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JP2014032324A - Light diffusion member, light diffusion member manufacturing method, and display device - Google Patents

Light diffusion member, light diffusion member manufacturing method, and display device Download PDF

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JP2014032324A
JP2014032324A JP2012173362A JP2012173362A JP2014032324A JP 2014032324 A JP2014032324 A JP 2014032324A JP 2012173362 A JP2012173362 A JP 2012173362A JP 2012173362 A JP2012173362 A JP 2012173362A JP 2014032324 A JP2014032324 A JP 2014032324A
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JP
Japan
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light
base material
diffusion
scattering layer
light shielding
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Pending
Application number
JP2012173362A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Asaoka
康 浅岡
Tsuyoshi Maeda
強 前田
Emi Yamamoto
恵美 山本
Toru Sugano
透 菅野
Daisuke Shinozaki
大祐 篠崎
Hideomi Yui
英臣 由井
Shohei Katsuta
昇平 勝田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】製造プロセスを複雑にすることなく、光の利用効率を向上させることができる光拡散部材を提供する。
【解決手段】光透過性を有する基材と、基材の一面側に点在して形成された複数の遮光部と、複数の遮光部の基材と略平行な領域の少なくとも一部を覆うように基材の一面側に形成された光散乱層と、光散乱層の少なくとも一部を覆うように基材の一面側に形成された光拡散部と、を備える光拡散部材に関する。光拡散部が、基材側に遮光部の非形成領域に対応する光射出端面を有するとともに、基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する。
【選択図】図1
The present invention provides a light diffusing member capable of improving the light use efficiency without complicating the manufacturing process.
A light-transmitting base material, a plurality of light-shielding portions that are scattered on one surface of the base material, and at least a part of a region substantially parallel to the base material of the plurality of light-shielding portions are covered. Thus, it is related with a light-diffusion member provided with the light-scattering layer formed in the one surface side of a base material, and the light-diffusion part formed in the one surface side of a base material so that at least one part of a light-scattering layer may be covered. The light diffusion part has a light emission end face corresponding to the non-formation region of the light shielding part on the base material side, and a light incident end face having an area larger than the area of the light emission end face on the side opposite to the base material side.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、光拡散部材、光拡散部材の製造方法、及び表示装置に関する。   The present invention relates to a light diffusing member, a method for manufacturing the light diffusing member, and a display device.

携帯電話機等をはじめとする携帯型電子機器、もしくはテレビジョン、パーソナルコンピューター等のディスプレイとして、液晶表示装置が広く用いられている。ところが、一般に液晶表示装置は、正面からの視認性に優れる反面、視野角が狭いことが従来から知られており、視野角を広げるための様々な工夫がなされている。その一つとして、液晶パネル等の表示体から射出される光を拡散させるための部材(以下、光拡散部材と称する)を表示体の視認側に備える構成が考えられる。   A liquid crystal display device is widely used as a display of a portable electronic device such as a mobile phone or a television or a personal computer. However, in general, liquid crystal display devices are known to have excellent visibility from the front, but have a narrow viewing angle. Various devices have been devised for widening the viewing angle. As one of them, a configuration in which a member for diffusing light emitted from a display body such as a liquid crystal panel (hereinafter referred to as a light diffusing member) is provided on the viewing side of the display body can be considered.

例えば下記特許文献1には、基材と、基材の一面に形成された複数の光拡散部と、基材の一面における光拡散部材の形成領域以外の領域に形成された遮光部とを備えた光拡散部材が開示されている。この光拡散部材において、光拡散部は、基材側に複数の光散乱体が配置された光散乱層を含む構成となっている。   For example, the following Patent Document 1 includes a base material, a plurality of light diffusion portions formed on one surface of the base material, and a light shielding portion formed in a region other than the formation region of the light diffusion member on one surface of the base material. A light diffusing member is disclosed. In this light diffusing member, the light diffusing portion includes a light scattering layer in which a plurality of light scatterers are disposed on the substrate side.

国際公開第2012/081410号International Publication No. 2012/081410

しかしながら、特許文献1に開示の光拡散部材においては、光拡散部間に入射した光は遮光部に吸収されることで外部に出射されないため、光の利用効率が低下してしまうといった問題があった。   However, the light diffusing member disclosed in Patent Document 1 has a problem in that light incident efficiency is reduced because light incident between the light diffusing parts is absorbed by the light shielding part and is not emitted to the outside. It was.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、製造プロセスを複雑にすることなく、光の利用効率を向上させることができる光拡散部材およびその製造方法を提供することを目的とする。また、上記の光拡散部材を備え、表示品位に優れた表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a light diffusing member capable of improving the light use efficiency without complicating the manufacturing process and a method for manufacturing the same. Objective. It is another object of the present invention to provide a display device that includes the light diffusing member and has excellent display quality.

上記の目的を達成するために、本発明の第一態様に係る光拡散部材は、光透過性を有する基材と、前記基材の一面側に点在して形成された複数の遮光部と、前記複数の遮光部の前記基材と略平行な領域の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された光散乱層と、前記光散乱層の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された光拡散部と、を備え、前記光拡散部が、前記基材側に前記遮光部の非形成領域に対応する光射出端面を有するとともに、前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, a light diffusing member according to the first aspect of the present invention includes a light-transmitting base material, and a plurality of light-shielding portions formed scattered on one surface side of the base material. A light scattering layer formed on one surface side of the base material so as to cover at least a part of a region substantially parallel to the base material of the plurality of light shielding portions, and so as to cover at least a part of the light scattering layer A light diffusing portion formed on one surface side of the base material, and the light diffusing portion has a light emission end face corresponding to a non-forming region of the light shielding portion on the base material side, and the base material side And a light incident end face having an area larger than the area of the light exit end face.

また、本発明の第一態様に係る光拡散部材においては、前記光散乱層が、当該層の前記光拡散部と反対側の面から入射し前記光散乱体で反射もしくは屈折して進行方向が変更された光が前方散乱するように構成されていることを特徴とする。   Further, in the light diffusing member according to the first aspect of the present invention, the light scattering layer is incident from the surface opposite to the light diffusing portion of the layer and reflected or refracted by the light scatterer so that the traveling direction is The modified light is configured to be scattered forward.

また、本発明の第一態様に係る光拡散部材においては、前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て点在して配置され、前記光拡散部が、前記遮光部の形成領域以外の領域に連続して形成されていることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the first aspect of the present invention, the plurality of light shielding portions are arranged in a scattered manner when viewed from the normal direction of one surface of the base material, and the light diffusing portions are the light shielding portions. It is characterized by being formed continuously in a region other than the formation region of the part.

また、本発明の第一態様に係る光拡散部材においては、前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることを特徴とする。   Moreover, in the light-diffusion member which concerns on the 1st aspect of this invention, these light-shielding parts are arrange | positioned aperiodically seeing from the normal line direction of the one surface of the said base material, It is characterized by the above-mentioned.

また、本発明の第一態様に係る光拡散部材においては、前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the first aspect of the present invention, the plurality of light shielding portions have the same shape as seen from the normal direction of one surface of the substrate.

また、本発明の第一態様に係る光拡散部材においては、前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the first aspect of the present invention, the plurality of light shielding portions have at least one of a plurality of types and sizes different from each other when viewed from the normal direction of one surface of the base material. It is characterized by being.

また、本発明の第一態様に係る光拡散部材においては、前記遮光部の形成領域には、前記光拡散部の形成領域によって区画された中空部が形成され、前記中空部に空気が存在していることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the first aspect of the present invention, a hollow portion defined by the light diffusing portion forming region is formed in the light shielding portion forming region, and air exists in the hollow portion. It is characterized by.

また、本発明の第一態様に係る光拡散部材においては、前記基材の一面の法線方向から見た前記遮光部の平面的な形状が、円形、楕円形もしくは多角形であることを特徴とする。   Further, in the light diffusing member according to the first aspect of the present invention, the planar shape of the light shielding portion viewed from the normal direction of one surface of the substrate is a circle, an ellipse, or a polygon. And

本発明の第二態様に係る光拡散部材は、光透過性を有する基材と、前記基材の一面側に形成された遮光部と、前記遮光部の前記基材と略平行な領域の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された光散乱層と、前記光散乱層の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された複数の光拡散部と、を備え、前記光拡散部が、前記基材側に前記遮光部の非形成領域に対応する光射出端面を有するとともに、前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有することを特徴とする。   The light diffusing member according to the second aspect of the present invention includes a light-transmitting base material, a light shielding portion formed on one surface side of the base material, and at least a region of the light shielding portion that is substantially parallel to the base material. A light scattering layer formed on one surface side of the base material so as to cover a part, a plurality of light diffusion portions formed on one surface side of the base material so as to cover at least a part of the light scattering layer; The light diffusion part has a light emission end face corresponding to the non-formation region of the light shielding part on the base material side, and has an area larger than the area of the light emission end face on the side opposite to the base material side. It has a light incident end face.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記光散乱層が、当該層の前記光拡散部と反対側の面から入射し前記光散乱体で反射もしくは屈折して進行方向が変更された光が前方散乱するように構成されていることを特徴とする。   Further, in the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, the light scattering layer is incident from the surface opposite to the light diffusing portion of the layer and reflected or refracted by the light scatterer so that the traveling direction is The modified light is configured to be scattered forward.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て点在して配置され、
前記遮光部が、前記光拡散部の形成領域以外の領域に連続して形成されていることを特徴とする。
Further, in the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, the plurality of light diffusing portions are arranged in a dotted manner when viewed from the normal direction of one surface of the base material,
The light shielding portion is formed continuously in a region other than a region where the light diffusion portion is formed.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることを特徴とする。   Moreover, in the light-diffusion member which concerns on the 2nd aspect of this invention, these light-diffusion parts are arrange | positioned aperiodically seeing from the normal line direction of the one surface of the said base material, It is characterized by the above-mentioned.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, the plurality of light diffusing portions have the same shape as each other when viewed from the normal direction of one surface of the substrate.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, the plurality of light diffusing portions have at least one of a plurality of different sizes and shapes as seen from the normal direction of the one surface of the base material. It is characterized by.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記複数の光拡散部間の間隙に空気が存在していることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, air is present in the gaps between the plurality of light diffusing portions.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記複数の光拡散部のうち、少なくとも一つの光拡散部の側面の傾斜角度が他の光拡散部の側面の傾斜角度と異なることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, the inclination angle of the side surface of at least one of the plurality of light diffusion portions is different from the inclination angle of the side surface of the other light diffusion portion. It is characterized by.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記複数の光拡散部のうち、少なくとも一つの光拡散部の側面の傾斜角度が場所によって異なることを特徴とする。   In the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, an inclination angle of a side surface of at least one light diffusing portion among the plurality of light diffusing portions is different depending on a place.

また、本発明の第二態様に係る光拡散部材においては、前記基材の一面の法線方向から見た前記光拡散部の平面的な形状が、円形、楕円形もしくは多角形であることを特徴とする。   Further, in the light diffusing member according to the second aspect of the present invention, the planar shape of the light diffusing portion viewed from the normal direction of one surface of the substrate is a circle, an ellipse or a polygon. Features.

また、本発明の第一、第二態様に係る光拡散部材においては、前記基材の一面と反対側の面に、反射防止層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも一つが設けられたことを特徴とする。   Further, in the light diffusing member according to the first and second aspects of the present invention, the antireflection layer, the antistatic layer, the antiglare layer, and the antifouling layer on the surface opposite to the one surface of the substrate. At least one of the above is provided.

本発明の第三態様に係る光拡散部材の製造方法は、光透過性を有する基材の一面に開口部を有する遮光部を形成する工程と、前記基材の一面に、前記遮光部の前記基材と略平行な領域の少なくとも一部を覆うように光散乱層を形成する工程と、前記基材の一面に、前記遮光部及び前記光散乱層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、前記遮光部および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光部の開口部を通して前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する複数の光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、を有することを特徴とする。   The method for producing a light diffusing member according to the third aspect of the present invention includes a step of forming a light shielding portion having an opening on one surface of a light-transmitting base material, and the light shielding portion on the one surface of the base material. A step of forming a light scattering layer so as to cover at least a part of a region substantially parallel to the base material; and a negative type having light permeability so as to cover the light shielding portion and the light scattering layer on one surface of the base material. A step of forming a photosensitive resin layer; and the negative photosensitive resin layer through an opening of the light shielding portion from a surface opposite to one surface of the base material on which the light shielding portion and the negative photosensitive resin layer are formed. And developing the negative photosensitive resin layer after the exposure, having a light emission end face on the substrate side and larger than the area of the light emission end face on the side opposite to the substrate side A plurality of light diffusing portions having a light incident end face with an area on one surface of the base material And having a step of forming a.

また、本発明の第三態様に係る光拡散部材の製造方法においては、前記遮光部の材料として黒色樹脂、黒色インク、金属単体、もしくは金属単体と金属酸化物との多層膜のうちのいずれかを用いることを特徴とする。   Moreover, in the method for manufacturing a light diffusing member according to the third aspect of the present invention, the material of the light shielding part is any one of black resin, black ink, a single metal, or a multilayer film of a single metal and a metal oxide. It is characterized by using.

本発明の第四態様に係る表示装置は、表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、前記視野角拡大部材が、上記第一又は第二態様に係る光拡散部材で構成されていることを特徴とする。   The display device according to the fourth aspect of the present invention is provided on the viewing side of the display body and the viewing side of the display body, and emits light in a state where the angular distribution of light incident from the display body is wider than before incidence. A viewing angle enlarging member, wherein the viewing angle enlarging member is configured by the light diffusing member according to the first or second aspect.

また、本発明の第五態様に係る表示装置は、表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、前記視野角拡大部材が、上記第二態様に係る光拡散部材で構成されており、前記表示体が、表示画像を形成する複数の画素を有し、前記光拡散部材の前記複数の光拡散部のうち、隣接する光拡散部間の最大ピッチが、前記表示体の前記画素間のピッチよりも小さいことを特徴とする。   Further, the display device according to the fifth aspect of the present invention is provided with a display body and a viewing side of the display body, and the light is distributed in a state where the angular distribution of light incident from the display body is wider than that before incidence. A viewing angle enlarging member that emits light, and the viewing angle enlarging member is configured by the light diffusion member according to the second aspect, and the display body includes a plurality of pixels that form a display image. The maximum pitch between adjacent light diffusion portions among the plurality of light diffusion portions of the light diffusion member is smaller than the pitch between the pixels of the display body.

また、本発明の第四、第五態様に係る表示装置は、前記視野角拡大部材の視認側に、情報入力装置が設けられたことを特徴とする。   The display device according to the fourth and fifth aspects of the present invention is characterized in that an information input device is provided on the viewing side of the viewing angle widening member.

また、本発明の第四、第五態様に係る表示装置は、前記表示体が、光源と、前記光源からの光を変調する光変調素子と、を有し、前記光源が指向性を有する光を射出することを特徴とする。   In the display device according to the fourth and fifth aspects of the present invention, the display body includes a light source and a light modulation element that modulates light from the light source, and the light source has directivity. It is characterized by injecting.

また、本発明の第四、第五態様に係る表示装置は、前記表示体が液晶表示素子であることを特徴とする。   In the display device according to the fourth and fifth aspects of the present invention, the display body is a liquid crystal display element.

本発明によれば、製造プロセスを複雑にすることなく、光の利用効率を向上させることができる光拡散部材およびその製造方法を提供することができる。本発明によれば、上記の光拡散部材を備え、表示品位に優れた表示装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the light-diffusion member which can improve the utilization efficiency of light, and its manufacturing method can be provided, without making a manufacturing process complicated. According to the present invention, it is possible to provide a display device that includes the light diffusing member and is excellent in display quality.

第1実施形態の液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device of 1st Embodiment. 第1実施形態の液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device of 1st Embodiment. 第1実施形態の液晶表示装置における液晶パネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the liquid crystal panel in the liquid crystal display device of 1st Embodiment. 第1実施形態の液晶表示装置における光制御フィルムの遮光部の形状及び光拡散部の側面での光の反射を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the reflection of the light in the shape of the light-shielding part of the light control film in the liquid crystal display device of 1st Embodiment, and the side surface of a light-diffusion part. 第1実施形態の光制御フィルムの製造工程を、順を追って示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacturing process of the light control film of 1st Embodiment later on. 第1実施形態の第1変形例に係る液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第1変形例に係る光制御フィルムによる光の反射を説明するための図である。It is a figure for demonstrating reflection of the light by the light control film which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第1変形例に係る光制御フィルムの製造工程を、順を追って示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacturing process of the light control film which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment later on. 第1実施形態の第2変形例に係る液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device which concerns on the 2nd modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第2変形例に係る光制御フィルムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the light control film which concerns on the 2nd modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第3変形例に係る液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device which concerns on the 3rd modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第3変形例に係る光制御フィルムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the light control film which concerns on the 3rd modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第4変形例に係る液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device which concerns on the 4th modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第4変形例に係る光制御フィルムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the light control film which concerns on the 4th modification of 1st Embodiment. 第2実施形態の液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device of 2nd Embodiment. 第2実施形態の液晶表示装置の断面構成を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure of the liquid crystal display device of 2nd Embodiment. 第2実施形態の光制御フィルムの製造工程を、順を追って示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacturing process of the light control film of 2nd Embodiment later on. 第2実施形態の第1変形例に係る液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device which concerns on the 1st modification of 2nd Embodiment. 第2実施形態の第1変形例に係る液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device which concerns on the 1st modification of 2nd Embodiment. 第2実施形態の第2変形例に係る液晶表示装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the liquid crystal display device which concerns on the 2nd modification of 2nd Embodiment. 第2実施形態の第2変形例に係る液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device which concerns on the 2nd modification of 2nd Embodiment. 光拡散部の側面の傾斜角度を連続的に異ならせた形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the form which varied the inclination angle of the side surface of a light-diffusion part continuously. 光拡散部の側面を折れ線状の傾斜面とした形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the form which used the side surface of the light-diffusion part as the broken line-shaped inclined surface. タッチパネルを備えた液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device provided with the touch panel. 光制御フィルムの遮光部の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the light-shielding part of a light control film.

次に図面を参照しながら、本発明の実施の形態の具体例としての実施例を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
また、以下の図面を使用した説明において、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきであり、理解の容易のために説明に必要な部材以外の図示は適宜省略されている。
Next, examples as specific examples of embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following examples.
Also, in the description using the following drawings, it should be noted that the drawings are schematic and the ratio of each dimension and the like are different from the actual ones, and are necessary for the description for easy understanding. Illustrations other than the members are omitted as appropriate.

図示した各実施例では、いずれも表示体として透過型の液晶パネルを備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。   In each of the illustrated embodiments, an example of a liquid crystal display device including a transmissive liquid crystal panel as a display body will be described.

(第1実施形態)
(1)液晶表示装置の概略構成
(1.1)液晶表示装置の全体構成
以下、本発明の第1実施形態について、図1ないし図5を用いて説明する。図1は、本実施形態の液晶表示装置を斜め上方(視認側)から見た斜視図である。図2は、本実施形態の液晶表示装置の断面図である。
(First embodiment)
(1) Schematic Configuration of Liquid Crystal Display Device (1.1) Overall Configuration of Liquid Crystal Display Device Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view of the liquid crystal display device of the present embodiment as viewed obliquely from above (viewing side). FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of this embodiment.

本実施形態の液晶表示装置1(表示装置)は、図1および図2に示すように、バックライト2(光源)と、液晶パネル6(表示体、変調素子)と、光制御フィルム7(視野角拡大部材、光拡散部材)と、から構成されている。液晶パネル6は、第1偏光板3と、第1位相差板13と、一対のガラス基板4と、第2位相差板8と、第2偏光板5と、を有する。一対のガラス基板4、4は、液晶層11およびカラーフィルター基板10を挟持している。図1および図2では、液晶層およびカラーフィルター等を挟持する一対のガラス基板4を模式的に1枚の板状に図示しているが、その詳細な構造については後で図3を用いて説明する。観察者は、光制御フィルム7が配置された図2における液晶表示装置1の上側から表示を見ることになる。よって、以下の説明では、光制御フィルム7が配置された側を視認側と称し、バックライト2が配置された側を背面側と称する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal display device 1 (display device) of the present embodiment includes a backlight 2 (light source), a liquid crystal panel 6 (display body, modulation element), and a light control film 7 (field of view). Corner expansion member, light diffusion member). The liquid crystal panel 6 includes a first polarizing plate 3, a first retardation plate 13, a pair of glass substrates 4, a second retardation plate 8, and a second polarizing plate 5. The pair of glass substrates 4 and 4 sandwich the liquid crystal layer 11 and the color filter substrate 10. In FIG. 1 and FIG. 2, a pair of glass substrates 4 sandwiching a liquid crystal layer, a color filter, and the like are schematically illustrated in a single plate shape, but the detailed structure will be described later with reference to FIG. explain. An observer views the display from the upper side of the liquid crystal display device 1 in FIG. 2 where the light control film 7 is disposed. Therefore, in the following description, the side on which the light control film 7 is disposed is referred to as a viewing side, and the side on which the backlight 2 is disposed is referred to as a back side.

本実施形態の液晶表示装置1においては、バックライト2から出射された光を液晶パネル6で変調し、変調した光によって所定の画像や文字等を表示する。また、液晶パネル6から出射された光が光制御フィルム7を透過すると、出射光の角度分布が光制御フィルム7に入射する前よりも広がった状態となって光が光制御フィルム7から出射される。これにより、観察者は広い視野角を持って表示を視認できる。   In the liquid crystal display device 1 of the present embodiment, the light emitted from the backlight 2 is modulated by the liquid crystal panel 6 and a predetermined image, character, or the like is displayed by the modulated light. Further, when the light emitted from the liquid crystal panel 6 passes through the light control film 7, the angle distribution of the emitted light becomes wider than before entering the light control film 7, and the light is emitted from the light control film 7. The Thereby, the observer can visually recognize the display with a wide viewing angle.

(1.2)液晶パネルの構成
以下、液晶パネル6の具体的な構成について説明する。
ここでは、アクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルを一例に挙げて説明するが、本発明に適用可能な液晶パネルはアクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルに限るものではない。本発明に適用可能な液晶パネルは、例えば半透過型(透過・反射兼用型)液晶パネルや反射型液晶パネルであっても良く、更には、各画素がスイッチング用薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor, 以下、TFTと略記する)を備えていない単純マトリクス方式(パッシブマトリックス方式)の液晶パネルであっても良い。
(1.2) Configuration of Liquid Crystal Panel Hereinafter, a specific configuration of the liquid crystal panel 6 will be described.
Here, an active matrix transmissive liquid crystal panel is described as an example, but a liquid crystal panel applicable to the present invention is not limited to an active matrix transmissive liquid crystal panel. The liquid crystal panel applicable to the present invention may be, for example, a transflective (transmissive / reflective) liquid crystal panel or a reflective liquid crystal panel. Furthermore, each pixel is a switching thin film transistor (Thin Film Transistor, hereinafter). A simple matrix type (passive matrix type) liquid crystal panel that does not include a TFT) may be used.

図3は、液晶パネル6の縦断面図である。
液晶パネル6は、図3に示すように、スイッチング素子基板としてのTFT基板9と、TFT基板9に対向して配置されたカラーフィルター基板10と、TFT基板9とカラーフィルター基板10との間に挟持された液晶層11と、を有している。液晶層11は、TFT基板9と、カラーフィルター基板10と、TFT基板9とカラーフィルター基板10とを所定の間隔をおいて貼り合わせる枠状のシール部材(図示せず)と、によって囲まれた空間内に封入されている。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal panel 6.
As shown in FIG. 3, the liquid crystal panel 6 includes a TFT substrate 9 as a switching element substrate, a color filter substrate 10 disposed so as to face the TFT substrate 9, and the TFT substrate 9 and the color filter substrate 10. And a sandwiched liquid crystal layer 11. The liquid crystal layer 11 is surrounded by a TFT substrate 9, a color filter substrate 10, and a frame-shaped seal member (not shown) that bonds the TFT substrate 9 and the color filter substrate 10 at a predetermined interval. It is enclosed in the space.

本実施形態の液晶パネル6は、例えばVA(Vertical Alignment,垂直配向)モードで表示を行うものであり、液晶層11には誘電率異方性が負の垂直配向液晶が用いられる。TFT基板9とカラーフィルター基板10との間には、これら基板間の間隔を一定に保持するための球状のスペーサー12が配置されている。なお、表示モードについては、上記のVAモードに限らず、TN(Twisted Nematic)モード、STN(Super Twisted Nematic)モード、IPS(In−Plane Switching)モード等を用いることができる。   The liquid crystal panel 6 of the present embodiment performs display in, for example, a VA (Vertical Alignment, vertical alignment) mode, and a vertical alignment liquid crystal having a negative dielectric anisotropy is used for the liquid crystal layer 11. A spherical spacer 12 is disposed between the TFT substrate 9 and the color filter substrate 10 to keep the distance between these substrates constant. The display mode is not limited to the VA mode described above, and a TN (Twisted Nematic) mode, an STN (Super Twisted Nematic) mode, an IPS (In-Plane Switching) mode, or the like can be used.

TFT基板9には、表示の最小単位領域である画素(図示せず)がマトリクス状に複数配置されている。TFT基板9には、複数のソースバスライン(図示せず)が、互いに平行に延在するように形成されるとともに、複数のゲートバスライン(図示せず)が、互いに平行に延在し、かつ、複数のソースバスラインと直交するように形成されている。したがって、TFT基板9上には、複数のソースバスラインと複数のゲートバスラインとが格子状に形成され、隣接するソースバスラインと隣接するゲートバスラインとによって区画された矩形状の領域が一つの画素となる。ソースバスラインは、後述するTFTのソース電極に接続され、ゲートバスラインは、TFTのゲート電極に接続されている。   On the TFT substrate 9, a plurality of pixels (not shown) as a minimum unit region for display are arranged in a matrix. A plurality of source bus lines (not shown) are formed on the TFT substrate 9 so as to extend in parallel with each other, and a plurality of gate bus lines (not shown) extend in parallel with each other, And it is formed so as to be orthogonal to a plurality of source bus lines. Therefore, on the TFT substrate 9, a plurality of source bus lines and a plurality of gate bus lines are formed in a lattice pattern, and a rectangular region partitioned by adjacent source bus lines and adjacent gate bus lines is one. One pixel. The source bus line is connected to the source electrode of the TFT described later, and the gate bus line is connected to the gate electrode of the TFT.

TFT基板9を構成する透明基板14の液晶層11側の面に、半導体層15、ゲート電極16、ソース電極17、ドレイン電極18等を有するTFT19が形成されている。透明基板14には、例えばガラス基板を用いることができる。透明基板14上に、例えばCGS(Continuous Grain Silicon:連続粒界シリコン)、LPS(Low−temperature Poly−Silicon:低温多結晶シリコン)、α−Si(Amorphous Silicon:非結晶シリコン)等の半導体材料からなる半導体層15が形成されている。また、透明基板14上に、半導体層15を覆うようにゲート絶縁膜20が形成されている。ゲート絶縁膜20の材料としては、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくはこれらの積層膜等が用いられる。
ゲート絶縁膜20上には、半導体層15と対向するようにゲート電極16が形成されている。ゲート電極16の材料としては、例えばW(タングステン)/TaN(窒化タンタル)の積層膜、Mo(モリブデン)、Ti(チタン)、Al(アルミニウム)等が用いられる。
A TFT 19 having a semiconductor layer 15, a gate electrode 16, a source electrode 17, a drain electrode 18, and the like is formed on the surface of the transparent substrate 14 constituting the TFT substrate 9 on the liquid crystal layer 11 side. As the transparent substrate 14, for example, a glass substrate can be used. On the transparent substrate 14, for example, from a semiconductor material such as CGS (Continuous Grain Silicon), LPS (Low-temperature Poly-Silicon), α-Si (Amorphous Silicon). A semiconductor layer 15 is formed. A gate insulating film 20 is formed on the transparent substrate 14 so as to cover the semiconductor layer 15. As a material of the gate insulating film 20, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a laminated film thereof is used.
A gate electrode 16 is formed on the gate insulating film 20 so as to face the semiconductor layer 15. As the material of the gate electrode 16, for example, a laminated film of W (tungsten) / TaN (tantalum nitride), Mo (molybdenum), Ti (titanium), Al (aluminum), or the like is used.

ゲート絶縁膜20上に、ゲート電極16を覆うように第1層間絶縁膜21が形成されている。第1層間絶縁膜21の材料としては、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくはこれらの積層膜等が用いられる。第1層間絶縁膜21上に、ソース電極17およびドレイン電極18が形成されている。ソース電極17は、第1層間絶縁膜21とゲート絶縁膜20とを貫通するコンタクトホール22を介して半導体層15のソース領域に接続されている。   A first interlayer insulating film 21 is formed on the gate insulating film 20 so as to cover the gate electrode 16. As a material of the first interlayer insulating film 21, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a laminated film thereof is used. A source electrode 17 and a drain electrode 18 are formed on the first interlayer insulating film 21. The source electrode 17 is connected to the source region of the semiconductor layer 15 through a contact hole 22 that penetrates the first interlayer insulating film 21 and the gate insulating film 20.

同様に、ドレイン電極18は、第1層間絶縁膜21とゲート絶縁膜20とを貫通するコンタクトホール23を介して半導体層15のドレイン領域に接続されている。ソース電極17およびドレイン電極18の材料としては、上述のゲート電極16と同様の導電性材料が用いられる。第1層間絶縁膜21上に、ソース電極17およびドレイン電極18を覆うように第2層間絶縁膜24が形成されている。第2層間絶縁膜24の材料としては、上述の第1層間絶縁膜21と同様の材料、もしくは有機絶縁性材料が用いられる。   Similarly, the drain electrode 18 is connected to the drain region of the semiconductor layer 15 through a contact hole 23 that penetrates the first interlayer insulating film 21 and the gate insulating film 20. As a material for the source electrode 17 and the drain electrode 18, the same conductive material as that for the gate electrode 16 is used. A second interlayer insulating film 24 is formed on the first interlayer insulating film 21 so as to cover the source electrode 17 and the drain electrode 18. As the material of the second interlayer insulating film 24, the same material as the first interlayer insulating film 21 described above or an organic insulating material is used.

第2層間絶縁膜24上には、画素電極25が形成されている。画素電極25は、第2層間絶縁膜24を貫通するコンタクトホール26を介してドレイン電極18に接続されている。従って、画素電極25は、ドレイン電極18を中継用電極として半導体層15のドレイン領域に接続されている。   A pixel electrode 25 is formed on the second interlayer insulating film 24. The pixel electrode 25 is connected to the drain electrode 18 through a contact hole 26 that penetrates the second interlayer insulating film 24. Accordingly, the pixel electrode 25 is connected to the drain region of the semiconductor layer 15 using the drain electrode 18 as a relay electrode.

画素電極25の材料としては、例えばITO(Indium Tin Oxide、インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zinc Oxide、インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電性材料が用いられる。この構成により、ゲートバスラインを通じて走査信号が供給され、TFT19がオン状態となったときに、ソースバスラインを通じてソース電極17に供給された画像信号が、半導体層15、ドレイン電極18を経て画素電極25に供給される。また、画素電極25を覆うように第2層間絶縁膜24上の全面に配向膜27が形成されている。この配向膜27は、液晶層11を構成する液晶分子を垂直配向させる配向規制力を有している。なお、TFTの形態としては、図3に示したボトムゲート型TFTであっても良いし、トップゲート型TFTであっても良い。   As the material of the pixel electrode 25, for example, a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is used. With this configuration, when the scanning signal is supplied through the gate bus line and the TFT 19 is turned on, the image signal supplied to the source electrode 17 through the source bus line passes through the semiconductor layer 15 and the drain electrode 18 to form a pixel electrode. 25. An alignment film 27 is formed on the entire surface of the second interlayer insulating film 24 so as to cover the pixel electrode 25. This alignment film 27 has an alignment regulating force for vertically aligning liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer 11. Note that the form of the TFT may be the bottom gate TFT shown in FIG. 3 or the top gate TFT.

一方、カラーフィルター基板10を構成する透明基板29の液晶層11側の面には、ブラックマトリクス30、カラーフィルター31、平坦化層32、対向電極33、配向膜34が順次形成されている。ブラックマトリクス30は、画素間領域において光の透過を遮断する機能を有しており、Cr(クロム)やCr/酸化Crの多層膜等の金属、もしくはカーボン粒子を感光性樹脂に分散させたフォトレジストで形成されている。   On the other hand, a black matrix 30, a color filter 31, a planarization layer 32, a counter electrode 33, and an alignment film 34 are sequentially formed on the surface of the transparent substrate 29 constituting the color filter substrate 10 on the liquid crystal layer 11 side. The black matrix 30 has a function of blocking the transmission of light in the inter-pixel region, and is a photo in which metal such as Cr (chromium) or Cr / Cr oxide multilayer film, or carbon particles is dispersed in a photosensitive resin. It is made of resist.

カラーフィルター31には、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の色素が含まれており、TFT基板9上の一つの画素電極25にR,G,Bのいずれか一つのカラーフィルター31が対向して配置されている。平坦化層32は、ブラックマトリクス30およびカラーフィルター31を覆う絶縁膜で構成されており、ブラックマトリクス30およびカラーフィルター31によってできる段差を緩和して平坦化する機能を有している。   The color filter 31 includes dyes of red (R), green (G), and blue (B), and one pixel electrode 25 on the TFT substrate 9 is any one of R, G, and B. Two color filters 31 are arranged to face each other. The flattening layer 32 is made of an insulating film that covers the black matrix 30 and the color filter 31, and has a function of smoothing and flattening a step formed by the black matrix 30 and the color filter 31.

平坦化層32上には対向電極33が形成されている。対向電極33の材料としては、画素電極25と同様の透明導電性材料が用いられる。また、対向電極33上の全面に、垂直配向規制力を有する配向膜34が形成されている。なお、カラーフィルター31は、R、G、Bの3色以上の多色構成としても良い。   A counter electrode 33 is formed on the planarization layer 32. As the material of the counter electrode 33, a transparent conductive material similar to that of the pixel electrode 25 is used. Further, an alignment film 34 having a vertical alignment regulating force is formed on the entire surface of the counter electrode 33. Note that the color filter 31 may have a multicolor configuration of three or more colors of R, G, and B.

(1.3)バックライトの構成
図2に示すように、バックライト2は、発光ダイオード、冷陰極管等の光源36と、光源36から出射した光を液晶パネル6に導く導光板37から成る。導光板37は、液晶パネル6に向けて光を出射する出射面と、出射面に対向する裏面とを有し、裏面には複数のプリズムが形成されている(不図示)。裏面のプリズムは、出射面に対して互いに異なる所定の角度で傾斜した2つの傾斜面を有し(不図示)、バックライト2から出射する光は、表示面法線方向における強度が強く、高い指向性を有している。
(1.3) Configuration of Backlight As shown in FIG. 2, the backlight 2 includes a light source 36 such as a light emitting diode and a cold cathode tube, and a light guide plate 37 that guides light emitted from the light source 36 to the liquid crystal panel 6. . The light guide plate 37 has an emission surface that emits light toward the liquid crystal panel 6 and a back surface that faces the emission surface, and a plurality of prisms are formed on the back surface (not shown). The back prism has two inclined surfaces (not shown) inclined at predetermined angles different from each other with respect to the emission surface, and the light emitted from the backlight 2 has a high intensity in the normal direction of the display surface and is high. Has directivity.

なお、バックライト2は、このように光源36が導光板37の端面に配置されたエッジライト型でも良いし、光源が導光体の直下に配置された直下型でも良い。
本実施形態で用いるバックライト2には、光の出射方向を制御して指向性を持たせたバックライト、いわゆる指向性バックライトを用いることが望ましい。後述する光制御フィルム7の光拡散部に対してコリメートまたは略コリメートした光を入射させるような指向性バックライトを用いることでボヤケを少なくし、さらに光の利用効率を高めることができる。上記の指向性バックライトの輝度分布については、後述する。
The backlight 2 may be an edge light type in which the light source 36 is arranged on the end face of the light guide plate 37 as described above, or may be a direct type in which the light source is arranged directly under the light guide.
As the backlight 2 used in the present embodiment, it is desirable to use a backlight having a directivity by controlling the light emitting direction, that is, a so-called directional backlight. By using a directional backlight that allows collimated or substantially collimated light to enter the light diffusion portion of the light control film 7 to be described later, blurring can be reduced and the light utilization efficiency can be further increased. The luminance distribution of the directional backlight will be described later.

一対のガラス基板4のバックライト2側には、偏光子として機能する第1偏光板3が設けられている。一対のガラス基板4と光制御フィルム7との間には、検光子として機能する第2偏光板5が設けられている。第1偏光板3と一対のガラス基板4との間、第2偏光板5と一対のガラス基板4との間には、光の位相差を補償するための第1位相差板13、第2位相差板8がそれぞれ設けられている(図2参照)。   A first polarizing plate 3 that functions as a polarizer is provided on the backlight 2 side of the pair of glass substrates 4. A second polarizing plate 5 that functions as an analyzer is provided between the pair of glass substrates 4 and the light control film 7. Between the first polarizing plate 3 and the pair of glass substrates 4 and between the second polarizing plate 5 and the pair of glass substrates 4, a first retardation plate 13 for compensating for the phase difference of light, a second A phase difference plate 8 is provided (see FIG. 2).

(2)光制御フィルムの構成
以下、光制御フィルム7について詳細に説明する。
光制御フィルム7は、図1および図2に示すように、透明基材39と、透明基材39の一面(視認側と反対側の面)側に形成された複数の遮光部40と、遮光部40の全体を覆うように透明基材39の一面側に形成された光散乱層45と、光散乱層45上に積層された状態に透明基材39の一面側に形成された光拡散層41(光透過性材料層)と、から構成されている。この光制御フィルム7は、図2に示すように、光拡散層41が設けられた側を第2偏光板5に向け、透明基材39の側を視認側に向けた姿勢で第2偏光板5上に粘着層42により固定されている。なお、本実施形態において、光散乱層45は遮光部40の全体を覆った状態で遮光部40と光拡散層41との間の層に形成されているが、光散乱層45は後述のように少なくとも遮光部40の透明基材39と略平行な領域(表面40a)の少なくとも一部を覆うように形成されていればよい。
(2) Configuration of Light Control Film Hereinafter, the light control film 7 will be described in detail.
As shown in FIGS. 1 and 2, the light control film 7 includes a transparent base material 39, a plurality of light shielding portions 40 formed on one surface (surface opposite to the viewing side) of the transparent base material 39, and light shielding. A light scattering layer 45 formed on one surface side of the transparent substrate 39 so as to cover the entire portion 40, and a light diffusion layer formed on one surface side of the transparent substrate 39 in a state of being laminated on the light scattering layer 45 41 (light transmissive material layer). As shown in FIG. 2, the light control film 7 has a posture in which the side on which the light diffusion layer 41 is provided faces the second polarizing plate 5 and the transparent substrate 39 side faces the viewing side. 5 is fixed by an adhesive layer 42. In the present embodiment, the light scattering layer 45 is formed in a layer between the light shielding unit 40 and the light diffusion layer 41 so as to cover the entire light shielding unit 40, but the light scattering layer 45 will be described later. And at least a part of a region (surface 40a) substantially parallel to the transparent base material 39 of the light shielding portion 40 may be covered.

透明基材39には、例えばトリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルホン(PES)フィルム等の透明樹脂製の基材が好ましく用いられる。透明基材39は、後述する製造プロセスにおいて、遮光部40や光拡散層41の材料を塗布する際の下地となるものであり、製造プロセス中の熱処理工程における耐熱性と機械的強度とを備える必要がある。
したがって、透明基材39には、樹脂製の基材の他、ガラス製の基材等を用いても良い。また、透明基材39の全光線透過率は、JIS K7361−1の規定で90%以上が好ましい。全光線透過率が90%以上であると、十分な透明性が得られる。本実施形態では、一例として厚さが100μmの透明樹脂製基材を用いる。
The transparent substrate 39 is made of a transparent resin such as a triacetyl cellulose (TAC) film, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), or polyethersulfone (PES) film. Is preferably used. The transparent base material 39 serves as a base when applying the material for the light-shielding portion 40 and the light diffusion layer 41 in the manufacturing process described later, and has heat resistance and mechanical strength in a heat treatment step during the manufacturing process. There is a need.
Therefore, as the transparent base material 39, a glass base material or the like may be used in addition to the resin base material. Further, the total light transmittance of the transparent substrate 39 is preferably 90% or more as defined in JIS K7361-1. When the total light transmittance is 90% or more, sufficient transparency can be obtained. In this embodiment, a transparent resin substrate having a thickness of 100 μm is used as an example.

複数の遮光部40が、図1に示すように、透明基材39の一面(視認側と反対側の面)に点在するように形成されている。ここで、X軸を液晶パネル6の画面に対して平行な面内の所定の方向、Y軸を前記面内においてX軸と直交する方向、Z軸を液晶表示装置1の厚さ方向、と定義する。   As shown in FIG. 1, the plurality of light shielding portions 40 are formed so as to be scattered on one surface (surface opposite to the viewing side) of the transparent base material 39. Here, the X axis is a predetermined direction in a plane parallel to the screen of the liquid crystal panel 6, the Y axis is a direction perpendicular to the X axis in the plane, the Z axis is the thickness direction of the liquid crystal display device 1, and Define.

図4は液晶表示装置における光制御フィルムの遮光部の形状及び光拡散部の側面での光の反射を説明するための図である。
図4(a)に示すように、本実施形態では、光制御フィルム7をZ軸方向から見たときの遮光部40の平面形状が、例えば楕円形で代表されるような上下左右に非対称のドット形状に形成されている。すなわち、図中の実線で示した方位角0度〜180度方向の遮光部の幅が広く、図中の点線で示した方位角90度〜270度方向の遮光部の幅が狭いドット形状となっている(図4(a)参照)。
FIG. 4 is a view for explaining the shape of the light shielding part of the light control film and the reflection of light on the side surface of the light diffusion part in the liquid crystal display device.
As shown in FIG. 4A, in the present embodiment, the planar shape of the light-shielding portion 40 when the light control film 7 is viewed from the Z-axis direction is asymmetrical vertically and horizontally as represented by an ellipse, for example. It is formed in a dot shape. That is, a dot shape in which the width of the light shielding portion in the direction of azimuth angle 0 ° to 180 ° indicated by the solid line in the drawing is wide and the width of the light shielding portion in the direction of azimuth angle 90 ° to 270 ° shown in the drawing in FIG. (See FIG. 4 (a)).

そのため、光制御フィルム7を断面方向で見た場合は、方位角0度〜180度方向は光拡散部の側面積が、方位角90度〜270度方向の光拡散部の側面積よりも小さくなっている。従って、本実施例に係る光制御フィルム7によれば、方位角0度〜180度方向に拡散して出射される光量が少なく、方位角90度〜270度方向に拡散して出射される光量が多くなる。つまり、方位によって非対称の光拡散が実現される。   Therefore, when the light control film 7 is viewed in the cross-sectional direction, the side area of the light diffusing portion is smaller than the side area of the light diffusing portion in the azimuth angle direction of 90 degrees to 270 degrees. It has become. Therefore, according to the light control film 7 of the present embodiment, the amount of light emitted by diffusing in the direction of azimuth angle 0 degrees to 180 degrees is small, and the amount of light emitted by diffusing in the direction of 90 degrees to 270 degrees azimuth. Will increase. That is, asymmetric light diffusion is realized depending on the orientation.

なお、遮光部40の平面形状としては、概ねある方位、例えば方位角90度〜270度方位と直交した形状であれば、その周縁形状が凹凸であっても良い。非対称のドット径としては、特に一定の大きさに限定されるものではなく、様々な大きさのドット径の形状が混在していても良い。更に、その配置は規則的な配置に限定されるものではなく、周期的な配置に限定されるものでもない。また、各遮光部40のドットは重なって形成されていても良い。   In addition, as a planar shape of the light-shielding part 40, if the shape is substantially orthogonal to a certain direction, for example, an azimuth angle of 90 degrees to 270 degrees, the peripheral shape may be uneven. The asymmetric dot diameter is not particularly limited to a fixed size, and dot sizes having various sizes may be mixed. Further, the arrangement is not limited to a regular arrangement, and is not limited to a periodic arrangement. Further, the dots of the respective light shielding portions 40 may be formed overlapping each other.

遮光部40は、一例として、カーボンブラックを含有するブラックレジスト等の光吸収性および感光性を有する黒色の顔料、染料、樹脂等からなる層で構成されている。カーボンブラックを含有する樹脂等を用いた場合、遮光部40を構成する膜を印刷工程で成膜できるため、材料使用量が少なく、スループットが高い等の利点が得られる。その他、Cr(クロム)やCr/酸化Crの多層膜等の金属膜を用いても良い。この種の金属膜もしくは多層膜を用いた場合、これらの膜の光学密度が高いため、薄膜で十分に光を吸収するという利点が得られる。   As an example, the light-shielding portion 40 is composed of a layer made of a black pigment, dye, resin, or the like having light absorption and photosensitivity, such as a black resist containing carbon black. When a resin containing carbon black or the like is used, the film constituting the light-shielding portion 40 can be formed in the printing process, so that advantages such as a small amount of material used and a high throughput can be obtained. In addition, a metal film such as Cr (chromium) or a Cr / Cr oxide multilayer film may be used. When this type of metal film or multilayer film is used, the optical density of these films is high, so that there is an advantage that light is sufficiently absorbed by the thin film.

光散乱層45は、例えばアクリル樹脂等のバインダー樹脂の内部に多数のアクリルビーズ等の光散乱体45aが分散されている。光散乱層45の厚みは例えば20μm程度であり、球状の光散乱体45aの球径は例えば0.5〜20μm程度である。光散乱層45は、当該光散乱層45の光拡散層41側の面から入射し、バインダー樹脂などの基材と光散乱体45aとの界面で反射、もしくは光散乱体45aで屈折して進行方向が変更された光が、前方散乱するように構成されている。このような散乱条件は、例えば、光散乱層45に含まれる光散乱体45aの粒子の大きさを適宜変更することにより、満足させることができる。   In the light scattering layer 45, a large number of light scattering bodies 45a such as acrylic beads are dispersed in a binder resin such as an acrylic resin. The thickness of the light scattering layer 45 is, for example, about 20 μm, and the spherical diameter of the spherical light scatterer 45 a is, for example, about 0.5-20 μm. The light scattering layer 45 is incident from the surface of the light scattering layer 45 on the light diffusion layer 41 side, and is reflected at the interface between the base material such as a binder resin and the light scattering body 45a or refracted by the light scattering body 45a. The light whose direction has been changed is configured to scatter forward. Such scattering conditions can be satisfied, for example, by appropriately changing the size of the particles of the light scattering body 45a included in the light scattering layer 45.

このように、本実施形態の場合、光制御フィルム7に光散乱層45が設けられているため、光の拡散角度を1つに集中させないようにすることができる。その結果、光制御フィルム7の光拡散特性をよりなだらかにすることができ、広い視野角で明るい表示が得られる。   Thus, in the case of this embodiment, since the light-scattering layer 45 is provided in the light control film 7, it is possible to prevent the light diffusion angles from being concentrated on one. As a result, the light diffusion characteristics of the light control film 7 can be made smoother, and a bright display can be obtained with a wide viewing angle.

なお、光散乱体45aは、上記に限られず、アクリル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、ビニル系ポリマー、セルロース系ポリマー、アミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、ウレタン系ポリマー、シリコーン系ポリマー、イミド系ポリマーなどからなる樹脂片、ガラスビーズ等の適宜な透明の物質から構成されていてもよい。また、これら透明な物質以外でも、光の吸収の無い散乱体、反射体を用いることができる。あるいは、光散乱体45aは、光散乱層45内に拡散させた気泡から構成するようにしてもよい。個々の光散乱体45aの形状は、例えば、球形、楕円球形、平板形、多角形立方体など、各種形状に形成することができる。光散乱体45aのサイズも均一あるいは不均一になるように形成されていればよい。   The light scatterer 45a is not limited to the above, and may be an acrylic polymer, an olefin polymer, a vinyl polymer, a cellulose polymer, an amide polymer, a fluorine polymer, a urethane polymer, a silicone polymer, an imide polymer, or the like. It may be composed of an appropriate transparent substance such as a resin piece or glass beads. In addition to these transparent substances, scatterers and reflectors that do not absorb light can be used. Or you may make it comprise the light-scattering body 45a from the bubble diffused in the light-scattering layer 45. FIG. The shape of each light scattering body 45a can be formed in various shapes such as a spherical shape, an elliptical spherical shape, a flat plate shape, and a polygonal cube. The size of the light scatterer 45a may be formed so as to be uniform or non-uniform.

光拡散層41は、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料で構成されている。
また、光拡散層41の全光線透過率は、JIS K7361−1の規定で90%以上が好ましい。全光線透過率が90%以上であると、十分な透明性が得られる。光拡散層41の層厚は遮光部40の厚さよりも十分大きく設定されている。本実施形態の場合、光拡散層41の層厚は一例として25μm程度であり、遮光部40の層厚は一例として150nm程度である。
The light diffusing layer 41 is made of an organic material having optical transparency and photosensitivity such as acrylic resin or epoxy resin.
Further, the total light transmittance of the light diffusion layer 41 is preferably 90% or more in accordance with JIS K7361-1. When the total light transmittance is 90% or more, sufficient transparency can be obtained. The layer thickness of the light diffusion layer 41 is set to be sufficiently larger than the thickness of the light shielding portion 40. In the case of this embodiment, the layer thickness of the light diffusion layer 41 is about 25 μm as an example, and the layer thickness of the light shielding unit 40 is about 150 nm as an example.

光拡散層41は、中空部43と光拡散部44とを含む。
光拡散層41は、遮光部40の形成領域に対応する位置に、透明基材39の一面に平行な平面で切断したときの断面積が遮光部40側で大きく、遮光部40から離れるにつれて漸次小さくなる形状の上記中空部43が形成されている。中空部43は、透明基材39側から見たとき、いわゆる順テーパ状の楕円錐台状の形状を有しており、遮光部40と平面的に重なる領域に配置されている。
The light diffusion layer 41 includes a hollow portion 43 and a light diffusion portion 44.
The light diffusing layer 41 has a large cross-sectional area on the light shielding part 40 side at a position corresponding to a region where the light shielding part 40 is formed and is cut in a plane parallel to one surface of the transparent base material 39, and gradually increases as the distance from the light shielding part 40 increases. The hollow portion 43 having a smaller shape is formed. When viewed from the transparent base material 39 side, the hollow portion 43 has a so-called forward tapered elliptic frustum shape, and is disposed in a region overlapping the light shielding portion 40 in a plane.

複数の遮光部40は、透明基材39上に点在してランダムに(非周期的に)配置されている。それに伴い、複数の遮光部40に対応する位置に形成される複数の中空部43も透明基材39上にランダムに配置されている。   The plurality of light shielding portions 40 are scattered on the transparent base material 39 and randomly (non-periodically) arranged. Accordingly, a plurality of hollow portions 43 formed at positions corresponding to the plurality of light shielding portions 40 are also randomly arranged on the transparent substrate 39.

中空部43の内部は空気層となっている。上記光拡散部44は、光拡散層41の中空部43以外の部分により構成される。光拡散部44は、透明樹脂が連続して存在することで構成され、光の透過に寄与する部分である。これにより、光拡散部44に入射した光は、光拡散部44と中空部43との界面で全反射しつつ、光拡散部44の内部に略閉じ込められた状態で導光し、光散乱層45及び透明基材39を介して外部に出射される。   The inside of the hollow portion 43 is an air layer. The light diffusion portion 44 is configured by a portion other than the hollow portion 43 of the light diffusion layer 41. The light diffusing portion 44 is configured by the presence of a continuous transparent resin and contributes to the transmission of light. Thereby, the light incident on the light diffusing portion 44 is totally reflected at the interface between the light diffusing portion 44 and the hollow portion 43, and is guided in a state of being substantially confined in the light diffusing portion 44. 45 and the transparent substrate 39.

なお、上記透明基材39、光散乱層45、及び光拡散層41の屈折率は、それぞれ略同等であることが望ましい。これらの屈折率が大きく異なっていると、例えば光入射端面40bから入射した光が光拡散部44から射出しようとする際に光拡散部44と光散乱層45との界面で不要な光の屈折や反射が生じたり、光散乱層45から透明基材39に光が入射する際に光散乱層45と透明基材39との界面で不要な光の屈折や反射が生じてしまう。すなわち、所望の光拡散角度が得られない、或いは射出光の光量が減少する等といった問題が生じるおそれがあるが、上述のように屈折率を略同等とすることで上記問題の発生を防止することができる。   It is desirable that the transparent base material 39, the light scattering layer 45, and the light diffusion layer 41 have substantially the same refractive index. If these refractive indexes are greatly different, for example, when light incident from the light incident end face 40 b is about to exit from the light diffusion portion 44, unnecessary light refraction is generated at the interface between the light diffusion portion 44 and the light scattering layer 45. When the light enters the transparent base material 39 from the light scattering layer 45, unnecessary light refraction or reflection occurs at the interface between the light scattering layer 45 and the transparent base material 39. That is, there may be a problem that a desired light diffusion angle cannot be obtained, or the amount of emitted light is reduced, but the occurrence of the above problem is prevented by making the refractive indexes substantially equal as described above. be able to.

光制御フィルム7は、図2に示したように、透明基材39が視認側に向くように配置されるため、図4(b)に示すように、光拡散部44の2つの対向面のうち、面積の小さい方の面(光散乱層45に接する側の面)が光出射端面44aとなり、面積の大きい方の面(透明基材39と反対側の面)が光入射端面44bとなる。光拡散部44の側面44c(光拡散部44と中空部43との界面)の傾斜角度θ(光出射端面44aと側面44cとのなす角)は60°〜90°程度が好ましい。ただし、光拡散部44の側面44cの傾斜角度は、入射光の損失がそれ程大きくなく、入射光を十分に拡散することが可能な角度であれば、特に限定されない。   As shown in FIG. 2, the light control film 7 is disposed so that the transparent base material 39 faces the viewer side. Therefore, as shown in FIG. Of these, the surface with the smaller area (the surface on the side in contact with the light scattering layer 45) is the light emitting end surface 44a, and the surface with the larger area (the surface opposite to the transparent substrate 39) is the light incident end surface 44b. . The inclination angle θ (the angle formed between the light emitting end surface 44a and the side surface 44c) of the side surface 44c (interface between the light diffusion portion 44 and the hollow portion 43) of the light diffusion portion 44 is preferably about 60 ° to 90 °. However, the inclination angle of the side surface 44c of the light diffusing portion 44 is not particularly limited as long as the loss of incident light is not so great and the incident light can be sufficiently diffused.

図4(c)に示すように、光拡散部44の側面44cと光出射端面44aとのなす角θは、光軸OAと平行または略平行に入射した光を全反射させるように、光拡散部44の側面44cの法線CLに対して臨界角を超える角度θ’(単位は度)に設定される。また、光拡散部44の側面44cと光軸OAに直交する光出射端面44aとのなす角度θは、光拡散部44の側面44cが光出射端面44aと交わる点を点P、光軸OAに平行な入射光VRの側面44cへの入射点を点Q、光出射端面44aに対する垂線のうちで点Qを通る垂線と光出射端面44aとの交点を点Rとすると、角QPRで表すことができる。このとき、角PQRの値は(90−θ)度であるから、光拡散部44の側面44cの傾斜角θは点Qにおける入射光VRの入射角θ’と同じ角度となる。したがって、光拡散部44の側面44cの傾斜角θは上記臨界角を超える角度で形成されている。   As shown in FIG. 4C, the angle θ formed between the side surface 44c of the light diffusing portion 44 and the light emitting end surface 44a is light diffusion so that the light incident in parallel or substantially parallel to the optical axis OA is totally reflected. The angle θ ′ (unit is degrees) exceeding the critical angle with respect to the normal line CL of the side surface 44c of the portion 44 is set. The angle θ between the side surface 44c of the light diffusing portion 44 and the light emitting end surface 44a orthogonal to the optical axis OA is a point P at the point where the side surface 44c of the light diffusing portion 44 intersects the light emitting end surface 44a and the optical axis OA. If the incident point of the parallel incident light VR on the side surface 44c is a point Q and the intersection of the perpendicular passing through the point Q and the light emitting end surface 44a out of the perpendiculars to the light emitting end surface 44a is a point R, it can be expressed by an angle QPR. it can. At this time, since the value of the angle PQR is (90−θ) degrees, the inclination angle θ of the side surface 44c of the light diffusion portion 44 is the same as the incident angle θ ′ of the incident light VR at the point Q. Therefore, the inclination angle θ of the side surface 44c of the light diffusion portion 44 is formed at an angle exceeding the critical angle.

本実施形態の場合、中空部43には空気が存在しているため、光拡散部44を例えば透明アクリル樹脂で形成したとすると、光拡散部44の側面44cは透明アクリル樹脂と空気との界面となる。ここで、光拡散部44の内部と外部との界面の屈折率差は、中空部43が空気で充填されている場合が、光拡散部44の周囲が他の一般的な低屈折率材料で構成されている場合よりも大きい。   In the case of this embodiment, since air exists in the hollow portion 43, if the light diffusion portion 44 is formed of, for example, a transparent acrylic resin, the side surface 44c of the light diffusion portion 44 is an interface between the transparent acrylic resin and air. It becomes. Here, the difference in refractive index at the interface between the inside and the outside of the light diffusing portion 44 is that when the hollow portion 43 is filled with air, the periphery of the light diffusing portion 44 is made of another general low refractive index material. Larger than configured.

したがって、スネルの法則より、光拡散部44の側面44cで光が全反射する入射角範囲が広い。その結果、光の損失がより抑えられ、高い輝度を得ることができる。
なお、本実施形態において、低屈折率材料が存在しているとは、光を全反射可能にするため、光拡散部44の周囲を低屈折率状態とすることを示している。そのため、中空部43には、空気に代えて、窒素等の不活性ガスが充填されている状態も含むものとする。もしくは、中空部43の内部が真空状態や大気よりも減圧状態であっても良い。
Therefore, according to Snell's law, the incident angle range in which light is totally reflected by the side surface 44c of the light diffusion portion 44 is wide. As a result, light loss is further suppressed, and high luminance can be obtained.
In the present embodiment, the presence of a low refractive index material indicates that the periphery of the light diffusion portion 44 is in a low refractive index state so that light can be totally reflected. For this reason, the hollow portion 43 includes a state in which an inert gas such as nitrogen is filled instead of air. Alternatively, the inside of the hollow portion 43 may be in a vacuum state or a reduced pressure state than the atmosphere.

図4(b)に示すように、臨界角を超える角度で入射した入射光L2は、側面44cで全反射して光拡散部44を透過して光散乱層45に入射する。光散乱層45に入射した光は、光散乱体45aで散乱されることで透明基材39を介して観察者側へ出射される。また、光軸OAと平行または略平行に光拡散部44に入射し、側面44cで反射されることなく光拡散部44を透過した光L1は、光散乱層45の光散乱体45aで散乱され、透明基材39を介して観察者側へ出射される。   As shown in FIG. 4B, the incident light L2 incident at an angle exceeding the critical angle is totally reflected by the side surface 44c, passes through the light diffusion portion 44, and enters the light scattering layer 45. The light that has entered the light scattering layer 45 is scattered by the light scatterer 45 a and is emitted to the viewer side through the transparent substrate 39. Further, the light L1 incident on the light diffusing unit 44 in parallel or substantially parallel to the optical axis OA and transmitted through the light diffusing unit 44 without being reflected by the side surface 44c is scattered by the light scatterer 45a of the light scattering layer 45. The light is emitted to the observer side through the transparent base material 39.

一方、臨界角以下の角度で入射するような光、すなわち光制御フィルム7に対して斜めに入射する光は、液晶パネル6を斜めに透過した光である。このような入射光は、所望のリタデーションと異なる光であって、表示のボヤケやコントラストを低下させる要因となるものである。
本実施形態において、上述のような臨界角以下の角度で入射した入射光L3は、図4(c)に示すように、全反射することなく光拡散部44の側面44cを透過し、中空部43に入射する。光拡散部44以外の領域である中空部43に遮光部40が設けられているので、光拡散部44の側面44cを透過した光は遮光部40で吸収される。そのため、上述の迷光などによって表示のボヤケが生じたり、コントラストが低下したりする虞はない。しかしながら、光拡散部44の側面44cを透過する光が増えると、視認側に出射される光量が少なくなり、輝度の高い画像が得られない。そこで、本実施形態の液晶表示装置1においては、光拡散部44の側面44cに臨界角以下で入射しないような角度で光を出射するバックライト、いわゆる上述のような指向性を有するバックライト2を用いている。
On the other hand, light that is incident at an angle less than the critical angle, that is, light that is obliquely incident on the light control film 7 is light that is transmitted obliquely through the liquid crystal panel 6. Such incident light is different from the desired retardation, and is a factor that reduces display blur and contrast.
In the present embodiment, the incident light L3 incident at an angle less than the critical angle as described above is transmitted through the side surface 44c of the light diffusing portion 44 without being totally reflected, as shown in FIG. 43 is incident. Since the light shielding part 40 is provided in the hollow part 43 that is a region other than the light diffusion part 44, the light transmitted through the side surface 44 c of the light diffusion part 44 is absorbed by the light shielding part 40. Therefore, there is no possibility that display blur may occur due to the above-described stray light or the contrast may be lowered. However, when the amount of light transmitted through the side surface 44c of the light diffusing unit 44 increases, the amount of light emitted to the viewing side decreases, and an image with high luminance cannot be obtained. Therefore, in the liquid crystal display device 1 of the present embodiment, a backlight that emits light at an angle that does not enter the side surface 44c of the light diffusing portion 44 below the critical angle, that is, the so-called backlight 2 having directivity as described above. Is used.

ところで、遮光部の表面の一部を覆う光散乱層を有しない、従来の光制御フィルムにおいては、複数の光拡散部間(中空部)に入射した光が遮光部によって吸収されてしまい、液晶パネルを介して入射された光を十分効率的に使用することが出来ない虞があった。
これに対し、本実施形態の光制御フィルム7の場合、光拡散層41と遮光部40との間に光散乱層45が設けられているので、図4(c)に示すように中空部43に入射した光L4は光散乱層45の光散乱体45aで前方散乱されるようになる。このとき、光散乱体45aで前方散乱された光の一部は、遮光部40が形成されていない領域に導かれる。よって、中空部43に入射した光L4の一部は、遮光部40で吸収されることなく、透明基材39を介して様々な角度で射出されるようになる。
By the way, in the conventional light control film which does not have the light-scattering layer which covers a part of surface of the light shielding part, the light incident between the plurality of light diffusion parts (hollow part) is absorbed by the light shielding part, and the liquid crystal There is a possibility that the light incident through the panel cannot be used sufficiently efficiently.
On the other hand, in the case of the light control film 7 of the present embodiment, since the light scattering layer 45 is provided between the light diffusion layer 41 and the light shielding portion 40, the hollow portion 43 as shown in FIG. The light L4 incident on the light scatters forward by the light scatterer 45a of the light scattering layer 45. At this time, a part of the light scattered forward by the light scatterer 45a is guided to a region where the light shielding portion 40 is not formed. Therefore, a part of the light L4 incident on the hollow portion 43 is emitted at various angles through the transparent base material 39 without being absorbed by the light shielding portion 40.

(3)光制御フィルムの製造方法
次に、上記構成の液晶表示装置1を構成する光制御フィルム7の製造工程を中心に、その製造方法について説明する。
液晶パネル6の製造工程の概略を先に説明すると、最初に、TFT基板9とカラーフィルター基板10をそれぞれ作製する。その後、TFT基板9のTFT19が形成された側の面とカラーフィルター基板10のカラーフィルター31が形成された側の面とを対向させて配置し、TFT基板9とカラーフィルター基板10とをシール部材を介して貼り合わせる。その後、TFT基板9とカラーフィルター基板10とシール部材とによって囲まれた空間内に液晶を注入する。そして、このようにしてできた液晶パネルの両面に、光学接着剤等を用いて第1位相差板13、第1偏光板3、第2位相差板8、第2偏光板5をそれぞれ貼り合わせる(図3参照)。以上の工程を経て、液晶パネル6が完成する。
なお、TFT基板9やカラーフィルター基板10の製造方法は常法によれば良く、その説明を省略する。
(3) Manufacturing method of light control film Next, the manufacturing method is demonstrated focusing on the manufacturing process of the light control film 7 which comprises the liquid crystal display device 1 of the said structure.
The outline of the manufacturing process of the liquid crystal panel 6 will be described first. First, the TFT substrate 9 and the color filter substrate 10 are respectively produced. Thereafter, the surface of the TFT substrate 9 on which the TFT 19 is formed and the surface of the color filter substrate 10 on which the color filter 31 is formed are arranged to face each other, and the TFT substrate 9 and the color filter substrate 10 are sealed. Paste through. Thereafter, liquid crystal is injected into a space surrounded by the TFT substrate 9, the color filter substrate 10, and the seal member. Then, the first retardation plate 13, the first polarizing plate 3, the second retardation plate 8, and the second polarizing plate 5 are bonded to both surfaces of the liquid crystal panel thus formed using an optical adhesive or the like. (See FIG. 3). The liquid crystal panel 6 is completed through the above steps.
The manufacturing method of the TFT substrate 9 and the color filter substrate 10 may be a conventional method, and the description thereof is omitted.

最初に、図5(a)に示すように、10cm角で厚さが100μmのトリアセチルセルロースの透明基材39を準備し、スピンコート法を用いて、この透明基材39の一面に遮光部材料としてカーボンが含有されたブラックネガレジストを塗布し、膜厚150nmの塗膜50を形成する。
続いて、上記の塗膜50を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度90℃で塗膜50のプリベークを行う。これにより、ブラックネガレジスト中の溶媒が揮発する。
First, as shown in FIG. 5A, a 10-cm square triacetylcellulose transparent substrate 39 having a thickness of 100 μm is prepared, and a light-shielding portion is formed on one surface of the transparent substrate 39 using a spin coating method. A black negative resist containing carbon as a material is applied to form a coating film 50 having a thickness of 150 nm.
Subsequently, the transparent substrate 39 on which the coating film 50 is formed is placed on a hot plate, and the coating film 50 is pre-baked at a temperature of 90 ° C. Thereby, the solvent in the black negative resist is volatilized.

続いて、露光装置を用い、平面形状が例えば楕円形状の複数の開口パターン46が形成されたフォトマスク47を介して塗膜50に光Lを照射し、露光を行う。このとき、波長365nmのi線、波長404nmのh線、波長436nmのg線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は100mJ/cmとする。 Subsequently, using an exposure apparatus, exposure is performed by irradiating the coating film 50 with light L through a photomask 47 in which a plurality of opening patterns 46 having an elliptical planar shape are formed. At this time, an exposure apparatus using a mixed line of i-line having a wavelength of 365 nm, h-line having a wavelength of 404 nm, and g-line having a wavelength of 436 nm is used. The exposure dose is 100 mJ / cm 2 .

上記のフォトマスク47を用いて露光を行った後、専用の現像液を用いてブラックネガレジストからなる塗膜50の現像を行い、100℃で乾燥し、図5(b)に示すように、平面形状が例えば楕円形の複数の遮光部40を透明基材39の一面に形成する。本実施形態では、各遮光部40が同じ大きさの楕円形から構成されているが、各遮光部40が異なる大きさの楕円形状から構成されていても良い。   After performing exposure using the photomask 47 described above, the coating film 50 made of a black negative resist is developed using a dedicated developer, dried at 100 ° C., as shown in FIG. A plurality of light shielding portions 40 whose planar shape is, for example, an ellipse are formed on one surface of the transparent substrate 39. In the present embodiment, each light shielding portion 40 is configured from an elliptical shape having the same size, but each light shielding portion 40 may be configured from an elliptical shape having a different size.

本実施形態の場合、次工程でブラックネガレジストからなる遮光部40をマスクとして透明ネガレジストの露光を行い、中空部43を形成する。そのため、フォトマスク47の開口パターン46の位置が中空部43の形成位置に対応する。隣接する開口パターン46間の間隔(ピッチ)も、その配置は規則的ではなく、周期的な配置でもないが、開口パターン46の間隔(ピッチ)は液晶パネル6の画素の間隔(ピッチ、例えば150μm)よりも小さいことが望ましい。これにより、画素内に少なくとも1つの遮光部40が形成されるので、例えばモバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときに広視野角化を図ることができる。   In the case of the present embodiment, in the next step, the transparent negative resist is exposed using the light shielding portion 40 made of black negative resist as a mask to form the hollow portion 43. Therefore, the position of the opening pattern 46 of the photomask 47 corresponds to the position where the hollow portion 43 is formed. The interval (pitch) between the adjacent opening patterns 46 is neither regular nor periodic, but the interval (pitch) between the opening patterns 46 is the pixel interval (pitch, for example, 150 μm) of the liquid crystal panel 6. ) Is desirable. Thereby, since at least one light-shielding portion 40 is formed in the pixel, a wide viewing angle can be achieved when combined with a liquid crystal panel having a small pixel pitch, for example, used for a mobile device or the like.

なお、上記遮光部40の形成時に用いるフォトマスク47を設計する際には、最初に開口パターン46を一定のピッチで規則的に配置しておき、次にランダム関数を用いて例えば開口パターン46の中心点等、各開口パターン46の基準位置データに揺らぎを持たせ、開口パターン46の位置をばらつかせることにより、ランダムに配置された複数の開口パターン46を有するフォトマスク47を製作することができる。   When designing the photomask 47 used when forming the light shielding portion 40, first, the opening patterns 46 are regularly arranged at a constant pitch, and then, for example, the opening pattern 46 is formed using a random function. A photomask 47 having a plurality of randomly arranged opening patterns 46 can be manufactured by giving fluctuations to the reference position data of each opening pattern 46 such as the center point and varying the positions of the opening patterns 46. it can.

なお、複数の遮光部40を形成する方法は、上述の露光装置を用いる方法の他、グラビア印刷法、インクジェット法を採用してもよく、これによれば所望の形状の遮光部40を直接パターン形成することができる。   The method for forming the plurality of light shielding portions 40 may employ a gravure printing method or an ink jet method in addition to the method using the above-described exposure apparatus. According to this, the light shielding portions 40 having a desired shape are directly patterned. Can be formed.

続いて、図5(c)に示すように、複数の遮光部40を覆うように透明基材39の全面にスピンコート法を用いて、光散乱層45の形成材料(例えば熱硬化性を有するアクリル樹脂等のバインダー樹脂中に光散乱体45aが分散されてなるもの)である膜厚20μm程度の塗膜51を塗布する。次いで、上記の塗膜145を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜51のプリベークを行う。これにより、塗膜51中の溶媒が揮発し、光散乱層45が形成される。なお、塗膜51として紫外線硬化型の材料を用い、該塗膜51に対して紫外線を照射することで硬化させるようにしてもよい。   Subsequently, as shown in FIG. 5C, the material for forming the light scattering layer 45 (for example, has thermosetting property) is applied to the entire surface of the transparent base material 39 so as to cover the plurality of light shielding portions 40. A coating film 51 having a thickness of about 20 μm, which is a light scattering body 45a dispersed in a binder resin such as an acrylic resin, is applied. Next, the transparent substrate 39 on which the coating film 145 is formed is placed on a hot plate, and the coating film 51 is pre-baked at a temperature of 95 ° C. Thereby, the solvent in the coating film 51 is volatilized and the light scattering layer 45 is formed. In addition, you may make it harden | cure by using an ultraviolet curable material for the coating film 51, and irradiating this coating film 51 with an ultraviolet-ray.

続いて、図5(d)に示すように、スピンコート法を用いて、光散乱層45の上面に光拡散部材料としてアクリル樹脂からなる透明ネガレジストを塗布し、膜厚25μmの塗膜48を形成する。
続いて、上記の塗膜48を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜48のプリベークを行う。これにより、透明ネガレジスト中の溶媒が揮発する。
Subsequently, as shown in FIG. 5D, a transparent negative resist made of an acrylic resin is applied to the upper surface of the light scattering layer 45 as a light diffusing portion material by using a spin coating method, and a coating film 48 having a film thickness of 25 μm. Form.
Subsequently, the transparent base material 39 on which the coating film 48 is formed is placed on a hot plate, and the coating film 48 is pre-baked at a temperature of 95 ° C. Thereby, the solvent in the transparent negative resist is volatilized.

続いて、透明基材39側から遮光部40をマスクとして塗膜48に光Fを照射し、露光を行う。このとき、波長365nmのi線、波長404nmのh線、波長436nmのg線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は500mJ/cmとする。
その後、上記の塗膜48を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜48のポストエクスポージャーベイク(PEB)を行う。
Subsequently, the coating film 48 is irradiated with light F from the transparent base material 39 side using the light shielding portion 40 as a mask to perform exposure. At this time, an exposure apparatus using a mixed line of i-line having a wavelength of 365 nm, h-line having a wavelength of 404 nm, and g-line having a wavelength of 436 nm is used. The exposure amount is 500 mJ / cm 2 .
Thereafter, the transparent substrate 39 on which the coating film 48 is formed is placed on a hot plate, and the coating film 48 is subjected to post-exposure baking (PEB) at a temperature of 95 ° C.

ここで用いる光Fとして、平行光、もしくは拡散光、もしくは特定の出射角度における強度が他の出射角度における強度と異なる光、すなわち特定の出射角度に強弱を有する光を用いることができる。平行光を用いた場合、光拡散部44の側面44cの傾斜角度が例えば60°〜90°程度の単一の傾斜角度となる。拡散光を用いた場合には、傾斜角度が連続的に変化する、断面形状が曲線状の傾斜面となる。特定の出射角度に強弱を有する光を用いた場合には、その強弱に対応した斜面角度を有する傾斜面となる。このように、光拡散部44の側面44cの傾斜角度を調整することができる。これにより、光制御フィルム7の光拡散性を、目的とする視認性が得られるように調整することが可能となる。
なお、露光装置から出射された平行光を光Fとして透明基材39に照射する手段の一つとして、例えば露光装置から出射された光の光路上にヘイズ50程度の拡散板を配置し、拡散板を介して光を照射する。
As the light F used here, parallel light, diffused light, or light whose intensity at a specific emission angle is different from that at another emission angle, that is, light having strength at a specific emission angle can be used. When parallel light is used, the inclination angle of the side surface 44c of the light diffusion portion 44 is a single inclination angle of, for example, about 60 ° to 90 °. When diffused light is used, the tilt angle changes continuously, and the cross-sectional shape becomes a curved inclined surface. When light having strength at a specific emission angle is used, an inclined surface having a slope angle corresponding to the strength is obtained. Thus, the inclination angle of the side surface 44c of the light diffusing portion 44 can be adjusted. Thereby, it becomes possible to adjust the light diffusibility of the light control film 7 so that the target visibility can be obtained.
As one of means for irradiating the transparent base material 39 with the parallel light emitted from the exposure apparatus as light F, for example, a diffusion plate having a haze of about 50 is arranged on the optical path of the light emitted from the exposure apparatus, and diffused. Light is irradiated through the plate.

本実施形態において、遮光部40と塗膜48との間に光透過性を有する光散乱層45が配置されているので、塗膜48を構成する透明ネガレジストは、遮光部40の非形成領域から外側に放射状に広がることで光散乱層45を透過した光Fにより露光される。これにより、塗膜48には順テーパ状の中空部43が形成され、光拡散部44は逆テーパ状の形状となる。なお、中空部43及び光拡散部44におけるテーパ度合い(傾斜角度)は拡散光の拡散の度合いで制御することができる。   In this embodiment, since the light-scattering layer 45 having light transmittance is disposed between the light shielding part 40 and the coating film 48, the transparent negative resist constituting the coating film 48 is a non-formation region of the light shielding part 40. It is exposed by the light F that has passed through the light scattering layer 45 by spreading radially outward. Thereby, the forward taper-shaped hollow part 43 is formed in the coating film 48, and the light-diffusion part 44 becomes a reverse taper shape. In addition, the taper degree (inclination angle) in the hollow part 43 and the light diffusion part 44 can be controlled by the degree of diffusion of the diffused light.

続いて、専用の現像液を用いて透明ネガレジストからなる塗膜48の現像を行い、100℃でポストベークし、図5(e)に示すように、複数の中空部43を有する光拡散層41を透明基材39の一面に形成する。   Subsequently, the coating film 48 made of a transparent negative resist is developed using a dedicated developer, post-baked at 100 ° C., and a light diffusion layer having a plurality of hollow portions 43 as shown in FIG. 41 is formed on one surface of the transparent substrate 39.

本実施形態では、ブラックネガレジストを用いたフォトリソグラフィー法によって遮光部40を形成する場合を説明したが、この構成に代えて、本実施形態の開口パターン46と遮光パターンとが反転したフォトマスクを用いれば、光吸収性を有するポジレジストを用いることもできる。もしくは、蒸着法や印刷法等を用いて遮光部40を直接形成しても良い。   In the present embodiment, the case where the light shielding portion 40 is formed by a photolithography method using a black negative resist has been described, but instead of this configuration, a photomask in which the opening pattern 46 and the light shielding pattern of the present embodiment are reversed is used. If used, a positive resist having a light absorption property can also be used. Or you may form the light-shielding part 40 directly using a vapor deposition method, a printing method, etc. FIG.

以上、図5(a)ないし(e)の工程を経て、本実施形態の光制御フィルム7が完成する。光制御フィルム7の全光線透過率は、90%以上が好ましい。全光線透過率が90%以上であると、十分な透明性が得られ、光制御フィルム7に求められる光学性能を十分に発揮できる。全光線透過率は、JIS K7361−1の規定によるものである。なお、本実施形態では、液体状のレジストを用いる例を挙げたが、この構成に代えて、フィルム状のレジストを用いても良い。   As described above, the light control film 7 of this embodiment is completed through the steps of FIGS. The total light transmittance of the light control film 7 is preferably 90% or more. When the total light transmittance is 90% or more, sufficient transparency is obtained, and the optical performance required for the light control film 7 can be sufficiently exhibited. The total light transmittance is in accordance with JIS K7361-1. In this embodiment, an example in which a liquid resist is used has been described, but a film resist may be used instead of this configuration.

最後に、完成した光制御フィルム7を、図2に示したように、透明基材39を視認側に向け、光拡散部44を第2偏光板5に対向させた状態で、粘着層42を介して液晶パネル6に貼付する。
以上の工程により、本実施形態の液晶表示装置1が完成する。
Finally, as shown in FIG. 2, the completed light control film 7 has the adhesive layer 42 with the transparent base material 39 facing the viewing side and the light diffusion portion 44 facing the second polarizing plate 5. To the liquid crystal panel 6.
Through the above steps, the liquid crystal display device 1 of the present embodiment is completed.

(4)光制御フィルムの作用・効果
本実施形態の光制御フィルム7の視野角拡大効果について、図4を用いて説明する。
図4(a)に示したように、本実施形態では、光制御フィルム7をZ軸方向から見たときの遮光部40の平面形状が、例えば楕円形で代表されるような上下左右に非対称のドット形状に形成されている。すなわち、図中の実線で示した方位角0度〜180度方向の遮光部の幅が広く、図中の点線で示した方位角90度〜270度方向の遮光部の幅が狭いドット形状となっている。
(4) Action / Effect of Light Control Film The viewing angle expansion effect of the light control film 7 of this embodiment will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4A, in the present embodiment, the planar shape of the light-shielding portion 40 when the light control film 7 is viewed from the Z-axis direction is asymmetrical vertically and horizontally as represented by an ellipse, for example. The dot shape is formed. That is, a dot shape in which the width of the light shielding portion in the direction of azimuth angle 0 ° to 180 ° indicated by the solid line in the drawing is wide and the width of the light shielding portion in the direction of azimuth angle 90 ° to 270 ° shown in the drawing in FIG. It has become.

遮光部40は、その配置は一定の規則性や周期性をもったものではなく、ランダムである。そのため、光制御フィルム7を断面方向で見た場合は、方位角0度〜180度方向は光拡散部44の側面積が、方位角90度〜270度方向の光拡散部44の側面積よりも小さくなっている。なお、遮光部40については一定の大きさに限定されるものではなく、様々な大きさのドット径の形状を混在させるようにしても良い。   The arrangement of the light-shielding portions 40 is not a regularity or periodicity, but is random. Therefore, when the light control film 7 is viewed in the cross-sectional direction, the side area of the light diffusing unit 44 in the azimuth angle of 0 to 180 degrees is larger than the side area of the light diffusing unit 44 in the azimuth angle of 90 to 270 degrees. Is also getting smaller. In addition, about the light-shielding part 40, it is not limited to a fixed magnitude | size, You may make it mix the shape of the dot diameter of various magnitude | sizes.

従って、本実施形態に係る光制御フィルム7によれば、方位角0度〜180度方向に拡散して出射される光量が少なく、方位角90度〜270度方向に拡散して出射される光量が多くなる。つまり、方位によって非対称の光拡散が実現される。   Therefore, according to the light control film 7 according to the present embodiment, the amount of light that is diffused and emitted in the direction of the azimuth angle of 0 to 180 degrees is small, and the amount of light that is diffused and emitted in the direction of the azimuth angle of 90 to 270 degrees. Will increase. That is, asymmetric light diffusion is realized depending on the orientation.

そのため、本実施例に用いた指向性を有するバックライト2の輝度分布として、極角方向は外側から中心に向かうにしたがって輝度が高く、かつ、図中の実線で示した方位角0度〜180度方位よりも図中の点線で示した方位角90度〜270度方位のほうが出射する光量が少ない場合は、方位角90度〜270度方向は、指向性が強いため、液晶パネル6を通過後、強く拡散させる必要がある。
そこで、本実施形態においては、バックライトの指向性が高い方位角90度〜270度方位と、光制御フィルムの拡散が強い方位である方位角90度〜270度方位とを組み合わせることで、方位角90度〜270度方向に視野角拡大効果が大きい液晶表示装置1を実現している。
Therefore, as the luminance distribution of the backlight 2 having directivity used in the present embodiment, the luminance increases in the polar angle direction from the outside toward the center, and the azimuth angle of 0 degrees to 180 shown by the solid line in the figure. When the amount of light emitted from the azimuth 90 ° to 270 ° azimuth indicated by the dotted line in the figure is smaller than the azimuth azimuth, the direction of the azimuth 90 ° to 270 ° passes through the liquid crystal panel 6 because the directionality is strong. After that, it is necessary to diffuse strongly.
Therefore, in the present embodiment, by combining the azimuth angle 90 degrees to 270 degrees azimuth with high backlight directivity and the azimuth angles 90 degrees to 270 degrees azimuth where the diffusion of the light control film is strong, The liquid crystal display device 1 having a large viewing angle expansion effect in the angle direction of 90 to 270 degrees is realized.

また、TN(Twisted Nematic)液晶の明視方向である方位角270度に、非対称な配光特性、例えば、方位角90度〜270度方位の指向性が高い指向性バックライトと方位角90度〜270度方位に強い光拡散特性を有する光制御フィルム7とを組み合わせることで、TN(Twisted Nematic)液晶表示装置で発生する、中間調表示の際の明暗反転(諧調反転)現象や、真っ黒な画面が発生する、いわゆる黒潰れ現象を改善することができる。   Further, a directional backlight having a high light directivity in an azimuth angle of 90 degrees to 270 degrees and an azimuth angle of 270 degrees, which is a clear viewing direction of a TN (Twisted Nematic) liquid crystal, and an azimuth angle of 90 degrees. By combining with the light control film 7 having a light diffusion characteristic having a strong light diffusion characteristic in the 270 degree direction, a light / dark reversal (tone reversal) phenomenon at the time of halftone display, which occurs in a TN (Twisted Nematic) liquid crystal display device, It is possible to improve the so-called black crushing phenomenon in which the screen is generated.

また、本実施形態に係る光制御フィルム7は、光拡散層41と遮光部40との間に光散乱層45を備えるので、中空部43に入射した光を光散乱層45の光散乱体45aによって前方散乱させることができる。これにより、中空部43に入射した光L4の一部は、図4(c)に示したように遮光部40が形成されていない領域に導かれることで遮光部40に吸収されることなく透明基材39を介して様々な角度で射出することができる。   Moreover, since the light control film 7 according to the present embodiment includes the light scattering layer 45 between the light diffusion layer 41 and the light shielding portion 40, the light scatterer 45 a of the light scattering layer 45 converts the light incident on the hollow portion 43. Can be scattered forward. As a result, a part of the light L4 incident on the hollow portion 43 is transparent without being absorbed by the light shielding portion 40 by being guided to the region where the light shielding portion 40 is not formed as shown in FIG. Injection at various angles through the substrate 39 is possible.

このように本実施形態によれば、遮光部40の表面40aの一部を覆う光散乱層45を有しない従来構成において、液晶パネル6から光制御フィルム7側に射出された光のうち遮光部40に吸収されてしまっていた成分を、光散乱層45が透明基材39の外に取り出すことができる。よって、本実施形態に係る光制御フィルム7は、高い光の利用効率を得ることができる。   As described above, according to the present embodiment, in the conventional configuration that does not include the light scattering layer 45 that covers a part of the surface 40a of the light shielding part 40, the light shielding part among the light emitted from the liquid crystal panel 6 to the light control film 7 side. The component that has been absorbed by the light scattering layer 45 can be taken out of the transparent base material 39. Therefore, the light control film 7 according to the present embodiment can obtain high light use efficiency.

また、本実施形態に係る光制御フィルム7は、視認側から視た場合、光散乱層45の一部が遮光部40で覆われた状態となっているため、液晶表示装置1に入射した外光の一部を遮光部40で吸収することができる。よって、光散乱層45の光散乱体45aで視認側に散乱(後方散乱)する光を低減することが可能である。従って、この光制御フィルム7を備えた液晶表示装置1によれば、不要な反射光の強度を抑制することでコントラストを向上させ、明るい環境での視認性を改善することができる。   In addition, the light control film 7 according to the present embodiment is in a state where a part of the light scattering layer 45 is covered with the light-shielding portion 40 when viewed from the viewing side. A part of the light can be absorbed by the light shielding unit 40. Therefore, it is possible to reduce light scattered (backscattered) to the viewing side by the light scatterer 45a of the light scattering layer 45. Therefore, according to the liquid crystal display device 1 provided with the light control film 7, the contrast can be improved by suppressing the intensity of unnecessary reflected light, and the visibility in a bright environment can be improved.

また、本実施形態の光制御フィルム7は、該光制御フィルム7に対して斜めに入射した入射光L3(図4(c)参照)、すなわち液晶パネル6を斜めに透過することで所望のリタデーションと異なる光(表示のコントラストを低下させる要因となる光)を遮光部40でカットすることができる。よって、光制御フィルム7は、表示のコントラストを高めることができる。   The light control film 7 of the present embodiment transmits the incident light L3 (see FIG. 4C) obliquely incident on the light control film 7, that is, the desired retardation by transmitting the liquid crystal panel 6 obliquely. Different light (light that causes a reduction in display contrast) can be cut by the light shielding unit 40. Therefore, the light control film 7 can increase the display contrast.

従来の光制御フィルムにおいては、個々の光拡散部が孤立しており、例えば光の拡散の度合いを高めるために光拡散部の密度を高め、光拡散層を微細化すると、光拡散部と基材との接触面積が小さくなる。その結果、光拡散部と基材との密着力が弱くなり、外力等により光拡散部の剥離、転倒等の欠陥が生じ、所望の光拡散機能が果たせなくなっていた。   In conventional light control films, individual light diffusion portions are isolated. For example, when the density of the light diffusion portion is increased to increase the degree of light diffusion and the light diffusion layer is made finer, the light diffusion portion and the base are separated. The contact area with the material is reduced. As a result, the adhesion between the light diffusing part and the base material is weakened, and defects such as peeling and falling of the light diffusing part are caused by external force or the like, and the desired light diffusing function cannot be performed.

これに対して、本実施形態の光制御フィルム7においては、光拡散層41に設けられた複数の中空部43が孤立しており、光拡散部44となる光透過性材料層部分は面内で連続した形状となっている。これにより、光拡散部44と透明基材39との接触面積が十分に確保できるため、光拡散部44と透明基材39との密着力が強く、外力等による光拡散部44の欠陥が生じ難く、所望の光拡散機能を果たすことができる。   On the other hand, in the light control film 7 of the present embodiment, the plurality of hollow portions 43 provided in the light diffusion layer 41 are isolated, and the light transmissive material layer portion that becomes the light diffusion portion 44 is in-plane. It has a continuous shape. As a result, a sufficient contact area between the light diffusing portion 44 and the transparent base material 39 can be secured, so that the adhesion between the light diffusing portion 44 and the transparent base material 39 is strong, and defects of the light diffusing portion 44 due to external force or the like occur. It is difficult to perform a desired light diffusion function.

なお、透明基材39に遮光部40を設けなかったとすると、光制御フィルム7に視認側から入射する外光が中空部43等で反射を繰り返し、これが視認側に散乱光として観測されてしまう。このような外光による散乱は明所での視認性を著しく低下させる。これにより、黒表示時に黒色が白っぽく見える「黒浮き」が発生してコントラストが低下してしまい、好適な画像の観察を行うことができない。これに対し、本実施形態の光制御フィルム7では、透明基材39に複数の遮光部40を設けたことにより、これらの問題を解消することができる。   In addition, if the light-shielding part 40 is not provided in the transparent base material 39, the external light which injects into the light control film 7 from the visual recognition side will repeat reflection in the hollow part 43 etc., and this will be observed as a scattered light on the visual recognition side. Such scattering by external light significantly reduces the visibility in a bright place. As a result, “black floating” in which black appears whitish at the time of black display occurs, and the contrast is lowered, so that a suitable image cannot be observed. On the other hand, in the light control film 7 of this embodiment, these problems can be solved by providing the transparent substrate 39 with the plurality of light shielding portions 40.

(第1実施形態の第1変形例)
図6は、上記実施形態の液晶表示装置の第1変形例を示す模式図であり、斜め上方(視認側)から見た斜視図である。図7は第1変形例に係る光制御フィルムの構成を示す図であり、図7(a)は光制御フィルムの断面図であり、図7(b)は平面図である。
(First modification of the first embodiment)
FIG. 6 is a schematic view showing a first modification of the liquid crystal display device of the above-described embodiment, and is a perspective view seen obliquely from above (viewing side). 7A and 7B are diagrams showing the configuration of the light control film according to the first modification. FIG. 7A is a cross-sectional view of the light control film, and FIG. 7B is a plan view.

上記実施形態では、光散乱層45が遮光部40を覆った状態で透明基材39の全面に形成されていた。本変形例では、図6、7に示す光制御フィルム7のように、光散乱層45が遮光部40の非形成領域の一部を覆わないように透明基材39の一面(視認側と反対側の面)に配置されている。すなわち、本変形例では、光拡散層41の一部が透明基材39に当接した状態に形成された構成となっている。また、光散乱層45は、遮光部40を同心状に覆うように配置されている(図7(b)参照)。   In the above-described embodiment, the light scattering layer 45 is formed on the entire surface of the transparent base material 39 so as to cover the light shielding portion 40. In this modification, like the light control film 7 shown in FIGS. 6 and 7, the light scattering layer 45 is provided on one surface of the transparent substrate 39 (opposite to the viewing side) so as not to cover a part of the non-formation region of the light shielding portion 40. Side surface). In other words, in this modification, a part of the light diffusion layer 41 is formed in contact with the transparent base material 39. Further, the light scattering layer 45 is disposed so as to cover the light shielding portion 40 concentrically (see FIG. 7B).

この構成に係る光制御フィルム7においても、図7(a)に示すように遮光部40の透明基材39と略平行な領域(表面40a)の少なくとも一部を覆うように光散乱層45が設けられている。すなわち、光散乱層45が中空部43と遮光部40との間に設けられている。これにより、中空部43に入射した光の一部L10は、光散乱層45に入射して前方散乱されることで遮光部40が形成されていない領域に導かれるようになる。従って、光制御フィルム7は、従来は遮光部40に吸収されることで外部に取り出すことが出来なかった中空部43への入射光の一部L10を、透明基材39を介して様々な角度で射出させることができ、高い光利用効率を得ることができる。また、光制御フィルム7は、光拡散部44に入射した光の一部L11を光散乱層45内で散乱させて透明基材39を介して様々な角度で射出させることができる。   Also in the light control film 7 according to this configuration, as shown in FIG. 7A, the light scattering layer 45 is provided so as to cover at least a part of a region (surface 40 a) substantially parallel to the transparent base material 39 of the light shielding unit 40. Is provided. That is, the light scattering layer 45 is provided between the hollow portion 43 and the light shielding portion 40. Thereby, a part L10 of the light incident on the hollow portion 43 enters the light scattering layer 45 and is scattered forward, thereby being guided to a region where the light shielding portion 40 is not formed. Therefore, the light control film 7 can absorb a part L10 of the incident light to the hollow portion 43 that has been absorbed by the light shielding portion 40 and cannot be taken out to the outside through the transparent base material 39 at various angles. Can be emitted, and high light utilization efficiency can be obtained. In addition, the light control film 7 can scatter a part of the light L11 incident on the light diffusing portion 44 in the light scattering layer 45 and emit it through the transparent substrate 39 at various angles.

図8は第1変形例に係る光制御フィルム7の製造方法を示す図である。
最初に、上記実施形態と同様、透明基材39上に複数の遮光部40を形成する。遮光部40の形成方法としては、上記実施形態と同様、フォトマスクを用いることで露光、現像し、パターン形成する方法、グラビア印刷、インクジェット法によるパターン形成を行うことができる。
FIG. 8 is a diagram illustrating a method for manufacturing the light control film 7 according to the first modification.
First, as in the above embodiment, a plurality of light shielding portions 40 are formed on the transparent base material 39. As a method for forming the light shielding portion 40, similarly to the above embodiment, exposure, development, and pattern formation using a photomask, gravure printing, and pattern formation by an inkjet method can be performed.

次いで、複数の遮光部40を覆うように透明基材39の全面に例えばスピンコート法を用いて光散乱層45の形成材料である膜厚20μm程度の塗膜51を塗布する。塗膜51としては、ネガ型の感光性の樹脂材料を用いる。次いで、上記の塗膜51を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、塗膜51のプリベークを行い、塗膜51中の溶媒を揮発させる。   Next, a coating film 51 having a thickness of about 20 μm, which is a material for forming the light scattering layer 45, is applied to the entire surface of the transparent base material 39 by using, for example, a spin coating method so as to cover the plurality of light shielding portions 40. As the coating film 51, a negative photosensitive resin material is used. Next, the transparent substrate 39 on which the coating film 51 is formed is placed on a hot plate, the coating film 51 is pre-baked, and the solvent in the coating film 51 is volatilized.

続いて、露光装置を用い、図8(a)に示すように、光散乱層45の形成領域に対応した楕円形状の複数の開口パターン146が形成されたフォトマスク147を介して塗膜51に光Lを照射し、露光を行う。上記フォトマスク147を用いて露光を行った後、専用の現像液を用いてネガ型の感光性の樹脂材料からなる塗膜51の現像を行う。これにより、平面形状が例えば楕円形の複数の光散乱層45を透明基材39の一面に形成する。複数の光散乱層45は、複数の遮光部40の各々を覆った状態に透明基材39の一面に形成される。   Subsequently, using an exposure apparatus, as shown in FIG. 8A, the coating film 51 is applied to the coating film 51 through a photomask 147 in which a plurality of elliptical opening patterns 146 corresponding to the formation region of the light scattering layer 45 is formed. Light L is irradiated to perform exposure. After exposure using the photomask 147, the coating film 51 made of a negative photosensitive resin material is developed using a dedicated developer. As a result, a plurality of light scattering layers 45 whose planar shape is, for example, elliptical are formed on one surface of the transparent base material 39. The plurality of light scattering layers 45 are formed on one surface of the transparent substrate 39 so as to cover each of the plurality of light shielding portions 40.

なお、塗膜145としてポジ形の感光性の樹脂を用いても良い。この場合、開口パターン46と遮光パターンとを反転させたフォトマスク147を使用すればよい。   Note that a positive photosensitive resin may be used as the coating film 145. In this case, a photomask 147 in which the opening pattern 46 and the light shielding pattern are reversed may be used.

続いて、図8(b)に示すように、スピンコート法を用いて、光散乱層45の上面に光拡散部材料としてアクリル樹脂からなる透明ネガレジストを塗布し、膜厚25μmの塗膜48を形成する。そして、上記の塗膜48を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜148のプリベークを行う。これにより、透明ネガレジスト中の溶媒を揮発させる。   Subsequently, as shown in FIG. 8B, a transparent negative resist made of an acrylic resin is applied to the upper surface of the light scattering layer 45 by using a spin coating method, and a coating film 48 having a film thickness of 25 μm is applied. Form. And the transparent base material 39 in which said coating film 48 was formed is mounted on a hotplate, and the coating film 148 is prebaked at the temperature of 95 degreeC. Thereby, the solvent in the transparent negative resist is volatilized.

続いて、透明基材39側から遮光部40をマスクとして塗膜148に光Fを照射し、露光を行う。露光後、塗膜48の現像を行い、100℃でポストベークすることで、図8(c)に示すように、複数の中空部43を有する光拡散層41を透明基材39の一面に形成する。   Subsequently, light F is applied to the coating film 148 from the transparent base material 39 side using the light shielding portion 40 as a mask to perform exposure. After the exposure, the coating 48 is developed and post-baked at 100 ° C., thereby forming a light diffusion layer 41 having a plurality of hollow portions 43 on one surface of the transparent substrate 39 as shown in FIG. To do.

以上、図8(a)ないし(c)の工程を経て、本変形例の光制御フィルム7が完成する。最後に、完成した光制御フィルム7を、上記実施形態の図2に示したように、透明基材39を視認側に向け、光拡散部44を第2偏光板5に対向させた状態で、粘着層42を介して液晶パネル6に貼付する。以上の工程により、本変形例に係る液晶表示装置1が完成する。   As described above, the light control film 7 of the present modification is completed through the steps of FIGS. Finally, with the completed light control film 7 as shown in FIG. 2 of the above embodiment, with the transparent base material 39 facing the viewing side and the light diffusion portion 44 facing the second polarizing plate 5, Affixed to the liquid crystal panel 6 via the adhesive layer 42. Through the above steps, the liquid crystal display device 1 according to this modification is completed.

(第1実施形態の第2変形例)
図9は、上記実施形態の液晶表示装置の第2変形例を示す模式図であり、斜め上方(視認側)から見た斜視図である。図10は第1変形例に係る光制御フィルムの構成を示す図であり、図10(a)は光制御フィルムの断面図であり、図10(b)は平面図である。
(Second modification of the first embodiment)
FIG. 9 is a schematic view showing a second modification of the liquid crystal display device of the above-described embodiment, and is a perspective view seen obliquely from above (viewing side). FIG. 10 is a view showing a configuration of a light control film according to a first modification, FIG. 10 (a) is a cross-sectional view of the light control film, and FIG. 10 (b) is a plan view.

上記第1変形例では、光散乱層45が遮光部40を覆った状態で透明基材39上に形成されていた。本変形例では、図9、10に示す光制御フィルム7のように、光散乱層45が遮光部40を一部露出させるように覆った状態で透明基材39の一面(視認側と反対側の面)に配置されている。すなわち、本変形例では、平面視した状態(視認側から視た状態)において、遮光部40の一部が光散乱層45の形成領域からはみ出た態様となっている(図10(b)参照)。   In the first modified example, the light scattering layer 45 is formed on the transparent base material 39 so as to cover the light shielding portion 40. In this modification, as in the light control film 7 shown in FIGS. 9 and 10, the light scattering layer 45 covers one surface of the transparent base material 39 so as to partially expose the light shielding portion 40 (on the side opposite to the viewing side). On the surface). That is, in the present modification, in a state viewed from above (a state viewed from the viewing side), a part of the light shielding portion 40 protrudes from the formation region of the light scattering layer 45 (see FIG. 10B). ).

この構成に係る光制御フィルム7においても、図10(a)に示すように遮光部40の透明基材39と略平行な領域(表面40a)の少なくとも一部を覆うように光散乱層45が設けられている。すなわち、光散乱層45が中空部43と遮光部40との間に設けられている。これにより、中空部43に入射した光の一部L12は、光散乱層45に入射して前方散乱されることで遮光部40が形成されていない領域に導かれるようになる。従って、光制御フィルム7は、従来は遮光部40に吸収されることで外部に取り出すことが出来なかった中空部43への入射光の一部を、透明基材39を介して様々な角度で射出させることができ、高い光利用効率を得ることができる。また、光制御フィルム7は、光拡散部44に入射した光の一部L13を光散乱層45内で散乱させて透明基材39を介して様々な角度で射出させることができる。   Also in the light control film 7 according to this configuration, as shown in FIG. 10A, the light scattering layer 45 is provided so as to cover at least a part of a region (surface 40 a) substantially parallel to the transparent base material 39 of the light shielding unit 40. Is provided. That is, the light scattering layer 45 is provided between the hollow portion 43 and the light shielding portion 40. As a result, a part of the light L12 incident on the hollow portion 43 enters the light scattering layer 45 and is forward scattered to be guided to a region where the light shielding portion 40 is not formed. Therefore, the light control film 7 can absorb a part of incident light to the hollow portion 43 that has been absorbed by the light-shielding portion 40 and cannot be extracted outside at various angles through the transparent base material 39. The light can be emitted and high light utilization efficiency can be obtained. In addition, the light control film 7 can scatter a part L13 of the light incident on the light diffusing portion 44 in the light scattering layer 45 and emit it through the transparent base material 39 at various angles.

続いて、第2変形例に係る光制御フィルム7の製造方法について説明するが、本変形に係る光制御フィルム7の製造方法は、上述の変形例1に係る方法と基本的に同じであり、詳細については省略する。   Then, although the manufacturing method of the light control film 7 which concerns on a 2nd modification is demonstrated, the manufacturing method of the light control film 7 which concerns on this modification is fundamentally the same as the method which concerns on the above-mentioned modification 1, Details are omitted.

本変形例では、透明基材39上における光散乱層45の形成領域が上記第1変形例と異なっている。そのため、塗膜51を露光する際の上記フォトマスクとして、図9、10(b)に示した光散乱層45の形成領域に対応した楕円形状の複数の開口パターンが形成されたものを用いればよい。   In the present modification, the formation region of the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39 is different from that in the first modification. Therefore, if the photomask for exposing the coating 51 is formed with a plurality of elliptical opening patterns corresponding to the formation region of the light scattering layer 45 shown in FIGS. Good.

透明基材39上に光散乱層45をパターン形成した後、上記第1変形例と同様、塗膜48を形成する。そして、透明基材39側から遮光部40をマスクとして塗膜48に光Fを照射し、露光を行うことで本変形例に係る光制御フィルム7が製造される(図8(b)、(c)参照)。最後に、上述のように光制御フィルム7を粘着層42を介して液晶パネル6に貼付することで、本変形例に係る液晶表示装置1が完成する。   After patterning the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39, the coating film 48 is formed as in the first modification. And the light control film 7 which concerns on this modification is manufactured by irradiating the coating film 48 with the light F by making the light shielding part 40 into a mask from the transparent base material 39 side, and performing exposure (FIG.8 (b), ( c)). Finally, the light control film 7 is stuck to the liquid crystal panel 6 via the adhesive layer 42 as described above, whereby the liquid crystal display device 1 according to this modification is completed.

(第1実施形態の第3変形例)
図11は、上記実施形態の液晶表示装置の第3変形例を示す模式図であり、斜め上方(視認側)から見た斜視図である。図12は第3変形例に係る光制御フィルムによる光の反射を説明するための図である。
(Third Modification of First Embodiment)
FIG. 11 is a schematic view showing a third modification of the liquid crystal display device of the above embodiment, and is a perspective view seen obliquely from above (viewing side). FIG. 12 is a diagram for explaining light reflection by the light control film according to the third modification.

上記第1、第2変形例では、平面視した状態(視認側から視た状態)において、光散乱層45が透明基材39上における遮光部40の形成領域に重なる領域のみに形成されていた。本変形例では、図11、12に示す光制御フィルム7のように、透明基材39上における光散乱層45が遮光部40の形成領域と重ならない領域にも配置されている。具体的に、本変形例において、光散乱層45は、遮光部40の表面40aを覆う第1光散乱層45aと、透明基材39上における遮光部40の非形成領域に点在するように配置された第2光散乱層45bとを含む(図12(b)参照)。   In the first and second modified examples, the light scattering layer 45 is formed only in a region overlapping the formation region of the light shielding portion 40 on the transparent base material 39 in a state in plan view (viewed from the viewing side). . In this modification, the light scattering layer 45 on the transparent base material 39 is also disposed in a region that does not overlap with the formation region of the light shielding portion 40, as in the light control film 7 shown in FIGS. Specifically, in the present modification, the light scattering layer 45 is scattered in the first light scattering layer 45 a covering the surface 40 a of the light shielding unit 40 and the non-formation region of the light shielding unit 40 on the transparent base material 39. And a second light scattering layer 45b disposed (see FIG. 12B).

この構成に係る光制御フィルム7においても、図12(a)に示すように遮光部40の透明基材39と略平行な領域(表面40a)の少なくとも一部を覆うように光散乱層45(第1光散乱層45a)が設けられている。すなわち、光散乱層45が中空部43と遮光部40との間に設けられている。これにより、中空部43に入射した光の一部L14は、光散乱層45に入射して前方散乱されることで遮光部40が形成されていない領域に導かれる。従って、光制御フィルム7は、上記実施例及び変形例と同様、従来は外部に取り出すことが出来なかった中空部43への入射光の一部を透明基材39を介して様々な角度で射出させ、光利用効率を向上させることができる。
また、光制御フィルム7は、光散乱層45(第2光散乱層45b)が透明基材39上における遮光部40の非形成領域に点在して配置されているため、光拡散部44に入射した光の一部は第2光散乱層45bに入射し、散乱されて透明基材39を介して様々な角度で射出させることができる。また、光制御フィルム7は、光拡散部44に入射した光の一部L15を光散乱層45内で散乱させて透明基材39を介して様々な角度で射出させることができる。
Also in the light control film 7 according to this configuration, as shown in FIG. 12A, the light scattering layer 45 (so as to cover at least a part of a region (surface 40a) substantially parallel to the transparent substrate 39 of the light shielding portion 40). A first light scattering layer 45a) is provided. That is, the light scattering layer 45 is provided between the hollow portion 43 and the light shielding portion 40. Thereby, a part L14 of the light incident on the hollow portion 43 enters the light scattering layer 45 and is forward scattered to be guided to a region where the light shielding portion 40 is not formed. Therefore, the light control film 7 emits a part of the incident light to the hollow portion 43 that could not be taken out to the outside through the transparent base material 39 at various angles as in the above-described embodiments and modifications. Light utilization efficiency can be improved.
In the light control film 7, the light scattering layer 45 (second light scattering layer 45 b) is arranged in a scattered manner in the non-formation region of the light shielding portion 40 on the transparent base material 39. A part of the incident light enters the second light scattering layer 45 b and is scattered and can be emitted through the transparent substrate 39 at various angles. In addition, the light control film 7 can scatter a part of the light L15 incident on the light diffusing portion 44 in the light scattering layer 45 and emit it through the transparent base material 39 at various angles.

本変形例では、透明基材39上における光散乱層45の形成領域が上記第1、第2変形例と異なっている。そのため、塗膜51を露光する際の上記フォトマスクとして、図11、12(b)に示した光散乱層45の形成領域に対応した楕円形状の複数の開口パターン146が形成されたものを用いればよい。   In the present modification, the formation region of the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39 is different from the first and second modifications. Therefore, as the photomask for exposing the coating film 51, one having a plurality of elliptical opening patterns 146 corresponding to the formation region of the light scattering layer 45 shown in FIGS. 11 and 12B is used. That's fine.

透明基材39上に光散乱層45をパターン形成した後、上記第1、第2変形例と同様、塗膜48を形成する。そして、透明基材39側から遮光部40をマスクとして塗膜48に光Fを照射し、露光を行うことで本変形例に係る光制御フィルム7が製造される(図8(b)、(c)参照)。最後に、上述のように光制御フィルム7を粘着層42を介して液晶パネル6に貼付することで、本変形例に係る液晶表示装置1が完成する。   After patterning the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39, the coating film 48 is formed as in the first and second modifications. And the light control film 7 which concerns on this modification is manufactured by irradiating the coating film 48 with the light F by making the light shielding part 40 into a mask from the transparent base material 39 side, and performing exposure (FIG.8 (b), ( c)). Finally, the light control film 7 is stuck to the liquid crystal panel 6 via the adhesive layer 42 as described above, whereby the liquid crystal display device 1 according to this modification is completed.

(第1実施形態の第4変形例)
図13は、上記実施形態の液晶表示装置の第4変形例を示す模式図であり、斜め上方(視認側)から見た斜視図である。図14は第4変形例に係る光制御フィルムによる光の反射を説明するための図である。
(Fourth modification of the first embodiment)
FIG. 13 is a schematic view showing a fourth modification of the liquid crystal display device of the above-described embodiment, and is a perspective view seen obliquely from above (viewing side). FIG. 14 is a view for explaining light reflection by the light control film according to the fourth modification.

本変形例は、第2変形例と3変形例とを組み合わせた構成である。本変形例に係る光制御フィルム7は、図13、14に示すように、光散乱層45が遮光部40を一部露出させるように覆うとともに遮光部40の形成領域と重ならない領域に配置されている。具体的に、本変形例において、光散乱層45は、遮光部40の表面40aの一部を露出させた状態に覆う第1光散乱層45aと、透明基材39上における遮光部40の非形成領域に点在するように配置された第2光散乱層45bとを含む。   This modification is a combination of the second modification and the third modification. 13 and 14, the light control film 7 according to this modification is disposed in an area where the light scattering layer 45 covers the light shielding part 40 so as to partially expose the light shielding part 40 and does not overlap with the formation area of the light shielding part 40. ing. Specifically, in this modification, the light scattering layer 45 includes a first light scattering layer 45 a that covers a part of the surface 40 a of the light shielding unit 40 exposed, and a non-light shielding unit 40 on the transparent substrate 39. And second light scattering layers 45b arranged to be scattered in the formation region.

この構成に係る光制御フィルム7においても、図14(a)に示すように遮光部40の透明基材39と略平行な領域(表面40a)の少なくとも一部を覆うように光散乱層45(第1光散乱層45a)が設けられている。すなわち、光散乱層45が中空部43と遮光部40との間に設けられている。これにより、中空部43に入射した光の一部は、光散乱層45に入射して前方散乱されることで遮光部40が形成されていない領域に導かれる。
従って、光制御フィルム7は、上記実施例及び変形例と同様、光利用効率を向上させることができる。
また、光制御フィルム7は、光散乱層45(第2光散乱層45b)が透明基材39上における遮光部40の非形成領域に点在して配置されているため、第3変形例と同様に、光拡散部44に入射した光の一部が第2光散乱層45b内で散乱されて透明基材39を介して様々な角度で射出させることができる。
Also in the light control film 7 according to this configuration, as shown in FIG. 14A, the light scattering layer 45 (so as to cover at least a part of a region (surface 40a) substantially parallel to the transparent base material 39 of the light shielding unit 40). A first light scattering layer 45a) is provided. That is, the light scattering layer 45 is provided between the hollow portion 43 and the light shielding portion 40. Thereby, a part of the light incident on the hollow portion 43 enters the light scattering layer 45 and is forward scattered, thereby being guided to a region where the light shielding portion 40 is not formed.
Therefore, the light control film 7 can improve the light use efficiency as in the above-described embodiments and modifications.
Further, since the light control film 7 is arranged such that the light scattering layer 45 (second light scattering layer 45 b) is scattered in the non-formation region of the light shielding part 40 on the transparent base material 39, Similarly, part of the light incident on the light diffusion portion 44 is scattered in the second light scattering layer 45 b and can be emitted through the transparent substrate 39 at various angles.

本変形例では、透明基材39上における光散乱層45の形成領域が上記第1〜第3変形例と異なっている。そのため、塗膜51を露光する際の上記フォトマスク147として、図13、14(b)に示した光散乱層45の形成領域に対応した楕円形状の複数の開口パターン146が形成されたものを用いればよい。   In the present modification, the formation region of the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39 is different from those in the first to third modifications. Therefore, as the photomask 147 when the coating film 51 is exposed, a photomask having a plurality of elliptical opening patterns 146 corresponding to the formation region of the light scattering layer 45 shown in FIGS. Use it.

透明基材39上に光散乱層45をパターン形成した後、上記第1〜第3変形例と同様、塗膜48を形成する。そして、透明基材39側から遮光部40をマスクとして塗膜48に光Fを照射し、露光を行うことで本変形例に係る光制御フィルム7が製造される(図8(b)、(c)参照)。最後に、上述のように光制御フィルム7を粘着層42を介して液晶パネル6に貼付することで、本変形例に係る液晶表示装置1が完成する。   After patterning the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39, the coating film 48 is formed as in the first to third modifications. And the light control film 7 which concerns on this modification is manufactured by irradiating the coating film 48 with the light F by making the light shielding part 40 into a mask from the transparent base material 39 side, and performing exposure (FIG.8 (b), ( c)). Finally, the light control film 7 is stuck to the liquid crystal panel 6 via the adhesive layer 42 as described above, whereby the liquid crystal display device 1 according to this modification is completed.

なお、上記第1実施形態においては、光制御フィルム7の各遮光部40の楕円形状の大きさがそれぞれ異なっていたが、各遮光部40の楕円形状の大きさを一致させるようにしてもよい。また、上記実施形態においては、光制御フィルム7の各遮光部40の形状を楕円状としたが、遮光部40の形状は円形、多角形であってもよい。また、上記実施形態において、各遮光部40の平面形状をそれぞれ異ならせ、等方的な円形状及び種々の異方性の方位(楕円、多角形等)を持つ異なる複数種類のサイズ、形状のものを混在させるようにしてもよい。   In addition, in the said 1st Embodiment, although the magnitude | size of the elliptical shape of each light shielding part 40 of the light control film 7 was respectively different, you may make it make the elliptical size of each light shielding part 40 correspond. . Moreover, in the said embodiment, although the shape of each light shielding part 40 of the light control film 7 was made into elliptical shape, the shape of the light shielding part 40 may be circular and a polygon. Moreover, in the said embodiment, the planar shape of each light-shielding part 40 is varied, respectively, and different types of sizes and shapes having isotropic circular shapes and various anisotropic orientations (ellipses, polygons, etc.). You may make it mix things.

(第2実施形態)
以下、第2実施形態に係る液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置の基本構成は第1実施形態と同一であり、光制御フィルムの光拡散層及び遮光部の構成が第1実施形態と異なる。したがって、本実施形態では、液晶表示装置の基本構成の説明は省略し、光制御フィルムについてのみ説明する。
図15は、本実施形態の液晶表示装置を斜め下方(視認側と反対側)から見た斜視図である。図16は、本実施形態の液晶表示装置の断面構成を示す図である。また、図15、16及び以下の説明で用いる図において、第1実施形態で用いた図面と共通の構成要素には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
(Second Embodiment)
The liquid crystal display device according to the second embodiment will be described below.
The basic configuration of the liquid crystal display device of this embodiment is the same as that of the first embodiment, and the configurations of the light diffusion layer and the light shielding portion of the light control film are different from those of the first embodiment. Therefore, in this embodiment, description of the basic composition of a liquid crystal display device is abbreviate | omitted, and only a light control film is demonstrated.
FIG. 15 is a perspective view of the liquid crystal display device of the present embodiment as viewed obliquely from the lower side (opposite to the viewing side). FIG. 16 is a diagram showing a cross-sectional configuration of the liquid crystal display device of the present embodiment. Further, in FIGS. 15 and 16 and the drawings used in the following description, the same reference numerals are given to the same components as those used in the first embodiment, and detailed description thereof will be omitted.

第1実施形態では、透明基材39の一面に形成された複数の遮光部40と、透明基材39の一面において遮光部40の形成領域以外の領域に形成された光拡散層41(光拡散部44)と、を備え、複数の遮光部40が透明基材39の一面の法線方向から見て点在して配置され、光拡散層41が遮光部40の形成領域以外の領域に連続して形成されていた。   In the first embodiment, a plurality of light shielding portions 40 formed on one surface of the transparent base material 39 and a light diffusion layer 41 (light diffusion layer) formed in a region other than the region where the light shielding portion 40 is formed on one surface of the transparent base material 39. A plurality of light-shielding portions 40 are arranged in a dotted manner when viewed from the normal direction of one surface of the transparent base material 39, and the light diffusion layer 41 is continuous with a region other than the region where the light-shielding portions 40 are formed. Was formed.

これに対して、本実施形態の光制御フィルム107は、透明基材39の一面に形成された複数の光拡散部144と、透明基材39の一面において光拡散部144の形成領域以外の領域に形成された遮光部140と、を備えている。複数の光拡散部144は、透明基材39の一面の法線方向から見て点在して配置されている。遮光部140は、光拡散部144の形成領域以外の領域に連続して形成されている。複数の光拡散部144は、透明基材39の主面の法線方向から見てランダムに(非周期的に)配置されている。したがって、隣接する光拡散部144間のピッチは一定ではないが、隣接する光拡散部144間のピッチを平均した平均ピッチは25μmに設定されている。   On the other hand, the light control film 107 of the present embodiment includes a plurality of light diffusion portions 144 formed on one surface of the transparent base material 39, and a region other than the formation region of the light diffusion portions 144 on one surface of the transparent base material 39. And a light-shielding portion 140 formed on the surface. The plurality of light diffusion portions 144 are arranged in a scattered manner when viewed from the normal direction of one surface of the transparent substrate 39. The light shielding unit 140 is continuously formed in a region other than the region where the light diffusion unit 144 is formed. The plurality of light diffusion portions 144 are arranged randomly (non-periodically) when viewed from the normal direction of the main surface of the transparent substrate 39. Therefore, although the pitch between the adjacent light diffusion portions 144 is not constant, the average pitch obtained by averaging the pitches between the adjacent light diffusion portions 144 is set to 25 μm.

遮光部140の平均間隔は液晶パネル6の画素の間隔(ピッチ)よりも小さいことが望ましい。これにより、画素内に少なくとも1つの光拡散部144が形成されるので、例えばモバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときに広視野角化を図ることができる。   It is desirable that the average interval of the light shielding portions 140 is smaller than the interval (pitch) of the pixels of the liquid crystal panel 6. Thereby, since at least one light diffusing portion 144 is formed in the pixel, a wide viewing angle can be achieved when combined with, for example, a liquid crystal panel having a small pixel pitch used for a mobile device or the like.

図15に示すように、遮光部140には、透明基材39上にランダムに(非周期的に)複数の開口140aが形成されている。本実施形態において、光散乱層45は、遮光部140を覆うように透明基材39の全面に形成されている。   As shown in FIG. 15, a plurality of openings 140 a are formed randomly (non-periodically) on the transparent base material 39 in the light shielding portion 140. In the present embodiment, the light scattering layer 45 is formed on the entire surface of the transparent substrate 39 so as to cover the light shielding portion 140.

本実施形態において、複数の光拡散部144は、遮光部140の開口140aの形成位置に対応して設けられている。光拡散部144は、透明基材39の一面に平行な平面で切断したときの断面積(楕円形状)が遮光部140側で大きく、遮光部140から離れるにつれて漸次小さくなる楕円錐体形状を有している。   In the present embodiment, the plurality of light diffusion portions 144 are provided corresponding to the positions where the openings 140a of the light shielding portion 140 are formed. The light diffusing unit 144 has an elliptical cone shape in which a cross-sectional area (elliptical shape) when cut along a plane parallel to one surface of the transparent base material 39 is large on the light shielding unit 140 side and gradually decreases as the distance from the light shielding unit 140 increases. doing.

図16に示すように、光拡散部144の2つの対向面のうち、面積の小さい方の面(光散乱層45に接する側の面)が光出射端面144aとなり、面積の大きい方の面(透明基材39と反対側の面)が光入射端面144bとなる。
なお、本実施形態において、光散乱層45は遮光部140の全体を覆った状態で遮光部140と光拡散部144との間に形成されているが、光散乱層45は後述のように少なくとも遮光部140の透明基材39と略平行な領域(表面140b)の少なくとも一部を覆うように形成されていればよい。
As shown in FIG. 16, of the two opposing surfaces of the light diffusion portion 144, the surface with the smaller area (the surface on the side in contact with the light scattering layer 45) becomes the light emission end surface 144a, and the surface with the larger area ( The surface opposite to the transparent substrate 39) is the light incident end surface 144b.
In the present embodiment, the light scattering layer 45 is formed between the light shielding unit 140 and the light diffusion unit 144 in a state of covering the entire light shielding unit 140, but the light scattering layer 45 is at least as described later. What is necessary is just to be formed so that at least one part of the area | region (surface 140b) substantially parallel to the transparent base material 39 of the light-shielding part 140 may be covered.

本実施形態の場合、隣接する光拡散部144間には空気が介在しているため、光拡散部44を例えばアクリル樹脂で形成したとすると、光拡散部144の側面144cはアクリル樹脂と空気との界面となる。   In the case of the present embodiment, since air is interposed between the adjacent light diffusion portions 144, if the light diffusion portion 44 is formed of, for example, acrylic resin, the side surface 144c of the light diffusion portion 144 is formed of acrylic resin and air. It becomes the interface.

したがって、スネルの法則より、光拡散部144の側面144cで光が全反射する入射角範囲が広い。その結果、光の損失がより抑えられ、高い輝度を得ることができる。
なお、本実施形態において、光を全反射可能にするため、光拡散部144の周囲を低屈折率状態としても良く、空気に代えて、窒素等の不活性ガスが充填されている状態としても良い。もしくは、光拡散部144間が真空状態や大気よりも減圧状態であっても良い。
Therefore, according to Snell's law, the incident angle range in which the light is totally reflected by the side surface 144c of the light diffusion portion 144 is wide. As a result, light loss is further suppressed, and high luminance can be obtained.
In this embodiment, in order to allow total reflection of light, the periphery of the light diffusing unit 144 may be in a low refractive index state, or may be in a state filled with an inert gas such as nitrogen instead of air. good. Alternatively, the space between the light diffusing portions 144 may be in a vacuum state or in a reduced pressure state rather than the atmosphere.

本実施形態において、複数の光拡散部144間において、各光拡散部144の側面144cがなすテーパ形状の角度を互いに異ならせるようにしても良いし、互いに同一となるようにしても良い。   In the present embodiment, the taper-shaped angles formed by the side surfaces 144c of the light diffusing portions 144 may be made different between the plurality of light diffusing portions 144, or may be the same.

次に、本実施形態の光制御フィルム107の製造方法について説明する。
図17は本実施形態の光制御フィルム107の製造方法を説明するための図である。
最初に、図17(a)に示すように、10cm角で厚さが100μmのトリアセチルセルロースの透明基材39を準備し、スピンコート法を用いて、この透明基材39の一面に遮光部材料としてカーボンが含有されたブラックネガレジストを塗布し、膜厚150nmの塗膜50を形成する。
続いて、上記の塗膜50を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度90℃で塗膜50のプリベークを行う。これにより、ブラックネガレジスト中の溶媒が揮発する。
Next, the manufacturing method of the light control film 107 of this embodiment is demonstrated.
FIG. 17 is a view for explaining a method of manufacturing the light control film 107 of this embodiment.
First, as shown in FIG. 17A, a 10-cm square triacetylcellulose transparent substrate 39 having a thickness of 100 μm is prepared, and a light-shielding portion is formed on one surface of the transparent substrate 39 using a spin coating method. A black negative resist containing carbon as a material is applied to form a coating film 50 having a thickness of 150 nm.
Subsequently, the transparent substrate 39 on which the coating film 50 is formed is placed on a hot plate, and the coating film 50 is pre-baked at a temperature of 90 ° C. Thereby, the solvent in the black negative resist is volatilized.

続いて、露光装置を用い、図17(b)に示すように、複数の遮光パターン111が設けられたフォトマスク110を介して塗膜50に光Eを照射し、露光を行う。このとき、波長365nmのi線、波長404nmのh線、波長436nmのg線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は100mJ/cmとする。本実施形態の場合、次工程で遮光部140をマスクとして透明ネガレジストの露光を行い、光拡散部144を形成するため、フォトマスク110の遮光パターン111の位置が光拡散部144の形成位置に対応する。複数の遮光パターン111は全て楕円形パターンであり、ランダムに配置されている。そのため、隣接する遮光パターン111間の間隔(ピッチ)は一定でないが、複数の遮光パターン111間の間隔を平均した平均間隔は25μmである。 Subsequently, using an exposure apparatus, as shown in FIG. 17B, the coating film 50 is irradiated with light E through a photomask 110 provided with a plurality of light shielding patterns 111 to perform exposure. At this time, an exposure apparatus using a mixed line of i-line having a wavelength of 365 nm, h-line having a wavelength of 404 nm, and g-line having a wavelength of 436 nm is used. The exposure dose is 100 mJ / cm 2 . In the case of this embodiment, in the next step, the transparent negative resist is exposed using the light shielding portion 140 as a mask to form the light diffusing portion 144. Correspond. The plurality of light shielding patterns 111 are all elliptical patterns and are randomly arranged. Therefore, although the interval (pitch) between the adjacent light shielding patterns 111 is not constant, the average interval obtained by averaging the intervals between the plurality of light shielding patterns 111 is 25 μm.

遮光パターン111の平均間隔は液晶パネル6の画素の間隔(ピッチ)よりも小さいことが望ましい。これにより、画素内に少なくとも1つの光拡散部144が形成されるので、例えばモバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときに広視野角化を図ることができる。   The average interval between the light shielding patterns 111 is preferably smaller than the interval (pitch) of the pixels of the liquid crystal panel 6. Thereby, since at least one light diffusing portion 144 is formed in the pixel, a wide viewing angle can be achieved when combined with, for example, a liquid crystal panel having a small pixel pitch used for a mobile device or the like.

上記のフォトマスク110を用いて露光を行った後、専用の現像液を用いてブラックネガレジストからなる塗膜50の現像を行い、100℃で乾燥し、図17(c)に示すように、複数の楕円形の開口140aを有する遮光部140を透明基材39の一面に形成する。開口140aは次工程の光拡散部144の形成領域に対応する。   After exposure using the photomask 110 described above, the coating film 50 made of a black negative resist is developed using a dedicated developer, dried at 100 ° C., as shown in FIG. A light shielding portion 140 having a plurality of elliptical openings 140 a is formed on one surface of the transparent substrate 39. The opening 140a corresponds to the formation region of the light diffusion portion 144 in the next process.

なお、遮光部140を形成する方法は、上述の露光装置を用いる方法の他、グラビア印刷法、インクジェット法を採用してもよく、これによれば所望の形状の遮光部140を直接パターン形成することができる。   In addition to the method using the exposure apparatus described above, a gravure printing method or an ink jet method may be adopted as a method for forming the light shielding portion 140. According to this, the light shielding portion 140 having a desired shape is directly formed in a pattern. be able to.

続いて、図17(d)に示すように、遮光部140を覆うように透明基材39の全面にスピンコート法を用いて、光散乱層45の形成材料(例えば熱硬化性を有するアクリル樹脂等のバインダー樹脂中に光散乱体45aが分散されてなるもの)である膜厚20μm程度の塗膜51を塗布する。次いで、上記の塗膜51を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜48のプリベークを行う。これにより、塗膜51中の溶媒が揮発し、光散乱層45が形成される。なお、塗膜48として紫外線硬化型の材料を用い、該塗膜51に対して紫外線を照射することで硬化させるようにしてもよい。   Subsequently, as shown in FIG. 17D, a material for forming the light scattering layer 45 (for example, an acrylic resin having thermosetting properties) is applied to the entire surface of the transparent base material 39 so as to cover the light shielding portion 140. The coating film 51 having a thickness of about 20 μm, which is obtained by dispersing the light scatterer 45a in a binder resin such as the above, is applied. Next, the transparent base material 39 on which the coating film 51 is formed is placed on a hot plate, and the coating film 48 is pre-baked at a temperature of 95 ° C. Thereby, the solvent in the coating film 51 is volatilized and the light scattering layer 45 is formed. Note that an ultraviolet curable material may be used as the coating film 48 and the coating film 51 may be cured by irradiating with ultraviolet rays.

続いて、図17(e)に示すように、スピンコート法を用いて、光散乱層45の上面に光拡散部材料としてアクリル樹脂からなる透明ネガレジストを塗布し、膜厚25μmの塗膜48を形成する。そして、上記の塗膜48を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜48のプリベークを行う。これにより、透明ネガレジスト中の溶媒が揮発する。   Subsequently, as shown in FIG. 17E, a transparent negative resist made of an acrylic resin is applied to the upper surface of the light scattering layer 45 as a light diffusing portion material by using a spin coating method, and a coating film 48 having a film thickness of 25 μm. Form. And the transparent base material 39 in which said coating film 48 was formed is mounted on a hotplate, and the coating film 48 is prebaked at the temperature of 95 degreeC. Thereby, the solvent in the transparent negative resist is volatilized.

続いて、透明基材39側から遮光部140をマスクとして塗膜48に光Fを照射し、露光を行う。このとき、波長365nmのi線、波長404nmのh線、波長436nmのg線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は500mJ/cmとする。
その後、上記の塗膜48を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜148のポストエクスポージャーベイク(PEB)を行う。露光工程では、平行光または拡散光を用いる。拡散光で露光を行うことにより、塗膜48は、遮光部140の非形成領域(開口140a)から外側に広がるように放射状に露光される。なお、遮光部140を覆う光散乱層45は光透過性を有するため、開口140aを介した拡散光により、光拡散部144の逆テーパ状の側面144cが形成される。
その後、上記の塗膜148を形成した透明基材39をホットプレート上に載置し、温度95℃で塗膜48のポストエクスポージャーベイク(PEB)を行う。
Subsequently, the coating film 48 is irradiated with light F from the transparent base material 39 side using the light shielding portion 140 as a mask to perform exposure. At this time, an exposure apparatus using a mixed line of i-line having a wavelength of 365 nm, h-line having a wavelength of 404 nm, and g-line having a wavelength of 436 nm is used. The exposure amount is 500 mJ / cm 2 .
Thereafter, the transparent base material 39 on which the coating film 48 is formed is placed on a hot plate, and post-exposure baking (PEB) of the coating film 148 is performed at a temperature of 95 ° C. In the exposure process, parallel light or diffused light is used. By performing exposure with diffused light, the coating film 48 is exposed radially so as to spread outward from the non-formation region (opening 140a) of the light shielding portion 140. Since the light scattering layer 45 covering the light shielding portion 140 has light transmittance, an inversely tapered side surface 144c of the light diffusing portion 144 is formed by the diffused light through the opening 140a.
Thereafter, the transparent base material 39 on which the coating film 148 is formed is placed on a hot plate, and post-exposure baking (PEB) of the coating film 48 is performed at a temperature of 95 ° C.

続いて、専用の現像液を用いて透明ネガレジストからなる塗膜148の現像を行い、100℃でポストベークし、図17(f)に示すように、複数の光拡散部144を透明基材39の一面に形成する。   Subsequently, the coating film 148 made of a transparent negative resist is developed using a dedicated developer, post-baked at 100 ° C., and as shown in FIG. 39 on one side.

最後に、完成した光制御フィルム7を、透明基材39を視認側に向け、光拡散部144を第2偏光板5に対向させた状態で、粘着層42を介して液晶パネル6に貼付する。
以上の工程により、本実施形態の液晶表示装置101が完成する。
Finally, the completed light control film 7 is attached to the liquid crystal panel 6 via the adhesive layer 42 with the transparent base material 39 facing the viewing side and the light diffusion portion 144 facing the second polarizing plate 5. .
The liquid crystal display device 101 of this embodiment is completed through the above steps.

本実施形態の液晶表示装置101においても、図16に示したように光制御フィルム107が光拡散層41と遮光部140との間に光散乱層45を備えるので、複数の光拡散部144間に入射した光を光散乱層45の光散乱体45aによって前方散乱させることができる。これにより、光拡散部144間に入射した光の一部は、遮光部140が形成されていない領域に導かれることで遮光部140に吸収されることなく透明基材39を介して様々な角度で射出することができる。   Also in the liquid crystal display device 101 of the present embodiment, the light control film 107 includes the light scattering layer 45 between the light diffusion layer 41 and the light shielding unit 140 as shown in FIG. Can be scattered forward by the light scatterer 45 a of the light scattering layer 45. As a result, a part of the light incident between the light diffusion portions 144 is guided to the region where the light shielding portion 140 is not formed, and is not absorbed by the light shielding portion 140 through various angles through the transparent base material 39. Can be injected with.

本実施形態においても、遮光部140の少なくとも表面140bを覆う光散乱層45を有しない従来構成において、液晶パネル6から光制御フィルム7側に射出された光のうち遮光部140に吸収されてしまっていた成分を、光散乱層45が透明基材39の外に取り出すことができる。よって、本実施形態においても、高い光の利用効率を得ることができる。   Also in this embodiment, in the conventional configuration that does not include the light scattering layer 45 that covers at least the surface 140b of the light shielding unit 140, the light emitted from the liquid crystal panel 6 to the light control film 7 side is absorbed by the light shielding unit 140. The light scattering layer 45 can take out the components from the transparent substrate 39. Therefore, high light utilization efficiency can also be obtained in this embodiment.

(第2実施形態の第1変形例)
図18は、第2実施形態の液晶表示装置の第1変形例を示す模式図であり、斜め下方(視認側と反対側)から見た斜視図である。図19は、本変形例の液晶表示装置の断面構成を示す図である。
上記第2実施形態では、光散乱層45が遮光部140を覆った状態で透明基材39の全面に形成されていた。本変形例では、図18に示す光制御フィルム7のように、光散乱層45が遮光部140の非形成領域の一部を覆わないように透明基材39の一面(視認側と反対側の面)に配置されている。すなわち、本変形例では、光拡散層41の一部が透明基材39に当接した状態に形成された構成となっている(図19参照)。
(First Modification of Second Embodiment)
FIG. 18 is a schematic view showing a first modification of the liquid crystal display device of the second embodiment, and is a perspective view seen obliquely from below (the side opposite to the viewing side). FIG. 19 is a diagram showing a cross-sectional configuration of a liquid crystal display device according to this modification.
In the said 2nd Embodiment, the light-scattering layer 45 was formed in the whole surface of the transparent base material 39 in the state which covered the light shielding part 140. FIG. In the present modification, as in the light control film 7 shown in FIG. 18, the light scattering layer 45 is provided on one surface of the transparent substrate 39 (on the side opposite to the viewing side) so as not to cover a part of the non-formation region of the light shielding portion 140. Surface). That is, in this modification, it has the structure formed in the state which a part of light-diffusion layer 41 contact | abutted to the transparent base material 39 (refer FIG. 19).

この構成に係る光制御フィルム7においても、図18、19に示すように遮光部140の透明基材39と略平行な領域(表面40a)の少なくとも一部を覆うように光散乱層45が設けられている。これにより、光拡散部144間に入射した光の一部は、光散乱層45に入射して前方散乱されることで遮光部140が形成されていない開口140aに導かれるようになる。従って、光制御フィルム7は、従来、外部に取り出すことが出来なかった光拡散部144間に入射した光の一部を、透明基材39を介して様々な角度で射出させることができ、高い光利用効率を得ることができる。   Also in the light control film 7 according to this configuration, as shown in FIGS. 18 and 19, the light scattering layer 45 is provided so as to cover at least a part of a region (surface 40 a) substantially parallel to the transparent base material 39 of the light shielding unit 140. It has been. As a result, a part of the light incident between the light diffusion portions 144 enters the light scattering layer 45 and is forward scattered to be guided to the opening 140a where the light shielding portion 140 is not formed. Therefore, the light control film 7 can emit a part of the light incident between the light diffusion portions 144 that could not be taken out to the outside at various angles through the transparent base material 39, and is high. Light utilization efficiency can be obtained.

続いて、第1変形例に係る光制御フィルム7の製造方法について説明する。本変形に係る光制御フィルム7の製造方法は、上述の第2実施形態に係る方法と基本的に同じであり、詳細については省略する。   Then, the manufacturing method of the light control film 7 which concerns on a 1st modification is demonstrated. The manufacturing method of the light control film 7 according to this modification is basically the same as the method according to the second embodiment described above, and the details are omitted.

本変形例では、透明基材39上における光散乱層45の形成領域が上記実施形態と異なっている。そのため、塗膜145を露光する際のマスクとして、図17に示したフォトマスク110において光散乱層45の形成領域に対応した楕円形状の複数の遮光パターン111を形成したものを用いればよい。   In this modification, the formation region of the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39 is different from that in the above embodiment. Therefore, a mask in which a plurality of elliptical light shielding patterns 111 corresponding to the formation region of the light scattering layer 45 is formed in the photomask 110 shown in FIG.

透明基材39上に光散乱層45をパターン形成した後、上記第2実施形態と同様、塗膜48を形成する(図17(e)参照)。そして、透明基材39側から遮光部40をマスクとして塗膜48に光Fを照射し、露光を行うことで本変形例に係る光制御フィルム7が製造される。最後に、上述のように光制御フィルム7を粘着層42を介して液晶パネル6に貼付することで、本変形例に係る液晶表示装置1が完成する。   After patterning the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39, the coating film 48 is formed as in the second embodiment (see FIG. 17E). And the light control film 7 which concerns on this modification is manufactured by irradiating the coating film 48 with the light F from the transparent base material 39 side as a mask, and performing exposure. Finally, the light control film 7 is stuck to the liquid crystal panel 6 via the adhesive layer 42 as described above, whereby the liquid crystal display device 1 according to this modification is completed.

(第2実施形態の第2変形例)
図20は、第2実施形態の液晶表示装置の第2変形例を示す模式図であり、斜め上方(視認側)から見た斜視図である。図21は、本変形例の液晶表示装置の断面構成を示す図である。
上記第1変形例では、光散乱層45が遮光部140を覆った状態で透明基材39上に形成されていた。本変形例では、図20に示す光制御フィルム7のように、光散乱層45が遮光部140を一部露出させるように覆った状態で透明基材39の一面(視認側と反対側の面)に配置されている。すなわち、本変形例では、平面視した状態(視認側から視た状態)において、遮光部140の一部が光散乱層45の形成領域からはみ出た態様となっている(図21参照)。
(Second Modification of Second Embodiment)
FIG. 20 is a schematic view showing a second modification of the liquid crystal display device of the second embodiment, and is a perspective view seen from obliquely above (viewing side). FIG. 21 is a diagram showing a cross-sectional configuration of the liquid crystal display device of the present modification.
In the first modified example, the light scattering layer 45 is formed on the transparent base material 39 so as to cover the light shielding portion 140. In this modification, like the light control film 7 shown in FIG. 20, the light scattering layer 45 covers one surface of the transparent substrate 39 (the surface on the side opposite to the viewing side) in a state of covering the light shielding portion 140 in a partly exposed manner. ). That is, in the present modification, a part of the light shielding portion 140 protrudes from the region where the light scattering layer 45 is formed in a plan view (viewed from the viewing side) (see FIG. 21).

この構成に係る光制御フィルム7においても、図20、21に示すように遮光部140の透明基材39と略平行な領域(表面140b)の少なくとも一部を覆うように光散乱層45が設けられている。これにより、光拡散部144間に入射した光の一部は、光散乱層45に入射して前方散乱されることで遮光部140が形成されていない開口140aに導かれるようになる。従って、光制御フィルム7は、従来、外部に取り出すことが出来なかった光拡散部144間に入射した光の一部を、透明基材39を介して様々な角度で射出させることができ、高い光利用効率を得ることができる。   Also in the light control film 7 according to this configuration, as shown in FIGS. 20 and 21, the light scattering layer 45 is provided so as to cover at least a part of a region (surface 140 b) substantially parallel to the transparent base material 39 of the light shielding unit 140. It has been. As a result, a part of the light incident between the light diffusion portions 144 enters the light scattering layer 45 and is forward scattered to be guided to the opening 140a where the light shielding portion 140 is not formed. Therefore, the light control film 7 can emit a part of the light incident between the light diffusion portions 144 that could not be taken out to the outside at various angles through the transparent base material 39, and is high. Light utilization efficiency can be obtained.

続いて、第2変形例に係る光制御フィルム7の製造方法について説明する。本変形に係る光制御フィルム7の製造方法は、上述の変形例1に係る方法と基本的に同じであり、詳細については省略する。   Then, the manufacturing method of the light control film 7 which concerns on a 2nd modification is demonstrated. The manufacturing method of the light control film 7 according to this modification is basically the same as the method according to the above-described modification 1, and the details are omitted.

本変形例では、透明基材39上における光散乱層45の形成領域が上記第1変形例と異なっている。そのため、塗膜145を露光する際、図17に示したフォトマスク110において光散乱層45の形成領域に対応した楕円形状の複数の遮光パターン111を形成したものを用いればよい。   In the present modification, the formation region of the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39 is different from that in the first modification. Therefore, when the coating film 145 is exposed, the photomask 110 shown in FIG. 17 may be used in which a plurality of elliptical light shielding patterns 111 corresponding to the formation region of the light scattering layer 45 are formed.

透明基材39上に光散乱層45をパターン形成した後、上記第1変形例と同様、塗膜48を形成する。そして、透明基材39側から遮光部40をマスクとして塗膜48に光Fを照射し、露光を行うことで本変形例に係る光制御フィルム7が製造される。最後に、上述のように光制御フィルム7を粘着層42を介して液晶パネル6に貼付することで、本変形例に係る液晶表示装置1が完成する。   After patterning the light scattering layer 45 on the transparent substrate 39, the coating film 48 is formed as in the first modification. And the light control film 7 which concerns on this modification is manufactured by irradiating the coating film 48 with the light F from the transparent base material 39 side as a mask, and performing exposure. Finally, the light control film 7 is stuck to the liquid crystal panel 6 via the adhesive layer 42 as described above, whereby the liquid crystal display device 1 according to this modification is completed.

本発明は、上記実施形態の内容に限定されることはなく、発明の主旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
例えば、第1、第2実施形態では、光拡散部44、144の側面44c、144cの傾斜角度を一定としたが、光拡散部44、144の側面44c、144cの傾斜角度を場所によって異ならせても良い。例えば図22(a)、(b)に示す光制御フィルム70,71において、光拡散部44、144の側面44c、144cが、傾斜角度が連続的に変化する形状であっても良い。図22(a)に示す光制御フィルム70は、側面44c、144cが外側に湾曲し、第1実施形態における中空部43が凹となる形状である。図22(b)に示す光制御フィルム71は、側面44c、144cが内側に湾曲し、第1実施形態における中空部43が凸となる形状である。これらの構成により、光拡散性を高めることができる。
The present invention is not limited to the contents of the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist of the invention.
For example, in the first and second embodiments, the inclination angles of the side surfaces 44c and 144c of the light diffusion portions 44 and 144 are constant. However, the inclination angles of the side surfaces 44c and 144c of the light diffusion portions 44 and 144 are different depending on the location. May be. For example, in the light control films 70 and 71 shown in FIGS. 22A and 22B, the side surfaces 44c and 144c of the light diffusion portions 44 and 144 may have a shape in which the inclination angle continuously changes. The light control film 70 shown in FIG. 22A has a shape in which the side surfaces 44c and 144c are curved outward and the hollow portion 43 in the first embodiment is concave. The light control film 71 shown in FIG. 22B has a shape in which the side surfaces 44c and 144c are curved inward, and the hollow portion 43 in the first embodiment is convex. With these configurations, light diffusibility can be enhanced.

あるいは、図23(a)、(b)に示す光制御フィルム80,81において、光拡散部44、144の側面44c、144cが、複数の異なる傾斜角度(断面形状が折れ線状の傾斜面)であっても良い。図23(a)に示す光制御フィルム80は、側面44c、144cが傾斜角度の異なる3つの傾斜面を有し、外側に凹となる形状である。図23(b)に示す光制御フィルム81は、側面44c、144cが傾斜角度の異なる3つの傾斜面を有し、内側に凸となる形状である。これらの構成により、光拡散性を高めることができる。   Alternatively, in the light control films 80 and 81 shown in FIGS. 23A and 23B, the side surfaces 44c and 144c of the light diffusion portions 44 and 144 are at a plurality of different inclination angles (inclined surfaces having a polygonal cross section). There may be. The light control film 80 shown in FIG. 23A has a shape in which the side surfaces 44c and 144c have three inclined surfaces with different inclination angles, and are concave on the outside. The light control film 81 shown in FIG. 23 (b) has a shape in which the side surfaces 44c and 144c have three inclined surfaces with different inclination angles and are convex inward. With these configurations, light diffusibility can be enhanced.

また、上記実施形態における光制御フィルム7の透明基材39の視認側に、反射防止層、偏光フィルター層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも一つを設けた構成としても良い。この構成によれば、基材の視認側に設ける層の種類に応じて、外光反射を低減する機能、塵埃や汚れの付着を防止する機能、傷を防止する機能等を付加することができ、視野角特性の経時劣化を防ぐことができる。   Further, at least one of an antireflection layer, a polarizing filter layer, an antistatic layer, an antiglare treatment layer, and an antifouling treatment layer is provided on the viewing side of the transparent substrate 39 of the light control film 7 in the above embodiment. It is good also as a structure. According to this configuration, it is possible to add a function to reduce external light reflection, a function to prevent the adhesion of dust and dirt, a function to prevent scratches, and the like according to the type of layer provided on the viewing side of the substrate. Further, it is possible to prevent deterioration of viewing angle characteristics with time.

また、図24に示すように、上記実施形態(例えば、第1実施形態)における液晶表示装置の透明基材39の視認側にタッチパネル(情報入力装置)90を配置するようにしても良い。タッチパネル90は、透明基材39の周縁部において両面テープ等の接着材93を介して貼付される。タッチパネル90は、基材91と位置検出用電極92とを有している。以下の説明では、タッチパネル90を構成する基材91のことを「タッチパネル用基材」と称する。ガラス等からなるタッチパネル用基材91の一面に、ITO、ATO(Antimony-doped Tin Oxide:アンチモンがドープされた錫酸化物)等の透明導電材料からなる位置検出用電極92が形成されている。位置検出用電極92は、ITO、ATO等のスパッタリングにより形成されたものであり、数百〜2kΩ/□程度の一様なシート抵抗を有している。   As shown in FIG. 24, a touch panel (information input device) 90 may be arranged on the viewing side of the transparent base 39 of the liquid crystal display device in the above-described embodiment (for example, the first embodiment). The touch panel 90 is affixed via an adhesive 93 such as a double-sided tape at the peripheral edge of the transparent substrate 39. The touch panel 90 includes a base material 91 and a position detection electrode 92. In the following description, the base material 91 constituting the touch panel 90 is referred to as a “touch panel base material”. A position detection electrode 92 made of a transparent conductive material such as ITO or ATO (Antimony-doped Tin Oxide) is formed on one surface of a touch panel base material 91 made of glass or the like. The position detection electrode 92 is formed by sputtering such as ITO or ATO, and has a uniform sheet resistance of about several hundred to 2 kΩ / □.

本実施形態では、静電容量方式のタッチパネル90が用いられている。静電容量方式のタッチパネル90では、例えばタッチパネル85を平面視したときの位置検出用電極92の4つの角部に微小な電圧が印加されている。位置検出用電極92上方の任意の位置に指を触れると、指を触れた点が人体の静電容量を介して接地される。これにより、接地点と4つの角部との間の抵抗値に応じて各角部での電圧が変化する。位置検出回路がこの電圧変化を電流変化として計測し、その計測値から接地点、すなわち指が触れた位置を検出する。なお、本実施形態に適用可能なタッチパネルとしては、上述の静電容量方式の他、抵抗膜方式、超音波方式、光学方式等の任意のタッチパネルを適用可能である。この構成によれば、光制御フィルム7を備えるので、視野角特性に優れ、さらに情報入力機能を備えた液晶表示装置を実現することができる。例えば使用者が広視野角の画像を見ながら指やペンでタッチパネル90に触れることによって、情報処理装置等に対話形式で情報を入力することが可能になる。   In the present embodiment, a capacitive touch panel 90 is used. In the capacitive touch panel 90, for example, minute voltages are applied to four corners of the position detection electrode 92 when the touch panel 85 is viewed in plan. When a finger touches an arbitrary position above the position detection electrode 92, the point touched by the finger is grounded via the capacitance of the human body. As a result, the voltage at each corner changes according to the resistance value between the ground point and the four corners. The position detection circuit measures this voltage change as a current change, and detects the ground point, that is, the position touched by the finger from the measured value. In addition, as a touch panel applicable to this embodiment, arbitrary touch panels, such as a resistive film system, an ultrasonic system, and an optical system other than the above-mentioned capacitance system, are applicable. According to this configuration, since the light control film 7 is provided, it is possible to realize a liquid crystal display device having excellent viewing angle characteristics and further having an information input function. For example, when the user touches the touch panel 90 with a finger or a pen while viewing an image with a wide viewing angle, information can be input to the information processing apparatus or the like in an interactive manner.

また、上記第1実施形態においては、光制御フィルム7の複数の遮光部40の大きさをそれぞれ同等としたが、各遮光部40の大きさを互いに異ならせるようにしてもよい。
また、第1実施形態においては、遮光部40の形状を楕円状としたが、遮光部40の形状はこれに限定されることはない。
例えば図25(a)に示すように、平面形状が円形である遮光部40Fを用いても良い。あるいは、図25(b)に示すように、平面形状が正方形である遮光部40Gを用いても良い。あるいは、図25(c)に示すように、平面形状が正八角形である遮光部40Hを用いても良い。あるいは、図25(d)に示すように、正方形の対向する2辺を外側に湾曲させた形状の遮光部40Iを用いても良い。あるいは、図25(e)に示すように、2つの長方形を直交する2方向に交差させた形状の遮光部40Jを用いても良い。あるいは、図25(f)に示すように、細長い楕円形状の遮光部40Kを用いても良い。あるいは、図25(g)に示すように、細長い長方形状の遮光部40Lを用いても良い。あるいは、図25(h)に示すように、細長い八角形状の遮光部40Mを用いても良い。あるいは、図25(i)に示すように、細長い長方形の対向する2辺を外側に湾曲させた形状の遮光部40Nを用いても良い。あるいは、図25(j)に示すように、縦横比が異なる2つの長方形を直交する2方向に交差させた形状の遮光部40Pを用いても良い。あるいは、図25(k)に示すように、正三角形状の遮光部40Qを用いても良い。あるいは、図25(l)に示すように、二等辺三角形状の遮光部40Rを用いても良い。あるいは、図25(m)に示すように、菱形状の遮光部40Sを用いても良い。さらに、図25(a)〜(m)の形状が所定方向に回転していてもよい。
また、各遮光部40の平面形状をそれぞれ異ならせ、等方的な円形状及び種々の異方性の方位(図25(a)〜(m)参照)を持つ異なる複数種類のサイズ、形状のものを混在させるようにしてもよい。
Moreover, in the said 1st Embodiment, although the magnitude | size of the several light-shielding part 40 of the light control film 7 was each made equivalent, you may make it mutually make the magnitude | size of each light-shielding part 40 mutually different.
In the first embodiment, the shape of the light shielding unit 40 is an ellipse, but the shape of the light shielding unit 40 is not limited to this.
For example, as shown in FIG. 25A, a light shielding portion 40F having a circular planar shape may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25B, a light shielding part 40G having a square planar shape may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (c), a light shielding part 40H whose planar shape is a regular octagon may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25D, a light shielding part 40I having a shape in which two opposite sides of a square are curved outward may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25E, a light shielding part 40J having a shape in which two rectangles intersect in two orthogonal directions may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (f), an elongated oval light-shielding portion 40K may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (g), an elongated rectangular light shielding portion 40L may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (h), an elongated octagonal light shielding portion 40M may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (i), a light shielding part 40N having a shape in which two opposing sides of a long and narrow rectangle are curved outward may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (j), a light shielding portion 40P having a shape in which two rectangles having different aspect ratios intersect each other in two orthogonal directions may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (k), a regular triangular light shielding portion 40Q may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (l), an isosceles triangular light shielding portion 40R may be used. Alternatively, as shown in FIG. 25 (m), a diamond-shaped light shielding portion 40S may be used. Furthermore, the shapes of FIGS. 25A to 25M may be rotated in a predetermined direction.
Further, the planar shapes of the respective light-shielding portions 40 are different from each other, and are provided with a plurality of different sizes and shapes having an isotropic circular shape and various anisotropic orientations (see FIGS. 25A to 25M). You may make it mix things.

また、第2実施形態においては、光制御フィルム7の遮光部140における開口140a及び該開口140aに対応して形成される光拡散部144の大きさをそれぞれ同等としたが、各開口140a及び遮光部140の大きさを互いに異ならせるようにしてもよい。また、実施形態においては、光制御フィルム7の各開口140aの形状及び開口140aに対応して形成される光拡散部144の平面形状を図25(a)〜(m)に示したような円形、正方形、正八角形、正方形の対向する2辺を外側に湾曲させた形状、2つの長方形を直交する2方向に交差させた形状、細長い楕円形状、細長い長方形状、細長い八角形状、細長い長方形、縦横比が異なる2つの長方形を直交する2方向に交差させた形状、正三角形、二等辺三角形、菱形、あるいはこれらの形状を所定方向に回転させた形状としてもよい。また、第2実施形態において、各開口140a及び光拡散部144の平面形状をそれぞれ異ならせ、上述したような等方的な円形状及び種々の異方性の方位を持つ異なる複数種類のサイズ、形状のものを混在させるようにしてもよい。   In the second embodiment, the size of the opening 140a in the light shielding portion 140 of the light control film 7 and the size of the light diffusion portion 144 formed corresponding to the opening 140a are the same. You may make it make the magnitude | size of the part 140 mutually differ. In the embodiment, the shape of each opening 140a of the light control film 7 and the planar shape of the light diffusion portion 144 formed corresponding to the opening 140a are circular as shown in FIGS. , Square, regular octagon, shape where two opposite sides of the square are curved outward, shape where two rectangles intersect in two orthogonal directions, elongated ellipse shape, elongated rectangular shape, elongated octagonal shape, elongated rectangle, vertical and horizontal A shape obtained by intersecting two rectangles having different ratios in two orthogonal directions, an equilateral triangle, an isosceles triangle, a rhombus, or a shape obtained by rotating these shapes in a predetermined direction may be used. In the second embodiment, the planar shapes of the openings 140a and the light diffusing portions 144 are different from each other, and the plurality of different sizes having the isotropic circular shape and various anisotropic orientations as described above, You may make it mix the thing of a shape.

本発明は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ、LEDディスプレイ、MEMSディスプレイ等の各種表示装置に利用可能である。   The present invention is applicable to various display devices such as a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a plasma display, an LED display, and a MEMS display.

1、101…液晶表示装置(表示装置)、2…バックライト(光源)、6…液晶パネル(表示体、変調素子)、7、107…光制御フィルム(光拡散部材、視野角拡大部材)、39…透明基材、40…遮光部、40a、140b…表面、…41…光拡散層(光透過性材料層)、43…中空部、44、144…光拡散部、44a、144a…光出射端面、44b、144b…光入射端面、45…光散乱層、45a…光散乱体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,101 ... Liquid crystal display device (display device), 2 ... Backlight (light source), 6 ... Liquid crystal panel (display body, modulation element), 7, 107 ... Light control film (light diffusion member, viewing angle expansion member), DESCRIPTION OF SYMBOLS 39 ... Transparent base material, 40 ... Light-shielding part, 40a, 140b ... Surface, ... 41 ... Light-diffusion layer (light transmissive material layer), 43 ... Hollow part, 44, 144 ... Light-diffusion part, 44a, 144a ... Light emission End face, 44b, 144b ... light incident end face, 45 ... light scattering layer, 45a ... light scatterer

Claims (26)

光透過性を有する基材と、
前記基材の一面側に点在して形成された複数の遮光部と、
前記複数の遮光部の前記基材と略平行な領域の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された光散乱層と、
前記光散乱層の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された光拡散部と、を備え、
前記光拡散部が、前記基材側に前記遮光部の非形成領域に対応する光射出端面を有するとともに、前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有することを特徴とする光拡散部材。
A substrate having optical transparency;
A plurality of light shielding portions formed to be scattered on one side of the base material;
A light scattering layer formed on one surface side of the base material so as to cover at least a part of a region substantially parallel to the base material of the plurality of light shielding parts,
A light diffusion part formed on one surface side of the base material so as to cover at least a part of the light scattering layer,
The light diffusion part has a light emission end face corresponding to the non-formation region of the light shielding part on the substrate side, and a light incident end face having an area larger than the area of the light emission end face on the opposite side to the substrate side A light diffusing member comprising:
前記光散乱層が、当該層の前記光拡散部と反対側の面から入射し前記光散乱体で反射もしくは屈折して進行方向が変更された光が前方散乱するように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の光拡散部材。   The light scattering layer is configured such that light incident from a surface opposite to the light diffusion portion of the layer and reflected or refracted by the light scatterer to change the traveling direction is forward scattered. The light diffusing member according to claim 1. 前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て点在して配置され、前記光拡散部が、前記遮光部の形成領域以外の領域に連続して形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の光拡散部材。   The plurality of light shielding portions are arranged in a scattered manner when viewed from the normal direction of one surface of the base material, and the light diffusing portion is continuously formed in a region other than the region where the light shielding portion is formed. The light diffusing member according to claim 1 or 2. 前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることを特徴とする請求項3に記載の光拡散部材。   The light diffusing member according to claim 3, wherein the plurality of light shielding portions are aperiodically arranged when viewed from a normal direction of one surface of the base material. 前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることを特徴とする請求項3または4に記載の光拡散部材。   5. The light diffusing member according to claim 3, wherein the plurality of light shielding portions have the same shape when viewed from the normal direction of one surface of the base material. 前記複数の遮光部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることを特徴とする請求項3または4に記載の光拡散部材。   5. The light diffusion according to claim 3, wherein the plurality of light-shielding portions have at least one of a plurality of types and sizes different from each other when viewed from the normal direction of one surface of the base material. Element. 前記遮光部の形成領域には、前記光拡散部の形成領域によって区画された中空部が形成され、
前記中空部に空気が存在していることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の光拡散部材。
In the formation region of the light shielding portion, a hollow portion partitioned by the formation region of the light diffusion portion is formed,
The light diffusing member according to claim 1, wherein air exists in the hollow portion.
前記基材の一面の法線方向から見た前記遮光部の平面的な形状が、円形、楕円形もしくは多角形であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の光拡散部材。   The light according to any one of claims 1 to 7, wherein a planar shape of the light shielding portion viewed from the normal direction of one surface of the base material is a circle, an ellipse, or a polygon. Diffusion member. 光透過性を有する基材と、
前記基材の一面側に形成された遮光部と、
前記遮光部の前記基材と略平行な領域の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された光散乱層と、
前記光散乱層の少なくとも一部を覆うように前記基材の一面側に形成された複数の光拡散部と、を備え、
前記光拡散部が、前記基材側に前記遮光部の非形成領域に対応する光射出端面を有するとともに、前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有することを特徴とする光拡散部材。
A substrate having optical transparency;
A light shielding portion formed on one surface side of the substrate;
A light scattering layer formed on one surface side of the base material so as to cover at least a part of a region substantially parallel to the base material of the light shielding part,
A plurality of light diffusion parts formed on one surface side of the base material so as to cover at least a part of the light scattering layer,
The light diffusion part has a light emission end face corresponding to the non-formation region of the light shielding part on the substrate side, and a light incident end face having an area larger than the area of the light emission end face on the opposite side to the substrate side A light diffusing member comprising:
前記光散乱層が、当該層の前記光拡散部と反対側の面から入射し前記光散乱体で反射もしくは屈折して進行方向が変更された光が前方散乱するように構成されていることを特徴とする請求項9に記載の光拡散部材。   The light scattering layer is configured such that light incident from a surface opposite to the light diffusion portion of the layer and reflected or refracted by the light scatterer to change the traveling direction is forward scattered. The light diffusing member according to claim 9. 前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て点在して配置され、
前記遮光部が、前記光拡散部の形成領域以外の領域に連続して形成されていることを特徴とする請求項8または10に記載の光拡散部材。
The plurality of light diffusion portions are arranged in a scattered manner when viewed from the normal direction of one surface of the base material,
11. The light diffusing member according to claim 8, wherein the light shielding portion is continuously formed in a region other than a region where the light diffusing portion is formed.
前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることを特徴とする請求項11に記載の光拡散部材。   The light diffusing member according to claim 11, wherein the plurality of light diffusing portions are aperiodically arranged when viewed from the normal direction of one surface of the base material. 前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることを特徴とする請求項11または12に記載の光拡散部材。   The light diffusing member according to claim 11 or 12, wherein the plurality of light diffusing portions have the same shape as seen from the normal direction of one surface of the base material. 前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることを特徴とする請求項11または12に記載の光拡散部材。   13. The light according to claim 11, wherein the plurality of light diffusion portions have at least one of a plurality of types and sizes different from each other when viewed from a normal direction of one surface of the base material. Diffusion member. 前記複数の光拡散部間の間隙に空気が存在していることを特徴とする請求項9ないし14のいずれか一項に記載の光拡散部材。   The light diffusing member according to claim 9, wherein air exists in a gap between the plurality of light diffusing portions. 前記複数の光拡散部のうち、少なくとも一つの光拡散部の側面の傾斜角度が他の光拡散部の側面の傾斜角度と異なることを特徴とする請求項9ないし15のいずれか一項に記載の光拡散部材。   16. The tilt angle of the side surface of at least one light diffusion portion among the plurality of light diffusion portions is different from the tilt angle of the side surface of another light diffusion portion. Light diffusing member. 前記複数の光拡散部のうち、少なくとも一つの光拡散部の側面の傾斜角度が場所によって異なることを特徴とする請求項9ないし16のいずれか一項に記載の光拡散部材。   The light diffusion member according to any one of claims 9 to 16, wherein an inclination angle of a side surface of at least one light diffusion portion among the plurality of light diffusion portions varies depending on a place. 前記基材の一面の法線方向から見た前記光拡散部の平面的な形状が、円形、楕円形もしくは多角形であることを特徴とする請求項9ないし17のいずれか一項に記載の光拡散部材。   The planar shape of the light diffusing portion viewed from the normal direction of one surface of the substrate is a circle, an ellipse, or a polygon, according to any one of claims 9 to 17. Light diffusing member. 前記基材の一面と反対側の面に、反射防止層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも一つが設けられたことを特徴とする請求項1ないし18のいずれか一項に記載の光拡散部材。   The surface of the substrate opposite to the one surface is provided with at least one of an antireflection layer, an antistatic layer, an antiglare treatment layer, and an antifouling treatment layer. The light diffusing member according to claim 1. 光透過性を有する基材の一面に開口部を有する遮光部を形成する工程と、
前記基材の一面に、前記遮光部の前記基材と略平行な領域の少なくとも一部を覆うように光散乱層を形成する工程と、
前記基材の一面に、前記遮光部及び前記光散乱層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記遮光部および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光部の開口部を通して前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、
前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する複数の光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、
を有することを特徴とする光拡散部材の製造方法。
Forming a light-shielding portion having an opening on one surface of a light-transmitting substrate;
Forming a light scattering layer on one surface of the base material so as to cover at least a part of a region substantially parallel to the base material of the light shielding portion;
Forming a light-sensitive negative photosensitive resin layer on one surface of the substrate so as to cover the light shielding portion and the light scattering layer;
Exposing the negative photosensitive resin layer through an opening of the light shielding portion from a surface opposite to one surface of the base material on which the light shielding portion and the negative photosensitive resin layer are formed;
The negative photosensitive resin layer after the exposure is developed, and a light incident end surface having a light emission end surface on the substrate side and an area larger than the area of the light emission end surface on the side opposite to the substrate side is provided. Forming a plurality of light diffusion portions on one side of the substrate;
A method for producing a light diffusing member, comprising:
前記遮光部の材料として黒色樹脂、黒色インク、金属単体、もしくは金属単体と金属酸化物との多層膜のうちのいずれかを用いることを特徴とする請求項20に記載の光拡散部材の製造方法。   21. The method of manufacturing a light diffusing member according to claim 20, wherein any one of black resin, black ink, a single metal, or a multilayer film of a single metal and a metal oxide is used as a material for the light shielding portion. . 表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、
前記視野角拡大部材が、請求項1ないし19のいずれか一項に記載の光拡散部材で構成されていることを特徴とする表示装置。
A display body, provided on the viewing side of the display body, and a viewing angle widening member that emits light in a state where the angular distribution of light incident from the display body is wider than before incidence, and
The display device, wherein the viewing angle widening member is configured by the light diffusing member according to any one of claims 1 to 19.
表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、
前記視野角拡大部材が、請求項9ないし19のいずれか一項に記載の光拡散部材で構成されており、
前記表示体が、表示画像を形成する複数の画素を有し、
前記光拡散部材の前記複数の光拡散部のうち、隣接する光拡散部間の最大ピッチが、前記表示体の前記画素間のピッチよりも小さいことを特徴とする表示装置。
A display body, provided on the viewing side of the display body, and a viewing angle widening member that emits light in a state where the angular distribution of light incident from the display body is wider than before incidence, and
The viewing angle widening member is composed of the light diffusing member according to any one of claims 9 to 19,
The display body has a plurality of pixels forming a display image,
The display device, wherein a maximum pitch between adjacent light diffusion portions among the plurality of light diffusion portions of the light diffusion member is smaller than a pitch between the pixels of the display body.
前記視野角拡大部材の視認側に、情報入力装置が設けられたことを特徴とする請求項22または23に記載の表示装置。   The display device according to claim 22 or 23, wherein an information input device is provided on a viewing side of the viewing angle widening member. 前記表示体が、光源と、前記光源からの光を変調する光変調素子と、を有し、
前記光源が指向性を有する光を射出することを特徴とする請求項22ないし24のいずれか一項に記載の表示装置。
The display body includes a light source and a light modulation element that modulates light from the light source,
25. The display device according to claim 22, wherein the light source emits light having directivity.
前記表示体が液晶表示素子であることを特徴とする請求項22ないし25のいずれか一項に記載の表示装置。   The display device according to any one of claims 22 to 25, wherein the display body is a liquid crystal display element.
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