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JP2015152570A - 電圧検出回路 - Google Patents

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JP2015152570A
JP2015152570A JP2014029680A JP2014029680A JP2015152570A JP 2015152570 A JP2015152570 A JP 2015152570A JP 2014029680 A JP2014029680 A JP 2014029680A JP 2014029680 A JP2014029680 A JP 2014029680A JP 2015152570 A JP2015152570 A JP 2015152570A
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崇智 大江
Takasato Oe
崇智 大江
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Fuji Electric Co Ltd
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Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

【課題】占有面積が小さい、製品の縮小化と製造コストの低減を図ることができる電圧検出回路を提供する。
【解決手段】電圧検出部1は上側のn型デプレッションMOSFET(Q1)と、Q1に直列接続する下側のn型デプレッションMOSFET(Q2)と、Q1のドレイン11に接続する電源20の高電位側2を備える。Q1のソース12とQ2のドレイン13は接続点Aを介して接続し、Q2のソース14はグランド3に接続する。また、Q1,Q2のそれぞれのゲート15,16はそれぞれのソース12,14に接続する。Q1,Q2の接続点Aをインバータ4の入力に接続する。電圧検出部1を2つのデプレッションMOSFETで構成し、その接続点Aを直接インバータに接続することで、部品点数が削減され電圧検出回路の占有面積を小さくできる。
【選択図】 図1

Description

この発明は、電源電圧が上昇するとき低電圧範囲の電源電圧を検出する電圧検出回路に関する。
図8は、従来の電圧検出回路500の回路図である。電圧検出回路500は電圧検出部51とコンパレータ59および基準電圧Eoを出力する基準電圧回路58を備える。また、電圧検出部51は、電源70の高電位側52と抵抗R2が接続され、抵抗R2と抵抗R3,R4,R5,R6,R7が直列に接続されている。また、抵抗R7はグランド53に接続されている。抵抗R4と抵抗R5の接続部Bがコンパレータ59の「+」に接続されている。コンパレータ59の「−」は、基準電圧回路58の「+」(高電位側)に接続され、基準電圧回路58の「−」(低電位側)はグランド53に接続されている。コンパレータ59の出力端子から出力される出力信号が電源電圧検出信号55である。これらの抵抗はポリシリコンやシリコン内に形成した拡散層で形成することが多い。
つぎに、図8の電圧検出回路500の動作を説明する。例えば、電源電圧E(電源70の高電位側52の電圧)が上昇していく場合、電源電圧Eを抵抗R2,R3,R4,R5,R6,R7で分圧した各電圧も上昇し、R4とR5の接続点Bの電圧(動作電圧V1)も上昇しながら、コンパレータ9の「+」に入力される。一方、コンパレータ9の「−」には基準電圧回路8の「+」(高電位側)が接続されており一定の基準電圧Eoが入力されている。
前記の電源電圧Eを分圧した電圧(接続点Bの電圧で動作電圧V1のこと)が、その基準電圧Eoより大きくなると、コンパレータ59の出力である電源電圧Eの検出信号(電源電圧検出信号55)が反転する。この反転により、電源電圧Eが所定の電圧になったことを検出する。電源電圧Eが所定の電圧になった時点で、この電源70で駆動される図示しない集積回路は動作を開始し、電源電圧Eがさらに上昇する期間も集積回路は正常に動作を継続する。前記の電源電圧E(高電位側52の電圧)の所定の電圧(検出電圧E1)、例えば3Vとしたとき、電源電圧Eが上昇し、EがE1=3Vになったことを検出する場合について説明する。ここでは、(R2+R3+R4):(R5+R6+R7)=1:1とする。この場合、接続点Bの電圧(動作電圧V1)は常に電源電圧Eの0.5倍になる。
コンパレータ「+」には0.5×電源電圧Eが入力されるので、前記したように検出電圧E1を3Vとした場合、基準電圧Eoを1.5Vに設定する。そうすると、電源電圧EがE1=3Vになったとき,つまり、動作電圧V1=1.5V(=Eo)になったとき、電源電圧検出信号5が反転し、電源電圧EがE1=3Vに達したことを検出することができる。
また、図8の従来の電圧検出回路500のコンパレータ59は、例えば、図9に示す構成をしており、基準電圧回路58は、例えば、図10や図11に示す構成をしている。
尚、前記の図9〜図11の符号で、52は電源の高電位側、56は入力信号、57は出力信号(電源電圧検出信号となる)、60は定電流源、61は基準電圧(前記のEoに相当する電圧)、M10,M11、M12,M13,M14、M18,M19,M20はpチャネルMOSFET,M15,M16,M17,M21,M22,M23はnチャネルMOSFET、T1,T2はバイポーラトランジスタ、R8〜R13は抵抗である。
また、前記の図9に示すコンパレータ59は、例えば、特許文献6に記載されている。また、図10および図11に示す基準電圧回路58は、例えば、特許文献7および特許文献8にそれぞれ記載されている。
また、特許文献1には、電圧検出部がデプレッションMOSFETで構成され、電圧検出値を決定する素子がインバータで構成される電圧検出回路が記載されている。この電圧検出回路では、両デプレッションMOSFETのゲートがグランドに接続されている。そのため、電源電圧を1にしたときの両デプレッションMOSFETが接続する接続点の電圧の比は0.5より大幅に小さくなり、電源電圧が下降する過程で高い電源電圧範囲を検出する電圧検出回路として用いられる。また、この電圧検出回路には電圧検出部とインバータの間に中間回路が設けられている。
また、特許文献2には、電圧検出部がn型デプレッションMOSFETとn型エンハンスメントMOSFETで構成され、電圧検出値を決定する素子がインバータである電圧検出回路が記載されている。
また、特許文献3〜5には、インバータ回路として、抵抗とn型エンハンスメントMOSFETからなるものやn型デプレッションMOSFETとn型エンハンスメントMOSFETからなるものが記載されている。
特公平7−43952号公報 特開昭61−165664号公報 特開昭57−101767号公報 特開昭52−123183号公報 特開昭62−65377号公報 特許第5010514号公報 図10 特許第3826279号公報 図9 特許第4919776号公報 図5
図8の従来の電圧検出回路500において、図9のコンパレータ59と、図10または図11の基準電圧回路58を用いた場合の回路を構成する部品点数について説明する。
図9のコンパレータ59の構成素子数は、MOSの素子数9個と定電流源1個とで合計10個となる。図10の基準電圧回路58の構成素子数は、抵抗の素子数6個、MOSの素子数6個およびバイポーラトランジスタの素子数2個の合計14個となる。図11の基準電圧回路58の構成素子数はMOSの素子数2個である。
図9のコンパレータ59と図10の基準電圧回路58と電圧検出部51とで図8の従来の電圧検出回路500を構成する場合、構成素子数は、電圧検出部51の抵抗6個(抵抗R2,R3,R4,R5,R6,R7)、コンパレータ59の構成素子数10個および基準電圧回路58の構成素子数14個の計26個である。
図9のコンパレータ59と図11の基準電圧回路58と電圧検出部51とで図8の従来の電源電圧検出回路500を構成する場合、構成素子数は、電圧検出部51の抵抗6個、コンパレータ59の構成素子数10個および基準電圧回路58の構成素子数2個の計18個である。
このように構成素子数が多いために、電圧検出回路500の占有面積が大きく、これを搭載すた製品のサイズが大きくなり、また、製造コストが高くなってしまうという問題を生じる。
また、特許文献1では、電源電圧の低下を検出する電圧範囲が高電圧の電圧検出回路であり、上昇を検出する電圧範囲が低電圧の電圧検出回路については記載されていない。また、デプレッションMOSFETを直接インバータに接続せず、中間回路を設けているため、部品点数が多く、電圧検出回路の占有面積が大きくなり、これを搭載した製品のサイズが大きくなる。その結果、製造コストが増大する。
また、特許文献2では、電圧検出部をデプレッションMOSFETのみで構成した例は記載されていない。
また、特許文献3〜5では、電圧検出部をゲートがソースに接続した2つのデプレッションMOSFETのみで構成し、これをインバータに直接接続する電圧検出回路については記載されていない。
この発明の目的は、前記の課題を解決して、占有面積が小さい、製品の縮小化と製造コストの低減を図ることができる電圧検出回路を提供することである。
前記の目的を達成するために、特許請求の範囲の請求項1に記載の発明によれば、2つのデプレッションMOSFETを直列接続し、電源の高電位側に前記直列接続された前記デプレッションMOSFETの一方を接続し、前記電源の低電位側に前記デプレッションMOSFETの他方を接続し、直列接続した接続点の電圧が動作点の電圧となり、該動作点の電圧が入力されるインバータを備える電圧検出回路において、前記電源の電圧が上昇する過程で、前記電源電圧が検出電圧に達したとき、前記動作点の電圧が前記インバータのしきい値電圧に達する構成とする。
また、特許請求の範囲の請求項2に記載の発明によれば、請求項1に記載の発明において、前記2つのデプレッションMOSFETが同一の特性を有し、前記デプレッションMOSFETが,前記検出電圧以上でピンチオフすると好ましい。
また、特許請求の範囲の請求項3に記載の発明によれば、請求項1に記載の発明において、前記2つのデプレッションMOSFETの内、前記電源の高電位側に接続するデプレッションMOSFETの飽和電流が前記電源の低電位側に接続するデプレッションMOSFETの飽和電流より大きいとよい。
また、特許請求の範囲の請求項4に記載の発明によれば、請求項3に記載の発明において、前記2つのデプレッションMOSFETは、前記検出電圧未満でピンチオフすると好ましい。
また、特許請求の範囲の請求項4に記載の発明によれば、請求項1に記載の発明において、前記2つのデプレッションMOSFETが不飽和特性を有するとよい。
この発明によれば、電圧検出回路の占有面積を小さくすることができて、この電圧検出回路を搭載した製品の縮小化と低コスト化を実現することができる。
この発明に係る第1実施例の電圧検出回路100の回路図である。 図1のn型デプレッションMOSFET(Q1、Q2)で構成した電圧検出部1について説明した図であり、(a)は回路図、(b)はn型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)の電流−電圧曲線31,32の図(特性図)、(c)は電圧検出部1の接続点Aの電圧(動作電圧Vo)を説明する図である。 図1のインバータ4の各種回路構成図であり、(a)は抵抗とn型エンハンスメントMOSFETで構成された図、(b)はn型デプレッションMOSFETとn型エンハンスメントMOSFETで構成された図、(c)はn型デプレッションMOSFETとn型エンハンスメントMOSFETで、n型デプレッションMOSFETのバックゲートをグランド電位にした図、(d)はp型エンハンスメントMOSFETとn型エンハンスメントMOSFETで構成された図である。 電圧検出回路100の動作原理を説明する回路図である。 電圧検出回路100の動作原理を説明する動作説明図であり、(a)は電流−電圧曲線32に対する電流−電圧曲線31の移動と動作電流Ioと動作電圧Voの軌跡を示す図、(b)は電源電圧検出信号5の反転を示す図である。 飽和電流の異なるn型デプレッションMOSFET(Q3,Q4)を用いた場合の動作点Qを説明する図である。 不飽和特性のn型デプレッションMOSFET(Q5,Q6)を用いた場合の動作点Qを説明する図である。 従来の電圧検出回路500の回路図である。 図8の従来の電圧検出回路500のコンパレータ59の回路図である。 図8の従来の電圧検出回路500の基準電圧の回路図である。 図8の従来の電圧検出回路500の別の基準電圧の回路図である。
実施の形態を以下の実施例で説明する。
図1は、この発明に係る第1実施例の電圧検出回路100の回路図である。この電圧検出回路100は、電圧検出部1とインバータ4を備える。電圧検出部1は上側のn型デプレッションMOSFET(Q1)と、Q1に直列接続する下側のn型デプレッションMOSFET(Q2)と、Q1のドレイン11に接続する電源20の高電位側2を備える。Q1のソース12とQ2のドレイン13は接続点Aを介して接続し、Q2のソース14はグランド3に接続する。また、Q1,Q2のそれぞれのゲート15,16はそれぞれのソース12,14に接続する。Q1,Q2の接続点Aの電圧は電圧検出部1の動作電圧Voとなり、インバータ4に入力される。また、インバータからは電源電圧検出信号5が出力される。図中の符号でVth(inv)はインバータ4のしきい値電圧、Esensは電源20の検出電圧である。
尚、n型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)とは、n型チャネルのMOS構造で、デプレッション型の電界効果トランジスタのことである。
図2は、図1のn型デプレッションMOSFET(Q1、Q2)で構成した電圧検出部1について説明した図であり、同図(a)は回路図、同図(b)はn型デプレッションMOSFET(Q1)の電流−電圧曲線31とn型デプレッションMOSFET(Q2)の電流−電圧曲線32の図(特性図)、同図(c)は電圧検出部1の接続点Aの電圧(動作電圧Vo)を説明する図である。
同図(a)において、2つの同一特性のn型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)が直列接続し、上側のn型デプレッションMOSFET(Q1)のソース12と下側のn型デプレッションMOSFET(Q2)のドレイン13はA点で接続する。上下のn型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)のそれぞれのソース12,14とそれぞれのゲート15,16は接続されている。
同図(b)において、電流−電圧曲線31,32はドレイン電圧Vd1、Vd2が0VからV11、V21までは活性領域F1,F2であり、ドレイン電圧Vd1、Vd2と共にドレイン電流Id1、Id1が増大する領域である。また、ドレイン電圧Vd1、Vd2以上ではドレイン電流Id1、Id2はほぼ一定になる飽和領域G1,G2である。飽和領域G1,G2のドレイン電流Id1,Id2をI01,I02とする。活性領域F1,F2から飽和領域G1,G2に移る点P1,P2でQ1,Q2はピンチオフ状態になる。Q1、Q2のV11、V21は、ピンチオフ電圧であり、ここでは、例えば、3V程度である。F1,F2からG1,G2に移行する領域は実素子では点線21のように曲線になる。ここではF1,F2の直線箇所の延長線とG1,G2の直線箇所の延長線とが交差する点を便宜的にピンチオフ点P1,P2として、このP1,P2の電圧をピンチオフ電圧V11,V21とした。電圧検出回路100で採用するn型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)の特徴は、ピンチオフ電圧V11、V21がインバータ4のしきい値電圧Vth(inv)(例えば、1.5V以上)より高いことである。言い換えれば、n型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)が検出電圧以上でピンチオフする電圧検出回路となっている。この点が、通常のデプレッションMOSFET(ピンチオフ電圧=1V程度)と異なる。また、実際の素子では飽和領域G1,G2の電流Io1,Io2は電源電圧Eが増加するにつれて多少増大する(例えば、電源電圧Eが10V程度の上昇で電流I(=Id2)が2μA程度の増大)が、ここでは、一定として扱った。
同図(c)において、横軸は電源電圧Eであり、縦軸はQ1,Q2に流れる電流I(ドレイン電流Id1,Id2)である。Q2のドレイン電流Id2は、電源電圧Eが上昇すると共にQ2の電流−電圧曲線32に沿ってドレイン電流Id2は増大し、電源電圧EがQ2のピンチオフ電圧V21に達するとQ2のドレイン電流Id2は一定になり飽和領域G2に突入する。
Q1の電流−電圧曲線31は、Q2の電流−電圧曲線32と左右逆の曲線になり、電源電圧Eが上昇すると共にこの電流−電圧曲線31自体が右側(電源電圧Eが大きくなる方向)に移動する。Q1とQ2は直列接続しているため、Q1,Q2に流れる電流I(ドレイン電流Id1,Id2)は同一になる。つまり、前記のQ1の電流−電圧曲線31と、Q2の電流−電圧曲線32が交わった箇所が電圧検出部1の動作点Qとなる。この動作点Qも電源電圧Eの上昇とともに電流−電圧曲線32に沿って移動する。この動作点Qでの電圧が動作電圧Voであり、電流が動作電流Ioである。両者の電流−電圧曲線31,32が同一である場合、活性領域F1の範囲で電源電圧EをE1としたとき動作電圧Voは0.5E1となる。
図3は、図1のインバータ4の各種回路構成図であり、同図(a)は抵抗R1とn型エンハンスメントMOSFET(M3)で構成された図、同図(b)はn型デプレッションMOSFET(M4)とn型エンハンスメントMOSFET(M5)で構成された図、同図(c)はn型デプレッションMOSFET(M6)とn型エンハンスメントMOSFET(M7)で、n型デプレッションMOSFET(M6)のバックゲートをグランド電位にした図、同図(d)はp型エンハンスメントMOSFET(M8)とn型エンハンスメントMOSFET(M9)で構成された図である。
同図(a)に示すインバータは、図1の電源20とは異なる電源の高電位側2aと抵抗R1が接続され、抵抗R1とM3のドレインが接続され、そのドレイン電位がインバータの出力信号7(図1の電源電圧検出信号5)となる。
M3のソースとバックゲートはグランドに接続され、M3のゲートがインバータの入力となり、入力信号6が入力される。この入力信号6は電圧検出部1の接続点Aの電圧(図1の動作電圧Vo)である。
同図(b)に示すインバータは、図1の電源20とは異なる電源の高電位側2aとM4のドレインが接続され、M4のソースおよびバックゲートとM5のドレインが接続され、M5のドレイン電位がインバータの出力信号7(図1の電源電圧検出信号5)となる。M5のソースとバックゲートはグランドに接続され、M5のゲートがインバータの入力となり、入力信号6が入力される。この入力信号6は電圧検出部1の接続点Aの電圧(図1の動作電圧Vo)である。
同図(c)に示すインバータにおいて、図1の電源20とは異なる電源の高電位側2aとM6のドレインが接続され、M6のソースとM7のドレインが接続され、Q7のドレイン電位がインバータの出力信号7(図1の電源電圧検出信号5)となる。M6のバックゲートおよびM7のソースとバックゲートはグランドに接続され、M7のゲートがインバータの入力となり、入力信号6が入力される。この入力信号6は電圧検出部1の接続点Aの電圧(図1の動作電圧Vo)である。
同図(d)に示すインバータは、図1の電源20とは異なる電源の高電位側2とM8のソースとバックゲートが接続され、M8のドレインとM9のドレインが接続され、M9のドレイン電位がインバータの出力信号7(図1の電源電圧検出信号5)となる。M9のソースとバックゲートはグランドに接続され、M9のゲートがインバータの入力となり、入力信号6が入力される。この入力信号6は電圧検出部1の接続点Aの電圧(図1の動作電圧Vo)である。
尚、図中の符号で、M3、M5,M7,M8,M9はn型エンハンスメントMOSFET、M4、M6はn型デプレッションMOSFETである。
また、前記のいずれのインバータ4も入力信号6が入力されると出力信号7(電源電圧検出信号)は反転する。
図4および図5は、電圧検出回路100の動作原理を説明する図であり、図4は図2(a)と同じ図、図5(a)は電流−電圧曲線32に対する電流−電圧曲線31の移動と動作電流Ioと動作電圧Voの軌跡を示す図、図5(b)は電源電圧検出信号5の反転を示す図である。
電源電圧Eが低い領域では、Q1、Q2は活性領域F1,F2にあり、ドレイン電流Id1,Id2の変化に対して動作電圧Voの変化は小さい。しかし、電源電圧Eが増大して、Q1,Q2がピンチオフ電圧V11,V21に達すると、動作電流Ioは一定になり変化はない。つまり、動作電流Ioの変化に対して動作電圧Voの変化は無限大となる。
しかし、実際の素子では、G1,G2のIo1,Io2は電源電圧Eに対して微小増大するために、動作電流Ioの変化に対して動作電圧Voの変化は極めて大きくなる。そのため、Io1,Io2にばらつきがあると、Voは大きくばらつくことになる。
つぎに、電源20の検出電圧Esensを3Vに設定し、インバータ4のしきい値電圧Vth(inv)を1.5V(0.5×Esens)に設定した電圧検出回路100について説明する。但し、Q1とQ2は同一構造とする。また、検出電圧Esensに対するインバータ4のしきい値電圧Vth(inv)の比をSとすると、ここではS=0.5に設定する。
電源電圧Eが上昇過程にある場合、動作電圧Voは電源電圧E×0.5であるので、電源電圧Eが検出電圧Esensである3Vに達したときに、動作電圧Voは1.5Vになる。インバータ4のしきい値電圧Vth(inv)を1.5Vに設定しているので、VoがVth(inv)に達した時点で、インバータ4は反転する。つまり、電源電圧検出信号5は反転する。そのため、低電圧領域での電源電圧Eを確実に検出することができる。
このように、ピンチオフ電圧V11,V21(3V程度)の高いn型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)を電圧検出部1に用いることで、インバータ4を確実に反転させることができる。また、ピンチオフ電圧V11,V21を高くすることで、活性領域F1,F2の範囲が広がり、動作電流Ioを小さくできる。その結果、電源電圧Eに対するQ1、Q2のドレイン電流Id1、Id2の傾きが小さい領域にインバータのしきい値電圧Vth(inv)を設定できるため、動作電圧Voがしきい値電圧Vth(inv)を超える時点の動作電圧Voのばらつきが小さくなる。動作電圧Voのばらつきが小さくなることで、検出電圧Esensのばらつきが小さく抑えられる。。
前記説明ではピンチオフ電圧V11,V21が3Vのn型デプレッションMOSFETを用いたが、インバータ4のしきい値電圧Vth(inv)により、ピンチオフ電圧V11,V21を所定の電圧に設定するとよい。目安としては、インバータ4のしきい値電圧の2倍以上で大きいほど好ましい。2倍未満では、動作電圧Voが飽和領域G1,G2に近づきVoのばらつきが大きくなる。
また、検出電圧Esensに対してインバータのしきい値電圧Vth(inv)の比Sがα(>0.5)の場合は、インバータのしきい値電圧Vth(inv)はQ2の飽和領域G2に位置させる。そのため、Q1,Q2の飽和電流Io1、Io2にばらつきがあると、Io1<Io2になる場合が生じる。そうすると、動作電圧VoはQ2の活性領域F2に位置ししきい値電圧Vth(inv)を超えることが出来なくなり、インバータ4は反転できない。
また、検出電圧Esens=Vth(inv)/αであるので、αが1に近づくと、検出電圧Esensは低くなる。例えば、検出電圧Esensを3V未満になると、電源20の電源電圧が3V未満となり、集積回路を安定して動作させることが困難になる。そのため、検出電圧Esensは3V以上が好ましく、Q1,Q2のピンチオフ電圧V11,V21は3V以上なるように設定するとよい。
従来の電圧検出回路500の素子数が、少なくとも18個必要であったのに対し、本発明によれば、n型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)の素子数2個+インバータ4の素子数2個=4個で実現することが可能で、電圧検出回路100の占有面積を大幅に縮小できる(例えば、1/10程度)。その結果、この電圧検出回路100を備える製品の小型化および低コスト化を実現することができる。また、電圧検出部1における電源電圧Eとグランド3間のリーク電流(E=13V程度の電源電圧で流れる電流I)を減らす場合、前記したように、従来の電圧検出回路500では抵抗素子数を増やすことが必要になる。その結果、製品のサイズが大きくなってしまい、高コスト化に繋がる。
これに対し、本発明におけるn型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)の特性は、図2(b)に示すように、ピンチオフ電圧V11,V21以上で定電流特性を示すので、予めゲート幅Wとゲート長Lを所望のリーク電流値に相当するサイズに設定しておけば、素子数を増やすことなく、リーク電流を抑制できる。
つぎに、前記したn型デプレッションMOSFET(Q1,Q2)の他に、以下に説明するn型デプレッションMOSFET(Q3〜Q6)を用いた場合について説明する。
図6は、飽和電流の異なるn型デプレッションMOSFET(Q3,Q4)を用いた場合の動作点Qを説明する図である。この場合、飽和電流Io3が大きい素子をQ3として用い、飽和電流Io4が小さい方の素子をQ4として用いる。このようにすると、動作電圧Voは飽和領域においても確実に存在するため、インバータ4を反転し検出電圧を検出することができる。よって、この場合、検出電圧Esensが3.0Vであっても、Q3,Q4のピンチオフ電圧V31,V41を3.0以上とする必要はなく、1V程度であっても構わない。2つのデプレッションMOSFETは、検出電圧未満でピンチオフしてもよい尚、飽和電流Io3,Io4はQ3,Q4のゲート長さ、ゲート幅、チャネル部の不純物濃度に依存するため、例えば、飽和電流Io3の大きな方の素子Q3のゲート幅を長くする。またはゲート長を短くする。もしくは不純物濃度を高くするなどの方策がある。
Q3,Q4の飽和電流Io3,Io4のばらつきを考慮して、Q3,Q4の飽和電流Io3,Io4が重ならないようにQ3の飽和電流Io3の最小値をQ4の飽和電流Io4の最大値より大きく、例えば、2μA程度にする。
また、電源電圧Eと動作電圧Voの比は電源電圧Eに依存し、活性領域F1、F2のドレイン電圧Vd3,Vd4に対するドレイン電流Id3,Id4の傾きがほぼ等しいとき、電源電圧EがV41より小さい領域(活性領域F4)では電源電圧Eと動作電圧Voの比はほぼ0.5付近である。しかし、電源電圧Eが高くなると、動作点Qが飽和領域G4に突入して、その比は、0.5より大きくる。
Q1,Q2のピンチオフ電圧V31,V41≧1.5Vに設定すると、電源電圧Eが3V以上で、動作電圧Voは飽和領域G4に到達する前にインバータ4のしきい値電Vth(inv)(1.5V)に到達する。このため、動作電圧Voはインバータ4のしきい値電圧Vth(inv)を確実に到達し、インバータ4は確実に反転することができる。
図7は、不飽和特性のn型デプレッションMOSFET(Q5,Q6)を用いた場合の動作点Qを説明する図である。不飽和特性とは飽和領域に相当する電流が一定にならずに電圧と共に増大する特性のことをいう。不飽和特性とは、ここでは、Q5、Q6のドレイン電圧が10V程度の上昇したときに、Q5,Q6のドレイン電流が5μA以上上昇する場合をいう。Q5,Q6の電流−電圧曲線が同一とした場合、Id6の上昇する割合とId5の下降する割合は等しくなる。この場合は、前記の比Sは、常時、0.5になる。
この場合も、インバータ4のしきい値電圧Vth(inv)を動作電圧Voが確実に通過するため、インバータ4を確実に反転させることができる。
また、この場合はQ5,Q6に飽和領域がなないため、電源電圧Eに対してQ5,Q6のドレイン電流Id5,Id6が増加するため、Q1,Q2のように飽和領域がある場合に比べて、電源電圧Eが高い範囲でも電源電圧Eの変化に対して動作電圧Voの変化は小さく抑制できる。
また、Q5,Q6を同一構造にした場合、電源電圧Eと動作電圧Voの比は図1の場合と同様に0.5となり、比は電源電圧Eに依存せずに一定になる。
前記の例では、電圧検出部1を構成する素子をn型デプレッションMOSFETとしたが、p型デプレッションMOSFETにしても構わない。
この発明では、n型デプレッションMOSFET(Q1〜Q6)を用いた電圧検出部1とこれに直接接続するインバータ4で電圧検出回路100を構成しているため、部品点数が少なく、電圧検出回路100の占有面積を小さくできる。そのため、この電圧検出回路100を搭載した製品の縮小化と製造コストの低減を図ることができる。
1 電圧検出部
2、2a 電源の高電位側
3 グランド
4 インバータ
5 電源電圧検出信号
6 入力信号
7 出力信号(電源電圧検出信号5)
11、13 ドレイン
12,14 ソース
15,16 ゲート
20 電源
21 点線
31,32 電流−電圧曲線
V11,V21,V31,V41,V51,V61 ピンチオフ電圧
Q 動作点
A 接続点
F1,F2 活性領域
G1,G2 飽和領域
P1,P2 ピンチオフ点
Vth(inv) インバータのしきい値電圧
E 電源電圧
Vo 動作電圧
Io 動作電流
Esens 検出電圧
P1、P2 ピンチオフ点
I 電流
Id1,Id2,Id5,Id6 ドレイン電流
Vd1,Vd2 ドレイン電圧
M3、M5,M7,M8,M9 n型エンハンスメントMOSFET
M4、M6 n型デプレッションMOSFET
M8 pチャネルMOSFET
R1 抵抗

Claims (5)

  1. 2つのデプレッションMOSFETを直列接続し、電源の高電位側に前記直列接続された前記デプレッションMOSFETの一方を接続し、前記電源の低電位側に前記デプレッションMOSFETの他方を接続し、直列接続した接続点の電圧が動作点の電圧となり、該動作点の電圧が入力されるインバータを備える電圧検出回路において、
    前記電源の電圧が上昇する過程で、前記電源の電圧が検出電圧に達したとき、前記動作点の電圧が前記インバータのしきい値電圧に達することを特徴とする電圧検出回路。
  2. 前記2つのデプレッションMOSFETが同一の特性を有し、前記デプレッションMOSFETが,前記検出電圧以上でピンチオフすることを特徴とする請求項1に記載の電圧検出回路。
  3. 前記2つのデプレッションMOSFETの内、前記電源の高電位側に接続するデプレッションMOSFETの飽和電流が前記電源の低電位側に接続するデプレッションMOSFETの飽和電流より大きいことを特徴とする請求項1に記載の電圧検出回路。
  4. 前記2つのデプレッションMOSFETは、前記検出電圧未満でピンチオフすることを特徴とする請求項3に記載の電圧検出回路。
  5. 前記2つのデプレッションMOSFETが不飽和特性を有することを特徴とする請求項1に記載の電圧検出回路。
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