JP2014172978A - 共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミド - Google Patents
共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミド Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014172978A JP2014172978A JP2013046054A JP2013046054A JP2014172978A JP 2014172978 A JP2014172978 A JP 2014172978A JP 2013046054 A JP2013046054 A JP 2013046054A JP 2013046054 A JP2013046054 A JP 2013046054A JP 2014172978 A JP2014172978 A JP 2014172978A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- unit structure
- structure represented
- polyimide precursor
- polyimide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 82
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 15
- -1 diamine compound Chemical class 0.000 claims description 10
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 12
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 abstract description 7
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIFDSGGWDIVQGN-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-aminophenyl)fluoren-9-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1(C=2C=CC(N)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 KIFDSGGWDIVQGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
【課題】光透過度を維持し、かつ耐熱性に優れるポリイミド樹脂を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造とを有する共重合ポリイミド前駆体。
【選択図】なし
【解決手段】下記式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造とを有する共重合ポリイミド前駆体。
【選択図】なし
Description
本発明は、共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミドに関するものである。
ポリイミド樹脂は、高い機械的強度、耐熱性、絶縁性、耐溶剤性を有しているため、液晶表示素子や半導体における保護材料、絶縁材料、カラーフィルタ等の電子材料用薄膜として広く用いられている。
しかし、従来の全芳香族ポリイミド樹脂は、濃い琥珀色を呈して着色するため、高い透明性が要求される電子デバイス分野の厚膜においては問題が生じる。特許文献1は、ポリイミドフィルムの光透過性を改善し、特許文献2は、レジスト用途においてポリイミドの耐熱性及び低誘電率を改善している。
しかし、さらに液晶ディスプレイやLED分野等においては、該用途に適したプロセスが適用でき、優れた光透過性を有し、耐熱性に優れるポリイミドが求められていた。
本発明の目的は、光透過度を維持しつつ、かつ耐熱性に優れるポリイミド樹脂を提供することにある。
このような目的は、下記(1)〜(7)の本発明により達成される。
(1)式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造とを有する共重合ポリイミド前駆体。
(2)式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造との比率[式(1)の数/式(2)の数]が90/10〜99.9/0.01であることを特徴とする(1)に記載の共重合ポリイミド前駆体。
(3)溶剤中で、下記式(3)及び式(4)で表されるジアミン化合物、及び式(5)で表されるテトラカルボン酸化合物を重合反応させることにより得られる(1)または(2)に記載の共重合ポリイミド前駆体。
(4)(1)乃至(3)のいずれか1項に記載の共重合ポリイミド前駆体を重合反応させることにより得られる、式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造を有する共重合ポリイミド。
(5)式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造との比率[式(6)の数/式(7)の数]が90/10〜99.9/0.01であることを特徴とする(4)に記載の共重合ポリイミド。
(6)膜厚10μmのフィルムにした時のイエローインデックスが4.0未満であることを特徴とする(4)または(5)のいずれかに記載の共重合ポリイミド。
(7)膜厚10μmのフィルムにした時の動的粘弾性測定において、tanδの極大点から求めたガラス転移温度が400℃以上であることを特徴とする(4)乃至(6)のいずれか1項に記載の共重合ポリイミド。
(1)式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造とを有する共重合ポリイミド前駆体。
(2)式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造との比率[式(1)の数/式(2)の数]が90/10〜99.9/0.01であることを特徴とする(1)に記載の共重合ポリイミド前駆体。
(3)溶剤中で、下記式(3)及び式(4)で表されるジアミン化合物、及び式(5)で表されるテトラカルボン酸化合物を重合反応させることにより得られる(1)または(2)に記載の共重合ポリイミド前駆体。
(4)(1)乃至(3)のいずれか1項に記載の共重合ポリイミド前駆体を重合反応させることにより得られる、式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造を有する共重合ポリイミド。
(5)式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造との比率[式(6)の数/式(7)の数]が90/10〜99.9/0.01であることを特徴とする(4)に記載の共重合ポリイミド。
(6)膜厚10μmのフィルムにした時のイエローインデックスが4.0未満であることを特徴とする(4)または(5)のいずれかに記載の共重合ポリイミド。
(7)膜厚10μmのフィルムにした時の動的粘弾性測定において、tanδの極大点から求めたガラス転移温度が400℃以上であることを特徴とする(4)乃至(6)のいずれか1項に記載の共重合ポリイミド。
本発明によれば、光透過度が高く、かつ耐熱性に優れるポリイミド樹脂を提供することが可能となる。
以下、本発明の光透過度が高く、かつ耐熱性に優れるポリイミド樹脂を提供する共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミドについて好適実施形態に基づいて詳細に説明するが、これらは本発明の実施形態の一例であり、これらの内容のみに限定されない。
本実施形態によれば、共重合ポリイミド前駆体は、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物を重合反応して得られる下記の式(1)および式(2)で表わされる単位構造で構成されたものであり、この構成で作製される共重合体ポリイミドワニスは、高い透明性と耐熱性に優れた前駆体を有するためポリイミド共重合体を生成することができる。
このような共重合ポリイミド前駆体の作製方法には2つの方法がある。
このような共重合ポリイミド前駆体の作製方法には2つの方法がある。
<共重合ポリイミド前駆体の説明1>
まず、第1の共重合ポリイミド前駆体の作製方法について述べる。
本発明の共重合ポリイミド前駆体は、溶剤中で、下記式(3)及び式(4)で表されるジアミン化合物、及び式(5)で表されるテトラカルボン酸無水物を重合反応させることにより得られる。
まず、第1の共重合ポリイミド前駆体の作製方法について述べる。
本発明の共重合ポリイミド前駆体は、溶剤中で、下記式(3)及び式(4)で表されるジアミン化合物、及び式(5)で表されるテトラカルボン酸無水物を重合反応させることにより得られる。
本発明の共重合ポリイミド前駆体は、式(3)及び式(4)で表されるジアミン化合物、
及び式(5)で表されるテトラカルボン酸無水物を同時に有する溶液を重合反応して得られ、ワニス状で得られるものである。
及び式(5)で表されるテトラカルボン酸無水物を同時に有する溶液を重合反応して得られ、ワニス状で得られるものである。
共重合ポリイミド前駆体の重合反応は、まず反応温度は、通常−20〜150℃、好ましくは−5〜100℃の任意の温度を選択することができる。
また、共重合ポリイミド前駆体の合成に用いられる溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、m−クレゾール、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン等が挙げられ、特にN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)を好適に用いことができる。これらは、単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、共重合ポリイミド前駆体を溶解しない溶媒であっても、均一な溶液が得られる範囲内で上記溶媒に加えて使用してもよい。
その混合割合は式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造との比率[式(1)の数/式(2)の数]が90/10〜99.9/0.01であることが好ましい。この比率の共重合ポリイミド前駆体を用いることで、光透過度が高く、かつ耐熱性に優れるという二つの特性を併せ持つ共重合ポリイミドを簡便に作成することが可能となる。具体的には前記比率[式(1)の数/式(2)の数]は、式(3)及び式(4)の仕込み比率から算出することができる。
<共重合ポリイミド前駆体の説明2>
次に、もう一つの共重合ポリイミド前駆体の作製方法としては、下記の式(1)および式(2)で表わされる単位構造を別々に合成した後、混合させることで共重合体ポリイミドワニスを作製することができる
前記二種の単位構造の作製について述べる。
まず、式(1)で表わされる単位構造は、下記の式(5)であらわされるテトラカルボン酸と、式(3)であらわされるジアミン化合物を用い共重合させたポリイミド前駆体である。
次に、もう一つの共重合ポリイミド前駆体の作製方法としては、下記の式(1)および式(2)で表わされる単位構造を別々に合成した後、混合させることで共重合体ポリイミドワニスを作製することができる
前記二種の単位構造の作製について述べる。
まず、式(1)で表わされる単位構造は、下記の式(5)であらわされるテトラカルボン酸と、式(3)であらわされるジアミン化合物を用い共重合させたポリイミド前駆体である。
もう一方の式(2)であらわされる単位構造は、下記の式(5)であらわされるテトラカルボン酸無水物と、式(4)であらわされるジアミン化合物を用い共重合させたポリイミド前駆体である。
<重合方法>
前記二種のポリイミド前駆体の重合反応は、まず反応温度は、通常−20〜150℃、好ましくは−5〜100℃の任意の温度を選択することができる。
また、ポリイミド前駆体の合成に用いられる溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、m−クレゾール、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、
γ−ブチロラクトン等が挙げられ、特にN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)を好適に用いことができる。これらは、単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、ポリイミド前駆体を溶解しない溶媒であっても、均一な溶液が得られる範囲内で上記溶媒に加えて使用してもよい。
前記二種のポリイミド前駆体の重合反応は、まず反応温度は、通常−20〜150℃、好ましくは−5〜100℃の任意の温度を選択することができる。
また、ポリイミド前駆体の合成に用いられる溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、m−クレゾール、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、
γ−ブチロラクトン等が挙げられ、特にN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)を好適に用いことができる。これらは、単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、ポリイミド前駆体を溶解しない溶媒であっても、均一な溶液が得られる範囲内で上記溶媒に加えて使用してもよい。
本発明の共重合ポリイミド前駆体前記は、前述のポリイミド前駆体式(1)と式(2)で表される単位構造とを比率[式(1)の数/式(2)の数]が90/10〜99.9/0.01で混合したものであることが好ましく、この比率の共重合ポリイミド前駆体を用いることで、光透過度が高く、かつ耐熱性に優れる共重合ポリイミドを簡便に作成することが可能となる。
<共重合ポリイミド>
本発明の共重合体ポリイミドは、上記の共重合ポリイミド前駆体をさらに重合反応させることにより得られる、式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造を有する共重合ポリイミドである。
本発明の共重合体ポリイミドは、上記の共重合ポリイミド前駆体をさらに重合反応させることにより得られる、式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造を有する共重合ポリイミドである。
本発明のポリイミド共重合体は、共重合ポリイミド前駆体、式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造との比率が[式(1)の数/式(2)の数]が90/10〜99.9/0.01であったことから、その比率がそのまま保存され[式(6)の数/式(7)の数]とすることができる。
<共重合ポリイミドの作製>
具体的な共重合体ポリイミドは、以下の方法で作製することができる。
すなわち、先に作製した共重合ポリイミド前駆体ワニスを、基板上に塗布する工程、乾燥し溶媒を除去する工程、さらに昇温して熱イミド化する工程を経ることによって得ることができる。
具体的な共重合体ポリイミドは、以下の方法で作製することができる。
すなわち、先に作製した共重合ポリイミド前駆体ワニスを、基板上に塗布する工程、乾燥し溶媒を除去する工程、さらに昇温して熱イミド化する工程を経ることによって得ることができる。
共重合ポリイミド前駆体ワニスを、基板上に塗布する工程で用いる基板は特に限定するものではないが、ワニスに含まれる溶媒に侵されることがないように、例えば、ガラス基板
、シリコン基板(シリコンウェハ等)、または金属基板等が適しており、特にガラス基板が好適に使用される。
、シリコン基板(シリコンウェハ等)、または金属基板等が適しており、特にガラス基板が好適に使用される。
さらに、共重合ポリイミド前駆体ワニスを塗布する前に、減圧化で脱泡させて用いることで気泡による欠損が生じることを抑制することができる。
塗布作業の方法は、特に限定しない。基板上に共重合ポリイミド前駆体ワニスが塗布されればそれで良い
次に、乾燥し溶媒を除去する工程であるが、これに続く昇温して熱イミド化する工程を併せて行うことも可能である。
例として、真空下又は不活性ガス存在下で、開始時は室温以上で1時間以上加温、途中150℃〜200℃で1時間以上加温し、最終的に250℃以上で1時間以上することで、乾燥、および熱イミド化ができる。
使用する不活性ガスは、例えば、窒素、アルゴン等を使用することができる。
具体的には、真空下で、80℃で1時間、150℃で1時間、200℃で1時間、次いで最終的に300℃で1時間と段階的に昇温することで溶媒除去と熱イミド化を併せて行うことができる。
例として、真空下又は不活性ガス存在下で、開始時は室温以上で1時間以上加温、途中150℃〜200℃で1時間以上加温し、最終的に250℃以上で1時間以上することで、乾燥、および熱イミド化ができる。
使用する不活性ガスは、例えば、窒素、アルゴン等を使用することができる。
具体的には、真空下で、80℃で1時間、150℃で1時間、200℃で1時間、次いで最終的に300℃で1時間と段階的に昇温することで溶媒除去と熱イミド化を併せて行うことができる。
上記の様にして、得られたポリイミド共重合体は、以下に示す特性を有することを確認した。
本発明の実施形態において、透明性を有する事が必要であり、前記ポリイミド重合体は、光線透過率、ヘイズ、および黄色度(イエローインデックス、YI)において良好な測定値であることが重要である。特にポリイミド樹脂は黄色に着色する傾向が高く、そのため、YIが低ければ低いほど良好である。具体的には、膜厚10μmのフィルムにした時のYIが4.0未満であることが好ましい。
本実施形態において、前記条件でYIが4.0未満となることを確認した。
本実施形態において、前記条件でYIが4.0未満となることを確認した。
本発明のポリイミド共重合体は、耐熱性に優れることが重要であり、本発明の実施形態において、ガラス転移温度が400℃以上であることが確認できた。400℃未満においては、ガラス転移温度の測定は、膜厚10μmのフィルムにした時の動的粘弾性測定において、tanδの極大点から求めた。
以下に記載のポリイミドフィルムの評価方法を具体的に記載した。
<光線透過率、ヘイズ、黄色度(YI)>
日本分光社製紫外可視分光光度計(V−650)を用い、フィルム(10μm厚)の400nmの波長の全光線透過率、ヘイズ、XYZ三刺激値を測定した。
YIの算出はXYZ三刺激値と、JIS K 7373の「標準イルミナントD65を使用しXYZ表色系を用いる場合」の式により行った。
日本分光社製紫外可視分光光度計(V−650)を用い、フィルム(10μm厚)の400nmの波長の全光線透過率、ヘイズ、XYZ三刺激値を測定した。
YIの算出はXYZ三刺激値と、JIS K 7373の「標準イルミナントD65を使用しXYZ表色系を用いる場合」の式により行った。
<弾性率>
エスアイアイ・ナノテクノロジー社製動的粘弾性測定装置(DMS6000)を用いて、動的粘弾性測定により、周波数1Hz、昇温速度5℃/分における貯蔵弾性率を求めた。
エスアイアイ・ナノテクノロジー社製動的粘弾性測定装置(DMS6000)を用いて、動的粘弾性測定により、周波数1Hz、昇温速度5℃/分における貯蔵弾性率を求めた。
<ガラス転移温度の算出>
オリエンテック社製動的粘弾性測定装置(レオバイブロンDDV01FP型)を用いて、動的粘弾性測定により、周波数1Hz、昇温速度5℃/分におけるtanδピークからポリイミドフィルム(10μm厚)のガラス転移温度を求めた。
オリエンテック社製動的粘弾性測定装置(レオバイブロンDDV01FP型)を用いて、動的粘弾性測定により、周波数1Hz、昇温速度5℃/分におけるtanδピークからポリイミドフィルム(10μm厚)のガラス転移温度を求めた。
<線膨張係数(CTE)>
エスアイアイ・ナノテクノロジー社製熱機械的分析装置(TMA/SS120C)を用いて、熱機械分析により、荷重15.68mN、昇温速度5℃/分における試験片の伸びより、30℃〜200℃の範囲での平均値としてポリイミドフィルム(10μm厚)の線膨張係数を求めた。
エスアイアイ・ナノテクノロジー社製熱機械的分析装置(TMA/SS120C)を用いて、熱機械分析により、荷重15.68mN、昇温速度5℃/分における試験片の伸びより、30℃〜200℃の範囲での平均値としてポリイミドフィルム(10μm厚)の線膨張係数を求めた。
以下に本発明を実施例に続いて詳細に説明するが、本発明はこれに限定するものではない。
(実施例1)
50mL三ツ口フラスコに窒素雰囲気下で2,2‘−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以下、TFDBと略記することがある)0.7499gと9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(以下、FDAと略記することがある)0.0910gを入れ、ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと略記することがある)5.1mLを加えて撹拌することにより溶解させた。
この三ツ口フラスコを室温のウォーターバス中で、撹拌しながら3,3,4,4−テトラカルボン酸二無水物(以下、BPDAと略記することがある)0.7664gを添加し、DMAc1.7mLでフラスコ内壁に付着したBPDAを洗い落とし、そのまま室温で14時間撹拌した。その後、DMAc1.0mLを追加してBPDAの溶け残りを溶解させ、室温で24時間撹拌し、均一で粘稠な共重合ポリイミド前駆体溶液組成物を得た。
50mL三ツ口フラスコに窒素雰囲気下で2,2‘−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以下、TFDBと略記することがある)0.7499gと9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(以下、FDAと略記することがある)0.0910gを入れ、ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと略記することがある)5.1mLを加えて撹拌することにより溶解させた。
この三ツ口フラスコを室温のウォーターバス中で、撹拌しながら3,3,4,4−テトラカルボン酸二無水物(以下、BPDAと略記することがある)0.7664gを添加し、DMAc1.7mLでフラスコ内壁に付着したBPDAを洗い落とし、そのまま室温で14時間撹拌した。その後、DMAc1.0mLを追加してBPDAの溶け残りを溶解させ、室温で24時間撹拌し、均一で粘稠な共重合ポリイミド前駆体溶液組成物を得た。
得られた共重合ポリイミド前駆体溶液組成物を真空脱泡したのちガラス基板上に塗布、そのまま基板上で、真空下、80℃で1時間、150℃で1時間、200℃で1時間、次いで最終的に300℃で1時間と段階的に昇温して熱イミド化を行い、無色透明な共重合ポリイミド/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミド/ガラス積層体からカッターナイフを用いて剥離し、膜厚が約10マイクロメートルのポリイミドフィルムを得た。このフィルムの特性を測定した結果を表1に示す。
(比較例1)
FDAを投入しなかったこと以外は、実施例1と同じ。
結果を表1に示す。
FDAを投入しなかったこと以外は、実施例1と同じ。
結果を表1に示す。
本発明により、光透過度を維持しつつ、かつ耐熱性に優れるポリイミドフィルムを得ることができた。このフィルムは、電気、電子、自動車および航空宇宙産業などの分野においてフィルム、コーティング剤、成形部品および絶縁材として幅広く使用することが可能である。
Claims (7)
- 下記式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造とを有する共重合ポリイミド前駆体。
- 式(1)で表される単位構造と、式(2)で表される単位構造との比率[式(1)の数/式(2)の数]が90/10〜99.9/0.01であることを特徴とする請求項1に記載の共重合ポリイミド前駆体。
- 溶剤中で、下記式(3)及び式(4)で表されるジアミン化合物、及び式(5)で表されるテトラカルボン酸化合物を重合反応させることにより得られる請求項1または2に記載の共重合ポリイミド前駆体。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の共重合ポリイミド前駆体を重合反応させることにより得られる、式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造を有する共重合ポリイミド。
- 式(6)で表される単位構造と、式(7)で表される単位構造との比率[式(6)の数/式(7)の数]が90/10〜99.9/0.01であることを特徴とする請求項4に記載の共重合ポリイミド。
- 膜厚10μmのフィルムにした時のイエローインデックスが4.0未満であることを特徴とする請求項4または5のいずれかに記載の共重合ポリイミド。
- 膜厚10μmのフィルムにした時の動的粘弾性測定において、tanδの極大点から求めたガラス転移温度が400℃以上であることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項に記載の共重合ポリイミド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013046054A JP2014172978A (ja) | 2013-03-08 | 2013-03-08 | 共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013046054A JP2014172978A (ja) | 2013-03-08 | 2013-03-08 | 共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014172978A true JP2014172978A (ja) | 2014-09-22 |
Family
ID=51694567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013046054A Pending JP2014172978A (ja) | 2013-03-08 | 2013-03-08 | 共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2014172978A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018190787A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 日東電工株式会社 | フレキシブル配線回路基板、その製造方法および撮像装置 |
| KR20200135953A (ko) * | 2018-03-28 | 2020-12-04 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 폴리이미드 수지, 폴리이미드 바니시 및 폴리이미드 필름 |
| WO2022118794A1 (ja) * | 2020-12-03 | 2022-06-09 | 三井化学株式会社 | ポリアミド酸およびそれを含むワニス、ポリアミド酸の製造方法、ポリイミドおよびそれを含むフィルム、ならびにディスプレイパネル基板 |
| WO2023013453A1 (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-09 | 東洋紡株式会社 | 電子表示装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5310863A (en) * | 1993-01-08 | 1994-05-10 | International Business Machines Corporation | Polyimide materials with improved physico-chemical properties |
| JP2006206825A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Jfe Chemical Corp | 芳香族ポリイミド樹脂前駆体及び芳香族ポリイミド樹脂 |
| JP2007046054A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光学的応用分野において有用な低着色ポリイミド樹脂組成物ならびにそれに関連する方法および組成物 |
| JP2010201625A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | フレキシブル基板用積層体及び熱伝導性ポリイミドフィルム |
| JP2010235641A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Sony Chemical & Information Device Corp | ポリアミック酸溶液、ポリイミド及び光学装置 |
| JP2012503701A (ja) * | 2008-09-26 | 2012-02-09 | コーロン インダストリーズ インク | ポリイミドフィルム |
| JP2012040836A (ja) * | 2010-08-23 | 2012-03-01 | Kaneka Corp | 積層体、及びその利用 |
-
2013
- 2013-03-08 JP JP2013046054A patent/JP2014172978A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5310863A (en) * | 1993-01-08 | 1994-05-10 | International Business Machines Corporation | Polyimide materials with improved physico-chemical properties |
| JP2006206825A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Jfe Chemical Corp | 芳香族ポリイミド樹脂前駆体及び芳香族ポリイミド樹脂 |
| JP2007046054A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光学的応用分野において有用な低着色ポリイミド樹脂組成物ならびにそれに関連する方法および組成物 |
| JP2012503701A (ja) * | 2008-09-26 | 2012-02-09 | コーロン インダストリーズ インク | ポリイミドフィルム |
| JP2010201625A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | フレキシブル基板用積層体及び熱伝導性ポリイミドフィルム |
| JP2010235641A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Sony Chemical & Information Device Corp | ポリアミック酸溶液、ポリイミド及び光学装置 |
| JP2012040836A (ja) * | 2010-08-23 | 2012-03-01 | Kaneka Corp | 積層体、及びその利用 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ARNOLD, FRED E ET AL: "The origin of β relaxation in segmented rigid-rod polyimide and copolyimide films", POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, vol. 33(21), JPN6016046151, 1993, pages 1373 - 1380, ISSN: 0003452531 * |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018190787A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 日東電工株式会社 | フレキシブル配線回路基板、その製造方法および撮像装置 |
| JP6990987B2 (ja) | 2017-04-28 | 2022-01-12 | 日東電工株式会社 | フレキシブル配線回路基板、その製造方法および撮像装置 |
| KR20200135953A (ko) * | 2018-03-28 | 2020-12-04 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 폴리이미드 수지, 폴리이미드 바니시 및 폴리이미드 필름 |
| KR102730124B1 (ko) * | 2018-03-28 | 2024-11-15 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 폴리이미드 수지, 폴리이미드 바니시 및 폴리이미드 필름 |
| WO2022118794A1 (ja) * | 2020-12-03 | 2022-06-09 | 三井化学株式会社 | ポリアミド酸およびそれを含むワニス、ポリアミド酸の製造方法、ポリイミドおよびそれを含むフィルム、ならびにディスプレイパネル基板 |
| JPWO2022118794A1 (ja) * | 2020-12-03 | 2022-06-09 | ||
| WO2023013453A1 (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-09 | 東洋紡株式会社 | 電子表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6705840B2 (ja) | ポリアミド−イミド前駆体、ポリアミド−イミドフィルム、およびこれを含む表示素子 | |
| JP6016561B2 (ja) | ポリイミド前駆体及びそれを含有する樹脂組成物、ポリイミドフィルム及びその製造方法、並びに、積層体及びその製造方法 | |
| JP5667392B2 (ja) | 積層体、及びその利用 | |
| JP6694034B2 (ja) | ポリイミド樹脂及びその製造方法と薄膜 | |
| JP6010533B2 (ja) | ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミド酸溶液、ポリイミド溶液、およびこれらの溶液から得られるポリイミド膜、ならびにポリイミド膜の利用 | |
| CN104395376B (zh) | 聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰胺酸溶液、及聚酰亚胺的利用 | |
| JP2021102770A (ja) | 接着力が向上したポリアミック酸組成物及びこれを含むポリイミドフィルム | |
| TWI664212B (zh) | 烷氧基矽烷改質聚醯胺酸溶液、使用其之積層體及可撓性裝置、與聚醯亞胺膜及積層體之製造方法 | |
| KR20180018307A (ko) | 폴리아믹산 수지 및 폴리아미드이미드 필름 | |
| JP2019513887A (ja) | 無色透明のポリアミド−イミドフィルムおよびその製造方法 | |
| TWI775946B (zh) | 聚醯亞胺粉體、聚醯亞胺塗料及聚醯亞胺薄膜 | |
| JP2013523939A (ja) | ポリイミドフィルム | |
| TW201012852A (en) | Polyimide film | |
| JP2012077144A (ja) | ポリアミドイミド樹脂およびその製造方法、ポリアミドイミド樹脂溶液、ポリアミドイミド膜およびその利用 | |
| JP2014139302A (ja) | ポリイミド前駆体及びそれを含有する樹脂組成物、ポリイミドフィルム及びその製造方法、並びに、積層体及びその製造方法 | |
| JPWO2018207706A1 (ja) | ポリアミド酸、ポリアミド酸溶液、ポリイミド、ポリイミド膜、積層体およびフレキシブルデバイス、ならびにポリイミド膜の製造方法 | |
| JP2022008353A (ja) | 電子デバイスの製造方法 | |
| JP2020029486A (ja) | ポリイミド粉体、ポリイミドワニス、ポリイミドフィルムおよびポリイミド多孔質膜 | |
| CN107207725A (zh) | 聚酰胺酸、聚酰亚胺树脂及聚酰亚胺薄膜 | |
| JP2019059834A (ja) | ポリイミド粉体、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| CN110099946A (zh) | 透明聚酰亚胺膜 | |
| JP2020505489A (ja) | ポリアミドイミドフィルムの製造方法 | |
| JPWO2019131896A1 (ja) | ポリイミド、ポリイミド溶液組成物、ポリイミドフィルム、及び基板 | |
| JP2014172978A (ja) | 共重合ポリイミド前駆体および共重合ポリイミド | |
| JP6687442B2 (ja) | ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミド酸溶液、およびポリイミドの利用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160218 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161122 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161206 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170627 |