JP2014225605A - 処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】試料台の落下などの不具合を誘発する可能性が低減された処理装置を提供する。【解決手段】内部に処理液４を満たすことが可能な内槽２と、内槽２を回転させることにより処理液４を撹拌させることを可能とする回転機構３とを備える。【選択図】図１

Description

本発明は処理装置に関し、特に、半導体ウェハ上に形成されたアルミニウムの薄膜をエッチングする処理装置に関するものである。

半導体ウェハの表面上にたとえばＭＯＳ（Metal Oxide Semiconductor）デバイスを構成するためのアルミニウムの配線構造が形成される際に、半導体ウェハに形成されたアルミニウムの薄膜がエッチングされる。ここでのエッチングは薬液を用いたいわゆるウェットエッチングによりなされることが好ましいが、エッチングされる領域全体においてエッチング速度をほぼ均一にするためには、薬液が半導体ウェハの表面に均一に供給されるようにする必要がある。

そこでアルミニウムの薄膜のウェットエッチングの際は、エッチングされるべき薄膜の表面に十分な量の薬液を供給してエッチングの効率を高める必要がある。そこでたとえばアルミニウムの薄膜が形成された半導体ウェハがセットされた試料台（バスケットなど）が薬液中に浸漬された状態で試料台を上下左右の各方向に揺動させる方法が用いられている。このようにすれば半導体ウェハの表面に高効率に薬液が付着するためエッチング作業の効率が高められる。

その他にも上記と同様の技術が、たとえば以下の各特許文献１〜６に開示されている。

特開昭６１−１６６１３４号公報 特開昭６０−１１９７２８号公報 特開２０００−３１１８８１号公報 特開平５−１９８５５５号公報 特開平４−１７３３４号公報 特開平５−２６７２７４号公報

上記の試料台を上下左右の各方向に揺動させる方法においては、試料台が揺動ロボットに吊り下げられた状態で揺動される。この方法は揺動により試料台に加えられる衝撃などにより、試料台が揺動ロボットから外れ、試料台が薬液槽内の底部に落下する不具合を誘発する可能性がある。上記の特許文献１〜６にはこのような不具合に対する対策について何ら記載されていないため、上記の不具合が発生する可能性を孕んでいる。

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、試料台の落下などの不具合を誘発する可能性が低減された処理装置を提供することである。

本発明の一の実施の形態に係る処理装置は、内部に処理液を満たすことが可能な内槽と、内槽を回転させることにより処理液を撹拌させることを可能とする回転機構とを備える。

本発明の他の実施の形態に係る処理装置は、内部に処理液を満たすことが可能な内槽と、内槽の内部の処理液に浸漬し、処理液を撹拌するための撹拌棒と、撹拌棒が内槽内を環状に移動することにより処理液を撹拌させることを可能とする回転機構とを備える。

本発明のさらに他の実施の形態に係る処理装置は、内部に処理液を満たすことが可能な内槽と、内槽に接続され内槽を揺動可能とする揺動機構とを備える。

本発明によれば、試料台を上下左右の各方向に揺動させることなく内槽内の処理液を撹拌させることができるため、試料台の落下などの不具合を誘発する可能性を低減できる。

実施の形態１の処理装置の構成を示す概略断面図である。 図１中の丸点線で囲んだ領域ＩＩの、バスケット固定台と内槽突起部およびバスケット突起部との構成を詳細に示す概略断面図である。 内槽がバスケットに対して回転する第１の状態を示す概略平面図（Ａ）と、内槽がバスケットに対して回転する第２の状態を示す概略平面図（Ｂ）とである。 実施の形態２の処理装置の構成を示す概略断面図である。 撹拌棒がバスケットに対して回転する第１の状態を示す概略平面図（Ａ）と、撹拌棒がバスケットに対して回転する第２の状態を示す概略平面図（Ｂ）とである。 図４中の丸点線で囲んだ領域ＶＩの、ハンドル固定部と天板との構成を詳細に示す概略断面図である。 実施の形態３の処理装置の構成を示す概略断面図である。 第１のシリンダが内槽を押圧する第１の状態を示す概略平面図（Ａ）と、第２のシリンダが内槽を押圧する第２の状態を示す概略平面図（Ｂ）とである。

以下、本発明の実施の形態について図に基づいて説明する。
（実施の形態１）
まず本実施の形態の処理装置としてのエッチング装置の構成について図１を用いて説明する。図１を参照して、本実施の形態のエッチング装置１０は、外槽１と、内槽２と、回転機構としてのモータ３とを主に有している。

外槽１は、内槽２を外側から囲むように収納する、エッチング装置１０の本体部分である。外槽１は内槽２を収納可能な直方体状、または（図１の上下方向に延在する平面視において円形を有する）円柱形状を有している。

内槽２は、外槽１内に収納可能な形状およびサイズを有する、たとえば（図１の上下方向に延在する平面視において円形を有する）円柱形状を有している。内槽２はたとえばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）からなることが好ましい。内槽２の内側における、図１の上下方向に延在する内壁面としての内槽側面２ａの内側の壁面には、内槽羽根部（羽根部）２ｂが取り付けられている。

内槽羽根部２ｂはＰＦＡなどの、後述するエッチング液により腐食されない樹脂材料により形成されることが好ましく、たとえば平板形状を有することが好ましい。内槽羽根部２ｂは、たとえば図１に示すように内槽２の中心軸ｌに対して互いに対向する位置（内槽２の平面視における外周に関して互いに１８０°の位置）に１対配置されていてもよい。またたとえば図１に示すように内槽羽根部２ｂの上下方向に関して互いに間隔をあけて複数（図１では２つ）の内槽羽根部２ｂが並ぶように配置されてもよい。しかしこのような態様に限らず、たとえば内槽２の上下方向に関して１つのみまたは３つ以上の内槽羽根部２ｂが配置されてもよいし、たとえば図１の紙面に垂直な方向に関しても内槽側面２ａの内側の壁面に内槽羽根部２ｂが配置されてもよい。

内槽羽根部２ｂは図の左右方向に関する寸法が、内槽２内の（エッチング液４で満たされる領域の）図の左右方向に関する寸法の６．６％以上１０％以下の寸法を有することが好ましい。たとえば内槽２の（エッチング液４で満たされる）内部が平面視における直径が３０ｃｍの円形である場合、内槽羽根部２ｂの図の左右方向に関する寸法は２ｃｍ以上３ｃｍ以下であることが好ましい。このようにすれば、内槽羽根部２ｂは内槽２内においてバスケット５やハンドル部８などと干渉することなく高効率にエッチング液４を撹拌させることができる。

モータ３は、モータ本体３ａとモータ回転軸３ｂとを有しており、内槽２の外部、具体的にはたとえば内槽２の内槽底面２ｃ（図１の下側の面）の外側に取り付けられている。モータ３は、内槽２の長手方向（図１の上下方向）に延在する中心軸ｌの周りに内槽２を回転（自転）させることを可能とする。

内槽２の内部には処理液としてのエッチング液４が満たされている。エッチング液４はたとえば半導体ウェハの表面上に形成されたアルミニウムの薄膜をエッチングすることが可能な一般公知の薬液であることが好ましい。

エッチング液４に浸漬されるように、内槽２の内部にはバスケット５が設置される。バスケット５はＰＦＡなどの、エッチング液４により腐食しない樹脂材料により形成されることが好ましい。バスケット５は処理対象物である半導体ウェハなどの基板６を収納するようにセットするためのたとえば円柱形状を有する治具（試料台）である。バスケット５は互いに接触しないように間隔をあけて複数の基板６をセットすることが可能な形状を有している。

内槽２の内部の底面（内槽底面２ｃ）上にはバスケット５を固定するための固定台としてのバスケット固定台７が設置されている。バスケット固定台７は塩化ビニルやＰＦＡなどの、エッチング液４により腐食されない樹脂材料により形成されることが好ましい。

図１および図２を参照して、バスケット固定台７は、たとえば図示されないが平面視において円形状の固定台本体７ａを有している。バスケット固定台本体７ａの下側（内槽底面２ｃと対向する側）の面には固定台下側溝部７ｂが形成されている。固定台下側溝部７ｂは内槽２の内槽底面２ｃから延びる内槽突起部２ｄを嵌挿することが可能な形状を有する溝部である。内槽突起部２ｄは内槽２内の内槽底面２ｃに固定され内槽底面２ｃから図の上側（内槽２の内側）に向けて延びる突起部である。これに対して固定台下側溝部７ｂは図の下側を向くように形成される。下側を向く固定台下側溝部７ｂに上向きに延びる内槽突起部２ｄが嵌挿されることによりバスケット固定台７が内槽２に拘束されるように固定される。

内槽２とバスケット固定台７との双方が円形の平面形状を有する場合、バスケット固定台７の上側（バスケット５がセットされる側の面）の面には固定台上側溝部７ｃが形成されている。固定台上側溝部７ｃはバスケット５の下側に形成される突起部であるバスケット突起部５ａを嵌挿することが可能な形状を有する溝部である。バスケット突起部５ａはバスケット５の一部であり、バスケット５の底部に固定されバスケット５から図の下側に向けて延びる突起部である。これに対して固定台上側溝部７ｃは図の上側を向くように形成される。上側を向く固定台上側溝部７ｃ内に、下向きに延びるバスケット突起部５ａが嵌挿されることによりバスケット５がバスケット固定台７に固定される。これによりバスケット５の強固な固定が実現できる。

以上のようにバスケット５はその下側がバスケット固定台７の固定台上側溝部７ｃにより（バスケット固定台７に対して静止するように）固定されるが、バスケット５の上側はハンドル部８およびハンドル固定部９により（静止するように）固定されている。ハンドル部８およびハンドル固定部９はＰＦＡなどの、エッチング液４により腐食しない樹脂材料により形成されることが好ましい。

ハンドル部８はバスケット５の上部を把持している。またハンドル固定部９は図示されないがエッチング装置１０の外部の任意の部分に固定するように接続されており、かつハンドル固定部９はハンドル部８を把持している。よってハンドル部８はハンドル固定部９に固定されている。したがってハンドル部８には辞されるバスケット５はハンドル固定部９に固定される。

以上の構成を有するエッチング装置１０においては、図１に示すように、処理しようとする基板６がバスケット５にセットされた状態で、バスケット５がエッチング液４で満たされた内槽２の内部にセットされる。バスケット５はバスケット固定台７によりその下方から固定され、ハンドル部８およびハンドル固定部９によりその上方から固定される。

この状態でモータ３を駆動させ、内槽２を中心軸ｌの周りに回転させることにより、内槽２内のエッチング液４が中心軸ｌの周りに回転しながら撹拌される。具体的には図１および図３（Ａ）、（Ｂ）を参照して、たとえば初期状態が内槽２の点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄが図１および図３（Ａ）に示す位置に配置された状態であるとし、当該初期状態から内槽２が中心軸ｌの周りに１８０°回転した状態が図３（Ｂ）であるとする。内槽２がさらに中心軸ｌの周りに１８０°回転すれば再び図３（Ａ）および図１に示す状態に戻る。なお内槽２の回転運動の周期（１回転するのに要する時間）は３秒以上４秒以下であることが好ましい。

ただしバスケット５は、内槽２の回転に追随して回転することはなく、図１および図３（Ａ）に示す状態と、図３（Ｂ）に示す状態との双方において点Ｅ，Ｆが同じ位相となるように静止している。ハンドル部８についても同様に、図１および図３（Ａ）に示す状態と、図３（Ｂ）に示す状態との双方において点Ｇ，Ｈが同じ位相となるように静止している。

このように内槽２が回転しても内槽２内のバスケット５が回転しない構成は、たとえば図２に示す（内槽突起部２ｄが嵌挿される）固定台下側溝部７ｂが、環状（より好ましくは円環状）の平面形状を有するレール状に形成されることにより実現できる。なお内槽突起部２ｄも同様に円環状のレール状に形成されてもよい。この構成において内槽２が回転すれば、内槽突起部２ｄは固定台下側溝部７ｂ内に嵌挿された状態を保ったまま固定台下側溝部７ｂ内を回転しながらスライドすることが可能となる。すなわちバスケット固定台７は内槽２に完全に固定されることも、内槽２とは別体として内槽２から完全に解放されることもなく、内槽２をバスケット５（バスケット固定台７）に対して回転可能なように固定（拘束するように支持）することが可能となる。

固定台下側溝部７ｂにおいては内槽２が固定台下側溝部７ｂに対して回転可能なように支持されるのに対して、固定台上側溝部７ｃにおいてはバスケット５が静止するように固定される。

次に、本実施の形態の作用効果について説明する。
本実施の形態によれば、内槽２を回転させることにより内槽２内のエッチング液４を撹拌させることができる。このため内槽２内の基板６（処理対象物）に形成される薄膜の表面にエッチング液４を均一に供給することができる。よって当該薄膜を均一にエッチングすることができる。

本実施の形態においては内槽２を回転させるだけでエッチング液４を撹拌させることができるため、たとえば基板６がセットされたバスケット５を内槽２内で上下左右に揺動させる必要がなくなる。バスケット５は回転せずバスケット固定台７、ハンドル部８およびハンドル固定部９により（静止した系に）固定された状態であるため、バスケット５を上下左右に揺動させることによりハンドル部８が捻れてバスケット５がハンドル部８などの把持力から外れて落下し、バスケット５にセットされる基板６が損傷を受ける不具合などの発生を抑制することができる。

本実施の形態においてはモータ３が内槽２の外部に設置されているため、モータ３の駆動機構がエッチング液４に浸漬されるなど、エッチング液４に接触しない。このためモータ３がエッチング液４に起因して損傷を受ける可能性を低減することができる。

本実施の形態においては内槽２の内壁面（内槽側面２ａ）に内槽羽根部２ｂが設置されるため、内槽羽根部２ｂの作用によりエッチング液４をより高効率に撹拌することができる。また内槽羽根部２ｂは回転する内槽２の側面２ａに接続されるのみであり、内槽羽根部２ｂを回転させるために別途モータなどの駆動機構を設置する必要がない。このため設備をより簡素化することができ、設備のコストを削減することができる。

なおエッチング液４はたとえば内槽２の内部と外部との間で循環することなく、内槽２の内部に貯留している。内槽２を回転させるだけで内槽２内のエッチング液４を高効率に撹拌することができるため、たとえば内槽２内のエッチング液４を揺動させるための循環機構などを設置した場合に比べて設備を大幅に簡素化することができ、設備のコストを削減することができる。

（実施の形態２）
まず本実施の形態の処理装置としてのエッチング装置の構成について図４を用いて説明する。図４を参照して、本実施の形態のエッチング装置２０は、内槽２と、内槽２の内部のエッチング液４を撹拌するための撹拌棒１２と、撹拌棒１２を回転させる回転機構としてのモータ３とを主に有している。

撹拌棒１２は、その本体としての撹拌棒軸部１２ａと、撹拌棒軸部１２ａの先端部に取り付けられた撹拌棒羽根部１２ｂとを有している。撹拌棒羽根部１２ｂは撹拌棒軸部１２ａの下側（内槽底面２ｃ側）に取り付けられている。撹拌棒軸部１２ａおよび撹拌棒羽根部１２ｂは、ＰＦＡなどの、エッチング液４により腐食しない樹脂材料により形成されることが好ましく、たとえば平板形状を有することが好ましい。

撹拌棒１２は内槽２の上下方向（図４の上下方向）に延在するように少なくとも１本配置されている。なお図４においては内槽２の左右側に１本ずつ合計２本の撹拌棒１２が配置されているが、これに限らずたとえば図４に示す位置に加え、図４に示されない紙面の奥行き方向にも撹拌棒１２がたとえば１対、内槽２の中心軸ｌに対して互いに対向する位置（内槽２の平面視における外周に関して互いに１８０°の位置）に配置されてもよい。

撹拌棒１２の羽根部１２ｂは図の左右方向に関する寸法が、内槽２内の（エッチング液４で満たされる領域の）図の左右方向に関する寸法の７．５％以上１０％以下の寸法を有することが好ましい。たとえば内槽２の（エッチング液４で満たされる）内部が平面視における直径が４０ｃｍの円形である場合、撹拌棒羽根部１２ｂの図の左右方向に関する寸法は３ｃｍ以上４ｃｍ以下であることが好ましい。

撹拌棒１２の（図４の）上側の端部は天板１３により固定されている。天板１３は図示されないがたとえば（内槽２の平面視における円形状と同様に）円形の平面形状を有している。天板１３はその中心が概ね内槽２の中心軸ｌと重なる位置に配置されている。天板１３の下側の面の、平面視における縁部の近傍に撹拌棒１２が取り付けられており、天板１３の下側の面の中心部（内槽２の中心軸ｌの近傍）にはハンドル固定部９が取り付けられている。ハンドル固定部９は実施の形態１と同様にハンドル部８を固定しており、ハンドル部８は実施の形態１と同様にバスケット５を固定把持している。バスケット５は実施の形態１と同様にその下側がバスケット固定台７に固定されており、バスケット５は内槽２の内部のエッチング液４に浸漬されている。

天板１３にはモータ３が取り付けられており、モータ３は実施の形態１と同様にモータ本体３ａとモータ回転軸３ｂとを有している。モータ３は内槽２の外部に設置されている。モータ３は天板１３を回転させることにより、天板１３に取り付けられた撹拌棒１２を内槽２の内部で回転させる。つまり撹拌棒１２は内槽２内を環状に移動するように、内槽２の中心軸ｌの周りを回転（公転）する。撹拌棒１２（特に撹拌棒羽根部１２ｂ）は内槽２内のエッチング液４に浸漬されるため、撹拌棒１２が平面視において環状を描くように回転移動すれば、エッチング液４が撹拌される。

具体的には図４および図５を参照して、天板１３の下側の面に固定された撹拌棒１２は、天板１３の回転により、内槽２内において中心軸ｌの周りを回転する。撹拌棒１２はたとえば３秒以上４秒以下の時間で１回転する速度で回転することが好ましい。このため、たとえば初期状態が撹拌棒１２の点Ｉ，Ｊが図４および図５（Ａ）に示す位置に配置された状態であるとし、当該初期状態から撹拌棒１２が中心軸ｌの周りに１８０°回転した状態が図５（Ｂ）であるとする。天板１３（撹拌棒１２）がさらに中心軸ｌの周りに１８０°回転すれば再び図５（Ａ）および図４に示す状態に戻る。

ただし内槽２、バスケット５およびハンドル部８は、天板１３の回転に追随して回転することはなく、図４および図５（Ａ）に示す状態と、図５（Ｂ）に示す状態との双方において点Ａ〜Ｈが同じ位相となるように静止している。

図６に示すように、（バスケット５およびハンドル部８を固定する）ハンドル固定部９は、静止した系に固定されている。天板１３の中心部には、天板１３の一方の表面からこれに対向する他方の表面まで貫通する貫通孔１３ａが形成されており、ハンドル固定部９の（図６の上下方向に延びる）軸部は貫通孔１３ａを貫通している。ハンドル固定部９の軸部は貫通孔１３ａと接触していない。このためハンドル固定部９（バスケット５およびハンドル部８を含む）は天板１３の回転に追随せず静止している。図４のハンドル固定部９と天板１３との構成は実際には図６に示す構成となっているため、ハンドル部８などを天板１３の回転に追随させずに静止させることが可能となる。

また本実施の形態においては内槽２もバスケット５と同様に、回転することなく、図５（Ａ）に示す状態と、図５（Ｂ）に示す状態との双方において内槽２の点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄが同じ位相となるように静止している。

なお図４においては外槽１の図示が省略されているが、本実施の形態のエッチング装置２０にも外槽１が設置されていてもよい。

次に、本実施の形態の作用効果について説明する。
本実施の形態によっても、撹拌棒１２の回転によりエッチング液４を撹拌させることができるため、実施の形態１と同様に、内槽２内の基板６（処理対象物）に形成される薄膜の表面にエッチング液４を均一に供給することができる。よって当該薄膜を均一にエッチングすることができる。

本実施の形態においては撹拌棒１２を回転させるだけでエッチング液４を撹拌させることができるため、たとえば基板６がセットされたバスケット５を内槽２内で上下左右に揺動させる必要がなくなる。バスケット５は回転せずバスケット固定台７、ハンドル部８およびハンドル固定部９により（静止した系に）固定された状態であるため、バスケット５を上下左右に揺動させることによりハンドル部８が捻れてバスケット５がハンドル部８などの把持力から外れて落下し、バスケット５にセットされる基板６が損傷を受ける不具合などの発生を抑制することができる。

なお撹拌棒１２はたとえば中心軸ｌの位置において移動することなく回転（自転）するよりも、本実施の形態のように環状に移動するように回転（公転）する方が、エッチング液４を撹拌する効果をいっそう高めることができる。したがって基板６の表面にエッチング液４をいっそう均一に供給することができ、たとえば同時に処理する複数の基板６間のエッチング状態のばらつきを低減することができる。

本実施の形態においても実施の形態１と同様にモータ３が内槽２の外部に設置されている。このため、モータ３の駆動機構がエッチング液４に浸漬されるなど、エッチング液４に接触しない。このためモータ３がエッチング液４に起因して損傷を受ける可能性を低減することができる。

本発明の実施の形態２は、以上に述べた各点についてのみ、本発明の実施の形態１と異なる。すなわち、本発明の実施の形態２について、上述しなかった構成や条件、手順や効果などは、全て本発明の実施の形態１に準ずる。

（実施の形態３）
まず本実施の形態の処理装置としてのエッチング装置の構成について図７を用いて説明する。図７を参照して、本実施の形態のエッチング装置３０は、外槽１と、内槽２と、内槽２に接続され内槽２を揺動可能とするための揺動機構としてのエアシリンダ２２と、エアシリンダ２２を駆動するためのシーケンサ２３とを主に有している。

エアシリンダ２２は内槽２の外部に配置されており、対をなす第１のエアシリンダ２２ａと、第２のエアシリンダ２２ｂとを有している。第１のエアシリンダ２２ａは図７の内槽２の一の方向側であるたとえば左側に、第２のエアシリンダ２２ｂは図７の内槽２の一の方向側と対向する他の方向側であるたとえば右側に、それぞれ配置されている。

第１のエアシリンダ２２ａは内槽２の左側の内槽側面２ａに外側から接触しており、第２のエアシリンダ２２ｂは内槽２の右側の内槽側面２ａに外側から接触している。つまり内槽２は第１のエアシリンダ２２ａおよび第２のエアシリンダ２２ｂにより内槽側面２ａの外壁面において挟みこまれるように保持されている。外槽１の底面（外槽底面１ａ）と内槽底面２ｃとは互いに接触せず両者の間には隙間ｇ１が設けられている。このため内槽２が水平方向に揺動しても外槽底面１ａおよび内槽底面２ｃの擦り減りまたは損傷の発生を抑制することができる。

第１のエアシリンダ２２ａおよび第２のエアシリンダ２２ｂは交互に内槽側面２ａを押圧することにより、両者の間に挟まれた内槽２を一の方向および他の方向、すなわち図７の左右方向に交互に揺動させる。

具体的には図８（Ａ）を参照して、たとえばまず第１の時刻ｔ₁に、図示されないたとえばエアポンプから第１のエアシリンダ２２ａにエアが送り込まれることにより、第１のエアシリンダ２２ａは一の方向側から他の方向側へ、すなわち図７の左側から右側へ、内槽２（内槽側面２ａ）を押圧する（図８（Ａ）中の矢印の方向に力Ｆ１が加えられる）。これにより内槽２は図の右側に移動する。

次に図８（Ｂ）を参照して、第１の時刻ｔ₁より少し時間が経過した第２の時刻ｔ₂に、図示されないたとえばエアポンプから第２エアシリンダ２２ｂにエアが送り込まれることにより、第２のエアシリンダ２２ｂは他の方向側から一の方向側へ、すなわち図７の右側から左側へ、内槽２（内槽側面２ａ）を押圧する（図８（Ｂ）中の矢印の方向に力Ｆ２が加えられる）。これにより内槽２は図の左側に移動する。このため内槽２の点Ａ，Ｂの位置が図８（Ａ）よりも左側に移動している。

再び図８（Ａ）を参照して、第２の時刻ｔ₂からさらにｔ₂−ｔ₁と同じ時間が経過した第３の時刻ｔ₃に、第１の時刻ｔ₁と同様に第１のエアシリンダ２２ａが一の方向側から他の方向側へ、すなわち図７の左側から右側へ、内槽２（内槽側面２ａ）を押圧する。以降、上記と同様の動作（図８（Ａ）および図８（Ｂ））を交互に繰り返すことにより、内槽２が水平方向（図７の左右方向）に往復運動する。

内槽２の往復運動の振幅Ｌ１（図８（Ｂ））は図の左右方向に関する寸法の７．５％以上１０％以下の長さであることが好ましく、たとえば内槽２の（エッチング液４で満たされる）内部の平面視における直径が４０ｃｍの場合には、振幅Ｌ１は３ｃｍ以上４ｃｍ以下であることが好ましい。また内槽２の往復運動の周期（１往復するのに要する時間）が３秒以上４秒以下の往復運動を繰り返すことが好ましい。

なお第１のエアシリンダ２２ａおよび第２のエアシリンダ２２ｂは、シーケンサ２３に接続されている。シーケンサ２３は、第１のエアシリンダ２２ａおよび第２のエアシリンダ２２ｂに交互に一定の時間間隔でエアを送り込むために、エアシリンダ２２に接続されている。

以上の内槽２の往復運動により、内槽２内のエッチング液４が撹拌される。
一方、内槽２の内部のバスケット５は、内槽２の往復運動に追随して往復運動することはなく、図８（Ａ）に示す状態と、図８（Ｂ）に示す状態との双方において点Ｅ，Ｆが同じ位置となるように静止している。ハンドル部８についても同様に、図８（Ａ）に示す状態と、図８（Ｂ）に示す状態との双方において点Ｇ，Ｈが同じ位置となるように静止している。

以上のように内槽２が往復運動しても内槽２内のバスケット５が往復運動しない構成は、たとえば図２に示す内槽突起部２ｄが嵌挿される固定台下側溝部７ｂが、一定の間隔を隔てて２本平行に並ぶ直線状の平面形状を有するレール状に形成されることにより実現される。なお内槽突起部２ｄも２本平行に並ぶ直線状に形成されてもよい。この構成において内槽２が図７の左右方向に往復運動すれば、内槽突起部２ｄは固定台下側溝部７ｂに嵌挿された状態を保ったまま固定台下側溝部７ｂ内を左右方向に往復運動するようにスライドすることが可能となる。すなわち実施の形態１と同様に、バスケット固定台７は内槽２に完全に固定されることも、内槽２とは別体として内槽２から完全に解放されることもなく、内槽２をバスケット５（バスケット固定台７）に対して往復運動可能なように固定（拘束するように支持）することが可能となる。

これに対して本実施の形態においても固定台上側溝部７ｃにはバスケット突起部５ａが嵌挿されることにより、バスケット５の下側がバスケット固定台７に（静止するように）固定される。またバスケット５の上側はハンドル部８およびハンドル固定部９により固定されるため、バスケット５は静止するように固定される。

以上より、図８においてはバスケット５およびハンドル部８は（実施の形態１と同様に）円環状の平面形状として図示されるが、本実施の形態のバスケット５（バスケット固定台７）およびハンドル部８はたとえば矩形状の平面形状（つまり直方体状）であってもよい。

なお図７に示すように（複数の）基板６は、その主表面が図の奥行き方向を向くようにセットされているため、内槽２は図の左右方向に往復運動する。このように基板６の主表面の向く方向と内槽２の移動方向とが互いに交差することが好ましい。このようにすれば全ての基板６の主表面上に均一に、撹拌されたエッチング液４を供給することができる。

次に、本実施の形態の作用効果について説明する。
本実施の形態によれば、内槽２をエアシリンダ２２で往復運動させることにより内槽２内のエッチング液４を撹拌させることができる。このため内槽２内の基板６（処理対象物）に形成される薄膜の表面にエッチング液４を均一に供給することができる。よって当該薄膜を均一にエッチングすることができる。

本実施の形態においては内槽２を往復運動させるだけでエッチング液４を撹拌させることができるため、たとえば基板６がセットされたバスケット５を内槽２内で上下左右に揺動させる必要がなくなる。バスケット５は往復運動せずバスケット固定台７、ハンドル部８およびハンドル固定部９により（静止した系に）固定された状態であるため、バスケット５を上下左右に揺動させることによりハンドル部８が捻れてバスケット５がハンドル部８などの把持力から外れて落下し、バスケット５にセットされる基板６が損傷を受ける不具合などの発生を抑制することができる。

また内槽２を往復運動させるため、たとえば内槽２が水平方向に関する一の方向のみに運動しエッチング液４が一の方向のみに流動する場合に比べて、セットされる複数の基板６間のエッチング均一性を向上させることができる。

本実施の形態においてはエアシリンダ２２が内槽２の外部に設置されているため、エアシリンダ２２の駆動機構がエッチング液４に浸漬されるなど、エッチング液４に接触しない。このためエアシリンダ２２がエッチング液４に起因して損傷を受ける可能性を低減することができる。

本発明の実施の形態３は、以上に述べた各点についてのみ、本発明の実施の形態１，２と異なる。すなわち、本発明の実施の形態３について、上述しなかった構成や条件、手順や効果などは、全て本発明の実施の形態１，２に準ずる。また以上の各実施の形態の構成要素を適宜組み合わせてもよい。

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１ 外槽、１ａ 外槽底面、２ 内槽、２ａ 内槽側面、２ｂ 内槽羽根部、２ｃ 内槽底面、２ｄ 内槽突起部、３ モータ、３ａ モータ本体、３ｂ モータ回転軸、４ エッチング液、５ バスケット、５ａ バスケット突起部、６ 基板、７ バスケット固定台、７ａ 固定台本体、７ｂ 固定台下側溝部、７ｃ 固定台上側溝部、８ ハンドル部、９ ハンドル固定部、１０，２０，３０ エッチング装置、１２ 撹拌棒、１２ａ 撹拌棒軸部、１２ｂ 撹拌棒羽根部、１３ 天板、１３ａ 貫通孔、２２ エアシリンダ、２２ａ 第１のエアシリンダ、２２ｂ 第２のエアシリンダ、２３ シーケンサ。

Claims (11)

1. 内部に処理液を満たすことが可能な内槽と、
   前記内槽を回転させることにより前記処理液を撹拌させることを可能とする回転機構とを備える、処理装置。
2. 前記回転機構は前記内槽の外部に設置されている、請求項１に記載の処理装置。
3. 前記内槽の内壁面に羽根部を備える、請求項１または２に記載の処理装置。
4. 内部に処理液を満たすことが可能な内槽と、
   前記内槽の内部の前記処理液に浸漬し、前記処理液を撹拌するための撹拌棒と、
   前記撹拌棒が前記内槽内を環状に移動することにより前記処理液を撹拌させることを可能とする回転機構とを備える、処理装置。
5. 前記回転機構は前記内槽の外部に設置されている、請求項４に記載の処理装置。
6. 内部に処理液を満たすことが可能な内槽と、
   前記内槽に接続され前記内槽を揺動可能とする揺動機構とを備える、処理装置。
7. 前記揺動機構は前記内槽の外部に設置されている、請求項６に記載の処理装置。
8. 前記揺動機構は、前記内槽の一の方向側に配置される第１の揺動機構と、前記内槽の前記一の方向側に対向する他の方向側に配置される第２の揺動機構とを含み、
   前記第１の揺動機構は前記内槽を前記他の方向側に移動するように押圧し、
   前記第２の揺動機構は前記内槽を前記一の方向側に移動するように押圧する、請求項６または７に記載の処理装置。
9. 前記内槽の内部底面には前記処理液により処理される処理対象物をセットする治具を固定するための固定台が設置され、
   前記固定台は前記治具の一部が前記固定台に嵌挿することにより前記治具を固定可能とする溝部を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の処理装置。
10. 前記治具はハンドル部により固定される、請求項１〜９のいずれか１項に記載の処理装置。
11. 前記処理液は前記内槽の内部に貯留する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の処理装置。

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