点イミダゾール化合物、ジシアンジアミド、アミンをエポキシ樹脂などに付加したアミン付加型促進剤などの高融点分散型潜在性促進剤;イミダゾール系、リン系、ホスフィン系促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性促進剤;アミン塩型潜在性硬化促進剤;ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩などの高温解離型の熱カチオン重合型の潜在性硬化促進剤;紫外線や放射線などの活性エネルギー線によりプロトンを発生する光解離型の光カチオン重合型の潜在性硬化促進剤などに代表される潜在性硬化促進剤を使用することもできる。なお、硬化促進剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   In addition, high melting point imidazole compounds, dicyandiamide, high melting point dispersion type latent accelerators such as amine addition type accelerators in which amine is added to epoxy resin, etc .; the surface of imidazole type, phosphorus type and phosphine type accelerators are coated with a polymer Microcapsule type latent accelerator; amine salt type latent curing accelerator; high temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerator such as Lewis acid salt and Bronsted acid salt; active energy rays such as ultraviolet rays and radiation It is also possible to use a latent curing accelerator typified by a photodissociation type photocationic polymerization type latent curing accelerator that generates protons. In addition, a hardening accelerator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明のエポキシ樹脂組成物における、硬化促進剤の量は、特に限定されないが、組成物中に含まれるエポキシ化合物全体100重量部に対して、通常0.1〜10重量部、好ましくは0.5〜5重量部である。   The amount of the curing accelerator in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is usually 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the whole epoxy compound contained in the composition. 5 to 5 parts by weight.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、(A)成分〜(C)成分のほかに、必要に応じてその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、反応調整剤、変色防止剤、エポキシ化合物(α)およびエポキシ化合物(β)以外のエポキシ化合物、各種添加剤などが挙げられる。   The epoxy resin composition of the present invention may contain other components as necessary in addition to the components (A) to (C). Examples of other components include reaction modifiers, discoloration inhibitors, epoxy compounds other than the epoxy compound (α) and the epoxy compound (β), and various additives.

反応調整剤は、エポキシ樹脂組成物の硬化反応を穏やかにさせる化合物である。反応調整剤としては、公知のものを利用することができる。なかでも多価アルコール化合物が好ましい。   The reaction modifier is a compound that moderates the curing reaction of the epoxy resin composition. Known reaction modifiers can be used. Of these, polyhydric alcohol compounds are preferred.

多価アルコール化合物の炭素数は、4以上が好ましく、4〜10がより好ましい。多価アルコール化合物の水酸基の数は、3以上が好ましく、3〜10がより好ましい。炭素数が4以上で、かつ、水酸基の数が3以上の多価アルコール化合物を含有するエポキシ樹脂組成物を用いることで、より耐熱性に優れる硬化物を得ることができる。多価アルコール化合物の具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンなどが挙げられる。多価アルコール化合物は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。多価アルコール化合物を含有する場合、その含有量は、エポキシ樹脂組成物の硬化剤((B)成分)に対して、通常3〜20重量%、好ましくは3〜15重量%、より好ましくは3〜10重量%である。   4 or more are preferable and, as for carbon number of a polyhydric alcohol compound, 4-10 are more preferable. The number of hydroxyl groups in the polyhydric alcohol compound is preferably 3 or more, more preferably 3 to 10. By using an epoxy resin composition containing a polyhydric alcohol compound having 4 or more carbon atoms and 3 or more hydroxyl groups, a cured product having more excellent heat resistance can be obtained. Specific examples of the polyhydric alcohol compound include ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane and the like. A polyhydric alcohol compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. When the polyhydric alcohol compound is contained, the content thereof is usually 3 to 20 wt%, preferably 3 to 15 wt%, more preferably 3 with respect to the curing agent (component (B)) of the epoxy resin composition. -10% by weight.

変色防止剤は、硬化物の変色を防止する化合物である。変色防止剤としては、リン系変色防止剤、ヒンダードフェノール系変色防止剤、チオエーテル系変色防止剤などが挙げられる。これらの変色防止剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The discoloration preventing agent is a compound that prevents discoloration of the cured product. Examples of the discoloration preventing agent include phosphorus-based discoloration preventing agents, hindered phenol-based discoloration preventing agents, and thioether-based discoloration preventing agents. These discoloration inhibitors can be used alone or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物がリン系変色防止剤を含有する場合、その含有量は、エポキシ化合物成分((A)成分)に対して、通常0.5重量%以上、好ましくは0.5〜5重量%である。   When the epoxy resin composition of the present invention contains a phosphorus-based discoloration inhibitor, the content thereof is usually 0.5% by weight or more, preferably 0.5 to the epoxy compound component (component (A)). 5% by weight.

エポキシ化合物(α)およびエポキシ化合物(β)以外のエポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂などの、ビスフェノール型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂などのノボラック型エポキシ樹脂;3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、リモネンジエポキシド、エポキシ化3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸ビス3−シクロヘキセニルメチルエステルおよびそのε−カプロラクトン付加物、エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス−3−シクロヘキセニルメチルエステルおよびそのε−カプロラクトン付加物などのエポキシ化合物(α)以外の脂環式エポキシ樹脂;水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂などの水添ビスフェノール型エポキシ樹脂;水添フェノールノボラック型エポキシ樹脂、水添クレゾールノボラック型エポキシ樹脂などの水添ノボラック型エポキシ樹脂;エポキシ化合物(β)以外の含複素環エポキシ樹脂などが挙げられる。これらのその他のエポキシ化合物は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。本発明のエポキシ樹脂組成物において、エポキシ化合物(α)およびエポキシ化合物(β)以外のエポキシ化合物の含有量は、特に限定されないが、エポキシ樹脂組成物中の全エポキシ化合物に対する割合として、好ましくは0〜50重量%であり、より好ましくは0〜45重量%である。   Specific examples of the epoxy compound other than the epoxy compound (α) and the epoxy compound (β) include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, and bisphenol AD type epoxy resin. Resin; Novolac type epoxy resin such as phenol novolac type epoxy resin and orthocresol novolac type epoxy resin; 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate Limonene diepoxide, epoxidized 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid bis-3-cyclohexenyl methyl ester and its ε-caprolactone adduct, epoxidized butanetetraca Alicyclic epoxy resins other than epoxy compounds (α) such as tetrakis-3-cyclohexenyl methyl ester of boronic acid and its ε-caprolactone adduct; water such as hydrogenated bisphenol A type epoxy resin and hydrogenated bisphenol F type epoxy resin Examples thereof include hydrogenated bisphenol type epoxy resins; hydrogenated phenol novolac type epoxy resins, hydrogenated novolac type epoxy resins such as hydrogenated cresol novolac type epoxy resins; and heterocyclic-containing epoxy resins other than the epoxy compound (β). These other epoxy compounds can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. In the epoxy resin composition of the present invention, the content of the epoxy compound other than the epoxy compound (α) and the epoxy compound (β) is not particularly limited, but is preferably 0 as a ratio to the total epoxy compounds in the epoxy resin composition. -50% by weight, more preferably 0-45% by weight.

添加剤としては、シリコーン系やフッ素系の消泡剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、充填剤、難燃剤、着色剤、酸化防止剤(フェノール系、リン系、イオウ系酸化防止剤など)、紫外線吸収剤、蛍光体、イオン吸着体、染料、顔料、低応力化剤、可撓性付与剤、離型剤、ワックス類、ハロゲントラップ剤、レベリング剤、濡れ改良剤などが挙げられる。本発明の効果を阻害しない限り、添加剤の含有量は特に限定されない。本発明のエポキシ樹脂組成物は、任意の量の添加剤を含有してもよい。   Additives include silicone-based and fluorine-based antifoaming agents, silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, fillers, flame retardants, colorants, antioxidants (phenolic, phosphorus, Sulfur antioxidants, etc.), UV absorbers, phosphors, ion adsorbents, dyes, pigments, stress reducing agents, flexibility imparting agents, mold release agents, waxes, halogen trapping agents, leveling agents, wetting improvement Agents and the like. As long as the effect of the present invention is not impaired, the content of the additive is not particularly limited. The epoxy resin composition of the present invention may contain any amount of additives.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した(A)〜(C)成分と、必要に応じて用いられるその他の成分を、公知の方法に従って撹拌、混合することにより調製することができる。撹拌、混合の際の温度は、配合する成分によっても異なるが、10〜80℃程度であるのが好ましい。調製時の温度が低すぎると、粘度が高すぎて均一な撹拌、混合作業が困難になるおそれがあり、逆に、調製時の温度が高すぎると、硬化反応が起き、この場合もエポキシ樹脂組成物の粘度が高くなるおそれがあるので、好ましくない。   The epoxy resin composition of the present invention can be prepared by stirring and mixing the components (A) to (C) described above and other components used as necessary according to a known method. Although the temperature at the time of stirring and mixing changes also with the components to mix | blend, it is preferable that it is about 10-80 degreeC. If the temperature at the time of preparation is too low, the viscosity may be too high and uniform stirring and mixing operations may be difficult. Conversely, if the temperature at the time of preparation is too high, a curing reaction will occur. This is not preferable because the viscosity of the composition may increase.

撹拌や混合をする際は、例えば、三本ロール、ニーダー、万能攪拌機、ボールミル、プラネタリーミキサー、ホモジナイザー、ホモディスパーザーなどを用いることができる。   When stirring or mixing, for example, a three roll, kneader, universal stirrer, ball mill, planetary mixer, homogenizer, homodisperser, or the like can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化速度に優れ、しかも、光透過性に優れ、かつ、高温下に長時間置かれても黄変しがたい硬化物を与えることができるものである。したがって、本発明のエポキシ樹脂組成物は、封止剤として好ましく用いられ、なかでも光半導体封止剤として特に好ましく用いられる。   The epoxy resin composition of the present invention can provide a cured product that is excellent in curing speed, excellent in light transmittance, and hardly yellows even when placed at a high temperature for a long time. Therefore, the epoxy resin composition of the present invention is preferably used as a sealing agent, and particularly preferably used as an optical semiconductor sealing agent.

本発明の光半導体封止剤は、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物からなるものであって、光半導体素子を封止する目的で用いられるものである。本発明の光半導体封止剤を用いる際には、例えば、光半導体素子を封止すべく、所定の場所に塗布した後、このものを加熱して硬化させることにより封止材により封止された光半導体素子を得ることができる。   The optical semiconductor sealing agent of the present invention comprises a cured product of the epoxy resin composition of the present invention and is used for the purpose of sealing an optical semiconductor element. When using the optical semiconductor sealing agent of the present invention, for example, to seal the optical semiconductor element, it is sealed with a sealing material by applying it to a predetermined place and then curing it by heating. An optical semiconductor device can be obtained.

光半導体封止剤の塗布方法は特に限定されず、例えば、ロールコート法、スプレー法、ディップ法などを用いることができる。加熱温度は、通常、100〜200℃、好ましくは100〜180℃、より好ましくは100〜150℃である。加熱時間は、通常、1〜24時間、好ましくは2〜12時間である。また、急激に硬化反応が進行すると、内部応力によるクラックの発生を誘引するおそれがあるため、段階的に加熱温度を変化させることが好ましい。例えば、1次硬化を100〜130℃で1〜3時間程度、2次硬化を130〜180℃で2〜6時間程度行うことで、クラックの発生を抑えることができる。   The method for applying the optical semiconductor sealing agent is not particularly limited, and for example, a roll coating method, a spray method, a dip method, or the like can be used. The heating temperature is usually 100 to 200 ° C, preferably 100 to 180 ° C, more preferably 100 to 150 ° C. The heating time is usually 1 to 24 hours, preferably 2 to 12 hours. In addition, if the curing reaction proceeds abruptly, there is a risk of inducing cracks due to internal stress. Therefore, it is preferable to change the heating temperature step by step. For example, generation of cracks can be suppressed by performing primary curing at 100 to 130 ° C. for about 1 to 3 hours and secondary curing at 130 to 180 ° C. for about 2 to 6 hours.

本発明の光半導体封止剤は、硬化速度に優れるため、生産性良く光半導体装置を製造することができ、しかも、光透過性に優れ、高温下に長時間置かれても黄変しにくいものである。これらの特性を有するため、本発明の光半導体封止剤は、光半導体素子の発光体を封止する封止剤として有用である。具体的には、本発明の光半導体封止剤は、発光ダイオード(LED)、フォトトランジスタ、フォトダイオード、フォトカプラー、電荷結合素子(CCD)、EPROM、フォトセンサーなどの光半導体素子の発光体を封止する封止剤として有用である。   Since the optical semiconductor encapsulant of the present invention has an excellent curing rate, an optical semiconductor device can be produced with high productivity, and it has excellent light transmittance and is hardly yellowed even when left at a high temperature for a long time. Is. Since it has these characteristics, the optical semiconductor sealing agent of this invention is useful as a sealing agent which seals the light-emitting body of an optical semiconductor element. Specifically, the photo-semiconductor encapsulant of the present invention is a light-emitting diode (LED), phototransistor, photo-diode, photo-coupler, charge-coupled device (CCD), EPROM, photo-sensor, etc. It is useful as a sealant for sealing.

本発明の光半導体装置は、本発明の光半導体封止剤の硬化物で封止された光半導体素子を備えてなる発光体と、この発光体を封止する本発明の封止材を有するものである。この場合の発光体としては、発光ダイオード(LED)、フォトトランジスタ、フォトダイオード、フォトカプラー、電荷結合素子(CCD)、EPROM、フォトセンサーなどの光半導体素子の発光体が挙げられる。本発明の光半導体装置は、本発明の光半導体封止剤で光半導体素子を封止したものであるため、生産性良く製造することが可能であり、しかも、輝度が高く、さらに長時間使用しても、黄変しにくいものである。   The optical semiconductor device of the present invention includes a light emitter including an optical semiconductor element sealed with a cured product of the optical semiconductor sealing agent of the present invention, and the sealing material of the present invention for sealing the light emitter. Is. Examples of the light emitter in this case include light emitters of optical semiconductor elements such as a light emitting diode (LED), a phototransistor, a photodiode, a photocoupler, a charge coupled device (CCD), an EPROM, and a photosensor. Since the optical semiconductor device of the present invention is an optical semiconductor element encapsulated with the optical semiconductor encapsulant of the present invention, it can be manufactured with good productivity, has high brightness, and is used for a long time. Even so, it is difficult to yellow.

以下に、実施例および比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。なお、各例中の部および%は、特に断りのない限り、重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, unless otherwise indicated, the part and% in each example are a basis of weight.

各種の測定および評価については、以下の方法に従って行った。   Various measurements and evaluations were performed according to the following methods.

〔テトラヒドロインデンジエポキシドの立体異性体組成比〕
ガスクロマトグラフィーにより得られたチャートのピーク面積比に基づいて算出した。なお、それぞれのピークに対応する立体異性体の同定は、H−NMRおよび13C−NMMの測定により行った(特開2013−72058号公報参照)。また、ガスクロマトグラフィーの測定条件は、以下のとおりである。
測定装置:7890A(アジレント社製)
カラム:HP−1(アジレント社製)、長さ30m、内径0.25mm、膜厚0.25μm
液相:100%−ジメチルポリシロキサン
キャリアガス:窒素
キャリアガス流量:1.0ml/分
検出器:FID
注入口温度:250℃
検出器温度:250℃
昇温パターン(カラム):50℃で10分間保持、5℃/分で250℃まで昇温
スプリット比:50
サンプル:0.5μL
[Stereoisomer composition ratio of tetrahydroindene diepoxide]
It calculated based on the peak area ratio of the chart obtained by gas chromatography. In addition, the stereoisomer corresponding to each peak was identified by measurement of 1 H-NMR and 13 C-NMM (see JP2013-72058A). Moreover, the measurement conditions of gas chromatography are as follows.
Measuring device: 7890A (manufactured by Agilent)
Column: HP-1 (manufactured by Agilent), length 30 m, inner diameter 0.25 mm, film thickness 0.25 μm
Liquid phase: 100% -dimethylpolysiloxane Carrier gas: Nitrogen carrier gas Flow rate: 1.0 ml / min Detector: FID
Inlet temperature: 250 ° C
Detector temperature: 250 ° C
Temperature rising pattern (column): held at 50 ° C. for 10 minutes, temperature rising to 5 ° C./minute up to 250 ° C. Split ratio: 50
Sample: 0.5 μL

〔硬化速度〕
試料となるエポキシ樹脂組成物1mlを、120℃に熱した鉄板上にたらし、ガラス棒で直径約50mmの円状にのばした。そして、その試料をガラス棒でかき混ぜながら、試料が溶融し始めてから、試料が硬化(ゲル化)してかき混ぜられなくなるまでの時間(硬化時間)を測定した。この測定は、1種の試料について、3回行い、その平均値を、以下の基準にしたがって、評価した。
〇:硬化時間が15分未満である
△:硬化時間が15分以上30分未満である
×:硬化時間が30分以上である
[Curing speed]
1 ml of the epoxy resin composition as a sample was placed on an iron plate heated to 120 ° C., and stretched into a circle having a diameter of about 50 mm with a glass rod. Then, while stirring the sample with a glass rod, the time (curing time) from when the sample started to melt until the sample hardened (gelled) and could not be stirred was measured. This measurement was performed three times for one type of sample, and the average value was evaluated according to the following criteria.
◯: Curing time is less than 15 minutes Δ: Curing time is 15 minutes or more and less than 30 minutes ×: Curing time is 30 minutes or more

〔成形性〕
各例において得られた硬化物を肉眼で観察し、以下の基準にしたがって、評価した。
〇:硬化物が得られ、その硬化物にボイドおよびクラックが認められない
△:硬化物が得られるが、その硬化物にボイドおよびクラックが認められる
×:硬化物が得られない
[Formability]
The cured product obtained in each example was observed with the naked eye and evaluated according to the following criteria.
◯: A cured product is obtained, and voids and cracks are not observed in the cured product. Δ: A cured product is obtained, but voids and cracks are observed in the cured product. X: A cured product is not obtained.

〔黄色度および光線透過率(初期)〕
試料となる製造直後の硬化物の透過スペクトルを、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光社製、「V−570」)にて測定し、波長400nmにおける光線透過率を求めた。また、同様に試料となる硬化物の黄色度を、分光色差計(日本電色工業社製、「SE−2000」)にて測定した。黄色度が小さいものほど色相に優れ、光線透過率は大きいものほど優れる。
[Yellowness and light transmittance (initial)]
The transmission spectrum of the cured product immediately after production as a sample was measured with an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, “V-570”), and the light transmittance at a wavelength of 400 nm was determined. Similarly, the yellowness of a cured product as a sample was measured with a spectral color difference meter (“SE-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The smaller the yellowness, the better the hue, and the higher the light transmittance, the better.

〔耐熱耐光試験後の黄色度および光線透過率〕
製造直後の硬化物を、150℃に温度設定した熱板上に設置し、これにLED(波長約450nm、光源と硬化物との距離50mm)の光を300時間照射した。この硬化物を試料として、前項と同様にして、波長400nmにおける光線透過率を求め、黄色度を測定した。
[Yellowness and light transmittance after heat and light resistance test]
The cured product immediately after production was placed on a hot plate set at 150 ° C., and this was irradiated with light from an LED (wavelength of about 450 nm, distance between the light source and the cured product) of 300 hours. Using this cured product as a sample, the light transmittance at a wavelength of 400 nm was determined in the same manner as in the previous section, and the yellowness was measured.

〔合成例(テトラヒドロインデンジエポキシドの合成)〕
温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、3a,4,7,7a−テトラヒドロインデン40.0g(0.333mol)をアセトン400mlに溶解させ、さらに、炭酸水素ナトリウム201.3g(2.396mol)および蒸留水400mlを加えた。得られた混合液を水浴で10℃に冷却した後、過硫酸塩化合物(デュポン社製、「オキソン」)327.4g(0.532mol)を加え、反応液の液温が20〜30℃になるように水浴温度を調整しながら2時間攪拌した。その後、反応液を0℃に冷却し、10%水酸化ナトリウム水溶液300ml、蒸留水300ml、および飽和食塩水300mlを加え、n−ヘキサン500mlで2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物を真空乾燥させることで、粗テトラヒドロインデンジエポキシドを41.5g得た(収率82%)。この粗テトラヒドロインデンジエポキシドについて、立体異性体組成比を求めたところ、表1に示すとおりの立体異性体組成比であった。
[Synthesis example (synthesis of tetrahydroindene diepoxide)]
In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 40.0 g (0.333 mol) of 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene was dissolved in 400 ml of acetone in a nitrogen stream, and further 201.3 g of sodium hydrogen carbonate. (2.396 mol) and 400 ml of distilled water were added. After cooling the obtained mixed liquid to 10 ° C. with a water bath, 327.4 g (0.532 mol) of a persulfate compound (manufactured by DuPont, “Oxone”) was added, and the liquid temperature of the reaction liquid was adjusted to 20-30 ° C. The mixture was stirred for 2 hours while adjusting the water bath temperature. Thereafter, the reaction solution was cooled to 0 ° C., 300 ml of a 10% aqueous sodium hydroxide solution, 300 ml of distilled water, and 300 ml of saturated brine were added, and extracted twice with 500 ml of n-hexane. The organic layer was collected, dried over anhydrous sodium sulfate, and sodium sulfate was filtered off. The filtrate was concentrated using a rotary evaporator, and then the concentrate was vacuum-dried to obtain 41.5 g of a crude tetrahydroindene diepoxide (yield 82%). About this crude tetrahydroindene diepoxide, when the stereoisomer composition ratio was calculated | required, it was a stereoisomer composition ratio as shown in Table 1.

〔精製例(テトラヒドロインデンジエポキシドの精製)〕
合成例で得た粗テトラヒドロインデンジエポキシド40.1gを、小型高速回転バンド式精密蒸留装置(東科精機社製、「HSB−605FF」)を用いて減圧蒸留(真空度0.3kPa)により精製した。得られた精製テトラヒドロインデンジエポキシドについて、立体異性体組成比を求めたところ、表1に示すとおりの立体異性体組成比であった。
[Purification example (purification of tetrahydroindene diepoxide)]
40.1 g of the crude tetrahydroindene diepoxide obtained in the synthesis example was purified by vacuum distillation (vacuum degree 0.3 kPa) using a small high-speed rotation band type precision distillation apparatus (“HSB-605FF” manufactured by Toshin Seiki Co., Ltd.). did. When the stereoisomer composition ratio was calculated | required about the obtained refined tetrahydroindene diepoxide, it was a stereoisomer composition ratio as shown in Table 1.

Figure 2015168778
Figure 2015168778

〔実施例1〕
精製例で得た精製テトラヒドロインデンジエポキシド(エポキシ当量80g/当量)50部、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート1モルに対して無水プロピオン酸0.4モルを反応させて得られるエポキシ化合物(下記式(IV−1)、(IV−2)および(IV−3)で示される化合物をモル比で式(IV−1):(IV−2):(IV−3)=60:32:8の割合で含有、日産化学工業社製、「TEPIC PAS B26」、エポキシ当量130〜140g/当量)50部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸およびヘキサヒドロ無水フタル酸の混合物(新日本理化社製、「リカシッド MH−700G」、反応基(酸無水物基)当量163g/当量)155部、硬化促進剤として、テトラブチルホスホニウムジエチルホスホロジチオエート(日本化学工業社製、「ヒシコーリン PX−4ET」)1部、および反応調整剤として、エチレングリコール(東京化成工業社製)1部を、プラネタリーミキサーで25℃において10分間攪拌することにより、実施例1のエポキシ樹脂組成物を調製した。この実施例1のエポキシ樹脂組成物については、硬化速度を評価した。実施例1のエポキシ樹脂組成物の組成および硬化速度の評価結果は表2にまとめて示した。
[Example 1]
Obtained by reacting 50 parts of purified tetrahydroindene diepoxide (epoxy equivalent 80 g / equivalent) obtained in the purification example and 0.4 mole of propionic anhydride with 1 mole of tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate. Epoxy compounds (compounds represented by the following formulas (IV-1), (IV-2) and (IV-3)) in a molar ratio of the formulas (IV-1) :( IV-2) :( IV-3) = 60: 32: 8 content, manufactured by Nissan Chemical Industries, "TEPIC PAS B26", epoxy equivalent 130-140 g / equivalent) 50 parts, as a curing agent, a mixture of methylhexahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride (Nippon Rika Co., Ltd., “Licacid MH-700G”, reactive group (anhydride group) equivalent 163 g / equivalent) 155 parts, tetrabutyl phosphate as a curing accelerator 1 part of honium diethyl phosphorodithioate (Nippon Chemical Industry Co., Ltd., “Hishicolin PX-4ET”) and 1 part of ethylene glycol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as reaction modifiers at 25 ° C. with a planetary mixer The epoxy resin composition of Example 1 was prepared by stirring for 10 minutes. About the epoxy resin composition of this Example 1, the cure rate was evaluated. The composition of the epoxy resin composition of Example 1 and the evaluation results of the curing rate are summarized in Table 2.

Figure 2015168778
Figure 2015168778

次いで、あらかじめ離型フィルムで被覆した1対(2枚)のガラス基板を、スペーサーを介在させることで3mmの隙間が形成されるように積層し、この隙間に得られた実施例1のエポキシ樹脂組成物を注入した。次いで、これを120℃のオーブン内で2時間加熱することにより、エポキシ樹脂組成物を半硬化させ、さらに、150℃のオーブン内で4時間加熱することにより硬化(完全硬化)させることにより、厚さ3mmの実施例1の硬化物を得た。この実施例1の硬化物については、成形性評価、黄色度および光線透過率(初期)の測定、および耐熱耐光試験後の黄色度および光線透過率の測定を行った。実施例1のエポキシ樹脂組成物の、成形性評価結果、黄色度および光線透過率(初期)の測定結果、および耐熱耐光試験後の黄色度および光線透過率の測定結果は表2にまとめて示した。   Next, a pair of (two) glass substrates previously coated with a release film were laminated so as to form a 3 mm gap by interposing a spacer, and the epoxy resin of Example 1 obtained in this gap was obtained. The composition was injected. Next, the epoxy resin composition is semi-cured by heating in an oven at 120 ° C. for 2 hours, and further cured (completely cured) by heating in an oven at 150 ° C. for 4 hours to obtain a thickness. A cured product of Example 1 having a thickness of 3 mm was obtained. About the hardened | cured material of this Example 1, the moldability evaluation, the measurement of yellowness and light transmittance (initial stage), and the yellowness and light transmittance after a heat-resistant light-proof test were performed. Table 2 summarizes the moldability evaluation results, the yellowness and light transmittance (initial) measurement results, and the yellowness and light transmittance measurement results after the heat and light resistance test of the epoxy resin composition of Example 1. It was.

Figure 2015168778
Figure 2015168778

〔実施例2〜4および比較例1〜4〕
エポキシ樹脂組成物の組成を表2に示すとおりにそれぞれ変更したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜6および比較例1〜4のエポキシ樹脂組成物および硬化物を得て、それらの評価を行った。但し、比較例2のエポキシ樹脂組成物については、その粘度が高すぎて、成形性が悪いために、黄色度および光線透過率(初期)の測定に供することができる硬化物が得られず、これらの測定が行えなかった。実施例2〜4および比較例1〜4のエポキシ樹脂組成物および硬化物の評価結果は表2にまとめて示した。なお、表2において、「TEPIC PAS B22」はトリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート1モルに対して無水プロピオン酸0.8モルを反応させて得られるエポキシ化合物(下記式(V−1)、(V−2)、(V−3)および(V−4)で示される化合物をモル比で式(V−1):(V−2):(V−3):(V−4)=35:45:17:3の割合で含有、日産化学工業社製、「TEPIC PAS B22」、エポキシ当量180〜200g/当量)であり、「エポリード GT401」は脂環式エポキシ化合物(ブタンテトラカルボン酸 テトラ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)修飾ε−カプロラクトン、ダイセル社製、「エポリード GT401」、エポキシ当量200〜240g/当量)であり、「セロキサイド 2021P」は脂環式エポキシ化合物(3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ダイセル社製、「セロキサイド 2021P」、エポキシ当量128〜145g/当量)である。
[Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4]
Except having each changed the composition of the epoxy resin composition as shown in Table 2, it obtained the epoxy resin composition and hardened | cured material of Examples 2-6 and Comparative Examples 1-4 similarly to Example 1. And evaluated them. However, for the epoxy resin composition of Comparative Example 2, because the viscosity is too high and the moldability is poor, a cured product that can be used for measurement of yellowness and light transmittance (initial) cannot be obtained, These measurements could not be performed. The evaluation results of the epoxy resin compositions and cured products of Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 are summarized in Table 2. In Table 2, “TEPIC PAS B22” is an epoxy compound obtained by reacting 1 mol of tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate with 0.8 mol of propionic anhydride (formula (V -1), (V-2), (V-3) and (V-4) in the molar ratios of the formulas (V-1) :( V-2) :( V-3) :( V -4) = 35: 45: 17: 3, manufactured by Nissan Chemical Industries, “TEPIC PAS B22”, epoxy equivalent 180-200 g / equivalent), “Epolide GT401” is an alicyclic epoxy compound ( Butanetetracarboxylic acid tetra (3,4-epoxycyclohexylmethyl) modified ε-caprolactone, manufactured by Daicel, “Epolide GT401”, epoxy equivalent 200-240 g / equivalent) Kisaido 2021P "alicyclic epoxy compound (3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate, Daicel Corporation," CELLOXIDE 2021P ", epoxy equivalent 128~145G / eq) is.

Figure 2015168778
Figure 2015168778

表2から判るように、本発明のエポキシ樹脂組成物に相当する実施例1〜4のエポキシ樹脂組成物は、いずれも硬化速度が速く、良好に成形でき、しかも、小さい黄色度および大きい光線透過率を有し、耐熱耐光試験におけるそれらの悪化の程度が小さいものであるといえる。よって、本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化速度に優れ、しかも、光透過性に優れ、かつ、高温下で長時間光の照射を受けても黄変しがたい硬化物を与えることができるものであるといえる。一方、エポキシ化合物として、テトラヒドロインデンジエポキシドのみを用いて得た比較例1のエポキシ樹脂組成物は、硬化速度が遅く、高温下で長時間光の照射を受けると黄変を生じさせるものであった。また、エポキシ化合物として、式(II)で示されるエポキシ化合物(β)に対応する「TEPIC PAS B26」のみを用いて得た比較例2のエポキシ樹脂組成物は、その粘度が高すぎて、成形性が極めて悪いものであった。また、エポキシ化合物として、テトラヒドロインデンジエポキシドに、式(II)で示されるエポキシ化合物(β)以外のエポキシ化合物を組み合わせて得た比較例3および比較例4のエポキシ樹脂組成物は、高温下で長時間光の照射を受けると、黄変を生じさせるものであり、しかも、硬化速度が遅い場合もあった。   As can be seen from Table 2, each of the epoxy resin compositions of Examples 1 to 4 corresponding to the epoxy resin composition of the present invention has a high curing rate, can be molded well, and has a small yellowness and a large light transmission. It can be said that the degree of deterioration in the heat and light resistance test is small. Therefore, the epoxy resin composition of the present invention can give a cured product that is excellent in curing speed, excellent in light transmittance, and hard to yellow even when irradiated with light at a high temperature for a long time. It can be said that it is a thing. On the other hand, the epoxy resin composition of Comparative Example 1 obtained using only tetrahydroindene diepoxide as an epoxy compound has a slow curing rate and causes yellowing when irradiated with light at a high temperature for a long time. It was. Moreover, the epoxy resin composition of Comparative Example 2 obtained using only “TEPIC PAS B26” corresponding to the epoxy compound (β) represented by the formula (II) as the epoxy compound has a too high viscosity, and is molded. The property was extremely bad. Moreover, as an epoxy compound, the epoxy resin compositions of Comparative Example 3 and Comparative Example 4 obtained by combining tetrahydroindene diepoxide with an epoxy compound other than the epoxy compound (β) represented by the formula (II) at high temperatures When irradiated with light for a long time, yellowing occurs, and the curing speed may be slow.

Claims (4)

下記の(A)成分〜(C)成分を含有するエポキシ樹脂組成物。
(A)成分:下記式(I)
Figure 2015168778
(式中、R〜R12は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜20の炭化水素基から選択される基を表す。)
で示されるエポキシ化合物(α)と、
下記式(II)
Figure 2015168778
(式中、R13〜R15は、互いに独立して、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、エポキシ基含有基、およびエポキシ基含有基から誘導される基から選択される基を表し、R13〜R15のうちの少なくとも2つはエポキシ基含有基である。)
で示されるエポキシ化合物(β)と、を含んでなるエポキシ化合物成分
(B)成分:硬化剤
(C)成分:硬化促進剤
The epoxy resin composition containing the following (A) component-(C) component.
(A) component: following formula (I)
Figure 2015168778
(In the formula, R 1 to R 12 each independently represent a group selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
An epoxy compound (α) represented by
The following formula (II)
Figure 2015168778
(In the formula, R 13 to R 15 each independently represent a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an epoxy group-containing group, and a group derived from an epoxy group-containing group. And at least two of R 13 to R 15 are epoxy group-containing groups.)
And an epoxy compound component (B) comprising: an epoxy compound component (β): a curing agent (C) component: a curing accelerator
エポキシ化合物(α)とエポキシ化合物(β)との重量比(エポキシ化合物(α):エポキシ化合物(β))が、20:80〜80:20である請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the weight ratio of the epoxy compound (α) to the epoxy compound (β) (epoxy compound (α): epoxy compound (β)) is 20:80 to 80:20. 請求項1または2に記載のエポキシ樹脂組成物からなる光半導体封止剤。   An optical semiconductor sealing agent comprising the epoxy resin composition according to claim 1. 請求項3に記載の光半導体封止剤の硬化物で封止された光半導体素子を備えてなる光半導体装置。   An optical semiconductor device comprising an optical semiconductor element sealed with a cured product of the optical semiconductor sealing agent according to claim 3.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2018096967A1 (en) * 2016-11-24 2018-05-31 日産化学工業株式会社 Photopolymerizable composition containing alicyclic epoxy compound for imprint molding
CN114341678A (en) * 2019-10-25 2022-04-12 株式会社Lg化学 Light modulation device

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