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JP2015082113A - 画素駆動回路及びディスプレイ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】表示画面の使用寿命を延長する。【解決手段】本発明は、画素駆動回路及びディスプレイ装置を提供し、前記駆動回路は、制御ユニット、キャパシタ、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ及び第4のトランジスタを含んでおり、複数の薄膜トランジスタに対する制御により、駆動薄膜トランジスタの閾値電圧の変化を有効に補償し、電流の不均一による表示画面の光度の不均一を防止する。【選択図】図3

Description

本発明は、ディスプレイ装置に関し、特にディスプレイ装置の駆動回路に関する。
有機発光ディスプレイ装置は、自体発光する特性を具備し、極薄い有機材料コーティング層とガラス基板とを使用し、電流を流すと、有機材料は発光を行う。また、有機発光ディスプレイ装置の表示画面の視野角が大きく、電気エネルギーを顕著に節減することができる。そのため、有機発光ディスプレイ装置は、多くの液晶ディスプレイ装置とは比べられないほどの利点を有する。
有機発光ディスプレイ装置は、受動マトリクス型(Passive Mattrix)と能動マトリクス型(Active Mattrix)に分けられ、受動マトリクス型の場合は、画素はスキャンラインと信号線が相互に交差する位置でマトリクス形式で配置され、能動マトリクス型の場合は、各画素はスイッチのように動作する薄膜トランジスタ(TFT)によって制御される。
図1は、既存の有機発光ディスプレイ装置の画素回路の回路図である。
図1を参照にすると、既存の有機発光ディスプレイ装置における画素回路には、複数の同一方向に延長されるスキャンラインG1〜Gnと、複数の同一方向に延長されるデータラインS1〜Smと、複数の同一方向に延長される共通パワーラインD1〜Dmと、複数の画素ユニット(101)とが含まれる。データラインの本数は、共通パワーラインの本数と同様である。複数のデータラインS1〜Smは、複数のスキャンラインG1〜Gnと交差し、且つ絶縁される。複数の共通パワーラインD1〜Dmは、複数のスキャンラインG1〜Gnと交差し、且つ絶縁される。それぞれの画素ユニット(101)は、スキャンライン、データライン及び共通パワーラインにより囲まれる領域によって規定される。
画素ユニット(101)の回路図は、図2と同様である。それぞれの画素ユニット(101)には、スイッチ薄膜トランジスタ(108)と、駆動薄膜トランジスタ(112)と、キャパシタ(110)と、有機発光ダイオード(114)とが含まれる。画素(101)は、スキャンライン(102)、データライン(104)及び共通パワーライン(106)により囲まれる領域よって規定される。
有機発光ダイオード(114)には、画素電極と、画素電極に形成された有機発射層と、有機発射層に形成されたコモン電極とが含まれる。画素電極を正孔注入電極の陽極とし、コモン電極を電子注入電極の陰極とする。変形例において、有機発光ディスプレイ装置の駆動方法によれば、画素電極は、陰極であることが可能であり、コモン電極は、陽極であることが可能である。正孔と電子は、それぞれ画素電極とコモン電極から有機発射層に注入され、励起子(Excitons)を形成する。励起子が励起状態から基底状態へ変わるとき、発光を行う。
スイッチ薄膜トランジスタ(108)には、スイッチ半導体層(未図示)と、スイッチゲート電極(107)、スイッチソース電極(103)と、スイッチドレイン電極(105)とが含まれる。駆動薄膜トランジスタ(112)には、駆動半導体層(未図示)と、駆動ゲート電極(115)と、駆動ソース電極(113)と、駆動ドレイン電極(117)とが含まれる。
キャパシタ(110)には、第1のサステイン電極(109)と、第2のサステイン電極(111)とが含まれ、第1のサステイン電極(109)と第2のサステイン電極(111)の間には、層間絶縁層が設置されている。
スイッチ薄膜トランジスタ(108)は、画素発光を選択するためのスイッチである。スイッチゲート電極(107)は、スキャンライン(102)に接続される。スイッチソース電極(103)は、データライン(104)に接続される。スイッチドレイン電極(105)は、スイッチソース電極(103)と所定距離をもって離隔するように配置され、スイッチドレイン電極(105)は、第1のサステイン電極(109)に接続される。
駆動薄膜トランジスタ(112)は、選択された画素中の有機発光ダイオード(114)の有機発射層が発光するように、画素電極に駆動パワー印加する。駆動ゲート電極(115)は、第1のサステイン電極に接続される。駆動ソース電極(113)と第2のサステイン電極(111)は、それぞれ共通パワーライン(106)に接続される。駆動ドレイン電極(117)は、接続ホールを通じて有機発光ダイオード(114)の画素電極に接続される。
上述の構造を利用して、スキャンライン(102)に印加されたゲート電圧によりスイッチ薄膜トランジスタ(108)を駆動することによって、データライン(104)に印加されたデータ電圧を駆動薄膜トランジスタ(112)に伝送する。共通パワーライン(106)から駆動薄膜トランジスタ(112)に伝送されたコモン電圧とスイッチ薄膜トランジスタ(108)を通じて伝送されたデータ電圧との間の電圧差に対応する電圧が、キャパシタ(110)に貯蔵され、キャパシタ(110)に貯蔵された電圧に対応する電流が、駆動薄膜トランジスタ(112)を経過して有機発光ダイオード(114)へ流れこむ。それにより、有機発光ダイオード(114)が発光する。
さらに、有機発光ディスプレイ装置の電圧源は、光度に影響する主な原因であるため、電圧源の安定度は、有機発光ディスプレイ装置の特性に影響を与える重要な一つの指標である。
今のところ、高解像度の有機発光ディスプレイ装置は、必然的な発展方向であるが、高解像度パネルによって、充電時間が短縮され、データラインの数が増加される。この二つの要素は、いずれも有機発光ディスプレイ装置の電圧源が干渉を受けて、本来の安定した電位に復帰できないようにする可能性がある。
具体的には、能動マトリクスの有機発光ディスプレイ装置において、光度は、有機発光ダイオードを流す電流によって決められ、有機発光ディスプレイ装置の均一な光度を維持するため、有機発光ダイオードの電流を±1%の範囲内に制御しなければならない。しかしながら、既存のIC回路は、いずれも電流信号ではなく、電圧信号を伝送するため、能動マトリクスの有機発光ディスプレイ装置において、画素は一つのフレーム(Frame)周期内に電圧を電流信号も変換しなければならず、また各画素が安定且つ均一でなければならないが、これはかなり困難な任務である。その中、有機発光ダイオードの駆動回路において、駆動薄膜トランジスタの閾値電圧は、電流に影響する重要な要素の一つである。
本発明が提供する画素駆動回路は、データライン、共通パワーライン、第1のスキャンライン及び第1のノードにそれぞれ接続され、前記第1のスキャンラインの入力信号を利用して、前記第1のノードの電圧を前記データラインの電圧または前記共通パワーラインの電圧になるように制御する制御ユニットと、第1のサステイン電極が前記第1のノードに接続され、第2のサステイン電極が第2のノードに接続されるキャパシタと、ソースが前記共通パワーラインに接続され、ゲートが第2のスキャンラインに接続され、ドレインが第2のトランジスタのドレインに接続される第1のトランジスタと、ソースが第3のノードに接続され、ゲートが前記第2のノードに接続され、ドレインが前記第1のトランジスタのドレインに接続される第2のトランジスタと、ソースが前記第3のノードに接続され、ゲートが第1の入力端に接続され、ドレインが前記第2のノードに接続される第3のトランジスタと、ソースが前記第3のノードに接続され、ゲートが第2の入力端に接続され、ドレインが発光ダイオードの陽極に接続される第4のトランジスタと、を含むことを特徴とする。
前記第1の入力端は、基準信号を受信するように配置され、前記第2の入力端は、発光信号を受信するように配置されることが好ましい。
前記制御ユニットは、ソースが前記データラインに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記第1のノードに接続される第5のトランジスタと、ソースが前記第1のノードに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記共通パワーラインに接続される第6のトランジスタと、を含むことが好ましい。
前記第5のトランジスタは、PMOS構造であり、前記第6のトランジスタは、NMOS構造であり、前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加され、前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加されることが好ましい。
前記第1のトランジスタは、NMOS構造であり、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることが好ましい。
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ、前記第4のトランジスタ、前記第5のトランジスタ及び前記第6のトランジスタは、ポリシリコン薄膜トランジスタまたは非晶質シリコン薄膜トランジスタのうちの一つであることが好ましい。
前記第5のトランジスタは、NMOS構造であり、前記第6のトランジスタは、PMOS構造であり、前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加され、前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加されることが好ましい。
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることが好ましい。
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ、前記第4のトランジスタ、前記第5のトランジスタ及び前記第6のトランジスタは、ポリシリコン薄膜トランジスタまたは非晶質シリコン薄膜トランジスタのうちの一つであることが好ましい。
前記キャパシタは、セラミックキャパシタであることが好ましい。
本発明の他の局面によりさらに提供するディスプレイ装置は、複数のスキャンラインと、前記複数のスキャンラインと交差し、且つ電気的に絶縁される共通パワーラインと、前記複数のスキャンラインと交差し、且つ電気的に絶縁されるデータラインと、前記複数のスキャンライン、データライン及び共通パワーラインにより囲まれた領域よって規定される複数の画素ユニットと、を含み、前記画素ユニットは、発光ダイオード及び画素駆動回路を含み、前記画素駆動回路は、前記データライン、前記共通パワーライン、第1のスキャンライン及び第1のノードにそれぞれ接続され、前記第1のスキャンラインの入力信号を利用して、前記第1のノードの電圧を前記データラインの電圧または前記共通パワーラインの電圧になるように制御する制御ユニットと、第1のサステイン電極が前記第1のノードに接続され、第2のサステイン電極が第2のノードに接続されるキャパシタと、ソースが前記共通パワーラインに接続され、ゲートが第2のスキャンラインに接続され、ドレインが第2のトランジスタのドレインに接続される第1のトランジスタと、ソースが第3のノードに接続され、ゲートが前記第2のノードに接続され、ドレインが前記第1のトランジスタのドレインに接続される第2のトランジスタと、ソースが前記第3のノードに接続され、ゲートが第1の入力端に接続され、ドレインが前記第2のノードに接続される第3のトランジスタと、ソースが前記第3のノードに接続され、ゲートが第2の入力端に接続され、ドレインが発光ダイオードの陽極に接続される第4のトランジスタと、を含み、前記画素駆動回路に接続される第1のスキャンラインは、前記画素駆動回路に隣接する画素駆動回路の第2のスキャンラインであることを特徴とする。
前記第1の入力端は、基準信号を受信するように配置され、前記第2の入力端は、発光信号を受信するように配置されることが好ましい。
前記制御ユニットは、ソースが前記データラインに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記第1のノードに接続される第5のトランジスタと、ソースが前記第1のノードに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記共通パワーラインに接続される第6のトランジスタとを含むことが好ましい。
前記第5のトランジスタは、PMOS構造であり、前記第6のトランジスタは、NMOS構造であり、前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加され、前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加されることが好ましい。
前記第1のトランジスタは、NMOS構造であり、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることが好ましい。
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ、前記第4のトランジスタ、前記第5のトランジスタ及び前記第6のトランジスタは、ポリシリコン薄膜トランジスタまたは非晶質シリコン薄膜トランジスタのうちの一つであることが好ましい。
前記第5のトランジスタは、NMOS構造であり、前記第6のトランジスタは、PMOS構造であり、前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加され、前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加されることが好ましい。
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることが好ましい。
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ、前記第4のトランジスタ、前記第5のトランジスタ及び前記第6のトランジスタは、ポリシリコン薄膜トランジスタまたは非晶質シリコン薄膜トランジスタのうちの一つであることが好ましい。
前記発光ダイオードは、有機発光ダイオードであることが好ましい。
本発明によれば、複数の薄膜トランジスタと、1個のキャパシタを有する画素ユニットと、スキャンラインと、基準信号と、発光信号とを利用することによって、複数の薄膜トランジスタを制御して駆動薄膜トランジスタの閾値電圧の変化を有効に補償し、電流の不均一による表示画面の光度の不均一を防止しながら、表示画面の使用寿命を延長することができる。
本発明の上述及びその他の特徴と利点は、図面を参照して例示した実施の形態を詳細に説明することにより、より明確になるだろう。
図1は、従来技術における有機発光ディスプレイ装置の画素駆動回路を模式的示した回路図である。 図2は、従来技術における有機発光ディスプレイ装置の画素駆動回路の各画素ユニット模式的示した回路図である。 図3は、本発明の第1実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素駆動回路の各画素ユニット模式的示した回路図である。 図4は、本発明の第1実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素駆動回路の入力信号の波形図である。 図5は、本発明の第2実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素駆動回路の各画素ユニットを模式的示した回路図である。 図6は、本発明の第2実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素駆動回路の入力信号の波形図である。 図7は、本発明で提供した有機発光ディスプレイ装置を示した模式図である。
図面を参照して、例示した実施形態より全面的に説明することにする。但し、例示した実施形態は、多種の形式で実施されることができ、本発明は、ここで説明する実施形態に限定されるものではない。逆に、このような実施形態を提供することによって、本発明はより全面的、且つ完璧になり、また例示した実施形態の構想をより全面的に当業者に伝えることができる。図面において、明確のため、領域と層の厚さを拡大して示している。図面における同一の符号は同一または類似の構造を示しており、それに対する詳細な説明は省略することにする。
図3は、本発明の第1実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素回路の各画素ユニットを模式的示した回路図である。画素ユニット(200)には、制御ユニット(214)と、キャパシタ(234)と、第1のトランジスタ(228)と、第2のトランジスタ(226)と、第3のトランジスタ(224)と、第4のトランジスタ(230)と、及び発光ダイオード(232)とが含まれる。
制御ユニット(214)は、データライン(204)、共通パワーライン(202)、第1のスキャンライン(206)及び第1のノード(220)のそれぞれに接続(coupling)される。具体的には、制御ユニット(214)には、第5のトランジスタ(216)及び第6のトランジスタ(218)が含まれる。第5のトランジスタ(216)のソースは、データライン(204)に接続され、そのゲートは、第1のスキャンライン(206)に接続され、そのドレインは、第1のノード(220)に接続される。第6のトランジスタ(218)のソースは、第1のノード(220)に接続され、そのゲートは、第1のスキャンライン(206)に接続され、そのドレインは、共通パワーライン(202)に接続される。本実施例において、第5のトランジスタ(216)は、PMOS(P−Channel Metal Oxide Semiconductor)構造であり、第6のトランジスタ(218)は、NMOS(N−Mental−Oxide−Semiconductor)構造である。
キャパシタ(234)には、第1のサステイン電極及び第2のサステイン電極が設置され、キャパシタ(234)の第1のサステイン電極は、第1のノード(220)に接続され,キャパシタの第2のサステイン電極は、第2のノード(222)接続される。
第1のトランジスタ(228)には、ソースと、ゲートと、及びドレインとが設置されている。第1のトランジスタ(228)のソースは、共通パワーライン(202)に接続され、そのゲートは、第2のスキャンライン(208)に接続され、そのドレインは、第2のトランジスタ(226)のドレインに接続される。本実施例において、第1のトランジスタ(228)は、NMOS構造である。
第2のトランジスタ(226)には、ソースと、ゲートと、及びドレインとが設置されている。第2のトランジスタ(226)のソースは、第3のノード(236)に接続され、そのゲートは、第2のノード(222)に接続され、そのドレインは、第1のトランジスタ(228)のドレインに接続される。本実施例において、第2のトランジスタ(226)は、PMOS構造である。
第3のトランジスタ(224)には、ソースと、ゲートと、及びドレインとが設置されている。第3のトランジスタ(224)のソースは、第3のノード(236)に接続され、そのゲートは、第1の入力端(210)に接続され、ドレインは、第2のノード(222)接続される。第1の入力端(210)は、基準信号を受信するように配置される。本実施例において、第3のトランジスタ(224)は、PMOS構造である。
第4のトランジスタ(230)には、ソースと、ゲートと、及びドレインが設置されている。第4のトランジスタ(230)のソースは、第3のノード(236)に接続され、そのゲートは、第2の入力端(212)に接続され、そのドレインは、発光ダイオード(232)の陽極に接続される。本実施例において、第4のトランジスタ(230)は、PMOS構造である。
発光ダイオード(232)の陽極は、第4のトランジスタ(230)のドレインに接続され、その陰極は接地される。発光ダイオード(232)は、有機発光ダイオードであることが好ましい。
本実施例において、各トランジスタは、ポリシリコン薄膜トランジスタまたは非晶質シリコン薄膜トランジスタである可能である。
その中、第2のトランジスタ(226)は、画素ユニットの駆動トランジスタであり、本実施例においては、発光信号、基準信号及び走査信号を利用して、キャパシタ(234)両端の電圧を制御する。さらに、発光ダイオードを通過する電流が、駆動トランジスタの閾値電圧の影響を受けないようにする。
具体的には、制御ユニット(214)は、第1のスキャンライン(206)の入力信号を利用して、第1のノード(220)の電圧をデータライン(204)の電圧または共通パワーライン(202)の電圧になるように制御する。第5のトランジスタ(216)が、PMOS構造であり、第6のトランジスタ(218)が、NMOS構造であるため、第1のスキャンライン(206)からハイレベルが入力される場合、第5のトランジスタ(216)が遮断され、第6のトランジスタ(218)が導通されて、共通パワーライン(202)の電圧は、第1のノード(220)に印加される。第1のスキャンライン(206)からローレベルが入力される場合、第5のトランジスタ(216)が導通され、第6のトランジスタ(218)が遮断されて、データライン(204)の電圧は、第1のノード(220)に印加される。第2のスキャンライン(208)の入力信号及び第1の入力端(210)の基準信号は、第2のノード(222)に印加される電圧を制御する。
さらに、図4に図示した本発明の第1実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素回路の入力信号の波形図に結合して、画素ユニットの各トランジスタの動作状態について説明することにする。
本実施例において、フレーム時間毎の各信号の変化は、三つの部分に分けられて行われる。
まず、第1部分(402)において、画素ユニットについて初期化処理を行う。
第1のスキャンライン(Si)からハイレベルが入力されると、第5のトランジスタが遮断され、第6のトランジスタが導通され、共通パワーラインの電圧(VELVDD)は、第1のノード、即ちキャパシタの第1のサステイン電極に印加される。
第2のスキャンライン(Si−1)からローレベルが入力されると、第1のトランジスタが遮断される。基準信号(Refi)からローレベルが入力されると、第3のトランジスタが導通される。発光信号(Emi)からローレベルが入力されると、第4のトランジスタが導通される。第2のノード(222)の電圧は、有機発光ダイオードがオフ(off)の時の電圧に該当する。即ち、キャパシタの第2のサステイン電極の電圧は、有機発光ダイオードがオフの時の電圧に該当する。
第2部分(404)において、データ信号を画素ユニットに書き込む。
第1のスキャンライン(Si)からローレベルが入力されると、第5のトランジスタが導通され、第6のトランジスタが遮断され、データラインの電圧(VDATA)は、第1のノードに印加される。即ち、キャパシタの第1のサステイン電極に印加される。
第2のスキャンライン(Si−1)からハイレベルが入力されると、第1のトランジスタが導通される。基準信号(Refi)からローレベルが入力されると、第3のトランジスタが導通される。発光信号(Emi)からハイレベルが入力されると、第4のトランジスタは、遮断される。第2のノードの電圧は、共通パワーラインの電圧から第2のトランジスタの閾値電圧を引いた値(VELVDD−Vth)であり、つまり、キャパシタの第2のサステイン電極の電圧(VELVDD−Vth)である。その中、Vthは、第2のトランジスタの閾値電圧である。
第3部分(406)は、画素ユニットの発光を制御する。
第1のスキャンライン(Si)からハイレベルが入力されると、第5のトランジスタが遮断され、第6のトランジスタが導通される。第1のノードの電圧は、VDATAからVELVDDに変化される。即ち、キャパシタの第1のサステイン電極の電圧は、VDATAからVELVDDに変化される。
第2のスキャンライン(Si−1)からハイレベルが入力されると、第1のトランジスタが導通される。基準信号(Refi)からハイレベルが入力されると、第3のトランジスタが遮断される。発光信号(Emi)からローレベルが入力されると、第4のトランジスタが導通される。また、第2のトランジスタが導通される。第2のノードの電圧は、VELVDD−Vth−(VDATA−VELVDD)である。即ち、キャパシタの第2のサステイン電極の電圧は、VELVDD−Vth−(VDATA−VELVDD)である。
発光ダイオードに流れる電流は、下記の式により計算することができる。
OLED=β*(VSG−Vth
その中、IOLEDは、発光ダイオードに流れる電流であり、β=1/2μCoxW/Lであり、VSGは、第2のトランジスタのソースとドレインとの電圧差であり、且つVSG=Vth+(VDATA−VELVDD)であり、Vthは、第2のトランジスタの閾値電圧である。
従って、上記の式に代入すると、
OLED=β*(VDATA−VELVDDである。
上記の式に基づき、最終的には、発光ダイオードに流れる電流は、駆動トランジスタの閾値電圧の影響を受けないことになる。
図5は、本発明の第2実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素回路の各画素ユニットを模式的に示した回路図である。図3に図示した第1実施例と類似して、画素ユニット(300)には、制御ユニット(314)と、キャパシタ(334)と、第1のトランジスタ(328)と、第2のトランジスタ(326)と、第3のトランジスタ(324)と、第4のトランジスタ(330)と、及び発光ダイオード(332)とが含まれる。制御ユニット(314)には、第5のトランジスタ(316)及び第6のトランジスタ(318)が含まれる。各素子の間の接続関係は、図3に図示した第1実施例と同一である。具体的には、本実施例において、第1のトランジスタ(328)、第2のトランジスタ(326)、第3のトランジスタ(324)、第4のトランジスタ(330)、及び第6のトランジスタ(318)は、PMOS構造であり、第5のトランジスタ(316)は、NMOS構造である。発光ダイオード(332)は、有機発光ダイオードであることが好ましい。
本実施例において、各トランジスタは、ポリシリコン薄膜トランジスタまたは非晶質シリコン薄膜トランジスタであることができる。
その中、第2のトランジスタ(326)は、画素ユニットの駆動トランジスタであり、本実施例では、発光信号(第2の入力端(312))と、基準信号(第1の入力端(310))と、及び第1のスキャンライン(306)と第2のスキャンライン(308)の信号を利用して、データライン(304)、共通パワーライン(302)、及びグラウンド(338)が、第1のノード(320)及び第2のノード(322)に印加した電圧を制御する。即ち、キャパシタ(334)両端の電圧を制御する。さらに、発光ダイオードに流れる電流が駆動トランジスタの閾値電圧の影響を受けないようにする。
具体的には、制御ユニット(314)は、第1のスキャンライン(306)の入力信号を利用して、第1のノード(320)の電圧をデータライン(204)の電圧または共通パワーライン(302)の電圧になるように制御する。第5のトランジスタ(316)がNMOS構造であり、第6のトランジスタ(318)がPMOS構造であるため、第1のスキャンライン(306)からハイレベルが入力される場合、第5のトランジスタ(316)が導通され、第6のトランジスタ(318)が遮断されて、データライン(304)の電圧は、第1のノード(320)に印加される。第1のスキャンライン(306)からローレベルが入力される場合、第5のトランジスタ(316)が遮断され、第6のトランジスタ(318)が導通されて、共通パワーライン(302)の電圧は、第1のノード(320)に印加される。第2のスキャンライン(308)の入力信号及び第1の入力端(310)の基準信号は、第2のノード(322)に印加される電圧を制御する。
さらに、図6に図示した本発明の第2実施例に係る有機発光ディスプレイ装置の画素回路の入力信号の波形図に結合して、画素ユニットの各トランジスタの動作状態について説明することにする。
本実施例において、フレーム時間毎の各信号の変化は、三つの部分に分けられて行われる。
まず、第1部分(602)において、画素ユニットについて初期化処理を行う。
第1のスキャンライン(Si)からローレベルが入力されると、第5のトランジスタが遮断され、第6のトランジスタが導通され、共通パワーラインの電圧(VELVDD)は、第1のノード、即ちキャパシタの第1のサステイン電極に印加される。
第2のスキャンライン(Si−1)からハイレベルが入力されると、第1のトランジスタが遮断される。基準信号(Refi)からローレベルが入力されると、第3のトランジスタが導通される。発光信号(Emi)からローレベルが入力されると、第4のトランジスタが導通される。第2のノード(222)の電圧は、有機発光ダイオードがオフ(OFF)の時の電圧に該当する。即ち、キャパシタの第2のサステイン電極の電圧は、有機発光ダイオードがオフの時の電圧に該当する。
第2部分(604)において、データ信号を画素ユニットに書き込む。
第1のスキャンライン(Si)からハイレベルが入力されると、第5のトランジスタが導通され、第6のトランジスタが遮断され、データラインの電圧VDATAは、第1のノードに印加される。即ち、キャパシタの第1のサステイン電極に印加される。
第2のスキャンライン(Si−1)からローレベルが入力されると、第1のトランジスタが導通される。基準信号(Refi)からローレベルが入力されると、第3のトランジスタが導通される。発光信号(Emi)からハイレベルが入力されると、第4のトランジスタが遮断される。第2のノードの電圧は、共通パワーラインの電圧から第2のトランジスタの閾値電圧を引いた値(VELVDD−Vth)であり、つまり、キャパシタの第2のサステイン電極の電圧(VELVDD−Vth)である。その中、Vthは、第2のトランジスタの閾値電圧である。
第3部分(606)は、画素ユニットの発光を制御する。
第1のスキャンライン(Si)からローレベルが入力されると、第5のトランジスタが遮断され、第6のトランジスタが導通される。第1のノードの電圧は、VDATAからVELVDDに変化される。即ち、キャパシタの第1のサステイン電極の電圧は、VDATAからVELVDDに変化される。
第2のスキャンライン(Si−1)からローレベルが入力されると、第1のトランジスタが導通される。基準信号(Refi)からハイレベルが入力されると、第3のトランジスタが遮断される。発光信号(Emi)からローレベルが入力されると、第4のトランジスタが導通される。また、第2のトランジスタが導通される。第2のノードの電圧は、VELVDD−Vth−(VDATA−VELVDD)である。即ち、キャパシタの第2のサステイン電極の電圧は、VELVDD−Vth−(VDATA−VELVDD)である。
発光ダイオードに流れる電流は、下記の式により計算することができる。
OLED=β*(VSG−Vth
その中、IOLEDは、発光ダイオードに流れる電流であり、β=1/2μCoxW/Lであり、VSGは、第2のトランジスタのソースとドレインとの電圧差であり、且つVSG=Vth+(VDATA−VELVDD)であり、Vthは、第2のトランジスタの閾値電圧である。
従って、上記の式に代入すると、
OLED=β*(VDATA−VELVDDである。
上記の式に基づき、最終的には、発光ダイオードに流れる電流は、駆動トランジスタの閾値電圧の影響を受けないことになる。
図7は、本発明において提供した有機発光ディスプレイ装置を示す模式図である。ディスプレイ装置には、複数のスキャンラインS1〜Snと、複数のスキャンラインと交差し、且つ電気的に絶縁されるELVDD電圧を提供するための共通パワーラインと、複数のスキャンラインと交差し、且つ電気的に絶縁されるデータラインD1〜Dmと、複数のスキャンライン、データライン及び共通パワーラインにより囲まれた領域によって規定される複数の画素ユニット(10)とが含まれる。スキャンラインS1〜Snの走査信号は、走査駆動装置(20)によって制御される。データラインD1〜Dmのデータ信号は、データ駆動装置によって制御される。本実施例には、さらに発光(フィードバック)信号制御駆動装置を例示しており、これは、各画素ユニット(10)に相応する発光制御信号及び発光制御信号を提供するためのものである。
その中、画素ユニットPXiiij(第iiij目の画素ユニット(10))は、二つのスキャンライン(Si及びSi−1)の信号と、フィードバック信号(Refi)と、発光制御信号(Emi)と、データライン(Dj)の信号を受信するとともに、二つの電位ELVDD及びELVSSにそれぞれ接続される。
各画素ユニット(10)の回路は、図3に図示した第1実施例または図5に図示した第2実施例と同一である。スキャンライン(Si及びSi−1)の信号、フィードバック信号(Refi)及び発光制御信号(Emi)の波形は、それぞれ図4に図示した第1実施例または図6に図示した第2実施例と同一である。
本発明が提供した有機発光ディスプレイ装置によれば、上述の信号に基づいて駆動薄膜トランジスタの閾値電圧の変化を有効に補償し、電流の不均一による表示画面の光度の不均一を防止しながら、表示画面の使用寿命を延長することができる。
以上、本発明の例示的な実施形態を具体的に記載及び説明した。本発明は、開示された実施形態のみに限定されず、本発明の特許請求の範囲の精神及び範囲内に入る、各種の変更及び均等な配置を含むことを意図している。
101: 画素ユニット
102: スキャンライン
104: データライン
106: 共通パワーライン
108: スイッチ薄膜トランジスタ
103: スイッチ薄膜トランジスタのソース電極
105: スイッチ薄膜トランジスタのドレイン電極
107: スイッチ薄膜トランジスタのゲート電極
110: キャパシタ
109: 第1のサステイン電極
111: 第2のサステイン電極
112: 駆動薄膜トランジスタ
117: 駆動薄膜トランジスタのソース電極
113: 駆動薄膜トランジスタのドレイン電極
115: 駆動薄膜トランジスタのゲート電極
114: 発光ダイオード
200, 300: 画素ユニット
202, 302: 共通パワーライン
204, 304: データライン
206, 306: 第1のスキャンライン
208, 308: 第2のスキャンライン
210, 310: 第1の入力端
212, 312: 第2の入力端
214, 314: 制御ユニット
220, 320: 第1のノード
222, 322: 第2のノード
236: 第3のノード
228, 328: 第1のトランジスタ
226, 326: 第2のトランジスタ
224, 324: 第3のトランジスタ
230, 330: 第4のトランジスタ
216, 316: 第5のトランジスタ
218, 318: 第6のトランジスタ
234, 334: キャパシタ
232, 332: 発光ダイオード
238, 338: グラウンド
402, 602: 信号波形図第1部分
404, 604: 信号波形図第2部分
406, 606: 信号波形図第3部分
10: 画素ユニット
20: 走査駆動装置
30: データ駆動装置
40: 発光(参照)信号駆動装置

Claims (14)

  1. データライン、共通パワーライン、第1のスキャンライン及び第1のノードにそれぞれ接続され、前記第1のスキャンラインの入力信号を利用して、前記第1のノードの電圧を前記データラインの電圧または前記共通パワーラインの電圧になるように制御する制御ユニットと、
    第1のサステイン電極が前記第1のノードに接続され、第2のサステイン電極が第2のノードに接続されるキャパシタと、
    ソースが前記共通パワーラインに接続され、ゲートが第2のスキャンラインに接続され、ドレインが第2のトランジスタのドレインに接続される第1のトランジスタと、
    ソースが第3のノードに接続され、ゲートが前記第2のノードに接続され、ドレインが前記第1のトランジスタのドレインに接続される第2のトランジスタと、
    ソースが前記第3のノードに接続され、ゲートが第1の入力端に接続され、ドレインが前記第2のノードに接続される第3のトランジスタと、
    ソースが前記第3のノードに接続され、ゲートが第2の入力端に接続され、ドレインが発光ダイオードの陽極に接続される第4のトランジスタと
    を含むことを特徴とする画素駆動回路。
  2. 請求項1に記載の画素駆動回路において、
    前記第1の入力端は、基準信号を受信するように配置され、前記第2の入力端は、発光信号を受信するように配置されることを特徴とする画素駆動回路。
  3. 請求項1に記載の画素駆動回路において、
    前記制御ユニットは、
    ソースが前記データラインに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記第1のノードに接続される第5のトランジスタと、
    ソースが前記第1のノードに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記共通パワーラインに接続される第6のトランジスタと
    を含むことを特徴とする画素駆動回路。
  4. 請求項3に記載の画素駆動回路において、
    前記第5のトランジスタは、PMOS構造であり、
    前記第6のトランジスタは、NMOS構造であり、
    前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加され、
    前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加されることを特徴とする画素駆動回路。
  5. 請求項4に記載の画素駆動回路において、
    前記第1のトランジスタは、NMOS構造であり、
    前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることを特徴とする画素駆動回路。
  6. 請求項3に記載の画素駆動回路において、
    前記第5のトランジスタは、NMOS構造であり、
    前記第6のトランジスタは、PMOS構造であり、
    前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加され、
    前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加されることを特徴とする画素駆動回路。
  7. 請求項6に記載の画素駆動回路において、
    前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることを特徴とする画素駆動回路。
  8. 複数のスキャンラインと、前記複数のスキャンラインと交差し、且つ電気的に絶縁される共通パワーラインと、前記複数のスキャンラインと交差し、且つ電気的に絶縁されるデータラインと、前記複数のスキャンライン、データライン及び共通パワーラインにより囲まれた領域よって規定される複数の画素ユニットと、を含み、
    前記画素ユニットは、発光ダイオード及び画素駆動回路を含み、
    前記画素駆動回路は、
    前記データライン、前記共通パワーライン、第1のスキャンライン及び第1のノードにそれぞれ接続され、前記第1のスキャンラインの入力信号を利用して、前記第1のノードの電圧を前記データラインの電圧または前記共通パワーラインの電圧になるように制御する制御ユニットと、
    第1のサステイン電極が前記第1のノードに接続され、第2のサステイン電極が第2のノードに接続されるキャパシタと、
    ソースが前記共通パワーラインに接続され、ゲートが第2のスキャンラインに接続され、ドレインが第2のトランジスタのドレインに接続される第1のトランジスタと、
    ソースが第3のノードに接続され、ゲートが前記第2のノードに接続され、ドレインが前記第1のトランジスタのドレインに接続される第2のトランジスタと、
    ソースが前記第3のノードに接続され、ゲートが第1の入力端に接続され、ドレインが前記第2のノードに接続される第3のトランジスタと、
    ソースが前記第3のノードに接続されゲートが第2の入力端に接続され、ドレインが発光ダイオードの陽極に接続される第4のトランジスタと、を含み、
    前記画素駆動回路に接続される第1のスキャンラインは、前記画素駆動回路に隣接する画素駆動回路の第2のスキャンラインであることを特徴とするディスプレイ装置。
  9. 請求項8に記載のディスプレイ装置において、
    前記第1の入力端は、基準信号を受信するように配置され、前記第2の入力端は、発光信号を受信するように配置されることを特徴とするディスプレイ装置。
  10. 請求項8に記載のディスプレイ装置において、
    前記制御ユニットは、
    ソースが前記データラインに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記第1のノードに接続される第5のトランジスタと、
    ソースが前記第1のノードに接続され、ゲートが前記第1のスキャンラインに接続され、ドレインが前記共通パワーラインに接続される第6のトランジスタと
    を含むことを特徴とするディスプレイ装置。
  11. 請求項10に記載のディスプレイ装置において、
    前記第5のトランジスタは、PMOS構造であり、
    前記第6のトランジスタは、NMOS構造であり、
    前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加され、
    前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加されることを特徴とするディスプレイ装置。
  12. 請求項11に記載のディスプレイ装置において、
    前記第1のトランジスタは、NMOS構造であり、
    前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることを特徴とするディスプレイ装置。
  13. 請求項10に記載のディスプレイ装置において、
    前記第5のトランジスタは、NMOS構造であり、
    前記第6のトランジスタは、PMOS構造であり、
    前記第1のスキャンラインからハイレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが導通され、前記第6のトランジスタが遮断されて、前記データラインの電圧が前記第1のノードに印加され、
    前記第1のスキャンラインからローレベルが入力される場合、前記第5のトランジスタが遮断され、前記第6のトランジスタが導通されて、前記共通パワーラインの電圧が前記第1のノードに印加されることを特徴とするディスプレイ装置。
  14. 請求項13に記載のディスプレイ装置において、
    前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、PMOS構造であることを特徴とするディスプレイ装置。
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