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JP2014220302A - Mold package - Google Patents

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JP2014220302A
JP2014220302A JP2013097224A JP2013097224A JP2014220302A JP 2014220302 A JP2014220302 A JP 2014220302A JP 2013097224 A JP2013097224 A JP 2013097224A JP 2013097224 A JP2013097224 A JP 2013097224A JP 2014220302 A JP2014220302 A JP 2014220302A
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land
substrate
mold resin
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JP2013097224A
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Japanese (ja)
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慎也 内堀
Shinya Uchibori
慎也 内堀
典久 今泉
Norihisa Imaizumi
典久 今泉
賢吾 岡
Kengo Oka
賢吾 岡
眞田祐紀
Yuki Sanada
祐紀 眞田
竹中 正幸
Masayuki Takenaka
正幸 竹中
太助 福田
Tasuke Fukuda
太助 福田
圭太郎 中間
Keitaro Nakama
圭太郎 中間
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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    • H10W90/734
    • H10W90/754

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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】基板上の金属製ランドにはんだ等の導電性接合材を介して部品を搭載して接合し、これらを基板上に設けたモールド樹脂で封止してなるモールドパッケージにおいて、ランド表面にAuめっきを施したとしても、ランドとモールド樹脂との剥離が基板に到達する速度を極力遅くする。【解決手段】ランド20は、基板10の一面11側から金属よりなる第1の層21、金属よりなる第2の層22が順次積層されたものであり、第1の層21は、第2の層22よりも平面サイズが小さいものとすることにより、第1の層21の端部21aが第2の層22の端部22aよりも引っ込んだ位置とされており、これら第1および第2の両層21、22の端部21a、22aがともにモールド樹脂50に接触している。【選択図】図2In a mold package in which components are mounted and bonded to a metal land on a substrate via a conductive bonding material such as solder and these are sealed with a mold resin provided on the substrate, Even if Au plating is performed, the speed at which the separation between the land and the mold resin reaches the substrate is made as slow as possible. A land 20 includes a first layer 21 made of metal and a second layer 22 made of metal sequentially stacked from one surface 11 side of a substrate 10, and the first layer 21 is made of a second layer. By making the plane size smaller than the layer 22 of the first layer 21, the end 21a of the first layer 21 is set to a position where the end 22a of the second layer 22 is retracted. Both end portions 21 a and 22 a of both layers 21 and 22 are in contact with the mold resin 50. [Selection] Figure 2

Description

本発明は、基板上の金属製ランドにはんだ等の導電性接合材を介して部品を搭載して、接合し、これらを基板上に設けたモールド樹脂で封止してなるモールドパッケージに関する。   The present invention relates to a mold package in which components are mounted on a metal land on a substrate via a conductive bonding material such as solder, bonded, and sealed with a mold resin provided on the substrate.

従来より、この種の一般的なモールドパッケージとしては、基板と、基板の一面上に設けられた金属よりなるランドと、ランド上に設けられた導電性接合材と、導電性接合材上に設けられ導電性接合材を介してランドに接合された部品と、基板の一面上に設けられランド、導電性接合材および部品を封止するモールド樹脂と、を備えたものが提案されている。   Conventionally, as a general mold package of this kind, a substrate, a land made of metal provided on one surface of the substrate, a conductive bonding material provided on the land, and a conductive bonding material are provided. There has been proposed a component including a component bonded to a land via a conductive bonding material and a mold resin provided on one surface of the substrate for sealing the land, the conductive bonding material, and the component.

このようなモールドパッケージにおいては、部品の端部とモールド樹脂との界面にてモールド樹脂にせん断応力が加わり、ランド上の部品側の部分、特に導電性接合材およびランドの上面とモールド樹脂との界面にてモールド樹脂の剥離が発生しやすい。   In such a mold package, shear stress is applied to the mold resin at the interface between the end portion of the component and the mold resin, and the component side portion on the land, in particular, the conductive bonding material and the upper surface of the land and the mold resin The mold resin is easily peeled off at the interface.

そして、このモールド樹脂の剥離は、ランドの上面から端部を通って基板の一面側に進行するが、当該剥離が基板の一面に到達すると、基板に応力が発生し、基板がダメージを受けやすくなる。そのため、ランドとモールド樹脂との剥離が基板に到達する速度を遅くすることが、信頼性向上等の点から望ましい。   The mold resin peeling proceeds from the upper surface of the land to the one surface side of the substrate through the end portion, but when the peeling reaches the one surface of the substrate, stress is generated on the substrate and the substrate is easily damaged. Become. For this reason, it is desirable from the viewpoint of improving the reliability, for example, to reduce the speed at which the separation between the land and the mold resin reaches the substrate.

ここで、従来では、モールド樹脂とランドとの剥離を抑制するために、ランド表面を粗化することにより、物理的密着力を確保する方法が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。   Here, conventionally, in order to suppress the peeling between the mold resin and the land, a method of securing physical adhesion by roughening the land surface has been proposed (for example, see Patent Document 1).

特開2003−163454号公報JP 2003-163454 A

しかしながら、たとえば、基板上にて部品とワイヤボンディング等を行う場合、基板上には、ランド以外にも、表面にAuめっきが施されたワイヤパッドを設ける必要があり、これに伴い、ランド表面にもAuめっきを施す必要がある。   However, for example, when performing wire bonding with a component on a substrate, it is necessary to provide a wire pad with Au plating on the surface in addition to the land on the substrate. Also, it is necessary to apply Au plating.

そうすると、上記したようにランド表面を粗化したとしても、当該Auめっきによってランド表面はなだらかになってしまい、上記した粗化による剥離抑制の効果が不十分となる。   Then, even if the land surface is roughened as described above, the land surface becomes smooth due to the Au plating, and the effect of suppressing peeling due to the above roughening becomes insufficient.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、基板上の金属製ランドにはんだ等の導電性接合材を介して部品を搭載して接合し、これらを基板上に設けたモールド樹脂で封止してなるモールドパッケージにおいて、ランド表面にAuめっきを施したとしても、ランドとモールド樹脂との剥離が基板に到達する速度を極力遅くすることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and is a mold resin in which components are mounted and bonded to a metal land on a substrate via a conductive bonding material such as solder and these are provided on the substrate. In a sealed mold package, even if the land surface is plated with Au, the object is to reduce the speed at which the separation between the land and the mold resin reaches the substrate as much as possible.

上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、基板(10)と、基板の一面(11)上に設けられた金属よりなるランド(20)と、ランド上に設けられた導電性接合材(30)と、導電性接合材上に設けられ導電性接合材を介してランドに接合された部品(40、41)と、基板の一面上に設けられランド、導電性接合材および部品を封止するモールド樹脂(50)と、を備え、
ランドは、基板の一面側から金属よりなる第1の層(21)、金属よりなる第2の層(22)が順次積層されたものであり、第1の層は、第2の層よりも平面サイズが小さいものとすることにより、第1の層の端部(21a)が第2の層の端部(22a)よりも引っ込んだ位置とされており、これら第1および第2の両層の端部がともにモールド樹脂に接触していることを特徴とする。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a substrate (10), a land (20) made of metal provided on one surface (11) of the substrate, and a conductive material provided on the land. Bonding material (30), components (40, 41) provided on the conductive bonding material and bonded to the lands via the conductive bonding material, and lands, conductive bonding material and components provided on one surface of the substrate A mold resin (50) for sealing
The land is formed by sequentially laminating a first layer (21) made of metal and a second layer (22) made of metal from one side of the substrate, and the first layer is more than the second layer. By setting the plane size to be small, the end (21a) of the first layer is set to a position where the end (22a) of the second layer is retracted, and both the first and second layers are formed. Both end portions are in contact with the mold resin.

それによれば、ランドのうち部品側である第2の層側からモールド樹脂の剥離が発生し、この剥離が基板側である第1の層側に進行してきても、第2の層が第1の層よりも引っ込んでいることで、剥離の進行経路が曲がったものとされており、剥離の進行方向の転換箇所が多くなっているため、剥離の進行速度を遅くすることができる。そのため、本発明によれば、ランド表面にAuめっきを施したとしても、ランドとモールド樹脂との剥離が基板に到達する速度を極力遅くすることができる。   According to this, even if the peeling of the mold resin occurs from the second layer side which is the component side of the land, and the peeling proceeds to the first layer side which is the substrate side, the second layer is the first layer. It is assumed that the peeling progress path is bent and the number of places where the peeling progress direction is changed increases, so that the peeling progress speed can be reduced. Therefore, according to the present invention, even if Au plating is applied to the land surface, the speed at which the separation between the land and the mold resin reaches the substrate can be made as slow as possible.

ここで、請求項2に記載の発明のように、請求項1に記載のモールドパッケージにおいて、第1の層と第2の層とを、互いに異なる金属よりなるものにすれば、第1の層と第2の層とを異なる平面形状のものとして製造しやすい。   Here, as in the invention according to claim 2, in the mold package according to claim 1, if the first layer and the second layer are made of different metals, the first layer And the second layer can be manufactured as different planar shapes.

また、請求項3に記載の発明では、請求項1または2に記載のモールドパッケージにおいて、第1の層におけるモールド樹脂との接触面は、第2の層におけるモールド樹脂との接触面に比べてモールド樹脂との密着性が高い面とされていることを特徴とする。   Further, in the invention according to claim 3, in the mold package according to claim 1 or 2, the contact surface with the mold resin in the first layer is compared with the contact surface with the mold resin in the second layer. It is characterized by being a surface having high adhesion to the mold resin.

それによれば、基板の一面に近い側の第1の層とモールド樹脂との密着力を高め、これら両者の剥離をより発生しにくくできるため、好ましい。   According to this, it is preferable because the adhesion between the first layer close to one surface of the substrate and the molding resin can be increased, and peeling of both can be made less likely to occur.

なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。   In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each means described in the claim and this column is an example which shows a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.

本発明の第1実施形態にかかるモールドパッケージを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the mold package concerning 1st Embodiment of this invention. 図1中の丸で囲まれたA部の拡大図である。It is an enlarged view of the A section surrounded by the circle in FIG. 本発明の第2実施形態にかかるモールドパッケージの要部を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the principal part of the mold package concerning 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態にかかるモールドパッケージの要部を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the principal part of the mold package concerning 3rd Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, parts that are the same or equivalent to each other are given the same reference numerals in the drawings in order to simplify the description.

(第1実施形態)
本発明の第1実施形態にかかるモールドパッケージについて、図1、図2を参照して述べる。このモールドパッケージは、たとえば自動車などの車両に搭載され、車両用の各種電子装置を駆動するための装置として適用されるものである。
(First embodiment)
The mold package according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This mold package is mounted on a vehicle such as an automobile and is applied as a device for driving various electronic devices for the vehicle.

本実施形態のモールドパッケージは、大きくは、基板10と、基板10の一面11上に設けられた金属よりなるランド20と、ランド20上に設けられた導電性接合材30と、導電性接合材30上に設けられ導電性接合材30を介してランド20に接合された部品40、41と、基板10の一面11上に設けられランド20、導電性接合材30および部品40、41を封止するモールド樹脂50と、を備えて構成されている。   The mold package of this embodiment is broadly divided into a substrate 10, a land 20 made of metal provided on one surface 11 of the substrate 10, a conductive bonding material 30 provided on the land 20, and a conductive bonding material. The components 40 and 41 provided on the substrate 30 and bonded to the land 20 via the conductive bonding material 30 and the land 20, the conductive bonding material 30 and the components 40 and 41 provided on the one surface 11 of the substrate 10 are sealed. And a mold resin 50 to be configured.

基板10は、表裏の両板面11、12の一方を一面11、他方を他面12とする板状をなすもので、具体的にはプリント基板やセラミック基板等よりなる。基板10は、多層基板でも単層基板でもよいが、一面11を部品40、41が搭載される部品搭載面としている。ここでは、基板10は、樹脂よりなるプリント基板としている。   The substrate 10 has a plate shape in which one of the front and back plate surfaces 11 and 12 is one surface 11 and the other is the other surface 12, and is specifically formed of a printed circuit board or a ceramic substrate. The substrate 10 may be a multilayer substrate or a single layer substrate, but the one surface 11 is a component mounting surface on which the components 40 and 41 are mounted. Here, the board 10 is a printed board made of resin.

基板10の一面11上には、部品40、41が搭載される部品搭載ランドとしてのランド20と、ワイヤボンディングされるワイヤパッド60とが設けられている。一方、基板10の他面12には、他面側配線70が設けられている。   On one surface 11 of the substrate 10, a land 20 as a component mounting land on which the components 40 and 41 are mounted and a wire pad 60 to be wire bonded are provided. On the other hand, the other surface side wiring 70 is provided on the other surface 12 of the substrate 10.

ここで、ランド20は、基板10の一面11側から金属よりなる第1の層21、金属よりなる第2の層22が順次積層されたものである。さらに、このランド20において積層状態における第1の層21および第2の層22の表面、つまり、導電性接合材30およびモールド樹脂50に接触する表面は、当該表面に施されたAuめっき23より構成されたものとなっている。   Here, the land 20 is formed by sequentially laminating a first layer 21 made of metal and a second layer 22 made of metal from the one surface 11 side of the substrate 10. Furthermore, the surfaces of the first layer 21 and the second layer 22 in the stacked state in the land 20, that is, the surfaces in contact with the conductive bonding material 30 and the mold resin 50 are from the Au plating 23 applied to the surfaces. It is structured.

ここで、第1の層21はCu等をベースとしてなるものであり、第2の層22は、Ni、Cr、Sn等の第1の層21とは異なる金属をベースとしてなるものである。また、Auめっき23は、最表面がAuめっきよりなるものであればよく、たとえば下地側からNiめっき、Pdめっき、Auめっきが順次積層されたNi/Pd/Auめっきや、下地側からNiめっき、Auめっきが順次積層されたNi/Auめっき等が採用できる。   Here, the first layer 21 is based on Cu or the like, and the second layer 22 is based on a metal different from the first layer 21 such as Ni, Cr, or Sn. Further, the Au plating 23 only needs to have the outermost surface made of Au plating, for example, Ni / Pd / Au plating in which Ni plating, Pd plating, and Au plating are sequentially laminated from the base side, or Ni plating from the base side. Ni / Au plating in which Au plating is sequentially laminated can be employed.

これら第1の層21および第2の層22は、めっき、箔の貼り付け、蒸着、スパッタ等により成膜を行い、これをエッチングしてパターニングすることにより形成されるものである。そして、Auめっき23は、両層21、22の積層後に、その積層体の表面に対して、通常の電気めっき、無電解めっき等を行うことにより形成される。   The first layer 21 and the second layer 22 are formed by forming a film by plating, attaching a foil, vapor deposition, sputtering, etc., and etching and patterning the film. The Au plating 23 is formed by performing normal electroplating, electroless plating, or the like on the surface of the stacked body after the layers 21 and 22 are stacked.

また、図1では、ワイヤパッド60および他面側配線70は、第1の層21と同様のCu等の金属よりなるもので、第1の層21と同様の成膜、パターニングにより形成されるものである。また、ワイヤパッド60は、ワイヤボンディング性を確保するべく、表面にAuめっき23が施されたものとされている。   In FIG. 1, the wire pad 60 and the other surface side wiring 70 are made of a metal such as Cu similar to the first layer 21, and are formed by the same film formation and patterning as the first layer 21. Is. The wire pad 60 has a surface plated with Au to ensure wire bonding.

このような基板10は、基板10の一面11、他面12にて、それぞれランド20、ワイヤパッド60および他面側配線70となる第1の層21、第2の層22を形成した後、必要部分にAuめっき23を形成することにより、製造される。つまり、本実施形態では、このワイヤパッド60表面のAuめっき23処理に伴い、ランド20の表面もAuめっき23よりなるものとされている。   In such a substrate 10, after forming the first layer 21 and the second layer 22 that become the land 20, the wire pad 60, and the other surface side wiring 70 on the one surface 11 and the other surface 12 of the substrate 10, respectively. It is manufactured by forming the Au plating 23 on the necessary part. That is, in this embodiment, the surface of the land 20 is also made of the Au plating 23 in accordance with the Au plating 23 treatment on the surface of the wire pad 60.

なお、この図1に示されるモールドパッケージにおいて、ワイヤパッド60および他面側配線70も、ランド20と同様の第1の層21および第2の層22よりなる2層構造であって、表面がAuめっき23よりなるものであってもよいことはもちろんである。   In the mold package shown in FIG. 1, the wire pad 60 and the other-side wiring 70 also have a two-layer structure including the first layer 21 and the second layer 22 similar to the land 20, and the surface thereof is the same. Of course, it may be made of Au plating 23.

そして、基板10の一面11上において、ランド20の上面(つまり第2の層22の表面)には、導電性接合材30を介して部品40、41が電気的および機械的に接合されている。ここで、導電性接合材30は、はんだや導電性接着剤等よりなるものである。   Then, on one surface 11 of the substrate 10, components 40 and 41 are electrically and mechanically bonded to the upper surface of the land 20 (that is, the surface of the second layer 22) via the conductive bonding material 30. . Here, the conductive bonding material 30 is made of solder, a conductive adhesive, or the like.

また、部品40、41は、本実施形態では、図1中の左側に位置するICチップ等の能動素子40と、図1中の右側に位置するコンデンサや抵抗等の受動素子41とよりなる。ここで、能動素子40とワイヤパッド60とはボンディングワイヤ80により結線され、電気的に接続されている。このボンディングワイヤ80は、AuやAl等よりなり、通常のワイヤボンディングにより形成されるものである。   In the present embodiment, the components 40 and 41 include an active element 40 such as an IC chip located on the left side in FIG. 1 and a passive element 41 such as a capacitor and a resistor located on the right side in FIG. Here, the active element 40 and the wire pad 60 are connected by a bonding wire 80 and are electrically connected. This bonding wire 80 is made of Au, Al, or the like, and is formed by ordinary wire bonding.

また、モールド樹脂50は、エポキシ樹脂等の通常のモールド材料よりなるもので、たとえばトランスファーモールド法、コンプレッションモールド法等により形成されるものである。ここでは、モールド樹脂50は、基板10の一面11に加えて他面12側も封止している。   The mold resin 50 is made of a normal mold material such as an epoxy resin, and is formed by, for example, a transfer mold method, a compression mold method, or the like. Here, the mold resin 50 seals the other surface 12 side in addition to the one surface 11 of the substrate 10.

このような本実施形態のモールドパッケージは、ランド20、ワイヤパッド60および他面側配線70を有する基板10を用意し、これに導電性接合材30を介して部品40、41を接合した後、ワイヤボンディングを行い、これをモールド樹脂50で封止することにより製造される。   In the mold package of this embodiment, after preparing the substrate 10 having the land 20, the wire pad 60, and the other surface side wiring 70, and bonding the components 40 and 41 to the substrate 10 via the conductive bonding material 30, It is manufactured by performing wire bonding and sealing it with a mold resin 50.

ここで、図2も参照して、部品40、41とランド20との接続部の詳細について述べるが、以下に述べる当該接続部の詳細部分については、能動素子40および受動素子41の両方で共通である。   Here, with reference to FIG. 2 as well, the details of the connecting portion between the components 40 and 41 and the land 20 will be described. The detailed portion of the connecting portion described below is common to both the active element 40 and the passive element 41. It is.

本実施形態では、図1、図2に示されるように、基板10の一面11における平面サイズは、導電性接合材30よりもランド20の第1の層21の方が大きくなっており、第1の層21の端部21aは導電性接合材30の端部30aよりもはみ出している。たとえば第2の層22が平面矩形である場合、この第2の層22の上に、第2の層22よりも一回り小さい導電性接合材30が設けられている。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the planar size of one surface 11 of the substrate 10 is larger in the first layer 21 of the land 20 than in the conductive bonding material 30. The end 21 a of one layer 21 protrudes beyond the end 30 a of the conductive bonding material 30. For example, when the second layer 22 is a plane rectangle, the conductive bonding material 30 that is slightly smaller than the second layer 22 is provided on the second layer 22.

そして、図1、図2に示されるように、本実施形態のランド20においては、第1の層21は、第2の層22よりも平面サイズが小さいものとされている。これにより、第1の層21の端部21aが第2の層22の端部22aよりも引っ込んだ位置とされている。   As shown in FIGS. 1 and 2, in the land 20 of this embodiment, the first layer 21 has a smaller planar size than the second layer 22. As a result, the end portion 21 a of the first layer 21 is in a position where the end portion 22 a of the second layer 22 is retracted.

そして、これら第1の層21の端部21aの表面(ここではAuめっき23)および第2の層22の端部22aの表面(ここではAuめっき23)は、ともにモールド樹脂50に接触して封止されている。   The surface of the end portion 21a of the first layer 21 (here, Au plating 23) and the surface of the end portion 22a of the second layer 22 (here, Au plating 23) are both in contact with the mold resin 50. It is sealed.

たとえば、第2の層22が平面矩形をなす場合、その下の第1の層21はそれよりも一回り小さい平面矩形をなすものにできる。そして、この場合、第1の層21の各辺は第2の層22の各辺よりも引っ込んだ位置にあるものとされている。   For example, when the second layer 22 forms a planar rectangle, the first layer 21 therebelow can have a planar rectangle that is slightly smaller than that. In this case, each side of the first layer 21 is in a position retracted from each side of the second layer 22.

また、モールド樹脂50が第1の層21の端部21aに接触するように、モールド樹脂50を第2の層22の下側に入り込ませるためには、第1の層21の厚さをそのような厚さに確保することが必要である。この点を考慮すると、第1の層21の厚さは、限定するものではないが、たとえば20nm以上とすることが望ましい。   In order to allow the mold resin 50 to enter the lower side of the second layer 22 so that the mold resin 50 contacts the end portion 21a of the first layer 21, the thickness of the first layer 21 is set to the thickness of the first layer 21. It is necessary to ensure such a thickness. Considering this point, the thickness of the first layer 21 is not limited, but is preferably 20 nm or more, for example.

ところで、本実施形態によれば、ランド20を、第1の層21、第2の層22が順次積層されたものとし、第1の層21の端部21aを第2の層22の端部22aよりも引っ込んだ位置としている。   By the way, according to this embodiment, the land 20 is formed by sequentially laminating the first layer 21 and the second layer 22, and the end 21 a of the first layer 21 is the end of the second layer 22. The position is retracted from 22a.

ここにおいて、図2中の実線矢印H1に示されるように、ランド20のうち部品40、41側である第2の層22側からモールド樹脂50の剥離が発生し、この剥離が基板10側である第1の層21側に進行してきたとする。このとき従来では、本実施形態のようにランド20の端部のうち基板10側が引っ込んだものとされていないので、図2中の破線矢印H2に示されるように、剥離はそのまま基板10の一面11に到達し、基板10にダメージを与える。   Here, as indicated by a solid arrow H1 in FIG. 2, the mold resin 50 is peeled off from the second layer 22 side on the parts 40 and 41 side of the land 20, and this peeling is caused on the substrate 10 side. Suppose that it progresses to a certain first layer 21 side. At this time, conventionally, since the substrate 10 side of the end portion of the land 20 is not retracted as in the present embodiment, the peeling is directly performed on one surface of the substrate 10 as indicated by a broken-line arrow H2 in FIG. 11 is reached and the substrate 10 is damaged.

それに対して、本実施形態では、ランド20において第1の層21の端部21aと第2の層22の端部22aの両方にモールド樹脂50が接触しており、第1の層21の端部21aが第2の層22の端部22aよりも引っ込んだ位置とされている。そのため、ランド20の端部とモールド樹脂50との界面は、従来よりも多くの曲がり部を有する形状とされている。   On the other hand, in this embodiment, in the land 20, the mold resin 50 is in contact with both the end portion 21 a of the first layer 21 and the end portion 22 a of the second layer 22. The portion 21 a is a position where the end portion 22 a of the second layer 22 is retracted. Therefore, the interface between the end portion of the land 20 and the mold resin 50 has a shape having more bent portions than in the past.

たとえば、本実施形態では、図2に示されるように、第1の層21の端部21aにおける下面側の角部により構成される曲がり部M1と、第1の層の下面と第2の層の端部とにより構成される曲がり部M2との2箇所の曲がり部が、従来に比べて追加された形となっている。   For example, in the present embodiment, as shown in FIG. 2, a bent portion M <b> 1 constituted by a corner portion on the lower surface side at the end portion 21 a of the first layer 21, a lower surface of the first layer, and a second layer The two bent portions including the bent portion M <b> 2 constituted by the end portions of the two are added in comparison with the conventional one.

それゆえ、本実施形態では、従来に比べて、当該剥離の進行方向の転換箇所が多くなっていることから、当該剥離の進行速度を遅くすることができる。そのため、本実施形態によれば、ランド20の表面がAuめっきを施されたものであっても、ランド20とモールド樹脂50との剥離が基板10の一面11に到達する速度を極力遅くすることができる。そして、モールドパッケージの信頼性向上が図れる。   Therefore, in this embodiment, since the number of places where the peeling progress direction is changed is larger than that in the past, the speed of the peeling can be reduced. Therefore, according to this embodiment, even if the surface of the land 20 is Au-plated, the speed at which the separation between the land 20 and the mold resin 50 reaches the one surface 11 of the substrate 10 is made as slow as possible. Can do. Further, the reliability of the mold package can be improved.

また、上述したが、本実施形態においては、ランド20における第1の層21と第2の層22とは、互いに異なる金属よりなるものとしている。これは、第1の層21と第2の層22とを異なる平面形状のものとして製造しやすい、という理由による。これについて、さらに述べる。   As described above, in the present embodiment, the first layer 21 and the second layer 22 in the land 20 are made of different metals. This is because it is easy to manufacture the first layer 21 and the second layer 22 with different planar shapes. This will be further described.

一部は上述したが、このような第1の層21および第2の層22よりなるランド20は、具体的には、第1の層21を成膜してエッチングでパターニングした後、その上に第2の層22を全面成膜し、これをエッチングでパターニングすることにより形成される。   As described above, a part of the land 20 including the first layer 21 and the second layer 22 is specifically formed after the first layer 21 is formed and patterned by etching. The second layer 22 is formed on the entire surface and is patterned by etching.

ここで、本実施形態のランド20は、第1の層21と第2の層22とが同一金属よりなるものとしてもよい。しかし、その場合、すでにパターニングされた第1の層21上の第2の層22をエッチング液でパターニングするとき、両層21、22は同じエッチング液でエッチングされるので、下側の第1の層21をマスクする等の工夫が必要となる。   Here, in the land 20 of the present embodiment, the first layer 21 and the second layer 22 may be made of the same metal. However, in that case, when the second layer 22 on the already patterned first layer 21 is patterned with the etching solution, both layers 21 and 22 are etched with the same etching solution, so the lower first layer 21 is etched. A device such as masking the layer 21 is required.

その点、第1の層21と第2の層22とが異種金属であれば、互いのエッチング液が異なるため、第2の層21のエッチング液によって下側の第1の層21はエッチングされないようにできる。そのため、第1の層21、第2の層22を共に所望の平面形状に制御しやすく、ランド形成が容易になる。   In that regard, if the first layer 21 and the second layer 22 are different metals, the etching liquids of the second layer 21 are not etched by the etching liquid of the second layer 21 because the etching liquids are different from each other. You can Therefore, both the first layer 21 and the second layer 22 can be easily controlled to have a desired planar shape, and land formation is facilitated.

(第2実施形態)
本発明の第2実施形態について、図3を参照して述べるが、本実施形態では、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
(Second Embodiment)
The second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 3. In the present embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described.

上記第1実施形態では、上記図2に示されるように、ランド20において、積層された第1の層21および第2の層22の両表面をAuめっき23により構成していた。それにより、第1の層21および第2の層22ともに、モールド樹脂50と接触する全表面がAuめっき23とされていた。   In the first embodiment, as shown in FIG. 2, in the land 20, both surfaces of the first layer 21 and the second layer 22 that are stacked are configured by the Au plating 23. As a result, both the first layer 21 and the second layer 22 had the Au plating 23 on the entire surface in contact with the mold resin 50.

これに対して、図3に示されるように、本実施形態では、第2の層22については、モールド樹脂50と接触する表面、すなわち第2の層22の端部22aの表面はAuめっき23とせずに、第2の層22を構成するベース金属を当該表面としている。このような構成は、Auめっき23処理の際に、第1の層21の端部21aをマスキングする等により実現できる。   On the other hand, as shown in FIG. 3, in the present embodiment, the surface of the second layer 22 that contacts the mold resin 50, that is, the surface of the end 22 a of the second layer 22 is Au plated 23. Instead, the base metal constituting the second layer 22 is the surface. Such a configuration can be realized by masking the end 21a of the first layer 21 during the Au plating 23 treatment.

Auめっき23は、元来モールド樹脂50との密着性が低い。そのため、本実施形態によれば、第1の層21におけるモールド樹脂50との接触面(Auめっき23無し)は、第2の層22におけるモールド樹脂50との接触面(Auめっき23有り)に比べて、モールド樹脂50との密着性が高い面とすることができる。   The Au plating 23 originally has low adhesion to the mold resin 50. Therefore, according to this embodiment, the contact surface with the mold resin 50 in the first layer 21 (without the Au plating 23) is the contact surface with the mold resin 50 in the second layer 22 (with the Au plating 23). Compared to the mold resin 50, the surface can be made higher.

そして、本実施形態によれば、基板10の一面11に近い側の第1の層21とモールド樹脂50との密着力が高められるため、これら両者の剥離をより発生しにくくでき、モールド樹脂50の剥離を基板10の一面11に到達しにくくするという点で、望ましい。   And according to this embodiment, since the adhesive force of the 1st layer 21 near the one surface 11 of the board | substrate 10 and the mold resin 50 is improved, both of these can be made hard to generate | occur | produce and the mold resin 50 can be made. Is preferable in that it is difficult to reach the surface 11 of the substrate 10.

(第3実施形態)
本発明の第3実施形態について、図4を参照して述べる。本実施形態は、上記第2実施形態と同様、第1の層21におけるモールド樹脂50との接触面を、第2の層22におけるモールド樹脂50との接触面に比べてモールド樹脂50との密着性が高い面とするものである。
(Third embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, as in the second embodiment, the contact surface of the first layer 21 with the mold resin 50 is closer to the mold resin 50 than the contact surface of the second layer 22 with the mold resin 50. It is a surface with high properties.

本実施形態では、図4に示されるように、Auめっき23を施さない第1の層21の端部21aを更に、粗化処理された面としたものである。具体的には、Ni粗化めっき処理等を行えばよい。これによれば、第1の層21の端部21aとモールド樹脂50との密着性の更なる向上が期待できる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the end portion 21 a of the first layer 21 to which the Au plating 23 is not applied is further a roughened surface. Specifically, Ni roughening plating treatment or the like may be performed. According to this, the further improvement of the adhesiveness of the edge part 21a of the 1st layer 21 and the mold resin 50 can be anticipated.

(他の実施形態)
なお、可能ならば、Auめっき23は省略されたものであってもよい。つまり、ランド20の表面全体が、Auめっき23が施されたものではなく、第1の層21および第2の層22のベース金属が、ランド20の表面を構成するものであってもよい。たとえばモールドパッケージにおいてワイヤパッド60を持たない構成等の場合には、そのような構成を採用可能である。
(Other embodiments)
If possible, the Au plating 23 may be omitted. That is, the entire surface of the land 20 is not subjected to the Au plating 23, and the base metal of the first layer 21 and the second layer 22 may constitute the surface of the land 20. For example, such a configuration can be adopted in a case where the mold package does not have the wire pad 60.

また、上記各図では、導電性接合材30の端部30aが、ランド20における第2の層22の端部22aよりも引っ込んでいた。しかしながら、第1の層21まで到達しなければ、導電性接合材30の端部30aは、第2の層22の上面から第2の層22の端部22aにまで垂れることにより、第2の層22の端部22aよりもはみ出したものとなっていてもよい。   Moreover, in each said figure, the edge part 30a of the electroconductive joining material 30 was retracted rather than the edge part 22a of the 2nd layer 22 in the land 20. FIG. However, if the first layer 21 is not reached, the end 30a of the conductive bonding material 30 hangs down from the upper surface of the second layer 22 to the end 22a of the second layer 22, so that the second The layer 22 may protrude beyond the end 22a.

また、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。また、上記各実施形態は、互いに無関係なものではなく、組み合わせが明らかに不可な場合を除き、適宜組み合わせが可能であり、また、上記各実施形態は、上記の図示例に限定されるものではない。また、上記各実施形態において、実施形態を構成する要素は、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。また、上記各実施形態において、実施形態の構成要素の個数、数値、量、範囲等の数値が言及されている場合、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではない。また、上記各実施形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に特定の形状、位置関係等に限定される場合等を除き、その形状、位置関係等に限定されるものではない。   Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed within the scope described in the claims. The above embodiments are not irrelevant to each other, and can be combined as appropriate unless the combination is clearly impossible, and the above embodiments are not limited to the illustrated examples. Absent. In each of the above-described embodiments, it is needless to say that elements constituting the embodiment are not necessarily essential unless explicitly stated as essential and clearly considered essential in principle. Yes. Further, in each of the above embodiments, when numerical values such as the number, numerical value, quantity, range, etc. of the constituent elements of the embodiment are mentioned, it is clearly limited to a specific number when clearly indicated as essential and in principle. The number is not limited to the specific number except for the case. Further, in each of the above embodiments, when referring to the shape, positional relationship, etc. of the component, etc., the shape, unless otherwise specified and in principle limited to a specific shape, positional relationship, etc. It is not limited to the positional relationship or the like.

10 基板
11 基板の一面
20 ランド
21 第1の層
21a 第1の層の端部
22 第2の層
22a 第2の層の端部
30 導電性接合材
40 部品としての能動素子
41 部品としての受動素子
50 モールド樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 11 One side of substrate 20 Land 21 First layer 21a End portion of first layer 22 Second layer 22a End portion of second layer 30 Conductive bonding material 40 Active element 41 as component 41 Passive as component Element 50 Mold resin

Claims (3)

基板(10)と、
前記基板の一面(11)上に設けられた金属よりなるランド(20)と、
前記ランド上に設けられた導電性接合材(30)と、
前記導電性接合材上に設けられ前記導電性接合材を介して前記ランドに接合された部品(40、41)と、
前記基板の一面上に設けられ前記ランド、前記導電性接合材および前記部品を封止するモールド樹脂(50)と、を備え、
前記ランドは、前記基板の一面側から金属よりなる第1の層(21)、金属よりなる第2の層(22)が順次積層されたものであり、
前記第1の層は、前記第2の層よりも平面サイズが小さいものとすることにより、前記第1の層の端部(21a)が前記第2の層の端部(22a)よりも引っ込んだ位置とされており、これら第1および第2の両層の端部がともに前記モールド樹脂に接触していることを特徴とするモールドパッケージ。
A substrate (10);
A land (20) made of metal provided on one surface (11) of the substrate;
A conductive bonding material (30) provided on the land;
Components (40, 41) provided on the conductive bonding material and bonded to the land via the conductive bonding material;
A mold resin (50) provided on one surface of the substrate for sealing the land, the conductive bonding material, and the component;
The land is formed by sequentially laminating a first layer (21) made of metal and a second layer (22) made of metal from one side of the substrate,
The first layer has a planar size smaller than that of the second layer, so that the end (21a) of the first layer is recessed more than the end (22a) of the second layer. A mold package characterized in that both ends of the first and second layers are in contact with the mold resin.
前記第1の層と前記第2の層とは、互いに異なる金属よりなることを特徴とする請求項1に記載のモールドパッケージ。   The mold package according to claim 1, wherein the first layer and the second layer are made of different metals. 前記第1の層における前記モールド樹脂との接触面は、前記第2の層における前記モールド樹脂との接触面に比べて前記モールド樹脂との密着性が高い面とされていることを特徴とする請求項1または2に記載のモールドパッケージ。   The contact surface of the first layer with the mold resin is a surface having higher adhesion to the mold resin than the contact surface of the second layer with the mold resin. The mold package according to claim 1 or 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015028998A (en) * 2013-07-30 2015-02-12 株式会社豊田自動織機 Semiconductor device

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