[go: up one dir, main page]

JP2014108974A - Photosensitive composition - Google Patents

Photosensitive composition Download PDF

Info

Publication number
JP2014108974A
JP2014108974A JP2012262975A JP2012262975A JP2014108974A JP 2014108974 A JP2014108974 A JP 2014108974A JP 2012262975 A JP2012262975 A JP 2012262975A JP 2012262975 A JP2012262975 A JP 2012262975A JP 2014108974 A JP2014108974 A JP 2014108974A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
base
group
meth
generator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012262975A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mana Yamashita
真奈 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority to JP2012262975A priority Critical patent/JP2014108974A/en
Publication of JP2014108974A publication Critical patent/JP2014108974A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition capable of being cured with low energy amount even when materials which reduce or shield an irradiated light, such as coloring agent exist at high concentration or even in the case of a thick film.SOLUTION: A photosensitive composition contains following (1) to (4) and a polymerizable material (D) contains (D1) urethane (meth)acrylate having at least one (meth)acryloyl group in a molecule and (D2) monofunctional (meth)acrylate other than (D1). (1) a radical initiator (A). (2) an acid generator (B) and/or a base generator (C). (3) the polymerizable material (D). (4) at least one filler (E) selected from a coloring agent (E1), a metal oxide powder (E2) and a metal powder (E3).

Description

本発明は、光照射により硬化する組成物に関する。   The present invention relates to a composition that is cured by light irradiation.

光照射により硬化させ表面をコーティングするいわゆるUVコーティングは、その作業性(速硬化性)や低VOC化の観点から、コーティング剤や塗料、印刷インキ等適用範囲が広がりつつある。
一般に光硬化性コーティング剤は、光重合開始剤、ラジカル重合性モノマー、オリゴマー又はポリマー、用途に応じ着色剤及び添加剤からなる。着色剤は大別して顔料及び染料からなり、塗膜を着色させるために配合される。着色剤は、その色に応じた光吸収特性を持ち、照射する光の一部を吸収して光を減衰させたり、照射する光を遮蔽してしまうため、塗布された塗膜の深部にまで光が届かないことがある。この問題を解決するために、特定の光重合開始剤を使用することが提案されている(例えば特許文献1参照)。
So-called UV coating, which is cured by light irradiation and coats the surface, is expanding its application range such as coating agents, paints and printing inks from the viewpoint of workability (fast curing) and low VOC.
In general, a photocurable coating agent comprises a photopolymerization initiator, a radical polymerizable monomer, an oligomer or a polymer, and a colorant and an additive depending on applications. Colorants are roughly divided into pigments and dyes, and are blended to color the coating film. The colorant has a light absorption characteristic according to its color and absorbs a part of the irradiated light to attenuate the light or shield the irradiated light. The light may not reach. In order to solve this problem, it has been proposed to use a specific photopolymerization initiator (see, for example, Patent Document 1).

しかしながら、特許文献1に記載の発明は特定の構造の光重合開始剤及び増感剤を併用するものであり、従来使用されてきた光重合開始剤系よりも少ないエネルギー照射量で硬化できる点においては改良されているが、インキ組成物中の着色剤濃度を上げたり、膜厚を厚くしたりすると硬化性が不足するという問題がある。   However, the invention described in Patent Document 1 is a combination of a photopolymerization initiator and a sensitizer having a specific structure, and can be cured with a smaller amount of energy irradiation than conventionally used photopolymerization initiator systems. Is improved, but there is a problem that the curability is insufficient when the colorant concentration in the ink composition is increased or the film thickness is increased.

また、従来からプロジェクションテレビジョン等の投写スクリーンに使用されるレンチキュラーレンズは、シリンドリカルレンズが多数並んで形成されたもので、シリンドリカルレンズ間の凹部には、室内灯や太陽光等による外光反射を抑えて映像コントラストを向上させるため、光吸収性のブラックストライプが設けられている。このようなブラックストライプには、十分な遮蔽性や外観の黒さが要求される。
ブラックストライプは、金型でシリンドリカルレンズ形状を付与した透明樹脂レンズの凹部分に、黒色顔料を分散させた感光性組成物を流し込み、この凹部より上部にはみ出た感光性組成物を掻き取った後に、紫外線を照射して硬化させることにより形成される。
In addition, lenticular lenses conventionally used for projection screens such as projection televisions are formed by arranging a large number of cylindrical lenses, and the recesses between the cylindrical lenses reflect outside light such as room lights or sunlight. In order to suppress and improve the image contrast, a light-absorbing black stripe is provided. Such black stripes are required to have sufficient shielding properties and appearance black.
The black stripe is obtained by pouring a photosensitive composition in which a black pigment is dispersed into a concave portion of a transparent resin lens provided with a cylindrical lens shape with a mold, and scraping off the photosensitive composition protruding above the concave portion. It is formed by irradiating and curing with ultraviolet rays.

黒色顔料を分散した感光性組成物は、例えば、塗料やインキとして使用され、その黒色顔料としては、ポリメタクリル酸メチル等の樹脂にカーボンブラックを分散させた樹脂粒子などが知られている。
しかし、ブラックストライプの用途において、単純に平均一次粒子径の大きい樹脂粒子を黒色顔料として感光性組成物に分散しただけでは、はみ出た樹脂の掻き取り後に平滑な塗布面が得られない。
また、十分な遮蔽性を得るには樹脂粒子の添加量を多くする必要があるが、その場合、レンズの凹部分への入り込み性が悪くなったり、硬化性が不足するという問題がある。
A photosensitive composition in which a black pigment is dispersed is used, for example, as a paint or an ink. As the black pigment, resin particles in which carbon black is dispersed in a resin such as polymethyl methacrylate are known.
However, in the application of black stripes, if the resin particles having a large average primary particle diameter are simply dispersed in the photosensitive composition as a black pigment, a smooth coated surface cannot be obtained after scraping off the protruding resin.
Further, in order to obtain sufficient shielding properties, it is necessary to increase the amount of resin particles added. However, in that case, there is a problem that penetration into the concave portion of the lens is deteriorated or curability is insufficient.

塗布面の平滑性および遮蔽性を解決するために、黒色顔料の平均一次粒子径を小さくしたものが提案されている(例えば特許文献2参照)。   In order to solve the smoothness and shielding properties of the coated surface, a black pigment having a reduced average primary particle diameter has been proposed (see, for example, Patent Document 2).

しかしながら、特許文献2の方法では、黒色顔料等の感光性組成物に対する分散安定性が悪く、黒色顔料の凝集が発生するという問題がある。   However, the method of Patent Document 2 has a problem that the dispersion stability with respect to a photosensitive composition such as a black pigment is poor, and aggregation of the black pigment occurs.

特開2009−19142号公報JP 2009-19142 A 特開2009−237464号公報JP 2009-237464 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能であり、着色材料の分散安定性に優れ、かつ塗工後の平滑性に優れる感光性組成物を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and the object of the present invention is small even when a substance such as a colorant that attenuates or shields irradiated light is present in a high concentration or has a large film thickness. An object of the present invention is to provide a photosensitive composition that can be cured with an energy amount, is excellent in dispersion stability of a coloring material, and is excellent in smoothness after coating.

本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。即ち、本発明は、下記(1)〜(4)を含有する感光性組成物であって、重合性物質(D)が、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも1個有するウレタン(メタ)アクリレート(D1)、および(D1)以外の単官能(メタ)アクリレート(D2)を含むことを特徴とする感光性組成物;並びに、この組成物が活性光線により硬化されてなる硬化物;である。
(1)ラジカル開始剤(A)
(2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)
(3)重合性物質(D)
(4)着色剤(E1)、金属酸化物粉末(E2)及び金属粉末(E3)から選ばれる少なくとも1種の充填材(E);
尚、本発明において、活性光線とは360nm〜830nmの波長を有する光線である。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have reached the present invention. That is, the present invention is a photosensitive composition containing the following (1) to (4), wherein the polymerizable substance (D) has at least one (meth) acryloyl group in the molecule (meth). A photosensitive composition comprising an acrylate (D1) and a monofunctional (meth) acrylate (D2) other than (D1); and a cured product obtained by curing the composition with actinic rays. .
(1) Radical initiator (A)
(2) Acid generator (B) and / or base generator (C)
(3) Polymerizable substance (D)
(4) At least one filler (E) selected from the colorant (E1), the metal oxide powder (E2), and the metal powder (E3);
In the present invention, an actinic ray is a ray having a wavelength of 360 nm to 830 nm.

本発明の感光性組成物を使用することにより、照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在しても少エネルギー量で厚膜硬化可能となる。
また、着色剤の分散安定性に優れ、かつ塗工後の平滑性に優れるため、着色剤として黒色樹脂粒子を使用する場合は、ブラックストライプの形成を光照射により、容易に行なうことが可能となる。
By using the photosensitive composition of the present invention, a thick film can be cured with a small amount of energy even if a substance such as a colorant that attenuates or blocks irradiated light is present in a high concentration.
In addition, since the dispersion of the colorant is excellent and the smoothness after coating is excellent, when black resin particles are used as the colorant, the black stripe can be easily formed by light irradiation. Become.

本発明の感光性組成物においては、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行することが好ましい。ここで、活性種(H)及び(I)としては、ラジカル、酸及び塩基等が挙げられるが、上記反応において、活性種(H)又は(I)のいずれかは酸又は塩基であることが必要である。活性種(H)が拡散することにより、一般的な光重合開始剤では光硬化が困難な、活性光線が減衰している部分や光が届かない部分の硬化が容易となる。活性種(H)が拡散するためには、重合性物質(D)として、活性種(H)と反応しないものを使用することが好ましい。
尚、活性種(H)が酸の場合は活性種(I)は塩基ではなく、活性種(H)が塩基の場合は活性種(I)は酸ではないことが必要である。
In the photosensitive composition of the present invention, at least one of the radical initiator (A), the acid generator (B) and the base generator (C) generates an active species (H) by irradiation with actinic rays, The active species (H) reacts with the radical initiator (A), the acid generator (B), or the base generator (C) to generate a new active species (I) to produce the new active species (I). It is preferable that the polymerization reaction of the polymerizable substance (D) proceeds. Here, examples of the active species (H) and (I) include radicals, acids, and bases. In the above reaction, either of the active species (H) or (I) is an acid or a base. is necessary. The diffusion of the active species (H) facilitates curing of a portion where active light is attenuated or a portion where light does not reach, which is difficult to be photocured with a general photopolymerization initiator. In order for the active species (H) to diffuse, it is preferable to use a polymerizable substance (D) that does not react with the active species (H).
When the active species (H) is an acid, the active species (I) is not a base, and when the active species (H) is a base, the active species (I) is not an acid.

一般的な酸発生剤単独により重合を開始するカチオン重合、または塩基発生剤単独により重合を開始するアニオン重合では、その発生剤が吸収を持たない波長の利用が困難であったが、本発明においては酸発生剤または塩基発生剤が吸収を持っていない波長に関しても、その波長に吸収のあるラジカル開始剤と組み合わせる事で利用することが可能となる。   In cationic polymerization that initiates polymerization with a general acid generator alone, or anionic polymerization that initiates polymerization with a base generator alone, it was difficult to use a wavelength at which the generator does not absorb, Can be used in combination with a radical initiator that absorbs at a wavelength where the acid generator or base generator does not absorb.

本発明においてラジカル開始剤(A)とは、活性光線、酸及び塩基のうちの少なくとも1種によりラジカルを発生する化合物を意味し、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、酸によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)及び塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A3)等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A1231)、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A1232)、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A1233)、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A1234)、ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A1235)、オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A1236)及びチタノセン誘導体系重合開始剤(A1237)等は活性光線、酸及び塩基いずれによってもラジカルを発生させることが可能で(A1)、(A2)又は(A3)のいずれとしても適用できる。
また、有機過酸化物系重合開始剤(A231)、アゾ化合物系重合開始剤(A232)、その他のラジカル開始剤(A233)等は酸及び/又は塩基によってラジカルを発生させることが可能で(A2)又は(A3)として適用できる。
(A)は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
尚、(A1231)は、(A1)、(A2)、(A3)のいずれとしても適用できる化合物(A123)の1番目の例であることを示す。同様に、(A231)は、(A2)、(A3)のいずれとしても適用できる化合物(A23)の1番目の例であることを示す。
In the present invention, the radical initiator (A) means a compound that generates radicals by at least one of actinic rays, acids, and bases. The radical initiator (A1) that generates radicals by actinic rays, Known compounds such as a radical initiator (A2) that generates radicals and a radical initiator (A3) that generates radicals with a base can be used.
For example, acylphosphine oxide derivative polymerization initiator (A1231), α-aminoacetophenone derivative polymerization initiator (A1232), benzyl ketal derivative polymerization initiator (A1233), α-hydroxyacetophenone derivative polymerization initiator (A1234). The benzoin derivative polymerization initiator (A1235), the oxime ester derivative polymerization initiator (A1236), the titanocene derivative polymerization initiator (A1237) and the like can generate radicals by any of actinic rays, acids and bases. Any of (A1), (A2) and (A3) can be applied.
In addition, the organic peroxide polymerization initiator (A231), the azo compound polymerization initiator (A232), the other radical initiator (A233) and the like can generate radicals with an acid and / or a base (A2 ) Or (A3).
(A) may be used independently and may use 2 or more types together.
In addition, (A1231) shows that it is the 1st example of the compound (A123) applicable as any of (A1), (A2), and (A3). Similarly, (A231) indicates that it is the first example of the compound (A23) applicable as either (A2) or (A3).

アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A1231)としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド[BASF社製(LUCIRIN TPO)]及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド[BASF社製(IRGACURE 819)]等が挙げられる。   As the acylphosphine oxide derivative-based polymerization initiator (A1231), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide [manufactured by BASF (LUCIRIN TPO)] and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenyl And phosphine oxide [manufactured by BASF (IRGACURE 819)].

α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A1232)としては、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン[BASF社製(IRGACURE 907)]、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン[BASF社製(IRGACURE 369)]及び1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン[BASF社製(IRGACURE 379)]等が挙げられる。   As the α-aminoacetophenone derivative-based polymerization initiator (A1232), 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one [manufactured by BASF (IRGACURE 907)], 2-benzyl 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone [manufactured by BASF (IRGACURE 369)] and 1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [ 4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone [manufactured by BASF (IRGACURE 379)] and the like.

ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A1233)としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン[BASF社製(IRGACURE 651)]等が挙げられる。   Examples of the benzyl ketal derivative polymerization initiator (A1233) include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one [manufactured by BASF (IRGACURE 651)].

α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A1234)としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン[BASF社製(IRGACURE 184)]、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン[BASF社製(DAROCUR 1173)]、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン[BASF社製(IRGACURE 2959)]及び2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン[BASF社製(IRGACURE 127)]等が挙げられる。   As the α-hydroxyacetophenone derivative polymerization initiator (A1234), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone [manufactured by BASF (IRGACURE 184)], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1- ON [BASF (DAROCUR 1173)], 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one [BASF (IRGACURE 2959)] And 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one [manufactured by BASF (IRGACURE 127)] Can be mentioned.

ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A1235)としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。   Examples of the benzoin derivative polymerization initiator (A1235) include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether.

オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A1236)としては、1,2−オクタンジオン−1−(4−[フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)][BASF社製(IRGACURE OXE 01)]及びエタノン−1−(9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(0−アセチルオキシム)[BASF社製(IRGACURE OXE 02)]等が挙げられる。   As the oxime ester derivative polymerization initiator (A1236), 1,2-octanedione-1- (4- [phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)] [manufactured by BASF (IRGACURE OXE 01)] and ethanone -1- (9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (0-acetyloxime) [manufactured by BASF (IRGACURE OXE 02)] and the like.

チタノセン誘導体系重合開始剤(A1237)としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム[BASF社製(IRGACURE 784)]等が挙げられる。   As the titanocene derivative-based polymerization initiator (A1237), bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) Titanium [manufactured by BASF (IRGACURE 784)] and the like.

有機過酸化物系重合開始剤(A231)としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、2,2−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、n−ブチル4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジ−(2−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、2,5,−ジメチル−2,5,−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3,−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド及びt−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide polymerization initiator (A231) include benzoyl peroxide, t-butyl peroxyacetate, 2,2-di- (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxybenzoate, and n-butyl. 4,4-di- (t-butylperoxy) valerate, di- (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5, -dimethyl-2 , 5, -di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, 1,1,3,3 -Tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butylhydride Peroxide and t- butyl trimethylsilyl peroxide.

アゾ化合物系重合開始剤(A232)としては、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)及び2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等が挙げられる。   As the azo compound-based polymerization initiator (A232), 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2 Examples include '-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide) and 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane).

その他の重合開始剤(A233)としては、2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン等が挙げられる。   Examples of the other polymerization initiator (A233) include 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane.

酸によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A3)としては、有機過酸化物系重合開始剤(A231)及び/又はアゾ化合物系重合開始剤(A232)が好ましい。   The radical initiator (A2) that generates radicals with an acid or the radical initiator (A3) that generates radicals with a base includes an organic peroxide polymerization initiator (A231) and / or an azo compound polymerization initiator (A232). ) Is preferred.

本発明の感光性組成物中のラジカル開始剤(A)の含有量は、0.1〜10重量%が好ましく、さらに好ましくは1〜8重量%、特に好ましくは2〜5重量%である。
1重量%以上であれば光硬化反応性がさらに良好に発揮でき、10重量%以下であればレンズとの密着性が良好に発揮できる。
The content of the radical initiator (A) in the photosensitive composition of the present invention is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 1 to 8% by weight, and particularly preferably 2 to 5% by weight.
If it is 1% by weight or more, the photo-curing reactivity can be exhibited more satisfactorily, and if it is 10% by weight or less, the adhesion to the lens can be exhibited well.

本発明において酸発生剤(B)とは、活性光線、ラジカル及び酸のうちの少なくとも1種により酸を発生する化合物を意味し、活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、ラジカルにより酸を発生する酸発生剤(B2)及び酸により酸を発生する酸発生剤(B3)等の公知の化合物が挙げられる。
例えば、スルホニウム塩誘導体(B121)及びヨードニウム塩誘導体(B122)等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、(B1)又は(B2)として適用できる。
また、スルホン酸エステル誘導体(B31)、酢酸エステル誘導体(B32)及びホスホン酸エステル(B33)等は酸によって酸を発生させることが可能で、(B3)として適用できる。
(B)は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
尚、(B121)は、(B1)、(B2)のいずれとしても適用できる化合物(B12)の1番目の例であることを示す。
In the present invention, the acid generator (B) means a compound that generates an acid by at least one of actinic rays, radicals, and acids. The acid generator (B1) that generates an acid by actinic rays, Well-known compounds, such as an acid generator (B2) which generate | occur | produces an acid, and an acid generator (B3) which generate | occur | produces an acid with an acid, are mentioned.
For example, the sulfonium salt derivative (B121) and the iodonium salt derivative (B122) can generate an acid by actinic rays or radicals, and can be applied as (B1) or (B2).
In addition, the sulfonic acid ester derivative (B31), the acetic acid ester derivative (B32), the phosphonic acid ester (B33) and the like can generate an acid with an acid and can be applied as (B3).
(B) may be used alone or in combination of two or more.
In addition, (B121) shows that it is the 1st example of the compound (B12) applicable as both (B1) and (B2).

本発明におけるスルホニウム塩誘導体(B121)としては、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で示される化合物等が挙げられる。   Examples of the sulfonium salt derivative (B121) in the present invention include compounds represented by the following general formula (1) or the following general formula (2).

Figure 2014108974
Figure 2014108974

一般式(1)又は(2)において、A1は一般式(3)〜(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり、Ar1〜Ar7はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってAr1〜Ar4、Ar6及びAr7は1価の基、Ar5は2価の基であり、(X1-及び(X2-は陰イオンを表し、aは0〜2の整数、bは1〜3の整数で、かつa+bは2又は3でA1の価数と同じ整数である。 In the general formula (1) or (2), A 1 is a divalent or trivalent group represented by any one of the general formulas (3) to (10), and Ar 1 to Ar 7 are each independently benzene. Having at least one ring skeleton, halogen atom, C1-C20 acyl group, C1-C20 alkyl group, C1-C20 alkoxy group, C1-C20 alkylthio group, carbon number 1 to 20 alkylsilyl groups, nitro groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, mercapto groups, amino groups, cyano groups, phenyl groups, naphthyl groups, phenoxy groups and phenylthio groups, at least one atom or substituent An aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may be substituted with Ar 1 to Ar 4 , Ar 6 and Ar 7 are monovalent groups, Ar 5 is a divalent group, and (X 1 ) - and (X 2) - is an anion And, a is an integer of 0 to 2, b is an integer from 1 to 3, and a + b is an integer equal the valence of A 1 in 2 or 3.

Figure 2014108974
Figure 2014108974

一般式(5)〜(8)におけるR1〜R7は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、R1とR2、R4とR5、及びR6とR7は互いに結合して環構造を形成していてもよい。 R 1 to R 7 in the general formulas (5) to (8) are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to carbon atoms. 20 alkyl group, an amino group, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group, at least one atom or optionally substituted phenyl group which is substituted with a group selected from the group consisting of a phenoxy group and a phenylthio group, R 1 And R 2 , R 4 and R 5 , and R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring structure.

一般式(2)におけるA1として、酸発生効率の観点から好ましいのは、一般式(5)及び一般式(7)〜(10)で表される基であり、一般式(5)及び(8)〜(10)で表される基が更に好ましい。 As A 1 in the general formula (2), groups represented by the general formula (5) and the general formulas (7) to (10) are preferable from the viewpoint of acid generation efficiency. The groups represented by 8) to (10) are more preferable.

一般式(1)及び一般式(2)におけるAr1〜Ar7は、一般式(1)又は一般式(2)で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収を持つようになる基である。
Ar1〜Ar7におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4である。
ベンゼン環骨格を1個有する場合の例としては、例えばベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン、クマリン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を2個有する場合の例としては、例えばナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を3個有する場合の例としては、例えば、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、p−(チオキサンチルメルカプト)ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を4個有する場合の例としては、例えばナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
Ar 1 to Ar 7 in the general formula (1) and the general formula (2) are groups in which the compound represented by the general formula (1) or the general formula (2) has absorption in the ultraviolet to visible light region. is there.
The number of benzene ring skeletons in Ar 1 to Ar 7 is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 4.
As an example in the case of having one benzene ring skeleton, a residue obtained by removing one or two hydrogen atoms from benzene or a heterocyclic compound such as benzofuran, benzothiophene, indole, quinoline, coumarin, and the like can be given.
Examples of the case of having two benzene ring skeletons include one or two hydrogen atoms from heterocyclic compounds such as naphthalene, biphenyl, fluorene, or dibenzofuran, dibenzothiophene, xanthone, xanthene, thioxanthone, acridine, phenothiazine, and thianthrene. Residues excluded are listed.
As an example in the case of having three benzene ring skeletons, for example, one or two hydrogen atoms are removed from a heterocyclic compound such as anthracene, phenanthrene, terphenyl, p- (thioxanthyl mercapto) benzene, and naphthobenzothiophene. Residue.
As an example in the case of having four benzene ring skeletons, for example, a residue obtained by removing one or two hydrogen atoms from naphthacene, pyrene, benzoanthracene, triphenylene and the like can be mentioned.

ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。   Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine, and fluorine and chlorine are preferable.

炭素数1〜20のアシル基としては、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。   Examples of the acyl group having 1 to 20 carbon atoms include formyl group, acetyl group, propionyl group, isobutyryl group, valeryl group, and cyclohexylcarbonyl group.

炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−又はiso−プロピル基、n−、sec−又はtert−ブチル基、n−、iso−又はneo−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n- or iso-propyl group, n-, sec- or tert-butyl group, n-, iso- or neo-pentyl group, hexyl group, A heptyl group, an octyl group, etc. are mentioned.

炭素数1〜20のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−又はiso−プロポキシ基、n−、sec−又はtert−ブトキシ基、n−、iso−、又はneo−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n- or iso-propoxy group, n-, sec- or tert-butoxy group, n-, iso- or neo-pentyloxy group, A hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, etc. are mentioned.

炭素数1〜20のアルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−又はiso−プロピルチオ基、n−、sec−又はtert−ブチルチオ基、n−、iso−又はneo−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。   Examples of the alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms include a methylthio group, an ethylthio group, an n- or iso-propylthio group, an n-, sec- or tert-butylthio group, an n-, iso- or neo-pentylthio group, and a hexylthio group. , Heptylthio group, octylthio group and the like.

炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、例えばトリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。ここでアルキルは直鎖構造でも分岐構造でも構わない。   Examples of the alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms include trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl group and triisopropylsilyl group. Here, the alkyl may be a linear structure or a branched structure.

Ar1〜Ar7の置換する原子又は置換基として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアルコキシ基、炭素数1〜15のアルキルチオ基及び炭素数1〜15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10のアルキルチオ基及び炭素数1〜10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でも良い。 As the atom or substituent substituted by Ar 1 to Ar 7 , a halogen atom, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group, a phenoxy group, a phenylthio group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable from the viewpoint of acid generation efficiency. , An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms and an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a cyano group, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, An alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 15 carbon atoms and an acyl group having 1 to 15 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, They are an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms and an acyl group having 1 to 10 carbon atoms. The above alkyl moiety may be linear, branched or cyclic.

Ar1〜Ar4、Ar6及びAr7として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニル基、p−メチルフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、p−(チオキサンチルメルカプト)フェニル基及びm−クロロフェニル基である。 Ar 1 to Ar 4 , Ar 6 and Ar 7 are preferably a phenyl group, a p-methylphenyl group, a p-methoxyphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, 2,4, from the viewpoint of acid generation efficiency. 6-trimethylphenyl group, p- (thioxanthylmercapto) phenyl group and m-chlorophenyl group.

Ar5として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニレン基、2−又は3−メチルフェニレン基、2−又は3−メトキシフェニレン基、2−又は3−ブチルフェニレン基及び2−又は3−クロロフェニレン基である。 Ar 5 is preferably a phenylene group, a 2- or 3-methylphenylene group, a 2- or 3-methoxyphenylene group, a 2- or 3-butylphenylene group, and a 2- or 3-chloro group from the viewpoint of acid generation efficiency. A phenylene group.

一般式(1)又は(2)において(X1-又は(X2-で表される陰イオンとしては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数1〜4のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン(安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン、及びフェニルグリオキシル酸アニオン等)、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等)、6フッ化アンチモネートアニオン(SbF6 -)、リンアニオン[6フッ化ホスフィンアニオン(PF6 -)及び3フッ化トリス(パーフルオロエチル)リンアニオン(PF3(C253 -)等]及びボレートアニオン(テトラフェニルボレート及びブチルトリフェニルボレートアニオン等)等が挙げられ、酸発生効率の観点から、リンアニオン、ハロゲンで置換された脂肪族スルホキシアニオン及びボレートアニオンが好ましい。 Examples of the anion represented by (X 1 ) or (X 2 ) in the general formula (1) or (2) include a halide anion, a hydroxide anion, a thiocyanate anion, and those having 1 to 4 carbon atoms. Dialkyldithiocarbamate anion, carbonate anion, bicarbonate anion, aliphatic or aromatic carboxy anion optionally substituted with halogen (benzoate anion, trifluoroacetate anion, perfluoroalkylacetate anion, phenylglyoxylate anion, etc.) , An aliphatic or aromatic sulfoxy anion (such as trifluoromethanesulfonate anion) optionally substituted with halogen, hexafluoroantimonate anion (SbF 6 ), phosphorus anion [hexafluorophosphine anion (PF 6 ) And trifluoride tris (perfluoroethyl) phosphorus ani Emissions (PF 3 (C 2 F 5 ) 3 -) , etc.] and borate anion (tetraphenyl borate and butyl triphenyl borate anion), and the like, from the viewpoint of acid generation efficiency, phosphorus anions, substituted by halogen Aliphatic sulfoxy anions and borate anions are preferred.

スルホニウム塩誘導体(B121)として、酸発生効率の観点から好ましいのは、トリフェニルスルホニウムカチオン、トリ−p−トリルスルホニウムカチオン又は[p−(フェニルメルカプト)フェニル]ジフェニルスルホニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物及び下記一般式(11)〜(14)で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式(11)〜(14)で示される化合物である。   As the sulfonium salt derivative (B121), a compound having a triphenylsulfonium cation, a tri-p-tolylsulfonium cation, or a [p- (phenylmercapto) phenyl] diphenylsulfonium cation as a cation skeleton is preferable from the viewpoint of acid generation efficiency. Compounds represented by the following general formulas (11) to (14) are preferable, and compounds represented by the following general formulas (11) to (14) are more preferable.

Figure 2014108974
Figure 2014108974

一般式(11)〜(14)における(X3-〜(X6-は陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X1-又は(X2-として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。 (X 3 ) to (X 6 ) in the general formulas (11) to (14) represent anions, specifically, (X 1 ) or (X 2 ) in the general formula (1) or (2). ) - it includes the same ones as exemplified as, preferable ones are also same.

本発明におけるヨードニウム塩誘導体(B122)は下記一般式(15)又は下記一般式(16)で示される。 The iodonium salt derivative (B122) in the present invention is represented by the following general formula (15) or the following general formula (16).

Figure 2014108974
Figure 2014108974

式中、A2は前記一般式(3)〜(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり、Ar8〜Ar12はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ar8〜Ar10及びAr12は1価の基、Ar11は2価の基であり、(X7-及び(X8-は陰イオンを表し、cは0〜2の整数、dは1〜3の整数で、かつc+dは2又は3でA2の価数と同じ整数である。 In the formula, A 2 is a divalent or trivalent group represented by any one of the general formulas (3) to (10), and Ar 8 to Ar 12 each independently have at least one benzene ring skeleton. A halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms. , Aromatic group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of nitro group, carboxyl group, hydroxyl group, mercapto group, amino group, cyano group, phenyl group, naphthyl group, phenoxy group and phenylthio group A hydrocarbon group or a heterocyclic group, wherein Ar 8 to Ar 10 and Ar 12 are monovalent groups, Ar 11 is a divalent group, and (X 7 ) and (X 8 ) are anions. C is an integer of 0-2, d is 1-3 An integer, and c + d is an integer equal the valence of A 2 in 2 or 3.

ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。   As a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms The thing similar to what was described by description of General formula (1) and General formula (2) is illustrated.

一般式(16)におけるA2として、酸を発生する効率の観点から好ましいのは、一般式(5)及び前記一般式(7)〜(10)で表される基であり、一般式(5)及び(8)〜(10)で表される基が更に好ましい。 As A 2 in the general formula (16), a group represented by the general formula (5) and the general formulas (7) to (10) is preferable from the viewpoint of the efficiency of generating an acid. And groups represented by (8) to (10) are more preferable.

一般式(15)又は一般式(16)におけるAr8〜Ar12は、一般式(15)又は一般式(16)で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収を持つようになる基である。
Ar8〜Ar12におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4であり、Ar8〜Ar12の具体例としては、一般式(1)又は一般式(2)のAr1〜Ar7として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
Ar 8 to Ar 12 in the general formula (15) or the general formula (16) are groups in which the compound represented by the general formula (15) or the general formula (16) has absorption in the ultraviolet to visible light region. is there.
The number of benzene ring skeletons in Ar 8 to Ar 12 is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 4. Specific examples of Ar 8 to Ar 12 include general formula (1) or general formula (2). The thing similar to what was illustrated as Ar < 1 > -Ar < 7 > of these is mentioned, A preferable thing is also the same.

(X7-及び(X8-としては、一般式(1)又は(2)における(X1-又は(X2-として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。 Examples of (X 7 ) and (X 8 ) include the same as those exemplified as (X 1 ) or (X 2 ) in the general formula (1) or (2), and preferable ones are also included. It is the same.

ヨードニウム塩誘導体(B122)として、酸発生効率の観点から好ましいのは、(4−メチルフェニル){4−(2−メチルプロピル)フェニル}ヨードニウムカチオン、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]ヨードニウムカチオン、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ヨードニウムカチオン及び[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物、並びにこれら以外の下記一般式(17)〜(20)で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式(17)〜(20)で示される化合物(例示した化合物を含む)である。   As the iodonium salt derivative (B122), (4-methylphenyl) {4- (2-methylpropyl) phenyl} iodonium cation, [bis (4-t-butylphenyl)] iodonium are preferable from the viewpoint of acid generation efficiency. Cation, [bis (4-t-butylphenyl)] trifluoro [tris (perfluoroethyl)] iodonium cation and [bis (4-methoxyphenyl)] iodonium cation as cation skeleton, and the following other general compounds Compounds represented by the formulas (17) to (20) are preferable, and compounds represented by the following general formulas (17) to (20) (including exemplified compounds) are more preferable.

Figure 2014108974
Figure 2014108974

一般式(17)〜(20)において、R8〜R13は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基であり、(X9-〜(X12-は陰イオンを表す。 In the general formulas (17) to (20), R 8 to R 13 are a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, An atom or substitution selected from the group consisting of an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a cyano group, a phenyl group, and a naphthyl group And (X 9 ) to (X 12 ) represents an anion.

ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。   As a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms The thing similar to what was described by description of General formula (1) and General formula (2) is illustrated.

8〜R13として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数1〜20のアルキル基及び炭素数1〜20のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアルコキシ基及び炭素数1〜15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基及び炭素数1〜10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。 R 8 to R 13 are preferably a halogen atom, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a cyano group, A phenyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms and an acyl group having 1 to 15 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. An alkoxy group and an acyl group having 1 to 10 carbon atoms. The above alkyl moiety may be linear, branched or cyclic.

一般式(17)〜(20)における(X9-〜(X12-としては一般式(1)又は(2)における(X1-又は(X2-として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。 (X 9 ) to (X 12 ) − in the general formulas (17) to (20) are the same as those exemplified as (X 1 ) or (X 2 ) − in the general formula (1) or (2). The preferable thing is also the same.

一般に可視光領域(360nm〜830nm;JIS−Z8120参照)での硬化に使用可能な光重合開始剤は、可視光を吸収するため開始剤自体が着色しており、硬化膜の色相に悪影響を与るが、一般式(2)又は一般式(16)で示される化合物を使用することにより硬化膜の色相への悪影響を抑止することができる。   In general, a photopolymerization initiator that can be used for curing in the visible light region (360 nm to 830 nm; see JIS-Z8120) is colored by the initiator itself because it absorbs visible light, which adversely affects the hue of the cured film. However, by using the compound represented by the general formula (2) or the general formula (16), adverse effects on the hue of the cured film can be suppressed.

スルホン酸エステル誘導体(B31)としては、メタンスルホン酸シクロヘキシルエステル、エタンスルホン酸イソプロピルエステル、ベンゼンスルホン酸−t−ブチルエステル、p−トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル及びナフタレンスルホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。   Examples of the sulfonic acid ester derivative (B31) include methanesulfonic acid cyclohexyl ester, ethanesulfonic acid isopropyl ester, benzenesulfonic acid-t-butyl ester, p-toluenesulfonic acid cyclohexyl ester, and naphthalenesulfonic acid cyclohexyl ester.

酢酸エステル誘導体(B32)としては、ジクロロ酢酸シクロヘキシルエステル及びトリクロロ酢酸イソプロピルエステル等が挙げられる。   Examples of the acetate derivative (B32) include dichloroacetic acid cyclohexyl ester and trichloroacetic acid isopropyl ester.

ホスホン酸エステル(B33)としては、トリフェニルホスホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。   Examples of the phosphonic acid ester (B33) include triphenylphosphonic acid cyclohexyl ester.

本発明において塩基発生剤(C)とは、活性光線、ラジカル及び塩基のうちの少なくとも1種により塩基を発生する化合物を意味し、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、ラジカルにより塩基を発生する塩基発生剤(C2)又は塩基により塩基を発生する塩基発生剤(C3)等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、オキシム誘導体(C121)、4級アンモニウム塩誘導体(C122)及び4級アミジン塩誘導体(C123)等は活性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、(C1)又は(C2)として適用できる。
また、カルバメート誘導体(C31)は塩基によって塩基を発生させることが可能で、(C3)として適用できる。
(C)は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
尚、(C121)は、(C1)、(C2)のいずれとしても適用できる化合物(C12)の1番目の例であることを示す。
In the present invention, the base generator (C) means a compound that generates a base with at least one of actinic rays, radicals, and bases, and a base generator (C1) that generates bases with actinic rays. Known compounds such as a base generator (C2) that generates a base or a base generator (C3) that generates a base with a base can be used.
For example, the oxime derivative (C121), the quaternary ammonium salt derivative (C122), the quaternary amidine salt derivative (C123) and the like can generate a base by actinic rays or radicals, and are applied as (C1) or (C2). it can.
Further, the carbamate derivative (C31) can generate a base with a base and can be applied as (C3).
(C) may be used alone or in combination of two or more.
In addition, (C121) shows that it is the 1st example of the compound (C12) applicable as both (C1) and (C2).

オキシム誘導体(C121)としては、例えばO−アシロキシム等が挙げられる。   Examples of the oxime derivative (C121) include O-acyloxime.

カルバメート誘導体(C31)としては、例えば1−Fmoc−4−ピペリドン、o−ニトロベンゾイルカルバメート等が挙げられる。   Examples of the carbamate derivative (C31) include 1-Fmoc-4-piperidone and o-nitrobenzoyl carbamate.

4級アンモニウム塩誘導体(C122)及び4級アミジン塩誘導体(C123)としては、例えば下記一般式(21)〜(23)のいずれかで示される化合物が挙げられる。   Examples of the quaternary ammonium salt derivative (C122) and the quaternary amidine salt derivative (C123) include compounds represented by any one of the following general formulas (21) to (23).

Figure 2014108974
Figure 2014108974

一般式(21)〜(23)におけるR14〜R41はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式(24)で表される置換基及び一般式(25)で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、R14〜R23のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基であり、R24〜R31のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基であり、R32〜R41のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基である。 R 14 to R 41 in the general formulas (21) to (23) are each a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, C1-C20 alkylthio group, C1-C20 alkylsilyl group, nitro group, carboxyl group, hydroxyl group, mercapto group, amino group, cyano group, phenyl group, naphthyl group, represented by general formula (24) An atom or a substituent selected from the group consisting of the substituent represented by formula (25) and the substituent represented by formula (25), wherein any one of R 14 to R 23 is represented by formula (24) or formula (25 And any one of R 24 to R 31 is a substituent represented by the general formula (24) or the general formula (25), and any one of R 32 to R 41. Is a substitution represented by the general formula (24) or the general formula (25) It is a group.

Figure 2014108974
Figure 2014108974

一般式(24)及び(25)におけるR42〜R45は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基であり、R46〜R48は水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、(X13-及び(X14-は、陰イオンを表し、eは2〜4の整数である。 R 42 to R 45 in the general formulas (24) and (25) are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 46 to R 48 are each having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group. It is an alkyl group, (X 13 ) and (X 14 ) represent an anion, and e is an integer of 2 to 4.

一般式(21)〜(23)におけるハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。   In general formulas (21) to (23), a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, and carbon Examples of the alkylsilyl group having 1 to 20 are the same as those described in the description of the general formula (1) and the general formula (2).

一般式(21)で示される化合物はアントラセン骨格、一般式(22)で示される化合物はチオキサントン骨格、一般式(23)で示される化合物はベンゾフェノン骨格を有する化合物であり、それぞれi線(365nm)付近に最大吸収波長を有する化合物の一例である。R14〜R23は吸収波長の調整、感度の調整、熱安定性、反応性、分解性等を考慮して変性させるものであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、炭素数1〜20のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基で目的に応じて変性される。但し、R14〜R23のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基である。 The compound represented by the general formula (21) is an anthracene skeleton, the compound represented by the general formula (22) is a thioxanthone skeleton, and the compound represented by the general formula (23) is a compound having a benzophenone skeleton, i-line (365 nm). It is an example of a compound having a maximum absorption wavelength in the vicinity. R 14 to R 23 are modified in consideration of adjustment of absorption wavelength, adjustment of sensitivity, thermal stability, reactivity, decomposability, etc., and include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, Nitro group, carboxyl group, hydroxyl group, mercapto group, alkyl silyl group having 1 to 20 carbon atoms, acyl group having 1 to 20 carbon atoms, amino group, cyano group, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, phenyl group, naphthyl group The atom or substituent selected from the group consisting of is modified according to the purpose. However, any one of R < 14 > -R < 23 > is a substituent represented by General formula (24) or General formula (25).

14〜R23として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数1〜20のアルキル基及び炭素数1〜20のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアルコキシ基及び炭素数1〜15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基及び炭素数1〜10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。 R 14 to R 23 are preferably a halogen atom, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a cyano group, A phenyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms and an acyl group having 1 to 15 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. An alkoxy group and an acyl group having 1 to 10 carbon atoms. The above alkyl moiety may be linear, branched or cyclic.

上記のR14〜R23の具体例としては一般式(17)〜(19)のR8〜R13の説明で記載した化合物が例示される。 Specific examples of R 14 to R 23 include the compounds described in the description of R 8 to R 13 in the general formulas (17) to (19).

一般式(24)で示される置換基はカチオン化したアミジン骨格を有する置換基であり、eは2〜4の整数である。この置換基としては、eが4である1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンがカチオン化した構造を有する置換基及びeが2である1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネンがカチオン化した構造を有する置換基が好ましい。R42とR43は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、好ましいのは水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基、更に好ましいのは水素原子及び炭素数1〜5のアルキル基である。 The substituent represented by the general formula (24) is a substituent having a cationized amidine skeleton, and e is an integer of 2 to 4. Examples of the substituent include a substituent having a cationized structure of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene in which e is 4, and 1,5-diazabicyclo [4. 3.0] -5-Nonene is preferably a substituent having a cationized structure. R 42 and R 43 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. It is.

一般式(25)は4級アンモニウム構造を有しており、R44とR45は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基、更に好ましくは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基である。また、R46〜R48は水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基を表し、直鎖でも分岐でも環状でも良い。R46〜R48は好ましくは炭素数1〜10のアルキル基、特に好ましくは炭素数1〜5のアルキル基である。 General formula (25) has a quaternary ammonium structure, R 44 and R 45 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, More preferably, they are a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group. R 46 to R 48 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group, and may be linear, branched or cyclic. R 46 to R 48 are preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

一般式(24)及び(25)における(X13-及び(X14-は陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X1-又は(X2-として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。 (X 13 ) and (X 14 ) in the general formulas (24) and (25) represent anions, specifically, (X 1 ) or (X 2 ) in the general formula (1) or (2). ) - it includes the same as those exemplified as. Of these, aliphatic or aromatic carboxy ions and borate anions are preferred from the viewpoint of photodegradability.

一般式(24)で示される化合物は活性光線の照射により、R42とR43が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂してアミジン骨格を有する塩基性化合物を生成し、一般式(25)で示される化合物は活性光線の照射により、R44とR45が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂して3級アミンが生成する。 When the compound represented by the general formula (24) is irradiated with actinic rays, the bond between carbon and nitrogen to which R 42 and R 43 are bonded is cleaved to produce a basic compound having an amidine skeleton. In the compound represented by 25), upon irradiation with actinic rays, a bond between carbon and nitrogen to which R 44 and R 45 are bonded is cleaved to produce a tertiary amine.

これらの塩基発生剤(C1)の内、光分解性の観点から、下記一般式(26)で示される化合物が好ましい。   Of these base generators (C1), a compound represented by the following general formula (26) is preferred from the viewpoint of photodegradability.

Figure 2014108974
Figure 2014108974

一般式(26)における(X15-は、陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X1-又は(X2-として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。 (X 15 ) in the general formula (26) represents an anion, specifically, the same as those exemplified as (X 1 ) or (X 2 ) − in the general formula (1) or (2). Things. Of these, aliphatic or aromatic carboxy ions and borate anions are preferred from the viewpoint of photodegradability.

カルバメート誘導体(C31)としては、例えば1−Z−4−ピペリドン等が挙げられる。   Examples of the carbamate derivative (C31) include 1-Z-4-piperidone.

本発明の感光性組成物中の酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)の含有量〔(B)と(C)の合計〕は、光硬化性の観点から、好ましくは0.05〜20重量%、更に好ましくは0.1〜10重量%である。   The content of the acid generator (B) and / or base generator (C) in the photosensitive composition of the present invention [total of (B) and (C)] is preferably 0 from the viewpoint of photocurability. 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight.

本発明においては、(A1)〜(A3)、(B1)〜(B3)又は(C1)〜(C3)を以下の(1)〜(10)のいずれかの組み合わせで含有することが好ましい。
(1)(A1)及び(B2)を含有する。
(2)(A1)、(B2)及び(B3)を含有する。
(3)(B1)及び(A2)を含有する。
(4)(B1)、(A2)及び(B3)を含有する。
(5)(C1)及び(A3)を含有する。
(6)(C1)、(A3)及び(C3)を含有する。
(7)(A1)及び(C2)を含有する。
(8)(A1)、(C2)及び(C3)を含有する。
(9)上記(1)〜(4)の2種以上の組み合わせ。
(10)上記(5)〜(8)の2種以上の組み合わせ。
In this invention, it is preferable to contain (A1)-(A3), (B1)-(B3) or (C1)-(C3) in any combination of the following (1)-(10).
(1) Contains (A1) and (B2).
(2) Contains (A1), (B2) and (B3).
(3) Contains (B1) and (A2).
(4) Contains (B1), (A2) and (B3).
(5) Contains (C1) and (A3).
(6) Contains (C1), (A3) and (C3).
(7) Contains (A1) and (C2).
(8) Contains (A1), (C2) and (C3).
(9) A combination of two or more of (1) to (4) above.
(10) A combination of two or more of (5) to (8) above.

上記(1)においては、活性光線の照射により活性種(H)としてラジカルが発生し、活性種(I)として酸が発生する。活性光線が減衰又は遮蔽された部分に活性種(H)が拡散することにより、これらの部分での硬化が促進される。   In (1) above, radicals are generated as active species (H) by irradiation with actinic rays, and acids are generated as active species (I). The active species (H) diffuses into the portions where the actinic rays are attenuated or shielded, thereby promoting curing in these portions.

上記(2)においては、上記(1)と同様に活性種(I)として酸が発生し、この酸が(B3)と反応することにより酸が増殖され、活性光線が減衰又は遮蔽された部分の硬化が更に促進される。   In the above (2), an acid is generated as the active species (I) in the same manner as in the above (1), and when this acid reacts with (B3), the acid is proliferated and the active light is attenuated or shielded. Is further accelerated.

上記(3)においては、活性光線の照射により活性種(H)として酸が発生し、活性種(I)としてラジカルが発生する。活性光線が減衰又は遮蔽された部分に活性種(H)が拡散することにより、これらの部分での硬化が促進される。   In the above (3), an acid is generated as the active species (H) and a radical is generated as the active species (I) by irradiation with actinic rays. The active species (H) diffuses into the portions where the actinic rays are attenuated or shielded, thereby promoting curing in these portions.

上記(4)においては、上記(3)と同様に活性種(H)として酸が発生し、この酸が(B3)と反応することにより酸が増殖され、活性光線が減衰又は遮蔽された部分の硬化が更に促進される。   In the above (4), an acid is generated as the active species (H) in the same manner as in the above (3), and this acid reacts with (B3), whereby the acid is propagated and the active ray is attenuated or shielded. Is further accelerated.

上記(5)においては、活性光線の照射により活性種(H)として塩基が発生し、活性種(I)としてラジカルが発生する。活性光線が減衰又は遮蔽された部分に活性種(H)が拡散することにより、これらの部分での硬化が促進される。   In (5) above, a base is generated as the active species (H) by irradiation with actinic rays, and a radical is generated as the active species (I). The active species (H) diffuses into the portions where the actinic rays are attenuated or shielded, thereby promoting curing in these portions.

上記(6)においては、上記(5)と同様に活性種(H)として塩基が発生し、この塩基が(C3)と反応することにより塩基が増殖され、活性光線が減衰又は遮蔽された部分の硬化が更に促進される。   In the above (6), a base is generated as an active species (H) as in the above (5), and the base is proliferated by reacting with this (C3), and the active light is attenuated or shielded. Is further accelerated.

上記(7)においては、活性光線の照射により活性種(H)としてラジカルが発生し、活性種(I)として塩基が発生する。活性光線が減衰又は遮蔽された部分に活性種(H)が拡散することにより、これらの部分での硬化が促進される。   In (7) above, radicals are generated as active species (H) by irradiation with actinic rays, and bases are generated as active species (I). The active species (H) diffuses into the portions where the actinic rays are attenuated or shielded, thereby promoting curing in these portions.

上記(8)においては、上記(7)と同様に活性種(I)として塩基が発生し、この塩基が(C3)と反応することにより塩基が増殖され、活性光線が減衰又は遮蔽された部分の硬化が更に促進される。   In the above (8), a base is generated as an active species (I) in the same manner as in the above (7), and this base reacts with (C3) so that the base is proliferated and the active light is attenuated or shielded. Is further accelerated.

本発明における重合性物質(D)は、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも1個有するウレタン(メタ)アクリレート(D1)、および(D1)以外の単官能(メタ)アクリレート(D2)を必須成分として含有する。
なお、上記の(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基および/またはメタクリロイル基を、(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよび/またはメタクリレートをそれぞれ意味し、以下同様の記載法を用いる。
The polymerizable substance (D) in the present invention is essential for urethane (meth) acrylate (D1) having at least one (meth) acryloyl group in the molecule and monofunctional (meth) acrylate (D2) other than (D1). Contains as a component.
In addition, said (meth) acryloyl group means an acryloyl group and / or a methacryloyl group, (meth) acrylate means an acrylate and / or a methacrylate, respectively, and the same description method is used hereafter.

また、必要により、ハイドロキノン類等の重合禁止剤を併用してもよい。   Further, if necessary, a polymerization inhibitor such as hydroquinones may be used in combination.

本発明におけるウレタン(メタ)アクリレート(D1)は、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも1個含有しており、例えば、ポリイソシアネート(D1a)とポリオール(D1b)と水酸基含有(メタ)アクリレート(D1c)を反応させて得られる。   The urethane (meth) acrylate (D1) in the present invention contains at least one (meth) acryloyl group in the molecule. For example, polyisocyanate (D1a), polyol (D1b), and hydroxyl group-containing (meth) acrylate ( Obtained by reacting D1c).

本発明におけるウレタン(メタ)アクリレート(D1)の原料であるポリイソシアネート(D1a)には、芳香族ポリイソシアネート(D1a1)、脂肪族ポリイソシアネート(D1a2)、脂環式ポリイソシアネート(D1a3)、芳香脂肪族ポリイソシアネート(D1a4)、および(D1a1)〜(D1a4)のヌレート化物(D1a5)などが挙げられる。
これらは2種類以上組み合わせてもよい。
The polyisocyanate (D1a) that is the raw material of the urethane (meth) acrylate (D1) in the present invention includes aromatic polyisocyanate (D1a1), aliphatic polyisocyanate (D1a2), alicyclic polyisocyanate (D1a3), and aromatic fat. Group polyisocyanate (D1a4), and nurateated products (D1a5) of (D1a1) to (D1a4).
Two or more of these may be combined.

芳香族ポリイソシアネート(D1a1)としては、例えば、1,3−または1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−または2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、4, 4’−または2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、m−およびp−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニ ル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、1,5−ナフチレンジイソシアネート、m−またはp−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート等の2価のイソシアネート;または粗製TDI、粗製MDI(ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート)、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート等の3官能以上のトリイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the aromatic polyisocyanate (D1a1) include 1,3- or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), 4, 4′- or 2,4 ′. -Diphenylmethane diisocyanate (MDI), m- and p-isocyanatophenylsulfonyl isocyanate, 4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3 ' -Divalent isocyanates such as dimethyl-4,4'-diisocyanatodiphenylmethane, 1,5-naphthylene diisocyanate, m- or p-isocyanatophenylsulfonyl isocyanate; or crude TDI, crude MDI (polymethylene polyphenylene polyisocyanate ), 4, 4 ', 4 "-tri Trifunctional or higher functional triisocyanates such as phenylmethane triisocyanate.

脂肪族ポリイソシアネート(D1a2)としては、例えばエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ヘプタメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,2,4−および/または2,4,4 −トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、2,6−ジイソシアナトエチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネートおよびトリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)等の2価のイソシアネート;
1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート(リジンとアルカノールアミンの反応生成物のホスゲン化物等の3官能以上のトリイソシアネート等が挙げられる。
Examples of the aliphatic polyisocyanate (D1a2) include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), heptamethylene diisocyanate, octamethylene diisocyanate, nonamethylene diisocyanate, decamethylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4. -And / or 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 2,6-diisocyanatomethylcaproate, 2,6-diisocyanatoethylcaproate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, Divalent isocyanates such as bis (2-isocyanatoethyl) carbonate and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI);
1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, lysine ester triisocyanate (phosgenated product of reaction product of lysine and alkanolamine, etc. And trifunctional or higher functional triisocyanates.

脂環式ポリイソシアネート(D1a3)としては、例えばイソホロンジイソシアネート(IPDI)、2,4−または2,6−メチルシクロヘキサンジイソシアネート(水添TDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキシレン−1,2−ジカルボキシレート、2,5−または2,6−ノルボルナンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート(DDI)等の2価のイソシアネート;
ビシクロヘプタントリイソシアネート等の3官能以上のトリイソシアネート等が挙げられる。
Examples of the alicyclic polyisocyanate (D1a3) include isophorone diisocyanate (IPDI), 2,4- or 2,6-methylcyclohexane diisocyanate (hydrogenated TDI), and dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI). , Cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) -4-cyclohexylene-1,2-dicarboxylate, 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate, dimer acid diisocyanate (DDI) Divalent isocyanates such as
And trifunctional or higher functional triisocyanates such as bicycloheptane triisocyanate.

芳香脂肪族ポリイソシアネート(D1a4)としては、例えば、m−またはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)、ジエチルベンゼンジイソシアネート、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)等が挙げられる。   Examples of the araliphatic polyisocyanate (D1a4) include m- or p-xylylene diisocyanate (XDI), diethylbenzene diisocyanate, α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and the like. .

ヌレート化物(D1a5)としては、例えば、イソシアヌレート体変性イソホロンジイソシアネート、イソシアヌレート体変性ヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。   Examples of the nurated product (D1a5) include isocyanurate-modified isophorone diisocyanate and isocyanurate-modified hexamethylene diisocyanate.

ポリイソシアネート(D1a)としては、脂環式ポリイソシアネート(D1a3)、芳香脂肪族ポリイソシアネート(D1a4)が好ましい。   As polyisocyanate (D1a), alicyclic polyisocyanate (D1a3) and araliphatic polyisocyanate (D1a4) are preferable.

本発明におけるウレタン(メタ)アクリレート(D1)の原料であるポリオール(D1b)としては、脂肪族2価アルコール(D1b1)、脂環式骨格を有する2価アルコール(D1b2)、芳香脂肪族2価アルコール(D1b3)、これら(D1b1)〜(D1b3)のアルキレンオキサイド1〜50モル付加物(D1b4)等が挙げられる。また、これらは2種類以上組み合わせてもよい。   The polyol (D1b) which is a raw material of the urethane (meth) acrylate (D1) in the present invention includes an aliphatic dihydric alcohol (D1b1), a dihydric alcohol having an alicyclic skeleton (D1b2), and an araliphatic dihydric alcohol. (D1b3), alkylene oxide 1-50 mol adduct (D1b4) of these (D1b1)-(D1b3), etc. are mentioned. Two or more of these may be combined.

脂肪族2価アルコール(D1b1)としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチルペンタンジオールおよびドデカンジオール等が挙げられる。
脂環式骨格を有する2価アルコール(D1b2)としては1,3−および1,4−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。
芳香脂肪族2価アルコール(D1b3)としては、レゾルシノールのエチレンオキサイド(以下、EOと略称する。)4モル付加物、ジヒドロキシナフタレンのプロピレンオキサイド(以下、POと略称する。)4モル付加物、ビスフェノールAのEO2モル付加物、ビスフェノール−FのEO2モル付加物およびビスフェノール−SのEO2モル付加物等が挙げられる。
Examples of the aliphatic dihydric alcohol (D1b1) include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,2-butanediol, 2,3-butanediol, 1,3-butanediol, and 1,4-butanediol. 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 3-methylpentanediol, dodecanediol, and the like.
Examples of the dihydric alcohol (D1b2) having an alicyclic skeleton include 1,3- and 1,4-cyclohexanediol and cyclohexanedimethanol.
As the araliphatic dihydric alcohol (D1b3), resorcinol ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO) 4 mol adduct, dihydroxynaphthalene propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO) 4 mol adduct, bisphenol An EO2 molar adduct of A, an EO2 molar adduct of bisphenol-F, an EO2 molar adduct of bisphenol-S, and the like.

本発明におけるウレタン(メタ)アクリレート(D1)の原料である水酸基含有(メタ)アクリレート(D1c)としては、(メタ)アクリル酸のアルキレンオキサイド(以下、AOと略称する。)付加物、ジオールのモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸と3官能以上のポリオールの反応生成物およびそのAO付加物、およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。   As the hydroxyl group-containing (meth) acrylate (D1c) which is a raw material of the urethane (meth) acrylate (D1) in the present invention, an alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) adduct of (meth) acrylic acid, and a mono diol. (Meth) acrylate, reaction product of (meth) acrylic acid and a tri- or higher functional polyol and its AO adduct, and a mixture of two or more of these.

水酸基含有(メタ)アクリレート(D1c)の具体例としては、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシブチルおよびこれらのAO付加物等;ポリカーボネートジオールのモノ(メタ)アクリレート、ポリエーテルジオールのモノ(メタ)アクリレート、ポリエステルジオールのモノ(メタ)アクリレート等;グリセリンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、およびそれらのAO付加物等が挙げられる。   Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate (D1c) include (meth) acrylic acid-2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid-2-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid-2-hydroxybutyl, and these AO adduct, etc .; polycarbonate diol mono (meth) acrylate, polyether diol mono (meth) acrylate, polyester diol mono (meth) acrylate, etc .; glycerin mono (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, And AO adducts thereof.

ポリイソシアネート(D1a)とポリオール(D1b)、および水酸基含有(メタ)アクリレート(Ac)との反応におけるNCO/OH当量比は特に限定されないが、貯蔵安定性の観点から好ましくは1/0.5〜1/10、さらに好ましくは1/0.7〜1/5、とくに好ましくは1/1〜1/2である。   The NCO / OH equivalent ratio in the reaction of the polyisocyanate (D1a), the polyol (D1b), and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate (Ac) is not particularly limited, but is preferably 1 / 0.5 to from the viewpoint of storage stability. 1/10, more preferably 1 / 0.7 to 1/5, particularly preferably 1/1 to 1/2.

ポリイソシアネート(D1a)とポリオール(D1b)、および水酸基含有(メタ)アクリレート(D1c)とを反応させてなるウレタン(メタ)アクリレート(D1)の製造においては、ウレタン化触媒を用いてもよい。ウレタン化触媒には、金属化合物(有機ビスマス化合物、有機スズ化合物、有機チタン化合物等)および4級アンモニウム塩が含まれる。   In the production of urethane (meth) acrylate (D1) obtained by reacting polyisocyanate (D1a), polyol (D1b), and hydroxyl group-containing (meth) acrylate (D1c), a urethanization catalyst may be used. Urethane catalysts include metal compounds (organic bismuth compounds, organic tin compounds, organic titanium compounds, etc.) and quaternary ammonium salts.

ウレタン化反応は、常圧、減圧または加圧のいずれでも行うことができる。ウレタン化反応の進行状況は、例えば反応系のNCO%および水酸基価を測定することにより判断することができる。   The urethanization reaction can be carried out at normal pressure, reduced pressure or increased pressure. The progress of the urethanization reaction can be judged, for example, by measuring the NCO% and hydroxyl value of the reaction system.

ウレタン(メタ)アクリレート(D1)の数平均分子量(以後、Mnと略称することがある。)は、レンズ凹み部への流れ込み性と塗工時の液垂れ防止の観点から、好ましくは1,000〜10,000、さらに好ましくは1,300〜9,000、とくに好ましくは1,500〜8,000である。
Mnが1,000以上であると塗工時の液垂れの問題が無く、温度によるバラツキが小さく、10,000以下であるとレンズ凹部への流れ込み性が良好である。
なお、本発明におけるMnはゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)法による数平均分子量であり、HLC−8320GPC(東ソー(株)製)を使用し、THF溶媒、TSK標準ポリスチレン(東ソー(株)製)を基準物質として、測定温度:40℃、カラム:Alliance(ウォーターズ製)で測定した。また、解析ソフトとしてGPCワークステーションEcoSEC−WS(東ソー(株)製)を使用した。
The number average molecular weight (hereinafter sometimes abbreviated as Mn) of the urethane (meth) acrylate (D1) is preferably 1,000 from the viewpoint of flowability into the lens recess and prevention of dripping during coating. To 10,000, more preferably 1,300 to 9,000, particularly preferably 1,500 to 8,000.
When Mn is 1,000 or more, there is no problem of dripping at the time of coating, the variation due to temperature is small, and when it is 10,000 or less, the flowability into the lens recess is good.
In addition, Mn in this invention is a number average molecular weight by a gel permeation chromatography (GPC) method, uses HLC-8320GPC (made by Tosoh Corporation), THF solvent, TSK standard polystyrene (Tosoh Corporation made). ) As a reference substance, measurement temperature: 40 ° C., column: Alliance (manufactured by Waters). Moreover, GPC workstation EcoSEC-WS (made by Tosoh Corporation) was used as analysis software.

本発明の感光性組成物中のウレタン(メタ)アクリレート(D1)の含有量は、密着性の観点から、好ましくは5〜60重量%、さらに好ましくは10〜55重量%、特に好ましくは15〜50重量%である。
含有量が5重量%以上であれば硬化収縮が小さいため密着性がより良好となる。また、60重量%以下であるとハンドリング性が良好である。
The content of the urethane (meth) acrylate (D1) in the photosensitive composition of the present invention is preferably 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 55% by weight, and particularly preferably 15 to 15% from the viewpoint of adhesion. 50% by weight.
If the content is 5% by weight or more, the curing shrinkage is small, so that the adhesion is better. Moreover, handling property is favorable in it being 60 weight% or less.

本発明における単官能(メタ)アクリレート(D2)は、ウレタン(メタ)アクリレート(D1)以外のものであり、脂肪族単官能(メタ)アクリレート(D21)、脂環式単官能(メタ)アクリレート(D22)、および芳香族単官能(メタ)アクリレート(D23)等が挙げられる。
これらは2種類以上組み合わせてもよい。
The monofunctional (meth) acrylate (D2) in the present invention is other than urethane (meth) acrylate (D1), and includes aliphatic monofunctional (meth) acrylate (D21), alicyclic monofunctional (meth) acrylate ( D22), and aromatic monofunctional (meth) acrylate (D23).
Two or more of these may be combined.

脂肪族単官能(メタ)アクリレート(D21)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the aliphatic monofunctional (meth) acrylate (D21) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, and the like. Is mentioned.

脂環式単官能(メタ)アクリレート(D22)としては、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the alicyclic monofunctional (meth) acrylate (D22) include cyclohexyl (meth) acrylate.

芳香族単官能(メタ)アクリレート(D23)としては、例えば、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、オルトフェニルフェノールモノ(メタ)アクリレート、ノニルフェノールのEO2〜10モル付加物のモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the aromatic monofunctional (meth) acrylate (D23) include phenoxyethyl (meth) acrylate, orthophenylphenol mono (meth) acrylate, mono (meth) acrylate of nonylphenol EO2 to 10 mol adduct, and the like. .

上記(D21)〜(D23)のうち、密着性の観点から好ましいのは(D21)および(D23)である。   Of the above (D21) to (D23), (D21) and (D23) are preferable from the viewpoint of adhesion.

本発明における単官能(メタ)アクリレート(D2)の分子量(またはMn)は、塗工後の平滑性の観点から86〜1,000が好ましく、さらに好ましくは100〜500である。   The molecular weight (or Mn) of the monofunctional (meth) acrylate (D2) in the present invention is preferably from 86 to 1,000, more preferably from 100 to 500, from the viewpoint of smoothness after coating.

単官能(メタ)アクリレート(D2)の25℃における粘度〔複数の(D2)を用いる場合は(D2)全体の粘度〕は、塗工後の平滑性の観点から、好ましくは5〜1,000mPa・s、さらに好ましくは10〜500mPa・s、特に好ましくは15〜300mPa・sである。
なお、本発明における粘度は、ブルックフィールド型回転粘度計(BL型粘度計)により測定されたものである。
The viscosity of monofunctional (meth) acrylate (D2) at 25 ° C. [when using a plurality of (D2) (D2) overall viscosity] is preferably 5 to 1,000 mPa from the viewpoint of smoothness after coating. · S, more preferably 10 to 500 mPa · s, particularly preferably 15 to 300 mPa · s.
The viscosity in the present invention is measured by a Brookfield type rotational viscometer (BL type viscometer).

本発明の感光性組成物中の単官能(メタ)アクリレート(D2)の含有量は、硬化物の強度および硬化性の観点から、好ましくは10〜80重量%、さらに好ましくは15〜70重量%、特に好ましくは20〜60重量%である。含有量が10重量%以上であれば光硬化性に優れ、80重量%以下であれば塗工時の液垂れを防止できる。   The content of the monofunctional (meth) acrylate (D2) in the photosensitive composition of the present invention is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 15 to 70% by weight, from the viewpoint of the strength and curability of the cured product. Particularly preferred is 20 to 60% by weight. If content is 10 weight% or more, it is excellent in photocurability, and if it is 80 weight% or less, dripping at the time of coating can be prevented.

本発明の感光性組成物中のウレタン(メタ)アクリレート(D1)と、(D1)以外の単官能(メタ)アクリレート(D2)の重量比:(D1)/(D2)は、好ましくは5/95〜95/5、さらに好ましくは10/90〜83/17、とくに好ましくは22/78〜60/40である。
(D1)の重量比が5以上であると密着性がより良好となり、95以下であるとハンドリング性が良好である。
The weight ratio (D1) / (D2) of urethane (meth) acrylate (D1) and monofunctional (meth) acrylate (D2) other than (D1) in the photosensitive composition of the present invention is preferably 5 / It is 95-95 / 5, More preferably, it is 10 / 90-83 / 17, Most preferably, it is 22 / 78-60 / 40.
When the weight ratio of (D1) is 5 or more, the adhesion is better, and when it is 95 or less, the handling property is good.

本発明の感光性組成物において、重合性物質(D)として、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも1個有するウレタン(メタ)アクリレート(D1)、および(D1)以外の単官能(メタ)アクリレート(D2)以外に、通常用いられる他の重合性物質(特にラジカル重合性物質)(D3)を含有してもよい。
重合性物質(D3)としては、例えば、炭素数3〜35の(メタ)アクリルアミド(D31)、炭素数10〜35の(D1)以外の2〜6官能の(メタ)アクリレート(D32)、炭素数6〜35の芳香族ビニル化合物(D33)、炭素数3〜35のビニルエーテル化合物(D34)及びその他のラジカル重合性物質(D35)が挙げられる。
尚、上記「2〜6官能の(メタ)アクリレート」とは、(メタ)アクリロイル基の数が2〜6個の(メタ)アクリレートを意味し、以下同様の記載法を用いる。
In the photosensitive composition of the present invention, as the polymerizable substance (D), a urethane (meth) acrylate (D1) having at least one (meth) acryloyl group in the molecule, and a monofunctional (meth) other than (D1) In addition to the acrylate (D2), other commonly used polymerizable substances (particularly radical polymerizable substances) (D3) may be contained.
Examples of the polymerizable substance (D3) include (meth) acrylamide (D31) having 3 to 35 carbon atoms, 2 to 6 functional (meth) acrylate (D32) other than (D1) having 10 to 35 carbon atoms, and carbon. Examples include an aromatic vinyl compound (D33) having 6 to 35 carbon atoms, a vinyl ether compound (D34) having 3 to 35 carbon atoms, and other radical polymerizable substances (D35).
The “2-6 functional (meth) acrylate” means (meth) acrylate having 2 to 6 (meth) acryloyl groups, and the same description method is used hereinafter.

炭素数3〜35の(メタ)アクリルアミド化合物(D31)としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylamide compound (D31) having 3 to 35 carbon atoms include (meth) acrylamide and N-methyl (meth) acrylamide.

炭素数10〜35の2〜6官能の(メタ)アクリレート(D32)のうち、2官能の(メタ)アクリレートとしては、1,4−ブタンジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのAO(EOおよび/またはPO等、以下同様)2〜10モル付加物のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
3官能の(メタ)アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールのAO1〜30モル付加物のトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
4官能の(メタ)アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールのAO1〜30モル付加物のテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
5官能の(メタ)アクリレートとしては、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが挙げられる。
6官能の(メタ)アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Among the bifunctional to hexafunctional (meth) acrylate (D32) having 10 to 35 carbon atoms, the bifunctional (meth) acrylate includes 1,4-butanedi (meth) acrylate and 1,6-hexanedi (meth) acrylate. , Polypropylene di (meth) acrylate, AO of bisphenol A (EO and / or PO, etc., the same shall apply hereinafter) 2 to 10 mol adduct di (meth) acrylate and the like.
Examples of the trifunctional (meth) acrylate include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol AO 1-30 mol adduct tri ( And (meth) acrylate.
Examples of tetrafunctional (meth) acrylates include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate of pentaerythritol AO 1 to 30 mol adduct, and the like. Is mentioned.
Examples of pentafunctional (meth) acrylates include sorbitol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.
Examples of hexafunctional (meth) acrylates include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and sorbitol hexa (meth) acrylate.

炭素数6〜35の芳香族ビニル化合物(D33)としては、スチレン、メチルスチレン、クロルスチレン等が挙げられる。   Examples of the aromatic vinyl compound (D33) having 6 to 35 carbon atoms include styrene, methylstyrene, chlorostyrene and the like.

炭素数3〜35のビニルエーテル化合物(D34)としては、例えば以下の単官能又は多官能ビニルエーテルが挙げられる。
尚、上記「単官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が1個の、「多官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が2個以上の、それぞれビニルエーテル化合物を意味する。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。
多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル等が挙げられる。、
As a C3-C35 vinyl ether compound (D34), the following monofunctional or polyfunctional vinyl ether is mentioned, for example.
The “monofunctional vinyl ether” means a vinyl ether compound having one vinyl group, and the “polyfunctional vinyl ether” means two or more vinyl groups.
Examples of the monofunctional vinyl ether include methyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and the like.
Examples of the polyfunctional vinyl ether include ethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, and the like. ,

その他のラジカル重合性物質(D35)としては、アクリロニトリル、塩化ビニル、エチレン、プロピレン等が挙げられる。   Examples of the other radical polymerizable substance (D35) include acrylonitrile, vinyl chloride, ethylene, propylene and the like.

これらの内、硬化速度の観点から好ましいのは、炭素数10〜35の(D1)以外の2〜6官能の(メタ)アクリレート(D32)である。   Among these, from the viewpoint of the curing rate, 2 to 6 functional (meth) acrylate (D32) other than (D1) having 10 to 35 carbon atoms is preferable.

(D)中の他の重合性物質(D3)の量は、好ましくは40重量%以下、さらに好ましくは5〜30重量%である。   The amount of the other polymerizable substance (D3) in (D) is preferably 40% by weight or less, more preferably 5 to 30% by weight.

本発明における充填材(E)としては、着色剤(E1)、金属酸化物粉末(E2)および金属粉末(E3)から選ばれる少なくとも1種を用いることができる。   As the filler (E) in the present invention, at least one selected from a colorant (E1), a metal oxide powder (E2) and a metal powder (E3) can be used.

着色剤(E1)としては、従来、塗料及びインキ等に使用されている無機顔料及び有機顔料等の顔料並びに染料が使用できる。   As the colorant (E1), pigments and dyes such as inorganic pigments and organic pigments conventionally used in paints and inks can be used.

無機顔料としては、黄鉛、亜鉛黄、紺青、硫酸バリウム、カドミウムレッド、酸化チタン、亜鉛華、ベンガラ、アルミナ、炭酸カルシウム、群青、カーボンブラック、グラファイト、チタンブラック、Fe等が挙げられる。   Examples of inorganic pigments include yellow lead, zinc yellow, bitumen, barium sulfate, cadmium red, titanium oxide, zinc white, bengara, alumina, calcium carbonate, ultramarine, carbon black, graphite, titanium black, and Fe.

有機顔料としては、β−ナフトール系、β−オキシナフトエ酸系アニリド系、アセト酢酸アニリド系、ピラゾロン系等の溶性アゾ顔料、β−ナフトール系、β−オキシナフトエ酸系、β−オキシナフトエ酸系アニリド系、アセト酢酸アニリド系モノアゾ、アセト酢酸アニリド系ジスアゾ、ピラゾロン系等の不溶性アゾ顔料、銅フタロシニンブルー、ハロゲン化銅フタロシアニンブルー、スルホン化銅フタロシアニンブルー、金属フリーフタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、イソシンドリノン系、キナクリドン系、ジオキサンジン系、ペリノン系及びペリレン系等の多環式又は複素環式化合物が挙げられる。   Organic pigments include β-naphthol, β-oxynaphthoic acid anilide, acetoacetanilide, pyrazolone and other soluble azo pigments, β-naphthol, β-oxynaphthoic acid, β-oxynaphthoic acid Insoluble azo pigments such as anilide, acetoacetanilide monoazo, acetoacetate anilide disazo, pyrazolone, phthalocyanine pigments such as copper phthalosinine blue, halogenated copper phthalocyanine blue, sulfonated copper phthalocyanine blue, metal-free phthalocyanine, iso Examples thereof include polycyclic or heterocyclic compounds such as sindrinone, quinacridone, dioxazine, perinone, and perylene.

染料の具体例として、イエロー染料としては、カップリング成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピラゾロン類、ピリドン類若しくは開鎖型活性メチレン化合物類を有するアリール又はヘテリルアゾ染料、カップリング成分として開鎖型活性メチレン化合物を有するアゾメチン染料、ベンジリデン染料及びモノメチンオキソノール染料等のメチン染料、ナフトキノン染料及びアントラキノン染料等のキノン系染料等、キノフタロン染料、ニトロ、ニトロソ染料、アクリジン染料並びにアクリジノン染料等が挙げられる。   Specific examples of dyes include yellow dyes, aryl or heteryl azo dyes having phenols, naphthols, anilines, pyrazolones, pyridones or open-chain active methylene compounds as coupling components, open-chain activity as coupling components Examples thereof include azomethine dyes having a methylene compound, methine dyes such as benzylidene dyes and monomethine oxonol dyes, quinone dyes such as naphthoquinone dyes and anthraquinone dyes, quinophthalone dyes, nitro, nitroso dyes, acridine dyes and acridinone dyes.

マゼンタ染料としては、カップリング成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピラゾロン類、ピリドン類、ピラゾロトリアゾール類、閉環型活性メチレン化合物類若しくはヘテロ環(ピロール、イミダゾール、チオフェン及びチアゾール誘導体等)を有するアリール又はヘテリルアゾ染料、カップリング成分としてピラゾロン類又はピラゾロトリアゾール類を有するアゾメチン染料、アリーリデン染料、スチリル染料、メロシアニン染料及びオキソノール染料等のメチン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料及びキサンテン染料等のカルボニウム染料、ナフトキノン、アントラキノン及びアントラピリドン等のキノン系染料並びにジオキサジン染料等の縮合多環系染料等を挙げられる。   For magenta dyes, phenols, naphthols, anilines, pyrazolones, pyridones, pyrazolotriazoles, ring-closing active methylene compounds or heterocycles (pyrrole, imidazole, thiophene and thiazole derivatives, etc.) are used as coupling components. Aryl or heteryl azo dyes having, azomethine dyes having pyrazolones or pyrazolotriazoles as coupling components, arylidene dyes, styryl dyes, merocyanine dyes such as merocyanine dyes and oxonol dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes and xanthene dyes Examples thereof include carbonium dyes, quinone dyes such as naphthoquinone, anthraquinone and anthrapyridone, and condensed polycyclic dyes such as dioxazine dyes.

シアン染料としては、インドアニリン染料及びインドフェノール染料等のアゾメチン染料、シアニン染料、オキソノール染料及びメロシアニン染料等のポリメチン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料及びキサンテン染料等のカルボニウム染料、フタロシアニン染料、アントラキノン染料、カップリング成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピロロピリミジノン若しくはピロロトリアジノン誘導体を有するアリール又はヘテリルアゾ染料(C.I.ダイレクトブルー14等)並びにインジゴ・チオインジゴ染料を挙げられる。   As cyan dyes, azomethine dyes such as indoaniline dyes and indophenol dyes, polymethine dyes such as cyanine dyes, oxonol dyes and merocyanine dyes, carbonium dyes such as diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes and xanthene dyes, phthalocyanine dyes, anthraquinone dyes Examples of the coupling component include phenols, naphthols, anilines, pyrrolopyrimidinone or pyrrolotriazinone derivatives, aryl or heteryl azo dyes (such as CI Direct Blue 14), and indigo / thioindigo dyes.

着色剤(E1)としては、上記着色剤(E1)を含有する樹脂ビーズ(E1’)を用いることもできる。本発明においては、(E1’)も着色剤(E1)に含める。
着色剤(E1)として、体積平均一次粒子径が1〜20μmである、着色剤(E1)を含有する樹脂ビーズ(E1’)を用いる場合は、レンズシート用ブラックストライプの形成に好適に使用することができる。
As the colorant (E1), resin beads (E1 ′) containing the colorant (E1) can also be used. In the present invention, (E1 ′) is also included in the colorant (E1).
When the resin beads (E1 ′) containing the colorant (E1) having a volume average primary particle diameter of 1 to 20 μm are used as the colorant (E1), the colorant (E1) is preferably used for forming a black stripe for a lens sheet. be able to.

ブラックストライプ形成用に用いる場合、樹脂ビーズに含まれる着色剤(E1)は、通常黒色の無機顔料であり、好ましくはカーボンブラックおよびチタンブラック、特に好ましくはカーボンブラックである。   When used for forming black stripes, the colorant (E1) contained in the resin beads is usually a black inorganic pigment, preferably carbon black and titanium black, particularly preferably carbon black.

カーボンブラックとしては、例えばチャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラックなど公知のカーボンブラックが挙げられる。これらのうち、遮蔽性の観点からチャンネルブラックが好ましい。   Examples of the carbon black include known carbon blacks such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black. Of these, channel black is preferable from the viewpoint of shielding properties.

樹脂ビーズとしては、メラミンビーズ、ウレタンビーズ、アクリルビーズ、アクリルスチレンビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、ポリスチレンビーズ、塩ビビーズ等を使用することができる。
これらのうち、インキ組成中での分散性の観点から、好ましくはウレタンビーズおよびアクリルビーズ、特に好ましくはアクリルビーズである。
As the resin beads, melamine beads, urethane beads, acrylic beads, acrylic styrene beads, polycarbonate beads, polyethylene beads, polystyrene beads, polyvinyl chloride beads and the like can be used.
Among these, from the viewpoint of dispersibility in the ink composition, urethane beads and acrylic beads are preferable, and acrylic beads are particularly preferable.

さらにブラックストライプとして十分な遮蔽性、および掻き取り後の凹部の平滑性を発揮するために、着色剤(E1)を含有する樹脂ビーズ(E1’)の体積平均一次粒子径を1〜20μmにする必要があり、さらに好ましくは1〜10μm、特に好ましくは2〜6μmである。
なお、本発明における体積平均一次粒子径は、コールターカウンター法により測定した値である。
Furthermore, in order to exhibit sufficient shielding properties as black stripes and smoothness of the concave portions after scraping, the volume average primary particle diameter of the resin beads (E1 ′) containing the colorant (E1) is 1 to 20 μm. More preferably, it is 1-10 micrometers, Most preferably, it is 2-6 micrometers.
In addition, the volume average primary particle diameter in the present invention is a value measured by a Coulter counter method.

着色剤(E1)と樹脂ビーズは、公知の混合装置等により均一分散して得られる黒色樹脂粒子状で使用される。混合装置としては、例えば、プラネタリーミキサー、ビーズミル、3本ロール及び2本ロール等が使用できる。撹拌混合時間としては、例えば、黒色樹脂粒子に含まれる凝集物の大部分がなくなるまでの時間等であり、適宜決定する。得られる組成物は、必要により、濾過により凝集物等を除去してもよい。   The colorant (E1) and the resin beads are used in the form of black resin particles obtained by uniformly dispersing with a known mixing device or the like. As a mixing apparatus, for example, a planetary mixer, a bead mill, a three roll, a two roll, or the like can be used. The stirring and mixing time is, for example, the time until most of the aggregates contained in the black resin particles disappear, and is appropriately determined. The obtained composition may remove aggregates and the like by filtration, if necessary.

充填材(E)として、金属酸化物粉末(E2)又は金属粉末(E3)を含有する場合、例えばセラミック電子部品のグリーンシート形成及び電極層形成に使用することができる。   When the metal oxide powder (E2) or the metal powder (E3) is contained as the filler (E), it can be used for green sheet formation and electrode layer formation of ceramic electronic components, for example.

金属酸化物粉末(E2)は、誘電体層を形成する際に使用される。(E2)としては、チタン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、酸化ニオブ及びチタン酸ジルコン酸鉛等が挙げられ、好ましいのはチタン酸バリウムである。   The metal oxide powder (E2) is used when forming the dielectric layer. Examples of (E2) include barium titanate, calcium zirconate, niobium oxide, and lead zirconate titanate, and barium titanate is preferred.

(E2)の粒子径は、誘電率の観点から、体積平均一次粒子径として0.01μm〜2.0μmであることが好ましく、更に好ましくは0.01μm〜1.0μmである。   The particle diameter of (E2) is preferably 0.01 μm to 2.0 μm, more preferably 0.01 μm to 1.0 μm, as a volume average primary particle diameter, from the viewpoint of dielectric constant.

金属粉末(E3)は導電体層を形成する際に使用される貴金属及び卑金属であり、具体的には、パラジウム、ニッケル、銅、銀及び金等が挙げられ、好ましいのはパラジウム、ニッケル及び銅である。
(E3)の体積平均一次粒子径は、0.01μm〜10μmであることが好ましい。
The metal powder (E3) is a noble metal and a base metal used when forming the conductor layer, and specifically includes palladium, nickel, copper, silver, gold, etc., preferably palladium, nickel, and copper. It is.
The volume average primary particle diameter of (E3) is preferably 0.01 μm to 10 μm.

本発明の感光性組成物中の充填材(E)の含有量は、特に限定されないが、好ましくは0.5〜60重量%である。
また、充填材(E)が樹脂ビーズ(E1’)である場合の含有量は、0.5〜40重量%が好ましく、さらに好ましくは5〜35重量%、特に好ましくは10〜30重量%である。
0.5重量%以上であれば遮蔽性が良好に発揮でき発揮でき、60重量%以下であれば光硬化性が良好に発揮できる。
Although content of the filler (E) in the photosensitive composition of this invention is not specifically limited, Preferably it is 0.5 to 60 weight%.
The content when the filler (E) is resin beads (E1 ′) is preferably 0.5 to 40% by weight, more preferably 5 to 35% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight. is there.
If it is 0.5% by weight or more, the shielding property can be exerted satisfactorily, and if it is 60% by weight or less, photocurability can be satisfactorily exhibited.

本発明の感光性組成物の25℃での表面張力は、好ましくは38mN/m以下、さらに好ましくは36mN/m以下、とくに好ましくは35mN/m以下である。
表面張力が38mN/mを以下であると、塗工後の平滑性がより良好である。
The surface tension at 25 ° C. of the photosensitive composition of the present invention is preferably 38 mN / m or less, more preferably 36 mN / m or less, and particularly preferably 35 mN / m or less.
When the surface tension is 38 mN / m or less, smoothness after coating is better.

また、本発明の感光性組成物の25℃での粘度は、好ましくは1,500〜5,000mPa・s、さらに好ましくは、2,000〜4,500mPa・sであり、とくに好ましくは2,500〜4,000mPa・sである。
25℃での粘度が1,500mPa・s以上ではハンドリング性が良好であり、5,000mPa・s以下であると塗工後の平滑性がより良好となる。
The viscosity of the photosensitive composition of the present invention at 25 ° C. is preferably 1,500 to 5,000 mPa · s, more preferably 2,000 to 4,500 mPa · s, particularly preferably 2, 500 to 4,000 mPa · s.
When the viscosity at 25 ° C. is 1,500 mPa · s or more, the handleability is good, and when it is 5,000 mPa · s or less, the smoothness after coating becomes better.

感光性組成物の粘度を上記の好ましい範囲に調整する方法としては、ウレタン(メタ)アクリレート(D1)の分子量を調整する方法、ウレタン(メタ)アクリレート(D1)の含有量を調整する方法、および単官能(メタ)アクリレート(D2)の分子量を調整する方法等が挙げられる。これらのうち、調整の容易さの観点から、ウレタン(メタ)アクリレート(D1)の分子量を調整する方法、およびウレタン(メタ)アクリレート(D1)の含有量を調整する方法が好ましい。   As a method of adjusting the viscosity of the photosensitive composition to the above preferred range, a method of adjusting the molecular weight of the urethane (meth) acrylate (D1), a method of adjusting the content of the urethane (meth) acrylate (D1), and The method etc. which adjust the molecular weight of monofunctional (meth) acrylate (D2) are mentioned. Among these, from the viewpoint of ease of adjustment, a method of adjusting the molecular weight of the urethane (meth) acrylate (D1) and a method of adjusting the content of the urethane (meth) acrylate (D1) are preferable.

本発明の感光性組成物は、必要により溶剤、増感剤及び密着性付与剤(シランカップリング剤等)等を含有することができる。   The photosensitive composition of the present invention can contain a solvent, a sensitizer, an adhesion-imparting agent (such as a silane coupling agent) and the like as necessary.

溶剤としては、グリコールエーテル類(エチレングリコールモノアルキルエーテル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等)、エステル類(エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン及びメシチレン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等)及びエーテル類(テトラヒドロフラン及び1,8−シネオール等)が挙げられる。これらは、単独で使用しても2種以上を併用しても良い。
感光性組成物における溶剤の含有量は、0〜99重量%であることが好ましく、更に好ましくは3〜95重量%、特に好ましくは5〜90重量%である。
Solvents include glycol ethers (ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol alkyl ether). Acetate and propylene glycol alkyl ether acetate), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, mesitylene, etc.), alcohols (methanol, ethanol, normal propanol, isopropanol, butanol, geraniol, linalool, citronellol, etc.) and ethers (tetrahydrofuran) And 1,8-cineole). These may be used alone or in combination of two or more.
The content of the solvent in the photosensitive composition is preferably 0 to 99% by weight, more preferably 3 to 95% by weight, and particularly preferably 5 to 90% by weight.

増感剤としては、ケトクマリン、フルオレン、チオキサントン、アントラキノン、ナフチアゾリン、ビアセチル、ベンジル及びこれらの誘導体、ペリレン並びに置換アントラセン等の内(C)以外のものが挙げられる。増感剤の含有量は、感光性組成物に対して0〜20重量%が好ましく、更に好ましくは1〜15重量%、特に好ましくは2〜10重量%である。   Examples of the sensitizer include ketocoumarin, fluorene, thioxanthone, anthraquinone, naphthiazoline, biacetyl, benzyl and derivatives thereof, perylene, substituted anthracene, and the like other than (C). The content of the sensitizer is preferably 0 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight, and particularly preferably 2 to 10% by weight with respect to the photosensitive composition.

密着性付与剤としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス(アセチルアセトネート)アルミニウム及びアセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。密着性付与剤の含有量は、感光性組成物に対して0〜20重量%が好ましく、更に好ましくは1〜15重量%、特に好ましくは2〜10重量%である。   Adhesion imparting agents include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, urea propyltri Examples include ethoxysilane, tris (acetylacetonate) aluminum, and acetylacetate aluminum diisopropylate. The content of the adhesion-imparting agent is preferably 0 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight, and particularly preferably 2 to 10% by weight with respect to the photosensitive composition.

本発明の感光性組成物は、更に、使用目的に合わせて、無機微粒子、分散剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤等を含有することができる。   The photosensitive composition of the present invention further comprises inorganic fine particles, a dispersant, an antifoaming agent, a leveling agent, a thixotropic agent, a slip agent, a flame retardant, an antistatic agent, an antioxidant and an ultraviolet ray in accordance with the purpose of use. An absorbent or the like can be contained.

本発明の感光性組成物は、ラジカル開始剤(A)と、重合性物質(D)と、酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)と、充填材(E)と必要により溶剤その他の成分等とをボールミル又は3本ロールミル等で混練することで得られる。混練温度は通常10℃〜40℃、好ましくは20℃〜30℃である。   The photosensitive composition of the present invention comprises a radical initiator (A), a polymerizable substance (D), an acid generator (B) and / or a base generator (C), and a filler (E) as necessary. It can be obtained by kneading a solvent or other components with a ball mill or a three-roll mill. The kneading temperature is usually 10 ° C to 40 ° C, preferably 20 ° C to 30 ° C.

本発明の感光性組成物は、360nm〜830nmの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等(UV・EB硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、138頁、2006)が使用できる。また、LED光源を使用した照射装置も好適に使用できる。活性光線の照射時及び/又は照射後に塩基発生剤から発生した塩基を拡散させる目的で、加熱を行ってもよい。加熱温度は、通常、30℃〜200℃であり、好ましくは35℃〜150℃、更に好ましくは40℃〜120℃である。   Since the photosensitive composition of the present invention can be photocured by irradiation with an actinic ray of 360 nm to 830 nm, in addition to a commonly used high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a high power metal halide lamp, etc. The latest trends in EB curing technology, edited by Radtech Research Association, CMC Publishing, 138, 2006) can be used. Moreover, the irradiation apparatus using an LED light source can also be used conveniently. Heating may be performed for the purpose of diffusing the base generated from the base generator during and / or after irradiation with actinic rays. The heating temperature is usually 30 ° C to 200 ° C, preferably 35 ° C to 150 ° C, more preferably 40 ° C to 120 ° C.

本発明の感光性組成物の基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びに平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった公知の印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布にも適用できる。
Examples of the method for applying the photosensitive composition of the present invention to a substrate include known coating methods such as spin coating, roll coating, and spray coating, and planographic printing, carton printing, metal printing, offset printing, screen printing, and gravure printing. A known printing method can be applied. In addition, the present invention can also be applied to ink jet type coating in which fine droplets are continuously discharged.

レンズシート用ブラックストライプの形成方法としては、金型により凸凹のシリンドリカルレンズ形状を付与した透明レンズシートの凹部に、本発明の感光性組成物を塗布することで流し込み、凹部より上部の感光性組成物を掻き取った後に、紫外線を照射し光硬化することで形成される。これらの操作は複数回行ってもよい。
As a method of forming a black stripe for a lens sheet, the photosensitive composition of the present invention is poured into a concave portion of a transparent lens sheet provided with a concave cylindrical lens shape by a mold, and the photosensitive composition above the concave portion is poured. After scraping off an object, it is formed by irradiating with ultraviolet rays and photocuring. These operations may be performed a plurality of times.

以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、%は重量%、部は重量部を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to these. Hereinafter, unless otherwise specified, “%” means “% by weight” and “part” means “part by weight”.

[酸発生剤(B)の製造]
製造例1
[酸発生剤(B121−1){化学式(27)で表される化合物}の合成]

Figure 2014108974
[Production of acid generator (B)]
Production Example 1
[Synthesis of Acid Generator (B121-1) {Compound Represented by Chemical Formula (27)}]
Figure 2014108974

(1)2−(フェニルチオ)チオキサントン[中間体(B121−1−1)]の合成:
2−クロロチオキサントン11.0部、チオフェノール4.9部、水酸化カリウム2.5部及びN,N−ジメチルホルムアミド162部を均一混合し、130℃で9時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン/ヘキサン=1/1:容量比)で精製し、中間体(B121−1−1)(黄色固体)3.1部を得た。
(1) Synthesis of 2- (phenylthio) thioxanthone [intermediate (B121-1-1)]:
11.0 parts of 2-chlorothioxanthone, 4.9 parts of thiophenol, 2.5 parts of potassium hydroxide and 162 parts of N, N-dimethylformamide were uniformly mixed and reacted at 130 ° C. for 9 hours. The product was cooled to room temperature (about 25 ° C.) and poured into 200 parts of distilled water to precipitate the product. This was filtered, and the residue was washed with water until the pH of the filtrate became neutral, and then the residue was dried under reduced pressure to obtain a yellow powdery product. Purification by column chromatography (eluent: toluene / hexane = 1/1: volume ratio) yielded 3.1 parts of intermediate (B121-1-1) (yellow solid).

(2)2−[(フェニル)スルフィニル]チオキサントン[中間体(B121−1−2)]の合成:
中間体(B121−1−1)11.2部、アセトニトリル215部及び硫酸0.02部を40℃で撹拌しながら、これに30%過酸化水素水溶液4.0部を徐々に滴下し、40〜45℃で14時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/トルエン=1/3:容量比)にて生成物を精製して、中間体(B121−1−2)(黄色固体)13.2部を得た。
(2) Synthesis of 2-[(phenyl) sulfinyl] thioxanthone [intermediate (B121-1-2)]:
While stirring 11.2 parts of the intermediate (B121-1-1), 215 parts of acetonitrile, and 0.02 part of sulfuric acid at 40 ° C., 4.0 parts of 30% aqueous hydrogen peroxide was gradually added dropwise thereto. After reacting at ˜45 ° C. for 14 hours, the reaction solution was cooled to room temperature (about 25 ° C.) and poured into 200 parts of distilled water to precipitate the product. This was filtered, and the residue was washed with water until the pH of the filtrate became neutral, and then the residue was dried under reduced pressure to obtain a yellow powdery product. The product was purified by column chromatography (eluent: ethyl acetate / toluene = 1/3: volume ratio) to obtain 13.2 parts of intermediate (B121-1-2) (yellow solid).

(3)酸発生剤(B121−1)の合成:
中間体(B121−1−2)4.3部、無水酢酸4.1部及びアセトニトリル110部を40℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸2.4部を徐々に滴下し、40〜45℃で1時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水150部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のpHが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン50部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約15分間静置してから上澄みを除く操作を3回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン212部に溶かし、10%トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウム水溶液65部中に投入してから、室温(約25℃)で2時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で3回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、酸発生剤(B121−1)(黄色固体)5.5部を得た。
(3) Synthesis of acid generator (B121-1):
While stirring 4.3 parts of intermediate (B121-1-2), 4.1 parts of acetic anhydride and 110 parts of acetonitrile at 40 ° C., 2.4 parts of trifluoromethanesulfonic acid was gradually added dropwise to After reacting at 45 ° C. for 1 hour, the reaction solution is cooled to room temperature (about 25 ° C.), poured into 150 parts of distilled water, extracted with chloroform, and washed with water until the pH of the aqueous phase becomes neutral. did. After the chloroform phase was transferred to a rotary evaporator and the solvent was distilled off, 50 parts of toluene was added, dispersed in toluene with an ultrasonic cleaner, allowed to stand for about 15 minutes, and then the supernatant was removed three times to produce The washed solid was washed, and the residue was dried under reduced pressure. This residue was dissolved in 212 parts of dichloromethane, charged into 65 parts of 10% aqueous potassium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, and stirred at room temperature (about 25 ° C.) for 2 hours. After washing with water three times, the organic solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 5.5 parts of an acid generator (B121-1) (yellow solid).

製造例2
[酸発生剤(B122−1){化学式(28)で表される化合物}の合成]

Figure 2014108974
Production Example 2
[Synthesis of Acid Generator (B122-1) {Compound Represented by Chemical Formula (28)}]
Figure 2014108974

t−ブチルベンゼン[東京化成工業(株)製]8.1部、ヨウ化カリウム[東京化成工業(株)製]5.35部及び無水酢酸20部を酢酸70部に溶解させ、10℃まで冷却し、温度を10±2℃に保ちながら、濃硫酸12部と酢酸15部の混合溶液を1時間かけて滴下した。25℃まで昇温し、24時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル50部を加え、水で3回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部を水100部に溶解させた水溶液を加え、25℃で20時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル500部を加え、水で3回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤(B122−1)(淡黄色液体)14.0部を得た。   8.1 parts of t-butylbenzene [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.], 5.35 parts of potassium iodide [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.] and 20 parts of acetic anhydride are dissolved in 70 parts of acetic acid, and the mixture is dissolved up to 10 ° C. The mixture was cooled and a mixed solution of 12 parts of concentrated sulfuric acid and 15 parts of acetic acid was added dropwise over 1 hour while maintaining the temperature at 10 ± 2 ° C. It heated up to 25 degreeC and stirred for 24 hours. Thereafter, 50 parts of diethyl ether was added to the reaction solution, washed with water three times, and diethyl ether was distilled off under reduced pressure. An aqueous solution in which 118 parts of potassium {trifluoro [tris (perfluoroethyl)] phosphate} was dissolved in 100 parts of water was added to the residue, followed by stirring at 25 ° C. for 20 hours. Thereafter, 500 parts of ethyl acetate was added to the reaction solution, washed 3 times with water, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 14.0 parts of the target acid generator (B122-1) (light yellow liquid). It was.

[塩基発生剤(C)の製造]
製造例3
[塩基発生剤(C122−1){化学式(29)で表される化合物}の合成]

Figure 2014108974
[Production of base generator (C)]
Production Example 3
[Synthesis of Base Generator (C122-1) {Compound Represented by Chemical Formula (29)}]
Figure 2014108974

9−クロロメチルアントラセン(アルドリッチ社製)2.0部をクロロホルムに溶解させ、そこへ、トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部を少量ずつ加え(添加後若干の発熱が見られた。)、このまま室温(約25℃)で1時間攪拌して反応液を得た。ナトリウムテトラフェニルボレート塩4.0部及び水40部からなる水溶液に、反応液を少しずつ滴下し、更に1時間室温(約25℃)で攪拌した後、水層を分液操作により除き、有機層を水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去することで、白色固体7.1部を得た。この白色固体をアセトニトリルで再結晶させて、塩基発生剤(C122−1)(白色固体)6.2部を得た。   Dissolve 2.0 parts of 9-chloromethylanthracene (manufactured by Aldrich) in chloroform and add 3.1 parts of trioctylamine [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] in small portions (slightly exothermic after addition) The mixture was stirred at room temperature (about 25 ° C.) for 1 hour to obtain a reaction solution. The reaction solution is dropped little by little into an aqueous solution consisting of 4.0 parts of sodium tetraphenylborate salt and 40 parts of water, and the mixture is further stirred for 1 hour at room temperature (about 25 ° C.). The layer was washed 3 times with water. The organic solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 7.1 parts of a white solid. This white solid was recrystallized from acetonitrile to obtain 6.2 parts of a base generator (C122-1) (white solid).

製造例4
[塩基発生剤(C123−1){化学式(30)で表される化合物}の合成]

Figure 2014108974
Production Example 4
[Synthesis of Base Generator (C123-1) {Compound Represented by Chemical Formula (30)}]
Figure 2014108974

「トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部」を「1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]1.3部」に変更したこと以外、製造例9と同様にして、塩基発生剤(C123−1)(白色固体)4.7部を得た。   “Trioctylamine [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] 3.1 parts” is replaced with “1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene [San Apro Co., Ltd.“ DBU ”] 1.3. 4.7 parts of a base generator (C123-1) (white solid) was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that it was changed to “parts”.

製造例5 [ウレタン(メタ)アクリレート(D1−1)の合成]
攪拌機および空気導入管の付いた反応容器中に、ビスフェノールAのPO2モル付加物277部を投入し、撹拌下、減圧しながら70℃で加熱し脱水した。脱水後、酢酸エチル500部を投入し均一にした後に、50℃以下まで温度を下げた。
ついでイソホロンジイソシアネート(IPDI)[商品名:VESTANAT IPDI、BASF社製]135部、キシリレンジイソシアネート(XDI)[商品名:タケネート500、三井武田ケミカル(株)製]65部、およびウレタン化触媒としてビスマス系触媒[商品名:ネオスタンU−600、日東化成(株)製]0.4部加え、撹拌下、75℃で10時間反応させることにより両末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーを得た。
得られたウレタンプレポリマーに2−ヒドロキシエチルアクリレート[BHEA、日本触媒(株)製]23部加え、空気を通気しながら、75℃、4時間反応させた後、50℃以下まで温度を下げ、酢酸エチルを減圧除去することで両末端にアクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレート(D1−1)を得た。このウレタン(メタ)アクリレート(D1−1)はアクリレート基を2個含有し、GPCによるMnは3,300であった。
Production Example 5 [Synthesis of Urethane (meth) acrylate (D1-1)]
In a reaction vessel equipped with a stirrer and an air introduction tube, 277 parts of a PO2 molar adduct of bisphenol A was charged and dehydrated by heating at 70 ° C. under reduced pressure. After dehydration, 500 parts of ethyl acetate was added and homogenized, and then the temperature was lowered to 50 ° C. or lower.
Next, 135 parts of isophorone diisocyanate (IPDI) [trade name: VESTANAT IPDI, manufactured by BASF], 65 parts of xylylene diisocyanate (XDI) [trade name: Takenate 500, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.], and bismuth as a urethanization catalyst A urethane prepolymer having isocyanate groups at both ends was obtained by adding 0.4 parts of a system catalyst [trade name: Neostan U-600, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.] and reacting at 75 ° C. for 10 hours with stirring.
After adding 23 parts of 2-hydroxyethyl acrylate [BHEA, Nippon Shokubai Co., Ltd.] to the obtained urethane prepolymer and reacting at 75 ° C. for 4 hours while ventilating air, the temperature was lowered to 50 ° C. or lower, Ethyl acetate was removed under reduced pressure to obtain urethane (meth) acrylate (D1-1) having acryloyl groups at both ends. This urethane (meth) acrylate (D1-1) contained two acrylate groups, and Mn by GPC was 3,300.

製造例6 [ウレタン(メタ)アクリレート(D1−2)の製造]
撹拌装置および温度計を取り付けたガラス製の反応容器に、ポリテトラメチレングリコール[商品名:PTMG−1000、三菱化学(株)製]59.7部を仕込み、水分が500ppmであることを確認した後、ここに、IPDIを26.5部、触媒としてビスマストリ(2−エチルヘキサノエート)の2−エチルヘキサン酸50%溶液0.5部を仕込み、攪拌して均一溶液とした後、110℃に昇温した。容器内の温度を110℃に温度調整しながら、1段目のウレタン化反応を6時間行った。
1段目のウレタン化反応はイソシアネート含量が5.85%以下になったのを確認した後、重合禁止の目的で酸素濃度を8%に調整した窒素と酸素の混合気体を液中に通気し、ヒドロキシエチルアクリレートを13.8部加え、75℃で2時間反応した。2段目のウレタン化反応はイソシアネート含量が0.01%以下になったのを確認した後、60℃に冷却し、ウレタン(メタ)アクリレート(D1−2)を得た。このウレタン(メタ)アクリレートはアクリレート基を2個含有し、GPCによるMnは1,750であった。
Production Example 6 [Production of Urethane (meth) acrylate (D1-2)]
A glass reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer was charged with 59.7 parts of polytetramethylene glycol [trade name: PTMG-1000, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation] and confirmed that the water content was 500 ppm. Thereafter, 26.5 parts of IPDI and 0.5 part of a 50% 2-ethylhexanoic acid solution of bismuth tri (2-ethylhexanoate) as a catalyst were added and stirred to obtain a homogeneous solution. The temperature was raised to. While adjusting the temperature in the container to 110 ° C., the first stage urethanization reaction was carried out for 6 hours.
In the first urethanization reaction, after confirming that the isocyanate content was 5.85% or less, nitrogen and oxygen mixed gas with oxygen concentration adjusted to 8% was passed through the liquid for the purpose of inhibiting polymerization. Then, 13.8 parts of hydroxyethyl acrylate was added and reacted at 75 ° C. for 2 hours. The second stage urethanization reaction confirmed that the isocyanate content became 0.01% or less, and then cooled to 60 ° C. to obtain urethane (meth) acrylate (D1-2). This urethane (meth) acrylate contained two acrylate groups, and Mn by GPC was 1,750.

製造例7 [ウレタン(メタ)アクリレート(D1−3)の製造方法>
ポリオール成分としてビスフェノールAのPO2モル付加物を200部をビスフェノールAのPO2モル付加物を200部とPTMG−1000を221部の併用に変更した以外は、製造例5と同様の条件でウレタン(メタ)アクリレート(D1−3)を得た。
このウレタン(メタ)アクリレートはアクリレート基を2個含有し、GPCによるMnは4,500であった。
Production Example 7 [Method for producing urethane (meth) acrylate (D1-3)>
As a polyol component, urethane (meta) was prepared under the same conditions as in Production Example 5, except that 200 parts of PO2 molar adduct of bisphenol A and 200 parts of PO2 molar adduct of bisphenol A and 221 parts of PTMG-1000 were combined. ) Acrylate (D1-3) was obtained.
This urethane (meth) acrylate contained two acrylate groups, and Mn by GPC was 4,500.

実施例1〜9および比較例1〜5
表1に示すウレタン(メタ)アクリレート(D1)、単官能(メタ)アクリレート(D2)、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と、(D1)および(D2)以外の重合性物質(D3)とを一括で配合し、ディスパーサーで均一になるまで攪拌した。さらに攪拌しながら、着色剤(E1)を含有する樹脂ビーズ(E1’)としての黒色樹脂粒子を均等に3回に分けて投入し、本発明の感光性組成物を得た。
Examples 1-9 and Comparative Examples 1-5
Urethane (meth) acrylate (D1), monofunctional (meth) acrylate (D2), radical initiator (A), acid generator (B) or base generator (C) shown in Table 1, (D1) and ( Polymeric substances (D3) other than D2) were blended together and stirred with a disperser until uniform. Further, with stirring, the black resin particles as the resin beads (E1 ′) containing the colorant (E1) were equally added in three portions to obtain the photosensitive composition of the present invention.

Figure 2014108974
Figure 2014108974

なお、表1中に記載した化合物の記号は、以下の化合物を表す。また、(D2)の25℃における粘度は表中に記載した。
(D2−1):イソボルニルアクリレート[商品名「ライトアクリレートIBX−A」、共栄社化学(株)製]
(D2−2):2−エチルヘキシルアクリレート[商品名「アクリル酸2−エチルヘキシル」東京化成工業(株)製]
(D2−3):フェノキシエチルアクリレート[商品名「ライトアクリレートPO−A」、共栄社化学(株)製]
(D2−4):メトキシポリエチレングリコールアクリレート[商品名「ライトアクリレート130A」、共栄社化学(株)製]
(D2−5):ノニルフェノールEO4モル付加物アクリレート[商品名「ライトアクリレートNP−4EA」、共栄社化学(株)製]
(D2−6):ノニルフェノールEO8モル付加物アクリレート[商品名「ライトアクリレートNP−8EA」、共栄社化学(株)製]
(E1’−1):黒色樹脂粒子、体積平均一次粒子径4μm[商品名:「ガンツパールGMB−04S−B2」、ガンツ化成(株)製]
(E1’−2):黒色樹脂粒子、体積平均一次粒子径6μm[商品名:「ガンツパールGM−06S−B5」、ガンツ化成(株)製]
(A−1):1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン[商品名「イルガキュア184」、BASF社製]
(A−2):1,3,5−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド[商品名「LUCIRIN TPO」、BASF社製]
(A−3):ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド[商品名「イルガキュアー819」、BASF社製]
(D3−1):ビスフェノールAのエチレンオキサイド4モル付加物のジアクリレート[商品名:「ネオマーBA−641」、三洋化成工業(株)製]
(D3−2):ビスフェノールAのエチレンオキサイド20モル付加物のジアクリレート[商品名:「ニューフロンティアBPE−20」、第一工業製薬(株)製]
In addition, the symbol of the compound described in Table 1 represents the following compounds. The viscosity of (D2) at 25 ° C. is shown in the table.
(D2-1): Isobornyl acrylate [trade name “Light acrylate IBX-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.]
(D2-2): 2-ethylhexyl acrylate [trade name “2-ethylhexyl acrylate” manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]
(D2-3): Phenoxyethyl acrylate [trade name “Light acrylate PO-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.]
(D2-4): Methoxypolyethylene glycol acrylate [trade name “Light Acrylate 130A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.]
(D2-5): Nonylphenol EO 4 mol adduct acrylate [trade name “Light Acrylate NP-4EA”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.]
(D2-6): Nonylphenol EO 8 mol adduct acrylate [trade name “Light Acrylate NP-8EA”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.]
(E1′-1): Black resin particles, volume average primary particle diameter of 4 μm [trade name: “Ganz Pearl GMB-04S-B2”, manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd.]
(E1′-2): black resin particles, volume average primary particle diameter of 6 μm [trade name: “Ganz Pearl GM-06S-B5”, manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd.]
(A-1): 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone [trade name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Corporation]
(A-2): 1,3,5-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide [trade name “LUCIRIN TPO”, manufactured by BASF Corporation]
(A-3): Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide [trade name “Irgacure 819”, manufactured by BASF Corporation]
(D3-1): Diacrylate of ethylene oxide 4 mol adduct of bisphenol A [trade name: “Neomer BA-641”, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.]
(D3-2): Diacrylate of 20 mol adduct of bisphenol A with ethylene oxide [trade name: “New Frontier BPE-20”, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.]

[性能評価]
実施例1〜9で作成した本発明の感光性組成物および比較例1〜5で作成した比較のための感光性組成物の、25℃での静的表面張力、25℃での粘度、塗膜硬化性、充填材(黒色樹脂粒子)の分散安定性、塗工後の平滑性を以下の方法で測定した。
[Performance evaluation]
Static surface tension at 25 ° C., viscosity at 25 ° C., coating of the photosensitive composition of the present invention prepared in Examples 1 to 9 and the comparative photosensitive composition prepared in Comparative Examples 1 to 5 Film curability, dispersion stability of the filler (black resin particles), and smoothness after coating were measured by the following methods.

[静的表面張力]
感光性組成物を表面張力計(CBVB−A3:協和科学株式会社製)を用いて25℃にて、白金プレートを用いたウィルヘルミ−法にて静的表面張力(mN/m)を測定した。
[Static surface tension]
The static surface tension (mN / m) of the photosensitive composition was measured by a Wilhelmy method using a platinum plate at 25 ° C. using a surface tension meter (CBVB-A3: manufactured by Kyowa Science Co., Ltd.).

[粘度]
感光性組成物の25℃の粘度をBL型粘度計(TVB−10:東機産業(株)製)とローターNo3を用いて測定した。
[viscosity]
The viscosity of the photosensitive composition at 25 ° C. was measured using a BL type viscometer (TVB-10: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) and rotor No3.

[塗膜硬化性評価]
実施例1〜9及び比較例1〜5で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム[東洋紡(株)製コスモシャインA4300]に、アプリケーターを用いて膜厚60μmとなるように塗布し、ベルトコンベア式UV照射装置(アイグラフィックス株式会社「ECS−151U」)を使用して露光を行った。露光量は365nmとして200mJ/cm2であった。
硬化後塗膜の光照射直後の硬化性を、指触及び爪で強く引っ掻くことにより、以下の評価基準で評価した。
◎:表面にタックがなく爪で傷つかない。
○:表面にタックはないが、爪で傷つく。
△:表面にタックがあり、爪で傷つく。
×:未硬化。
[Evaluation of coating curability]
Each photosensitive composition obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 5 was subjected to a surface treatment on a 100 μm thick PET (polyethylene terephthalate) film [Cosmo Shine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.]. The film was applied so as to have a film thickness of 60 μm, and was exposed using a belt conveyor type UV irradiation device (“EICS-151U”, iGraphics Co., Ltd.). The exposure amount was 200 mJ / cm 2 at 365 nm.
The curability immediately after light irradiation of the coated film after curing was evaluated by the following evaluation criteria by scratching with a finger and nails.
A: There is no tack on the surface and it is not damaged by the nail.
○: There is no tack on the surface, but the nail is damaged.
Δ: There is tack on the surface and it is damaged by the nail.
X: Uncured.

[充填材(黒色樹脂粒子)の分散安定性]
感光性組成物を厚さ1.2mmのスライドガラス「S1225、松浪硝子工業(株)製」上にアプリケーターで膜厚10μmになるよう塗工した。さらにその上から空気が噛み込まないように同じスライドガラスをのせ、感光性組成物を挟みこんだサンプルを作成した。
このサンプルを顕微分光器(MCPD2000:大塚電子製)を用いて、塗膜形成直後および30分放置後にそれぞれ観察した。
100μm四方の領域を倍率1000倍で観察し、凝集物の有無を確認した。
黒色樹脂粒子の分散安定性を以下の判定基準で評価した。
○:粒径20μm以上の粒子数の増加が5%以内
×:粒径20μm以上の粒子数の増加が5%を超える
[Dispersion stability of filler (black resin particles)]
The photosensitive composition was applied on a slide glass “S1225, manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.” having a thickness of 1.2 mm with an applicator so as to have a film thickness of 10 μm. Furthermore, the same slide glass was put so that air could not be caught from above, and a sample in which the photosensitive composition was sandwiched was prepared.
This sample was observed using a microspectroscope (MCPD2000: manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) immediately after forming the coating film and after standing for 30 minutes.
An area of 100 μm square was observed at a magnification of 1000 times to confirm the presence or absence of aggregates.
The dispersion stability of the black resin particles was evaluated according to the following criteria.
○: Increase in the number of particles having a particle size of 20 μm or more is within 5%.

[塗工後の平滑性]
15cm×15cmに切り取ったPETフィルム「A4300、東洋紡(株)製」に感光性組成物をアプリケーターを用いて塗布した。このあとに、上記紫外線照射装置で1000mJ/cm2を照射し、遮光材料を形成した。
このフィルムの端部より2.5cm内側の、10cm四方の樹脂の平滑性を、形状測定顕微鏡を用いて、倍率1000倍でJIS B0601:2001の付属書2に記載された中心線平均粗さ(Ra)を5箇所測定し、これらの平均値から、以下の基準で評価した。
◎:中心線平均粗さRaが0.15μm未満
○:中心線平均粗さRaが0.15μm以上0.3μm以下
×:中心線平均粗さRaが0.3μmを超える
[Smoothness after coating]
The photosensitive composition was applied to a PET film “A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.” cut into 15 cm × 15 cm using an applicator. Then, 1000 mJ / cm < 2 > was irradiated with the said ultraviolet irradiation device, and the light shielding material was formed.
The smoothness of a 10 cm square resin 2.5 cm inside from the edge of this film was measured using a shape measuring microscope at a magnification of 1000 times the centerline average roughness described in Appendix 2 of JIS B0601: 2001 ( Ra) was measured at five locations, and the average value was evaluated based on the following criteria.
A: Center line average roughness Ra is less than 0.15 μm O: Center line average roughness Ra is 0.15 μm or more and 0.3 μm or less ×: Center line average roughness Ra exceeds 0.3 μm

実施例および比較例で得た感光性組成物の評価結果を表1に示す。   Table 1 shows the evaluation results of the photosensitive compositions obtained in Examples and Comparative Examples.

表1から明らかなように、本発明の実施例1〜9の感光性組成物は、塗膜の硬化性および充填材の分散安定性が良好である。また、塗工後の平滑性に優れるため光学特性に優れることがわかる。   As is apparent from Table 1, the photosensitive compositions of Examples 1 to 9 of the present invention have good coating film curability and filler dispersion stability. Moreover, since it is excellent in the smoothness after coating, it turns out that it is excellent in an optical characteristic.

一方、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)を共に使用しない比較例1〜3では低露光量での塗膜硬化性が低下した。
ウレタン(メタ)アクリレート(D1)を使用しない比較例4は充填材の分散安定性に問題がある。
また、単官能(メタ)アクリレート(D2)を使用しない比較例5は塗工後の平滑性に問題がある。
On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3 in which neither the acid generator (B) nor the base generator (C) was used, the coating curability at a low exposure amount was lowered.
The comparative example 4 which does not use a urethane (meth) acrylate (D1) has a problem in the dispersion stability of a filler.
Moreover, the comparative example 5 which does not use a monofunctional (meth) acrylate (D2) has a problem in the smoothness after coating.

本発明の感光性組成物は、少エネルギー量でも高着色剤濃度で厚膜硬化可能であるため、フラットパネルディスプレイ用、コーティング剤用、インキ用、塗料用、接着剤用、レジストパターン形成用又はセラミック電子部品製造用の材料として極めて有用である。
また、本発明の感光性組成物を遮光材料として用いると、黒色樹脂粒子等の着色剤の分散安定性が良好で、塗工後の平滑性が良好で生産性に優れることから、レンズシート用等の遮光材料として好適である。
Since the photosensitive composition of the present invention can be cured with a thick film at a high colorant concentration even with a small amount of energy, it is for flat panel displays, coating agents, inks, paints, adhesives, resist patterns, or It is extremely useful as a material for manufacturing ceramic electronic components.
In addition, when the photosensitive composition of the present invention is used as a light-shielding material, the dispersion stability of the colorant such as black resin particles is good, the smoothness after coating is good, and the productivity is excellent. It is suitable as a light shielding material.

Claims (11)

下記(1)〜(4)を含有する感光性組成物であって、重合性物質(D)が、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも1個有するウレタン(メタ)アクリレート(D1)、および(D1)以外の単官能(メタ)アクリレート(D2)を含むことを特徴とする感光性組成物。
(1)ラジカル開始剤(A)
(2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)
(3)重合性物質(D)
(4)着色剤(E1)、金属酸化物粉末(E2)及び金属粉末(E3)から選ばれる少なくとも1種の充填材(E)
A photosensitive composition containing the following (1) to (4), wherein the polymerizable substance (D) is a urethane (meth) acrylate (D1) having at least one (meth) acryloyl group in the molecule, and A photosensitive composition comprising a monofunctional (meth) acrylate (D2) other than (D1).
(1) Radical initiator (A)
(2) Acid generator (B) and / or base generator (C)
(3) Polymerizable substance (D)
(4) At least one filler (E) selected from colorant (E1), metal oxide powder (E2) and metal powder (E3)
ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基である請求項1記載の感光性組成物。   At least one of the radical initiator (A), the acid generator (B) and the base generator (C) generates an active species (H) by irradiation with actinic rays, and the active species (H) is a radical initiator. (A), reacting with the acid generator (B) or the base generator (C) to produce a new active species (I), and the polymerization reaction of the polymerizable substance (D) with the new active species (I) The photosensitive composition according to claim 1, wherein the active species (H) or (I) is an acid or a base. 25℃での粘度が1,500〜5,000mPa・sである請求項1又は2記載の感光性組成物。   The photosensitive composition according to claim 1, wherein the viscosity at 25 ° C. is 1,500 to 5,000 mPa · s. 充填材(E)が、着色剤(E1)を含有する体積平均一次粒子径が1〜20μmの樹脂ビーズ(E1’)である請求項1〜3のいずれか記載の感光性組成物。   The photosensitive composition according to claim 1, wherein the filler (E) is a resin bead (E1 ′) containing a colorant (E1) and having a volume average primary particle diameter of 1 to 20 μm. 前記ラジカル開始剤(A)が活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、酸によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A3)であり、前記酸発生剤(B)が活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、ラジカルにより酸を発生する酸発生剤(B2)又は酸により酸を発生する酸発生剤(B3)であり、前記塩基発生剤(C)が活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、ラジカルにより塩基を発生する塩基発生剤(C2)又は塩基により塩基を発生する塩基発生剤(C3)であって、(A1)〜(A3)、(B1)〜(B3)又は(C1)〜(C3)を以下の(1)〜(10)のいずれかの組み合わせで含有する請求項1〜4のいずれか記載の感光性組成物。
(1)(A1)及び(B2)を含有する。
(2)(A1)、(B2)及び(B3)を含有する。
(3)(B1)及び(A2)を含有する。
(4)(B1)、(A2)及び(B3)を含有する。
(5)(C1)及び(A3)を含有する。
(6)(C1)、(A3)及び(C3)を含有する。
(7)(A1)及び(C2)を含有する。
(8)(A1)、(C2)及び(C3)を含有する。
(9)上記(1)〜(4)の2種以上の組み合わせ。
(10)上記(5)〜(8)の2種以上の組み合わせ。
The radical initiator (A) is a radical initiator (A1) that generates radicals with actinic rays, a radical initiator (A2) that generates radicals with an acid, or a radical initiator (A3) that generates radicals with a base, The acid generator (B) is an acid generator (B1) that generates acid by actinic rays, an acid generator (B2) that generates acid by radicals, or an acid generator (B3) that generates acid by acid, The base generator (C) is a base generator (C1) that generates a base by actinic rays, a base generator (C2) that generates a base by radicals, or a base generator (C3) that generates a base by a base. , (A1) to (A3), (B1) to (B3) or (C1) to (C3) are contained in any combination of the following (1) to (10): Sensitivity described Composition.
(1) Contains (A1) and (B2).
(2) Contains (A1), (B2) and (B3).
(3) Contains (B1) and (A2).
(4) Contains (B1), (A2) and (B3).
(5) Contains (C1) and (A3).
(6) Contains (C1), (A3) and (C3).
(7) Contains (A1) and (C2).
(8) Contains (A1), (C2) and (C3).
(9) A combination of two or more of (1) to (4) above.
(10) A combination of two or more of (5) to (8) above.
前記活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、前記酸によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)又は前記塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A3)が、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A1231)、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A1232)、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A1233)、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A1234)、ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A1235)、オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A1236)、チタノセン誘導体系重合開始剤(A1237)、有機過酸化物系重合開始剤(A231)及びアゾ化合物系重合開始剤(A232)からなる群から選ばれる少なくとも1種のラジカル重合開始剤である請求項5記載の感光性組成物。   A radical initiator (A1) that generates radicals with actinic rays, a radical initiator (A2) that generates radicals with an acid, or a radical initiator (A3) that generates radicals with a base is polymerized with an acylphosphine oxide derivative. Initiator (A1231), α-aminoacetophenone derivative polymerization initiator (A1232), benzyl ketal derivative polymerization initiator (A1233), α-hydroxyacetophenone derivative polymerization initiator (A1234), benzoin derivative polymerization initiator ( A1235), an oxime ester derivative polymerization initiator (A1236), a titanocene derivative polymerization initiator (A1237), an organic peroxide polymerization initiator (A231), and an azo compound polymerization initiator (A232). At least one radical polymerization The photosensitive composition according to claim 5, which is an initiator. 前記活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、前記ラジカルにより酸を発生する酸発生剤(B2)又は前記酸により酸を発生する酸発生剤(B3)が、スルホニウム塩誘導体(B121)、ヨードニウム塩誘導体(B122)、スルホン酸エステル誘導体(B31)、酢酸エステル誘導体(B32)及びホスホン酸エステル(B33)からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸発生剤である請求項5又は6記載の感光性組成物。   The acid generator (B1) that generates acid by the active light, the acid generator (B2) that generates acid by the radical, or the acid generator (B3) that generates acid by the acid is a sulfonium salt derivative (B121). 7. An acid generator selected from the group consisting of iodonium salt derivative (B122), sulfonic acid ester derivative (B31), acetic acid ester derivative (B32), and phosphonic acid ester (B33). Photosensitive composition. 前記活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、前記ラジカルにより塩基を発生する塩基発生剤(C2)又は前記塩基により塩基を発生する塩基発生剤(C3)が、オキシム誘導体(C121)、4級アンモニウム塩誘導体(C122)、4級アミジン塩誘導体(C123)及びカルバメート誘導体(C31)からなる群から選ばれる少なくとも1種の塩基発生剤である請求項5〜7のいずれか記載の感光性組成物。   The base generator (C1) that generates a base by the active light, the base generator (C2) that generates a base by the radical, or the base generator (C3) that generates a base by the base is an oxime derivative (C121), The photosensitivity according to any one of claims 5 to 7, which is at least one base generator selected from the group consisting of a quaternary ammonium salt derivative (C122), a quaternary amidine salt derivative (C123) and a carbamate derivative (C31). Composition. ラジカル開始剤(A)の含有量が0.1〜10重量%、酸発生剤(B)と塩基発生剤(C)の合計含有量が0.05〜20重量%、ウレタン(メタ)アクリレート(D1)の含有量が5〜60重量%、単官能(メタ)アクリレート(D2)の含有量が10〜80重量%、充填材(E)の含有量が0.5〜60重量%である請求項1〜8のいずれか記載の光性組成物。   The content of the radical initiator (A) is 0.1 to 10% by weight, the total content of the acid generator (B) and the base generator (C) is 0.05 to 20% by weight, urethane (meth) acrylate ( The content of D1) is 5 to 60% by weight, the content of monofunctional (meth) acrylate (D2) is 10 to 80% by weight, and the content of filler (E) is 0.5 to 60% by weight. Item 9. The light composition according to any one of Items 1 to 8. フラットパネルディスプレイ用、コーティング剤用、インキ用、塗料用、接着剤用、レジストパターン形成用又はセラミック電子部品製造用である請求項1〜9のいずれか記載の感光性組成物。   The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 9, which is used for flat panel displays, coating agents, inks, paints, adhesives, resist patterns, or ceramic electronic parts. 請求項1〜10のいずれか記載の組成物が活性光線により硬化されてなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the composition in any one of Claims 1-10 with actinic light.
JP2012262975A 2012-11-30 2012-11-30 Photosensitive composition Pending JP2014108974A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012262975A JP2014108974A (en) 2012-11-30 2012-11-30 Photosensitive composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012262975A JP2014108974A (en) 2012-11-30 2012-11-30 Photosensitive composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014108974A true JP2014108974A (en) 2014-06-12

Family

ID=51029806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012262975A Pending JP2014108974A (en) 2012-11-30 2012-11-30 Photosensitive composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014108974A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016134629A (en) * 2015-01-21 2016-07-25 東洋合成工業株式会社 Method of manufacturing optical member and composition used therein
JP2017048289A (en) * 2015-09-01 2017-03-09 セメダイン株式会社 Curable composition, cured product, and module
WO2017208837A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 サンアプロ株式会社 Photosensitive compound
JP2018053155A (en) * 2016-09-30 2018-04-05 信越ポリマー株式会社 Photosetting composition, coated film, manufacturing method of coated film, electromagnetic shield film, printed wiring board with electromagnetic shield film and manufacturing method therefor

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1160962A (en) * 1997-08-11 1999-03-05 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive resin composition for casting
JP2000212234A (en) * 1998-11-17 2000-08-02 Showa Denko Kk Photocurable composition
JP2002167526A (en) * 2000-12-01 2002-06-11 Showa Highpolymer Co Ltd Putty or primer surfacer composition and its curing method
JP2006152289A (en) * 2004-11-08 2006-06-15 Mitsubishi Chemicals Corp Radiation curable composition, cured product thereof, and laminate thereof
JP2007045900A (en) * 2005-08-09 2007-02-22 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-connecting material, and connecting structure and connecting method of circuit terminal
JP2007519032A (en) * 2003-12-05 2007-07-12 コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Radiation sensitive composition and imageable element based thereon
JP2012053465A (en) * 2010-08-06 2012-03-15 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive composition
JP2012167262A (en) * 2011-01-25 2012-09-06 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive composition
JP2012167266A (en) * 2011-01-25 2012-09-06 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive composition
WO2012121235A1 (en) * 2011-03-07 2012-09-13 三洋化成工業株式会社 Photosensitive composition, cured article, and method for producing actinically cured article
JP2012214639A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Sanyo Chem Ind Ltd Ultraviolet ray-curing type resin composition

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1160962A (en) * 1997-08-11 1999-03-05 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive resin composition for casting
JP2000212234A (en) * 1998-11-17 2000-08-02 Showa Denko Kk Photocurable composition
JP2002167526A (en) * 2000-12-01 2002-06-11 Showa Highpolymer Co Ltd Putty or primer surfacer composition and its curing method
JP2007519032A (en) * 2003-12-05 2007-07-12 コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Radiation sensitive composition and imageable element based thereon
JP2006152289A (en) * 2004-11-08 2006-06-15 Mitsubishi Chemicals Corp Radiation curable composition, cured product thereof, and laminate thereof
JP2007045900A (en) * 2005-08-09 2007-02-22 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-connecting material, and connecting structure and connecting method of circuit terminal
JP2012053465A (en) * 2010-08-06 2012-03-15 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive composition
JP2012167262A (en) * 2011-01-25 2012-09-06 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive composition
JP2012167266A (en) * 2011-01-25 2012-09-06 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive composition
WO2012121235A1 (en) * 2011-03-07 2012-09-13 三洋化成工業株式会社 Photosensitive composition, cured article, and method for producing actinically cured article
JP2012214639A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Sanyo Chem Ind Ltd Ultraviolet ray-curing type resin composition

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016134629A (en) * 2015-01-21 2016-07-25 東洋合成工業株式会社 Method of manufacturing optical member and composition used therein
JP2017048289A (en) * 2015-09-01 2017-03-09 セメダイン株式会社 Curable composition, cured product, and module
WO2017208837A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 サンアプロ株式会社 Photosensitive compound
JPWO2017208837A1 (en) * 2016-06-02 2019-03-28 サンアプロ株式会社 Photosensitive composition
JP2018053155A (en) * 2016-09-30 2018-04-05 信越ポリマー株式会社 Photosetting composition, coated film, manufacturing method of coated film, electromagnetic shield film, printed wiring board with electromagnetic shield film and manufacturing method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5723933B2 (en) Photosensitive composition
JP5446423B2 (en) Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element
JP4218851B2 (en) Photosensitive resin composition for forming color filter protective film
KR101788399B1 (en) Oxime ester compound having improved heat stability, photopolymerization initiator and photoresist composition comprising the same
KR20170075641A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter, image display device, and method for manufacturing the color filter
KR102094372B1 (en) Alkali soluble resin, photosensitive resin composition and color filter comprising the same
TW201232170A (en) Coloring composition, color filter, and display component
JP2014108974A (en) Photosensitive composition
JP2014056122A (en) Photosensitive composition
KR20150134989A (en) Colored photosensitive resin composition with dual property for column spacer and black matrix
KR20140103372A (en) Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom
KR20140104768A (en) Colored photosensitive resin composition comprising the same
JP2019113590A (en) Photosensitive resin composition and cured film
TWI751966B (en) Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom
KR100959231B1 (en) Curable composition, cured film, antireflection film, and method for producing cured film
CN111983891A (en) Structure for quantum dot barrier rib and preparation method thereof
KR102437844B1 (en) Colored photosensitive resin composition and black column spacer using same
JP2009098412A (en) Thermosetting resin composition for color filter and color filter
JP2016156856A (en) Photosensitive composition for forming color filter
CN111936527B (en) Curable composition, sealing compound for liquid crystal, liquid crystal panel, and manufacturing method of liquid crystal panel
JP6781738B2 (en) Active energy ray-curable composition
JP2022094462A (en) Active energy ray-polymerizable composition, laminate, and method for producing the same.
JP2017037305A (en) Colored photosensitive resin composition and color filter using the same
JP2005331938A (en) Photosensitive composition for black matrix
CN110262188A (en) Green photonasty resin composition, colored filter and image display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150625

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160531

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20161220