JP2015058595A - 複合フィルムおよび太陽光反射用フィルムミラー - Google Patents

Abstract

【課題】砂塵等が付着し難く、砂塵等による耐傷性に優れ、また、付着した砂塵等の洗浄性に優れる複合フィルムおよび太陽光反射用フィルムミラーを提供する。
【解決手段】支持体と、表面被覆層とを有する複合フィルムであって、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である複合フィルム。
【選択図】図１

Description

本発明は、複合フィルムおよびこれを用いた太陽光反射用フィルムミラーに関する。

近年、石油、石炭、天然ガスに代表される化石燃料に代わる代替エネルギーの研究が盛んに行なわれている。特に、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーは、資源の枯渇、地球温暖化等の懸念がなく、クリーンなエネルギーとして注目されている。これらの中でも、太陽光を利用する太陽エネルギーは、安定供給が可能なエネルギーとして更なる開発が期待されている。

しかしながら一方で、太陽エネルギーにはエネルギー密度が低いという問題がある。この問題を解決するため、近年では、巨大な反射鏡を用いて太陽光を集光しようという試みがなされている。これまで、太陽光を集光するための反射鏡は、屋外に設置され、太陽光に起因する紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、ガラス製のものが用いられてきた。しかしながら、ガラス製の反射鏡は、耐候性に優れるものの、重量があり、破損しやすく、かつ、柔軟性に欠けるため、取り扱い性に改良の余地があるという問題があった。
また、ガラス製ミラーを用いる場合、輸送時に破損する問題や、ミラーを設置する架台に高い強度が要求されるため建設費がかさむといった問題があった。
このような問題を解決するために、近年では、ガラス製ミラーを樹脂製反射シート（フィルムミラー）に置き換えることが提案されている。

フィルムミラーを屋外環境に曝露すると砂塵等の汚染物質が付着し、反射性能が低下するという問題があった。
そこで、フィルムミラーの最表面を親水性にすることにより、汚れが付着しにくく、また、洗浄で汚れを落としやすくすることが提案されている。

例えば、特許文献１には、「銀反射層を有し、その表層側に設けられた樹脂基材上に、易接着層と親水性層を有したフィルムミラーであって、親水性層は（Ａ）親水性ポリマーと、（Ｂ）下記一般式（１）で示される金属アルコキシド化合物及び下記一般式（２）で示される金属アルコキシド化合物から選ばれる少なくともいずれかと、（Ｃ）コロイダルシリカとを含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
Ｚ−（ＯＲ^９）_４ （１）
Ａｌ−（ＯＲ^９）_３ （２）
（ＺはＳｉ、Ｔｉ又はＺｒを表す。Ｒ９はアルキル基又はアリール基を表す。）」が記載されている（［請求項１］）。

特開２０１２−８１６６号公報

本発明者らは、特許文献１に記載されたフィルムミラーについて検討したところ、親水性層をハードコートで形成しているため、柔軟性に欠け、ガラスに比べて傷が入りやすく耐傷性が十分でないことを明らかにした。

そこで、本発明は、砂塵等が付着し難く、砂塵等による耐傷性に優れ、また、付着した砂塵等の洗浄性に優れる複合フィルムおよび太陽光反射用フィルムミラーを提供することを課題とする。
なお、以下の説明において、砂塵等が付着し難い特性を「砂塵難付着性」ともいい、砂塵等による耐傷性を「砂塵耐傷性」ともいい、砂塵等の洗浄性を「砂塵洗浄性」ともいう。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下であることにより、砂塵難付着性、砂塵洗浄性および砂塵耐傷性に優れることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 支持体と、表面被覆層とを有する複合フィルムであって、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である複合フィルム。
［２］ 表面被覆層は、少なくとも１種類以上のウレタン（メタ）アクリレートモノマーの重合体を含有する［１］に記載の複合フィルム。
［３］ 表面被覆層は、ポリロタキサン構造を有するモノマーの重合体を、少なくとも１種類以上含有する［１］または［２］に記載の複合フィルム。
［４］ 表面被覆層は、換算光量９５ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ露光による光硬化によって形成されたものである［１］〜［３］のいずれかに記載の複合フィルム。
［５］ 表面被覆層は、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤と、α−アミノケトン系光重合開始剤を含む組成物を硬化させて形成されたものである［１］〜［４］のいずれかに記載の複合フィルム。

［６］ 支持体と、金属反射層と、表面被覆層とを有する太陽光反射用フィルムミラーであって、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である太陽光反射用フィルムミラー。
［７］ 表面被覆層は、少なくとも１種類以上のウレタン（メタ）アクリレートモノマーの重合体を含有する［６］に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
［８］ 表面被覆層は、ポリロタキサン構造を有するモノマーの重合体を、少なくとも１種類以上含有する［６］または［７］に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
［９］ 表面被覆層は、換算光量９５ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ露光による光硬化によって形成されたものである［６］〜［８］のいずれかに記載の太陽光反射用フィルムミラー。
［１０］ 金属反射層と表面被覆層との間に、紫外線吸収層を有する［６］〜［９］のいずれかに記載の太陽光反射用フィルムミラー。
［１１］ 紫外線吸収層は、３４０ｎｍにおける吸光度をＡ、３６５ｎｍにおける吸光度をＢ、４００ｎｍにおける吸光度をＣとしたときのＢ／Ａが０．５以下であり、且つＣ／Ａが０．１以下である紫外線吸収剤を少なくとも１種類、含有する［１０］に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
［１２］ 表面被覆層は、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤と、α−アミノケトン系光重合開始剤を含む組成物を硬化させて形成されたものである［６］〜［１１］のいずれかに記載の太陽光反射用フィルムミラー。

以下に説明するように、本発明によれば、砂塵等が付着し難く、砂塵等による耐傷性に優れ、また、付着した砂塵等の洗浄性に優れる複合フィルムおよび太陽光反射用フィルムミラーを提供することができる。
本発明は、砂塵難付着性および砂塵耐傷性に優れ、耐久性も良好となるという特性を有しているため、特に、熱、風雨、砂塵等に長期間晒される太陽光反射用フィルムミラーとして好適に用いることができる。

本発明の複合フィルム（第１態様）の実施態様の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の太陽光反射用フィルムミラー（第２態様）の実施態様の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の太陽光反射用フィルムミラー（第２態様）の実施態様の他の一例を模式的に示す断面図である。 本発明のフィルムミラーの好適な一例を模式的に示す断面図である。

〔第１態様〕
本発明の第１の態様に係る複合フィルムは、支持体と表面被覆層とを有する複合フィルム（積層体）であって、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である複合フィルムである。
次に、本発明の第１の態様に係る複合フィルムの概要について、図１を用いて説明する。

図１は、本発明の複合フィルム（第１態様）の実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
図１に示す複合フィルム１０は、支持体１と、表面被覆層２とを有するものである。
なお、第１の態様に係る複合フィルムの層構成はこの図面に特に限定されるものではなく、例えば、必要に応じて、層間にプライマー層や接着層を設けていてもよく、被着体側にバックコート層を設けていてもよい。

〔第２態様〕
本発明の第２の態様に係る太陽光反射用フィルムミラー（以下、単に「フィルムミラー」とも略す）は、支持体と金属反射層と表面被覆層とを有する太陽光反射用フィルムミラーであって、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である太陽光反射用フィルムミラーである。すなわち、第１の態様に係る複合フィルムに、更に金属反射層を設け、上記表面被覆層を最表層とするフィルムミラー用の積層体である。
ここで、「最表層」とは、最も光入射側に設けられる層のことをいう。
次に、本発明の第２の態様に係る太陽光反射用フィルムミラーの概要について、図２および図３を用いて説明する。

図２および図３は、本発明の太陽光反射用フィルムミラー（第２態様）の実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
図２に示すフィルムミラー２０は、支持体１、金属反射層３および表面被覆層２をこの順で有する積層体である。
また、図３に示すフィルムミラー２０は、金属反射層３、支持体１および表面被覆層２をこの順で有する積層体である。
なお、第２の態様に積層体の層構成はこれらの図面に特に限定されるものではなく、例えば、必要に応じて、各層間にプライマー層や接着層を設けていてもよく、被着体側にバックコート層を設けていてもよい。
例えば、図２に示す態様においては、金属反射層３と表面被覆層２との間に金属反射層３の表面を保護する保護層を有してもよく、図４に示すように、金属反射層３と表面被覆層２との間に紫外線吸収層４を有してもよい。
また、図３に示す態様においては、金属反射層３の支持体１と反対側の表面に金属反射層３を保護する被覆層（図示せず）を有していてもよい。

次に、本発明の第１態様に係る複合フィルムおよび第２態様に係る太陽光反射用フィルムミラーの各構成について、材料、寸法等を説明する。

＜支持体＞
本発明の複合フィルムが有する支持体は特に限定されず、その構成材料としては、例えば、フレキシブル性や軽量化の観点から、ガラスエポキシ、ポリエステル、ポリイミド、熱硬化型ポリフェニレンエーテル、ポリアミド、ポリアラミド、液晶ポリマー等をフィルム状に成形した樹脂フィルム；ガラスフィルム；紙；等が挙げられる。なかでも、取扱い性に優れる点で、樹脂フィルム（樹脂支持体）が好ましい。
樹脂フィルム中の樹脂材料としては、フィルム状に成型できる樹脂であればすべて使用することができるが、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン（ＢＴ）樹脂、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）樹脂、テトラフルオロエチレン樹脂、液晶樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルスルホン、トリアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリアセチレン等が好適に挙げられる。中でも、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂であるのが好ましい。

本発明においては、支持体の形状としては、平面、拡散面、凹面、凸面等の各種のフィルム基材として求められる形状であれば、いずれの形状であってもよい。
また、支持体の厚みとしては、生産時の作業性や成型の観点から、１０μｍ〜５ｍｍ程度が好ましく、２０μｍ〜１ｍｍであるのがより好ましく、２５μｍ〜５００μｍであるのが更に好ましい。

また、本発明においては、支持体は、支持体の上に後述する任意の樹脂層を形成しやすくするために、あらかじめ表面処理を施してもよい。
表面処理としては、ＵＶ照射、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、火炎処理などの表面を分解活性化させる処理；ヒドラジン、Ｎ−メチルピロリドン、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液のようなアルカリ性溶液での処理；硫酸、塩酸、硝酸のような酸性溶液での処理；などが挙げられる。
また、支持体表面の汚れを落として清浄にする処理としては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトン等の有機溶剤による処理；付着したゴミを落とすための水洗処理；等が挙げられる。
これらの表面処理は複数種を組み合わせて行ってもよい。

更に、本発明においては、後述する金属反射層を設けてフィルムミラーとして用いる場合、反射能を向上させる観点から、支持体の表面粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

＜表面被覆層＞
本発明の積層体が有する表面被覆層は、弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である。

（回復弾性率）
表面被覆層の弾性回復率は、ＩＳＯ １４５７７−１（計装化押し込み硬さ）に準拠したナノインデンテーション法により、最大荷重１ｍＮ（荷重は１０秒間かけて最大荷重とする）で測定したものである。具体的には、「最大押し込み深さ（ｈｍａｘ）」と「荷重除荷後の押し込み深さ（ｈｆ）」とを測定し、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／（ｈｍａｘ）から算出されるものである。
最大押し込み深さ（ｈｍａｘ）は最大荷重保持時の押し込み深さである。
荷重除去後の押し込み深さ（ｈｆ）は完全に荷重を除去してから１０秒後の押し込み深さ（圧痕深さ）である。
例えば、超微小硬度計（ＤＵＨ−２０１Ｓ、株式会社島津製作所社製）を用いて測定することができる。

（表面硬度）
表面被覆層の表面硬度は、ＩＳＯ １４５７７−１（計装化押し込み硬さ）に準拠したナノインデンテーション法により最大荷重１ｍＮ（荷重は１０秒間かけて最大荷重とする）で測定したマルテンス硬さをいう。
例えば、超微小硬度計（ＤＵＨ−２０１Ｓ、株式会社島津製作所社製）を用いて測定することができる。

（水接触角）
表面被覆層の表面の水接触角は、ＪＩＳ−Ｒ３２５７に基づいて、接触角計を用いて、表面被覆層の表面に水を滴下して測定した水に対する静的な接触角をいう。
例えば、接触角計（ＤＭ−５００、協和界面科学株式会社製）を用いて測定することができる。

本発明の複合フィルムおよび太陽光反射用フィルムミラーは、このような表面被覆層を有するため、砂塵耐傷性、砂塵難付着性および洗浄性に優れ、耐久性も良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、表面被覆層表面の硬さが１００Ｎ／ｍｍ²以下であることにより、砂塵等に対する耐衝撃性が良好となり、かつ、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であることにより、砂塵等に対する微小領域における傷が自己修復しているためと考えられる。
さらに、表面の水接触角が４０°以下であることにより、表面に水分子の層ができ、帯電性が軽減されるため、砂塵等が付着し難く、また、洗浄の際には、洗浄水が表面に濡れ広がるため、洗浄性が良好となる。

本発明においては、複合フィルムおよびフィルムミラーの砂塵耐傷性がより良好となり、耐久性もより良好となる理由から、上記表面被覆層の硬さは、１〜７０Ｎ／ｍｍ²であるのが好ましく、１〜５０Ｎ／ｍｍ²であるのがより好ましい。
また、同様の理由から、上記表面被覆層の弾性回復率は、６２．０％超であるのが好ましく、７０〜１００％であるのがより好ましく、８０〜１００％であるのがさらに好ましい。

また、本発明においては、砂塵難付着性および洗浄性がより良好となる理由から、上記表面被覆層の水接触角は、１〜４０°であるのが好ましく、１〜２０°であるのがより好ましい。

また、本発明においては、上記表面被覆層の厚さは特に限定されないが、複合フィルムおよびフィルムミラーの砂塵耐傷性がより良好となり、耐久性もより良好となる理由から、１〜５０μｍであるのが好ましく、３〜３０μｍであるのがより好ましい。

（形成材料）
上記表面被覆層は、弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、表面の水接触角が４０°以下である層であれば、その形成材料は特に限定されない。
具体的には、弾性回復率および表面硬度を満たす樹脂材料に、親水化剤を添加して、表面の水接触角を下げることにより、弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、表面の水接触角が４０°以下である層を形成できる。

（樹脂材料）
上記樹脂材料としては、具体的には、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、ポリロタキサンなどの光硬化性樹脂；ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性樹脂；ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリロタキサン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、上記光硬化性樹脂における「（メタ）アクリレート」との表現は、アクリレートまたはメタクリレートを表す表現である。

これらのうち、光硬化性樹脂を用いるのが好ましく、複合フィルム（フィルムミラー）の硬度を調整しやすい理由から、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂であるのがより好ましい。
上記ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、例えば、ポリエステルポリオール（Ａ）とポリイソシアネート（Ｂ）とを反応させてイソシアネート基末端ウレタンプレポリマーを合成した後に、水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を反応させて得られる生成物；ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂とイソシアネートとの重合体；等が好適に挙げられる。

ここで、上記ポリエステルポリオール（Ａ）は、多塩基酸と多価アルコールとを反応させて得られるものであり、その具体例としては、ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ）、ポリオキシプロピレンジオール（ＰＰＧ）、ポリオキシエチレンジオール等が挙げられる。
また、上記ポリイソシアネート（Ｂ）は、分子中にイソシアネート基を２個以上有するものであれば特に限定されず、その具体例としては、２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等が挙げられる。
また、上記水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）としては、具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。
上述したポリエステルポリオール（Ａ）、ポリイソシアネート（Ｂ）および水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を用いて合成されるウレタン（メタ）アクリレート樹脂としては、市販品を用いることができ、具体的には、日本合成社製の紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等を用いることができる。

一方、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂とイソシアネートとの重合体としては、特開２０１２−２５８２１号公報の［請求項２］および［請求項３］ならびに［０１４２］〜［０１４８］に記載された方法により調製することができる。

また、上記ポリロタキサンは、環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に貫かれ、複数の環状分子が直鎖状分子を包接してなる擬ポリロタキサンの両末端（直鎖状分子の両末端）に、環状分子が遊離しないようにブロック基を配置した分子複合体である。
なお、本願において、ポリロタキサンとは、上記分子複合体に加えて、上記分子複合体同士が環状分子部分で架橋された架橋体、および、上記分子複合体と他のモノマーやポリマーとが重合した重合体を含む概念である。

（親水化剤）
上記親水化剤としては、表面被覆層の水接触角を４０°以下にできれば、特に限定はない。
ここで、本発明において、親水化剤とは、表面被覆層塗布液に溶解あるいは分散させることで、塗布・硬化後の表面被覆層表面の水接触角を低下させるものとする。

ここで、上記樹脂材料と親水化剤との組み合わせによっては、親水化剤がブリードアウトしてしまう場合がある。従って、上記樹脂材料と組み合わせてもブリードアウトしない親水化剤を用いることが好ましい。
上記樹脂材料との組み合わせに好適な親水化剤としては、例えば、パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５（ＤＩＣ株式会社製）、エレクトロストリッパーＭＥ−２０（花王株式会社製）、アーカードＴ−５０（ライオン株式会社製）、アーカードＣ−５０（ライオン株式会社製）等が挙げられる。

例えば、上記樹脂材料として、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂を用いる場合には、親水化剤として、パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５（ＤＩＣ株式会社製）、エレクトロストリッパーＭＥ−２０（花王株式会社製）、アーカードＴ−５０（ライオン株式会社製）、アーカードＣ−５０（ライオン株式会社製）等を用いることが好ましい。
また、上記樹脂材料として、重合性ポリロタキサンを用いる場合には、親水化剤として、パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５（ＤＩＣ株式会社製）、エレクトロストリッパーＭＥ−２０（花王株式会社製）等を用いることが好ましい。

（形成方法）
本発明においては、上記表面被覆層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上述した樹脂材料とともに親水化剤を含有する硬化性組成物（表面被覆層形成用組成物（塗布液））を上記支持体または後述する金属反射層（あるいは後述する紫外線吸収層）の表面に塗布した後、紫外線照射による光硬化や加熱による加熱硬化する方法等が挙げられる。
上記硬化性組成物の塗布方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング方法が使用できる。

ここで、上記表面被覆層は、換算光量９５ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ露光による光硬化によって形成されたものであることが好ましい。
表面被覆層を、換算光量９５ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ露光による光硬化によって形成することにより、短時間で硬化でき、生産性を向上させることができる点で好ましい。

（溶剤・添加剤）
ここで、上記硬化性組成物は、上述した成分以外に、溶剤や各種添加剤を含有していてもよい。
上記溶剤としては、例えば、炭化水素類、ハロゲン化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類等の溶剤を用いることができ、具体的には、キシレン、ジブチルエーテルを好適に用いることができる。
また、上記添加剤としては、例えば、重合開始剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、シランカップリング等が挙げられる。

（重合開始剤）
上記硬化性組成物に添加する重合開始剤としては、特に限定はなく、樹脂材料に応じて種々の公知の重合開始剤を利用可能である。
ここで、本発明においては、上記表面被覆層は、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤と、α−アミノケトン系光重合開始剤とを含む硬化性組成物を硬化させて形成することが好ましい。
表面での硬化性の良いα−ヒドロキシケトン系光重合開始剤と、内部での硬化性の良いα−アミノケトン系光重合開始剤とを用いることにより、表面被覆層の全体が均一に硬化するので、表面被覆層の弾性回復率が均一になり、耐傷性がより良好になる。

（レベリング剤）
上記硬化性組成物に添加するレベリング剤としては、非フッ素系の界面活性剤を用いることが好ましい。
一般的に、組成物を塗布する際のレベリング剤としては、フッ素系の界面活性剤が用いられる。しかしながら、フッ素系の界面活性剤を用いると、フッ素が層の表面に偏在化するため、親水化剤を添加しても、表面の水接触角が下がらず、大きくなってしまう。
これに対して、硬化性組成物に添加するレベリング剤として、非フッ素系の界面活性剤を用いることにより、硬化性組成物の塗布を容易にすると共に、表面被覆層の表面の水接触角が大きくなることを防止できる。
あるいは、本発明においては、上記硬化性組成物にレベリング剤を添加しないことも好ましい。
その他の添加剤については後に詳述する。

＜金属反射層＞
第２の態様で用いる金属反射層は、最表層である表面被覆層側からから入射する光を反射する機能を有する層である。
金属反射層は、上記支持体上に、直接設けられるか、或いは、所望により設けられる後述の樹脂層（樹脂中間層）を介して設けられる。
金属反射層の形成材料は、可視光および赤外光を反射する金属材料であれば、特に限定されず、例えば、銀、アルミニウム等が挙げられる。光の反射性能の観点からは、銀、または、銀を含む合金が好ましい。銀または銀を含む合金は、複合フィルムの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域とは、４００〜７００ｎｍの波長領域を意味する。ここで、入射角とは層面に対して垂直な線に対する角度を意味する。
銀合金としては、金属反射層の耐久性が向上する点から、金属反射層の反射特性に影響がない程度において、他の金属、例えば、金、パラジウム、銅、ニッケル、鉄、ガリウム、インジウム、チタン、およびビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属を含んでいてもよい。銀合金としては、銀と、金、銅、ニッケル、鉄、パラジウムから選ばれる１種以上の金属との合金が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。

例えば、金属反射層が銀合金からなる層である場合、銀の含有量は、金属反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０〜９９．８原子％が好ましい。また、他の金属の含有量は、耐久性の点から０．２〜１０原子％が好ましい。

金属反射層の表面粗さ（Ｒａ）は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。この範囲内とすることで、複合フィルムの反射率が向上し、太陽光を効率良く集光することが可能となる。

本発明においては、上記金属反射層の厚さは特に限定されないが、反射率等の観点から、５０〜５００ｎｍが好ましく、１００〜３００ｎｍであるのが好ましい。
また、金属反射層の形状は特に限定されず、樹脂基材の主面の全てを覆う層であっても、一部を覆う層であってもよい。

（金属反射層の形成方法）
金属反射層の形成方法は、特に限定されず、湿式法または乾式法のいずれを採用してもよい。湿式法としては、例えば、電気めっき法が挙げられる。乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。

以下、金属反射層を電気めっき法により形成する場合について、説明する。電気めっき法としては、従来公知の方法を用いることができる。後述するめっき下塗りポリマー層を支持体上に形成する場合、めっき下塗りポリマー層に含まれる金属粒子が電極としての機能を有するため、めっき下塗りポリマー層に対して電気めっきを行なうことにより、支持体との密着性に優れた金属反射層を形成することができる。めっきに用いられる金属化合物としては、例えば、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀等の銀化合物が挙げられる。これらの中でも、環境影響や平滑性の観点から、メタンスルホン酸銀が好ましい。

なお、めっき下塗りポリマー層と金属反射層との間には、例えば、銅、ニッケル、クロム、鉄等の他の金属を含有する金属層を下地金属層として有していてもよい。
また、電気めっき法により得られる金属反射層の膜厚は、めっき浴中に含まれる金属濃度、または、電流密度を調整することで制御することができる。適切な厚みの下地金属層を入れることで、表面平滑化による反射率向上やピンホール低減が可能となる。
金属反射層の膜厚は、ピンホールなく反射膜を形成する観点、および、金属反射層の表面に光を散乱させるような凹凸を作らないという観点から、０．０５〜２．０μｍが好ましく、０．０８〜０．５μｍがより好ましい。

また、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を利用して真空蒸着等の乾式めっきを行なうことにより、金属反射層を形成してもよい。この方法によれば、めっき下塗りポリマー層の表面が金属で覆われているため、通常の蒸着等よりも密着性がよく、かつ、熱に対しても強い金属反射層を形成することができる。

電気めっきの後、金属反射層の反射性能や耐久性を向上させるために、金属反射層を強酸や強アルカリ等で処理してもよい。また、金属反射層表面に、無機皮膜や金属酸化皮膜を形成してもよい。また、金属反射層表面に、変色防止剤を含有する変色防止剤層を設けてもよい。変色防止剤層は、金属反射層の変色防止に機能する。変色防止剤としては、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系等の変色防止剤が挙げられる。変色防止剤層は、大別して、金属を吸着する吸着基を有するものや、酸化防止剤が好ましく用いられる。

＜樹脂層＞
本発明のフィルムミラーは、樹脂製の支持体上に金属反射層を有するが、樹脂製支持体と金属反射層との密着性を向上させる目的で、両者の間に任意の樹脂層（樹脂中間層）を有していてもよい。
樹脂層としては、金属を接着しやすくするための接着層や、金属反射層をめっき法により形成する場合に有用なめっき下塗りポリマー層などが挙げられ、これらは単層構成であっても２層以上の複数層から構成されるものであってもよい。

（接着層）
接着層は、支持体と金属反射層との接着性を向上させる層である。また、接着層上に後述するめっき下塗りポリマー層を設ける場合には、接着層が支持体とめっき下塗りポリマー層との接着性を向上させることで、結果として、支持体と金属反射層との接着性がより向上する。

接着層は、隣接する支持体との接着性の観点から、支持体を構成する樹脂と同じ樹脂、または、支持体を構成する樹脂と親和性を有する樹脂を含んでいることが好ましい。接着層に含まれる樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂でも熱可塑性樹脂でもまたそれらの混合物でもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。２種以上の樹脂の併用は、それぞれの欠点が補うことでより優れた効果を発現させる目的で行われる。

接着層を、めっき下塗りポリマー層と支持体との間に設ける場合には、後述するめっき下塗りポリマー層に含まれる、金属前駆体と相互作用する官能基および重合性基を有する高分子化合物との間で、相互作用し得る活性点を発生する活性種を含有することが好ましい。このような接着層は、例えば、ラジカル重合開始剤を含有する重合開始層や、重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる重合開始層が好ましい。より具体的には、接着層は、高分子化合物とラジカル重合開始剤とを含む層や、重合性化合物とラジカル重合開始剤とを含む層、または、重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層が好ましい。重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層としては、例えば、特開２００５−３０７１４０号公報の段落［００１８］〜［００７８］に記載の重合開始部位を骨格中に有するポリイミドが挙げられる。

さらに、接着層を形成する際に、層内での架橋を進めるために重合性の二重結合を有する化合物、具体的には、アクリレート化合物、メタクリレート化合物を用いてもよく、特に、多官能のものを用いることが好ましい。その他、重合性の二重結合を有する化合物として、熱硬化性樹脂、または、熱可塑性樹脂、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等に対し、その一部を、メタクリル酸やアクリル酸等を用いて、（メタ）アクリル化させた樹脂を用いてもよい。
接着層には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、接着性付与剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤を１種または２種以上添加してもよい。
接着層の厚みは、一般に、０．１〜１０μｍの範囲であることが好ましく、０．２〜５μｍの範囲であることがより好ましい。

（めっき下塗りポリマー層）
金属反射層を金属めっきにより作製する場合、金属反射層と支持体との間にめっき下塗りポリマー層を設けることが好ましい。めっき下塗りポリマー層は、上述しためっき（電気めっきなど）を行う際に、電極として作用する成分（例えば、金属粒子）を含む層である。
めっき下塗りポリマー層を形成するために用いられるめっき下塗りポリマーは、重合性基、および、金属前駆体と相互作用する官能基（以後、適宜「相互作用性基」と称する。）を少なくとも有する。めっき下塗りポリマーの主骨格としては、アクリルポリマー、ポリエーテル、アクリルアミド、ポリアミド、ポリイミド、アクリルポリマー、ポリエステル等が好ましいが、アクリルポリマーがより好ましい。
めっき下塗りポリマーは、目的に応じて、重合性基を含む構成単位、および、相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。重合性基を含む構成単位、および、相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位（以下、適宜、他の構成単位と称する。）を含むことによって、めっき下塗りポリマー形成用組成物としたときに、水または有機溶剤への溶解性に優れ、均一なめっき下塗りポリマー層を形成することができる。

めっき下塗りポリマーの好ましい態様として、相互作用性基として酸性基と、重合性基とを側鎖に有するアクリルポリマーが挙げられる。以下、めっき下塗りポリマーに含まれる重合性基、相互作用性基、およびその特性等について詳述する。

（重合性基）
めっき下塗りポリマーが有する重合性基は、エネルギー付与により、ポリマー同士、または、ポリマーと支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）との間で化学結合を形成し得る官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基等が挙げられる。なかでも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。なかでも、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、または、メタクリルアミド基が好ましく、中でも、ラジカル重合反応性および合成汎用性の点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基またはメタクリルアミド基が好ましく、耐アルカリ性の観点からアクリルアミド基またはメタクリルアミド基が更に好ましい。なかでも、アクリルポリマーに導入される重合性基としては、（メタ）アクリレート基または（メタ）アクリルアミド基等の（メタ）アクリル基、カルボン酸のビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基等の各種重合性基が好ましい。

（相互作用性基）
めっき下塗りポリマーが有する相互作用性基は、金属前駆体と相互作用する官能基（例えば、配位性基、金属イオン吸着性基等）であり、金属前駆体と静電相互作用を形成可能な官能基、または、金属前駆体と配位形成可能な含窒素官能基、含硫黄官能基、含酸素官能基等を使用することができる。
相互作用性基としてより具体的には、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、トリアゾール環、イミダゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アルキルアミン構造を含む基、シアノ基、シアネート基（Ｒ−Ｏ−ＣＮ）等の含窒素官能基；エーテル基、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ−オキシド構造を含む基、Ｓ−オキシド構造を含む基、Ｎ−ヒドロキシ構造を含む基等の含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、スルホキシド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル構造を含む基等の含硫黄官能基；ホスフォート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基等の含リン官能基；塩素、臭素等のハロゲン原子を含む基等が挙げられ、塩構造をとり得る官能基においては、それらの塩も使用することができる。
相互作用性基としては、非解離性官能基であっても、イオン性極性基であってもよく、これらが同時に含まれていてもよいが、イオン性極性基が好ましい。

イオン性極性基からなる相互作用性基としては、上記相互作用性基の中でも、めっき下塗りポリマーの支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）に対する密着性の観点から、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、または、ボロン酸基が挙げられ、なかでも、適度な酸性（他の官能基を分解しない）を有する点、他の官能基に影響を与える懸念が少ない点、金属反射層との親和性に優れる点、および、原料が入手容易であるという点から、カルボン酸基が特に好ましい。

カルボン酸基等のイオン性極性基は、酸性基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることにより、めっき下塗りポリマーに導入することができる。めっき下塗りポリマーの好適な構成については、ラジカル重合性基と非解離性官能基からなる相互作用性基を有するポリマーとして、特開２００９−００７５４０号公報の段落［０１０６］〜［０１１２］に記載のポリマー等が使用できる。また、ラジカル重合性基とイオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２００６−１３５２７１号公報の段落［００６５］〜［００７０］に記載のポリマー等が使用できる。ラジカル重合性基と、非解離性官能基からなる相互作用性基と、イオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２０１０−２４８４６４号公報の段落［００１０］〜［０１２８］、特開２０１０−８４１９６号公報、及び米国特許出願公開２０１０−０８０９６４号明細書の段落［００３０］〜［０１０８］に記載のポリマー等が使用できる。

なお、後述する金属前駆体は、めっき下塗りポリマー層形成後に付与してもよく、また、めっき下塗りポリマー層形成用組成物に当初から含有させてもよい。

めっき下塗りポリマー層は、エネルギー付与に対する感度を高めるために、光重合開始剤、熱重合開始剤等のラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、一般に公知のものが使用される。但し、エネルギー付与により、めっき下塗りポリマーが支持体や接着層と相互作用する活性点を生成し得る場合、即ち、上述したポリマー骨格中に重合開始部位を有するポリマーを用いるような場合には、これらのラジカル重合開始剤を添加しなくてもよい。
めっき下塗りポリマー層形成用組成物に含有させるラジカル重合開始剤の量は、めっき下塗りポリマー層形成用組成物の構成に応じて選択されるが、一般的には、めっき下塗りポリマー層形成用組成物中に、０．０５〜３０質量％程度であることが好ましく、０．１〜１０．０質量％程度であることがより好ましい。

めっき下塗りポリマー層は、めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物を支持体上（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層上）に塗布し、エネルギーを付与することにより形成することができる。支持体上にめっき下塗りポリマー層を直接設ける場合には、予め支持体の表面にエネルギーを付与する等の易接着処理を施しておくことが好ましい。支持体上にめっき下塗りポリマー層を設ける方法は特に限定されず、めっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物中に支持体を浸漬する方法や、めっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物を支持体上に塗布する方法などが挙げられる。得られるめっき下塗りポリマー層の厚みを制御しやすい点から、めっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物を支持体上に塗布する方法が好ましい。

めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布量は、後述する金属前駆体との充分な相互作用形成性の観点から、固形分換算で０．０５〜１０ｇ／ｍ²が好ましく、特に０．３〜５ｇ／ｍ²がより好ましい。支持体等へ塗布しためっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物の塗布液は、２０〜６０℃で１秒から２時間乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２時間乾燥することが好ましく、２０〜６０℃で１秒〜２０分乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２０分乾燥することがより好ましい。

めっき下塗りポリマー層形成用組成物は、上記支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）と接触させた後、エネルギーを付与することで、エネルギー付与領域においてポリマーが有する重合性基同士、または、ポリマーが有する重合性基と上記支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）との間に相互作用が形成され、支持体上（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層上）に固定化されためっき下塗りポリマー層が形成される。これにより、支持体とめっき下塗りポリマー層とが強固に密着する。

エネルギー付与方法としては、例えば、加熱や露光が挙げられる。露光によるエネルギー付与方法としては、具体的には、ＵＶランプ、可視光線等による光照射が可能である。露光で使用する光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等がある。また、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用される。露光パワーは、重合を容易に進行させるため、また、ポリマーの分解を抑制するため、あるいは、ポリマーが良好な相互作用を形成するため、といった観点から１０〜８０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であることが好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であることがより好ましい。なお、露光は、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行ない、酸素濃度を６００ｐｐｍ以下、好ましくは４００ｐｐｍ以下に抑制した雰囲気中で行なってもよい。

加熱によるエネルギー付与は、例えば、一般の熱ヒートローラー、ラミネーター、ホットスタンプ、電熱板、サーマルヘッド、レーザー、送風乾燥機、オーブン、ホットプレート、赤外線乾燥機、加熱ドラム等により行なうことができる。また、加熱によりエネルギー付与を行なう場合、その温度は、重合を容易に進行させるため、また、支持体の熱変性を抑制するため、２０〜２００℃の範囲であることが好ましく、４０〜１２０℃の範囲であることがより好ましい。

エネルギー付与後は、更に適宜、未反応のポリマーを除去する工程を設けてもよい。めっき下塗りポリマー層の膜厚は、特に限定されないが、支持体等との密着性の観点から、０．０５〜１０μｍであることが好ましく、０．３〜５μｍであることがより好ましい。また、上記方法により得られるめっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。

めっき下塗りポリマー層は、還元された金属粒子を含む。めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子は、めっき下塗りポリマー層に金属前駆体を付与し、この金属前駆体を還元して、金属前駆体を還元された金属粒子とすることによって得られる。金属前駆体をめっき下塗りポリマー層に付与すると、上記相互作用性基に、金属前駆体が相互作用により付着する。
本発明において用いられる金属前駆体は、還元反応により金属に変化させることで電極として機能するものであれば、特に限定されない。また、金属前駆体としては、金属反射層の形成において、めっきの電極として機能するものが好ましく挙げられる。そのため、金属前駆体は、金属に還元させることで電極として機能するものが好ましい。具体的には、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどの金属イオンが用いられる。金属前駆体である金属イオンは、めっき下塗りポリマーを含む組成物（めっき下塗りポリマー層形成用組成物）に含まれており、支持体上に層を形成した後、還元反応によって０価の金属粒子となる。金属前駆体である金属イオンは、金属塩としてめっき下塗りポリマー層形成用組成物に含まれることが好ましい。
金属イオンとしては、配位可能な官能基の種類、数、および、触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ｐｄイオンが好ましい。Ａｇイオンとしては、以下に示す銀化合物が解離したものを好適に用いることができる。銀化合物の具体例としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硝酸銀が好ましい。Ｃｕイオンを用いる場合、以下に示すような銅化合物が解離したものを好適に用いることができる。銅化合物の具体例としては、硝酸銅、酢酸銅、硫酸銅、シアン化銅、チオシアン酸銅、塩化銅、臭化銅、クロム酸銅、クロラニル酸銅、サリチル酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミド酸銅、ｐ−トルエンスルホン酸銅が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硫酸銅が好ましい。

金属前駆体は、分散液または溶液（金属前駆体液）として、めっき下塗りポリマー層に付与されることが好ましい。付与の方法としては、例えば、めっき下塗りポリマー層を備える支持体上に金属前駆体液を塗布する方法、めっき下塗りポリマー層を備える支持体を金属前駆体液に浸漬する方法などが挙げられる。
金属前駆体のめっき下塗りポリマー層への付与に金属前駆体液を用いる場合、金属前駆体の粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、１〜１００ｎｍがより好ましく、１〜６０ｎｍであることが更に好ましい。この粒子径とすることで、還元された金属粒子の粒子径を所望の大きさに制御することができる。

めっき下塗りポリマー層に付与した金属前駆体である金属イオンは、金属活性化液（還元液）により還元する。金属活性化液は、金属前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と、該還元剤を活性化するためのｐＨ調製剤からなる。金属活性化液全体に対する還元剤の濃度は、０．０５〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましい。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸等の還元剤を用いることが可能である。特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。

金属活性化液全体に対するｐＨ調整剤の濃度は、０．０５〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。
ｐＨ調整剤としては、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用することが可能である。還元時の温度は、１０〜１００℃が好ましく、２０〜７０℃がより好ましい。これら濃度や温度範囲は、還元の際の、金属前駆体の粒子径、ポリマー層の表面粗さ、導電性（表面抵抗値）、還元液の劣化の観点からこの範囲であることが好ましい。

還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面抵抗値は、０．００１〜１００Ω／□であることが好ましく、０．０３〜５０Ω／□であることがより好ましい。この範囲内であると、均一および平滑にめっき面が形成され反射率が良好となる。
また、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
このようにして得られた金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層は、上述した金属反射層を湿式法であるめっき法により形成する際に好適に用いられ、めっき下塗りポリマー層を用いてめっき法により形成された金属反射層は、支持体との密着性と表面平滑性に優れる。

＜保護層＞
本発明のフィルムミラーでは、太陽光、雨水、砂塵等による金属反射層、樹脂製支持体、あるいは、所望により設けられるめっき下塗りポリマー層の劣化や破損を防止し、鏡面性の安定化を図るために、金属反射層の入射光側の表面上に任意の保護層を設けていてもよい。
保護層の形成に用いられる樹脂材料としては、フィルム又は層を形成しうる樹脂であって、形成されたフィルム又は層の強度、耐久性、空気や水分の遮断性、さらには、保護層と隣接する層、例えば、金属反射層や表面被覆層等との密着性に加え、透明性、特にフィルムミラーが必要とする波長の光に対する高い透過性を有する樹脂が好ましい。
保護層を形成する形成する材料としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂などの光硬化性樹脂；ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性樹脂；ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリロタキサン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

これらのうち、ウレタン結合を有する樹脂であるのが好ましく、具体的には、光硬化性樹脂を用いるのがより好ましく、フィルムミラーの硬度を調整しやすい理由から、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂であるのが更に好ましい。上記ウレタン（メタ）アクリレート樹脂としては、例えば、ポリエステルポリオール（Ａ）とポリイソシアネート（Ｂ）とを反応させてイソシアネート基末端ウレタンプレポリマーを合成した後に、水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を反応させて得られる生成物等が好適に挙げられる。

ここで、上記ポリエステルポリオール（Ａ）は、多塩基酸と多価アルコールとを反応させて得られるものであり、その具体例としては、ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ）、ポリオキシプロピレンジオール（ＰＰＧ）、ポリオキシエチレンジオール等が挙げられる。
また、上記ポリイソシアネート（Ｂ）は、分子中にイソシアネート基を２個以上有するものであれば特に限定されず、その具体例としては、２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等が挙げられる。
また、上記水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）としては、具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上述したポリエステルポリオール（Ａ）、ポリイソシアネート（Ｂ）および水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を用いて合成されるウレタン（メタ）アクリレート樹脂としては、市販品を用いることができ、具体的には、日本合成社製の紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等や、ＤＩＣ社製のポリマー型アクリレート、例えばユニディックＶ−６８４０、ユニディックＶ−６８４１、ユニディックＷＨＶ−６４９、ユニディックＥＫＳ−６７５等を用いることができる。

その他、保護層に用いることのできる樹脂としては、例えば、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルフォン（ポリエーテルスルフォンも含む）系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、エチレンビニルアルコール樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合体、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリアミド、フッ素系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。これらのなかでも、保護層と金属反射層との密着性の観点から、保護層に含有される樹脂としては、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合体から選ばれる１種以上の樹脂が好ましい。

保護層の厚みは特に制限されないが、砂塵耐傷性および耐砂付着性がより良好となる理由から、０．１μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、５μｍ以上であることがさらに好ましく、１０μｍ以上であることが特に好ましい。上限は特に制限されないが、通常、１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましい。

保護層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上述したポリビニルアセタール樹脂や後述する溶媒、添加剤等を含有する保護層形成用組成物を上述した金属反射層の表面に塗布した後、加熱による乾燥や、紫外線照射による硬化させる方法などが挙げられる。
上記保護層形成用組成物の塗布方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング方法が使用できる。

保護層形成用組成物は、溶媒や各種添加剤を含有していてもよい。
保護層形成用組成物に使用される溶媒は特に限定されず、例えば、水；メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール系溶媒；酢酸などの酸；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル系溶媒；ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのカーボネート系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；エーテル系溶媒；グリコール系溶媒；アミン系溶媒；チオール系溶媒；ハロゲン系溶媒；等が挙げられる。
この中でも、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、カーボネート系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、具体的には、アセトン、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルカーボネート、トルエンが好ましい。
密着性に優れた保護層を均一に形成するという観点からは、保護層形成用組成物の固形分濃度は、１〜３０質量％の範囲であることが好ましい。

保護層形成用組成物は、更に架橋剤を含有してもよい。架橋剤を含有することで、保護層中に架橋構造が形成されることにより、強度がより向上し、さらに、隣接する金属反射層との密着性がより向上するなどの利点を有することになる。架橋剤としては、保護層を構成する樹脂との相関により選択することができ、例えば、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メラミン化合物、ビスビニルスルオン化合物などが挙げられ、効果の観点からは、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、およびエポキシ化合物からなる群より選ばれ少なくとも１種の架橋剤が好ましい。
保護層形成用組成物に使用されるその他の添加剤については、後に詳述する。

＜その他の機能層＞
本発明に係るフィルムミラーおよび複合フィルムは、前述の層構成に加えて、所望の用途に合わせて、紫外線吸収層、紫外線反射層、ガスバリア層、粘着剤層、支持体裏面保護層、白色層等の他の機能層を設置しても良い。

（紫外線吸収層）
本発明に係るフィルムミラーは、金属反射層と表面被覆層との間に、紫外線吸収層を有することが好ましい。
金属反射層と表面被覆層との間に紫外線吸収層を有することにより、樹脂材料や金属反射層の紫外線による劣化を防止できる。

（紫外線吸収剤）
上記紫外線吸収層が含有する紫外線吸収剤には特に限定はなく、公知の紫外線吸収剤が各種利用可能である。
なお、紫外線をより好適に吸収し、樹脂材料や金属反射層の紫外線による劣化をより好適に防止できる点で、また、樹脂保護層形成時の硬化を阻害しない点で、上記紫外線吸収層が含有する紫外線吸収剤は、（３６５ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．５以下、かつ、（４００ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．１以下であるのが好ましい。

具体的には、紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ヒンダードアミン系、シアノアクリレート系等の紫外線吸収剤や、酸化チタン等の無機粒子型の紫外線吸収剤等が挙げられ、こられを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。

＜添加剤＞
本発明においては、上述した保護層、支持体（特に樹脂支持体）、表面被覆層、樹脂層（接着層、めっき下塗りポリマー層）、および、他の機能層（以下、これらの層および支持体をまとめて「機能層」とも略す。）は、機能層または機能層を形成する組成物に、必要に応じて、例えば、光重合開始剤、帯電防止剤、表面調整剤（例えばレベリング剤、フッ素系防汚添加剤など）、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、可塑剤、ラジカル補足剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、シランカップリング剤などの添加剤を含有していてもよい。

（表面調整剤）
表面調整剤は、上述した機能層において、表面平滑性や防汚性を付与する観点から、機能層を形成する組成物に任意に添加することができる成分である。
表面調整剤として一般的に使用される物質としては、例えば、ポリアルキルアクリレートなどのポリアクリレート系ポリマー；ポリアルキルビニルエーテルなどのポリビニルエーテル系ポリマー；ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル、ポリエステル、アラルキルなどが導入された有機変性ポリシロキサンなどのシリコーン系ポリマー；これらのポリマーにフッ素原子を含有するもの；等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
フッ素原子を有する表面調整剤としては、例えば、フッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。特に、フッ素系表面調整剤を含んでなる膜（層）においては、膜表面の表面エネルギーが下がることで撥水・撥油性の表面を成し、膜表面に防汚性を付与することができる。
具体的な商品としては、例えば、サーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（いずれも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（いずれもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（いずれも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（いずれもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」、「Ｆ−７８０−Ｆ」、「ＲＳ−７５」、「ＲＳ−７２−Ｋ」（いずれもＤＩＣ社製）、ＢＹＫ３４０（ビックケミー・ジャパン社製）、「ＺＸ−０４９」、「ＺＸ−００１」、「ＺＸ−０１７」（何れも富士化成工業社製）等を挙げることができる。
なお、前述のとおり、表面被覆層には、フッ素系の表面調整剤は添加しないのが好ましい。

（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、特に限定はなく、上記の紫外線吸収剤が各種利用可能である。

（光安定剤）
光安定剤は、光（主に紫外線）による酸化劣化を防止する観点から、機能層を形成する組成物に任意に添加することができる成分である。
光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾエート系光安定剤などが好ましく、中でも、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）が好ましい。光安定剤は１種または２種以上を併用することができる。
商業的に入手可能なヒンダードアミン光安定剤としては、例えば、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物である光安定剤として、「ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２」（チバ・ジャパン社製）；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物とＮ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミンとの１対１の反応生成物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １１９」（チバ・ジャパン社製）；ジブチルアミン・１，３−トリアジン・Ｎ， Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−１，６−へキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ２０２０」（チバ・ジャパン社製）；ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝へキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ９４４」（チバ・ジャパン社製）；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートとメチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケートとの混合物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ７６５」（チバ・ジャパン社製）；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートである光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０」（チバ・ジャパン社製）；デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１ −（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステル（１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシド）とオクタンとの反応生成物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １２３ 」（チバ・ジャパン社製）；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートである光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １４４」（チバ・ジャパン社製）；シクロへキサンと過酸化Ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの反応生成物と２−アミノエタノールとの反応生成物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １５２」（チバ・ジャパン社製）；ビス（１，２，２，６， ６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートとメチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケートとの混合物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ２９２」（チバ・ジャパン社製）；等が挙げられる。

（酸化防止剤）
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤等が挙げられる。

フェノール系酸化防止剤としては、具体的には、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’ ，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。

チオール系酸化防止剤としては、具体的には、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等が挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。

＜フィルムミラーの利用＞
本発明のフィルムミラーは太陽光の集光用として好適に用いることができる。その応用態様としては、例えば、太陽光反射板への適用が挙げられる。樹脂、金属、又はセラミックのいずれかからなる基板や枠体に、本発明のフィルムミラーを固定化することで、フィルムミラーによる鏡面を作成し、太陽光反射板を作成することができる。このようにして作成された複数のミラーユニットを配置して太陽光を効率的に集光することが好ましい。前記ミラーユニットを太陽の日周運動に追尾させる太陽光追尾システムと、を備えることで、より効率的な太陽光の集光を実現できる。
また、本発明のフィルムミラーを採光用ミラーとして使用してもよい。本発明のフィルムミラーは柔軟性を有するため、曲率を有する表面への追従性がよいので、そのような表面上に設置することも好ましい。

＜複合フィルムの利用＞
本発明の複合フィルムは、自動車ボディ用・自動車ガラス用の保護フィルム、太陽電池用の保護フィルム、光学フィルム用の保護フィルムなど屋外環境に曝露されるものを保護するフィルムとして用いることができる。また、温室用のフィルム等、屋外環境に曝露されて利用されるフィルムとして用いることができる。

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。

＜実施例１＞
［フィルムミラーの作製］
支持体上に下記工程により電気めっきにて銀含有金属反射層を設け、この金属反射層上に紫外線吸収層を形成し、さらに、紫外線吸収層上に表面被覆層を設けて太陽光反射用フィルムミラーを作製した。

（銀反射層が形成されたＰＥＴフィルムの作製）
下記構造のアクリルポリマー１（２２．０２質量部）、１−メトキシ−２−プロパノール（７２．７３質量部）、および、シクロヘキサノン（４．７４質量部）の混合溶液に、界面活性剤（Ｆ−７８０−Ｆ、固形分３０％、ＤＩＣ社製）（０．１６重量部）、および、光重合開始剤（エサキュアＫＴＯ−４６、ランベルディー社製）（０．３５質量部）を添加し、撹拌することにより、めっき下塗りポリマー層形成用塗布液を調製した。

次いで、ＰＥＴフィルム（Ａ４３００、東洋紡社製）上に、調製した上記めっき下塗りポリマー層形成用塗布液を、バーコート法により塗布し、２５℃にて５分間乾燥し、次いで８０℃にて５分間乾燥して塗膜を得た。
上記塗膜に対して、三永電機製のＵＶ露光機（型番：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）を用いて、２５４ｎｍの波長で６００ｍＪ／ｃｍ²の積算露光量にて照射を行い、めっき下塗りポリマー層（厚み：０．５５μｍ）を形成した。
その後、上記めっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを１ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液中に５分間浸漬し、めっき下塗りポリマー層から未反応のポリマーを除去した。
次いで、めっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを純水で洗浄し、さらに風乾した。

（金属反射層の形成）
次に、上記めっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを１ｗｔ％硝酸銀水溶液中に５分間浸漬し、次いで純水で洗浄、風乾することで、銀イオンを付与しためっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記銀イオンを付与しためっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを、０．１４ｗｔ％のＮａＯＨと０．２５ｗｔ％のホルマリンとを含むアルカリ水溶液に１分間浸漬し、その後純水で洗浄し、風乾することで、めっき下塗りポリマー層表面近傍に還元銀層（膜厚約２０ｎｍ）が形成され、還元銀層付きＰＥＴフィルムを得た。
次に、上記還元銀層付きＰＥＴフィルムに対して、以下の電気めっき処理を行い、還元銀層上に厚み５０ｎｍの銀層を有する銀層付きＰＥＴフィルムを得た。
電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（大和化成社製）を用い、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ７．８に調整した。還元銀層付きＰＥＴフィルムを電気めっき液に浸漬し、０．３３Ａ／ｄｍ²にて１５秒間めっきし、その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、風乾した。

得られた銀層付きＰＥＴフィルムを、チオ尿素水溶液（チオ尿素：１００質量ｐｐｍ）に６０秒間浸漬することにより、銀層の表面を処理を行った。表面処理後に純水で洗浄し、風乾した。

次に、表面処理後の銀層に対して、以下の電気めっき処理を行い、表面処理後の銀層上に厚み７５ｎｍの銀層をさらに形成し、銀反射層を得た。
電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（大和化成社製）を用い、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ７．８に調整した。表面処理後の銀層付きＰＥＴフィルムを、電気銀めっき液に浸漬し、０．５Ａ／ｄｍ²にて１５秒間めっきし、その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、風乾した。
さらに、酸化皮膜を除去するために、電気めっき後処理として、ダインシルバーＡＣＣ（大和化成社製）の１０質量％水溶液（メタンスルホン酸：６質量％）に９０秒間浸漬した。その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、風乾した。

このようにして、銀反射層が形成されたＰＥＴフィルムを得た。形成された銀層の表面の算術平均粗さＲａを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、３．４ｎｍであった。

〔紫外線吸収層の形成〕
（紫外線吸収層塗布液ＵＶ−１の調製）
紫外線吸収層塗布液ＵＶ−１として、樹脂バインダ（エスレックＢＬ−１、積水化学工業株式会社製）（１４．４８質量％）、紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ製）（１．４５質量％）、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、ＢＡＳＦ製）（０．０３質量％）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ株式会社製、固形分３０％）（０．１４質量％）、メチルエチルケトン（５８．９０質量％）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（２０．００質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。
ここで、紫外線吸収剤であるＴＩＮＵＶＩＮ４０５は、（３６５ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．２であり、かつ、（４００ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．０である。

（紫外線吸収層の形成）
得られた紫外線吸収層塗布液ＵＶ−１を、上記銀含有金属反射層上に、乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥して、紫外線吸収層を形成した。

〔表面被覆層の形成〕
（表面被覆層塗布液ＴＣ−１の調製）
表面被覆層塗布液ＴＣ−１として、樹脂材料（パンデックスＧＷ３２５０（ウレタンアクリレート）、ＤＩＣ株式会社製、固形分９０％）（４３．２６質量％）、親水化剤（パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５、ＤＩＣ株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（０．８５質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ製）（０．４２質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

（表面被覆層の形成）
得られた表面被覆層塗布液ＴＣ−１を、上記紫外線吸収層上に、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（三永電機製：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）により、２５４ｎｍの波長において１００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線で紫外線露光を行い、表面被覆層を形成し、フィルムミラーを作製した。

＜実施例２＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−１に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−２を用いた以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−２の調製）
樹脂材料として、以下の重合性ポリロタキサンＡを用いた以外は、表面被覆層塗布液ＴＣ−１と同様とした。すなわち、表面被覆層塗布液ＴＣ−２として、樹脂材料（重合性ポリロタキサンＡ）（４３．２６質量％）、親水化剤（パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５、ＤＩＣ株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（０．８５質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ製）（０．４２質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

（重合性ポリロタキサンＡ）
１００ｍｌの三角フラスコにポリエチレングリコール（平均分子量２０，０００）４ｇおよび乾燥塩化メチレン２０ｍｌを入れてポリエチレングリコールを溶解した。この溶液をアルゴン雰囲気下におき、１，１’−カルボニルジイミダゾール０．８ｇを加え、引き続きアルゴン雰囲気下、室温（２０℃）で６時間、攪拌、反応させた。
上記で得られた反応物を、高速攪拌したジエチルエーテル３００ｍｌに注いだ。１０分間静置後、沈殿物を有する液を１０，０００ｒｐｍで５分間、遠心分離した。沈殿物を取り出し、４０℃で３時間真空乾燥した。
得られた生成物を塩化メチレン２０ｍｌに溶解した。この液をエチレンジアミン１０ｍｌに３時間かけて滴下し、滴下後４０分間攪拌した。得られた反応物をロータリーエバポレーターにかけ塩化メチレンを除去し、その後、水５０ｍｌに溶解し、透析チューブ（分画分子量８，０００）に入れ、水中で３日間透析した。得られた透析物をロータリーエバポレーターで乾燥し、さらにこの乾燥物を塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、ジエチルエーテル１８０ｍｌで再沈させた。沈殿物を有する液を１００，０００ｒｐｍで５分間、遠心分離し、４０℃で２時間真空乾燥して、ポリエチレングリコールビスアミン（数平均分子量２万）２．８３ｇを得た。

上記ポリエチレングリコールビスアミン４．５ｇとα−シクロデキストリン１８．０ｇとを水１５０ｍＬに加え、８０℃に加熱して溶解させた。その溶液を冷却し５℃で１６時間静置した。生成した白いペースト状の沈殿を分取、乾燥した。
乾燥物を、２，４−ジニトロフルオロベンゼン１２．０ｇとジメチルホルムアミド５０ｇとの混合溶液に加えて室温で５時間攪拌した。その反応混合物にジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）２００ｍＬを加えて溶解した後、水３７５０ｍＬに注いで析出物を分取した。析出物を２５０ｍＬのＤＭＳＯに再溶解した後、再び３５００ｍＬの０．１％食塩水へ注いで析出物を分取した。その析出物を水とメタノールで各３回ずつ洗浄後、５０℃で１２時間真空乾燥することで、ポリエチレングリコールビスアミンがα−シクロデキストリンに串刺し状に包接され、かつ両末端アミノ基に２，４−ジニトロフェニル基が結合したポリロタキサン２．０ｇを得た。得られたポリロタキサンをポリロタキサンａ１とする。

得られたポリロタキサンａ１について紫外光吸収測定及び¹Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、α−シクロデキストリンの包接量を算出したところ、包接量は７２個であった。
具体的には、紫外光吸収測定では、合成した包接化合物および２，４−ジニトロアニリンそれぞれの３６０ｎｍにおけるモル吸光係数を測定することで、シクロデキストリンの包接量を算出した。また、¹Ｈ−ＮＭＲ測定では、ポリエチレングリコール部分の水素原子とシクロデキストリン部分の水素原子の積分比から算出した。

上記ポリロタキサンａ１（１ｇ）を塩化リチウム／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８％溶液５０ｇに溶解させた。そこに無水酢酸６．７ｇ、ピリジン５．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１００ｍｇを加え、室温にて一晩攪拌した。反応溶液をメタノールに流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離した。分離した固体を乾燥した後、アセトンに溶解させた。溶液を水に流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離し乾燥させることで、シクロデキストリンの水酸基の一部がアセチル基で修飾されたポリロタキサン（１．２ｇ）を得た。得られたポリロタキサンをポリロタキサンａ２とする。

ポリロタキサンａ２の¹Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、アセチル基の導入量（修飾度）を算出したところ、７５％であった。

上記ポリロタキサンａ２（１ｇ）を塩化リチウム／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８％溶液５０ｇに溶解させた。そこにアクリル酸クロライド５．９ｇ、ピリジン５．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１００ｍｇを加え、室温にて二晩攪拌した。反応溶液をメタノールに流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離した。分離した固体を乾燥した後、アセトンに溶解させた。溶液を水に流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離し乾燥させることで、シクロデキストリンの水酸基がアクリロイル基およびアセチル基で修飾されたポリロタキサン（０．８ｇ）を得た。得られたポリロタキサンを重合性（架橋性）ポリロタキサンＡとする。

重合性ポリロタキサンＡの¹Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、アクリロイル基およびアセチル基の導入量（修飾度）を算出したところ、８７％であった。すなわち、アクリロイル基の導入量（修飾度）は１２％である。

＜実施例３＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−１に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−３を用いた以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−３の調製）
重合開始剤を１種類とした以外は、表面被覆層塗布液ＴＣ−１と同様とした。すなわち、表面被覆層塗布液ＴＣ−３として、樹脂材料（パンデックスＧＷ３２５０、ＤＩＣ株式会社製、固形分９０％）（４３．２６質量％）、親水化剤（パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５、ＤＩＣ株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（１．２７質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜実施例４＞
紫外線吸収層塗布液ＵＶ−１に代えて、下記の紫外線吸収層塗布液ＵＶ−２を用いた以外は、実施例３と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（紫外線吸収層塗布液ＵＶ−２の調製）
紫外線吸収剤として、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０（ＢＡＳＦ製）を用いた以外は、紫外線吸収層塗布液ＵＶ−１と同様とした。すなわち、紫外線吸収層塗布液ＵＶ−２として、樹脂バインダ（エスレックＢＬ−１、積水化学工業株式会社製）（１４．４８質量％）、紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＢＡＳＦ製）（１．４５質量％）、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、ＢＡＳＦ製）（０．０３質量％）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ株式会社製、固形分３０％）（０．１４質量％）、メチルエチルケトン（５８．９０質量％）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（２０．００質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。
ここで、紫外線吸収剤であるＴＩＮＵＶＩＮ４６０は、（３６５ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．７であり、（４００ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．０である。

＜実施例５＞
紫外線吸収層を有さない以外は、実施例３と同様にして、フィルムミラーを作製した。すなわち、金属反射層上に上記表面被覆層を形成し、フィルムミラーを作製した。

＜実施例６＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−３に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−４を用いて、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１３０℃で２０分間乾燥・硬化することで表面被覆層を形成した以外は、実施例５と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−４の調製）
重合開始剤として、Ｖ−６０（ＡＩＢＮ）（和光純薬工業株式会社製）を用いた以外は、表面被覆層塗布液ＴＣ−３と同様とした。すなわち、表面被覆層塗布液ＴＣ−３として、樹脂材料（パンデックスＧＷ３２５０、ＤＩＣ株式会社製、固形分９０％）（４３．２６質量％）、親水化剤（パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５、ＤＩＣ株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｖ−８０（ＡＩＢＮ）、和光純薬工業株式会社製）（１．２７質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜実施例７＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−１に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−５を用いた以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−５の調製）
親水化剤としてエレクトロストリッパーＭＥ−２０（花王株式会社製）を用いた以外は、表面被覆層塗布液ＴＣ−１と同様とした。すなわち、表面被覆層塗布液ＴＣ−５として、樹脂材料（パンデックスＧＷ３２５０、ＤＩＣ株式会社製、固形分９０％）（４３．２６質量％）、親水化剤（エレクトロストリッパーＭＥ−２０、花王株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（０．８５質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ製）（０．４２質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜実施例８＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−１に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−６を用いた以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−６の調製）
表面被覆層塗布液ＴＣ−６として、樹脂材料（パンデックスＥＸＰ．ＤＸ−４０（ウレタンアクリレート）、ＤＩＣ株式会社製、固形分９０％）（４３．２６質量％）、親水化剤（パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５、ＤＩＣ株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（０．８５質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ製）（０．４２質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜実施例９＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−１に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−７を用いた以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−７の調製）
界面活性剤として、フッ素系界面活性剤を用いた以外は、表面被覆層塗布液ＴＣ−１と同様とした。すなわち、表面被覆層塗布液ＴＣ−７として、樹脂材料（パンデックスＥＸＰ．ＤＸ−４０、ＤＩＣ株式会社製、固形分９０％）（４３．０４質量％）、親水化剤（パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５、ＤＩＣ株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（０．８５質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ製）（０．４２質量％）、フッ素系界面活性剤（メガファックＲＳ７５、ＤＩＣ株式会社製、固形分４０％）（０．５３質量％）、ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜比較例１＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−３に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−８を用いて、表面被覆層を自己修復性がないハードコートとした以外は、実施例５と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−８の調製）
表面被覆層塗布液ＴＣ−８として、樹脂材料（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬株式会社製）（４３．２６質量％）、親水化剤（パンデックスＥＸＰ．ＨＸＬＶ−０５、ＤＩＣ株式会社製）（２．１２質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（１．２７質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜比較例２＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−３に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−９を用いて、表面被覆層を自己修復性がないハードコートとし、親水性を有さない構成とした以外は、実施例５と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−９の調製）
表面被覆層塗布液ＴＣ−９として、樹脂材料（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬株式会社製）（４５．３８質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（１．２７質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜比較例３＞
表面被覆層塗布液ＴＣ−１に代えて、下記の表面被覆層塗布液ＴＣ−１０を用いて、親水性を有さない構成とした以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。

（表面被覆層塗布液ＴＣ−１０の調製）
表面被覆層塗布液ＴＣ−１０として、樹脂材料（パンデックスＧＷ３２５０、ＤＩＣ株式会社製、固形分９０％）（４５．３８質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ製）（０．８５質量％）、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ製）（０．４２質量％）、非フッ素系界面活性剤（ニューコール２３０２、日本乳化剤株式会社製）（０．０１質量％）、メチルイソブチルケトン（４８．３４質量％）、シクロヘキサノン（５．００質量％）の混合溶液を調製した。

＜実施例１０＞
［複合フィルムの作製］
支持体上に表面被覆層を設けて複合フィルムを作製した。

〔表面被覆層の形成〕
支持体としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡製、コスモシャインＡ−４３００、厚さ：２５０μｍ）を用いた。支持体の一方の面に、表面被覆層塗布液ＴＣ−３を、乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（三永電機製：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）により、２５４ｎｍの波長において５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線で紫外線露光を行い、表面被覆層を形成し、複合フィルムを作製した。
各フィルムミラーおよび複合フィルムの処方を表１に示す。

〔性能評価〕
作製した各フィルムミラーおよび複合フィルムについて、表面被覆層の弾性回復率、表面硬度および水接触角を測定した。
また、作製した各フィルムミラーおよび複合フィルムについて、耐久性、耐傷性、耐砂付着性、洗浄性および反射性を以下に示す方法により評価した。

＜表面硬度・弾性回復率＞
表面被覆層の表面硬度（マルテンス硬さ）は、超微小硬度計（ＤＵＨ−２０１Ｓ、株式会社島津製作所社製）を用いて測定した。
また、室温下、荷重１ｍＮ、１０秒間の条件で試料片に押し込まれた圧子の最大押し込み深さ（ｈｍａｘ）および除荷重後（１０秒後）の押し込み深さ（ｈｆ）を測定し、これらの値の差として弾性回復量（ｈｍａｘ−ｈｆ）を算出し、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘから弾性回復率を算出した。
なお、表面硬度、弾性回復率における表面とは、測定深度（約１０ｎｍ）までの部分をいう。

＜水接触角＞
接触角計（ＤＭ−５００、協和界面科学株式会社製）を用いて、表面被覆層表面に純水を０．６μＬ滴下することによって、水接触角を測定した。

＜反射性＞
各フィルムミラーについて、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ−３１００（株式会社島津製作所製）を用いて、波長２８０ｎｍから波長１７００ｎｍの範囲の反射率を１ｎｍ間隔で測定し、得られた反射率のスペクトルをＲs(λ)として表した（λ：波長）。地表（エアマス１．５）における太陽光の基準放射照度スペクトルＳｉは、ASTMG173-03により定義されており、波長２８０ｎｍから波長１７００ｎｍまでの１ｎｍおきのＳｉをＳｉ（λ）として表した際、太陽光エネルギー反射率（Ｒｔｏｔａｌ）を下記式で定義して算出した。
なお、Ｒｔｏｔａｌは太陽光の各波長における照射強度を加味した、実効的な太陽光エネルギーの反射効率を意味する。

＜耐久性＞
各フィルムミラーについて、キセノンランプ耐光性試験機（ＡＴＬＡＳ社製、Ｃｉ５０００、パワー：１８０Ｗ、Ｂｌａｃｋ Ｐａｎｅｌ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：８３℃）内に配置して、温度５５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で６０００時間放置した後、フィルムミラーの太陽光エネルギー反射率Ｒｔｏｔａｌを測定し、フィルムミラーの反射率の低下（ΔＲｔｏｔａｌ＝放置前のＲｔｏｔａｌ（％）−放置後のＲｔｏｔａｌ（％））を評価した。なお、反射率は、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ−３１００（株式会社島津製作所社製）を用いて、上記と同様の方法で測定し、下記の評価基準で評価した。実用上、ΔＲｔｏｔａｌはＡ〜Ｂが許容範囲である。
（評価基準）
Ａ：反射率の低下が１％未満である。
Ｂ：反射率の低下が１％以上３％未満である。
Ｃ：反射率の低下が３％以上である。

＜耐傷性・耐砂付着性・洗浄性＞
ＪＩＳ Ｈ ８５０３（１９８９年）に記載された「砂落とし磨耗試験方法」に準じて砂塵試験を行った。
具体的には、作製した実施例、比較例の各フィルムミラーおよび複合フィルムを３ｃｍ角に切り出し（工程Ｔ０とする）、４５度の角度からＳｉＯ₂粒子が衝突するようにガードナー式落砂磨耗試験機（ＳＤ−１、スガ試験機株式会社製）に固定した後、３２０ｇのＳｉＯ₂粒子（粒径：１５０μｍ）を１００ｃｍの高さから自由落下させて衝突させた（工程Ｔ１とする）。その後、試料に対して高圧水洗浄を行い（工程Ｔ２とする）、次いで純水中で超音波洗浄によって付着した粒子を完全に取り除いた（工程Ｔ３とする）。このとき各工程で、Ｙ（ＳＣＥ）／Ｙ（ＳＣＩ）（以下、「Ｈ」とする）を測定した。
各工程間におけるＨ（Ｙ（ＳＣＥ）／Ｙ（ＳＣＩ））の差ΔＨを、耐傷性、耐砂付着性、洗浄性の指標とした。その結果より以下の基準にて評価した。
なお、Ｈ、すなわち、Ｙ（ＳＣＥ）／Ｙ（ＳＣＩ）は分光測色計ＣＭ−７００ｄ（コニカミノルタ株式会社製）によってサンプル表面を測定し、そのＹ値のＳｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅｄ（ＳＣＥ）とＳｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｉｎｃｌｕｄｅｄ（ＳＣＩ）の比をとることによって算出した。

＜耐傷性＞
超音波洗浄後（工程Ｔ３後）のＨ_T3と砂塵試験前（工程Ｔ０後）のＨ_T0の差分：ΔＨ_T3-T0＝Ｈ_T3−Ｈ_T0を耐傷性の指標として、以下の基準に従って評価した。
（評価基準）
ＡＡ：ΔＨ_T3-T0が２％未満
Ａ：ΔＨ_T3-T0が２％以上、５％未満
Ｂ：ΔＨ_T3-T0が５％以上、１０％未満
Ｃ：ΔＨ_T3-T0が１０％以上

＜耐砂付着性＞
砂塵試験後（工程Ｔ１後）のＨ_T1と超音波洗浄後（工程Ｔ３後）のＨ_T3の差分：ΔＨ_T1-T3＝Ｈ_T1−Ｈ_T3を耐砂付着性の指標として、以下の基準に従って評価した。
（評価基準）
Ａ：ΔＨ_T1-T3が１０％未満
Ｂ：ΔＨ_T1-T3が１０％以上、２０％未満
Ｃ：ΔＨ_T1-T3が２０％以上

＜洗浄性＞
高圧水洗浄後（工程Ｔ２後）のＨ_T2と超音波洗浄後（工程Ｔ３後）のＨ_T3の差分：ΔＨ_T2-T3＝Ｈ_T2−Ｈ_T3を耐砂付着性の指標として、以下の基準に従って評価した。
（評価基準）
Ａ：ΔＨ_T2-T3が１０％未満
Ｂ：ΔＨ_T2-T3が１０％以上、２０％未満
Ｃ：ΔＨ_T2-T3が２０％以上
結果を表２に示す。

表２に示す結果から、表面被覆層の硬さ（１００Ｎ／ｍｍ²以下）、弾性回復率（６０％以上）および水接触角（４０°以下）のいずれかを満たさない比較例１〜３のフィルムミラーは、耐傷性、あるいは、耐砂付着性および洗浄性のいずれかが低下することが分かった。
これに対して、表面被覆層の硬さ（１００Ｎ／ｍｍ²以下）、弾性回復率（６０％以上）および水接触角（４０°以下）を満たす本発明の実施例１〜１０は、耐傷性が高く、かつ、耐砂付着性および洗浄性も高くなることが分かった。
また、実施例１と実施例３との対比から、表面被覆層は、重合開始剤として、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤と、α−アミノケトン系光重合開始剤を含む組成物（塗布液）を硬化させて形成することにより、耐傷性がより良好になることがわかる。
また、実施例３〜５の対比から、金属反射層と表面被覆層との間に紫外線吸収層を有することにより、耐久性がより向上することがわかる。また、紫外線吸収層は、（３６５ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．５以下、かつ、（４００ｎｍにおける吸光度）／（３４０ｎｍにおける吸光度）が０．１以下である紫外線吸収剤を含有することにより、耐傷性がより向上することがわかる。これは、表面被覆層の硬化に用いる波長域の紫外線の吸収が大きい紫外線吸収剤を用いると、表面被覆層塗布時に紫外線吸収剤が表面被覆層に層間移動した場合に、表面被覆層の硬化を阻害するおそれがあるためである。
また、実施例３と実施例９との対比から非フッ素系の界面活性剤を用いるのが好ましいことが分かる。
以上より本発明の効果は明らかである。

１ 支持体
２ 表面被覆層
３ 金属反射層
４ 紫外線吸収層
１０ 複合フィルム
２０ 太陽光反射用フィルムミラー

Claims (12)

1. 支持体と、表面被覆層とを有する複合フィルムであって、
   前記表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である複合フィルム。
2. 前記表面被覆層は、少なくとも１種類以上のウレタン（メタ）アクリレートモノマーの重合体を含有する請求項１に記載の複合フィルム。
3. 前記表面被覆層は、ポリロタキサン構造を有するモノマーの重合体を、少なくとも１種類以上含有する請求項１または２に記載の複合フィルム。
4. 前記表面被覆層は、換算光量９５ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ露光による光硬化によって形成されたものである請求項１〜３のいずれか１項に記載の複合フィルム。
5. 前記表面被覆層は、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤と、α−アミノケトン系光重合開始剤を含む組成物を硬化させて形成されたものである請求項１〜４のいずれか１項に記載の複合フィルム。
6. 支持体と、金属反射層と、表面被覆層とを有する太陽光反射用フィルムミラーであって、
   前記表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であり、かつ、表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ²以下であり、かつ、表面の水接触角が４０°以下である太陽光反射用フィルムミラー。
7. 前記表面被覆層は、少なくとも１種類以上のウレタン（メタ）アクリレートモノマーの重合体を含有する請求項６に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
8. 前記表面被覆層は、ポリロタキサン構造を有するモノマーの重合体を、少なくとも１種類以上含有する請求項６または７に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
9. 前記表面被覆層は、換算光量９５ｍＪ／ｃｍ²以上のＵＶ露光による光硬化によって形成されたものである請求項６〜８のいずれか１項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
10. 前記金属反射層と前記表面被覆層との間に、紫外線吸収層を有する請求項６〜９のいずれか１項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
11. 前記紫外線吸収層は、３４０ｎｍにおける吸光度をＡ、３６５ｎｍにおける吸光度をＢ、４００ｎｍにおける吸光度をＣとしたときのＢ／Ａが０．５以下であり、且つＣ／Ａが０．１以下である紫外線吸収剤を少なくとも１種類、含有する請求項１０に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
12. 前記表面被覆層は、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤と、α−アミノケトン系光重合開始剤を含む組成物を硬化させて形成されたものである請求項６〜１１のいずれか１項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。