JP2015029008A - Chip-type electronic components - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、チップ型電子部品に関する。 The present invention relates to a chip-type electronic component.
従来より、チップ型電子部品として、たとえば、積層セラミックコンデンサや、インダクタ、抵抗体、半導体素子等が知られている。下記特許文献1には、小型のチップ型電子部品として、略直方体形状の外形を有する積層セラミックコンデンサが開示されている。また、特許文献1には、積層セラミックコンデンサが、その厚さ方向(すなわち、セラミックグリーンシートの積層方向)に膨張して、セラミック素体の側面が凸状に湾曲することが示されている。また、下記特許文献2には、チップ型電子部品として、端子電極がAgまたはAg合金で構成された積層セラミックコンデンサが開示されている。 Conventionally, multilayer ceramic capacitors, inductors, resistors, semiconductor elements, and the like are known as chip-type electronic components. Patent Document 1 below discloses a multilayer ceramic capacitor having a substantially rectangular parallelepiped outer shape as a small chip-type electronic component. Patent Document 1 shows that the multilayer ceramic capacitor expands in the thickness direction (that is, the stacking direction of the ceramic green sheets), and the side surface of the ceramic body is curved in a convex shape. Patent Document 2 below discloses a multilayer ceramic capacitor in which terminal electrodes are made of Ag or an Ag alloy as a chip-type electronic component.
上述した特許文献1の電子部品では、実装時に、セラミック素体の突出する側面が、実装基板に接触または近接することで、電子部品と実装基板との間のスペースが著しく狭められる。そのため、特許文献2の電子部品のように端子電極をAgまたはAg合金で構成した場合には、イオンマイグレーションが生じ易い。すなわち、電子部品の駆動時に、両端子電極のAgの一部がイオン化し、たとえば実装時に用いられる導電性接着剤を介して、電子部品と実装基板との間においてセラミック素体の突出する側面に沿って互いに近づくように移動し易い。このようなイオンマイグレーションの結果、端子電極間において短絡する事態が生じ得る。 In the electronic component of Patent Document 1 described above, the space between the electronic component and the mounting substrate is remarkably narrowed because the protruding side surface of the ceramic body contacts or is close to the mounting substrate during mounting. Therefore, when the terminal electrode is made of Ag or an Ag alloy as in the electronic component of Patent Document 2, ion migration is likely to occur. That is, when the electronic component is driven, a part of Ag of both terminal electrodes is ionized and, for example, on the side surface where the ceramic body protrudes between the electronic component and the mounting substrate via a conductive adhesive used at the time of mounting. It is easy to move so as to approach each other along. As a result of such ion migration, a short circuit may occur between the terminal electrodes.
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、イオンマイグレーションの抑制が図られたチップ型電子部品を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a chip-type electronic component in which ion migration is suppressed.
本発明の一形態に係るチップ型電子部品は、互いに対向する第1の端面および第2の端面と、第1の端面と第2の端面とを繋ぐ側面とを有するセラミック素体と、第1の端面の側において、第1の端面および側面の一部を覆い、かつ、表面層がAgを含む第1の端子電極と、第2の端面の側において、第2の端面および側面の一部を覆い、かつ、表面層がAgを含む第2の端子電極とを備え、略直方体形状の外形を有するチップ型電子部品であって、第1の端子電極の側面側の厚さをH1、第2の端子電極の側面側の厚さをH2、側面の最大突出高さをYとしたときに、H1>Y、かつ、H2>Yである。 A chip-type electronic component according to an aspect of the present invention includes a ceramic body having a first end surface and a second end surface facing each other, and a side surface connecting the first end surface and the second end surface, A first terminal electrode that covers a part of the first end face and the side surface on the side of the first end surface and whose surface layer includes Ag; and a part of the second end face and the side face on the second end face side A chip-type electronic component having a substantially rectangular parallelepiped outer shape, the thickness of the side surface of the first terminal electrode being H1, H1> Y and H2> Y, where H2 is the thickness of the side surface of the terminal electrode 2 and Y is the maximum protruding height of the side surface.
このチップ型電子部品においては、セラミック素体の側面の最大突出高さYが、H1>Y、かつ、H2>Yであり、実装時に、セラミック素体の側面が実装基板に接触せず、セラミック素体の側面と実装基板との間に十分なスペースが確保されるように、第1の端子電極の側面側の厚さH1、第2の端子電極の側面側の厚さH2、および、最大突出高さYが設計されている。それにより、端子電極の表面層に含まれるAgのイオンマイグレーションが抑制される。 In this chip-type electronic component, the maximum protrusion height Y of the side surface of the ceramic body is H1> Y and H2> Y, and the side surface of the ceramic body does not contact the mounting substrate during mounting. The thickness H1 on the side surface side of the first terminal electrode, the thickness H2 on the side surface side of the second terminal electrode, and the maximum so that a sufficient space is secured between the side surface of the element body and the mounting substrate. The protruding height Y is designed. Thereby, the ion migration of Ag contained in the surface layer of the terminal electrode is suppressed.
また、第1の端子電極の側面側の厚さH1および第2の端子電極の側面側の厚さH2のうち、厚い方の厚さをHとし、Z=H−Yとしたときに、10μm≦Z≦30μmを満たす態様であってもよい。この場合、10μm≦Zを満たすことでより効果的にイオンマイグレーションを抑制することができる上、Z≦30μmを満たすことで高い実装強度が得られる。 Of the thickness H1 on the side surface of the first terminal electrode and the thickness H2 on the side surface of the second terminal electrode, the thicker thickness is H, and Z = H−Y, and 10 μm. The aspect which satisfy | fills <= Z <= 30micrometer may be sufficient. In this case, ion migration can be more effectively suppressed by satisfying 10 μm ≦ Z, and high mounting strength can be obtained by satisfying Z ≦ 30 μm.
さらに、第1の端面と第2の端面の対向方向における素体の長さをLとし、P=L/Zとしたときに、25<P<100を満たす態様であってもよい。この場合、P<100を満たすことでより効果的にイオンマイグレーションを抑制することができる上、25<Pを満たすことで高い実装強度が得られる。 Furthermore, when the length of the element body in the opposing direction of the first end face and the second end face is L and P = L / Z, 25 <P <100 may be satisfied. In this case, ion migration can be more effectively suppressed by satisfying P <100, and high mounting strength can be obtained by satisfying 25 <P.
本発明によれば、イオンマイグレーションの抑制が図られたチップ型電子部品が提供される。 According to the present invention, a chip-type electronic component in which ion migration is suppressed is provided.
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.
本発明の実施形形態に係るチップ型電子部品として、セラミックコンデンサ10を例に、図1を参照しつつ説明する。
As a chip-type electronic component according to an embodiment of the present invention, a
図1に示すように、セラミックコンデンサ10は、セラミック素体20と、セラミック素体20の両端部に設けられた一対の端子電極30A、30Bとを備えており、略直方体形状の外形を有している。
As shown in FIG. 1, the
セラミック素体20は、図示しない内部電極層とセラミック層とが交互に積層された構成を有しており、略直方体形状である。より詳しくは、セラミック素体20は、互いに対向する第1の端面21Aおよび第2の端面21Bと、第1の端面21Aと第2の端面21Bとを繋ぐ側面22とを有しており、第1の端面21Aと第2の端面21Bとの対向方向がセラミック素体20の長手方向となっている。
The
以下では、説明の便宜上、内部電極層とセラミック層との積層方向であるセラミック素体20の厚さ方向をZ方向、セラミック素体20の第1の端面21Aと第2の端面21Bとの対向方向をX方向、Z方向およびX方向と直交する方向をY方向とする。なお、セラミック素体20のX方向長さ(L)、Y方向長さ、Z方向長さは、一例として、1000μm、500μm、500μmである。
In the following, for convenience of explanation, the thickness direction of the
一対の端子電極30A、30Bは、第1の端面21Aの側の第1の端子電極30Aと、第2の端面21Bの側の第2の端子電極30Bとで構成されている。端子電極30A、30Bはそれぞれ、対応する端面21A、21Bを全体的に覆うとともに、側面22の一部を覆っている。すなわち、第1の端子電極30Aは、第1の端面21Aの側において、第1の端面21Aおよび側面22の一部を覆っており、端面21Aから側面22に回り込むように形成されている。また、第2の端子電極30Bについても、第2の端面21Bの側において、第2の端面21Bおよび側面22の一部を覆っており、端面21Bから側面22に回り込むように形成されている。
The pair of
端子電極30A、30Bはいずれも、Agを含む導電性材料(AgまたはAg合金)のめっきで構成されており、端面21A、21Bに露出した内部電極層と電気的に接続されている。なお、各端子電極30A、30Bは、その表面層がAgを含んでいれば、表面層の一層からなる構成(単層構造)であっても、端面21A、21Bおよび側面22を直接覆う下地層(たとえばCu焼結層)とAgを含む表面層とからなる構成(複数層構造)であってもよい。
Each of the
ここで、上述したセラミック素体20においては、図1に示すように、その側面22が膨張しており凸状に湾曲している。このような膨張は、たとえば、セラミック層となるグリーンシートと内部電極層となる電極ペーストとの間の熱膨張係数の差に起因し、セラミック素体20の焼成時に生じる。そして、セラミック素体20の膨張の程度を、端面21A、21Bと側面22とで画成される角部の位置を基準とする突出高さから求めると、その最大値(最大突出高さ)がYとなっている。
Here, in the
そして、端子電極30A、30Bそれぞれの側面22側の厚さ、すなわち、端面21A、21Bと側面22とで画成される角部の位置を基準とするZ方向長さとして求められる厚さを、H1、H2としたときに、上記の最大突出高さYは、厚さH1、H2のいずれよりも高くなっている。すなわち、最大突出高さYは、H1>Y、かつ、H2>Yの条件を満たしている。これは、図1に示すように、端子電極30A、30BのZ方向における最下点を結ぶ線(図1の一点鎖線)を超えておらず、その線から、突出した側面22が素体20側に離れていることを意味している。そのため、セラミックコンデンサ10を、平坦な基板上に実装したときに、その実装基板に側面22が接触することはない。なお、図1では、第1の端子電極30Aの厚さH1と、第2の端子電極30Bの厚さH2とが同じである例を示しているが、これらの厚さが同じ場合でも異なる場合でも、H1>Y、かつ、H2>Yの条件を満たされていれば、実装基板に側面22が接触することはない。
Then, the thickness obtained on the
発明者らは、第1の端子電極30Aの厚さH1、第2の端子電極30Bの厚さH2、および、セラミック素体20の側面22の最大突出高さYを、H1>Y、かつ、H2>Yの条件を満たすように設計することで、イオンマイグレーションが抑制されることを見出した。
The inventors set the thickness H1 of the
以下、イオンマイグレーションについて、図2を参照しつつ説明する。 Hereinafter, ion migration will be described with reference to FIG.
図2に示すように、従来技術に係るセラミックコンデンサにおいては、セラミック素体120の側面122の膨張量が大きく、それにより、その側面122がセラミックコンデンサが実装される実装基板40の表面近くにまで近接する。なお、端子電極30A、30Bに対応する、実装基板40上の電極パターン41A、41Bが、より薄い場合には、側面122が実装基板40に接触することもある。このように、膨張した側面122が実装基板40に近接もしくは接触すると、セラミックコンデンサと実装基板との間のスペースSが著しく狭められる。
As shown in FIG. 2, in the ceramic capacitor according to the prior art, the amount of expansion of the
一方、端子電極30A、30Bは、その間に電圧が印加されて、セラミックコンデンサが駆動するときに、端子電極30A、30Bそれぞれに含まれるAgの一部がイオン化される。このようにして生じたAgイオン(Ag+)は、流動性を有し、各端子電極30A、30Bから離れるように移動(マイグレーション)し、その一部が、膨張した側面122に沿って互いに近づくように、セラミックコンデンサと実装基板との間のスペースSまで達する。このとき、端子電極30A、30Bと電極パターン41A、41Bとの間に介在し、Agフィラーを含む導電性接着剤50A、50Bによって、上記Agイオンのマイグレーションが促進される。
On the other hand, when voltage is applied between the
なお、このようなイオンマイグレーションは、端子電極30A、30Bがイオン化傾向が高いAgを含む場合に、特に顕著に現れる。
Such ion migration is particularly noticeable when the
スペースSに達したAgイオンは、そのスペースSの周辺でAgとして析出し、第1の端子電極30Aと第2の端子電極30Bとの間の電気的な離間距離を狭める。その結果、第1の端子電極30Aと第2の端子電極30Bとの間において、短絡が生じやすくなる。
Ag ions reaching the space S are precipitated as Ag around the space S, and the electrical separation distance between the first
そこで、上述したセラミックコンデンサ10においては、第1の端子電極30Aの厚さH1、第2の端子電極30Bの厚さH2、および、セラミック素体20の側面22の最大突出高さYを、H1>Y、かつ、H2>Yの条件を満たすように設計し、上記イオンマイグレーションの抑制を図っている。上記条件を満たすために、最大突出高さYを低く設計する方法としては、たとえば、ダミー電極(内部電極と同一層内に形成される、容量形成に寄与しない電極)を形成することや余白印刷(内部電極の周囲に、内部電極の高さと略同一高さの誘電体層を形成する技術)を用いる方法がに用いられ、これらの方法は特に積層セラミックコンデンサの場合に有効である。また、上記条件を満たすために、第1の端子電極30Aの厚さH1や第2の端子電極30Bの厚さH2を厚くする方法としては、たとえば厚さの厚い端子電極を形成することである。
Therefore, in the
以上で説明したとおり、セラミックコンデンサ10は、第1の端子電極30Aの厚さH1、第2の端子電極30Bの厚さH2、および、セラミック素体20の側面22の最大突出高さYを、H1>Y、かつ、H2>Yの条件を満たすように設計することで、実装時に、セラミック素体20の側面22が実装基板40に接触せず、セラミック素体20の側面22と実装基板40との間に十分なスペースSが確保される。それにより、図2に示したような端子電極30A、30Bに含まれるAgのイオンマイグレーションが抑制される。
As described above, the
また、セラミックコンデンサ10は、第1の端子電極30Aの厚さH1および第2の端子電極30Bの厚さH2のうち、厚い方の厚さをHとし、Z=H−Yとしたときに、そのZの値が15μmであるため、セラミックコンデンサ10においては、より効果的にイオンマイグレーションが抑制され、かつ、高い実装強度が得られる。なお、図1では、第1の端子電極30Aの厚さH1と、第2の端子電極30Bの厚さH2とが同じである例を示しているため、H=H1=H2である。また、数μm程度の設計公差を考慮したとしても、第1の端子電極30Aの厚さH1と第2の端子電極30Bの厚さH2とは、実質的に同じ(H1≒H2)であると考えることができる。図1とは異なり、たとえば第1の端子電極30Aの厚さH1が第2の端子電極30Bの厚さH2より大きい場合(H1>H2)にはZ=H1−Yと定義され、逆に、第1の端子電極30Aの厚さH1が第2の端子電極30Bの厚さH2より小さい場合(H1<H2)にはZ=H2−Yと定義される。
Further, the
発明者らは、10μm≦Zを満たすことでより効果的にイオンマイグレーションを抑制することができる上、Z≦30μmを満たすことで高い実装強度が得られることを見出した。すなわち、Zが10μm以上であれば、セラミック素体20の側面22と実装基板40との間に、イオンマイグレーションの抑制に十分なスペースSが確保され、また、Zが30μm以下であれば、端子電極30A、30Bの実装基板の電極パターンに対する接地面積を十分広く確保することができる。なお、Zが30μmより大きくなった場合には、上記接地面積が小さくなるため、実用上十分な実装強度を確保することが困難になってしまう。
The inventors have found that ion migration can be more effectively suppressed by satisfying 10 μm ≦ Z, and that high mounting strength can be obtained by satisfying Z ≦ 30 μm. That is, if Z is 10 μm or more, a sufficient space S for suppressing ion migration is secured between the
さらに、セラミックコンデンサ10は、図1に示すようにセラミック素体20のX方向長さをLとし、P=L/Zとしたときに、そのPの値が67であるため、セラミックコンデンサ10においては、より効果的にイオンマイグレーションが抑制され、かつ、高い実装強度が得られる。
Further, the
発明者らは、P<100を満たすことでより効果的にイオンマイグレーションを抑制することができる上、25<Pを満たすことで高い実装強度が得られることを見出した。すなわち、Pが100未満であれば、セラミック素体20の側面22と実装基板40との間に、イオンマイグレーションの抑制に十分なスペースSが確保され、また、Pが25より大きければ、端子電極30A、30Bと実装基板の電極パターンとの接触面積を十分広く確保することができる。なお、Pが25以下の場合には、上記接地面積が小さくなるため、実用上十分な実装強度を確保することが困難になってしまう。
The inventors have found that ion migration can be more effectively suppressed by satisfying P <100, and that high mounting strength can be obtained by satisfying 25 <P. That is, if P is less than 100, a space S sufficient for suppressing ion migration is secured between the
なお、本発明は上述した実施形態に限らず、様々な変形が可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made.
たとえば、チップ型電子部品は、セラミックコンデンサに限らず、インダクタ、抵抗体、半導体素子等であってもよい。また、上述した実施形態では、第1の端子電極30Aの厚さH1と、第2の端子電極30Bの厚さH2とが同じである例を示しているが、必要に応じて、これらの厚さを異なるように設計してもよい。
For example, the chip-type electronic component is not limited to a ceramic capacitor, and may be an inductor, a resistor, a semiconductor element, or the like. In the above-described embodiment, the example in which the thickness H1 of the first
10…チップ型電子部品(セラミックコンデンサ)、20…セラミック素体、21A、21B…端面、22…側面、30A、30B…端子電極、40…実装基板。
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記第1の端面の側において、前記第1の端面および前記側面の一部を覆い、かつ、表面層がAgを含む第1の端子電極と、
前記第2の端面の側において、前記第2の端面および前記側面の一部を覆い、かつ、表面層がAgを含む第2の端子電極と
を備え、略直方体形状の外形を有するチップ型電子部品であって、
前記第1の端子電極の前記側面側の厚さをH1、前記第2の端子電極の前記側面側の厚さをH2、前記側面の最大突出高さをYとしたときに、H1>Y、かつ、H2>Yである、チップ型電子部品。 A ceramic body having a first end surface and a second end surface facing each other, and a side surface connecting the first end surface and the second end surface;
On the first end face side, a first terminal electrode that covers the first end face and a part of the side face, and whose surface layer includes Ag,
Chip-type electrons having a substantially rectangular parallelepiped outer shape on the second end face side, the second end electrode covering the second end face and a part of the side face, and a surface layer including a second terminal electrode containing Ag. Parts,
When the thickness of the side surface side of the first terminal electrode is H1, the thickness of the side surface side of the second terminal electrode is H2, and the maximum protruding height of the side surface is Y, H1> Y, A chip-type electronic component that satisfies H2> Y.
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