JP2015001625A - 赤外線反射フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】反射層と保護層の密着性と、耐腐食性とに優れた赤外線反射フィルムを提供する。【解決手段】基材の一方の面に反射層及び保護層を順に積層した赤外線反射フィルムであって、前記反射層と前記保護層との間に接着層を有し、前記接着層は、酸変性ポリオレフィン系高分子を含み、前記保護層は、下記化学式Iで繰り返し単位Ａを含む高分子同士の架橋構造を有する層である赤外線反射フィルム。【選択図】図１

Description

本発明は、可視光領域において高い透過性を有し且つ赤外光領域において高い反射性を有する赤外線反射フィルムに関する。

赤外線反射フィルムは、主に、放射される太陽光の熱影響を抑制するために用いられる。例えば、建物や自動車等の窓ガラスに赤外線反射フィルムを貼ることで、窓ガラスを通って室内に入射される赤外線（特に近赤外線）を遮蔽し、室内の温度上昇を抑制し、これにより、冷房の消費電力を抑制して省エネルギー化を図ることができる。

赤外線の反射には、金属や金属酸化物の積層構造による赤外線反射層が用いられる。しかしながら、金属や金属酸化物は耐擦傷性が低い。そのため、赤外線反射フィルムでは、赤外線反射層の上に保護層を設けるのが一般的である。例えば、特許文献１には、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）を保護層の材料として用いることが開示されている。ポリアクリロニトリルのような高分子は、赤外線の吸収率が低く、室内から透光性部材を通って外に出射される遠赤外線を遮蔽できることから、冬期や室外の温度が低下する様な夜間での断熱効果による省エネルギー化も図ることができる。

ポリアクリロニトリルのような高分子を保護層の材料として用いる場合、保護層は、まず、高分子を溶剤に溶解させて溶液を調製し、この溶液を赤外線反射層の上に塗布し、次いで、溶液を乾燥させる（溶剤を揮発させる）、という手順で形成される。

ところで、この種の赤外線反射フィルムは、保護層が表側となるように建物や自動車等の窓ガラスに貼られる。従って、日照等の厳しい温度条件下に晒されることになるため、経時的に斑点が生じるなど、耐腐食性が十分とはいえない。

そこで、例えば特許文献２、３には、保護層を、ポリウレタン樹脂層とアクリロニトリル樹脂層とから形成し、赤外線反射層とアクリロニトリル層との間にポリウレタン樹脂層を介在させることによって、経時的な斑点の発生を抑制させる技術が提案されている。

特公昭６１−５１７６２号公報 特公昭６２−０２５０９６号公報 特公昭６２−０２５０９７号公報

しかしながら、ポリウレタン樹脂層を有する赤外線反射フィルムでは、未だ耐久性が十分とはいえず、また、赤外線反射層とアクリロニトリル層との密着性も十分とはいえない。
ここで、赤外線反射層と保護層との密着性が悪いと、施工の際に保護層が反射層から剥離してしまうことがある。このように剥離すると、耐擦傷性が低い赤外線反射層が露出し、ダメージを受け易くなり、また、外観不良にもつながる。

そこで、本発明は、かかる事情に鑑みてなされたもので、反射層と保護層の密着性と、耐腐食性とに優れた赤外線反射フィルムを提供することを課題とする。

本発明に係る赤外線反射フィルムは、
基材の一方の面に反射層及び保護層を順に積層した赤外線反射フィルムであって、
前記反射層と前記保護層との間に接着層を有し、
前記接着層は、酸変性ポリオレフィン系高分子を含み、
前記保護層は、下記化学式Iで繰り返し単位Ａを含む高分子同士の架橋構造を有する層である。

ここで、本発明に係る赤外線反射フィルムの一態様として、前記接着層の厚さが、１４０ｎｍ〜４０００ｎｍである、ようにすることができる。

また、本発明に係る赤外線反射フィルムの一態様として、碁盤目試験による前記保護層の剥離が５％以下である、ようにすることができる。
ここで、碁盤目試験法とは、ＪＩＳ Ｋ−５６００−５−６：１９９９に記載された方法であり、この方法は、後述する実施例に記載されたようにして行う。

また、本発明に係る赤外線反射フィルムの一態様として、前記保護層側表面の修正放射率が０．２０以下である、ようにすることができる。

本発明によれば、反射層と保護層の密着性と、耐腐食性とに優れた赤外線反射フィルムを提供することができる。

本発明の一実施形態に係る赤外線反射フィルムの積層構造を説明するための概要図を示す。

以下、本発明の一実施形態に係る赤外線反射フィルムについて説明する。なお、本実施形態に係る赤外線反射フィルムは、従来の赤外線反射フィルムが持つ遮熱特性（近赤外線の反射特性）に加え、断熱特性（遠赤外線の反射特性）を併せ持つ赤外線反射フィルムである。

本実施形態に係る赤外線反射フィルムは、図１に示す如く、基材１の一方の面１ａに、反射層２、接着層５及び保護層３をその順に積層し、他方の面１ｂに粘着層４を設けた層構造となっている。

基材１は、ポリエステル系フィルムが用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンメチレンテレフタレート、あるいはこれらを２種以上組み合わせた混合樹脂からなるフィルムが用いられる。なお、これらの中で、性能面から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましく、特に２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好適である。

反射層２は、基材１の表面（一方の面）１ａに蒸着により形成される蒸着層である。該蒸着層の形成方法としては、例えば、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等の物理蒸着（ＰＶＤ）がある。ここで、真空蒸着においては、真空中で抵抗加熱、電子ビーム加熱、レーザ光加熱、アーク放電等の方法で蒸着物質を加熱蒸発させることで、基材１上に反射層２が形成される。また、スパッタリングにおいては、アルゴン等の不活性ガスが存在する真空中で、グロー放電等により加速されたＡｒ+等の陽イオンをターゲット（蒸着物質）に撃突させて蒸着物質をスパッタ蒸発させることで、基材１上に反射層２が形成される。イオンプレーティングは、真空蒸着とスパッタリングとを組み合わせた形態の蒸着法である。この方法では、真空中において、加熱により放出された蒸発原子を、電界中でイオン化と加速を行い、高エネルギー状態で基材１上に付着させることで、反射層２が形成される。

反射層２は、半透明金属層２ａを一対の金属酸化物層２ｂ，２ｃで挟み込んだ複層構造となっており、上記蒸着層の形成方法を用い、まず、基材１の表面（一方の面）１ａに金属酸化物層２ｂを蒸着し、次に、金属酸化物層２ｂ上に半透明金属層２ａを蒸着し、最後に、半透明金属層２ａ上に金属酸化物層２ｃを蒸着して形成される。半透明金属層２ａは、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銀合金（ＭｇＡｇ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金（ＡＰＣ）、ＡｇＣｕ、ＡｇＡｕＣｕ、ＡｇＰｄ、ＡｇＡｕ等）、アルミニウム合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、あるいはこれらを２種以上組み合わせた金属材料を用いて形成される。また、半透明金属層２ａは２層以上であってもよい。金属酸化物層２ｂ，２ｃは、反射層２に透明性を付与し、半透明金属層２ａの劣化を防止するためのものであり、原料としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウムチタン（ＩＴ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化ガリウム亜鉛（ＧＺＯ）、酸化アルミニウム亜鉛（ＡＺＯ）、酸化ガリウムインジウム（ＩＧＯ）等の酸化物が用いられる。

保護層３は、下記化学式Iで繰り返し単位Ａを含む高分子同士の架橋構造を有する層である。

また、保護層３は、下記化学式ＩＩの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位を含む高分子を含む層であることが好ましい。化学式ＩＩ中のＲ１として、Ｈやメチル基を用いることができる。また、化学式ＩＩ中のＲ２〜Ｒ５として、Ｈ、炭素数が１〜４のアルキル基又はアルケニル基を用いることができる。ちなみに、繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣで構成され、Ｒ１〜Ｒ５としてＨを用いたものは、水素化ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）である。
繰り返し数Ｋとしては、１０〜１０００が好ましい。

これらの高分子を得るためのモノマー成分としては、例えば、化学式IIIで示すようなアクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）及びその誘導体、炭素数が４のアルキル（繰り返し単位Ｅ）及びその誘導体、並びに、ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１又はＦ２）及びそれらの誘導体の共重合体等が挙げられる。ここで、Ｒ６は、Ｈ又はメチル基、Ｒ７〜Ｒ１８は、Ｈ又は炭素数が１〜４のアルキル基を示す。なお、Ｆ１，Ｆ２のそれぞれは、ブタジエンが重合する繰り返し単位を示しており、Ｆ１がメインの繰り返し単位となっている。また、これらの高分子は、化学式IIIのアクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）及びその誘導体、１，３−ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）及びその誘導体の共重合体であるニトリルゴムや、ニトリルゴム中に含まれる二重結合の一部又は全部が水素化された水素化ニトリルゴムであってもよい。

上記共重合体を部分的に切り出した化学式IVを用いて、アクリロニトリル、ブタジエン及びアルキルが重合された共重合体と、それぞれの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣとの関係を説明する。化学式IVは、保護層３に用いられる高分子鎖の一部を切り出しており、１，３−ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）、アクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）、及び１，３−ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）が順に結合されている。なお、化学式IVはＲ７，Ｒ１１〜Ｒ１４がＨの結合例を示している。化学式IVは、左側のブタジエンにはアクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）が結合された側が結合しており、アクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）が結合していない側に右側のブタジエンが形成されている。この様な結合例においては、１個の繰り返し単位Ａ、１個の繰り返し単位Ｂ、及び２個の繰り返し単位Ｃが含まれている。この中で、繰り返し単位Ａは左側のブタジエンの右側の炭素原子とアクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）とが結合した炭素原子を含んでおり、繰り返し単位Ｂはアクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）が結合していない炭素原子と右側のブタジエンの左側の炭素原子とを含んだ組合せである。そして、左側のブタジエンの一番左側の炭素原子と、右側のブタジエンの一番右側の炭素原子は、結合する分子の種類により繰り返し単位Ａ又は繰り返し単位Ｂの一部の炭素原子となる。

かかる保護層３は、上述した高分子を（必要に応じて架橋剤とともに）溶剤に溶解させて溶液を調製し、この溶液を反射層２の上に塗布し、次いで、溶液を乾燥させる（溶剤を揮発させる）、という手順で形成される。溶剤は、上述した高分子を可溶な溶剤であり、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、塩化メチレン（ジクロロメタン）等の溶剤が用いられる。なお、メチルエチルケトンや塩化メチレンは、低沸点の溶剤（メチルエチルケトンは７９．５℃、塩化メチレンは４０℃）である。従って、これらの溶剤を用いると、低い乾燥温度で溶剤を揮発させることができるため、基材１（や反射層２）が熱ダメージを受けることはない。

保護層３の厚さは、下限値としては、１μｍ以上である。好ましくは、３μｍ以上である。また、上限値としては、２０μｍ以下である。好ましくは、１５μｍ以下である。より好ましくは、１０μｍ以下である。保護層３の厚さが小さいと、赤外線の反射特性は高くなるものの、耐擦傷性が損なわれ、保護層３としての機能を十分に発揮することができない。保護層３の厚さが大きいと、赤外線反射フィルムの断熱特性が悪くなる。保護層３の厚さが上記範囲内であれば、赤外線の吸収が小さく且つ反射層２を適切に保護することができる保護層３が得られる。

化学式Ｉ中のｋとｌとｍの比率は、ｋとｌとｍの合計を１００としたとき、ｋ：ｌ：ｍ＝３〜３０：２０〜９５：０〜６０であることが好ましく、ｋ：ｌ：ｍ＝５〜２５：６０〜９０：０〜２０であることがより好ましく、ｋ：ｌ：ｍ＝１５〜２５：６５〜８５：０〜１０であることがさらに好ましい。
また、化学式Ｉの繰り返し単位ＡとＢとＣの各総重量の比率は、Ａ：Ｂ：Ｃ＝５〜５０重量％：２５〜８５重量％：０〜６０重量％（但し、ＡとＢとＣの合計は１００重量％）となるのが好ましい。より好ましくは、Ａ：Ｂ：Ｃ＝１５〜４０重量％：５５〜８５重量％：０〜２０重量％（但し、ＡとＢとＣの合計は１００重量％）である。さらに好ましくは、Ａ：Ｂ：Ｃ＝２５〜４０重量％：５５〜７５重量％：０〜１０重量％（但し、ＡとＢとＣの合計は１００重量％）である。

ところで、保護層３に良好な耐溶剤性を付与する観点から、保護層３は、高分子同士の架橋構造を有することが好ましい。高分子同士を架橋させることにより、保護層３の耐溶剤性が向上するため、高分子を可溶な溶剤が保護層３に接触した場合であっても、保護層３が溶出するのを防止することができる。

高分子同士に架橋構造を付与する手段としては、溶液を乾燥させた後に、電子線を照射することが挙げられる。電子線の積算照射線量は、下限値としては、５０ｋＧｙ以上である。好ましくは、１００ｋＧｙ以上である。より好ましくは、２００ｋＧｙ以上である。また、上限値としては、１０００ｋＧｙ以下である。好ましくは、６００ｋＧｙ以下である。より好ましくは、４００ｋＧｙ以下である。なお、積算照射線量とは、電子線を１回照射する場合であれば、その照射線量をいい、電子線を複数回照射する場合であれば、その照射線量の合計をいう。電子線の１回の照射線量は、３００ｋＧｙ以下であるのが好ましい。電子線の積算照射線量が上記範囲内であれば、高分子同士の十分な架橋を得ることができる。また、電子線の積算照射線量が上記範囲内であれば、電子線の照射によって発生する高分子や基材１の黄変を最小限に抑えることができ、着色の少ない赤外線反射フィルムを得ることができる。なお、これら電子線の照射条件は、加速電圧が１５０ｋＶでの照射条件である。

また、高分子を溶剤に溶解させる際に、あるいは、高分子を溶剤に溶解させた後に、ラジカル重合型モノマー等の多官能モノマーといった架橋剤を添加することが好ましい。特に、（メタ）アクリレート系モノマーのラジカル重合型モノマーが好ましい。多官能モノマーを添加すると、多官能モノマーに含まれる官能基がそれぞれの高分子鎖と反応（結合）することにより、高分子同士が（多官能モノマーを介して）架橋されやすくなる。従って、電子線の積算照射線量を（５０ｋＧｙ程度に）引き下げても高分子同士の十分な架橋を得ることができる。そのため、電子線の積算照射線量を低照射線量で済ませることができる。また、電子線の積算照射線量が低下することで、高分子や基材１の黄変をさらに抑制することができ、しかも、生産性を向上させることができる。

しかしながら、添加剤の添加量が多くなれば、赤外線反射フィルムの（反射層２を基準とした）保護層３側表面の修正放射率が悪化する。修正放射率が悪化すると、赤外線反射フィルムにおける赤外線の反射特性が低下し、赤外線反射フィルムの断熱特性が悪くなる。そのため、添加剤の添加量は、高分子に対して１〜３５重量％であるのが好ましい。より好ましくは、高分子に対して２〜２５重量％である。

また、本実施形態に係る赤外線反射フィルムは、反射層２と保護層３との間に接着層５を備える。該接着層５は、酸変性ポリオレフィン系高分子を含む。
保護層３が酸変性ポリオレフィン系高分子を含むことによって、反射層２と保護層３との間に十分な密着性及び耐塩水性を付与することができる。

酸変性ポリオレフィン系高分子は、ポリオレフィン系高分子に酸性基（アニオン性）が導入されることによって変性されてなる変性体、すなわち、ポリオレフィン系高分子の官能基の一部が酸性基によって置換されることによって変性されてなる変性体である。このように、酸変性ポリオレフィン高分子は、分子中に酸性基を有している。
このように酸変性されるベースとなるポリオレフィン高分子としては、例えば、エチレン；プロピレン；ブテン−１；３−メチルペンテン−１；４−メチルペンテン−１などのα−オレフィンの単独重合体や、これらの共重合体、あるいはこれらと共重合可能な他の不飽和単量体との共重合体などが挙げられる。また、その他、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレンまたは直鎖状低密度ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体などのポリエチレン類；プロピレン単独重合体、プロピレン−エチレンブロック共重合体やランダム共重合体、プロピレン−エチレン−ジエン化合物共重合体などのポリプロピレン類；ポリブテン−１、ポリ４−メチルペンテン−１などを挙げることができる。
そして、これらの樹脂に酸性基が導入されたものが、酸変性ポリオレフィン高分子である。
上記のように導入される酸性基としては、酸無水物基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、クロルスルホン酸基、ハロゲンなどが挙げられる。
このように、ポリオレフィン系高分子が酸変性されることによって、金属との接着性、及び、耐塩水性が向上するため、酸変性ポリオレフィン系高分子を含む保護層３は、密着性及び耐塩水性に優れたものとなる。
このような酸変性ポリオレフィン系高分子は、従来公知の方法で製造することができる。また、このような酸変性ポリオレフィン樹脂としては、三井化学株式会社製の商品名ユニストールＰ９０２、ユニストールＰ８０２などが挙げられる。

該接着層５は、例えば、酸変性ポリオレフィン樹脂を溶剤に溶解させて反射層２上に塗布し、次いで乾燥させることにより得られる。

上記乾燥温度としては、８０℃以上、好ましくは、１００℃以上の温度で乾燥を行うようにすることが好ましい。

接着層５の厚さは、下限値としては、１４０ｎｍ以上である。好ましくは、２５００ｎｍ以上である。また、上限値としては、４０００ｎｍ以下である。好ましくは、３０００ｎｍ以下である。接着層の厚さが１０ｎｍより薄いと、十分な接着力を付与できない可能性があり、また、４０００ｎｍを超えると赤外線の吸収量が増加し、十分な断熱性能が発揮できないおそれがある。これに対し、接着層５の厚さが１４０ｎｍ以上４０００ｎｍ以下であることによって、密着性をより十分に発揮させつつ、断熱機能をより十分に発揮させることができる。

粘着層４としては、従来公知の粘着層を採用することができる。かかる粘着層４は、例えば、従来公知の粘着剤を基材１の上記他方の面１ｂに塗布し、適宜乾燥することによって形成される。

以上の構成からなる本実施形態に係る赤外線反射フィルムによれば、反射層２上の層構造の厚み、即ち、保護層３の厚みを少なくすることで、（反射層２を基準とした）保護層３側表面の修正放射率が小さくなっている。また、特に、遠赤外線を吸収しにくく、透過しやすいニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、完全水素化ニトリルゴムなどを保護層３に用いれば、それによっても修正放射率は小さくなる。これにより、遠赤外線は、保護層３に入射されても保護層３に吸収されにくく、反射層２に到達し、その結果、反射層２で反射されやすくなる。従って、本実施形態に係る赤外線反射フィルムを窓ガラス等の透光性部材に室内側から貼っておくことで、室内から透光性部材を通って外に出射される遠赤外線を遮蔽することができ、これにより、冬季や室内の温度が低下する夜間での断熱効果が期待できる。本実施形態に係る赤外線反射フィルムでは、その目的のために、保護層３側表面の修正放射率が０．２０以下に設定される。より好ましくは、修正放射率が０．１５以下である。

なお、修正放射率は、ＪＩＳ Ａ５７５９の係数を垂直放射率に乗じることにより、計算により算出することができる。
垂直放射率とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６で規定される通り、垂直放射率（εｎ）＝１−分光反射率（ρｎ）で表される。分光反射率ρｎは、常温の熱放射の波長域５〜５０μｍで測定される。５〜５０μｍの波長域は遠赤外線領域であり、遠赤外線の波長域の反射率が高くなるほど、垂直放射率は小さくなる。これに伴って、修正放射率も小さくなる。

また、本実施形態に係る赤外線反射フィルムによれば、可視光線透過率（ＪＩＳ Ａ５７５９参照）を高くすることで、透光性部材の透光性が阻害されることはない。本実施形態に係る赤外線反射フィルムでは、その目的のために、可視光線透過率が５０％以上に設定される。

また、近赤外線は、（粘着層４及び）基材１に入射されても（粘着層４及び）基材１に吸収されにくく、反射層２に到達し、その結果、反射層２で反射されやすくなる。従って、本実施形態に係る赤外線反射フィルムを窓ガラス等の透光性部材に室内側から貼っておくことで、窓ガラス等の透光性部材を通って室内に入射される近赤外線を遮蔽することができ、これにより、従来の赤外線反射フィルムと同様、夏季での遮熱効果が期待できる。本実施形態に係る赤外線反射フィルムでは、その目的のために、（反射層２を基準とした）基材１側表面から光を入射させたときの日射透過率（ＪＩＳ Ａ５７５９参照）が６０％以下に設定される。

そして、本実施形態に係る赤外線反射フィルムによれば、上述の如く、反射層２と保護層３との間に接着層５を有し、該接着層５が、アニオン性水系ポリウレタン樹脂を含み、該接着層５の水膨潤度が、１．０〜２．０であるため、密着性及び耐温水性に優れた赤外線反射フィルムが提供される。

ここで、本発明者らは、本実施形態に係る赤外線反射フィルムを作製し（実施例１〜４）、併せて、比較用の赤外線反射フィルムを作製した（比較例１〜３）。

実施例１〜４、比較例１〜３ともに作製方法は次のとおりである。厚みが５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂株式会社製 商品名「ダイアホイル Ｔ６０２Ｅ５０」）を基材１として用いた。この基材１の一方の面１ａに巻取式スパッタ装置を用いて反射層２を形成した。
詳しくは、ＤＣマグネトロンスパッタ法を用い、基材１をロールトゥロールで巻き取りながら、基材１の一方の面１ａにインジウム−亜鉛複合酸化物からなる金属酸化物層（第１金属酸化物層）２ｂを４５ｎｍの厚みで形成し、その上にＡｇ−Ｐｄ合金からなる半透明金属層２ａを１４ｎｍの厚みで形成し、その上に酸化インジウム錫からなる金属酸化物層（第２金属酸化物層）２ｃを４５ｎｍの厚みで形成し、これを反射層２とした。
金属酸化物層２ｂ、２ｃの形成においては、酸化インジウムと酸化亜鉛とが９０：１０の重量比で焼結されて形成された酸化物ターゲットを用い、電力密度：４Ｗ／ｃｍ²、Ａｒガス／Ｏ₂ガス導入量：３００ｓｅｃ／３ｓｅｃ、プロセス圧力：０．４Ｐａの条件を用いてスパッタを行った。
半透明金属層２ａの形成においては、銀：パラジウムを９９．５：０．５の重量比で含有するＡｇ−Ｐｄ合金ターゲットを用い、電力密度：４Ｗ／ｃｍ²、Ａｒガス／Ｏ₂ガス導入量：３００ｓｅｃ／３ｓｅｃ、プロセス圧力：０．４Ｐａの条件を用いてスパッタを行った。
そして、この反射層２の上に塗工法により接着層５を形成し、さらに接着層５の上に塗工法により保護層３を形成した。なお、接着層５及び保護層３の詳細な形成条件は、それぞれ実施例、比較例の説明において詳述する。

＜製造例１：溶液１の調製＞
完全水素化ニトリルゴム（ＨＮＢＭ：ランクセス社製 商品名「テルバン５００５」〔ｋ：３３．３、ｌ：６６．７、ｍ：０、Ｒ１〜Ｒ３：Ｈ〕）１０重量部とメチルエチルケトン（ＭＥＫ、和光純薬工業株式会社製）９０重量部とを混合し、撹拌溶解を室温にて１２時間行うことによって、完全水素化ニトリルゴムをメチルエチルケトンの溶剤に溶解させ、溶液１を調製した。

＜製造例２−1：溶液２−１の調製＞
カルボン酸変性オレフィンポリマーのトルエン溶液（三井化学株式会社製 商品名「ユニストールＰ９０２」、２２％トルエン溶液、フォードカップ粘度；３５秒）をトルエンで希釈して、固形分濃度２重量％の溶液２−１を調製した。

＜製造例２−２：溶液２−２の調製＞
カルボン酸変性オレフィンポリマーのトルエン溶液として、三井化学株式会社製 商品名「ユニストールＰ８０２」、２２％トルエン溶液、フォードカップ粘度；１７０秒）を用いた点以外は、製造例２−１と全く同じ操作で、溶液２−２を調製した。

＜製造例２−３：溶液２−３の調製＞
ウレタン系ポリマーの水分散体（第一工業製薬株式会社製 商品名「スーパーフレックス８００」、３５重量％分散体）を水で希釈して、固形分濃度２重量％の溶液２−３を調製した。

＜製造例２−４：溶液２−４の調製＞
水酸基変性オレフィンポリマーのトルエン溶液として、三井化学株式会社製 商品名「ユニストールＰ９０１」、２２％トルエン溶液）を用いた点以外は、製造例２−１と全く同じ操作で、溶液２−４を調製した。

＜実施例１＞
反射層２上に溶液２−１をアプリケータローラを用いて塗布し、空気循環式の乾燥オーブンに入れて８０℃で３分間乾燥した。これにより、厚さが１４０μｍの接着層５を形成した。次いで、接着層５の上に溶液１をアプリケーターを用いて塗布し、空気循環式の乾燥オーブンに入れ、８０℃で３分間乾燥を行った。これにより、厚さが４μｍの保護層３を形成して、赤外線反射フィルムを得た。その後、電子線照射装置（岩崎電気株式会社製 製品名「ＥＣ２５０／３０／２０ｍＡ」）を用いて保護層３の表面側から電子線を照射し、実施例１に係る赤外線反射フィルムを得た。電子線の照射条件は、ライン速度を１５ｍ／ｍｉｎ、加速電圧を１５０ｋＶ、積算照射線量を１００ｋＧｙとした。

＜実施例２＞
接着層５の厚さを２７５μｍとした点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例３＞
接着層５の厚さを４６０μｍとした点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例４＞
接着層５の厚さを２７００μｍとした点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例５＞
接着層５の厚さを３６００μｍとした点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例６＞
接着層５の厚さを４１００μｍとした点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例７＞
溶液２−１に代えて溶液２−２を用いた点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例８＞
接着層５の厚さを２３００μｍとした点以外は、実施例７と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例９＞
接着層５の厚さを３４００μｍとした点以外は、実施例７と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜実施例１０＞
接着層５の厚さを４１００μｍとした点以外は、実施例７と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜比較例１＞
溶液２−１に代えて溶液２−３を用い、塗布した溶液２−３を１２０℃で３分間乾燥し、接着層５の厚さを１２０μｍとした点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜比較例２＞
溶液２−１に代えて溶液２−４を用い、接着層５の厚さを１２１μｍとした点以外は、実施例１と同様にして、赤外線反射フィルムを得た。

＜評価＞
そして、実施例１〜１０及び比較例１、２について、赤外線反射フィルムの接着層５の厚さ、可視光透過率（透過率）、及び修正放射率を以下の方法によって測定した。また、それぞれについて、赤外線反射フィルムにおける反射層と保護層との密着性を以下の方法によって評価した。これらの結果を表１に示す。

（厚さ）
接着層５の厚さは、マルチチャンネル分光光度計（大塚電子株式会社製 商品名「瞬間マルチ測光システムＭＣＰＤ−３７００」）を用いて測定した。なお、保護層３の厚さも同様に測定した。

（可視光透過率）
分光光度計「Ｕ−４１００」（日立ハイテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ａ ５７５９‐２００８（建築窓ガラスフィルム）に準じて、可視光線透過率を測定した。

（修正放射率）
（修正放射率）
保護層３側から垂直放射率を下記の測定により求め、次いで、得られた垂直放射率にＪＩＳ Ａ５７５９の係数を乗じて、修正放射率を算出した。
垂直放射率の測定方法は、次の通りである。
角度可変反射アクセサリを装着したフーリエ変換型赤外分光（ＦＴ−ＩＲ）装置（Ｖａｒｉａｎ社製）を用いて、波長５μｍ〜２５μｍの赤外光の正反射率を測定し、ＪＩＳ Ｒ３１０６−２００８（板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法）に準じて求めた。

（密着性試験）
赤外線反射フィルムにおける反射層２と保護層３との密着性については、ＪＩＳ Ｋ５６００‐５‐６：１９９９に準じて、碁盤目剥離試験によって評価した。より具体的には、保護層３の塗膜表面に１ｍｍ間隔で縦横１０本ずつの切込みを入れて１００個の碁盤目を作成し、この上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一端を保護層３の表面に対して瞬間的に引き離し、碁盤目内の塗膜が剥がれた碁盤目の個数により、以下の分類０〜５に従って評価した。すなわち、分類０〜１に含まれる赤外線反射フィルムを良好と評価し（○と表示）、分類２〜５に含まれる赤外線反射フィルムを不良と評価した（「×」と表示）。
分類０：切込みの縁が完全に滑らかで、どの碁盤目内の塗膜にも剥がれがない。
分類１：切込みの交差点における塗膜の小さな剥がれがある。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に５％を上回ることはない。
分類２：塗膜が切れ込みの縁に沿って、及び／又は交差点において剥がれている。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に５％を超えるが、１５％を上回ることはない。
分類３：塗膜が切れ込みの縁に沿って、部分的又は全面的に大剥がれを生じており、及び／又は碁盤目の色々な部分が、部分的又は全面的に剥がれている。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に１５％を超えるが、３５％を上回ることはない。
分類４：塗膜が切れ込みの縁に沿って、部分的又は全面的に大剥がれを生じており、及び／又は数箇所の碁盤目が、部分的又は全面的に剥がれている。切れ込み部分で影響を受けるのは、明確に３５％を上回ることはない。
分類５：剥がれの程度が分類４を超える場合である。

（耐腐食性試験）
赤外線反射フィルムにおける基材１側に粘着剤（日東電工株式会社製 商品名「Ｎｏ７」）を介して厚さ１．２ｍｍの板ガラスを裏打ちして試験片を作製し、この試験片を５重量％食塩水に浸漬させ、５０℃に調温された加熱装置内に１０日間保存した。そして、保存後の試験片に斑点が生じたものを劣化有りと評価し（「×」と表示する）、斑点が生じなかったものを劣化なし（「○」と表示する）と評価した。

表１の結果、接着層が、ポリオレフィン系高分子を含む実施例１〜１０では、密着性にも耐腐食性にも優れることが示された。一方、接着層がポリウレタン樹脂などを含み、ポリオレフィン系高分子を含まない比較例１、２では、密着性と耐腐食性の両方に優れないことが示された。なお、フォードカップ粘度の値が大きい方がポリオレフィン系高分子の分散性が向上することを考慮すると、同じ厚みで比較したとき、実施例７〜１０では、実施例１〜６よりも緻密な層構造を有する接着層が形成されているものと推察される。

なお、本発明に係る赤外線反射フィルムは、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

例えば、上記実施形態においては、繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位からなる高分子が好ましいことを説明した。しかしながら、これら繰り返し単位以外の他の繰り返し単位についても、保護層に必要な特性を損なわない範囲で含ませることができる。他の繰り返し単位としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、酢酸ビニル、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。これらは、高分子全体に対する割合が１０重量％以下であるのが好ましい。

また、上記実施形態においては、反射層２を蒸着により形成した。しかしながら、これに限定されるものではない。例えば、反射性フィルムを用いる等、反射層を基材とは別に用意し、反射性フィルムを基材に貼着することにより反射層を形成してもよい。

また、上記実施形態に係る赤外線反射フィルムは、遮熱特性と断熱特性とを併せ持つ赤外線反射フィルムである。しかしながら、これに限定されるものではない。本発明に係る赤外線反射フィルムは、従来の遮熱特性のみを持つ赤外線反射フィルムにも適用できることは言うまでもない。

１…基材、１ａ…一方の面、１ｂ…他方の面、２…反射層、２ａ…半透明金属層、２ｂ，２ｃ…金属酸化物層、３…保護層、４…粘着層、５…接着層

Claims (4)

1. 基材の一方の面に反射層及び保護層を順に積層した赤外線反射フィルムであって、
   前記反射層と前記保護層との間に接着層を有し、
   前記接着層は、酸変性ポリオレフィン系高分子を含み、
   前記保護層は、下記化学式Iで繰り返し単位Ａを含む高分子同士の架橋構造を有する層である
   赤外線反射フィルム。
   

   
2. 前記接着層の厚さが、１４０ｎｍ〜４０００ｎｍである、請求項１に記載の赤外線反射フィルム。
3. 碁盤目試験法による前記保護層の剥離が５％以下である、請求項１または２のいずれかに記載の赤外線反射フィルム。
4. 前記保護層側表面の修正放射率が、０．２０以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の赤外線反射フィルム。

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