JP2014138151A - Circuit formation device and circuit formation method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、オフセット印刷によって回路を形成する回路形成装置及び回路形成方法に関するものである。 The present invention relates to a circuit forming apparatus and a circuit forming method for forming a circuit by offset printing.
従来の凹版(以下、グラビアと称する場合がある。)オフセット印刷技術の一つに、輪転式の凹版オフセット印刷機に透明フィルムを供給し、ペーストインキを透明フィルムに転写させることにより電磁波シールドパターンを印刷し、印刷後に当該パターンを加熱処理してペーストインキを硬化させることにより、電磁波シールドパターンを形成する技術が知られている(例えば特許文献1参照)。 One of the conventional intaglio (hereinafter sometimes referred to as gravure) offset printing techniques is to supply a transparent film to a rotary intaglio offset printing machine and transfer the paste ink to the transparent film to create an electromagnetic shielding pattern. A technique for forming an electromagnetic wave shielding pattern by printing and curing the paste ink by heating the pattern after printing is known (see, for example, Patent Document 1).
こうしたフィルムは、加熱により熱収縮が生じて変形しやすく、加熱処理工程の前後で寸法変化が生じるため、厳密な寸法制御が要求される電子回路等の印刷にこのまま適用することはできない。そこで、この様な加熱処理時におけるフィルムの寸法変化を抑制するために、加熱処理よりも高い温度で印刷前に予め熱処理(以下、アニール処理と称する。)を施すことが一般に行われている。 Such a film is easily deformed due to heat shrinkage due to heating, and changes in dimensions before and after the heat treatment process, and thus cannot be applied to printing of electronic circuits or the like that require strict dimensional control. Therefore, in order to suppress the dimensional change of the film during such heat treatment, it is generally performed in advance to perform heat treatment (hereinafter referred to as annealing treatment) before printing at a temperature higher than that of the heat treatment.
しかしながら、このアニール処理を施すことによっても結局、フィルムに歪みが生じるため、転写工程が進むにつれてこうした歪みが徐々に蓄積してフィルムに皺が発生してしまい、所望の印刷パターンが正しく印刷されない場合があるという問題がある。 However, even if this annealing treatment is performed, the film will eventually be distorted. As the transfer process proceeds, the distortion gradually accumulates and wrinkles occur on the film, and the desired print pattern is not printed correctly. There is a problem that there is.
本発明が解決しようとする課題は、印刷時におけるフィルムの皺の発生を抑制可能な回路形成装置及び回路形成方法を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a circuit forming apparatus and a circuit forming method capable of suppressing the occurrence of film wrinkles during printing.
[1]本発明に係る回路形成装置は、転写ローラと圧胴を少なくとも備え、グラビアオフセット印刷法によって回路を形成する回路形成装置であって、前記転写ローラは、ブランケット胴と、前記ブランケット胴に粘着層を介して巻回されたブランケットと、を有し、前記ブランケット胴の周面に形成された前記ブランケットのギャップの幅W1は、前記転写ローラの軸方向の全域に亘って実質的に一定であり、下記(1)式を満たすことを特徴とする。
W1>W2・・・(1)
ただし、上記の(1)式において、W2は前記圧胴に対する前記ブランケットのニップ幅である。
[1] A circuit forming apparatus according to the present invention is a circuit forming apparatus that includes at least a transfer roller and an impression cylinder, and forms a circuit by a gravure offset printing method. The transfer roller is provided on a blanket cylinder and the blanket cylinder. A blanket wound through an adhesive layer, and a width W1 of the blanket gap formed on the peripheral surface of the blanket cylinder is substantially constant over the entire axial direction of the transfer roller. And satisfies the following expression (1).
W1> W2 (1)
In the above formula (1), W2 is the nip width of the blanket with respect to the impression cylinder.
[2]上記発明において、前記ギャップの少なくとも一部は、前記転写ローラの回転方向後方に向かって傾斜しており、前記ギャップ幅W1は、前記転写ローラの軸方向の全域に亘って実質的に一定であり、下記(2)式を満たしてもよい。
W3>W1×2−W2・・・(2)
ただし、上記の(2)式において、W3は前記ブランケットにおいて前記ギャップが形成された領域の幅である。
[2] In the above invention, at least a part of the gap is inclined rearward in the rotation direction of the transfer roller, and the gap width W1 substantially extends over the entire area in the axial direction of the transfer roller. It may be constant and may satisfy the following formula (2).
W3> W1 × 2-W2 (2)
However, in said Formula (2), W3 is the width | variety of the area | region in which the said gap was formed in the said blanket.
[3]上記発明において、前記転写ローラの回転方向における前記ギャップの最前部は、前記転写ローラの軸方向における略中央に形成されてもよい。 [3] In the above invention, the foremost part of the gap in the rotation direction of the transfer roller may be formed at substantially the center in the axial direction of the transfer roller.
[4]上記発明において、前記ギャップは、前記ブランケット胴の周面に複数形成されていてもよい。 [4] In the above invention, a plurality of the gaps may be formed on a peripheral surface of the blanket cylinder.
[5]本発明に係る回路形成方法は、転写ローラと圧胴を備えたグラビアオフセット印刷機を用いて基材に回路を形成する回路形成方法であって、前記転写ローラは、ブランケット胴と、前記ブランケット胴に粘着層を介して巻回されたブランケットと、を有し、前記ブランケットのギャップが前記圧胴と対向する際に、前記圧胴と前記ブランケットとの間のニップ圧を解放することを特徴とする。 [5] A circuit forming method according to the present invention is a circuit forming method for forming a circuit on a base material using a gravure offset printing machine having a transfer roller and an impression cylinder, the transfer roller including a blanket cylinder, A blanket wound around the blanket cylinder through an adhesive layer, and releasing a nip pressure between the impression cylinder and the blanket when a gap of the blanket faces the impression cylinder It is characterized by.
[6]上記発明において、前記ブランケットのギャップの幅W1は、前記転写ローラの軸方向の全域に亘って実質的に一定であり、下記(1)式を満たしてもよい。
W1>W2・・・(1)
ただし、上記の(1)式において、W2は前記圧胴に対する前記ブランケットのニップ幅である。
[6] In the above invention, the gap width W1 of the blanket is substantially constant over the entire area in the axial direction of the transfer roller, and may satisfy the following expression (1).
W1> W2 (1)
In the above formula (1), W2 is the nip width of the blanket with respect to the impression cylinder.
[7]上記発明において、前記ギャップの少なくとも一部は、前記転写ローラの回転方向後方に向かって傾斜しており、前記ギャップ幅W1は、前記転写ローラの軸方向の全域に亘って実質的に一定であり、下記(2)式を満たしてもよい。
W3>W1×2−W2・・・(2)
ただし、上記の(2)式において、W3は前記ブランケットにおいて前記ギャップが形成された領域の幅である。
[7] In the above invention, at least a part of the gap is inclined rearward in the rotation direction of the transfer roller, and the gap width W1 substantially extends over the entire area in the axial direction of the transfer roller. It may be constant and may satisfy the following formula (2).
W3> W1 × 2-W2 (2)
However, in said Formula (2), W3 is the width | variety of the area | region in which the said gap was formed in the said blanket.
[8]上記発明において、前記転写ローラの回転方向における前記ギャップの最前部は、前記転写ローラの軸方向における略中央に形成されていてもよい。 [8] In the above invention, the foremost part of the gap in the rotation direction of the transfer roller may be formed at a substantially center in the axial direction of the transfer roller.
[9]上記発明において、前記圧胴は、前記転写ローラが1回転する毎に、前記ブランケットのギャップと少なくとも2回対向してもよい。 [9] In the above invention, the impression cylinder may face the blanket gap at least twice each time the transfer roller makes one rotation.
本発明によれば、ブランケットのギャップ幅が、圧胴に対するブランケットのニップ幅よりも相対的に広く形成されているので、ブランケットと圧胴との間で基材に印加されるニップ圧が、上記ギャップにおいて解放される。このため、印刷中の基材に皺が発生することを抑制することができる。 According to the present invention, since the gap width of the blanket is formed relatively wider than the nip width of the blanket with respect to the impression cylinder, the nip pressure applied to the substrate between the blanket and the impression cylinder is Freed in the gap. For this reason, it can suppress that wrinkles generate | occur | produce on the base material during printing.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<第1実施形態>
図1は本実施形態における回路形成装置1の構成を示す概要図であり、図2は図1におけるII部の拡大図であり、図3は本実施形態におけるブランケット23のギャップ24を示す平面図である。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a schematic view showing a configuration of a circuit forming apparatus 1 in the present embodiment, FIG. 2 is an enlarged view of a portion II in FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view showing a
本実施形態における回路形成装置1は、グラビアオフセット印刷法によって基材91にインク92を印刷することにより、プリント配線板の配線パターンを形成する装置であり、図1に示すように、グラビアローラ10と、第1駆動機構13と、転写ローラ20と、第2駆動機構25と、圧胴30と、送出部40と、巻取部50と、サクションローラ(Suction Roller)60と、乾燥炉70と、を備えている。
The circuit forming apparatus 1 in the present embodiment is an apparatus that forms a wiring pattern of a printed wiring board by printing
本実施形態における基材91の具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等で構成されるフィルムを挙げることができるが、特にこれに限定されない。また、インク92の具体例としては、例えば、銀(Ag)、銅(Cu)、カーボン(C)等の導電材を含有した導電性ペーストを挙げることができる。
Specific examples of the
なお、インク92を印刷して乾燥炉70で乾燥を行う際に、基材91の変形や寸法変化を抑制させるため、基材91には予め乾燥温度よりも高い温度でのアニール処理が施されている。本実施形態においてこのアニール処理は、後述する第2駆動機構25によって転写ローラ20を基材91から離した状態で回路形成装置1を駆動させ、予め乾燥温度よりも高い温度に設定された乾燥炉70の中に基材91を通過させることによって行われるが、アニール処理を行う方法は特に限定されない。例えば、回路形成装置1から独立した加熱機器を用いて基材91にアニール処理を施してもよい。
When the
図1に示すように、グラビアローラ10は、版胴11と、グラビア版12と、を備えている。版胴11は、円筒形状を有すると共に、特に図示しないモータ等によってその軸心を中心として回転駆動することが可能となっている。グラビア版12は、この版胴11の外周に巻回されている。特に図示しないが、グラビア版12の表面には、基材91に印刷する印刷パターンに対応した凹パターンが形成されている。
As shown in FIG. 1, the gravure roller 10 includes a plate cylinder 11 and a
このグラビアローラ10の周囲には、グラビア版12上を先端が摺接するようにドクターブレード14が設けられている。このドクターブレード14によって、グラビア版12の凹パターン内にインク92が充填されつつ、余分なインク92がグラビア版12上から掻き取られるようになっている。
A
第1駆動機構13は、図1に示すように、駆動部131と支持部132から構成され、当該支持部132はグラビアローラ10の軸心を保持している。この第1駆動機構13は、駆動部131に内蔵されるモータ等(不図示)によって支持部132を前後に動かすことが可能となっている。そして、この支持部132の前後動によって、グラビアローラ10は、後述する転写ローラ20に対して接近又は離反することが可能となっている。
As shown in FIG. 1, the
この第1駆動機構13によって、転写ローラ20に対するグラビアローラ10の軸心位置を調整することが可能となっており、これによりグラビアローラ10と転写ローラ20との受理時におけるニップ圧を最適化できるようになっている。
The
転写ローラ20は、ブランケット胴21と、粘着層22と、ブランケット23と、を有している。ブランケット胴21は、円筒形状を有しており、特に図示しないモータ等によってその軸心を中心として回転駆動することが可能となっている。
The
粘着層22は、図2に示すように、ブランケット胴21とブランケット23との間に形成されており、当該粘着層22によってブランケット23がブランケット胴21の周面上に固定されている。この粘着層22は、両面に表面粘着性を有する樹脂フィルムや金属シート等を、ブランケット胴21とブランケット23との間に介装することによって形成される。なお、粘着層を形成する方法や材料は特に限定されず、例えば、一方の面に表面粘着性を有するブランケット23をブランケット胴21の外周に直接巻回させることで、粘着層を形成しても良い。
As shown in FIG. 2, the
ブランケット23は、グラビア版12からインク92を受理し、基材91へ転写するする機能を有しており、ブランケット胴21の外周に巻回されている。ここで、ブランケット23には、一般的に、シリコーンゴム、フッ素ゴム、フロロシリコーンゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム(NBR)、フッ素ゴム、アクリルゴム、またはクロロプレンゴム等の材料を用いているが、インクの離型性に優れているという観点から、シリコーンゴムを用いるのが好ましい。
The
また、図3に示すように、転写ローラ20には、ブランケット23の後端部231(転写ローラ20の回転方向におけるブランケット23の後端)から先端部232(転写ローラ20の回転方向におけるブランケット23の先端)に亘ってブランケット胴21の表面が露出するギャップ24が設けられている。なお、このギャップ24は、転写ローラ20の回転方向にギャップ幅W1(後端部231と先端部232の間の直線距離)を有している。このW1は、転写ローラ20の軸方向全域に亘って実質的に一定となっている。
As shown in FIG. 3, the
本実施形態において、転写ローラ20は、グラビアローラ10に対向するように配置されており、グラビア版12とブランケット23を接触させた状態で、グラビアローラ10と転写ローラ20を共に回転させることで、グラビア版12に充填されていたインク92がブランケット23に受理される。
In the present embodiment, the
第2駆動機構25は、図1に示すように、駆動部251と支持部252から構成され、当該支持部252は転写ローラ20の軸心を保持している。この第2駆動機構25は、駆動部251に内蔵されるモータ等(不図示)によって支持部252を前後に動かすことが可能となっており、この支持部252の前後動によって、グラビアローラ10及び後述する圧胴30に対して転写ローラ20を接近又は離反することが可能となっている。転写ローラ20がグラビアローラ10に接近して接触することにより、グラビア版12からブランケット23へのインク92の受理が可能となり、転写ローラ20をグラビアローラ10から離反させることにより、受理を停止することができる。また、転写ローラ20が基材91を挟んで圧胴30に接近してブランケット23を圧胴30に押し付けること(以下、上記の作用をニップと称する。)で、転写ローラ20から基材91へのインク92の転写が可能となる。また、転写ローラ20を圧胴30から離反させることにより、転写ローラ20から基材91へのインク92の転写を停止することができる。
As shown in FIG. 1, the
また、この第2駆動機構25によって、圧胴30に対する転写ローラ20の軸心位置を調整することが可能となっており、これにより転写ローラ20と圧胴30に挟まれた基材91と、転写ローラ20との転写時におけるニップ圧及びニップ幅を最適化できるようになっている。
In addition, the
なお、ニップ幅とは、図2に示すように、転写ローラ20と圧胴30とが接近した際のニップ圧によってブランケット23が基材91を介して圧胴30に密着し、当該ブランケット23が圧胴30の周面に沿って変形している部分の幅W2(直線距離)のことである。
As shown in FIG. 2, the nip width means that the
本実施形態では、転写ローラ20と圧胴30との対向部分における上記のニップ幅W2と、ブランケット23におけるギャップ24のギャップ幅W1とが、下記(1)式を満たすよう第2駆動機構25等を用いて調整される。
W1>W2・・・(1)
In the present embodiment, the
W1> W2 (1)
圧胴30は、転写ローラ20に対向するように配置された円筒状の部材であり、特に図示しないモータ等によってその軸心を中心として回転駆動することが可能となっている。この圧胴30に対して転写ローラ20を所定のニップ圧で押し付けた状態で、転写ローラ20と圧胴30との間に基材91を通過させることで、ブランケット23に保持されているインク92が基材91に転写される。
The
本実施形態における回路形成装置1では、送出部40、巻取部50、及びサクションローラ60によって、転写ローラ20と圧胴30との間に、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll)方式で基材91を供給することが可能となっている。
In the circuit forming apparatus 1 according to the present embodiment, a so-called roll-to-roll system is provided between the
具体的には、図1に示すように、送出部40は、転写ローラ20及び圧胴30の上流側に設けられており、印刷前の基材91がロール状に巻回されている。この送出部40のローラを図中反時計回りに回転させることで、印刷前の基材91が、転写ローラ20と圧胴30の間に連続的に供給される。なお、本実施形態において、「上流側」及び「下流側」とは、印刷を行う際の基材91の搬送方向を基準とする。
Specifically, as shown in FIG. 1, the
一方、巻取部50は、転写ローラ20及び圧胴30の下流側に設けられており、印刷済みの基材91が乾燥炉70を通過した後、ロール状に巻き取られる。この巻取部50のロールを図中反時計回りに回転させることで、印刷済みの基材91が転写ローラ20と圧胴30の間から連続的に回収される。
On the other hand, the winding
本実施形態では、サクションローラ60によって基材91の送り出しを制御する。特に図示しないが、このサクションローラ60は、その外周面に開口する多数の吸引口を有しており、この吸引口を介して基材91を吸着保持しつつ回転させることで、基材91を上流或いは下流側に送り出す。
In the present embodiment, the feeding of the
基材91にインク92が印刷されると、当該基材91上に所定の印刷パターンが所定ピッチで繰り返し形成される。サクションローラ60と巻取部50の間には、図1に示すように、乾燥炉70が設けられており、基材91はサクションローラ60によって送り出された後、乾燥炉70を通過する。基材91は、当該乾燥炉70を通過する間に130℃〜200℃程度の温度条件下に置かれ、この間にインク92は順次乾燥され、硬化される。これにより、基材91上に配線パターンが形成される。なお、乾燥炉70としては、例えば赤外線乾燥炉や熱風乾燥炉等を使用することができる。
When the
次に、本実施形態の作用について説明する。 Next, the operation of this embodiment will be described.
回路形成装置1によって基材91上に配線パターンを印刷する場合、図1に示すように、図中において時計回りに回転する転写ローラ20と、反時計回りに回転する圧胴30との間を、基材91が通過することによって当該印刷が行われる。
When a circuit pattern is printed on the
この際に、インク92を、グラビアローラ10のグラビア版12から転写ローラ20のブランケット23に受理して、この受理されたインク92を、転写工程で確実に基材91上に転写する必要がある。このため、この転写工程において基材91は、転写ローラ20と圧胴30との間で挟圧されることにより、転写ローラ20のブランケット23に所定のニップ幅W2で押し付けられる。
At this time, it is necessary to receive the
ここで、印刷後にインク92を高温乾燥させる際における基材91の変形や寸法変化を抑制するため、一般的に基材91には、予めアニール処理されたものを用いている。しかし、この場合、アニール処理によって印刷前の段階で基材91に歪みが生じているため、転写工程において基材91が転写ローラ20と圧胴30との間で挟圧されると、当該挟圧部分において基材91上に歪みが蓄積することとなる。
Here, in order to suppress deformation and dimensional change of the
これに対し、本実施形態では、転写ローラ20におけるブランケット23のギャップ幅W1と、転写ローラ20におけるブランケット23と圧胴30とで形成するニップ幅W2とが上記(1)式を満たしている。
On the other hand, in the present embodiment, the gap width W1 of the
このため、転写時においてギャップ24が基材91を介して圧胴30と対向する際に、基材91はブランケット23のニップ圧から解放される。これにより、基材91の歪みは下流側に逃げる。
Therefore, the
この様に、転写時において、ギャップ24が基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは下流側に逃げるため、基材91上に歪みが蓄積して皺が発生するのを抑制することができ、印刷の精度向上を図ることができる。
In this way, at the time of transfer, every time the
<第2実施形態>
図4は本発明の第2実施形態での回路形成装置のブランケット23Bにおけるギャップ24Bを示す平面図であり、図5は本発明のギャップ24Bの形状を説明するための説明図である。ここで、第2実施形態における回路形成装置は、ブランケット23Bのギャップ24Bの形状が異なること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一である部分については、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
Second Embodiment
FIG. 4 is a plan view showing the
本実施形態におけるブランケット23Bのギャップ24Bは、図4に示すように、ブランケット胴21(転写ローラ)の軸方向の全域に亘って一定のギャップ幅W1を有しつつ、転写ローラ20の回転方向後方に向かって傾斜した方向に延びるように設けられている。
As shown in FIG. 4, the
この場合にも、ブランケット23Bのギャップ幅W1と、転写ローラ20におけるブランケット23Bと圧胴30とで形成するニップ幅W2とが上記(1)式を満たしている。このため、転写時において当該ギャップ24Bが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Bに沿って下流側に逃げる。
Also in this case, the gap width W1 of the
また、本実施形態では、ギャップ24Bが、その左端24Lから転写ローラ20の回転方向に対して逆向きに傾斜して設けているので、ギャップ24Bの左端24Lから基材91の歪みが順次通過する。このため、ブランケット23Bによる基材91へのニップ圧は、ギャップ24Bの左端24Lから右端24Rに向かって解放される。これに伴い、転写時においてギャップ24Bが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Bの端部に沿って、左端24Lから右端24Rに向かって順次下流側に逃げる。これにより、基材91上に歪みが蓄積して皺が発生するのを抑制することができ、印刷の精度向上を図ることができる。
In this embodiment, since the
更に、本実施形態では、ギャップ幅W1と、ニップ幅W2とが下記(2)式を満たしている。
W3>W1×2−W2・・・(2)
但し、上記(2)式において、W3は、ブランケット23Bにおけるギャップ24Bの形成領域の幅(直線距離)であり、転写ローラ20の回転方向における最前部243と最後部244との間の幅である。
Furthermore, in this embodiment, the gap width W1 and the nip width W2 satisfy the following expression (2).
W3> W1 × 2-W2 (2)
However, in the above equation (2), W3 is the width (linear distance) of the formation area of the
上記(2)式の関係が成立することにより、ブランケット23Bのギャップ24Bが基材91を介して圧胴30と対向している間であっても、当該ブランケット23Bの一部が圧胴30に常にニップされている。
When the relationship of the above expression (2) is established, even if the
これに対し、図5に示すように、ブランケット23Bの後端部231における最後端233と、ブランケット23Bの先端部232における最先端234と、の間の距離がニップ幅W2と等しくなる場合は、ギャップ幅W1、ニップ幅W2、及びブランケット23Bにおけるギャップの形成領域の幅W3の関係は、W3=(W1)+(W1−W2)=W1×2−W2となる。また、ブランケット23Bの最後端233及び最先端234の間の距離に比べてニップ幅W2が相対的に小さくなった場合の上記の関係は、W3<W1×2−W2となる。
On the other hand, as shown in FIG. 5, when the distance between the
この様に、上記(2)式が成立しない場合、圧胴30にニップされる領域26は、ギャップの形成領域におけるブランケット23Bの最後端233及び最先端234の間に収まる。このため、圧胴30が当該ギャップの形成領域と対向する際、一時的にニップが解放される。この場合、当該ニップの解放に伴うブランケット胴21への衝撃によって、印刷面に縞模様の印刷濃度ムラ(いわゆるショック目)が生じることがある。
As described above, when the above equation (2) is not established, the
これに対し、本実施形態では、上記のように、ギャップ24Bがあるにもかかわらず、ブランケット23Bの一部が圧胴30に常にニップされているので、印刷時におけるニップ解放に伴うショック目の発生を抑制することができる。
On the other hand, in the present embodiment, as described above, a part of the
なお、グラビアローラ10に対するブランケット23Bのニップ幅についても、上記(2)式と同様の関係が成立するように第1駆動機構13を用いて当該ニップ幅を調整してもよい。この場合には、ブランケット23Bのギャップ24Bにおいてグラビアローラ10とブランケット胴21とが接触する衝撃によるショック目の発生を抑制することができる。
Note that the nip width of the
また、グラビアオフセット印刷によって回路を形成する場合、導電性ペーストを複数回重ねて印刷する場合がある。具体的には、印刷済みの基材91を巻取部50から取り外し、送出部40に再度取り付ける。その後に、転写ローラ20と圧胴30との間に当該基材91を通過させて印刷パターンを重ねて印刷する。この場合に、一回目の印刷のインクと二回目の印刷のインクは、同種のインクを用いてもよく、異種のインクを用いてもよい。
In addition, when a circuit is formed by gravure offset printing, the conductive paste may be printed multiple times. Specifically, the printed
この様な重ね印刷を行う場合に、ブランケット23Bのギャップ24Bが上記の形状を有することにより、上記のようにニップが解放されることがないため、当該ギャップ24Bでの基材91の滑送により生じる印刷位置ずれを軽減できる。このため、重ね印刷を行う際の印刷位置合わせの精度向上を図ることができる。
When performing such overprinting, since the
なお、本発明における「傾斜」には、本実施形態のような直線状の傾斜のみならず、曲線状の傾斜も含まれる。曲線状の傾斜を含む場合は、非ニップ領域(転写時において圧胴30とギャップ24Bが対向する際に、ブランケット23のニップ圧から解放される基材91の領域)をより広く確保し、基材91の歪みを下流側に逃がしやすくなるという観点から、転写ローラ20の軸方向端部側における当該曲線の曲率が、転写ローラ20の軸方向略中央部側における当該曲線の曲率よりも大きいことが好ましい。
The “tilt” in the present invention includes not only a straight slope as in the present embodiment but also a curved slope. In the case of including a curved slope, the non-nip region (the region of the
<第3実施形態>
図6は、本発明の第3実施形態における回路形成装置のブランケット23Cにおけるギャップ24Cを示す平面図である。ここで、第3実施形態における回路形成装置は、ブランケット23Cのギャップ24Cの形状が異なること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一である部分については、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<Third Embodiment>
FIG. 6 is a plan view showing a gap 24C in the
本実施形態におけるブランケット23Cのギャップ24Cは、図6に示すように、ブランケット胴21(転写ローラ)の軸方向の全域に亘って一定のギャップ幅W1を有しつつ、ブランケット胴21の軸方向に対して略中央に設けられた屈曲部241で屈曲した略V字型の形状を有している。すなわち、本実施形態におけるブランケット23Cのギャップ24Cは、転写ローラの回転方向後方に向かって2方向に傾斜して延びる領域を有している。
As shown in FIG. 6, the gap 24C of the
なお、本実施形態において、ギャップ24Cの右端24Rは、略V字型の形状の右端と一致しているが、特にこれに限定されない。例えば、ギャップ24Cの右端24Rと略V字型の形状の右端との間に、転写ローラ20の軸方向と略平行に伸びる領域を有していてもよい。同様に、ギャップ24Cの左端24Lは、略V字型の形状の左端と一致しているが、特にこれに限定されない。例えば、ギャップ24Cの左端24Lと略V字型の形状の左端との間に、転写ローラ20の軸方向と略平行に伸びる領域を有していてもよい。
In the present embodiment, the
この場合にも、ブランケット23Cのギャップ幅W1と、転写ローラ20におけるブランケット23Cと圧胴30とで形成するニップ幅W2とが上記(1)式を満たしている。このため、転写時において、ギャップ24Cが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Cに沿って下流側に逃げる。
Also in this case, the gap width W1 of the
本実施形態では、基材91の歪みは、ギャップ24Cの屈曲部241から右端24Rに向かって順次通過すると共に、ギャップ24Cの屈曲部241から左端24Lに向かって順次通過する。このため、ブランケット23Cによる基材91へのニップ圧は、屈曲部241から右端24R及び左端24Lに向かって解放される。これに伴い、転写時においてギャップ24Cが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは、当該ギャップ24Cの屈曲部241から右端24R及び左端24Lに向かって順次下流側に逃げる。これにより、基材91上に歪みが蓄積して皺が発生するのを抑制することができ、印刷の精度向上を図ることができる。
In the present embodiment, the distortion of the
更に、本実施形態においても、ブランケット23Cにおけるギャップ24Cの形成領域の幅W3は、ギャップ幅W1及びニップ幅W2との関係において、上記(2)式を満たしている。したがって、ブランケット23Bのギャップ24Cが基材91を介して圧胴30と対向している間であっても、ブランケット23Cの一部が圧胴30に常にニップされるため、印刷時におけるニップ解放に伴うショック目の発生を抑制することができる。
Furthermore, also in this embodiment, the width W3 of the formation region of the gap 24C in the
また、本実施形態においても、ギャップ24Cでの基材91の滑送により生じる印刷位置ずれを軽減できるため、重ね印刷を行う際の印刷位置合わせの精度向上を図ることができる。
Also in this embodiment, since the printing position shift caused by the sliding movement of the
<第4実施形態>
図7は、本発明の第4実施形態における回路形成装置のブランケット23Dにおけるギャップ24Dを示す平面図である。ここで、第4実施形態における回路形成装置は、ブランケット23Dのギャップ24Dの形状が異なること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一である部分については、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<Fourth embodiment>
FIG. 7 is a plan view showing a
本実施形態におけるギャップ24Dは、図7に示すように、ブランケット胴21の軸方向の全域に亘って一定のギャップ幅W1を有しつつ、ギャップ24Dの略中央部242から転写ローラ20の回転方向後方に向かって湾曲したU字型の形状を有している。
As shown in FIG. 7, the
この場合にも、ブランケット23Dのギャップ幅W1と、転写ローラ20におけるブランケット23Dと圧胴30とで形成するニップ幅W2とが上記(1)式を満たしている。このため、転写時において、当該ギャップ24Dが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Dに沿って下流側に逃げる。
Also in this case, the gap width W1 of the
本実施形態では、基材91の歪みは、ギャップ24Dの略中央において転写ローラ20の軸方向の広範囲に亘る略中央部242から右端24R及び左端24Lに向かって順次通過する。このため、ブランケット23Dによる基材91へのニップ圧は、ギャップ24Dの略中央部242から右端24R及び左端24Lに向かって解放される。これに伴い、転写時においてギャップ24Dが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Dの略中央部242から右端24R及び左端24Lに向かって順次下流側に逃げる。これにより、基材91上に歪みが蓄積して皺が発生するのを抑制することができ、印刷の精度向上を図ることができる。
In the present embodiment, the distortion of the
更に、本実施形態においても、ブランケット23Dにおけるギャップ24Dの形成領域の幅W3は、ギャップ幅W1及びニップ幅W2との関係において、上記(2)式を満たしている。したがって、ブランケット23Dのギャップ24Dが基材91を介して圧胴30と対向している間であっても、ブランケット23Dの一部が圧胴30に常にニップされるため、印刷時におけるニップ解放に伴うショック目の発生を抑制することができる。
Furthermore, also in this embodiment, the width W3 of the formation region of the
また、本実施形態においても、ギャップ24Dでの基材91の滑送により生じる印刷位置ずれを軽減できるため、重ね印刷を行う際の印刷位置合わせの精度向上を図ることができる。
Also in this embodiment, since the printing position shift caused by the sliding movement of the
<第5実施形態>
図8は、本発明の第5実施形態における回路形成装置のブランケット23Eにおけるギャップ24Eを示す平面図である。ここで、第5実施形態における回路形成装置は、ブランケット23Eのギャップ24Eの形状が異なること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一である部分については、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<Fifth Embodiment>
FIG. 8 is a plan view showing a gap 24E in the
本実施形態におけるギャップ24Eは、図8に示すように、ブランケット胴21の軸方向の全域に亘って一定のギャップ幅W1を有しつつ、ギャップ24Eの略中央には平坦部245を有している。平坦部245は、転写ローラ20の軸方向におけるブランケット胴の長さの3分の1を占めており、当該平坦部245の両端には、転写ローラ20の回転方向後方に向かって傾斜している傾斜部246R、246Lが形成されている。
As shown in FIG. 8, the gap 24E in the present embodiment has a constant gap width W1 over the entire area in the axial direction of the
平坦部245の長さは、圧胴30がブランケット23の後端部231と対向する際の非ニップ領域をより広く確保し、基材91の歪みを下流側に逃がしやすくなるという観点から、写ローラ20の軸方向におけるブランケット胴の長さの3分の1以上であればよく、転写ローラ20の軸方向におけるブランケット胴の長さの3分の2以上であればより好ましい。
The length of the
なお、本実施形態において、ギャップ24Eの右端24Rは傾斜部246Rと繋がっているが、特にこれに限定されない。例えば、ギャップ24Eの右端24Rと傾斜部246Rとの間に、転写ローラ20の軸方向と略平行に伸びる領域を有していてもよい。同様に、ギャップ24Eの左端24Lは傾斜部246Lと繋がっているが、特にこれに限定されない。例えば、ギャップ24Eの左端24Lと傾斜部246Lとの間に、転写ローラ20の軸方向と略平行に伸びる領域を有していてもよい。
In the present embodiment, the
この場合にも、ブランケット23Eのギャップ幅W1と、転写ローラ20におけるブランケット23Eと圧胴30とで形成するニップ幅W2とが上記(1)式を満たしている。このため、転写時において、ギャップ24Eが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みはギャップ24Eに沿って下流側に逃げる。
Also in this case, the gap width W1 of the
本実施形態では、基材91の歪みは、ギャップ24Eの平坦部245から両端の傾斜部246R、246Lに沿って右端24R及び左端24Lに向かって順次通過する。このため、ブランケット23Eによる基材91へのニップ圧は、ギャップ24Eの平坦部245から両端の傾斜部246R、246Lに沿って右端24R及び左端24Lに向かって解放される。これに伴い、転写時においてギャップ24Eが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Eの平坦部245から両端の傾斜部246R、246Lに沿って右端24R及び左端24Lに向かって順次下流側に逃げる。これにより、基材91上に歪みが蓄積して皺が発生するのを抑制することができ、印刷の精度向上を図ることができる。
In the present embodiment, the distortion of the
また、本実施形態では、ギャップ24Eの略中央に平坦部245が形成されている。このため基材91は、ギャップ24Eが圧胴30と対向する際に、転写ローラ20における軸方向の広範囲に亘ってニップ圧から解放される。これにより、基材91に蓄積する歪みをまとめて下流側に逃がして皺の発生を抑制し、印刷の更なる精度向上を図ることができる。
In the present embodiment, a
更に、本実施形態においても、ブランケット23Eにおけるギャップ24Eの形成領域の幅W3は、ギャップ幅W1及びニップ幅W2との関係において、上記(2)式を満たしている。したがって、ブランケット23Eのギャップ24Eが基材91を介して圧胴30と対向している間であっても、ブランケット23Eの一部が圧胴30に常にニップされるため、印刷時におけるニップ解放に伴うショック目の発生を抑制することができる。
Furthermore, also in this embodiment, the width W3 of the formation region of the gap 24E in the
また、本実施形態においても、ギャップ24Eでの基材91の滑送により生じる印刷位置ずれを軽減できるため、重ね印刷を行う際の印刷位置合わせの精度向上を図ることができる。
Also in this embodiment, since the printing position shift caused by the sliding of the
<第6実施形態>
図9は、本発明の第6実施形態における回路形成装置のブランケット23Fにおけるギャップ24Fを示す平面図である。ここで、第6実施形態における回路形成装置は、ブランケット23Fのギャップ24Fの形状が異なること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一である部分については、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<Sixth Embodiment>
FIG. 9 is a plan view showing a
本実施形態におけるギャップ24Fは、図9に示すように、ブランケット胴21の軸方向の全域に亘って一定のギャップ幅W1を有しつつ、転写ローラ20の回転方向前方に向かって凸となる湾曲形状を有している。また、ギャップ24Fの最前部243の曲率半径R1は、当該ギャップ24Fの両端の曲率半径R2よりも大きくなっている(R1>R2)。
As shown in FIG. 9, the
なお、ギャップ24Fの最前部243の曲率半径R1は、当該ギャップ24Fの両端の曲率半径R2と等しくてもよいが、圧胴30がブランケット23の後端部231と対向する際の非ニップ領域をより広く確保し、基材91の歪みを下流側に逃がしやすくなるという観点から、ギャップ24Fの最前部243の曲率半径R1がギャップ24Fの両端の曲率半径R2よりも大きい方が好ましい。
The radius of curvature R1 of the
この場合にも、ブランケット23Fのギャップ幅W1と、転写ローラ20におけるブランケット23Fと圧胴30とで形成するニップ幅W2とが上記(1)式を満たしている。このため、転写時において、当該ギャップ24Fが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Fに沿って下流側に逃げる。
Also in this case, the gap width W1 of the
本実施形態では、基材91の歪みは、ギャップ24Fの最前部243から右端24R及び左端24Lに向かって順次通過する。このため、ブランケット23Fによる基材91へのニップ圧は、ギャップ24Fの最前部243から右端24R及び左端24Lに向かって解放される。これに伴い、転写時においてギャップ24Fが基材91を介して圧胴30と対向する度に、基材91の歪みは当該ギャップ24Fの最前部243から左右の右端24R及び左端24Lに向かって順次下流側に逃げる。これにより、基材91上に歪みが蓄積して皺が発生するのを抑制することができ、印刷の精度向上を図ることができる。
In the present embodiment, the distortion of the
また、本実施形態では、ギャップ24Fの最前部243の曲率半径R1は、当該ギャップ24Fの両端の曲率半径R2よりも大きくなっている(R1>R2)。このため基材91は、ギャップ24Fが圧胴30と対向する際に、最前部243から転写ローラ20における軸方向の広範囲に亘ってニップ圧から解放される。これにより、基材91に蓄積する歪みをまとめて下流側に逃がして皺の発生を抑制し、印刷の精度向上を図ることができる。
In the present embodiment, the radius of curvature R1 of the
更に、本実施形態においても、ブランケット23Fにおけるギャップ24Fの形成領域の幅W3は、ギャップ幅W1及びニップ幅W2との関係において、上記(2)式を満たしている。したがって、ブランケット23Fのギャップ24Fが基材91を介して圧胴30と対向している間であっても、ブランケット23Fの一部が圧胴30に常にニップされるため、印刷時におけるニップ解放に伴うショック目の発生を抑制することができる。
Furthermore, also in this embodiment, the width W3 of the formation region of the
また、本実施形態においても、ギャップ24Fでの基材91の滑送により生じる印刷位置ずれを軽減できるため、重ね印刷を行う際の印刷位置合わせの精度向上を図ることができる。
Also in this embodiment, since the printing position shift caused by the sliding of the
なお、以上に説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiment described above is described for facilitating the understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
例えば、図10に示す転写ローラ20Bのように、上記(1)式を満たすギャップ24が、ブランケット胴21の周面に複数(本例では2つ)形成されていてもよい。この場合には、転写ローラ20Bが1回転した際に当該ギャップ24が基材91を介して圧胴30と対向する回数が増加する。これにより、基材91の歪みが当該ギャップ24に沿って下流側に逃げる頻度が増加するため、基材91上に歪みが蓄積して皺が発生するのをより効率的に抑制することができ、印刷の精度向上を図ることができる。なお、ブランケット胴21に巻回されるブランケットの枚数は2枚に特に限定されない。また、ブランケット胴21の周面に複数のギャップが形成された場合において、それらのギャップの形状は特に限定されず、それぞれ同一でなくてもよい。例えば、複数の当該ギャップのうち、1つのギャップの形状を図3に示すような形状にすると共に、他の1つのギャップの形状を図4に示すような形状にしてもよい。
For example, as in the
1・・・回路形成装置
10・・・グラビアローラ
20、20B・・・転写ローラ
21・・・ブランケット胴
22・・・粘着層
23、23B、23C、23D・・・ブランケット
24、24B、24C、24D・・・ギャップ
30・・・圧胴
91・・・基材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Circuit formation apparatus 10 ...
Claims (9)
前記転写ローラは、
ブランケット胴と、
前記ブランケット胴に粘着層を介して巻回されたブランケットと、を有し、
前記ブランケット胴の周面に形成された前記ブランケットのギャップの幅W1は、前記転写ローラの軸方向の全域に亘って実質的に一定であり、
下記(1)式を満たすことを特徴とする回路形成装置。
W1>W2・・・(1)
ただし、上記の(1)式において、W2は前記圧胴に対する前記ブランケットのニップ幅である。 A circuit forming apparatus comprising at least a transfer roller and an impression cylinder, and forming a circuit by a gravure offset printing method,
The transfer roller is
A blanket cylinder,
A blanket wound around the blanket cylinder via an adhesive layer,
The width W1 of the blanket gap formed on the circumferential surface of the blanket cylinder is substantially constant over the entire area in the axial direction of the transfer roller,
A circuit forming apparatus satisfying the following expression (1).
W1> W2 (1)
In the above formula (1), W2 is the nip width of the blanket with respect to the impression cylinder.
前記ギャップの少なくとも一部は、前記転写ローラの回転方向後方に向かって傾斜しており、
下記(2)式を満たすことを特徴とする回路形成装置。
W3>W1×2−W2・・・(2)
ただし、上記の(2)式において、W3は前記ブランケットにおいて前記ギャップが形成された領域の幅である。 The circuit forming apparatus according to claim 1,
At least a part of the gap is inclined rearward in the rotation direction of the transfer roller,
A circuit forming apparatus satisfying the following expression (2).
W3> W1 × 2-W2 (2)
However, in said Formula (2), W3 is the width | variety of the area | region in which the said gap was formed in the said blanket.
前記転写ローラの回転方向における前記ギャップの最前部は、前記転写ローラの軸方向における略中央に形成されていることを特徴とする回路形成装置。 The circuit forming apparatus according to claim 2,
The circuit forming apparatus, wherein the foremost portion of the gap in the rotation direction of the transfer roller is formed at a substantially center in the axial direction of the transfer roller.
前記ギャップは、前記ブランケット胴の周面に複数形成されていることを特徴とする回路形成装置。 The circuit forming apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The circuit forming apparatus, wherein a plurality of the gaps are formed on a peripheral surface of the blanket cylinder.
前記転写ローラは、
ブランケット胴と、
前記ブランケット胴に粘着層を介して巻回されたブランケットと、を有し、
前記ブランケットのギャップが前記圧胴と対向する際に、前記圧胴と前記ブランケットとの間のニップ圧を解放することを特徴とする回路形成方法。 A circuit forming method for forming a circuit on a substrate using a gravure offset printing press equipped with a transfer roller and an impression cylinder,
The transfer roller is
A blanket cylinder,
A blanket wound around the blanket cylinder via an adhesive layer,
A circuit forming method comprising releasing a nip pressure between the impression cylinder and the blanket when a gap of the blanket faces the impression cylinder.
前記ブランケットのギャップの幅W1は、前記転写ローラの軸方向の全域に亘って実質的に一定であり、
下記(1)式を満たすことを特徴とする回路形成方法。
W1>W2・・・(1)
ただし、上記の(1)式において、W2は前記圧胴に対する前記ブランケットのニップ幅である。 The circuit forming method according to claim 5,
The blanket gap width W1 is substantially constant over the entire area of the transfer roller in the axial direction;
The circuit formation method characterized by satisfy | filling following (1) Formula.
W1> W2 (1)
In the above formula (1), W2 is the nip width of the blanket with respect to the impression cylinder.
前記ギャップの少なくとも一部は、前記転写ローラの回転方向後方に向かって傾斜しており、
下記(2)式を満たすことを特徴とする回路形成方法。
W3>W1×2−W2・・・(2)
ただし、上記の(2)式において、W3は前記ブランケットにおいて前記ギャップが形成された領域の幅である。 The circuit forming method according to claim 6,
At least a part of the gap is inclined rearward in the rotation direction of the transfer roller,
The circuit formation method characterized by satisfy | filling following (2) Formula.
W3> W1 × 2-W2 (2)
However, in said Formula (2), W3 is the width | variety of the area | region in which the said gap was formed in the said blanket.
前記転写ローラの回転方向における前記ギャップの最前部は、前記転写ローラの軸方向における略中央に形成されていることを特徴とする回路形成方法。 The circuit forming method according to claim 7,
A circuit forming method, wherein the foremost part of the gap in the rotation direction of the transfer roller is formed at a substantially center in the axial direction of the transfer roller.
前記圧胴は、前記転写ローラが1回転する毎に、前記ブランケットのギャップと少なくとも2回対向することを特徴とする回路形成方法。 A circuit forming method according to any one of claims 5 to 8,
The circuit forming method according to claim 1, wherein the impression cylinder faces the blanket gap at least twice every time the transfer roller makes one rotation.
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