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JP2015099860A - Optical semiconductor module - Google Patents

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JP2015099860A
JP2015099860A JP2013239242A JP2013239242A JP2015099860A JP 2015099860 A JP2015099860 A JP 2015099860A JP 2013239242 A JP2013239242 A JP 2013239242A JP 2013239242 A JP2013239242 A JP 2013239242A JP 2015099860 A JP2015099860 A JP 2015099860A
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Japan
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optical semiconductor
wiring board
semiconductor element
adhesive
frequency wiring
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JP2013239242A
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Japanese (ja)
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慈 金澤
Shigeru Kanazawa
慈 金澤
常祐 尾崎
Tsunesuke Ozaki
常祐 尾崎
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NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical semiconductor module capable of a high-speed operation by using an optical semiconductor element where light is emitted from or enters into an end face.SOLUTION: An optical semiconductor module comprises: a high-frequency wiring board 25; an optical semiconductor element 1 which is a tabular optical semiconductor element 1 having a crystal growth surface arranged to face the high-frequency wiring board 25 and light entering into or emitted from at least one end face among four end faces; and securing means including gold bumps 42 and an adhesive 41, for electrically connecting and securing the optical semiconductor element 1 to on the high-frequency wiring board 25. The optical semiconductor element 1 has a flow stop part 2 of the adhesive 41 on the crystal growth surface near the end face and is formed to have a length in a direction of an optical axis of light which enters or is emitted longer than a length of the high-frequency wiring board 25.

Description

本発明は、光半導体モジュールに関し、さらに詳細には、大容量光通信網の構成要素である光半導体モジュールに関するものである。   The present invention relates to an optical semiconductor module, and more particularly to an optical semiconductor module that is a component of a large-capacity optical communication network.

光半導体モジュールは、例えば特許文献1に示すような光送信モジュール内の通信用光源として用いられている。図1は従来型のワイヤ実装の2チャネル光送信器の構成を示している。図1の光送信器は、(a)に示す合波器付きDFB型(分布帰還型distributed feedback)のレーザアレイ10と、(b)に示すサブキャリア30に載置された高周波配線板20とがワイヤWで接続されて、(c)、(d)に示すように構成されている。   The optical semiconductor module is used as a communication light source in an optical transmission module as shown in Patent Document 1, for example. FIG. 1 shows a configuration of a conventional wire-mounted two-channel optical transmitter. The optical transmitter of FIG. 1 includes a DFB type (distributed feedback distributed feedback) laser array 10 shown in (a), and a high-frequency wiring board 20 placed on a subcarrier 30 shown in (b). Are connected by a wire W, and are configured as shown in (c) and (d).

まず図1(a)に示す2チャネル光送信器で使用する合波器付きDFBレーザアレイ10(チップともいう)を説明する。レーザアレイ10は、光軸方向に複数の領域として構成された半導体積層構造を有する。各領域はそれぞれ異なる機能を発揮する。図1(a)では、レーザアレイ10は、導波路および合波器部分となる領域aと、DFB半導体レーザ部分となる領域bとを備えている。領域a’は、通常は領域aと同じ層構造となるが、電極を付けてモニタPDとして使用する場合には、異なる層構造をとる。また、同図では2つのDFBレーザを2入力1出力の(MMI:multi−mode inteference多モード干渉型)合波器で合波している。また、それぞれの領域a、bの結晶成長面側には、DFBレーザのパッド11と、合波器のパッド12が設けられている。レーザアレイ10は、図示の右端面から光が出射される端面発光型のデバイスであり、多重反射による素子特性の劣化を防ぐために、両端面に無反射コーティング13、14が施されている。   First, a DFB laser array 10 with a multiplexer (also referred to as a chip) used in the two-channel optical transmitter shown in FIG. The laser array 10 has a semiconductor stacked structure configured as a plurality of regions in the optical axis direction. Each area performs different functions. In FIG. 1A, the laser array 10 includes a region a that becomes a waveguide and a multiplexer portion, and a region b that becomes a DFB semiconductor laser portion. The region a 'normally has the same layer structure as the region a, but has a different layer structure when used as a monitor PD with an electrode attached. In the figure, two DFB lasers are multiplexed by a 2-input 1-output (MMI: multi-mode interference multimode interference type) multiplexer. Also, a DFB laser pad 11 and a multiplexer pad 12 are provided on the crystal growth surface side of each of the regions a and b. The laser array 10 is an edge-emitting device in which light is emitted from the right end surface shown in the drawing, and anti-reflection coatings 13 and 14 are applied to both end surfaces in order to prevent deterioration of element characteristics due to multiple reflection.

図1(b)に示すサブキャリア30には、2つのDFBレーザに高周波信号を印加するための高周波配線板20が設けられている。高周波配線板20には高周波線路21が設けられている。   A subcarrier 30 shown in FIG. 1B is provided with a high frequency wiring board 20 for applying a high frequency signal to two DFB lasers. A high frequency line 21 is provided on the high frequency wiring board 20.

図1(c)、(d)はレーザアレイ10が実装された2チャネル光送信器の上面図、側面をそれぞれ示している。レーザアレイ10は、ハンダもしくは接着剤を用いてサブキャリア30に実装される。続いてサブキャリア30を、ハンダもしくは接着剤を用いてキャリア40に実装され、さらに金ワイヤWによって個々のDFBレーザと高周波配線板を接続される。   FIGS. 1C and 1D are a top view and a side view of a two-channel optical transmitter on which the laser array 10 is mounted, respectively. The laser array 10 is mounted on the subcarrier 30 using solder or an adhesive. Subsequently, the subcarrier 30 is mounted on the carrier 40 using solder or an adhesive, and each DFB laser and the high-frequency wiring board are connected by a gold wire W.

また、光半導体モジュールは、DFB(分布帰還型distributed feedback)レーザアレイ以外に、その他の構造(例えばDFBレーザ集積電界吸収型光変調器(以下、EADFBレーザ))でも用いることができる。図2は従来型のワイヤ実装のEADFBレーザモジュールである。EADFBレーザモジュールでは、図2(a)に示すように領域bがDFB半導体レーザ、領域cがEA変調器、領域aが導波路および合波器部分としてそれぞれ機能する半導体積層構造を有する半導体チップ50を用いることができる。図2(a)に示す半導体チップ50と図2(b)に示すキャリア40に載置された高周波線路基板26とを金ワイヤWで配線することができる(図2(c))。   In addition to the DFB (distributed feedback distributed feedback) laser array, the optical semiconductor module can be used in other structures (for example, a DFB laser integrated electroabsorption optical modulator (hereinafter referred to as EADFB laser)). FIG. 2 shows a conventional wire-mounted EADFB laser module. In the EADFB laser module, as shown in FIG. 2A, a semiconductor chip 50 having a semiconductor laminated structure in which a region b functions as a DFB semiconductor laser, a region c functions as an EA modulator, and a region a functions as a waveguide and a multiplexer. Can be used. The semiconductor chip 50 shown in FIG. 2A and the high-frequency line substrate 26 placed on the carrier 40 shown in FIG. 2B can be wired with a gold wire W (FIG. 2C).

図1、図2のように、光送信用光源では、チップ(レーザアレイ10、半導体チップ50)の基板面を下に(つまり結晶成長面やパッド面を上に)して実装し、高周波配線板20、26とチップ上の電極11の結線にワイヤ接続を用いる構造が一般的であった。しかし、この構成ではワイヤの持つ寄生インダクタンス成分により帯域が劣化する問題や、チップ上部にある活性層の熱がチップの基板面を介して放熱する構造のため放熱性が悪いといった問題があった。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the light source for optical transmission is mounted with the substrate surface of the chip (laser array 10 and semiconductor chip 50) facing down (that is, the crystal growth surface and the pad surface facing up), and high-frequency wiring A structure using wire connection for connecting the plates 20 and 26 and the electrode 11 on the chip is common. However, this configuration has a problem that the band is deteriorated due to the parasitic inductance component of the wire and a problem that heat dissipation is poor because the heat of the active layer on the chip is radiated through the substrate surface of the chip.

特開2003−207693号公報JP 2003-207693 A

塚田裕ほか著、「フリップチップ接続による半導体チップ実装の課題と今後の展望」、電子情報通信学会論文誌C, Vol. J91−C, No.11, pp. 509−518, 2008Tsukada Hiroshi et al., “Problems and Future Prospects of Semiconductor Chip Mounting by Flip Chip Connection”, IEICE Transactions C, Vol. J91-C, no. 11, pp. 509-518, 2008 H. S. Venugopalan et al., Third International Conference on Solid State Lighting, edited by Ian T. Ferguson,Nadarajah Narendran, Steven P. DenBaars, John C. Carrano, Proc. of SPIE Vol. 5187(SPIE, Bellingham, WA, 2004), pp. 260−266.H. S. Venugopalan et al. , Third International Conference on Solid State Lighting, edited by Ian T. Ferguson, Nadarajah Narendran, Steven P. et al. DenBaars, John C. Carrano, Proc. of SPIE Vol. 5187 (SPIE, Bellingham, WA, 2004), pp. 260-266. 金澤慈ほか著、「フリップチップ実装対応直接変調DFBレーザ」、電子情報通信学会・信学技報、IEICE Technical Report, EMD2010−62, CPM2010−78, OPE2010−87, LQE2010−60(2010−08), pp.169−174.Kanazawa Ji et al., "Direct modulation DFB laser for flip chip mounting", IEICE Technical Report, IEICE Technical Report, EMD2010-62, CPM2010-78, OPE2010-87, LQE2010-60 (2010-08) , Pp. 169-174.

しかしながら通信用光源としては、近年の通信容量の大容量化の流れに伴い、より高速なものが求められており、現状の技術では、ワイヤを用いた結線を採用するために生じる上述の問題を解決することが望まれていた。そこで、この問題を解決する技術として、電子デバイス分野ではチップの基板面を上に(つまり結晶成長面やパッド面を下に)して、ワイヤの代わりに数十ミクロン程度の金バンプを介してチップ上電極と高周波配線板の接続をとるフリップチップ実装技術が提案されている。このとき、フリップチップ接続されたチップと高周波配線板の間隙はエポキシ樹脂等の接着剤(アンダーフィル材とも言う)で埋めることで、チップと高周波配線板の熱膨張係数の差を緩和する(非特許文献1)。   However, as a communication light source, a higher speed is demanded with the recent trend of increasing the communication capacity, and the current technology has solved the above-mentioned problems caused by adopting wire connection. It was hoped that this would be solved. Therefore, as a technology to solve this problem, in the electronic device field, the substrate surface of the chip is raised (that is, the crystal growth surface and the pad surface are down), and gold bumps of about several tens of microns are used instead of wires. A flip chip mounting technique for connecting an on-chip electrode and a high-frequency wiring board has been proposed. At this time, the gap between the chip connected to the flip chip and the high-frequency wiring board is filled with an adhesive such as an epoxy resin (also referred to as an underfill material), thereby reducing the difference in thermal expansion coefficient between the chip and the high-frequency wiring board. Patent Document 1).

光半導体デバイスの場合も、基板から垂直方向に光を発する、いわゆる面発光デバイス、例えば発光ダイオードに対しては、フリップチップ実装が使われてきた(非特許文献2)。図9がその例である。面発光ダイオード110は、配線板118上に、金バンプ117を介してp−電極115と、p−GaN層114と、アクティブ層113と、n−GaN層112と、サファイア基板111とからなり、端部にn−電極116を備えて構成される。面発光ダイオードには電流が注入され、電流はp−電極115からn−電極116に向けて流れる。ここで配線板118と、p−電極115・n−電極116の間隙はエポキシ樹脂等の接着剤で埋められる。光はサファイア基板111から垂直方向に出射されるので、接着剤が例え漏れ出して、端面にかかったとしても問題は生じない。   In the case of an optical semiconductor device, flip-chip mounting has been used for so-called surface emitting devices that emit light in the vertical direction from a substrate, for example, light emitting diodes (Non-Patent Document 2). FIG. 9 is an example. The surface light emitting diode 110 includes a p-electrode 115, a p-GaN layer 114, an active layer 113, an n-GaN layer 112, and a sapphire substrate 111 on a wiring board 118 via gold bumps 117. An n-electrode 116 is provided at the end. A current is injected into the surface light emitting diode, and the current flows from the p-electrode 115 toward the n-electrode 116. Here, the gap between the wiring board 118 and the p-electrode 115 and the n-electrode 116 is filled with an adhesive such as epoxy resin. Since light is emitted in the vertical direction from the sapphire substrate 111, no problem occurs even if the adhesive leaks out and hits the end face.

ところが面発光デバイスでは、一般に活性層部分を長く取れないために、光出力が不足するのが一般的で、例えば変調平均出力で0dBm以上を要求するような中長距離の光通信用光源には用いることができない。中長距離の光通信用光源には基板と並行方向に光を発する、いわゆる端面発光デバイスが必須となる。   However, in the surface light emitting device, since the active layer portion cannot generally be made long, the light output is generally insufficient. For example, a light source for optical communication of medium and long distances requiring a modulation average output of 0 dBm or more is used. Cannot be used. A so-called edge-emitting device that emits light in a direction parallel to the substrate is essential for a light source for medium-long distance optical communication.

非特許文献3にはフリップチップ実装に対応した直接変調DFBレーザが記載されている。図3はフリップチップ実装用の2チャネル光送信器の構成を示す図である。図3の光送信器は、(a)に示す合波器付きDFBレーザアレイ16と、(b)に示すキャリア40に載置された高周波配線基板25とが金バンプ42および接着剤41で接続されて、(c)、(d)に示すように構成されている。   Non-Patent Document 3 describes a direct modulation DFB laser corresponding to flip-chip mounting. FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a two-channel optical transmitter for flip chip mounting. In the optical transmitter of FIG. 3, the DFB laser array 16 with a multiplexer shown in (a) and the high-frequency wiring board 25 mounted on the carrier 40 shown in (b) are connected by a gold bump 42 and an adhesive 41. Thus, it is configured as shown in (c) and (d).

フリップチップ実装を行うときには、変調用の電極に設置した金バンプ42だけでは強度的に不足するため、別途GND電極15を設け、GND電極15にも金バンプ42を設けて、光半導体素子を支持することが望ましい。そのため図3(b)のレーザアレイ16は、図1(a)のレーザアレイ10の基板成長面側にグランド用の電極15が形成された構成を備えている。図3(b)に示す高周波配基板25には、2つのDFBレーザに高周波信号を印加するための高周波配線用の線路21とGND22とが設けられている。   When flip chip mounting is performed, the gold bump 42 provided on the modulation electrode alone is insufficient in strength. Therefore, the GND electrode 15 is separately provided, and the gold bump 42 is also provided on the GND electrode 15 to support the optical semiconductor element. It is desirable to do. Therefore, the laser array 16 in FIG. 3B has a configuration in which a ground electrode 15 is formed on the substrate growth surface side of the laser array 10 in FIG. The high frequency distribution board 25 shown in FIG. 3B is provided with a high frequency wiring line 21 and a GND 22 for applying a high frequency signal to two DFB lasers.

図3(c)に示すように、まず図3(b)の合波器付きDFB型のレーザアレイ16をサブキャリア30に実装した後、それを上下ひっくり返して(結晶成長面を下にして)、レーザアレイ16を高周波配線基板25に金バンプ42を用いて実装している。金バンプ42はDFBレーザの変調用電極11と、GND電極15上に配置される。そして金バンプの間隙は接着剤41によって埋められる。   As shown in FIG. 3C, first, the DFB type laser array 16 with a multiplexer shown in FIG. 3B is mounted on the subcarrier 30 and then turned upside down (with the crystal growth surface facing down). The laser array 16 is mounted on the high-frequency wiring board 25 using gold bumps 42. The gold bumps 42 are disposed on the DFB laser modulation electrode 11 and the GND electrode 15. The gap between the gold bumps is filled with an adhesive 41.

ここで問題になるのが、あふれ出た接着剤が半導体チップの端面に回り込むことである。接着剤は絶縁体であるので、電子デバイスに対しては端面に回り込んでも問題ならないし、面発光デバイスに対しても問題を生じない。しかし、端面発光デバイスに対しては、前面に回り込んだ場合は、無反射コーティング13、14の屈折率が変わり、反射特性が変わってしまうために、端面で光の反射が起きるようになる。その影響で、半導体レーザの発振波長の揺らぎ、アイパターンの劣化、光出力強度の揺らぎ等、様々な悪影響を生じる。またそもそも、端面から出射する光を妨害するため、光出力強度が落ちたり、まったく光が出てこなくなることもある。   The problem here is that the overflowing adhesive wraps around the end face of the semiconductor chip. Since the adhesive is an insulator, there is no problem even if it goes around the end face of the electronic device, and no problem arises for the surface emitting device. However, for the edge-emitting device, when it goes around the front surface, the refractive index of the non-reflective coatings 13 and 14 changes and the reflection characteristics change, so that light is reflected at the edge. As a result, various adverse effects such as fluctuation of the oscillation wavelength of the semiconductor laser, deterioration of the eye pattern, fluctuation of the light output intensity, and the like occur. In the first place, since the light emitted from the end face is obstructed, the light output intensity may be reduced or no light may be emitted at all.

後面に回り込んだ場合でも、無反射コーティングの特性が変わってしまうために、端面で光の反射が起きるようになり、その影響で、半導体レーザの発振波長の揺らぎ、アイパターンの劣化、光出力強度の揺らぎ等、様々な悪影響が生じる。図3(d)では、後面に接着剤が回り込んだ例を図示しているが、前面に回り込むこともあれば、前面・後面の両方に回り込むこともある。   Even if it wraps around the back surface, the properties of the non-reflective coating will change, and light reflection will occur at the end surface, which causes fluctuations in the oscillation wavelength of the semiconductor laser, deterioration of the eye pattern, and light output. Various adverse effects such as fluctuations in strength occur. FIG. 3D illustrates an example in which the adhesive wraps around the rear surface, but it may wrap around the front surface or may wrap around both the front surface and the rear surface.

これは、EADFBレーザモジュールでも同様である。図4(a)に示す半導体チップ55は、図2の半導体チップ50の結晶成長面側にGND電極53が形成された構成を備えている。図3と同様に、図4(a)に示す半導体チップ55を、図4(b)の高周波配線基板27にフリップチップ実装すると、接着剤の端面への回り込みが問題になる。   The same applies to the EADFB laser module. The semiconductor chip 55 shown in FIG. 4A has a configuration in which a GND electrode 53 is formed on the crystal growth surface side of the semiconductor chip 50 of FIG. Similarly to FIG. 3, when the semiconductor chip 55 shown in FIG. 4A is flip-chip mounted on the high-frequency wiring board 27 of FIG. 4B, the wraparound of the adhesive to the end surface becomes a problem.

以上、説明したように通常のフリップチップ実装技術では、固定時に使用する接着剤がチップの端面に回り込むため、端面から光が出射、入射される光半導体素子には適用できない問題があった。   As described above, the normal flip chip mounting technique has a problem that it cannot be applied to an optical semiconductor element in which light is emitted and incident from the end face because the adhesive used at the time of fixing wraps around the end face of the chip.

本発明は上記従来の問題に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、端面から光が出射、入射される光半導体素子を用いて高速動作可能な光半導体モジュールを実現することにある。   The present invention has been made in view of the above conventional problems, and an object of the present invention is to realize an optical semiconductor module capable of operating at high speed using an optical semiconductor element in which light is emitted and incident from an end face. .

上記の課題を解決するために、一実施形態に記載された発明は、高周波配線板と、前記高周波配線板に対向するように配置される結晶成長面を有する平板状の光半導体素子であって、4つの端面のうちの少なくとも1つの端面から光を入力または出力する光半導体素子と、前記光半導体素子を前記高周波配線板の上に電気的に接続して固定するための金バンプおよび接着剤を含む固定手段とを備えた光半導体モジュールであって、前記光半導体素子は、前記結晶成長面の端面近傍に前記接着剤の流れ止め部を有し、かつ前記入力または出力する光の光軸方向における光半導体素子の長さが前記高周波配線板の長さよりも長く形成されていることを特徴とする光半導体モジュールである。   In order to solve the above-described problems, an invention described in one embodiment is a flat optical semiconductor element having a high-frequency wiring board and a crystal growth surface disposed so as to face the high-frequency wiring board. An optical semiconductor element that inputs or outputs light from at least one of the four end faces, and a gold bump and an adhesive for electrically connecting and fixing the optical semiconductor element on the high-frequency wiring board An optical semiconductor module comprising a fixing means including the optical semiconductor element, wherein the optical semiconductor element has a flow stop portion for the adhesive in the vicinity of an end surface of the crystal growth surface, and the optical axis of the input or output light The length of the optical semiconductor element in the direction is longer than the length of the high-frequency wiring board.

従来型ワイヤ実装の直接変調DFBレーザアレイモジュールの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the direct modulation | alteration DFB laser array module of the conventional wire mounting. 従来型ワイヤ実装EADFBレーザモジュールの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the conventional wire mounting EADFB laser module. 従来型フリップチップ実装の直接変調DFBレーザアレイモジュールの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the direct modulation | alteration DFB laser array module of the conventional flip chip mounting. 従来型フリップチップ実装のEADFBレーザモジュールの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the EADFB laser module of a conventional flip chip mounting. 本発明のフリップチップ実装の直接変調DFBレーザアレイモジュールの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the direct modulation | alteration DFB laser array module of the flip chip mounting of this invention. 本発明で使用されるフリップチップ実装用の直接変調DFBレーザアレイの一部分の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of a part of direct modulation | alteration DFB laser array for flip chip mounting used by this invention. 本発明のフリップチップ実装のEADFBレーザモジュールの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the EADFB laser module of the flip chip mounting of this invention. EADFBレーザの断面図を示す図である。It is a figure which shows sectional drawing of an EADFB laser. 従来型の面発光デバイスのフリップチップ実装の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the flip chip mounting of the conventional surface emitting device.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本実施形態の光半導体モジュールについて、合波器集積2チャネル直接変調DFB(分布帰還型distributed feedback)レーザアレイチップを用いて構成した例を挙げて説明する。図5は、光半導体モジュールの構成例を示す図である。図5において、(a)は平板状のレーザアレイチップ(光半導体素子、チップともいう)1の上面図であり、(b)は光半導体モジュールの構成を示す側面図であり、(c)は(b)の上面図である。本実施形態の光半導体モジュールは、図5(a)に示すように、結晶成長面の端面近傍に接着剤流れ止め部2が配置されているレーザアレイチップ1を用いて構成することができる。レーザアレイチップ1は、接着剤流れ止め部2以外の構成は、基本的に図3のチップ10と同様の構成を有している。   The optical semiconductor module according to the present embodiment will be described with reference to an example in which a multiplexer integrated two-channel direct modulation DFB (distributed feedback distributed feedback) laser array chip is used. FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration example of the optical semiconductor module. 5A is a top view of a plate-like laser array chip (also referred to as an optical semiconductor element or chip) 1, FIG. 5B is a side view showing the configuration of the optical semiconductor module, and FIG. It is a top view of (b). As shown in FIG. 5A, the optical semiconductor module of the present embodiment can be configured by using a laser array chip 1 in which an adhesive flow stop portion 2 is disposed in the vicinity of the end face of the crystal growth surface. The laser array chip 1 has basically the same configuration as that of the chip 10 of FIG. 3 except for the adhesive flow stop portion 2.

また、図5(b)に示すように、光半導体モジュールは、高周波配線板25とレーザアレイチップ1とが電気接続体である金バンプ42と電気絶縁体である接着剤41を介して固定された構成を備えている。光半導体モジュールでは、光軸方向(図示右方向)において、レーザアレイチップ1の長さが高周波配線板25の長さより長く形成され、かつチップ1が高周波配線板25の両側に飛び出すように固定されている。このような構造にすることで、レーザアレイチップ1の結晶成長面を下向き(高周波配線板25に対向する向き)に実装しても、接着材流れ止め部2で接着剤41が端面に回り込むのを防ぐとともに、余った接着剤41も高周波配線板25から下に流れ出るため、光出射される端面部には固定用の接着剤41が回り込まずにフリップチップ実装が可能となる。上記構成を採用することで、高速動作可能な光半導体モジュールが実現可能となる。   Further, as shown in FIG. 5B, in the optical semiconductor module, the high-frequency wiring board 25 and the laser array chip 1 are fixed via gold bumps 42 that are electrical connectors and an adhesive 41 that is an electrical insulator. It has a configuration. In the optical semiconductor module, the length of the laser array chip 1 is formed longer than the length of the high-frequency wiring board 25 in the optical axis direction (right direction in the drawing), and the chip 1 is fixed so as to protrude to both sides of the high-frequency wiring board 25. ing. By adopting such a structure, even when the crystal growth surface of the laser array chip 1 is mounted downward (in a direction facing the high-frequency wiring board 25), the adhesive 41 flows around the end surface at the adhesive flow stop portion 2. In addition, the surplus adhesive 41 also flows down from the high-frequency wiring board 25, so that the fixing adhesive 41 does not go around the light-exited end surface portion, so that flip chip mounting is possible. By adopting the above configuration, an optical semiconductor module capable of high-speed operation can be realized.

以下に本発明の具体的な実施形態を例にして説明する。本実施例は、本発明の効果を示す一つの例示であり、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を行い得ることは言うまでもない。   Hereinafter, a specific embodiment of the present invention will be described as an example. This embodiment is an example showing the effect of the present invention, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

本実施例の構成を図5に示す。本実施例では光半導体素子として、合波器集積2チャネルの直接変調レーザアレイ1を用いる構成となっている。接着剤流れ止め部2は、チップ作製時にメッキによって作成される。また、電気接続部は金バンプ42、電気絶縁部はエポキシ樹脂製の接着剤41を用いており、高周波配線板25の配線上には終端抵抗も作り込まれた物を用いた。ただし、図面上では終端抵抗は省略されている。レーザ長は0.2mmとした。   The configuration of this embodiment is shown in FIG. In the present embodiment, a multi-channel integrated two-channel direct modulation laser array 1 is used as an optical semiconductor element. The adhesive flow stop part 2 is formed by plating at the time of chip manufacture. Further, gold bumps 42 were used for the electrical connection parts, and an adhesive 41 made of epoxy resin was used for the electrical insulation parts, and a terminal resistor was made on the wiring of the high-frequency wiring board 25. However, the terminating resistor is omitted in the drawing. The laser length was 0.2 mm.

図6に直接変調DFBレーザの一部(1チャネル分)1aの素子構造を示す。図6は素子の層構造を説明するためのもので、接着材流れ止め部2は表されていない。この構造はDFBレーザを差動動作させることを意図したもので、GND電極15を変調用電極11と同じ面(結晶成長面)に形成している。つまり、半導体素子を変調用電極11上の金バンプだけでなく、GND電極15上の金バンプをも使って支持することができる。   FIG. 6 shows an element structure of a part (one channel) 1a of a direct modulation DFB laser. FIG. 6 is for explaining the layer structure of the element, and the adhesive flow preventing portion 2 is not shown. This structure is intended for differential operation of the DFB laser, and the GND electrode 15 is formed on the same surface (crystal growth surface) as the modulation electrode 11. That is, the semiconductor element can be supported using not only the gold bump on the modulation electrode 11 but also the gold bump on the GND electrode 15.

また、DFBレーザ間の電気的分離を取るため、半絶縁InP基板106を用いている。半絶縁InP基板106上にn−GaInAsPコンタクト層105、n−InPクラッド層108、GaInAsP活性層104、p−InP層102、pコンタクト層101を成長し、メサを形成後に半絶縁InP層107で埋め込みを行っている。DFBレーザの変調用電極11とGND電極15の分離を行うために分離溝D1を形成するとともに、DFBレーザ間の電気的分離をとるために電気分離溝D2を形成した。DFBレーザの変調電極11は50×50ミクロンとした。   In addition, a semi-insulating InP substrate 106 is used for electrical separation between the DFB lasers. An n-GaInAsP contact layer 105, an n-InP clad layer 108, a GaInAsP active layer 104, a p-InP layer 102, and a p contact layer 101 are grown on a semi-insulating InP substrate 106, and a mesa is formed. Embedding. A separation groove D1 was formed in order to separate the modulation electrode 11 and the GND electrode 15 of the DFB laser, and an electric separation groove D2 was formed in order to obtain electrical separation between the DFB lasers. The modulation electrode 11 of the DFB laser was 50 × 50 microns.

1.組み立て工程
図5を参照して、実際に本モジュールを作製するための手順を示す。接着剤流れ止め部2は、レーザアレイチップ1作製時に金メッキにより形成し、高さは25μmとした。
1. Assembly Process Referring to FIG. 5, a procedure for actually manufacturing this module will be described. The adhesive flow stop portion 2 was formed by gold plating when the laser array chip 1 was manufactured, and the height was 25 μm.

まず、サブキャリア30上にレーザアレイチップ1を実装する。次に、ボールボンダによりDFBレーザ電極11、GND電極15上に金バンプ42を形成する。金バンプ42は高さ30μm程度である。そして、キャリア40上に実装されている高周波配線板25にレーザアレイチップ1を金バンプ搭載面(結晶成長面)が下になるようにしてフリップチップ実装する。このとき、超音波で金バンプ42と高周波配線板25を接合した。最後に、チップ1の側面からエポキシ樹脂接着剤41を流し込んで固定する。以上で、図5(b)、(c)に示すようなレーザアレイ光源モジュールが完成する。   First, the laser array chip 1 is mounted on the subcarrier 30. Next, gold bumps 42 are formed on the DFB laser electrode 11 and the GND electrode 15 by a ball bonder. The gold bump 42 has a height of about 30 μm. Then, the laser array chip 1 is flip-chip mounted on the high-frequency wiring board 25 mounted on the carrier 40 with the gold bump mounting surface (crystal growth surface) facing down. At this time, the gold bumps 42 and the high-frequency wiring board 25 were joined with ultrasonic waves. Finally, an epoxy resin adhesive 41 is poured from the side surface of the chip 1 and fixed. Thus, the laser array light source module as shown in FIGS. 5B and 5C is completed.

2.モジュールの特性
まず、作成したモジュール(図5(b)、(c))の外観を確認し、接着剤が回り込んでいないことを確認した。
2. Characteristics of Module First, the appearance of the created module (FIGS. 5B and 5C) was confirmed, and it was confirmed that the adhesive did not wrap around.

次に、周波数応答特性を測定した。比較として、図1の構成でも測定を行った。測定方法はネットワークアナライザを用い、高周波配線板に当てた高周波プローブを介して電気信号を入力し、先球ファイバを介して受光した光をネットワークアナライザに入力することで測定した。また、図1(a)、図5(a)における図示で下側となるレーザをチャネル1、上側となるレーザをチャネル2とした。チャネル1にバイアス電流60mAを流した状態で周波数応答特性を測定した結果、ワイヤ実装した従来型(比較例、図1の構成)では、3dB帯域で13GHz程度であったのに対して、実施例(図5の構成)では3dB帯域18GHzまで改善した。   Next, frequency response characteristics were measured. As a comparison, measurement was also performed with the configuration of FIG. The measurement was performed by using a network analyzer, inputting an electrical signal through a high-frequency probe applied to a high-frequency wiring board, and inputting light received through the tip fiber into the network analyzer. 1A and 5A, the lower laser is channel 1 and the upper laser is channel 2. In FIG. As a result of measuring the frequency response characteristics with a bias current of 60 mA flowing in channel 1, the wire-mounted conventional type (comparative example, configuration of FIG. 1) was about 13 GHz in the 3 dB band, while the example In (configuration of FIG. 5), the 3 dB band was improved to 18 GHz.

最後に、実施例の構成と比較例の構成とにおいて、電流−光出力特性を比較した。このとき、キャリアの温度を25度一定とした。また、チャネル1を用いて測定した。しきい値は両方とも10mA程度であったのに対して、バイアス電流80mAでの光出力は比較例では13mWであったのに対して、実施例では14mWであった。これは、図5に示す実施例の構造により放熱性が改善したため活性層温度が従来型にくらべて下がったことが影響していると考えられる。   Finally, the current-light output characteristics were compared between the configuration of the example and the configuration of the comparative example. At this time, the temperature of the carrier was kept constant at 25 degrees. In addition, measurement was performed using channel 1. Both threshold values were about 10 mA, whereas the optical output at a bias current of 80 mA was 13 mW in the comparative example, whereas it was 14 mW in the example. This is considered to be due to the fact that the heat dissipation is improved by the structure of the embodiment shown in FIG. 5 and the active layer temperature is lower than that of the conventional type.

以上より、高速動作可能な光半導体モジュールが実現可能であることが明らかである。   From the above, it is apparent that an optical semiconductor module capable of high-speed operation can be realized.

本実施例の構成を図7に示す。図7において、(a)は平板状のレーザアレイチップ(光半導体素子、チップともいう)3の上面図であり、(b)は光半導体モジュールの構成を示す側面図であり、(c)は(b)の上面図である。レーザアレイチップ3は、図5のレーザアレイチップ1と同様に設けられた接着剤流れ止め部4以外の構成は、基本的に図4(a)の半導体チップ55と同様の構成を有している。   The configuration of this embodiment is shown in FIG. 7A is a top view of a plate-like laser array chip (also referred to as an optical semiconductor element or chip) 3, FIG. 7B is a side view showing the configuration of the optical semiconductor module, and FIG. It is a top view of (b). The laser array chip 3 basically has the same configuration as that of the semiconductor chip 55 of FIG. 4A except for the adhesive flow stopper 4 provided in the same manner as the laser array chip 1 of FIG. Yes.

本実施例では光半導体素子(レーザアレイチップ)3として、EADFBレーザを用いた構成となっている。接着剤流れ止め部4は、実装時に高さ0.1mmのアルミナ基板を搭載することで形成している。また、電気接続部は金バンプ42、電気絶縁部はエポキシ樹脂製の接着剤41を用いており、高周波配線板27の配線上には終端抵抗が作り込まれた物を用いた。ただし、図面上では終端抵抗は省略されている。EA長は0.15mm、DFBレーザ長は0.5mmとした。   In this embodiment, an EADFB laser is used as the optical semiconductor element (laser array chip) 3. The adhesive flow stopper 4 is formed by mounting an alumina substrate having a height of 0.1 mm during mounting. Further, gold bumps 42 were used for the electrical connection parts, and an adhesive 41 made of epoxy resin was used for the electrical insulation parts. However, the terminating resistor is omitted in the drawing. The EA length was 0.15 mm, and the DFB laser length was 0.5 mm.

図8は図7(a)のレーザアレイチップ3として示されるEADFBレーザの層構造を説明する図である。同図において、n電極301と、n−InP基板302と、n−InPクラッド層303とが積層され、DFB半導体レーザ領域として機能する領域においては、n−InPクラッド層303上に、半導体レーザの活性層304と、半導体レーザのガイド層305とが積層されている。ガイド層305にはEB(electron beam)描画により、回折格子が形成されている。さらに、p−InPクラッド層306が積層され、半導体レーザの電極307が設けられている。また、EA変調器として機能する領域は、n−InPクラッド層303の上に、EA変調器の吸収層308と、p−InPクラッド層306とが積層され、EA変調器の電極309が設けられている。さらに、導波路、光合波器として機能する領域は、n−InPクラッド層303の上に、導波路(もしくは光合波器)のコア層310と、ノンドープのInP311とが積層されている。   FIG. 8 is a diagram for explaining the layer structure of the EADFB laser shown as the laser array chip 3 in FIG. In the figure, an n-electrode 301, an n-InP substrate 302, and an n-InP cladding layer 303 are stacked, and in a region functioning as a DFB semiconductor laser region, a semiconductor laser is placed on the n-InP cladding layer 303. An active layer 304 and a semiconductor laser guide layer 305 are stacked. A diffraction grating is formed on the guide layer 305 by EB (electron beam) drawing. Further, a p-InP clad layer 306 is laminated, and a semiconductor laser electrode 307 is provided. In the region functioning as the EA modulator, an absorption layer 308 of the EA modulator and a p-InP cladding layer 306 are stacked on the n-InP cladding layer 303, and an electrode 309 of the EA modulator is provided. ing. Further, in the region functioning as the waveguide and the optical multiplexer, the core layer 310 of the waveguide (or the optical multiplexer) and the non-doped InP 311 are stacked on the n-InP cladding layer 303.

DFB半導体レーザの中心部分には、発振波長の単一モードを実現するために、回折格子を四分の一波長だけ位相シフトした四分の一波長シフト312が設けられている。   In the central portion of the DFB semiconductor laser, a quarter wavelength shift 312 is provided by shifting the phase of the diffraction grating by a quarter wavelength in order to realize a single mode of the oscillation wavelength.

1.組み立て工程
図7を参照して、実際に本モジュールを作製するための手順を示す。まず、サブキャリア30上にレーザアレイチップ3を実装する。次に、レーザアレイチップ3の結晶成長面の端面寄り両側に接着剤流れ止め部4としてアルミナ基板をポリウレタン樹脂を使って固定する。次に、レーザアレイチップ3の結晶成長面において、ボールボンダによりDFBレーザ電極51、EA変調器電極52、GND電極53上に金バンプを形成する。金バンプは高さ30μm程度である。そして、キャリア40上に実装されている高周波配線板27に、レーザアレイチップ3を金バンプ搭載面(結晶成長面)が下になるようにしてフリップチップ実装する。このとき、DFBレーザ部の電極51も金バンプ42を介して、高周波配線板27上のDC配線に接続する。金バンプ42と高周波配線板27は熱圧着により接合した。最後に、チップ3の側面からポリウレタン樹脂接着剤41を流し込んで固定する。以上で、図7(b)、(c)に示すようなEADFBレーザモジュールが完成する。
1. Assembly Process Referring to FIG. 7, a procedure for actually manufacturing this module will be described. First, the laser array chip 3 is mounted on the subcarrier 30. Next, an alumina substrate is fixed as an adhesive flow stop part 4 on both sides near the end face of the crystal growth surface of the laser array chip 3 using polyurethane resin. Next, gold bumps are formed on the DFB laser electrode 51, the EA modulator electrode 52, and the GND electrode 53 by a ball bonder on the crystal growth surface of the laser array chip 3. The gold bump has a height of about 30 μm. Then, the laser array chip 3 is flip-chip mounted on the high-frequency wiring board 27 mounted on the carrier 40 with the gold bump mounting surface (crystal growth surface) facing down. At this time, the electrode 51 of the DFB laser part is also connected to the DC wiring on the high-frequency wiring board 27 through the gold bump 42. The gold bumps 42 and the high-frequency wiring board 27 were joined by thermocompression bonding. Finally, the polyurethane resin adhesive 41 is poured from the side surface of the chip 3 and fixed. The EADFB laser module as shown in FIGS. 7B and 7C is thus completed.

2.モジュールの特性
まず、作成したモジュールの外観を確認し、接着剤が回り込んでいないことを確認した。
2. Module characteristics First, the appearance of the module was confirmed, and it was confirmed that the adhesive did not wrap around.

次に、周波数応答特性を測定した。比較として、図6の構成でも測定を行った。測定方法はネットワークアナライザを用い、高周波配線板に当てた高周波プローブを介して電気信号を入力し、先球ファイバを介して受光した光をネットワークアナライザに入力することで測定した。DFBレーザのバイアス電流60mA、EA変調器のバイアス電圧を−1.8Vとした状態で周波数応答特性を測定した結果、ワイヤ実装した従来型(比較例、図4の構成)では、3dB帯域で25GHz程度であったのに対して、実施例(図7の構成)では3dB帯域33GHzまで改善した。   Next, frequency response characteristics were measured. As a comparison, measurement was also performed with the configuration of FIG. The measurement was performed by using a network analyzer, inputting an electrical signal through a high-frequency probe applied to a high-frequency wiring board, and inputting light received through the tip fiber into the network analyzer. As a result of measuring frequency response characteristics with a DFB laser bias current of 60 mA and an EA modulator bias voltage of −1.8 V, the conventional wire-mounted type (comparative example, configuration shown in FIG. 4) has a frequency of 25 GHz in a 3 dB band. On the other hand, in the example (configuration of FIG. 7), the 3 dB band was improved to 33 GHz.

最後に、実施例の構成と比較例の構成とにおいて、電流−光出力特性を比較した。このとき、キャリアの温度を25度一定とした。しきい値は両方とも20mA程度であったのに対して、バイアス電流80mAでの光出力は比較例では30mWであったのに対して、実施例では35mWであった。これは、図7に示す実施例の構造により放熱性が改善したため活性層温度が従来型にくらべて下がったことが影響していると考えられる。   Finally, the current-light output characteristics were compared between the configuration of the example and the configuration of the comparative example. At this time, the temperature of the carrier was kept constant at 25 degrees. Both threshold values were about 20 mA, whereas the optical output at a bias current of 80 mA was 30 mW in the comparative example, whereas it was 35 mW in the example. This is considered to be due to the fact that the heat dissipation was improved by the structure of the embodiment shown in FIG. 7 and the active layer temperature was lower than that of the conventional type.

以上より、高速動作可能な光半導体モジュールが実現可能であることが明らかである。   From the above, it is apparent that an optical semiconductor module capable of high-speed operation can be realized.

なお、以上の説明では光を一方向にのみ出力する光半導体チップを例に説明したが、両端面に出力する光半導体チップでも構わない。   In the above description, an optical semiconductor chip that outputs light only in one direction has been described as an example. However, an optical semiconductor chip that outputs light to both end faces may be used.

また一端面から光を入力し、他端面から出力する入出力デバイス(例えばマッハ・ツェンダ変調器)でも構わないし、一端面から入力した光を、他端面で反射して入力面と同じ面から出力するデバイス(例えば反射型光増幅器)でも構わない。   Alternatively, an input / output device (for example, a Mach-Zehnder modulator) that inputs light from one end face and outputs from the other end face may be used. Light input from one end face is reflected by the other end face and output from the same face as the input face. It is also possible to use a device (for example, a reflection type optical amplifier).

さらには端面入射であるが面出力するデバイス(面発光デバイス)、逆に面入力するが端面出力するデバイスにも応用が可能で、つまり端面入射、端面出射する(受光素子を含む)すべての光デバイスに応用することができる。   Furthermore, it can also be applied to devices that emit light from the end surface, but output the surface (surface-emitting devices), and conversely, it can also be applied to devices that input the surface but output the surface. It can be applied to devices.

接着剤流れ止めは素子の両端面に設けたが、片側にしか設けなくとも、一定の効果を得ることができる。特に後面から光が一切出ない(したがって無反射コーティングが必要ない)構造にした場合には、後面の接着剤流れ止めが不要になることは言うまでもない。   Although the adhesive flow stopper is provided on both end faces of the element, a certain effect can be obtained even if it is provided only on one side. It goes without saying that the adhesive flow stop on the rear surface is not necessary particularly in the case of a structure in which no light is emitted from the rear surface (and therefore no antireflection coating is required).

1、3 レーザアレイチップ
2、4 接着剤流れ止め部
25、27 高周波配線板
30 サブキャリア
40 キャリア
41 接着剤
42 金バンプ
1, 3 Laser array chip 2, 4 Adhesive flow stop part 25, 27 High-frequency wiring board 30 Subcarrier 40 Carrier 41 Adhesive 42 Gold bump

Claims (4)

高周波配線板と、
前記高周波配線板に対向するように配置される結晶成長面を有する平板状の光半導体素子であって、4つの端面のうちの少なくとも1つの端面から光を入力または出力する光半導体素子と、
前記光半導体素子を前記高周波配線板の上に電気的に接続して固定するための金バンプおよび接着剤を含む固定手段とを備えた光半導体モジュールであって、
前記光半導体素子は、前記結晶成長面の端面近傍に前記接着剤の流れ止め部を有し、かつ前記入力または出力する光の光軸方向における光半導体素子の長さが前記高周波配線板の長さよりも長く形成されていることを特徴とする光半導体モジュール。
A high-frequency wiring board;
A planar optical semiconductor element having a crystal growth surface disposed so as to face the high-frequency wiring board, wherein the optical semiconductor element inputs or outputs light from at least one of the four end faces;
An optical semiconductor module comprising a fixing means including a gold bump and an adhesive for electrically connecting and fixing the optical semiconductor element on the high-frequency wiring board,
The optical semiconductor element has the adhesive flow stop portion in the vicinity of an end face of the crystal growth surface, and the length of the optical semiconductor element in the optical axis direction of the input or output light is the length of the high-frequency wiring board. An optical semiconductor module, wherein the optical semiconductor module is formed longer than the length.
前記接着剤の流れ止め部は、前記光軸方向の2つの端面近傍にそれぞれ設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の光半導体モジュール。   2. The optical semiconductor module according to claim 1, wherein the adhesive flow stop portion is provided in the vicinity of two end surfaces in the optical axis direction. 3. 前記接着剤は、絶縁性樹脂剤であることを特徴とする、請求項1または2に記載の光半導体モジュール。   The optical semiconductor module according to claim 1, wherein the adhesive is an insulating resin agent. 前記光半導体素子の高周波配線板と接触する面上部に光半導体素子支持用の金バンプを搭載するためのGND電極が配置されていることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載の光半導体モジュール。   4. A GND electrode for mounting a gold bump for supporting an optical semiconductor element is disposed on an upper surface of the optical semiconductor element that contacts the high-frequency wiring board. An optical semiconductor module according to 1.
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