JP2015098459A - 含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【解決手段】式（１）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物９０〜９９質量部、式（２）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物１〜１０質量部からなる含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物。

（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜２０の置換若しくは非置換の１価炭化水素基等、Ｒ³は炭素数１〜１０の２価炭化水素基、ｎは０、１又は２）
【効果】前記含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物は、適度な硬化性、添加効果を与えることができるため、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、繊維処理剤、表面処理剤等として有用である。
【選択図】なし

Description

本発明は、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、繊維処理剤、表面処理剤等として有用な含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物及びその製造方法に関する。

アミノ基を有するシラン化合物は、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、繊維処理剤、表面処理剤として有用であり、このようなアミノ基を有するシラン化合物としては、アミノプロピルトリメトキシシラン等の１級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物やＮ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン等の２級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物、また、ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン等の３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物等が知られている。

上記アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物は通常単品として用いられる場合が多いが、分岐構造を有する異性体を含む場合が好ましい場合もある。例えば液晶配向膜用に用いる場合は異性体が存在することにより液晶の配向性を調節することができる。また、他の例としては単一成分では融点が高く取り扱いづらい化合物においては、異性体が存在することにより融点が低下し、取り扱いを容易にすることができる。但し、上記用途に用いられる場合において異性体が多く存在しすぎると本来の効果が損なわれてしまう可能性があるため、異性体を適度に含有したアミノ基を有するオルガノキシシラン化合物含有組成物が好ましい。

上記アミノ基を有するオルガノキシシランの中でも、ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン等の３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物は、酸無水物、ポリアミン、ポリアミド系エポキシ樹脂硬化剤の促進剤又は共硬化剤として有用な化合物である。３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物においても、異性体が全くないとエポキシ樹脂添加剤等として用いた場合、硬化速度が速くなってしまう可能性があり、異性体が多く含有すると硬化速度が遅すぎる可能性があるため、異性体を適度に含有した組成物が好ましい。

上記３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物を得る場合、白金触媒による３級アミノ基を有する不飽和結合含有化合物とハイドロジェンオルガノキシシラン化合物とのヒドロシリル化反応により合成する方法を採用するのが一般的である（非特許文献１：Ｚｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．Ｋｈｉｍ．，（１９８４）５４，６５７）。また、３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物を得る他の方法として、２級アミン化合物とハロアルキルオルガノキシシラン化合物を反応させる方法が例示される（特許文献１：特開２００８−１４３８５５号公報）。

特開２００８−１４３８５５号公報

Ｚｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．Ｋｈｉｍ．，（１９８４）５４，６５７

しかしながら、非特許文献１の方法の場合、ヒドロシリル化反応の際に付加異性体が３０〜５０質量％程度生成し、異性体が多く含有する３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物の組成物となってしまう。また、特許文献１の場合、異性体が全く生成しないため、適度に異性体を含有する３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物含有組成物を得ることができない。加えて、上記方法は反応の際にアミン塩酸塩が生成するため、ろ過等の煩雑な操作を必要とするばかりでなく、製品中にアミン塩酸塩が混入、品質に悪影響を与える可能性がある。更に、２級アミン化合物がジメチルアミン等の室温で気体である化合物を用いる場合は、反応を加圧下で実施しなければならず、工業的に有利ではない。

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、繊維処理剤、表面処理剤等として用いた場合に、適度な硬化性を与えることができる含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、３級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物を、白金触媒による３級アミノ基を有する不飽和結合含有化合物とハイドロジェンオルガノキシシラン化合物とのヒドロシリル化反応により合成する際に、反応を無機酸のアンモニウム塩存在下に実施すると、付加異性体を１〜１０質量％とすることができ、この付加異性体をこのように適量含有する含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物は、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、繊維処理剤、表面処理剤等として用いた場合に、適度な硬化性、添加効果を与えることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

従って、本発明は下記に示す含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物及びその製造方法を提供する。
［１］ 下記一般式（１）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜２０の置換若しくは非置換の１価炭化水素基であり、互いに結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成しても良く、該環は上記窒素原子に加えて更にヘテロ原子が介在してもよく、置換基を有してもよい。Ｒ³は炭素数１〜１０の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜２０の置換若しくは非置換の１価炭化水素基であり、ｎは０、１又は２である。）
で示される含窒素オルガノキシシラン化合物９０〜９９質量部、下記一般式（２）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎは上記と同様である。）
で示される含窒素オルガノキシシラン化合物１〜１０質量部からなる含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物。
［２］ Ｒ¹、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³がメチレン基である［１］記載の組成物。
［３］ 下記一般式（３）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記と同様である。）
で示される含窒素不飽和結合含有化合物と下記一般式（４）
ＨＳｉＲ⁴ _n（ＯＲ⁵）_3-n （４）
（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎは上記と同様である。）
で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物を無機酸のアンモニウム塩存在下に白金触媒を用いてヒドロシリル化することを特徴とする、［１］又は［２］記載の含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物の製造方法。

本発明により提供される含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物は、適度な硬化性、添加効果を与えることができるため、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、繊維処理剤、表面処理剤等として有用である。

本発明の含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物は、下記一般式（１）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜２０の置換若しくは非置換の１価炭化水素基であり、互いに結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成しても良く、Ｒ³は炭素数１〜１０の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜２０の置換若しくは非置換の１価炭化水素基であり、ｎは０、１又は２である。）
で示される含窒素オルガノキシシラン化合物９０〜９９質量部、下記一般式（２）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎは上記と同様である。）
で示される含窒素オルガノキシシラン化合物１〜１０質量部からなる組成物である。

ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵の炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０の置換又は非置換の１価炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の直鎖状のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、テキシル基、２−エチルヘキシル基等の分岐鎖状のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状のアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基などが例示され、特に原料の入手容易性の点から、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましい。また、炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；シアノ基；アミノ基；炭素数２〜１０のアシル基、それぞれ各アルキル基、各アルコキシ基が炭素数１〜５であるトリアルキルシリル基、トリアルコキシシリル基、ジアルキルモノアルコキシシリル基若しくはモノアルキルジアルコキシシリル基が挙げられ、これらを組み合わせて用いることもできる。

また、Ｒ¹とＲ²とが結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成している場合、Ｒ¹Ｒ²Ｎ−は含窒素複素環となる。含窒素複素環はＲ¹の炭素原子とＲ²の炭素原子とが直接結合したものの他、Ｒ¹の炭素原子とＲ²の炭素原子とが、１個以上の酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子を介して結合して環を形成したものであってもよい。Ｒ¹とＲ²とが環を形成した場合の環中に含まれる炭素数は、好ましくは３〜６である。
含窒素複素環は置換基を有していてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、（イソ）プロピル基、ヘキシル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子からなる基、シアノ基、アミノ基、芳香族炭化水素基、エステル基、エーテル基、アシル基、チオエーテル基等が挙げられ、これらを組み合わせて用いることもできる。これらの置換基の置換位置は特に限定されず、置換基数も限定されない。このような含窒素複素環としては、具体的には、例えば、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピロリジン、ピロリドン、ピペリドン及びこれらの誘導体等が挙げられる。

Ｒ³は炭素数１〜１０、好ましくは１〜６の２価炭化水素基である。炭素数１〜１０の２価炭化水素基としては、具体的には、メチレン基、エチレン基、メチルエチレン基、プロピレン基、メチルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、イソブチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、メチレンフェニレン基、メチレンフェニレンメチレン基等のアラルキレン基が例示される。

上記一般式（１）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物の具体例としては、３−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−ジプロピルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−ジプロピルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ジプロピルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−ジプロピルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジプロピルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−ジプロピルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−ジブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−ジブチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ジブチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−ジブチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジブチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−ジブチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−フェニルメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−フェニルメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−フェニルメチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−フェニルメチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−フェニルメチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−フェニルメチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−ピペリジニルプロピルトリメトキシシラン、３−ピペリジニルプロピルメチルジメトキシシラン、３−ピペリジニルプロピルジメチルメトキシシラン、３−ピペリジニルプロピルトリエトキシシラン、３−ピペリジニルプロピルメチルジエトキシシラン、３−ピペリジニルプロピルジメチルエトキシシラン、３−モルホリニルプロピルトリメトキシシラン、３−モルホリニルプロピルメチルジメトキシシラン、３−モルホリニルプロピルジメチルメトキシシラン、３−モルホリニルプロピルトリエトキシシラン、３−モルホリニルプロピルメチルジエトキシシラン、３−モルホリニルプロピルジメチルエトキシシラン、３−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルジメチルメトキシシラン、３−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルジメチルエトキシシラン等が例示される。

また、上記一般式（２）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物は上記一般式（１）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物と異性体の関係にある。上記一般式（２）で示される化合物の具体例としては、２−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、２−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、２−ジメチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、２−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン、２−ジメチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、２−ジメチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、２−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、２−ジエチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、２−ジエチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、２−ジエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、２−ジエチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、２−ジエチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、２−ジプロピルアミノプロピルトリメトキシシラン、２−ジプロピルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、２−ジプロピルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、２−ジプロピルアミノプロピルトリエトキシシラン、２−ジプロピルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、２−ジプロピルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、２−ジブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、２−ジブチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、２−ジブチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、２−ジブチルアミノプロピルトリエトキシシラン、２−ジブチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、２−ジブチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、２−フェニルメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、２−フェニルメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、２−フェニルメチルアミノプロピルジメチルメトキシシラン、２−フェニルメチルアミノプロピルトリエトキシシラン、２−フェニルメチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、２−フェニルメチルアミノプロピルジメチルエトキシシラン、２−ピペリジニルプロピルトリメトキシシラン、２−ピペリジニルプロピルメチルジメトキシシラン、２−ピペリジニルプロピルジメチルメトキシシラン、２−ピペリジニルプロピルトリエトキシシラン、２−ピペリジニルプロピルメチルジエトキシシラン、２−ピペリジニルプロピルジメチルエトキシシラン、２−モルホリニルプロピルトリメトキシシラン、２−モルホリニルプロピルメチルジメトキシシラン、２−モルホリニルプロピルジメチルメトキシシラン、２−モルホリニルプロピルトリエトキシシラン、２−モルホリニルプロピルメチルジエトキシシラン、２−モルホリニルプロピルジメチルエトキシシラン、２−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルトリメトキシシラン、２−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、２−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルジメチルメトキシシラン、２−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルトリエトキシシラン、２−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、２−（４−メチルピペラジン−１−イル）プロピルジメチルエトキシシラン等が例示される。

本発明における上記一般式（１）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物と上記一般式（２）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物の組成比は、上記一般式（１）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物９０〜９９質量部、上記一般式（２）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物１〜１０質量部であり、より好ましくは上記一般式（１）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物９０〜９５質量部、上記一般式（２）で示される含窒素オルガノキシシラン化合物５〜１０質量部である。

本発明における含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物の製造方法は、例えば、下記一般式（３）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記と同様である。）
で示される含窒素不飽和結合含有化合物と下記一般式（４）
ＨＳｉＲ⁴ _n（ＯＲ⁵）_3-n （４）
（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎは上記と同様である。）
で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物を無機酸のアンモニウム塩存在下に白金触媒を用いてヒドロシリル化する方法が例示される。

上記一般式（３）で示される含窒素不飽和結合含有化合物としては、具体的にはジメチルアリルアミン、ジエチルアリルアミン、ジプロピルアリルアミン、ジブチルアリルアミン、フェニルメチルアリルアミン、Ｎ−アリルピペリジン、Ｎ−アリルモルホリン、１−アリル−４−メチルピペラジン等が例示される。

上記一般式（４）で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物としては、具体的にはトリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン等が例示される。

上記一般式（３）で示される含窒素不飽和結合含有化合物と上記一般式（４）で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（３）で示される化合物１モルに対し一般式（４）で示される化合物を０．１〜４モル、特に０．２〜２モルの範囲が好ましい。

上記反応で用いられる無機酸のアンモニウム塩としては、例えば塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、硫酸水素アンモニウム、硝酸アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸アンモニウム、ジ亜リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、硫化アンモニウム、ホウ酸アンモニウム、ホウフッ化アンモニウム等が例示され、特に反応性向上、異性体の生成比抑制効果の点から、ｐＫａが２以上の無機酸のアンモニウム塩が好ましく、特に、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムが好ましい。

無機酸のアンモニウム塩の使用量は特に限定されないが、反応性、選択性、生産性の点から一般式（３）で示される不飽和結合含有化合物１モルに対し、０．００００１〜０．１モル、特に０．０００１モル〜０．０５モルの範囲が好ましい。

上記反応で用いられる白金触媒としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金、白金−活性炭等が例示される。

白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（３）で示される含窒素不飽和結合含有化合物１モルに対し、０．０００００１〜０．０１モル、特に０．００００１〜０．００１モルの範囲が好ましい。

上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。反応雰囲気は窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。

なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

上記反応により得られる含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物は、その目的品質に応じて、蒸留、ろ過、洗浄、カラム分離、固体吸着等の各種精製法によって更に精製して使用することもできる。触媒等の微量不純物を取り除き、高純度にするためには、蒸留による精製が好ましい。

以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。

［実施例１］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジメチルアリルアミン９７．９ｇ（１．１５モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体の３質量％トルエン溶液を１．５ｇ（Ｐｔとして４５ｍｇ）、炭酸水素アンモニウム１．８ｇ（０．０２３モル）仕込み、５５℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン１４０．６ｇ（１．１５モル）を７時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。反応液をガスクロマトグラフィー及びＧＣ−ＭＳで分析したところ、３−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシランと２−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシランが生成しており、生成比は９２．８：７．２であった。反応液を蒸留し、沸点７８−８１℃／１．０ｋＰａの留分を１６４．５ｇ得た。留分には３−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン９２．５質量％、２−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン６．７質量％含有していた。

［実施例２］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジメチルアリルアミン８５．２ｇ（１．０モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体の３質量％トルエン溶液を１．３ｇ（Ｐｔとして３９ｍｇ）、炭酸水素アンモニウム１．６ｇ（０．０２モル）仕込み、５５℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン１６４．３ｇ（１．０モル）を９時間かけて滴下し、その温度で８時間撹拌した。反応液をガスクロマトグラフィー及びＧＣ−ＭＳで分析したところ、３−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシランと２−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシランが生成しており、生成比は９１．７：８．３であった。反応液を蒸留し、沸点９３−９６℃／１．０ｋＰａの留分を１８０．７ｇ得た。留分には３−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン９２．３質量％、２−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン６．８質量％含有していた。

［比較例１］
炭酸水素アンモニウムを添加しなかった以外は実施例１と同様に反応を行ったところ、反応液中の３−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシランと２−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシランの生成比は６３．８：３６．２であった。反応液を蒸留し、沸点７７−８１℃／１．０ｋＰａの留分を１５６．５ｇ得た。留分には３−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン６５．５質量％、２−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン３３．５質量％含有していた。

［比較例２］
炭酸水素アンモニウムを添加しなかった以外は実施例２と同様に反応を行ったところ、反応液中の３−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシランと２−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシランの生成比は５６．７：４３．３であった。反応液を蒸留し、沸点９２−９６℃／１．０ｋＰａの留分を１７５．４ｇ得た。留分には３−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン５７．９質量％、２−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン４１．１質量％含有していた。

［実施例３］
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジメチルアリルアミン１２７．８ｇ（１．５モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体の３質量％トルエン溶液を２．０ｇ（Ｐｔとして６０ｍｇ）、炭酸水素アンモニウム１．２ｇ（０．０１５モル）仕込み、４５℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジメトキシシラン１５９．３ｇ（１．５モル）を６時間かけて滴下し、その温度で６時間撹拌した。反応液をガスクロマトグラフィー及びＧＣ−ＭＳで分析したところ、３−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシランと２−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシランが生成しており、生成比は９０．７：９．３であった。反応液を蒸留し、沸点８５−８９℃／２．５ｋＰａの留分を２２３．４ｇ得た。留分には３−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン９１．４質量％、２−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン８．０質量％含有していた。

［比較例３］
炭酸水素アンモニウムを添加しなかった以外は実施例３と同様に反応を行ったところ、反応液中の３−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシランと２−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシランの生成比は５６．４：４３．６であった。反応液を蒸留し、沸点８４−８９℃／２．５ｋＰａの留分を２１８．８ｇ得た。留分には３−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン５８．１質量％、２−ジメチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン４１．０質量％含有していた。

Claims (3)

1. 下記一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜２０の置換若しくは非置換の１価炭化水素基であり、互いに結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成しても良く、該環は上記窒素原子に加えて更にヘテロ原子が介在してもよく、置換基を有してもよい。Ｒ³は炭素数１〜１０の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜２０の置換若しくは非置換の１価炭化水素基であり、ｎは０、１又は２である。）
   で示される含窒素オルガノキシシラン化合物９０〜９９質量部、下記一般式（２）
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎは上記と同様である。）
   で示される含窒素オルガノキシシラン化合物１〜１０質量部からなる含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物。
2. Ｒ¹、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³がメチレン基である請求項１記載の組成物。
3. 下記一般式（３）
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記と同様である。）
   で示される含窒素不飽和結合含有化合物と下記一般式（４）
   ＨＳｉＲ⁴ _n（ＯＲ⁵）_3-n （４）
   （式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎは上記と同様である。）
   で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物を無機酸のアンモニウム塩存在下に白金触媒を用いてヒドロシリル化することを特徴とする、請求項１又は２記載の含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物の製造方法。