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JP2015088792A - Vibrator, base substrate manufacturing method, oscillator, electronic device, and moving body - Google Patents

Vibrator, base substrate manufacturing method, oscillator, electronic device, and moving body Download PDF

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JP2015088792A
JP2015088792A JP2013223558A JP2013223558A JP2015088792A JP 2015088792 A JP2015088792 A JP 2015088792A JP 2013223558 A JP2013223558 A JP 2013223558A JP 2013223558 A JP2013223558 A JP 2013223558A JP 2015088792 A JP2015088792 A JP 2015088792A
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JP
Japan
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vibrator
base substrate
vibration element
base
substrate
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JP2013223558A
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Japanese (ja)
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賢 三上
Masaru Mikami
賢 三上
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vibrator, a base substrate manufacturing method, an oscillator, an electronic apparatus and a moving body, capable of reducing damage of a vibration element.SOLUTION: A vibrator 1 includes a vibration element 2 and a base substrate 51 disposed opposite to the vibration element 2. The base substrate 51 further includes a recess part 511 disposed on the principal plane of the vibration element 2 side and an extension part 512 extending inside the recess part 511. The extension part 512 is disposed to overlap with a free end part of the vibration element 2 in the plan view of the base substrate 51.

Description

本発明は、振動子、ベース基板の製造方法、発振器、電子機器および移動体に関するものである。   The present invention relates to a vibrator, a method for manufacturing a base substrate, an oscillator, an electronic device, and a moving body.

従来から、水晶を用いた振動子が知られている。このような振動子は、周波数温度特性が優れていることから、種々の電子機器の基準周波数源や発信源などとして広く用いられている。
例えば、特許文献1に記載されている振動子は、音叉型の振動素子と、この振動素子を収容するパッケージとを有している。また、パッケージは、ベース基板とリッドとで構成され、さらに、ベース基板には、振動素子との必要なギャップを確保するための凹部が形成されている。
Conventionally, vibrators using quartz have been known. Such a vibrator is widely used as a reference frequency source, a transmission source, and the like of various electronic devices because of excellent frequency temperature characteristics.
For example, the vibrator described in Patent Document 1 includes a tuning fork type vibration element and a package that accommodates the vibration element. The package includes a base substrate and a lid, and the base substrate has a recess for securing a necessary gap with the vibration element.

このような凹部を形成することで、例えば、落下の衝撃等によって振動子にその厚さ方向の外力が加わり、振動素子が厚さ方向に撓んでも、振動素子がベースに接触せず、当該接触による振動素子の破損を防止できる。しかしながら、ベース基板に接触しないという事は、振動素子の厚さ方向への過度な変形を許容してしまうことを意味し、この過度な変形によって振動素子が破損してしまうおそれがある。
したがって、特許文献1の振動子では、振動素子の破損を防止することができないという問題がある。
By forming such a recess, for example, even when an external force in the thickness direction is applied to the vibrator due to a drop impact or the like, and the vibration element is bent in the thickness direction, the vibration element does not contact the base, The vibration element can be prevented from being damaged by the contact. However, not contacting the base substrate means that excessive deformation in the thickness direction of the vibration element is allowed, and the vibration element may be damaged by this excessive deformation.
Therefore, the vibrator of Patent Document 1 has a problem that it is impossible to prevent the vibration element from being damaged.

特開2011−41069号公報JP 2011-41069 A

本発明の目的は、振動素子の破損を低減することのできる振動子、ベース基板の製造方法、発振器、電子機器および移動体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a vibrator, a method for manufacturing a base substrate, an oscillator, an electronic device, and a moving body that can reduce breakage of a vibration element.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]
本適用例の振動子は、一端および平面視で前記一端と反対側の他端を含む振動素子と、
前記振動素子の前記一端側が取り付けられているベース基板と、
を含み、
前記ベース基板は、
前記振動素子側の主面に設けられている凹部と、
前記凹部内に張り出している張出部と、
を有し、
前記張出部が、前記ベース基板の平面視にて、前記振動素子の前記他端側と重なるように配置されていることを特徴とする。
これにより、振動素子の破損を低減することのできる振動子が得られる。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[Application Example 1]
The vibrator according to this application example includes a vibrating element including one end and the other end opposite to the one end in plan view;
A base substrate to which the one end side of the vibration element is attached;
Including
The base substrate is
A recess provided in the main surface on the vibration element side;
A projecting portion projecting into the recess;
Have
The overhanging portion is arranged to overlap the other end side of the vibration element in a plan view of the base substrate.
Thereby, a vibrator capable of reducing breakage of the vibration element is obtained.

[適用例2]
本適用例の振動子では、前記張出部では、前記ベース基板の平面視にて、前記主面と前記凹部の内面とが重なり合っていることが好ましい。
これにより、張出部の構成が簡単となる。
[適用例3]
本適用例の振動子では、前記張出部は、基端部の厚さよりも先端部の厚さの方が薄いことが好ましい。
これにより、張出部の先端部を撓み易くすることができる。
[Application Example 2]
In the vibrator according to this application example, it is preferable that in the overhang portion, the main surface and the inner surface of the recess overlap each other in a plan view of the base substrate.
Thereby, the structure of an overhang | projection part becomes easy.
[Application Example 3]
In the vibrator according to this application example, it is preferable that the thickness of the protruding portion is thinner than the thickness of the proximal end portion.
Thereby, the front-end | tip part of an overhang | projection part can be made easy to bend.

[適用例4]
本適用例の振動子では、前記張出部に緩衝部が設けられていることが好ましい。
これにより、振動素子の破損をより効果的に低減することができる。
[適用例5]
本適用例の振動子では、前記凹部内に設けられている凸部を有し、
前記凹部は、前記ベース基板の平面視にて、前記振動素子の前記他端側と重なるように位置していることが好ましい。
これにより、振動素子の破損をより効果的に低減することができる。
[Application Example 4]
In the vibrator according to this application example, it is preferable that a buffer portion is provided in the overhang portion.
Thereby, the breakage of the vibration element can be reduced more effectively.
[Application Example 5]
In the vibrator of this application example, it has a convex portion provided in the concave portion,
The concave portion is preferably positioned so as to overlap the other end side of the vibration element in a plan view of the base substrate.
Thereby, the breakage of the vibration element can be reduced more effectively.

[適用例6]
本適用例の振動子では、前記振動素子は、基部と、前記基部から延出されている振動腕と、を有し、
前記振動腕には、その延出方向に沿って延在されている有底の溝と、前記基部とは反対側の先端側に配置されている質量調整用の調整膜と、が設けられ、
前記ベース基板の平面視にて、前記調整膜と前記溝との間の領域が前記張出部と重なっていることが好ましい。
これにより、振動素子の破損(特に調整膜の剥がれ)をより効果的に低減することができる。
[Application Example 6]
In the vibrator according to this application example, the vibration element includes a base and a vibrating arm extending from the base.
The vibrating arm is provided with a bottomed groove extending along the extending direction, and an adjustment film for mass adjustment disposed on the tip side opposite to the base,
In a plan view of the base substrate, it is preferable that a region between the adjustment film and the groove overlaps the protruding portion.
Thereby, breakage of the vibration element (particularly peeling of the adjustment film) can be reduced more effectively.

[適用例7]
本適用例の振動子では、前記振動素子は、基部と、前記基部から延出されている振動腕と、を有し、
前記振動腕には、その延出方向に沿って延在されている有底の溝と、前記基部とは反対側の先端側に配置されている質量調整用の調整膜と、が設けられ、
前記ベース基板の平面視にて、前記調整膜と前記溝との間の領域が前記張出部と重なっており、前記調整膜の質量調整部は、前記張出部と前記凸部との間の領域と重なっていることが好ましい。
これにより、振動素子の破損(特に調整膜の剥がれ)をより効果的に低減することができる。
[Application Example 7]
In the vibrator according to this application example, the vibration element includes a base and a vibrating arm extending from the base.
The vibrating arm is provided with a bottomed groove extending along the extending direction, and an adjustment film for mass adjustment disposed on the tip side opposite to the base,
In a plan view of the base substrate, a region between the adjustment film and the groove overlaps with the overhang portion, and the mass adjustment portion of the adjustment film is between the overhang portion and the convex portion. It is preferable to overlap with the region.
Thereby, breakage of the vibration element (particularly peeling of the adjustment film) can be reduced more effectively.

[適用例8]
本適用例の振動子では、前記ベース基板は、ガラス材料で構成されていることが好ましい。
これにより、ベース基板を安価に製造することができるとともに、張出部を容易に形成することができる。
[Application Example 8]
In the vibrator according to this application example, it is preferable that the base substrate is made of a glass material.
As a result, the base substrate can be manufactured at low cost and the overhang portion can be easily formed.

[適用例9]
本適用例のベース基板の製造方法は、基板の一方の面に凹部を形成する工程と、
前記凹部の側面を抉るように除去し、前記凹部内に張り出す張出部を形成する工程と、を有することを特徴とする。
これにより、凹部が形成された面に、先端部が凹部と対向するように振動素子を支持した場合に、その振動素子の破損を低減することができる。
[Application Example 9]
The base substrate manufacturing method of this application example includes a step of forming a recess on one surface of the substrate;
Removing the side surface of the concave portion so as to squeeze, and forming an overhanging portion projecting into the concave portion.
Thereby, when the vibration element is supported on the surface on which the concave portion is formed such that the tip portion faces the concave portion, damage to the vibration element can be reduced.

[適用例10]
本適用例のベース基板の製造方法では、前記張出部を形成する工程は、前記基板をウエットエッチングすることで前記張出部を形成することが好ましい。
これにより、張出部を簡単に形成することができる。
[適用例11]
本適用例の発振器は、本適用例の振動子と、
回路と、を備えていることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い発振器が得られる。
[Application Example 10]
In the base substrate manufacturing method according to this application example, it is preferable that in the step of forming the overhang portion, the overhang portion is formed by wet etching the substrate.
Thereby, an overhang | projection part can be formed easily.
[Application Example 11]
The oscillator of this application example includes the vibrator of this application example,
And a circuit.
Thereby, a highly reliable oscillator can be obtained.

[適用例12]
本適用例の電子機器は、本適用例の振動子を備えていることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
[適用例13]
本適用例の移動体は、本適用例の振動子を備えていることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い移動体が得られる。
[Application Example 12]
An electronic apparatus according to this application example includes the vibrator according to this application example.
As a result, a highly reliable electronic device can be obtained.
[Application Example 13]
The moving body according to this application example includes the vibrator according to this application example.
Thereby, a mobile body with high reliability is obtained.

本発明の第1実施形態に係る振動子を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a vibrator according to a first embodiment of the present invention. 図1に示す振動子の上面図である。FIG. 2 is a top view of the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子が有する振動素子の電極配置を説明するための図であり、(a)が上面図、(b)が上面側からみた透過図である。2A and 2B are diagrams for explaining electrode arrangement of a vibration element included in the vibrator illustrated in FIG. 1, in which FIG. 2A is a top view and FIG. 図2中のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line in FIG. 図1に示す振動子が有するベース基板に形成された凹部および張出部の機能を説明するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining functions of a recess and an overhang formed in a base substrate included in the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子が有するベース基板に形成された凹部および張出部の機能を説明するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining functions of a recess and an overhang formed in a base substrate included in the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 本発明の第2実施形態に係る振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator concerning 2nd Embodiment of this invention. 図11に示す振動子の平面図である。FIG. 12 is a plan view of the vibrator shown in FIG. 11. 本発明の第3実施形態に係る振動子を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a vibrator according to a third embodiment of the invention. 図13に示す振動子の平面図である。FIG. 14 is a plan view of the vibrator shown in FIG. 13. 本発明の第4実施形態に係る振動子を示す平面図である。It is a top view which shows the vibrator | oscillator which concerns on 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態に係る振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator concerning 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6実施形態に係る振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator which concerns on 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7実施形態に係る振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator concerning 7th Embodiment of this invention. 図18に示す振動子を示す平面図である。FIG. 19 is a plan view showing the vibrator shown in FIG. 18. 図18に示す振動子の部分拡大断面図である。FIG. 19 is a partial enlarged cross-sectional view of the vibrator illustrated in FIG. 18. 本発明の発振器の好適な実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows suitable embodiment of the oscillator of this invention. 本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。1 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which an electronic apparatus of the present invention is applied. 本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone (PHS is also included) to which the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the digital still camera to which the electronic device of this invention is applied. 本発明の移動体を適用した自動車を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the motor vehicle to which the mobile body of this invention is applied.

以下、本発明の振動子、ベース基板の製造方法、発振器、電子機器および移動体を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。
1.振動子
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る振動子を示す断面図である。図2は、図1に示す振動子の上面図である。図3は、図1に示す振動子が有する振動素子の電極配置を説明するための図であり、(a)が上面図、(b)が上面側からみた透過図である。図4は、図2中のA−A線断面図である。図5および図6は、それぞれ、図1に示す振動子が有するベース基板に形成された凹部および張出部の機能を説明するための断面図である。図7ないし図10は、それぞれ、図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。なお、図1および図2では、それぞれ、説明の便宜上、振動素子が有する電極の図示を省略している。
図1に示すように、振動子1は、振動素子2と、振動素子2を収容しているパッケージ5とを有している。以下、振動素子2およびパッケージ5について、順次詳細に説明する。
Hereinafter, a vibrator, a method for manufacturing a base substrate, an oscillator, an electronic device, and a moving body of the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the accompanying drawings.
1. Resonator <First Embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a vibrator according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a top view of the vibrator shown in FIG. 3A and 3B are diagrams for explaining the electrode arrangement of the vibration element included in the vibrator shown in FIG. 1, in which FIG. 3A is a top view and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 5 and FIG. 6 are cross-sectional views for explaining the functions of the concave portion and the protruding portion formed in the base substrate of the vibrator shown in FIG. 7 to 10 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the vibrator shown in FIG. In FIGS. 1 and 2, for convenience of explanation, illustration of electrodes included in the vibration element is omitted.
As shown in FIG. 1, the vibrator 1 includes a vibration element 2 and a package 5 that houses the vibration element 2. Hereinafter, the vibration element 2 and the package 5 will be sequentially described in detail.

−振動素子−
図2および図3に示すように、振動素子2は、圧電基板3と、圧電基板3の表面に形成された電極4とを有している。
圧電基板3の構成材料としては、例えば、水晶、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムなどの圧電材料が挙げられる。これらの中でも、圧電基板3の構成材料としては、水晶を用いることが好ましい。水晶を用いることで、他の材料と比較して優れた周波数温度特性を有する振動素子2が得られる。なお、以下では、圧電基板3を水晶で構成した場合について説明する。
-Vibration element-
As shown in FIGS. 2 and 3, the vibration element 2 includes a piezoelectric substrate 3 and an electrode 4 formed on the surface of the piezoelectric substrate 3.
Examples of the constituent material of the piezoelectric substrate 3 include piezoelectric materials such as quartz, lithium tantalate, and lithium niobate. Among these, it is preferable to use quartz as the constituent material of the piezoelectric substrate 3. By using quartz, the vibration element 2 having excellent frequency temperature characteristics as compared with other materials can be obtained. Hereinafter, a case where the piezoelectric substrate 3 is made of quartz will be described.

圧電基板3は、水晶基板の結晶軸であるY軸(機械軸)およびX軸(電気軸)で規定されるXY平面に広がりを有し、Z軸(光軸)方向に厚みを有する板状をなしている。すなわち、圧電基板3は、Zカット水晶板で構成されている。なお、Z軸は、圧電基板3の厚さ方向と一致しているのが好ましいが、常温近傍における周波数温度変化を小さくする観点から、厚さ方向に対して若干(例えば、15°未満程度)傾けてもよい。   The piezoelectric substrate 3 has a plate shape that extends in the XY plane defined by the Y axis (mechanical axis) and the X axis (electrical axis), which are crystal axes of the quartz substrate, and has a thickness in the Z axis (optical axis) direction. I am doing. That is, the piezoelectric substrate 3 is composed of a Z-cut quartz plate. The Z-axis preferably coincides with the thickness direction of the piezoelectric substrate 3, but is slightly (for example, less than about 15 °) with respect to the thickness direction from the viewpoint of reducing the frequency temperature change near room temperature. You may tilt.

このような圧電基板3は、音叉型をなし、基部31と、基部31から延出する一対の振動腕32、33とを有している。基部31は、XY平面に広がりを有し、Z軸方向に厚さを有する板状をなしている。一方、振動腕32、33は、X軸方向に並び、かつ、互いに平行となるように、基部31から+Y軸方向に延出している。振動腕32、33は、それぞれ、長手形状をなしており、その基端が基部31に接続されている固定端となり、先端が自由端となっている。また、振動腕32、33の先端部には幅広のハンマーヘッド321、331が設けられている。   Such a piezoelectric substrate 3 has a tuning fork shape, and includes a base portion 31 and a pair of vibrating arms 32 and 33 extending from the base portion 31. The base 31 has a plate shape having a spread in the XY plane and having a thickness in the Z-axis direction. On the other hand, the vibrating arms 32 and 33 extend in the + Y-axis direction from the base 31 so as to be aligned in the X-axis direction and parallel to each other. Each of the vibrating arms 32 and 33 has a longitudinal shape, and a base end thereof is a fixed end connected to the base portion 31 and a tip end thereof is a free end. Further, wide hammer heads 321 and 331 are provided at the distal ends of the vibrating arms 32 and 33.

また、振動腕32、33の上面には、Y軸方向に延在する有底の溝322、332が形成されており、振動腕32、33の下面には、Y軸方向に延在する有底の溝323、333が形成されている。溝322、323、332、333を設けることで、熱弾性損失が低減され、振動素子2の振動特性が向上する。これら溝322、323、332、333は、基端が基部31付近まで延びており、先端がハンマーヘッド321、331付近まで延びている。このように、溝322、323、332、333の先端がハンマーヘッド321、331付近まで延びていると、溝322、323、332、333の先端周辺での応力集中が緩和され、衝撃が加わった際に発生する折れや欠けのおそれが減少する。また、溝322、323、332、333の基端が基部31付近まで延びていると、振動腕32、33と基部31の境界部周辺での応力集中が緩和される。そのため、例えば、衝撃が加わった際に発生する折れや欠けのおそれが減少する。   Also, bottomed grooves 322 and 332 extending in the Y-axis direction are formed on the upper surfaces of the vibrating arms 32 and 33, and the bottom surfaces of the vibrating arms 32 and 33 are provided to extend in the Y-axis direction. Bottom grooves 323 and 333 are formed. By providing the grooves 322, 323, 332, 333, the thermoelastic loss is reduced and the vibration characteristics of the vibration element 2 are improved. These grooves 322, 323, 332, and 333 have base ends extending to the vicinity of the base portion 31, and distal ends extending to the vicinity of the hammer heads 321 and 331. As described above, when the tips of the grooves 322, 323, 332, 333 extend to the vicinity of the hammer heads 321, 331, the stress concentration around the tips of the grooves 322, 323, 332, 333 is alleviated and an impact is applied. The risk of breakage and chipping that occurs during the process is reduced. Further, when the base ends of the grooves 322, 323, 332, 333 extend to the vicinity of the base portion 31, stress concentration around the boundary portion between the vibrating arms 32, 33 and the base portion 31 is alleviated. Therefore, for example, the risk of breakage or chipping that occurs when an impact is applied is reduced.

図3(a)、(b)に示すように、電極4は、駆動信号電極41と、駆動接地電極42と、駆動信号端子43と、駆動接地端子44とを有している。
駆動信号電極41は、振動腕32の上面および下面(溝322、323の内周面)に形成されている。さらに、駆動信号電極41は、振動腕33の両側面に形成されている。振動腕33の両側面に形成されている駆動信号電極41は、ハンマーヘッド331の先端部に形成された導電部を介して電気的に接続されている。なお、ハンマーヘッド331上に形成された導電部は、振動腕33の質量を調整して、振動素子2の周波数調整を行うための調整膜45として機能する。この調整膜45は、駆動信号電極41と一体的に形成されている。
また、駆動信号端子43は、基部31の下面に形成されている。この駆動信号端子43は、基部31に形成された駆動信号配線を介して駆動信号電極41と電気的に接続されている。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the electrode 4 includes a drive signal electrode 41, a drive ground electrode 42, a drive signal terminal 43, and a drive ground terminal 44.
The drive signal electrode 41 is formed on the upper and lower surfaces (inner peripheral surfaces of the grooves 322 and 323) of the vibrating arm 32. Further, the drive signal electrode 41 is formed on both side surfaces of the vibrating arm 33. The drive signal electrodes 41 formed on both side surfaces of the vibrating arm 33 are electrically connected via a conductive portion formed at the tip of the hammer head 331. The conductive portion formed on the hammer head 331 functions as an adjustment film 45 for adjusting the frequency of the vibration element 2 by adjusting the mass of the vibration arm 33. The adjustment film 45 is formed integrally with the drive signal electrode 41.
The drive signal terminal 43 is formed on the lower surface of the base 31. The drive signal terminal 43 is electrically connected to the drive signal electrode 41 via a drive signal wiring formed on the base 31.

駆動接地電極42は、振動腕33の上面および下面(溝332、333の内周面)に形成されている。さらに、駆動接地電極42は、振動腕32の両側面に形成されている。振動腕32の両側面に形成されている駆動接地電極42は、ハンマーヘッド321の先端部に形成された導電部を介して電気的に接続されている。なお、ハンマーヘッド321上に形成された導電部は、振動腕32の質量を調整して、振動素子2の周波数調整を行うための調整膜46として機能する。この調整膜46は、駆動接地電極42と一体的に形成されている。   The driving ground electrode 42 is formed on the upper and lower surfaces (inner peripheral surfaces of the grooves 332 and 333) of the vibrating arm 33. Further, the drive ground electrode 42 is formed on both side surfaces of the vibrating arm 32. The drive ground electrodes 42 formed on both side surfaces of the vibrating arm 32 are electrically connected via a conductive portion formed at the tip of the hammer head 321. The conductive portion formed on the hammer head 321 functions as an adjustment film 46 for adjusting the frequency of the vibration element 2 by adjusting the mass of the vibration arm 32. The adjustment film 46 is formed integrally with the drive ground electrode 42.

また、駆動接地端子44は、基部31の下面に形成されている。この駆動接地端子44は、基部31に形成された駆動接地配線を介して駆動接地電極42と電気的に接続されている。
そして、駆動信号端子43と駆動接地端子44との間に駆動信号を印加すると、振動腕32、33に形成された駆動信号電極41と駆動接地電極42との間に電界が生じ、各振動腕32、33が互いに接近、離間を繰り返すように、いわゆる「X逆相モード」で振動する。
電極4(調整膜45、46を含む)の構成としては、導電性を有していれば特に限定されないが、例えば、Cr(クロム)、W(タングステン)などのメタライズ層(下地層)に、Ni(ニッケル)、Au(金)、Ag(銀)、Cu(銅)などの各被膜を積層した金属被膜で構成することができる。
The drive ground terminal 44 is formed on the lower surface of the base 31. The drive ground terminal 44 is electrically connected to the drive ground electrode 42 via a drive ground wiring formed on the base 31.
When a drive signal is applied between the drive signal terminal 43 and the drive ground terminal 44, an electric field is generated between the drive signal electrode 41 and the drive ground electrode 42 formed on the vibration arms 32 and 33, and each vibration arm It vibrates in so-called “X reverse phase mode” so that 32 and 33 repeat to approach and separate from each other.
The structure of the electrode 4 (including the adjustment films 45 and 46) is not particularly limited as long as it has conductivity, but for example, a metallized layer (underlayer) such as Cr (chromium) or W (tungsten) It can be composed of a metal film in which films such as Ni (nickel), Au (gold), Ag (silver), and Cu (copper) are laminated.

−パッケージ−
パッケージ5は、板状のベース基板51と、下方に開口する凹部521を有する箱状のリッド(蓋体)52とを有している。ベース基板51とリッド52とは接合されており、これにより、凹部521の開口がベース基板51によって塞がれている。パッケージ5は、凹部521がベース基板51で塞がれることで形成された気密的な収容空間Sを有し、この収容空間Sに振動素子2を収容している。収容空間S内は、例えば、減圧(好ましくは真空)状態となっていてもよいし、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが封入されていてもよい。
−Package−
The package 5 includes a plate-shaped base substrate 51 and a box-shaped lid (lid body) 52 having a recess 521 that opens downward. The base substrate 51 and the lid 52 are joined together, whereby the opening of the recess 521 is closed by the base substrate 51. The package 5 has an airtight housing space S formed by closing the recess 521 with the base substrate 51, and the vibration element 2 is housed in the housing space S. For example, the inside of the accommodation space S may be in a reduced pressure (preferably vacuum) state, or an inert gas such as nitrogen, helium, or argon may be enclosed.

ベース基板51およびリッド52は、それぞれ、石英ガラス、ソーダ石灰ガラス、テンパックスガラス、パイレックスガラス(ただし「パイレックス」は登録商標)等の各種ガラス材料で構成されているのが好ましい。ガラス材料によれば、形状精度の良いベース基板51およびリッド52を簡単かつ安価に製造することができる。
ベース基板51およびリッド52をガラス材料で構成した場合、これらを接合する方法として、陽極接合を用いることができる。陽極接合を用いる場合には、図1に示すように、ベース基板51とリッド52との間に、アルミニウムやシリコン等の陽極接合可能な材料で構成されている接合膜53を配置される。
The base substrate 51 and the lid 52 are preferably made of various glass materials such as quartz glass, soda lime glass, Tempax glass, and Pyrex glass (where “Pyrex” is a registered trademark). According to the glass material, the base substrate 51 and the lid 52 with good shape accuracy can be manufactured easily and inexpensively.
When the base substrate 51 and the lid 52 are made of a glass material, anodic bonding can be used as a method for bonding them. In the case of using anodic bonding, as shown in FIG. 1, a bonding film 53 made of a material capable of anodic bonding such as aluminum or silicon is disposed between the base substrate 51 and the lid 52.

また、図4に示すように、ベース基板51の上面には接続端子611、621が形成され、下面には実装端子612、622が形成されている。また、ベース基板51にはベース基板51を厚さ方向に貫通する貫通電極613、623が形成されており、貫通電極613によって接続端子611と実装端子612とが電気的に接続され、貫通電極623によって接続端子621と実装端子622とが電気的に接続されている。これら接続端子611、621、実装端子612、622および貫通電極613、623の構成としては、それぞれ、導電性を有していれば特に限定されず、例えば、Cr(クロム)、Ni(ニッケル)、W(タングステン)などの下地層に、Au(金)、Ag(銀)、Cu(銅)などの被膜を積層した金属被膜で構成することができる。   As shown in FIG. 4, connection terminals 611 and 621 are formed on the upper surface of the base substrate 51, and mounting terminals 612 and 622 are formed on the lower surface. Further, through electrodes 613 and 623 that penetrate the base substrate 51 in the thickness direction are formed in the base substrate 51, and the connection terminals 611 and the mounting terminals 612 are electrically connected by the through electrodes 613. Thus, the connection terminal 621 and the mounting terminal 622 are electrically connected. The connection terminals 611 and 621, the mounting terminals 612 and 622, and the through electrodes 613 and 623 are not particularly limited as long as they have conductivity. For example, Cr (chrome), Ni (nickel), It can be constituted by a metal film in which a film such as Au (gold), Ag (silver), or Cu (copper) is laminated on a base layer such as W (tungsten).

振動素子2は、基部31にて、導電性接着材63、64によってベース基板51に固定されている。すなわち、振動素子2は、ベース基板51に片持ち支持されている。導電性接着材63は、駆動信号端子43と接続端子611とに接触して設けられており、これにより、駆動信号端子43と接続端子611とが電気的に接続されている。同様に、導電性接着材64は、駆動接地端子44と接続端子621とに接触して設けられており、これにより、駆動接地端子44と接続端子621とが電気的に接続されている。
導電性接着材63、64としては、接着性と導電性を有していれば特に限定されず、例えば、金属フィラー(銀粒子、銅粒子等の金属微粒子)やカーボンファイバー等の導電性粒子を混合したシリコーン系、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系等の接着材を用いることができる。
The vibration element 2 is fixed to the base substrate 51 at the base 31 with conductive adhesives 63 and 64. That is, the vibration element 2 is cantilevered by the base substrate 51. The conductive adhesive 63 is provided in contact with the drive signal terminal 43 and the connection terminal 611, whereby the drive signal terminal 43 and the connection terminal 611 are electrically connected. Similarly, the conductive adhesive 64 is provided in contact with the drive ground terminal 44 and the connection terminal 621, whereby the drive ground terminal 44 and the connection terminal 621 are electrically connected.
The conductive adhesives 63 and 64 are not particularly limited as long as they have adhesiveness and conductivity. For example, conductive fillers such as metal fillers (metal particles such as silver particles and copper particles) and carbon fibers are used. A mixed silicone-based, epoxy-based, acrylic-based, polyimide-based adhesive or the like can be used.

また、ベース基板51は、上面に開放する凹部511と、凹部511内に張り出している張出部512とを有している。図2に示すように、凹部511は、ベース基板51の平面視(Z軸方向からの平面視。以下、単に平面視と言う。)にて、振動腕32、33の先端部(他端側)を内側に含むように形成されている。この凹部511は、図5に示すように、例えば落下時の衝撃等によって振動子1にZ軸方向の外力が加わり、振動素子2がZ軸方向に撓んだ場合に、振動腕32、33とベース基板51との接触を避ける逃げ部を構成している。これにより、ベース基板51との接触による振動腕32、33の破損を防止(または低減)することができる。   In addition, the base substrate 51 includes a recess 511 that opens to the upper surface, and an overhang 512 that protrudes into the recess 511. As shown in FIG. 2, the recess 511 has the tip ends (the other end side) of the vibrating arms 32 and 33 in a plan view of the base substrate 51 (a plan view from the Z-axis direction; hereinafter simply referred to as a plan view). ) Inside. As shown in FIG. 5, the concave portion 511 has vibrating arms 32, 33 when an external force in the Z-axis direction is applied to the vibrator 1 due to, for example, an impact at the time of dropping, and the vibrating element 2 is bent in the Z-axis direction. And an escape portion for avoiding contact with the base substrate 51. As a result, it is possible to prevent (or reduce) damage to the vibrating arms 32 and 33 due to contact with the base substrate 51.

また、図2に示すように、張出部512は、凹部511の−Y軸側の外縁部から+Y軸側に向けて突出して設けられている。図1に示すように、張出部512は、凹部511内に張り出し、平面視にて、互いに重なり合う上面512aおよび下面512bを有している。上面512aは、ベース基板51の上面で構成され、下面512bは、凹部511の内周面によって構成されている。   Further, as illustrated in FIG. 2, the overhanging portion 512 is provided so as to protrude from the outer edge portion of the concave portion 511 on the −Y axis side toward the + Y axis side. As shown in FIG. 1, the overhanging portion 512 has an upper surface 512a and a lower surface 512b that protrude into the recess 511 and overlap each other in plan view. The upper surface 512 a is configured by the upper surface of the base substrate 51, and the lower surface 512 b is configured by the inner peripheral surface of the recess 511.

また、下面512bは、XY平面(X軸とY軸を含む平面)に対して傾斜し、上面512aと下面512bとのなす角θが鋭角(90°未満)となっている。そのため、張出部512は、厚さ(Z軸方向の長さ)が開口側となる先端側に向けて漸減しており、開口側とは反対側となる基端部よりも先端部(開口側)のほうが薄くなっている。特に、張出部512の先端部は、十分に薄く、Z軸方向に撓み易くなっている。なお、張出部512をZ軸方向に撓み易くするためには、ベース基板51の材料によっても異なるが、張出部512の先端部の厚みを50μm以下とすることが好ましい。また、前記先端部とは、例えば、張出部512の先端から100μm程度の範囲として規定することができる。   The lower surface 512b is inclined with respect to the XY plane (a plane including the X axis and the Y axis), and an angle θ formed by the upper surface 512a and the lower surface 512b is an acute angle (less than 90 °). Therefore, the overhanging portion 512 gradually decreases in thickness (length in the Z-axis direction) toward the distal end side that is the opening side, and is more distal than the proximal end portion that is opposite to the opening side (opening portion). Side) is thinner. In particular, the distal end portion of the overhang portion 512 is sufficiently thin and easily bent in the Z-axis direction. In order to make the overhanging portion 512 easily bendable in the Z-axis direction, the thickness of the tip portion of the overhanging portion 512 is preferably 50 μm or less, although it depends on the material of the base substrate 51. Moreover, the said front-end | tip part can be prescribed | regulated as a range of about 100 micrometers from the front-end | tip of the overhang | projection part 512, for example.

張出部512は、平面視にて、振動腕32、33の先端部と重なる位置に設けられている。さらに、張出部512の先端512cは、ハンマーヘッド321の調整膜45と溝322、323との間の領域S2およびハンマーヘッド331の調整膜46と溝332、333との間の領域S3と重なる位置に設けられている。このような張出部512は、振動素子2のZ軸方向の撓みを規制する規制部として機能する。   The overhanging portion 512 is provided at a position overlapping the distal end portions of the vibrating arms 32 and 33 in plan view. Further, the tip 512c of the overhanging portion 512 overlaps the region S2 between the adjustment film 45 of the hammer head 321 and the grooves 322 and 323 and the region S3 between the adjustment film 46 of the hammer head 331 and the grooves 332 and 333. In the position. Such an overhanging portion 512 functions as a restricting portion that restricts the bending of the vibration element 2 in the Z-axis direction.

すなわち、図5に示すように、例えば落下時の衝撃等によって振動子1にZ軸方向の外力が加わり、振動素子2がZ軸方向に撓んだ場合に、振動腕32、33が過度に変形する前に張出部512の先端部に接触する。そのため、振動腕32、33の過度な変形による破断・破損を効果的に防止することができる。さらには、振動腕32、33が張出部512にぶつかると、図6に示すように、張出部512の先端部がZ軸方向に撓み、その衝撃が緩和・吸収される。したがって、張出部512との接触による振動腕32、33の破断・破損をも効果的に防止することができる。このように、張出部512を設けることで、振動腕32、33の破壊・破損を効果的に防止することができる。   That is, as shown in FIG. 5, for example, when an external force in the Z-axis direction is applied to the vibrator 1 due to an impact at the time of dropping or the like, and the vibration element 2 is bent in the Z-axis direction, the vibrating arms 32 and 33 are excessively Prior to deformation, the tip of the overhang 512 is contacted. Therefore, breakage and breakage due to excessive deformation of the vibrating arms 32 and 33 can be effectively prevented. Furthermore, when the vibrating arms 32 and 33 hit the overhanging portion 512, the tip of the overhanging portion 512 is bent in the Z-axis direction as shown in FIG. Therefore, breakage and breakage of the vibrating arms 32 and 33 due to contact with the overhanging portion 512 can be effectively prevented. In this way, by providing the overhanging portion 512, it is possible to effectively prevent the vibrating arms 32 and 33 from being destroyed or damaged.

特に、本実施形態では、平面視にて、張出部512の先端512cがハンマーヘッド321、331の領域S2、S3と重なる位置に設けられているため、上記のように振動素子2がZ軸方向に撓んだ場合には、領域S2、S3が張出部512の先端部に接触する。前述したように、領域S2、S3には電極4(調整膜45、46を含む)が形成されていないため、領域S2、S3が張出部512に接触しても電極4が破損することがない。さらには、領域S2、S3は、振動腕32、33の基端部よりも幅広で溝322、323、332、333も形成されていないため、振動腕32、33の中でも機械的強度の高い領域である。そのため、領域S2、S3を張出部512に接触させることによって、より効果的に、振動腕32、33の破損を防止することができる。   In particular, in the present embodiment, since the tip 512c of the overhanging portion 512 is provided at a position overlapping the areas S2 and S3 of the hammer heads 321 and 331 in plan view, the vibration element 2 has the Z-axis as described above. When bent in the direction, the regions S <b> 2 and S <b> 3 come into contact with the tip of the overhanging portion 512. As described above, since the electrode 4 (including the adjustment films 45 and 46) is not formed in the regions S2 and S3, the electrode 4 may be damaged even if the regions S2 and S3 come into contact with the overhanging portion 512. Absent. Furthermore, since the regions S2 and S3 are wider than the base end portions of the vibrating arms 32 and 33 and the grooves 322, 323, 332, and 333 are not formed, the regions of the vibrating arms 32 and 33 that have high mechanical strength. It is. Therefore, the vibrating arms 32 and 33 can be more effectively prevented from being damaged by bringing the regions S2 and S3 into contact with the overhanging portion 512.

以上、振動子1について説明した。
次に、振動子1の製造方法について説明する。振動子1の製造方法は、ベース基板51とリッド52を容易する第1工程と、ベース基板51に振動素子2を搭載する第2工程と、ベース基板51にリッド52を接合する第3工程と、複数の振動子1を個片化する第4工程とを有している。
The vibrator 1 has been described above.
Next, a method for manufacturing the vibrator 1 will be described. The method for manufacturing the vibrator 1 includes a first step for facilitating the base substrate 51 and the lid 52, a second step for mounting the vibration element 2 on the base substrate 51, and a third step for bonding the lid 52 to the base substrate 51. And a fourth step of dividing the plurality of vibrators 1 into individual pieces.

[第1工程]
まず、ベース基板51の製造方法について説明する。ベース基板51の製造方法は、基板510の一方の面に凹部511を形成する工程と、凹部511の側面を抉るように除去し、凹部511内に張り出す張出部512を形成する工程と、電極4を形成する工程とを有している。
まず、図7(a)に示すように、ガラス材料で構成された基板510を容易する。基板510は、ウエハ状であり、基板510から複数のベース基板51が得られるようになっている。また、基板510は、予め、研磨等の加工によって所定の厚み(ベース基板51の厚み)に調整されている。
[First step]
First, a method for manufacturing the base substrate 51 will be described. The method of manufacturing the base substrate 51 includes a step of forming the recess 511 on one surface of the substrate 510, a step of removing the side surface of the recess 511 so as to crawl and forming an overhanging portion 512 that projects into the recess 511, Forming the electrode 4.
First, as shown in FIG. 7A, a substrate 510 made of a glass material is facilitated. The substrate 510 has a wafer shape, and a plurality of base substrates 51 can be obtained from the substrate 510. The substrate 510 is previously adjusted to a predetermined thickness (the thickness of the base substrate 51) by a process such as polishing.

次に、図7(b)に示すように、基板510の上面および下面に、凹部511に対応する開口を有するマスクM1を形成する。マスクM1は、フォトリソグラフィー技法とエッチング技法とを用いて形成することができる。次に、図7(c)に示すように、基板510をウエットエッチングして凹部511を形成する。
次に、マスクM1を除去した後、図7(d)に示すように、凹部511の−Y軸側の側面に開口を有するマスクM2を形成する。マスクM2は、フォトリソグラフィー技法とエッチング技法とを用いて形成することができる。次に、図8(a)に示すように、基板510をウエットエッチングし、凹部511の側面の一部を抉るように除去することで、その上方に張出部512を形成する。ここで、本工程をウエットエッチングすることで、ガラス材料のエッチングの等方性を利用して、簡単に、十分に薄い張出部512を形成することができる。
Next, as shown in FIG. 7B, a mask M <b> 1 having openings corresponding to the recesses 511 is formed on the upper surface and the lower surface of the substrate 510. The mask M1 can be formed using a photolithography technique and an etching technique. Next, as shown in FIG. 7C, the substrate 510 is wet etched to form a recess 511.
Next, after removing the mask M1, as shown in FIG. 7D, a mask M2 having an opening on the side surface on the −Y axis side of the recess 511 is formed. The mask M2 can be formed using a photolithography technique and an etching technique. Next, as shown in FIG. 8A, the substrate 510 is wet-etched and removed so as to cover a part of the side surface of the recess 511, thereby forming an overhanging portion 512 thereon. Here, by performing wet etching in this step, a sufficiently thin overhanging portion 512 can be easily formed using the isotropy of etching of the glass material.

次に、例えば、レーザー加工、エッチング等によって貫通電極613、623を形成するための第1貫通孔と気密封止用の第2貫通孔とを形成し、第1貫通孔の内部を金属材料で埋めることによって貫通電極613、623を形成する。さらには、基板510の上面に接続端子611、621を形成するとともに、下面に実装端子612、622を形成する。接続端子611、621および実装端子612、622は、例えば、基板510の上面および下面にスパッタリング、蒸着等によって金属膜を形成し、この金属膜をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることで形成することができる。   Next, for example, a first through hole for forming the through electrodes 613 and 623 and a second through hole for hermetic sealing are formed by laser processing, etching, or the like, and the inside of the first through hole is made of a metal material. Through electrodes 613 and 623 are formed by filling. Further, the connection terminals 611 and 621 are formed on the upper surface of the substrate 510, and the mounting terminals 612 and 622 are formed on the lower surface. For example, the connection terminals 611 and 621 and the mounting terminals 612 and 622 are formed by forming a metal film on the upper and lower surfaces of the substrate 510 by sputtering, vapor deposition, or the like, and patterning the metal film using a photolithography technique and an etching technique. Can be formed.

次に、基板510の上面に、陽極接合用の接合膜53を形成する。接合膜53は、例えば、基板510の上面にスパッタリング、蒸着等によってアルミニウムやシリコンからなる金属膜を形成し、この金属膜をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることで形成することができる。ただし、接合膜53は、リッド52側に形成してもよい。
以上によって、図8(b)に示すように、複数のベース基板51を一体的に備えた基板510が得られる。
Next, a bonding film 53 for anodic bonding is formed on the upper surface of the substrate 510. The bonding film 53 can be formed, for example, by forming a metal film made of aluminum or silicon on the upper surface of the substrate 510 by sputtering, vapor deposition, or the like, and patterning the metal film using a photolithography technique and an etching technique. . However, the bonding film 53 may be formed on the lid 52 side.
As described above, as shown in FIG. 8B, a substrate 510 integrally including a plurality of base substrates 51 is obtained.

次に、リッド52の製造方法について説明する。
まず、図9(a)に示すように、ガラス材料で構成されたリッド基板520を容易する。リッド基板520は、ウエハ状であり、リッド基板520から複数のリッド52が得られるようになっている。また、リッド基板520は、予め、研磨等の加工によって所定の厚み(リッド52の厚み)に調整されている。
Next, a method for manufacturing the lid 52 will be described.
First, as shown in FIG. 9A, a lid substrate 520 made of a glass material is facilitated. The lid substrate 520 has a wafer shape, and a plurality of lids 52 can be obtained from the lid substrate 520. The lid substrate 520 is adjusted in advance to a predetermined thickness (the thickness of the lid 52) by processing such as polishing.

次に、図9(b)に示すように、リッド基板520の上面および下面に、凹部521に対応する開口を有するマスクM3を形成する。マスクM3は、フォトリソグラフィー技法とエッチング技法とを用いて形成することができる。次に、図9(c)に示すように、リッド基板520をウエットエッチングして凹部521を形成する。
以上によって、複数のリッド52を一体的に備えたリッド基板520が得られる。
Next, as shown in FIG. 9B, a mask M <b> 3 having openings corresponding to the recesses 521 is formed on the upper and lower surfaces of the lid substrate 520. The mask M3 can be formed using a photolithography technique and an etching technique. Next, as shown in FIG. 9C, the lid substrate 520 is wet-etched to form a recess 521.
As described above, the lid substrate 520 integrally including the plurality of lids 52 is obtained.

[第2工程]
次に、導電性接着材63、64を用いて、図10(a)に示すように、基板510に振動素子2を搭載する。この状態では、前述したように、平面視にて、凹部511が振動腕32、33の先端部を内側に含むように位置しており、張出部512が振動腕32、33の先端部と重なるように設けられている。
[Second step]
Next, the vibration element 2 is mounted on the substrate 510 using the conductive adhesives 63 and 64 as shown in FIG. In this state, as described above, the concave portion 511 is positioned so as to include the tip ends of the vibrating arms 32 and 33 in the plan view, and the projecting portion 512 is connected to the tip portions of the vibrating arms 32 and 33 in plan view. It is provided so that it may overlap.

[第3工程]
次に、図10(b)に示すように、リッド基板520の凹部521に振動素子2を収容するようにして、リッド基板520と基板510とを陽極接合する。次に、図示しないが、基板510に形成しておいた気密封止用の第2貫通孔を介して、収容空間Sを真空状態(またはガス充填状態)とし、Au−Geで構成された封止材等で第2貫通孔を塞ぐ。これにより、収容空間Sが気密封止され所定の雰囲気に保たれる。
[Third step]
Next, as shown in FIG. 10B, the lid substrate 520 and the substrate 510 are anodically bonded so that the vibration element 2 is accommodated in the recess 521 of the lid substrate 520. Next, although not shown, the housing space S is brought into a vacuum state (or a gas-filled state) through the second through-hole for hermetic sealing formed in the substrate 510, and the sealing made of Au—Ge is used. The second through hole is closed with a stopper or the like. Thereby, the accommodation space S is hermetically sealed and maintained in a predetermined atmosphere.

[第4工程]
次に、図10(c)に示すように、レーザー加工や、ダイシングソーを用いて、複数の振動子1に個片化する。
この後、必要に応じて、リッド52を介して調整膜45、46にレーザーを照射し、調整膜45、46の一部を除去して振動腕32、33の質量を調整することで、振動素子2の駆動周波数の調整を行ってもよい。
以上によって、振動子1が得られる。
なお、上述した製造方法では、ウエハ状の基板510とリッド基板520とを用いているが、これに限定されず、例えば、予め個片化されているベース基板51とリッド52とを用いて製造してもよい。
[Fourth step]
Next, as shown in FIG. 10C, the plurality of vibrators 1 are separated into pieces using laser processing or a dicing saw.
Thereafter, if necessary, the adjustment films 45 and 46 are irradiated with laser through the lid 52, and a part of the adjustment films 45 and 46 is removed to adjust the mass of the vibrating arms 32 and 33, thereby vibrating. The drive frequency of the element 2 may be adjusted.
Thus, the vibrator 1 is obtained.
In the above-described manufacturing method, the wafer-like substrate 510 and the lid substrate 520 are used. However, the present invention is not limited to this. For example, the manufacturing is performed using the base substrate 51 and the lid 52 that are separated into pieces. May be.

<第2実施形態>
図11は、本発明の第2実施形態に係る振動子を示す断面図である。図12は、図11に示す振動子の平面図である。なお、図11および図12では、説明の便宜上、振動素子が有する電極の図示を省略している。
以下、第2実施形態について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
第2実施形態は、ベース基板の上面に緩衝部が設けられていること以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、図11および図12では、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
Second Embodiment
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a vibrator according to the second embodiment of the present invention. 12 is a plan view of the vibrator shown in FIG. In FIGS. 11 and 12, for convenience of explanation, illustration of electrodes included in the vibration element is omitted.
Hereinafter, the second embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.
The second embodiment is the same as the first embodiment described above except that a buffer portion is provided on the upper surface of the base substrate. In FIG. 11 and FIG. 12, the same reference numerals are given to the same configurations as those in the above-described embodiment.

図11および図12に示すように、本実施形態の振動子1では、張出部512の上面(凹部511の外縁部)に、ベース基板51よりも柔軟な膜状の緩衝部7が設けられている。このような緩衝部7は、振動素子2がZ軸方向に撓んで、振動腕32、33が張出部512に接触する際、これらの間に介在して、その衝撃を緩和・吸収する機能を有している。そのため、張出部512との接触による振動腕32、33の破断・破損をさらに効果的に防止することができる。   As shown in FIG. 11 and FIG. 12, in the vibrator 1 of the present embodiment, a film-shaped buffer portion 7 that is more flexible than the base substrate 51 is provided on the upper surface of the overhang portion 512 (the outer edge portion of the recess portion 511). ing. Such a buffer portion 7 functions to relieve and absorb the impact when the vibrating element 2 is bent in the Z-axis direction and the vibrating arms 32 and 33 come into contact with the overhanging portion 512 to interpose between them. have. Therefore, breakage and breakage of the vibrating arms 32 and 33 due to contact with the overhanging portion 512 can be further effectively prevented.

緩衝部7としては、ベース基板51の材料よりもヤング率の低い材料を用いることができ、例えば、Cr(クロム)、Ni(ニッケル)、W(タングステン)、Au(金)、Ag(銀)、Cu(銅)などの各種金属材料や各種樹脂材料を用いることができる。これらの中でも、緩衝部7としては、接続端子611、612と同様の金属材料で構成されているのが好ましい。これにより、振動子1の構成が簡単なものとなるとともに、緩衝部7を接続端子611、612と同一工程で製造することができるため、振動子1の製造が簡単となる。   A material having a Young's modulus lower than that of the base substrate 51 can be used as the buffer portion 7. For example, Cr (chrome), Ni (nickel), W (tungsten), Au (gold), Ag (silver) can be used. Various metal materials such as Cu (copper) and various resin materials can be used. Among these, it is preferable that the buffer portion 7 is made of the same metal material as the connection terminals 611 and 612. Accordingly, the configuration of the vibrator 1 is simplified, and the buffer portion 7 can be manufactured in the same process as the connection terminals 611 and 612. Therefore, the manufacture of the vibrator 1 is simplified.

緩衝部7の厚さとしては、その材料によっても異なるが、10μm〜50μm程度であるのが好ましい。これにより、緩衝部7としての機能を十分に発揮することができるとともに、張出部512の撓み変形を阻害しないものとなる。
このような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
The thickness of the buffer portion 7 varies depending on the material, but is preferably about 10 μm to 50 μm. Thereby, the function as the buffer portion 7 can be sufficiently exerted, and the bending deformation of the overhang portion 512 is not hindered.
Also according to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

<第3実施形態>
図13は、本発明の第3実施形態に係る振動子を示す断面図である。図14は、図13に示す振動子の平面図である。なお、図13および図14では、説明の便宜上、振動素子が有する電極の図示を省略している。
以下、第3実施形態について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
<Third Embodiment>
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a vibrator according to the third embodiment of the present invention. FIG. 14 is a plan view of the vibrator shown in FIG. In FIG. 13 and FIG. 14, for convenience of explanation, illustration of electrodes included in the vibration element is omitted.
Hereinafter, the third embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.

第3実施形態は、張出部の配置が異なること以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、図13および図14では、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
図13および図14に示すように、本実施形態の振動子1では、張出部512が凹部511の+Y軸側の外縁部から−Y軸側に向けて突出して設けられている。また、ハンマーヘッド321、331に設けられている調整膜46、45は、ハンマーヘッド321、331の先端側の領域S4、S5を除くように設けられており、平面視にて、張出部512の先端512cが領域S4、S5と重なって位置している。
このような第3実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
The third embodiment is the same as the first embodiment described above except that the arrangement of the overhanging portions is different. In FIG. 13 and FIG. 14, the same reference numerals are given to the same configurations as those in the above-described embodiment.
As shown in FIGS. 13 and 14, in the vibrator 1 of the present embodiment, the overhanging portion 512 is provided so as to protrude from the outer edge portion on the + Y-axis side of the recess 511 toward the −Y-axis side. Further, the adjustment films 46 and 45 provided on the hammer heads 321 and 331 are provided so as to exclude the regions S4 and S5 on the tip side of the hammer heads 321 and 331, and the overhanging portion 512 is seen in a plan view. The front end 512c is located so as to overlap the regions S4 and S5.
Also according to the third embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

<第4実施形態>
図15は、本発明の第4実施形態に係る振動子を示す平面図である。なお、図15では、説明の便宜上、振動素子が有する電極の図示を省略している。
以下、第4実施形態について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
第4実施形態は、振動素子(振動腕)の形状が異なること以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、図15では、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
<Fourth embodiment>
FIG. 15 is a plan view showing a vibrator according to the fourth embodiment of the present invention. In FIG. 15, for convenience of explanation, illustration of electrodes included in the vibration element is omitted.
Hereinafter, the fourth embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.
The fourth embodiment is the same as the first embodiment described above except that the shape of the vibrating element (vibrating arm) is different. In FIG. 15, the same reference numerals are given to the same components as those in the above-described embodiment.

図15に示すように、本実施形態の振動子1では、振動腕32、33からハンマーヘッド321、331が省略されている。この場合でも、張出部512の先端512cは、領域S2、S3と重なるように位置している。
このような第4実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
As shown in FIG. 15, in the vibrator 1 of this embodiment, the hammer heads 321 and 331 are omitted from the vibrating arms 32 and 33. Even in this case, the tip 512c of the overhanging portion 512 is positioned so as to overlap the regions S2 and S3.
According to the fourth embodiment, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited.

<第5実施形態>
図16は、本発明の第5実施形態に係る振動子を示す断面図である。なお、図16では、説明の便宜上、振動素子が有する電極の図示を省略している。
以下、第5実施形態について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
第5実施形態は、ベース基板51の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、図16では、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
<Fifth Embodiment>
FIG. 16 is a cross-sectional view showing a vibrator according to the fifth embodiment of the invention. In FIG. 16, for convenience of explanation, illustration of electrodes included in the vibration element is omitted.
Hereinafter, the fifth embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiments, and description of similar matters will be omitted.
The fifth embodiment is the same as the first embodiment described above except that the configuration of the base substrate 51 is different. In FIG. 16, the same reference numerals are given to the same components as those in the above-described embodiment.

図16に示すように、本実施形態の振動子1では、ベース基板51が第1基板51Aと第2基板51Bを積層した2層積層構造になっている。そして、上側に位置する第2基板51Bによって張出部512が形成されている。このような構成によれば、予めパターニングされている第1基板51Aと第2基板51Bとを積層することで、簡単に、凹部511および張出部512を有するベース基板51を得ることができる。
このような第5実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
As shown in FIG. 16, in the vibrator 1 of this embodiment, the base substrate 51 has a two-layer laminated structure in which a first substrate 51A and a second substrate 51B are laminated. And the overhang | projection part 512 is formed of the 2nd board | substrate 51B located in an upper side. According to such a configuration, the base substrate 51 having the recess 511 and the overhanging portion 512 can be easily obtained by laminating the first substrate 51A and the second substrate 51B that are patterned in advance.
According to the fifth embodiment, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited.

<第6実施形態>
図17は、本発明の第6実施形態に係る振動子を示す断面図である。なお、図17では、説明の便宜上、振動素子が有する電極の図示を省略している。
以下、第6実施形態について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
第6実施形態は、ベース基板51およびリッド52の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、図17では、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
<Sixth Embodiment>
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a vibrator according to the sixth embodiment of the invention. In FIG. 17, for convenience of explanation, illustration of electrodes included in the vibration element is omitted.
Hereinafter, the sixth embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.
The sixth embodiment is the same as the first embodiment described above except that the configurations of the base substrate 51 and the lid 52 are different. In FIG. 17, the same reference numerals are given to the same configurations as those in the above-described embodiment.

図17に示すように、本実施形態の振動子1では、ベース基板51が上面に開口する凹部516を有する箱状をなしており、リッド52が板状をなしている。そして、リッド52が凹部516の開口を塞いでベース基板51に接合されている。なお、振動素子2は、凹部516の底面に固定されており、この凹部516の底面に、凹部511および張出部512が形成されている。
このような第6実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
As shown in FIG. 17, in the vibrator 1 of the present embodiment, the base substrate 51 has a box shape having a recess 516 opened on the upper surface, and the lid 52 has a plate shape. The lid 52 closes the opening of the recess 516 and is bonded to the base substrate 51. Note that the vibration element 2 is fixed to the bottom surface of the recess 516, and the recess 511 and the overhanging portion 512 are formed on the bottom surface of the recess 516.
Also according to the sixth embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

<第7実施形態>
図18は、本発明の第7実施形態に係る振動子を示す断面図である。図19は、図18に示す振動子を示す平面図である。図20は、図18に示す振動子の部分拡大断面図である。なお、図18および図19では、説明の便宜上、振動素子が有する電極の図示を省略している。
<Seventh embodiment>
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a vibrator according to the seventh embodiment of the invention. FIG. 19 is a plan view showing the vibrator shown in FIG. 20 is a partially enlarged cross-sectional view of the vibrator shown in FIG. 18 and 19, for convenience of explanation, illustration of electrodes included in the vibration element is omitted.

以下、第7実施形態について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
第7実施形態は、ベース基板の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、図18、図19および図20では、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
Hereinafter, the seventh embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.
The seventh embodiment is the same as the first embodiment described above except that the configuration of the base substrate is different. In FIG. 18, FIG. 19, and FIG. 20, the same reference numerals are given to the same configurations as those in the above-described embodiment.

図18および図19に示すように、本実施形態の振動子1では、ベース基板51が凹部511の底面から突出して設けられている凸部513を有している。凸部513の上面は、ベース基板51の上面とほぼ面一となっている。また、凸部513は、平面視にて、振動腕32、32の先端部(ハンマーヘッド321、331)と重なる位置に設けられている。また、凸部513は、その付け根部の幅(Y軸方向の長さ)が十分に狭く形成されており、Y軸方向に撓み易くなっている。また、凸部513の先端部には、+Y軸方向に張り出した張出部515が形成されている。張出部515は、張出部512と同様に、Z軸方向に撓み易くなっている。   As shown in FIGS. 18 and 19, in the vibrator 1 of the present embodiment, the base substrate 51 has a convex portion 513 provided so as to protrude from the bottom surface of the concave portion 511. The upper surface of the convex portion 513 is substantially flush with the upper surface of the base substrate 51. Moreover, the convex part 513 is provided in the position which overlaps with the front-end | tip part (hammer heads 321 and 331) of the vibrating arms 32 and 32 by planar view. Further, the convex portion 513 is formed so that the width of the base portion (the length in the Y-axis direction) is sufficiently narrow, and is easily bent in the Y-axis direction. Further, a protruding portion 515 protruding in the + Y-axis direction is formed at the tip of the convex portion 513. Similar to the overhanging portion 512, the overhanging portion 515 is easily bent in the Z-axis direction.

また、張出部512、515の上面には、それぞれ、緩衝部7が形成されている。ただし、緩衝部7は、省略してもよい。
このような構成のベース基板51によれば、例えば落下時の衝撃等によって振動子1にZ軸方向の外力が加わり、振動素子2がZ軸方向に撓んだ場合に、振動腕32、33が過度に変形する前に張出部515の先端部に接触する。振動腕32、33が張出部515にぶつかると、張出部515がZ軸方向に撓むとともに、張出部515が形成されている凸部513がY軸方向に撓み、その衝撃が緩和・吸収される。
Moreover, the buffer part 7 is formed in the upper surface of the overhang | projection parts 512 and 515, respectively. However, the buffer part 7 may be omitted.
According to the base substrate 51 having such a configuration, when the external force in the Z-axis direction is applied to the vibrator 1 due to, for example, an impact at the time of dropping or the like, and the vibration element 2 is bent in the Z-axis direction, the vibrating arms 32 and 33 Contacts the tip of the overhang 515 before it deforms excessively. When the vibrating arms 32 and 33 hit the overhanging portion 515, the overhanging portion 515 bends in the Z-axis direction, and the convex portion 513 on which the overhanging portion 515 is formed bends in the Y-axis direction. Absorbed.

前記Z軸方向外力が大きい場合には、振動腕32、33は、張出部515に接触した後に、さらに、張出部512に接触する。なお、張出部512との接触により得られる効果は前述した通りであるため、その説明は省略する。
このように、凹部511内に凸部513を設けることで、振動腕32、33が過度に変形を2段階で規制することができるため、振動腕32、33の過度な変形による破断・破損をより効果的に防止することができる。
When the external force in the Z-axis direction is large, the vibrating arms 32 and 33 come into contact with the overhanging portion 512 after contacting the overhanging portion 515. In addition, since the effect acquired by contact with the overhang | projection part 512 is as above-mentioned, the description is abbreviate | omitted.
As described above, by providing the convex portion 513 in the concave portion 511, the vibration arms 32 and 33 can be excessively restricted from being deformed in two stages, so that the vibration arms 32 and 33 are not broken or damaged due to excessive deformation. It can prevent more effectively.

ここで、前述した第1実施形態で述べたように、振動子1では、必要に応じて、リッド52を介して調整膜45、46にレーザーを照射し、調整膜45、46の一部を除去して振動腕32、33の質量を調整することで、振動素子2の駆動周波数の調整を行う場合がある。
このような周波数調整を行った後では、図20に示すように、レーザー照射によって除去された質量調整部451、461の周囲にバリ452、462が形成される場合がある。バリ452、462は、レーザー照射によって気化または溶融した金属材料がその周囲に再付着することで形成されると考えられる。このようなバリ452、462は、非常に脆く、剥がれ易い。仮に、バリ452、462が調整膜45、46から剥がれてしまうと、振動腕32、33の質量が変化し、それに伴って振動素子2の駆動周波数も変化してしまう。
Here, as described in the first embodiment described above, in the vibrator 1, the adjustment films 45 and 46 are irradiated with laser through the lid 52 as necessary, and a part of the adjustment films 45 and 46 is formed. The drive frequency of the vibration element 2 may be adjusted by removing and adjusting the mass of the vibrating arms 32 and 33.
After such frequency adjustment, as shown in FIG. 20, burrs 452 and 462 may be formed around the mass adjusting portions 451 and 461 removed by laser irradiation. The burrs 452 and 462 are considered to be formed by reattaching a metal material vaporized or melted by laser irradiation around the burrs. Such burrs 452 and 462 are very fragile and easily peel off. If the burrs 452 and 462 are peeled off from the adjustment films 45 and 46, the mass of the vibrating arms 32 and 33 is changed, and accordingly, the driving frequency of the vibrating element 2 is also changed.

そこで、本実施形態では、バリ452、462がベース基板51と接触しないように、平面視にて、張出部512と凸部513との間(凸部513からずれた位置)に質量調整部451、461が位置するように構成されている。言い換えると、調整膜45、46の凸部513と重なっていない領域にレーザーを照射することで、振動腕32、33の質量を調整している。これにより、例えば落下時の衝撃等によって振動素子2がZ軸方向に撓み、振動腕32、33が張出部512、515に接触した場合でも、バリ452、462がベース基板51に接触しないため、バリ452、462の剥がれを効果的に低減することができる。
このような第7実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
Therefore, in the present embodiment, the mass adjustment unit is disposed between the projecting part 512 and the convex part 513 (position shifted from the convex part 513) in plan view so that the burrs 452 and 462 do not contact the base substrate 51. 451 and 461 are located. In other words, the mass of the vibrating arms 32 and 33 is adjusted by irradiating a laser to a region that does not overlap the convex portions 513 of the adjustment films 45 and 46. Thereby, for example, even when the vibration element 2 is bent in the Z-axis direction due to an impact at the time of dropping and the vibrating arms 32 and 33 are in contact with the overhanging portions 512 and 515, the burrs 452 and 462 are not in contact with the base substrate 51. The peeling of the burrs 452 and 462 can be effectively reduced.
Also according to the seventh embodiment, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited.

2.発振器
次に、本発明の振動子を適用した発振器について説明する。
図21は、本発明の発振器の好適な実施形態を示す断面図である。
図21に示す発振器100は、振動子1と、振動素子2を駆動するためのICチップ110とを有している。以下、発振器100について、前述した振動子との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
2. Oscillator Next, an oscillator to which the vibrator of the present invention is applied will be described.
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a preferred embodiment of the oscillator of the present invention.
An oscillator 100 illustrated in FIG. 21 includes a vibrator 1 and an IC chip 110 for driving the vibration element 2. Hereinafter, the oscillator 100 will be described with a focus on differences from the above-described vibrator, and description of similar matters will be omitted.

図21に示すように、発振器100では、ベース基板51に凹部517が形成されており、この凹部517にICチップ110がろう材等によって固定されている。ICチップ110は、凹部517の底面に形成された複数の内部端子120と電気的に接続されている。複数の内部端子120には、接続端子611、621と接続されているものや、図示しない外部端子と接続されているものが含まれている。ICチップ110は、振動素子2の駆動を制御するための発振回路を有している。ICチップ110によって振動素子2を駆動すると、所定の周波数の信号を取り出すことができる。   As shown in FIG. 21, in the oscillator 100, a recess 517 is formed in the base substrate 51, and the IC chip 110 is fixed to the recess 517 by a brazing material or the like. The IC chip 110 is electrically connected to a plurality of internal terminals 120 formed on the bottom surface of the recess 517. The plurality of internal terminals 120 include one connected to the connection terminals 611 and 621 and one connected to an external terminal (not shown). The IC chip 110 has an oscillation circuit for controlling driving of the vibration element 2. When the vibration element 2 is driven by the IC chip 110, a signal having a predetermined frequency can be extracted.

3.電子機器
次に、本発明の振動子を適用した電子機器について説明する。
図22は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1108を備えた表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター1100には、フィルター、共振器、基準クロック等として機能する振動子1が内蔵されている。
3. Next, an electronic device to which the vibrator of the present invention is applied will be described.
FIG. 22 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, a personal computer 1100 includes a main body portion 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display portion 1108. The display unit 1106 is rotated with respect to the main body portion 1104 via a hinge structure portion. It is supported movably. Such a personal computer 1100 has a built-in vibrator 1 that functions as a filter, a resonator, a reference clock, and the like.

図23は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には表示部1208が配置されている。このような携帯電話機1200には、フィルター、共振器等として機能する振動子1が内蔵されている。   FIG. 23 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone (including PHS) to which the electronic apparatus of the invention is applied. In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204, and a mouthpiece 1206, and a display portion 1208 is disposed between the operation buttons 1202 and the earpiece 1204. Such a cellular phone 1200 incorporates the vibrator 1 that functions as a filter, a resonator, and the like.

図24は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。   FIG. 24 is a perspective view showing the configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown. Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.

ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1310が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部1310は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。   A display unit 1310 is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to perform display based on an imaging signal from the CCD. The display unit 1310 displays a subject as an electronic image. Functions as a viewfinder. A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side (the back side in the drawing) of the case 1302.

撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニター1430が、デ−タ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1308に格納された撮像信号が、テレビモニター1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。このようなディジタルスチルカメラ1300には、フィルター、共振器等として機能する振動子1が内蔵されている。   When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory 1308. In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation. Such a digital still camera 1300 incorporates a vibrator 1 that functions as a filter, a resonator, or the like.

なお、本発明の振動素子を備える電子機器は、図22のパーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)、図23の携帯電話機、図24のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンター)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレーター等に適用することができる。   In addition to the personal computer (mobile personal computer) shown in FIG. 22, the mobile phone shown in FIG. 23, and the digital still camera shown in FIG. Inkjet printers), laptop personal computers, televisions, video cameras, video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks (including those with communication functions), electronic dictionaries, calculators, electronic game devices, word processors, workstations, televisions Telephone, crime prevention TV monitor, electronic binoculars, POS terminal, medical equipment (for example, electronic thermometer, blood pressure monitor, blood glucose meter, electrocardiogram measuring device, ultrasonic diagnostic device, electronic endoscope), fish detector, various measuring devices, instruments Class (eg, vehicle, aircraft) Gauges of a ship), can be applied to a flight simulator or the like.

4.移動体
次に、本発明の振動子を適用した移動体について説明する。
図25は、本発明の移動体を適用した自動車を示す斜視図である。自動車1500には振動子1が搭載されている。振動子1は、キーレスエントリー、イモビライザー、カーナビゲーションシステム、カーエアコン、アンチロックブレーキシステム(ABS)、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム(TPMS:Tire Pressure Monitoring System)、エンジンコントロール、ハイブリッド自動車や電気自動車の電池モニター、車体姿勢制御システム、等の電子制御ユニット(ECU:electronic control unit)に広く適用できる。
4). Next, a moving body to which the vibrator of the present invention is applied will be described.
FIG. 25 is a perspective view showing an automobile to which the moving body of the present invention is applied. A vibrator 1500 is mounted on the automobile 1500. The vibrator 1 is a keyless entry, immobilizer, car navigation system, car air conditioner, anti-lock brake system (ABS), air bag, tire pressure monitoring system (TPMS), engine control, hybrid car, The present invention can be widely applied to electronic control units (ECUs) such as battery monitors for electric vehicles, vehicle body posture control systems, and the like.

以上、本発明の振動子、ベース基板の製造方法、発振器、電子機器および移動体について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、各実施形態を適宜組み合わせてもよい。   As described above, the vibrator, the manufacturing method of the base substrate, the oscillator, the electronic device, and the moving body of the present invention have been described based on the illustrated embodiment, but the present invention is not limited to this, and the configuration of each part is It can be replaced with any configuration having a similar function. In addition, any other component may be added to the present invention. Moreover, you may combine each embodiment suitably.

また、前述の実施形態では、振動素子として、基部と2本の振動腕とを有する音叉型の振動素子を用いた例について説明したが、振動素子としては、これに限定されず、例えば、厚みすべり振動を用いた所謂「ATカット振動子」であってもよい。
また、前述の実施形態では、1つの張出部が2本の振動腕と重なるように設けられていたが、張出部を2つに分割して、一方の張出部を一方の振動腕と重なるように配置し、他方の張出部を他方の振動腕と重なるように配置してもよい。
In the above-described embodiment, an example in which a tuning fork type vibration element having a base and two vibration arms is used as the vibration element has been described. However, the vibration element is not limited to this, for example, a thickness A so-called “AT cut vibrator” using sliding vibration may be used.
In the above-described embodiment, one overhanging portion is provided so as to overlap the two vibrating arms. However, the overhanging portion is divided into two and one overhanging portion is replaced with one vibrating arm. And the other overhanging part may be arranged so as to overlap the other vibrating arm.

また、前述の実施形態では、振動素子がパッケージに接着剤によって支持されている構成について説明したが、振動素子の支持方法は、これに限定されない。すなわち、例えば、CSP(MAT)構造のように、振動素子を支持する枠状の中間層を振動素子と一体的に形成し、この中間層をベース基板とリッドとで挟持することで、振動素子をパッケージに支持した構造であってもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the vibration element is supported on the package by the adhesive has been described. However, the method for supporting the vibration element is not limited thereto. That is, for example, as in a CSP (MAT) structure, a frame-shaped intermediate layer that supports the vibration element is formed integrally with the vibration element, and the intermediate layer is sandwiched between the base substrate and the lid, so that the vibration element The structure may be such that is supported by a package.

1……振動子 2……振動素子 3……圧電基板 31……基部 32……振動腕 321……ハンマーヘッド 322、323……溝 33……振動腕 331……ハンマーヘッド 332、333……溝 4……電極 41……駆動信号電極 42……駆動接地電極 43……駆動信号端子 44……駆動接地端子 45、46……調整膜 451、461……質量調整部 452、462……バリ 5……パッケージ 51……ベース基板 51A……第1基板 51B……第2基板 510……基板 511……凹部 512……張出部 512a……上面 512b……下面 512c……先端 513……凸部 515……張出部 516……凹部 517……凹部 52……リッド 53……接合膜 611、621……接続端子 612、622……実装端子 613、623……貫通電極 63、64……導電性接着材 7……緩衝部 100……発振器 110……ICチップ 120……内部端子 520……リッド基板 521……凹部 1100……パーソナルコンピューター 1102……キーボード 1104……本体部 1106……表示ユニット 1108……表示部 1200……携帯電話機 1202……操作ボタン 1204……受話口 1206……送話口 1208……表示部 1300……ディジタルスチルカメラ 1302……ケース 1304……受光ユニット 1306……シャッターボタン 1308……メモリー 1310……表示部 1312……ビデオ信号出力端子 1314……入出力端子 1430……テレビモニター 1440……パーソナルコンピューター 1500……自動車 M1、M2、M3……マスク S……収容空間 S2、S3、S4、S5……領域 θ……角   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vibrator 2 ... Vibrating element 3 ... Piezoelectric substrate 31 ... Base 32 ... Vibrating arm 321 ... Hammer head 322, 323 ... Groove 33 ... Vibrating arm 331 ... Hammer head 332, 333 ... Groove 4 ... Electrode 41 ... Drive signal electrode 42 ... Drive ground electrode 43 ... Drive signal terminal 44 ... Drive ground terminal 45, 46 ... Adjustment film 451, 461 ... Mass adjustment part 452, 462 ... Burr 5 …… Package 51 …… Base substrate 51A …… First substrate 51B …… Second substrate 510 …… Substrate 511 …… Recessed portion 512 …… Overhanging portion 512a …… Upper surface 512b …… Lower surface 512c …… Tip 513 …… Convex part 515... Overhang part 516... Concave part 517... Concave part 52... Lid 53 ... Bonding film 611, 621 ... Connection terminal 612, 622. Mounting terminals 613, 623 ... Penetration electrodes 63, 64 ... Conductive adhesive 7 ... Buffer part 100 ... Oscillator 110 ... IC chip 120 ... Internal terminal 520 ... Lid substrate 521 ... Recess 1100 ... Personal Computer 1102 …… Keyboard 1104 …… Main body 1106 …… Display unit 1108 …… Display unit 1200 …… Mobile phone 1202 …… Operation buttons 1204 …… Earpiece 1206 …… Speaker 1208 …… Display unit 1300 …… Digital Still camera 1302 …… Case 1304 …… Light receiving unit 1306 …… Shutter button 1308 …… Memory 1310 …… Display unit 1312 …… Video signal output terminal 1314 …… Input / output terminal 1430 …… TV monitor 1440 …… Personal computer Over 1500 ...... automobile M1, M2, M3 ...... mask S ...... housing space S2, S3, S4, S5 ...... region theta ...... angle

Claims (13)

一端および平面視で前記一端と反対側の他端を含む振動素子と、
前記振動素子の前記一端側が取り付けられているベース基板と、
を含み、
前記ベース基板は、
前記振動素子側の主面に設けられている凹部と、
前記凹部内に張り出している張出部と、
を有し、
前記張出部が、前記ベース基板の平面視にて、前記振動素子の前記他端側と重なるように配置されていることを特徴とする振動子。
A vibrating element including one end and the other end opposite to the one end in plan view;
A base substrate to which the one end side of the vibration element is attached;
Including
The base substrate is
A recess provided in the main surface on the vibration element side;
A projecting portion projecting into the recess;
Have
The vibrator, wherein the protruding portion is disposed so as to overlap the other end side of the vibration element in a plan view of the base substrate.
前記張出部では、前記ベース基板の平面視にて、前記主面と前記凹部の内面とが重なり合っている請求項1に記載の振動子。   2. The vibrator according to claim 1, wherein in the projecting portion, the main surface and an inner surface of the concave portion overlap each other in a plan view of the base substrate. 前記張出部は、基端部の厚さよりも先端部の厚さの方が薄い請求項1または2に記載の振動子。   3. The vibrator according to claim 1, wherein the protruding portion has a distal end portion thinner than a proximal end portion. 前記張出部に緩衝部が設けられている請求項1ないし3のいずれか1項に記載の振動子。   The vibrator according to claim 1, wherein a buffer portion is provided in the overhang portion. 前記凹部内に設けられている凸部を有し、
前記凹部は、前記ベース基板の平面視にて、前記振動素子の前記他端側と重なるように位置している請求項1ないし4のいずれか1項に記載の振動子。
Having a convex portion provided in the concave portion;
5. The vibrator according to claim 1, wherein the recess is positioned so as to overlap the other end side of the vibration element in a plan view of the base substrate.
前記振動素子は、基部と、前記基部から延出されている振動腕と、を有し、
前記振動腕には、その延出方向に沿って延在されている有底の溝と、前記基部とは反対側の先端側に配置されている質量調整用の調整膜と、が設けられ、
前記ベース基板の平面視にて、前記調整膜と前記溝との間の領域が前記張出部と重なっている請求項1ないし4のいずれか1項に記載の振動子。
The vibrating element includes a base and a vibrating arm extending from the base.
The vibrating arm is provided with a bottomed groove extending along the extending direction, and an adjustment film for mass adjustment disposed on the tip side opposite to the base,
5. The vibrator according to claim 1, wherein a region between the adjustment film and the groove overlaps with the protruding portion in a plan view of the base substrate.
前記振動素子は、基部と、前記基部から延出されている振動腕と、を有し、
前記振動腕には、その延出方向に沿って延在されている有底の溝と、前記基部とは反対側の先端側に配置されている質量調整用の調整膜と、が設けられ、
前記ベース基板の平面視にて、前記調整膜と前記溝との間の領域が前記張出部と重なっており、前記調整膜の質量調整部は、前記張出部と前記凸部との間の領域と重なっている請求項5に記載の振動子。
The vibrating element includes a base and a vibrating arm extending from the base.
The vibrating arm is provided with a bottomed groove extending along the extending direction, and an adjustment film for mass adjustment disposed on the tip side opposite to the base,
In a plan view of the base substrate, a region between the adjustment film and the groove overlaps with the overhang portion, and the mass adjustment portion of the adjustment film is between the overhang portion and the convex portion. The vibrator according to claim 5, wherein the vibrator overlaps with the region.
前記ベース基板は、ガラス材料で構成されている請求項1ないし7のいずれか1項に記載の振動子。   The vibrator according to claim 1, wherein the base substrate is made of a glass material. 基板の一方の面に凹部を形成する工程と、
前記凹部の側面を抉るように除去し、前記凹部内に張り出す張出部を形成する工程と、を有することを特徴とするベース基板の製造方法。
Forming a recess on one surface of the substrate;
Removing the side surface of the concave portion so as to squeeze, and forming an overhanging portion projecting into the concave portion.
前記張出部を形成する工程は、前記基板をウエットエッチングすることで前記張出部を形成する請求項9に記載のベース基板の製造方法。   The method of manufacturing a base substrate according to claim 9, wherein in the step of forming the overhanging portion, the overhanging portion is formed by wet etching the substrate. 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の振動子と、
回路と、を備えていることを特徴とする発振器。
A vibrator according to any one of claims 1 to 8,
And an oscillator.
請求項1ないし8のいずれか1項に記載の振動子を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the vibrator according to claim 1. 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の振動子を備えていることを特徴とする移動体。   A moving body comprising the vibrator according to claim 1.
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