JP2015088165A - 電子下敷き - Google Patents
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Abstract
【課題】筆圧が低くても、筆記具の先端による押圧位置を正確に検知できる電子下敷きを提供する。
【解決手段】光導波路Wは、アンダークラッド層1の表面部分に、コア2が埋設されて、アンダークラッド層1の表面とコア2の頂面とが面一に形成され、それらアンダークラッド層1の表面とコア2の頂面とを被覆した状態で、オーバークラッド層3が形成されたものとなっている。オーバークラッド層3の表面が用紙の載置面である。オーバークラッド層3は、厚みが1〜100μmの範囲内で、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定され、コア2は、厚みが10〜100μmの範囲内で、弾性率が1〜10GPaの範囲内に設定されている。
【選択図】図1
【解決手段】光導波路Wは、アンダークラッド層1の表面部分に、コア2が埋設されて、アンダークラッド層1の表面とコア2の頂面とが面一に形成され、それらアンダークラッド層1の表面とコア2の頂面とを被覆した状態で、オーバークラッド層3が形成されたものとなっている。オーバークラッド層3の表面が用紙の載置面である。オーバークラッド層3は、厚みが1〜100μmの範囲内で、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定され、コア2は、厚みが10〜100μmの範囲内で、弾性率が1〜10GPaの範囲内に設定されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、筆記具で書き込む用紙の下に敷き、その用紙の表面における、筆記具の先端による押圧位置を光学的に検知する電子下敷きに関するものである。
従来より、文字等を入力する入力装置として、感圧式タッチパネルとディスプレイとを有するものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。このものは、上記感圧式タッチパネル上に用紙を置き、その用紙に文字等を筆記具(ペン等)で書くと、その先端(ペン先等)による押圧位置を上記感圧式タッチパネルが検知して上記ディスプレイに出力し、そのディスプレイに、上記書いた文字等を表示するようになっている。
一方、押圧位置を光学的に検知する位置センサが提案されている(例えば、特許文献2参照)。このものは、光路となる複数のコアを縦横方向に配置し、それらコアの周縁部をクラッドで覆うことによりシート状の光導波路を形成し、上記各コアの一端面に発光素子からの光を入射させ、各コア内を伝播してきた光を、各コアの他端面で受光素子により検出するようになっている。そして、そのシート状の光導波路の表面の一部を指等で押圧すると、その押圧部分のコアがつぶれ(押圧方向のコアの断面積が小さくなり)、その押圧部分のコアでは、上記受光素子での光の検出レベルが低下することから、上記押圧位置を検知できるようになっている。
そこで、本発明者らは、上記特許文献1の感圧式タッチパネルを、上記特許文献2の、光導波路を用いた位置センサに代えた電子下敷きを作製した。すなわち、その電子下敷きでは、上記光導波路のクラッドの表面に用紙を置き、その用紙に文字等を筆記具で書くと、その筆記具の先端の押圧により、その押圧部分のコアがつぶれ、その押圧部分のコアでは、上記受光素子での光の検出レベルが低下することから、上記筆記具の先端による押圧位置を検知できるようになっている。
しかしながら、上記電子下敷きでは、筆圧(筆記具の先端による押圧力)が低いと、筆記具の先端による押圧位置を正確に検知でき難い傾向があった。
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、筆圧が低くても、筆記具の先端による押圧位置を検知できる電子下敷きの提供をその目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明の電子下敷きは、筆記具で書き込む用紙の下に敷いて使用され、格子状に形成された複数の線状のコアをシート状の第1および第2クラッド層により挟持し、その第2クラッド層の表面を上記用紙の載置面とするシート状の光導波路と、この光導波路のコアの一端面に接続される発光素子と、上記コアの他端面に接続される受光素子とを備え、上記発光素子で発光された光が、上記光導波路のコアを経て、上記受光素子で受光され、上記光導波路の格子状のコア部分に対応する上記用紙の表面部分を入力領域とし、その入力領域における筆記具の先端の移動軌跡を、その移動により変化したコアの光伝播量によって特定する電子下敷きであって、上記光導波路が下記(A)に形成されているという構成をとる。
(A)第1クラッド層の表面部分に、厚みが10〜100μmの範囲内で、弾性率が1〜10GPaの範囲内に設定されたコアが埋設されて、上記第1クラッド層の表面とコアの頂面とが面一に形成され、それら第1クラッド層の表面とコアの頂面とを被覆した状態で、厚みが1〜100μmの範囲内で、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定された第2クラッド層が形成されている光導波路。
(A)第1クラッド層の表面部分に、厚みが10〜100μmの範囲内で、弾性率が1〜10GPaの範囲内に設定されたコアが埋設されて、上記第1クラッド層の表面とコアの頂面とが面一に形成され、それら第1クラッド層の表面とコアの頂面とを被覆した状態で、厚みが1〜100μmの範囲内で、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定された第2クラッド層が形成されている光導波路。
本発明者らは、押圧位置検知用シート状光導波路のクラッド層の表面に用紙を置き、その用紙に文字等をペン等の筆記具で書く際に、筆圧が低くても、筆記具の先端による押圧位置を正確に検知できるようにすべく、上記光導波路の構造について、研究を重ねた。その研究の過程で、筆圧が低い場合に筆記具の先端による押圧位置を検知できない原因は、コアよりも上側に位置するクラッド層部分が厚い(100μmを超える)ことにあることを突き止めた。そして、その知見に鑑み、コアよりも上側に位置するクラッド層部分を薄くすることを着想し、さらに研究を重ねた。その研究の過程で、コアは、厚い方が、押圧により変形したコア部分での光の漏れる量が多くなり、その押圧位置が検知され易くなることを突き止めた。さらに、その場合、光導波路を従来と上下逆にして使用すると、上記押圧位置がより検知され易くなることを突き止めた。
すなわち、光導波路の作製は、通常、第2クラッド層の表面に、コアを突出形成した後、そのコアを被覆するように、第1クラッド層を形成する。従来は、その作製した上下の配置状態のまま使用するのが技術常識であった。すなわち、第2クラッド層を下側、第1クラッド層を上側にし、その第1クラッド層の表面に、用紙を載置していた。それに対し、本発明者らは、従来の技術常識を打破し、その作製した光導波路を上下逆にし、第2クラッド層を上側、第1クラッド層を下側にした。そして、本発明者らは、上記第2クラッド層およびコアの特性について、さらに研究を重ねた結果、第2クラッド層を、厚み1〜100μmの範囲内、かつ、弾性率0.1M〜10GPaの範囲内に設定し、コアを、厚み10〜100μmの範囲内、かつ、弾性率1〜10GPaの範囲内に設定に設定すると、筆圧が低くても、筆記具の先端による押圧位置を検知できることを見出し、本発明に到達した。
本発明の電子下敷きは、用紙を載置する光導波路が上記(A)に形成されている。すなわち、光導波路が特定の構造になっている状態で、コアよりも上側に位置する第2クラッド層が適正に薄く形成されているとともに、コアが適正に厚く形成され、さらに、それら第2クラッド層およびコアが適正な弾性率を有している。そのため、上記第2クラッド層の表面に載置される用紙に、筆記具で文字等を書く際に、筆圧が低くても、本発明の電子下敷きは、上記光導波路の構造と、上記第2クラッド層の特性と、上記コアの特性とが相俟って、筆記具の先端による押圧部分のコアの光伝播量が減少し易くなっており、その押圧位置を正確に検知することができる。
また、上記第2クラッド層の表面に、保護層を設け、その保護層の表面を上記用紙の載置面とし、それら第2クラッド層と保護層とからなる積層体を、厚み1〜100μmの範囲内で、弾性率0.1M〜10GPaの範囲内に設定する場合には、上記保護層により、薄い上記第2クラッド層を保護しつつ、筆記具の先端による押圧位置を、より正確に検知することができる。
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
図1(a)は、本発明の電子下敷きの一実施の形態を示す平面図であり、図1(b)は、その中央部の断面を拡大した図である。この実施の形態の電子下敷きは、用紙が載置される光導波路Wが、シート状のアンダークラッド層(第1クラッド層)1の表面部分に、格子状のコア2が埋設されて、上記アンダークラッド層1の表面とコア2の頂面とが面一に形成され、それらアンダークラッド層1の表面とコア2の頂面とを被覆した状態で、均一厚みのシート状のオーバークラッド層(第2クラッド層)3が形成されたシート状のものとなっている。そのオーバークラッド層3の表面が、上記用紙の載置面となっている。そして、そのオーバークラッド層3は、厚みが1〜100μmの範囲内に設定され、かつ、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定されている。さらに、上記コア2は、厚みが10〜100μmの範囲内に設定され、かつ、弾性率が1〜10GPaの範囲内に設定されている。このように、用紙を載置する光導波路Wが上記の特定の構造になっている状態で、コア2よりも上側に位置するオーバークラッド層3の特性が上記の特定範囲に設定され、そのコア2の特性が上記の特定範囲に設定されていることが、本発明の大きな特徴である。なお、この実施の形態では、アンダークラッド層1は、厚みが20〜2000μmの範囲内に設定され、弾性率が0.1M〜1GPaの範囲内に設定されている。
また、上記電子下敷きは、上記光導波路Wに加え、上記格子状のコア2を構成する線状のコア2の一端面に接続された発光素子4と、上記線状のコア2の他端面に接続された受光素子5とを備えている。そして、上記発光素子4から発光された光は、上記コア2の中を通り、上記受光素子5で受光されるようになっている。さらに、この実施の形態では、これら光導波路W,発光素子4,受光素子5が、樹脂板や金属板等の剛性板7の表面に設けられている。なお、図1(a)では、コア2を鎖線で示しており、鎖線の太さがコア2の太さを示している。また、図1(a)では、コア2の数を略して図示している。さらに、図1(a)の矢印は、光の進む方向を示している。
上記電子下敷きは、図2に断面図で示すように、筆記具10でメモ等を書き込む用紙Kの下に敷いて使用される。このとき、上記電子下敷きの光導波路Wのオーバークラッド層3の表面が、上記用紙Kとの接触面となるようにする。そして、メモ等の入力は、筆記具10で上記用紙Kの表面にメモ等を書くことにより行われる。その用紙Kにおける入力領域は、上記電子下敷きの光導波路Wの格子状のコア2〔図1(a)参照〕に対応する部分となっている。
すなわち、上記用紙Kの表面に、ペン等の筆記具10でメモ等を書くと、ペン先等の先端10aによる筆圧が、用紙Kを介してオーバークラッド層3に伝わり、光導波路Wが押圧される。それにより、ペン先等の先端10aによる押圧部分では、コア2が、ペン先等の先端10aに沿って、アンダークラッド層1に沈むように曲がる。そして、そのコア2の曲がった部分から、光の漏れ(散乱)が発生する。そのため、ペン先等の先端10aで押圧されたコア2では、受光素子5での光の検出レベルが低下し、その光の検出レベルの低下から、ペン先等の先端10aの位置(座標)を検知することができる。
ここで、オーバークラッド層3は、先に述べたように、厚みが1〜100μmの範囲内に設定され、かつ、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定されていることから、コア2よりも上側の部分(オーバークラッド層3)が、適正な弾性率を有した状態で、薄く形成されている。そのため、筆圧が低くても、コア2の曲がり具合を急なものに(曲がり部分の曲率半径を小さく)することができる。さらに、コア2は、先に述べたように、厚みが10〜100μmの範囲内に設定され、かつ、弾性率が1〜10GPaの範囲内に設定されていることから、適正な弾性率を有した状態で、厚く形成されている。そのため、コア2の曲がっている部分における光の反射角度が大きくなる。そして、上記コア2の急な曲がりと、その曲がっている部分における光の反射角度が大きいこととが相俟って、コア2から漏れる(散乱する)光の量が多くなる。すなわち、筆圧が低くても、ペン先等の先端10aによる押圧位置(座標)を正確に検知することができる。
また、上記用紙Kへの入力時には、筆記具10の先端10aが用紙Kを介して押圧する光導波路Wの部分が、上記のように変形するため、書き味が良好である。
そして、上記筆記具10の先端10aによる押圧が解除される(筆記具10による書き込みが終了する)と、上記アンダークラッド層1,コア2およびオーバークラッド層3は、各自の復元力により、元の状態〔図1(b)参照〕に戻る。なお、上記コア2の、アンダークラッド層1への沈み込み深さDは、最大で2000μmまでとすることが好ましい。それを超えると、上記アンダークラッド層1,コア2およびオーバークラッド層3が元の状態に戻らなくなったり、光導波路Wに割れが発生したりするおそれがある。
さらに、上記電子下敷きは、その電子下敷きを制御するCPU(中央処理装置)(図示せず)を備えており、そのCPUには、上記受光素子5での光の検出レベルの低下から、ペン先等の先端10aの移動軌跡を特定するプログラムが組み込まれている。すなわち、上記電子下敷きは、用紙Kの表面にメモ等を書く際の、筆記具(ペン等)10の先端(ペン先等)10aの位置を検知する位置センサになっている。そして、例えば、上記筆記具10の先端10aの移動軌跡を示すデータは、電子データとしてメモリ等の記憶手段に保存(記憶)される。
また、その記憶手段に保存(記憶)されたメモ等の情報は、再生用端末(パーソナルコンピュータ,スマートフォン,タブレット型端末等)を利用して再生(表示)することができ、さらに、上記再生用端末に記憶させることもできる。この場合、上記再生用端末と上記電子下敷きとは、例えば、マイクロUSBケーブル等の接続ケーブルで接続される。なお、上記記憶手段のメモリへの保存(記憶)は、例えば、pdf等の汎用性のあるファイル形式で行われる。
つぎに、上記光導波路Wの製法について説明する。上記光導波路Wを構成するアンダークラッド層1,コア2およびオーバークラッド層3の形成材料としては、感光性樹脂,熱硬化性樹脂等があげられ、その形成材料に応じた製法により、光導波路Wを作製することができる。すなわち、まず、図3(a)に示すように、オーバークラッド層(第2クラッド層)3を均一厚みのシート状に形成する。ついで、図3(b)に示すように、そのオーバークラッド層3の上面に、コア2を、突出した状態で所定パターンに形成する。つぎに、図3(c)に示すように、そのコア2を被覆するように、上記オーバークラッド層3の上面に、アンダークラッド層(第1クラッド層)1を形成する。そして、図3(d)に示すように、その得られた構造体を上下逆にし、アンダークラッド層1を下側、オーバークラッド層3を上側にする。このようにして、上記光導波路Wが得られる。
また、上記コア2の屈折率は、上記アンダークラッド層1およびオーバークラッド層3の屈折率よりも大きく設定されている。そして、上記弾性率および屈折率の調整は、例えば、各形成材料の種類の選択や組成比率を調整して行うことができる。
図4(a)は、本発明の電子下敷きの他の実施の形態を示す平面図であり、図4(b)は、その中央部の断面を拡大した図である。この実施の形態の電子下敷きは、図1(a),(b)に示す上記実施の形態において、オーバークラッド層(第2クラッド層)3の表面に、樹脂等からなる保護層Pが設けられている。この実施の形態では、その保護層Pの表面が、用紙Kの載置面となる。そして、それらオーバークラッド層3と保護層Pとからなる積層体が、厚み1〜100μmの範囲内に設定され、かつ、弾性率0.1M〜10GPaの範囲内に設定されている。上記オーバークラッド層3と保護層Pとの間に接着層がある場合は、その接着層を含めた状態で、上記積層体の厚みと弾性率とが上記範囲内にあるように設定される。それ以外の部分は、図1(a),(b)に示す上記実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
この実施の形態でも、図1(a),(b)に示す上記実施の形態と同様に、コア2よりも上側の部分(オーバークラッド層3と保護層Pとからなる積層体)が、適正な弾性率を有した状態で、薄く形成されている。そのため、筆圧が低くても、コア2の曲がり具合を急なものに(曲がり部分の曲率半径を小さく)することができ、コア2から漏れる(散乱する)光の量を多くすることができる。すなわち、筆圧が低くても、ペン先等の先端10aによる押圧位置(座標)を正確に検知することができる。しかも、上記保護層Pにより、薄い上記オーバークラッド層3を保護することができる。
上記保護層Pの形成材料としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート),PI(ポリイミド),PEN(ポリエチレンナフタレート)等の樹脂、もしくはシリコーンゴム,アクリルゴム等のゴム、もしくはステンレス,アルミニウム等の金属等があげられる。また、上記保護層Pの厚みは、上記積層体の厚みの範囲内で形成されていればよく、0μmを上回り99μmを下回る範囲内に設定される。
なお、上記各実施の形態において、図5に示すように(図5では、保護層Pが形成されている形態を図示している)、アンダークラッド層1の裏面(アンダークラッド層1と剛性板7との間)に、ゴム層等の弾性層Rを設けてもよい。この場合、例えば、アンダークラッド層1は、厚みが1〜200μmの範囲内、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定され、弾性層Rは、厚みが20〜20000μmの範囲内、弾性率が0.1M〜1GPaの範囲内に設定される。そして、アンダークラッド層1,コア2およびオーバークラッド層3の復元力が弱くなったり、それらが元々復元力の弱い材料からなるものであったりしても、上記弾性層Rの弾性力を利用して、上記弱い復元力を補助し、筆記具10の先端10aによる押圧が解除された後、元の状態に戻すことができる。
また、上記各実施の形態では、光導波路Wを支持するために剛性板7を設けたが、その剛性板7を設けなくてもよい。その場合は、上記電子下敷きの光導波路Wをテーブル等の硬い平面台の上に載置する等した状態で、入力する。
そして、上記各実施の形態において、格子状のコア2の各交差部は、通常、図6(a)に拡大平面図で示すように、交差する4方向の全てが連続した状態に形成されているが、他でもよい。例えば、図6(b)に示すように、交差する1方向のみが、隙間Gにより分断され、不連続になっているものでもよい。上記隙間Gは、アンダークラッド層1またはオーバークラッド層3の形成材料で形成されている。その隙間Gの幅dは、0(零)を超え(隙間Gが形成されていればよく)、通常、20μm以下に設定される。それと同様に、図6(c),(d)に示すように、交差する2方向〔図6(c)は対向する2方向、図6(d)は隣り合う2方向〕が不連続になっているものでもよいし、図6(e)に示すように、交差する3方向が不連続になっているものでもよいし、図6(f)に示すように、交差する4方向の全てが不連続になっているものでもよい。さらに、図6(a)〜(f)に示す上記交差部のうちの2種類以上の交差部を備えた格子状としてもよい。すなわち、本発明において、複数の線状のコア2により形成される「格子状」とは、一部ないし全部の交差部が上記のように形成されているものを含む意味である。
なかでも、図6(b)〜(f)に示すように、交差する少なくとも1方向を不連続とすると、光の交差損失を低減させることができる。すなわち、図7(a)に示すように、交差する4方向の全てが連続した交差部では、その交差する1方向〔図7(a)では上方向〕に注目すると、交差部に入射する光の一部は、その光が進んできたコア2と直交するコア2の壁面2aに到達し、その壁面での反射角度が大きいことから、コア2を透過する〔図7(a)の二点鎖線の矢印参照〕。このような光の透過が、交差する上記と反対側の方向〔図7(a)では下方向〕でも発生する。これに対し、図7(b)に示すように、交差する1方向〔図7(b)では上方向〕が隙間Gにより不連続になっていると、上記隙間Gとコア2との界面が形成され、図7(a)においてコア2を透過する光の一部は、上記界面での反射角度が小さくなることから、透過することなく、その界面で反射し、コア2を進み続ける〔図7(b)の二点鎖線の矢印参照〕。このことから、先に述べたように、交差する少なくとも1方向を不連続とすると、光の交差損失を低減させることができるのである。その結果、ペン先等による押圧位置の検知感度を高めることができる。
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるわけではない。
〔オーバークラッド層の形成材料〕
成分a:エポキシ樹脂(四日市合成社製、エポゴーセーPT)
成分b:エポキシ樹脂(ダイセル社製、EHPE3150)
成分c:光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI200K)
これら成分a〜cを混合することにより、オーバークラッド層の形成材料を調製した。
成分a:エポキシ樹脂(四日市合成社製、エポゴーセーPT)
成分b:エポキシ樹脂(ダイセル社製、EHPE3150)
成分c:光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI200K)
これら成分a〜cを混合することにより、オーバークラッド層の形成材料を調製した。
〔コアの形成材料〕
成分d:エポキシ樹脂(ダイセル社製、EHPE3150)
成分e:エポキシ樹脂(新日鉄化学社製、YDCN700−10)
成分f:光酸発生剤(ADEKA社製、SP170)
成分g:乳酸エチル(和光純薬工業社製、溶剤)
これら成分d〜gを混合することにより、コアの形成材料を調製した。
成分d:エポキシ樹脂(ダイセル社製、EHPE3150)
成分e:エポキシ樹脂(新日鉄化学社製、YDCN700−10)
成分f:光酸発生剤(ADEKA社製、SP170)
成分g:乳酸エチル(和光純薬工業社製、溶剤)
これら成分d〜gを混合することにより、コアの形成材料を調製した。
〔アンダークラッド層の形成材料〕
成分h:エポキシ樹脂(四日市合成社製、エポゴーセーPT)
成分i:エポキシ樹脂(三菱化学社製、JER1007)
成分j:光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI200K)
成分k:乳酸エチル(和光純薬工業社製、溶剤)
これら成分h〜kを混合することにより、アンダークラッド層の形成材料を調製した。
成分h:エポキシ樹脂(四日市合成社製、エポゴーセーPT)
成分i:エポキシ樹脂(三菱化学社製、JER1007)
成分j:光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI200K)
成分k:乳酸エチル(和光純薬工業社製、溶剤)
これら成分h〜kを混合することにより、アンダークラッド層の形成材料を調製した。
〔光導波路の作製〕
つぎのようにして、光導波路を作製した。このとき、光導波路を構成するオーバークラッド層等の厚みおよび弾性率は、下記の表1〜4に示した値とした。なお、弾性率の調整は、上記成分a〜c、成分d,e、成分h〜jの含有量を調整することにより行った。また、弾性率の測定は、粘弾性測定装置(TA instruments Japan Inc. 社製、RSA3)を用いた。
つぎのようにして、光導波路を作製した。このとき、光導波路を構成するオーバークラッド層等の厚みおよび弾性率は、下記の表1〜4に示した値とした。なお、弾性率の調整は、上記成分a〜c、成分d,e、成分h〜jの含有量を調整することにより行った。また、弾性率の測定は、粘弾性測定装置(TA instruments Japan Inc. 社製、RSA3)を用いた。
すなわち、まず、実施例1〜9および比較例1〜9のものは、ガラス製基材の表面に、上記オーバークラッド層の形成材料を用いて、スピンコート法により、オーバークラッド層を形成し、保護層のある実施例10〜18および比較例10〜18のものは、ガラス製基材の表面に、保護層としてPET製シート(三菱樹脂社製、B100)を載置し、そのPET製シートの表面に、上記オーバークラッド層の形成材料を用いて、スピンコート法により、オーバークラッド層を形成した。
ついで、上記オーバークラッド層の上面に、上記コアの形成材料を用いて、フォトリソグラフィ法により、コアを直線パターンに突出形成した。
つぎに、上記コアを被覆するように、上記オーバークラッド層の上面に、上記アンダークラッド層の形成材料を用いて、スピンコート法により、アンダークラッド層を形成した。
そして、ABS樹脂製剛性板の片面に、両面テープを貼着したものを準備した。ついで、その両面テープのもう一方の粘着面を上記アンダークラッド層の表面に貼着し、その状態で、実施例1〜9および比較例1〜9のものは、上記オーバークラッド層を、保護層のある実施例10〜18および比較例10〜18のものは、上記PET製シート(保護層)を、上記ガラス製基材から剥離した。このようにして、ABS樹脂製剛性板の片面に、両面テープを介して、光導波路を作製した。
〔電子下敷きの作製〕
上記光導波路のコアの一端面に、発光素子(Optowell社製、XH85-S0603-2s )を接続し、コアの他端面に、受光素子(浜松ホトニクス社製、s10226)を接続した。このようにして、電子下敷きを作製した。
上記光導波路のコアの一端面に、発光素子(Optowell社製、XH85-S0603-2s )を接続し、コアの他端面に、受光素子(浜松ホトニクス社製、s10226)を接続した。このようにして、電子下敷きを作製した。
〔電子下敷きの評価〕
上記電子下敷きの表面(オーバークラッド層の表面または保護層の表面)に、厚み85μmの用紙を載せ、その用紙の表面に、ボールペンの先端(先端直径0.7mm)により、低筆圧に相当する荷重0.735N(人の平均筆圧に相当する荷重は1.47N)をかけた。そして、そのボールペンの先端による押圧を正確に検知できた(受光素子での光の検出レベルが充分に低下した)ものを合格と評価し○を、正確に検知できなかったものを不合格と評価し×を、下記の表1〜4に示した。
上記電子下敷きの表面(オーバークラッド層の表面または保護層の表面)に、厚み85μmの用紙を載せ、その用紙の表面に、ボールペンの先端(先端直径0.7mm)により、低筆圧に相当する荷重0.735N(人の平均筆圧に相当する荷重は1.47N)をかけた。そして、そのボールペンの先端による押圧を正確に検知できた(受光素子での光の検出レベルが充分に低下した)ものを合格と評価し○を、正確に検知できなかったものを不合格と評価し×を、下記の表1〜4に示した。
上記表1〜4の結果から、実施例1〜18の電子下敷きでは、筆圧が低くても、ボールペンの先端による押圧位置を正確に検知できることがわかる。それに対し、比較例1〜18の電子下敷きでは、筆圧が低いと、ボールペンの先端による押圧位置を正確に検知できないことがわかる。そして、その結果の違いは、コアよりも上側の部分またはコアの厚みおよび弾性率に依存していることがわかる。
また、上記実施例1〜18において、アンダークラッド層とABS樹脂製剛性板との間に、ゴム層を設け、アンダークラッド層を、厚み1〜200μmの範囲内、弾性率0.1M〜10GPaの範囲内に設定し、ゴム層を、厚み20〜20000μmの範囲内、弾性率0.1M〜1GPaの範囲内に設定し、上記実施例1〜18と同様にして電子下敷きを評価した場合でも、上記実施例1〜18と同様の傾向を示す結果が得られた。
本発明の電子下敷きは、用紙の下に敷き、その用紙にメモ等を筆記具で書く際に、筆圧が低くても、その筆記具の先端による押圧位置を正確に検知することに利用可能である。
W 光導波路
1 アンダークラッド層
2 コア
3 オーバークラッド層
4 発光素子
5 受光素子
1 アンダークラッド層
2 コア
3 オーバークラッド層
4 発光素子
5 受光素子
Claims (2)
- 筆記具で書き込む用紙の下に敷いて使用され、格子状に形成された複数の線状のコアをシート状の第1および第2クラッド層により挟持し、その第2クラッド層の表面を上記用紙の載置面とするシート状の光導波路と、この光導波路のコアの一端面に接続される発光素子と、上記コアの他端面に接続される受光素子とを備え、上記発光素子で発光された光が、上記光導波路のコアを経て、上記受光素子で受光され、上記光導波路の格子状のコア部分に対応する上記用紙の表面部分を入力領域とし、その入力領域における筆記具の先端の移動軌跡を、その移動により変化したコアの光伝播量によって特定する電子下敷きであって、上記光導波路が下記(A)に形成されていることを特徴とする電子下敷き。
(A)第1クラッド層の表面部分に、厚みが10〜100μmの範囲内で、弾性率が1〜10GPaの範囲内に設定されたコアが埋設されて、上記第1クラッド層の表面とコアの頂面とが面一に形成され、それら第1クラッド層の表面とコアの頂面とを被覆した状態で、厚みが1〜100μmの範囲内で、弾性率が0.1M〜10GPaの範囲内に設定された第2クラッド層が形成されている光導波路。 - 上記第2クラッド層の表面に、保護層を設け、その保護層の表面を上記用紙の載置面とし、それら第2クラッド層と保護層とからなる積層体を、厚み1〜100μmの範囲内で、弾性率0.1M〜10GPaの範囲内に設定する請求項1記載の電子下敷き。
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