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JP2015068820A - ガスセンサ装置 - Google Patents

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JP2015068820A
JP2015068820A JP2013206411A JP2013206411A JP2015068820A JP 2015068820 A JP2015068820 A JP 2015068820A JP 2013206411 A JP2013206411 A JP 2013206411A JP 2013206411 A JP2013206411 A JP 2013206411A JP 2015068820 A JP2015068820 A JP 2015068820A
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喜田 真史
Masashi Kida
真史 喜田
中川 伸一
Shinichi Nakagawa
伸一 中川
小島 多喜男
Takio Kojima
多喜男 小島
芳彦 定岡
Yoshihiko Sadaoka
芳彦 定岡
森 雅美
Masami Mori
雅美 森
吉晃 板垣
Yoshiteru Itagaki
吉晃 板垣
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Niterra Co Ltd
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NGK Spark Plug Co Ltd
Ehime University NUC
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Abstract

【課題】ガス選択性を得るとともに、製造工程の増加を抑制することができるガスセンサ装置を提供する。【解決手段】酸素イオン伝導性の固体電解質体の表面に、金を含む検知電極14と、白金を含む参照電極15とからなる電極対を備えるガスセンサ10A,10Bと、ヒータ16により電極対の温度を制御するとともに、ガスセンサ10A,10Bに発生する電位差に基づいて特定ガスを検知する演算部20とが設けられ、演算部20は、ガスセンサ10A,10Bの中で特定ガスのうちの第1成分に対する感度が高い第1温度に制御された第1ガスセンサ10Aの第1出力と、ガスセンサ10A,10Bの中で特定ガスのうちの第1成分および第2成分に対する感度が高い第2温度に制御された第2ガスセンサ10Bの第2出力と、に基づいて、第1成分および第2成分のいずれの成分に反応しているかを検出することを特徴とする。【選択図】図1

Description

本発明は、ガス検知が必要な分野に適用されるガスセンサ装置に関し、特にアンモニアや硫化水素などの悪臭成分を低濃度で選択的に検知することが必要とされる分野に好適に利用されるガスセンサ装置に関する。
従来、ガスセンサ装置として、例えばLPガス、都市ガス等を検知するガス漏れ警報用の半導体ガスセンサなどが広く用いられている。
この種のガスセンサとしては、膜厚の異なるガス感応膜(例えば酸化スズ膜)を形成し、膜厚によるガス検知特性の違いを利用してガス選択性を高めたものが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
また、検知対象ガスおよび妨害ガスの両者に対して高い感度を有するガスセンサと、検知対象ガスに対する感度は低いが妨害ガスに対する感度は同程度であるガスセンサの出力を比較することによってガス選択性を高めるものも提案されている(例えば、特許文献2参照。)。
特開平05−010905号公報 特開平07−209234号公報
上述の特許文献1に記載のガスセンサは、ガス選択性を得る為に同一の材料でガス感応膜を形成しているが、ガス感応膜の膜厚が異なっている。この膜厚の異なるガス感応膜は、同一工程では形成することができず、別工程で形成しなければならない。そのため、特許文献1のガスセンサは、製造するために必要な工程数を削減することが困難であり、少ない工程数で製造することが難しいという問題があった。
上述の特許文献2に記載のガスセンサは、ガス選択性を得る為に異なるガス感応膜材料を用いてガス感応膜を形成している。これらのガス感応膜は、別の工程で形成されるものであるため、特許文献2のガスセンサは、製造するために必要な工程数を削減することが困難であり、少ない工程数で製造することが難しいという問題があった。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、ガス選択性を得るとともに、製造工程の増加を抑制することができるガスセンサ装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
本発明のガスセンサ装置は、酸素イオン伝導性の固体電解質体の表面に、電極材料として少なくとも金を含む検知電極と、少なくとも白金を含む参照電極とからなる電極対を備えるとともに、ヒータにより前記固体電解質体および前記電極対の温度が制御され、測定雰囲気中の特定ガスによって前記電極対に電位差が発生するガスセンサと、前記ヒータに供給する電力を調節することにより、前記電極対の温度を制御するとともに、前記ガスセンサに発生する電位差に基づいて前記特定ガスを検知する演算部と、が設けられたガスセンサ装置において、前記ガスセンサは複数備えられており、前記演算部は、前記ガスセンサの中で前記特定ガスのうちの第1成分に対する感度が高い第1温度に制御された第1ガスセンサの電極対に生じる電位差である第1出力と、前記特定ガスのうちの前記第1成分および第2成分に対する感度が高い第2温度に制御された第2ガスセンサの電極対に生じる電位差である第2出力と、に基づいて、前記第1成分および前記第2成分のいずれの成分に反応しているかを検出することを特徴とする。
本発明のガスセンサ装置によれば、第1ガスセンサの制御温度と、第2ガスセンサの制御温度とを異ならせることにより、第1ガスセンサおよび第2ガスセンサの構成が同一であっても特定ガスに含まれる第1成分および第2成分を選択検知することができる。つまり、本発明のガスセンサ装置のガスセンサは、構成が同一であっても制御温度が異なる場合には、ガス成分に対するガス感度が異なってくる(言い換えると、ガス感度の温度依存性がある。)。ガス感度の温度依存性はガス成分によって異なることから、複数のガスセンサの制御温度を異ならせることにより、ガスセンサ制御装置は異なるガス成分を選択検知することができる。
また、第1ガスセンサおよび第2ガスセンサの構成が同一とは、電極対を形成する検知電極の材料および膜厚が同一であり、参照電極の材料および膜厚が同一であることをいう。そのため、ガスセンサ装置に複数のガスセンサを用いるにあたり、同じ工程で第1ガスセンサおよび第2ガスセンサを製造することができ、ガスセンサ装置の製造工程を短縮することが可能となる。なお、複数のガスセンサの各電極の材料および膜厚が同一とは、完全同一に限定されず、製造バラツキや公差の範囲内で各電極の材料や膜厚が変動しているといった実質的に同一な状態についても、同一に含まれるものとする。
上記発明において前記第1温度および前記第2温度は400℃以上であり、かつ、前記第1温度および前記第2温度の温度差は少なくとも20℃であることが好ましい。
このように第1温度および第2温度を400℃以上に制御することにより、第1ガスセンサおよび第2ガスセンサのガス感度を第1成分および第2成分を良好に選択検知できる。さらに、第1温度と、第2温度との差を少なくとも20℃とすることにより、第1ガスセンサの第1出力と、第2ガスセンサの第2出力との差が大きくなり、ガスセンサ装置が第1成分および第2成分のいずれの成分に反応しているかを検出しやすくなる。
上記発明において前記第1成分、および前記第2成分の組み合わせは、アンモニア、および硫化水素またはトリメチルアミンの組み合わせ、アンモニア、およびメチルメルカプタンの組み合わせ、硫化水素またはトリメチルアミン、およびメチルメルカプタンの組み合わせのいずれかであることが好ましい。
このように第1成分をアンモニア、第2成分を硫化水素またはトリメチルアミンとする組み合わせ、第1成分をアンモニア、第2成分をメチルメルカプタンとする組み合わせ、第1成分を硫化水素またはトリメチルアミン、第2成分をメチルメルカプタンとする組み合わせのいずれかとすることにより、他のガス種を選択検出する場合と比較して、第1成分および第2成分の選択検知が容易となる。
上記発明において、複数の前記ガスセンサは、前記演算部により前記特定ガスのうちの前記第1成分、前記第2成分および第3成分に対する感度が高い第3温度に制御される第3ガスセンサを備え、前記演算部は、前記第3温度に制御された前記第3ガスセンサの電極対に生じる電位差である第3出力と、前記第1出力および前記第2出力と、に基づいて、前記第1成分、前記第2成分および前記第3成分のいずれの成分に反応しているかを検出することが好ましい。
このように第1ガスセンサの制御温度と、第2ガスセンサの制御温度と、第3ガスセンサの制御温度を異ならせることにより、第1ガスセンサ、第2ガスセンサおよび第3ガスセンサの構成が同一であっても特定ガスに含まれる第1成分、第2成分および第3成分を選択検知することができる。さらに、上述のように第1ガスセンサ、第2ガスセンサおよび第3ガスセンサにおける電極対を形成する検知電極の材料および膜厚が同一であり、参照電極の材料および膜厚が同一であるため、ガスセンサ装置の製造工程を短縮することが可能となる。なお、上記したように、複数のガスセンサの各電極の材料および膜圧が同一とは、完全同一に限定されず、製造バラツキや公差の範囲内で各電極の材料や膜厚が変動しているといった実質的に同一な状態についても、同一に含まれるものとする。
上記発明において前記第1温度、前記第2温度および前記第3温度は400℃以上であり、かつ、前記第1温度、前記第2温度および前記第3温度は、互いに20℃以上の差があることが好ましい。
このように第1温度、第2温度および第3温度を400℃以上に制御することにより、第1ガスセンサ、第2ガスセンサおよび第3ガスセンサのガス感度を第1成分、第2成分および第3成分を良好に選択検知できる。さらに、第1温度、第2温度および第3温度の間の温度差を少なくとも20℃とすることにより、第1出力、第2出力および第3出力の間の出力差が大きくなり、ガスセンサ装置が第1成分、第2成分および第3成分のいずれの成分に反応しているかを検出しやすくなる。
上記発明において前記第1成分、前記第2成分、および前記第3成分の組み合わせは、アンモニア、硫化水素またはトリメチルアミン、およびメチルメルカプタンの組み合わせであることが好ましい。
このように第1成分をアンモニア、第2成分を硫化水素またはトリメチルアミン、第3成分をメチルカプタンとすることにより、他のガス種を選択検出する場合と比較して、第1成分、第2成分および第3成分の選択検知が容易となる。
上記発明において前記固体電解質体は、少なくともイットリア安定化ジルコニアからなることが好ましい。
このように固体電解質体として、イットリア安定化ジルコニア(YSZ)を用いることにより、酸素イオン導電性に優れ高いセンサ出力を得ることができる。
本発明のガスセンサ装置によれば、同一構成の第1ガスセンサの制御温度と、第2ガスセンサの制御温度とを異ならせることにより、特定ガスに含まれる第1成分および第2成分を選択検知するガス選択性を得るとともに、同じ工程で第1ガスセンサおよび第2ガスセンサを製造することができるため、製造工程の増加を抑制することができるという効果を奏する。
本発明の一実施形態に係るガスセンサ装置の構成を説明する模式図である。 図1のガスセンサの構成を説明する模式図である。 図1のガスセンサ装置における選択検知を行う際の制御を説明するフローチャートである。 ガスセンサによる悪臭成分のガス感度評価の結果を説明するグラフである。 ガスセンサ装置による悪臭成分のガス感度評価の結果を説明するグラフである。
この発明の一実施形態に係るガスセンサ装置について、図1から図5を参照しながら説明する。本実施形態では、本発明のガスセンサ装置1を、測定雰囲気に含まれる悪臭成分(特定ガス)を選択検知するものに適用して説明する。具体的には、アンモニア(第1成分)、硫化水素またはトリメチルアミン(第2成分)、およびメチルメルカプタン(第3成分)を選択検知するものに適用して説明する。
ガスセンサ装置1は、図1に示すように、悪臭成分を検知する第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cと、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの温度を制御するとともに、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの出力に基づいて、アンモニア、硫化水素またはトリメチルアミン、およびメチルメルカプタンを選択検知するマイコン(演算部)20と、から主に構成されている。
第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10B、および第3ガスセンサ10Cは同一の構成を有しており(換言すれば、同一の材料で形成されると共に同一の寸法で設計されており)、マイコン20により制御される第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10B、第3ガスセンサ10Cにそれぞれ設けられるヒータの加熱温度が異なるものである。そのため、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10B、および第3ガスセンサ10Cの構成については、第1ガスセンサ10Aについてのみ説明し、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cについては説明を省略する。
第1ガスセンサ10Aは、図2に示すように、アルミナからなる絶縁基板11と、絶縁基板11の一方の面に配置された酸素イオン伝導性の固体電解質であるイットリア安定化ジルコニア(YSZ)からなる固体電解質体12と、固体電解質体12における絶縁基板11とは反対側の面である表面に配置された電極対13と、絶縁基板11における固体電解質体12とは反対側の面である裏面に配置されたヒータ16と、から主に構成されている。
電極対13は、検知電極14と参照電極15とから主に構成されている。検知電極14は、電極材として金(Au)を主体(最も多い含有成分)に構成されており、具体的には、Auおよび共素地としての酸化ジルコニウム(ZrO)から構成されている。検知電極14の厚みは、例えば24μmである。
参照電極15は、電極材として白金(Pt)を主体(最も多い含有成分)に構成されており、具体的には、Ptおよび共素地としての酸化ジルコニウム(ZrO)から構成されている。参照電極15の厚みは、例えば20μmである。さらに、図1に示すように検知電極14は、A/Dコンバータ17を介して出力がマイコン20に入力されるように構成され、その一方で、参照電極15は接地されている。
ヒータ16は、マイコン20から電力が供給されることにより熱を発生させ、電極対13が所望の温度(加熱温度)になるように制御するものである。本実施形態では、ヒータ16として公知のものを用いることができ、特にその種類を限定するものではないが、本実施形態ではPtを主体に構成された材料にてヒータ16が形成されている。
なお、本実施形態では、ヒータ16にはマイコン20から電力が供給される例に適用して説明するが、バッテリから電力が供給されていてもよく、電力を供給する相手を特に限定するものではない。
マイコン20は、CPU(中央演算ユニット)、ROM、RAM、入出力インタフェース等を有するマイクロコンピュータである。ROM等に記憶されている制御プログラムは、図1に示すように、CPUを演算処理部21として機能させるものであり、ROM等を記憶部22として機能させるものである。なお、マイコン20によるガスセンサ装置1の詳細な制御については後述する。
次に、本実施形態のガスセンサ装置1における製造方法、特に、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの製造方法について説明する。上述のように、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの構成は同一であるため、その製造方法についても同一である。
まず、絶縁基板11の固体電解質体12の形成位置に、例えばスクリーン印刷法を用いてYSZペーストが塗布され1000℃にて焼成される。これにより絶縁基板11の上に固体電解質体12が形成される。このように固体電解質体12として、イットリア安定化ジルコニア(YSZ)を用いることにより、酸素イオン導電性に優れ高いセンサ出力を得ることができる。なお、前述のYSZペーストは、YSZ粉末に、例えばバインダーを加えてペースト状としたものである。以下の他のペーストも、周知の同様な手法にて製造することができる。
次に、固体電解質体12の表面において、検知電極14の形成位置にAu/ZrOペースト(共素地としてZrOを含むAuペースト)が塗布され、参照電極15の形成位置にPt/ZrOペースト(共素地としてZrOを含むPtペースト)が塗布される。その後、1400℃にて焼き付けが行われることにより、検知電極14および参照電極15が形成される。
上述の工程により製造されたガスセンサ10(以下、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cを区別しない場合には、単に「ガスセンサ10」と表記する。)を、図1に示すようにA/Dコンバータ17およびマイコン20と接続することによりガスセンサ装置1が得られる。なお、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの間で、A/Dコンバータ17およびマイコン20への接続方法の違いはなく、同じ方法で接続されている。
次に、上記の構成からなるガスセンサ装置1における作用について図3から図5を参照しながら説明する。まず、図3を参照しながらガスセンサ装置1における悪臭成分の選択検知を行う際の制御について説明する。
選択検知の制御が開始されると、マイコン20は、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの温度制御を開始する(S10)。具体的には、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cのヒータ16へ電力の供給を開始し、各ガスセンサの温度をそれぞれ目標の温度に制御する処理を開始する。温度の制御方法については、公知の方法を用いることができ特に限定するものではないが、本実施形態では、各ヒータ16に供給する電力をPWM通電制御することにより、それぞれの目標の温度に制御するようにしている。
本実施形態では、第1ガスセンサ10Aを第1温度である575℃に制御し、第2ガスセンサ10Bを第2温度である500℃に制御し、第3ガスセンサ10Cを第3温度である450℃に制御する例に適用して説明する。これら第1温度から第3温度の値は、マイコン20の記憶部22に予め記憶されている。
その後、マイコン20は、S10の温度制御を開始してから、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの温度がそれぞれの目標温度である第1温度、第2温度および第3温度となるための一定時間を経過したか否かを判定する処理を行う(S11)。一定時間は、実験等と通じて予め求められた時間であり、マイコン20の記憶部22に予め記憶されている。一定時間を経過していないと判定された場合(NOの場合)には、再びS11の判定処理を行う。
一定時間が経過したと判定された場合(YESの場合)には、マイコン20は、第1ガスセンサ10Aの第1出力と、第2ガスセンサ10Bの第2出力と、第3ガスセンサ10Cの第3出力と、を取得する処理を行う(S12)。なお、第1出力は第1ガスセンサ10Aの電極対13に発生する電位差であり、第2出力は第2ガスセンサ10Bの電極対13に発生する電位差であり、第3出力は第3ガスセンサ10Cの電極対13に発生する電位差である。
その後、マイコン20は取得した第1出力から第3出力に基づいて、測定雰囲気に含まれる悪臭成分の含有を判定する処理を行う(S13)。具体的には、悪臭成分であるアンモニアと、硫化水素またはトリメチルアミンと、メチルメルカプタンの含有を選択検知する処理を行う。処理の具体的内容については、後述するガス感度の評価結果において説明する。
次に、ガスセンサ装置1で用いられているガスセンサ10単体による悪臭成分のガス感度評価について図4を参照しながら説明する。
ここでは、ガスセンサ10を電気炉内のガラスセル中に設置し、ガラスセルの中には、空気または検知対象ガスであり、悪臭成分でもあるアンモニア、トリメチルアミン、硫化水素、およびメチルメルカプタンがそれぞれ流通される。その際に、ヒータにより電極対13の制御温度を変えながら検知電極14と参照電極15との間の電位差(起電力)であるガスセンサ10の出力の測定を行っている。
なお、アンモニアの濃度は2.6ppmであり、トリメチルアミンの濃度は0.62ppmであり、硫化水素の濃度は0.9ppmであり、メチルメルカプタンの濃度は0.032ppmである。
図4は、上述のようにして測定されたガスセンサ10の出力を説明するグラフである。グラフにおける縦軸はガスセンサ10の出力であり、横軸は電極対13の制御温度である。トリメチルアミンによる出力は菱形(◇)、アンモニアによる出力は四角(□)、硫化水素による出力は三角(△)、メチルメルカプタンによる出力は丸(○)により示している。
図4によると、制御温度が575℃(第1温度)の近辺では、トリメチルアミン、硫化水素およびメチルメルカプタンの出力が低く、アンモニアの出力が高くなっていることが分かる。また制御温度が500℃(第2温度)の近辺では、メチルメルカプタンの出力が低く、トリメチルアミン、アンモニアおよび硫化水素の出力が高くなっていることが分かる。制御温度が450℃(第3温度)の近辺では、トリメチルアミン、アンモニア、硫化水素およびメチルメルカプタンについてそれぞれ出力が高くなっている。
次に、ガスセンサ装置1における悪臭成分のガス感度評価およびその結果について図5(a)および図5(b)を参照しながら説明する。
本評価では、ガスセンサ装置1の第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10B、および第3ガスセンサ10Cを、アンモニア、トリメチルアミン、メチルメルカプタンが混合された雰囲気中に曝している。ここでのアンモニアの濃度は2.6ppmであり、トリメチルアミンの濃度は0.62ppmであり、メチルメルカプタンの濃度は0.032ppmである。
図5(a)は、上述の雰囲気中に曝されたガスセンサ10の出力と電極対13の温度との関係を示すグラフであり、トリメチルアミンによる出力は菱形(◇)、アンモニアによる出力は四角(□)、メチルメルカプタンによる出力は丸(○)で示したものである。
図5(a)に示されているように、制御温度が575℃(第1温度)である第1ガスセンサ10Aは、トリメチルアミンおよびメチルメルカプタンのガス感度が低く、アンモニアのガス感度が高くなっている。制御温度が500℃(第2温度)である第2ガスセンサ10Bは、メチルメルカプタンのガス感度が低く、アンモニアおよびトリメチルアミンのガス感度が高くなっている。さらに、制御温度が450℃(第3温度)である第3ガスセンサ10Cは、トリメチルアミン、アンモニア、およびメチルメルカプタンのそれぞれに対してガス感度を有していることが分かる。
そのためマイコン20は、アンモニアのガス感度が高い第1ガスセンサ10Aの第1出力に基づくことにより、アンモニアの選択検知を行うことができる。また、アンモニアのガス感度が高い第1ガスセンサ10Aの第1出力と、アンモニアおよびトリメチルアミンのガス感度が高い第2ガスセンサ10Bの第2出力とに基づくことにより、トリメチルアミンの選択検知を行うことができる。具体的には、第2出力に含まれるアンモニアの影響を、第1出力を利用してキャンセルすることにより、トリメチルアミンの選択検知を行うことができる。
さらに、アンモニアのガス感度が高い第1ガスセンサ10Aの第1出力と、アンモニアおよびトリメチルアミンのガス感度が高い第2ガスセンサ10Bの第2出力と、アンモニア、トリメチルアミンおよびメチルメルカプタンのガス感度が高い第3ガスセンサ10Cの第3出力とに基づくことにより、メチルメルカプタンの選択検知を行うことができる。具体的には、第3出力に含まれるトリメチルアミンおよびメチルメルカプタンの影響を、第1出力および第2出力を利用してキャンセルすることにより、メチルメルカプタンの選択検知を行うことができる。
次に、ガスセンサ装置1の第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10B、および第3ガスセンサ10Cを、アンモニア、硫化水素、メチルメルカプタンが混合された雰囲気中に曝している例について説明する。ここでのアンモニアの濃度は2.6ppmであり、硫化水素の濃度は0.9ppmであり、メチルメルカプタンの濃度は0.032ppmである。
図5(b)は、上述の雰囲気中に曝されたガスセンサ10の出力と電極対13の温度との関係を示すグラフであり、アンモニアによる出力は四角(□)、硫化水素による出力は三角(△)、メチルメルカプタンによる出力は丸(○)で示したものである。
図5(b)に示されているように、制御温度が575℃(第1温度)である第1ガスセンサ10Aは、硫化水素およびメチルメルカプタンのガス感度が低く、アンモニアのガス感度が高くなっている。制御温度が500℃(第2温度)である第2ガスセンサ10Bは、メチルメルカプタンのガス感度が低く、アンモニアおよび硫化水素のガス感度が高くなっている。さらに、制御温度が450℃(第3温度)である第3ガスセンサ10Cは、アンモニア、硫化水素、およびメチルメルカプタンのそれぞれに対してガス感度を有していることが分かる。
そのためマイコン20は、図5(a)の場合と同様に、アンモニアのガス感度が高い第1ガスセンサ10Aの第1出力に基づくことにより、アンモニアの選択検知を行うことができる。また、アンモニアのガス感度が高い第1ガスセンサ10Aの第1出力と、アンモニアおよび硫化水素のガス感度が高い第2ガスセンサ10Bの第2出力とに基づくことにより、硫化水素の選択検知を行うことができる。
さらに、アンモニアのガス感度が高い第1ガスセンサ10Aの第1出力と、アンモニアおよび硫化水素のガス感度が高い第2ガスセンサ10Bの第2出力と、アンモニア、硫化水素およびメチルメルカプタンのガス感度が高い第3ガスセンサ10Cの第3出力とに基づくことにより、メチルメルカプタンの選択検知を行うことができる。
上記の構成のガスセンサ装置1によれば、第1ガスセンサ10Aの制御温度と、第2ガスセンサ10Bの制御温度と、第3ガスセンサ10Cの制御温度を異ならせることにより、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの構成が同一(完全同一または実質的に同一)であっても悪臭成分に含まれるアンモニア(第1成分)、硫化水素またはトリメチルアミン(第2成分)、およびメチルメルカプタン(第3成分)を選択検知することができる。つまり、本実施形態のガスセンサ装置1の第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cは、構成が同一であっても制御温度が異なる場合には、ガス成分に対するガス感度(出力挙動)が異なってくる(言い換えると、ガス感度の温度依存性がある。)。ガス感度の温度依存性はガス成分によって異なることから、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの制御温度を異ならせることにより、ガスセンサ装置1は異なるガス成分を選択検知することができる。
また、上述のように第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cにおける電極対13を形成する検知電極14の材料および膜厚が同一であり、参照電極15の材料および膜厚が同一であるため、ガスセンサ装置1の製造工程を短縮することが可能となる。
第1温度、第2温度および第3温度を400℃以上とすることにより、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cのガス感度を第1成分、第2成分および第3成分を良好に選択検知できる。さらに、第1温度、第2温度および第3温度の間の温度差を少なくとも20℃とすることにより、第1出力、第2出力および第3出力の間の出力差が大きくなり、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cが第1成分、第2成分および第3成分のいずれの成分に反応しているかを検出しやすくなる。
第1成分をアンモニア、第2成分を硫化水素またはトリメチルアミン、第3成分をメチルカプタンとすることにより、他のガス種を選択検出する場合と比較して、第1成分、第2成分および第3成分の選択検知が容易となる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記の実施の形態においては、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cの絶縁基板11にヒータ16が取り付けられ、一体になっている例に適用して説明しているが、ヒータ16は電極対13の温度を制御できればよいため一体に構成されていなくてもよい。
また、上記の実施形態では、第1ガスセンサ10A、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cを用いてアンモニア(第1成分)、硫化水素またはトリメチルアミン(第2成分)、およびメチルメルカプタン(第3成分)を選択検知する例に適用して説明したが、第1ガスセンサ10Aおよび第2ガスセンサ10Bによりアンモニア(第1成分)および硫化水素またはトリメチルアミン(第2成分)を選択検知する組合せ、第1ガスセンサ10Aおよび第3ガスセンサ10Cによりアンモニア(第1成分)およびメチルメルカプタン(第3成分)を選択検知する組合せ、第2ガスセンサ10Bおよび第3ガスセンサ10Cにより硫化水素またはトリメチルアミン(第2成分)およびメチルメルカプタン(第3成分)を選択検知する組み合わせで合ってもよく、特に限定するものではない。
1…ガスセンサ装置、10A…第1ガスセンサ、10B…第2ガスセンサ、10C…第3ガスセンサ、12…固体電解質体、13…電極対、14…検知電極、15…参照電極、16…ヒータ、20…マイコン(演算部)

Claims (7)

  1. 酸素イオン伝導性の固体電解質体の表面に、電極材料として少なくとも金を含む検知電極と、少なくとも白金を含む参照電極とからなる電極対を備えるとともに、ヒータにより前記固体電解質体および前記電極対の温度が制御され、測定雰囲気中の特定ガスによって前記電極対に電位差が発生するガスセンサと、
    前記ヒータに供給する電力を調節することにより、前記電極対の温度を制御するとともに、前記ガスセンサに発生する電位差に基づいて前記特定ガスを検知する演算部と、
    が設けられたガスセンサ装置において、
    前記ガスセンサは複数備えられており、
    前記演算部は、前記ガスセンサの中で前記特定ガスのうちの第1成分に対する感度が高い第1温度に制御された第1ガスセンサの電極対に生じる電位差である第1出力と、前記ガスセンサの中で前記特定ガスのうちの前記第1成分および第2成分に対する感度が高い第2温度に制御された第2ガスセンサの電極対に生じる電位差である第2出力と、に基づいて、前記第1成分および前記第2成分のいずれの成分に反応しているかを検出することを特徴とするガスセンサ装置。
  2. 前記第1温度および前記第2温度は400℃以上であり、かつ、前記第1温度および前記第2温度の温度差は少なくとも20℃であることを特徴とする請求項1記載のガスセンサ装置。
  3. 前記第1成分、および前記第2成分の組み合わせは、アンモニア、および硫化水素またはトリメチルアミンの組み合わせ、アンモニア、およびメチルメルカプタンの組み合わせ、硫化水素またはトリメチルアミン、およびメチルメルカプタンの組み合わせのいずれかであることを特徴とする請求項1または2に記載のガスセンサ装置。
  4. 複数の前記ガスセンサは、前記演算部により前記特定ガスのうちの前記第1成分、前記第2成分および前記第3成分に対する感度が高い第3温度に制御される第3ガスセンサを備え、前記演算部は、前記第3温度に制御された前記第3ガスセンサの電極対に生じる電位差である第3出力と、前記第1出力および前記第2出力と、に基づいて前記ガスセンサが前記第1成分、前記第2成分および前記第3成分のいずれの成分に反応しているかを検出することを特徴とする請求項1記載のガスセンサ装置。
  5. 前記第1温度、前記第2温度および前記第3温度は400℃以上であり、かつ、前記第1温度、前記第2温度および前記第3温度は、互いに20℃以上の差があることを特徴とする請求項3記載のガスセンサ装置。
  6. 前記第1成分、前記第2成分、および前記第3成分の組み合わせは、アンモニア、硫化水素またはトリメチルアミン、およびメチルメルカプタンの組み合わせであることを特徴とする請求項4または5に記載のガスセンサ装置。
  7. 前記固体電解質体は、少なくともイットリア安定化ジルコニアからなることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のガスセンサ装置。
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