JP2014021484A

JP2014021484A - 液晶のアニール方法

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Publication number: JP2014021484A
Application number: JP2012229121A
Authority: JP
Inventors: ▲晃▼▲寓▼ ▲呉▼; Yu-June Wu; Da-Ren Chiou; 大任邱; Wei-Duz Hong; 維澤洪
Original assignee: Far Eastern New Century Corp
Current assignee: Far Eastern New Century Corp
Priority date: 2012-07-20
Filing date: 2012-10-16
Publication date: 2014-02-03
Anticipated expiration: 2032-10-16
Also published as: US20140020824A1; JP5484543B2; KR20140011913A; TWI465800B; KR101444269B1; TW201405196A

Abstract

【課題】液晶層を均一に加熱することができ、液晶のアニール時間を効果的に短縮することができる液晶のアニール方法を提供する。
【解決手段】レンズ構造１１を有する基材１０の上に該レンズ構造１１を埋めて平らにするように配置される液晶層１２を有し、レンズ構造１１は、最も厚い所と最も薄い所との厚さの差が１０〜１５０マイクロメートル（μｍ）の間であり、液晶層１２と接触する面に５〜７０％の赤外線光透過率を有する赤外線吸収層１４を液晶層１２を覆うように形成し、赤外線吸収層１４に赤外線を照射する。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶のアニール方法に関し、特に、異なる厚さを有する液晶層に対して快速的にアニールすることができる方法に関する。

液晶は、液状結晶（ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ；ＬＣ）で、相状態の一つであり、特殊な物理化学特性と光電特性を有するため、２０世紀の中期から、軽薄型の表示技術に広く用いられてきた。

液晶のアニール（ａｎｎｅａｌｉｎｇ）は、液晶分子の再配列を目的とする。液晶のアニールの過程中、配向膜を使用して、液晶分子の配列方向を制御し、液晶分子を配向膜における予定の方向によって再配列することができる。

従来の液晶のアニール方式としては、熱風加熱器を利用して、液晶分子を加熱する。ただし、熱風加熱器によってアニールする場合、長い処理時間が必要となり、例えば、特許文献１において、液晶のアニール処理の時間として、１時間もの長い時間が必要であることが記載されている。また、熱風加熱器の代わりに赤外線加熱器のみによって、液晶に対してアニール処理をすれば、液晶のアニール処理の時間を短縮することができるが、液晶が不均一に加熱される場合がよくあり、特に、液晶層の厚さが不均一である時、液晶層が不均一に加熱される状況がさらに厳しくなる。そのため、業界においては、液晶のアニール時間を効果的に短縮することができ、液晶層が不均一に加熱される状況とならない液晶のアニール方法の開発が望まれている。

台湾特許出願公開第２０１１００４８９号明細書

前記従来の技術の課題を解決するために、本発明は、液晶層が均一に加熱されることができ、液晶のアニール時間を効果的に短縮することもできる方法を提供することを目的とする。

本発明に示した液晶のアニール方法によると、まず、その上に、最も厚い所と最も薄い所との厚さの差が１０〜１５０μｍであり、レンズ構造を埋めて平らにする液晶層があり、前記液晶層と接触する側面にレンズ構造を有する基材を提供するステップと、続いて、５〜７０％の赤外線光透過率を有する赤外線吸収層を前記液晶層に覆うステップと、赤外線加熱器によって、前記赤外線吸収層から前記基材に赤外線を照射することで加熱するステップと、を含む液晶のアニール処理によって、液晶の快速的なアニール処理時間を短縮する目的を達成する。

本発明の液晶のアニール方法は、液晶のアニール処理の時間を効果的に短縮することができると共に、液晶層を均一に加熱することもできる。本発明の液晶のアニール方法は、厚さ不均一な液晶層を処理する場合、従来の技術に比べ、その優位性が更に現れることができる。

下記図面の詳細な説明は、本発明の前記または他の目的、特徴、メリット、実施例をより分かりやすくするためのものである。

本発明の液晶のアニール方法の具体的な実施態様の略図である。基材におけるレンズ構造の別の具体的な実施態様の断面略図である。基材の支持性と構造強度が強化された本発明の液晶のアニール方法別の具体的な実施態様である。ロールツーロールプロセスによって、本発明の液晶のアニール方法を実施する略図である。配向層を加えた本発明の液晶のアニール方法の別の具体的な実施態の略図である。

当業者が本発明の明細書の説明を通して、本発明をよりわかりやすくするために、以下、図面に合わせて、さらに説明する。当業者であれば、下記説明の内容は、本発明の技術を例示して説明し、好適な実施条件範囲を説明するためのものだけであるが、本発明の範囲を限定するためのものではないことが理解できる。

図１は、本発明の液晶のアニール方法の具体的な実施態様の図示である。まず、少なくとも１つの側面に少なくとも１つのレンズ構造１１が設けられた基材１０を提供する。レンズ構造１１が設けられた基材１０の側面に、液晶層１２が塗布される。この液晶層１２は、基材１０におけるレンズ構造１１を埋めて平らにし、基材１０と接触しない反対側面が平らである。これにより、液晶層１２は、不均一な厚さを有するようになり、最も厚い部分が厚さｄ１を有し、最も薄い部分が厚さｄ２を有する。この厚さ不均一な液晶層１２において、最も厚い部分と最も薄い部分との厚さの差は、Δｄ＝ｄ１−ｄ２である。光学用途を考慮すると、厚さの差Δｄは、１０〜１５０μｍであることが好ましく、２０〜１３０μｍであることがより好ましく、３５〜１２０μｍであることが最も好ましい。

続いて、赤外線吸収層１４を、液晶層１２と実質的に接触するようにその上に覆う。本発明の赤外線吸収層１４は、赤外線１６の一部を吸収して、その光エネルギーを熱エネルギーに転化し、別の部分を透過させて液晶層１２に直接に照射させて、液晶層１２を直接に加熱することに用いられる。そのため、赤外線１６を照射して加熱する場合、液晶層１２は、赤外線吸収層１４が赤外線１６を吸収して転化した熱源に加熱される（伝導熱）と同時に、赤外線１６に直接に照射されて加熱される（輻射熱）。

光学フィルム領域への適用を考慮すると、前記基材１０は、実質的に透明性と可撓性（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）を有する基材が好ましく、光学的に等方性（即ち、複屈折率を有しない）の材料で調製されたものがより好ましい。ここで、本発明に適用できる材料の種類の例としては、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌａｔｅｒｅｓｉｎ）、三酢酸セルロース、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙｒｅｓｉｎ）、ポリシロキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリエーテルイミド（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）、パーフルオロシクロブタン（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｃｙｃｌｏｂｕｔaｎｅ）、ベンゾシクロブタン（Ｂｅｎｚｏｙｃｌｏｂｕｔａｎｅ；ＢＣＢ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）またはポリジメチルシロキサンを含むが、これらに限定されるものではなく、そのうち、アクリル樹脂と三酢酸セルロースが好ましい。本発明において、基材１０の厚さは、特に限定されないが、使用者は必要に応じて選択することができる。

本発明において、基材１０の上に設けられたレンズ構造１１の形状は、特に限定されないが、使用者は必要に応じて選用することができる。本発明のレンズ構造１１は、例えば、図１に示すように、断面が半円形、ボウル形またはアーチ形であってよい。レンズ構造１１の断面は、図２に示すようなものであってもよく、例えば、図２（ａ）に示す台形、または図２（ｂ）に示す方形であってよい。前記形状は、基材１０の上に単独または混合して存在する。必要な場合、基材の別の相対する側面に、外凸または内凹の別のレンズ構造が設けられることもできる。この場合、基材１０の２つの相対する側面に位置するレンズ構造は、形状が同じでも異なってもよい。

本発明において、前記液晶層１２の最も薄い部分の厚さｄ２は、特に限定されないが、使用者は必要に応じて選択することができる。但し、光学フィルムへの適用を考慮すると、液晶層１２の最も薄い部分の厚さｄ２は、１〜１０μｍであることが好ましく、２〜８μｍであることがより好ましい。また、本発明において、本発明の液晶層１２に適用できる液晶は、特に限定されないが、光学フィルムに適用できる従来の液晶であれば、何れも本発明に適用することができる。具体的には、液晶の形状としては、棒状（ｃａｌａｍｉｔｉｃ）、円盤状（ｄｉｓｃｏｔｉｃ）、板状（ｓｍｅｃｄｉｃ）またはそれらの組み合わせであってよい。より具体的には、前記棒状の液晶としては、ネマチック（ｎｅｍａｔｉｃ）液晶、コレステリック（ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉｃ）液晶、スメクティック（ｓｍｅｃｔｉｃ）液晶を含むが、これらに限定されるものではない。前記円盤状の液晶としては、円柱状（ｃｏｌｕｍｎａｒ）液晶、ネマチック（ｎｅｍａｔｉｃ）液晶を含むが、これらに限定されるものではない。

本発明において、本発明の液晶層１２の形成方法としては、特に限定されないが、スピンコート法、真空張り合わせ法、ロールツーロール張り合わせ法などの方法を含むが、これらに限定されるものではない。

本発明の赤外線吸収層１４は、前記基材１０に合わせ、またロールツーロールプロセス（ｒｏｌｌｔｏｒｏｌｌｐｒｏｃｅｓｓ）に適用されることができるために、可撓性を有することが好ましい。本発明の赤外線吸収層１４は、可撓式透明プラスチック基材に一層のインクを塗布し、または顔料を可撓式透明プラスチック基材の原料に混入して、この原料を可撓式プラスチック基材に押し出すことによって調製することができる。本発明において、前記インクまたは顔料とは、赤外線を照射し後、赤外線の光エネルギーを吸収して熱エネルギーに転化できる従来のものである。また、液晶層１２が均一に加熱されるために、本発明の赤外線吸収層１４は、５〜７０％の赤外線光透過率を有することが好ましく、１０〜６０％の赤外線光透過率を有することがより好ましい。

本発明において、プラスチック基材に塗布された前記インクの厚さは、特に限定されないが、使用者は、本発明の明細書の記述によって、赤外線光透過度が前記要求に適合しさえすれば、選択したインクの種類によってインクの塗布厚さを調整することができることが理解できる。具体的には、インクの塗布厚さは、０．１〜２．０μｍの間であることが好ましく、０．２〜１．８μｍの間であることがより好ましい。本発明に適用できるインクとしては、具体的には、二液反応型インク、加熱硬化型インク、紫外線硬化型インクを含むが、これらに限定されるものではない。前記二液反応型インクとは、主剤と硬化剤を別々に調製して、印刷の時に混合して使用するものである。その主剤におけるビヒクル（Ｖｅｈｉｃｌｅ）は、多くの場合にエポキシ樹脂及びカルバミン酸塩からなり、また、硬化剤（アミン化合物）を添加した後、縮重合して硬化する。前記加熱硬化型インクとは、樹脂と硬化剤を前もって混合して、印刷した後、加熱して樹脂を反応させて、インク皮膜を形成するものである。使用される樹脂としては、単液型エポキシ樹脂がよく用いられる。前記紫外線硬化型インクとは、いかなる溶剤も使用せず、印刷の過程中溶剤の揮発がなく、インクが乾燥の過程中紫外線に照射されて、樹脂を重合反応させてインク皮膜を形成するものである。

本発明において、前記に適用できる顔料の種類としては、特に限定されないが、可撓式透明プラスチック基材の原料に混入できる従来のものでさえあれば、本発明に適用できる。その具体的な例としては、天然無機顔料、人工無機顔料、植物有機顔料または昆虫有機顔料のような自然有機顔料からなるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

本発明に記載の赤外線１６の定義は、当業者に知られているように、より具体的には、波長が７５０〜１５００ｎｍである。

図３を参照し、基材１０の支持性と構造強度を強化するために、レンズ構造１１が設けられた側面に対向する基材１０の別の側面に支持基材１８を設けることもできる。本発明において、本発明に適用できる支持基材１８の材料の種類は、特に限定されないが、使用者は必要に応じて適当な支持基材を選用することができる。具体的には、支持基材１８は、可撓性を有することが好ましく、具体的な例としては、ポリエチレンテレフタレート、三酢酸セルロース、ポリカーボネートからなるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

図４は、ロールツーロールプロセスによって、本発明の液晶のアニール方法を実施する図示である。本発明の液晶のアニールプロセス操作を行う場合、支持基材１８、基材１０、液晶層１２、赤外線吸収層１４を積み重ねてなる前記積層体２０を、遊動輪２８を通して、走行方向に沿って赤外線加熱器２２に継続的に送り込む。赤外線加熱器２２の中に設けられる赤外線ランプ２４によって、赤外線吸収層１４から液晶層１２まで赤外線１６を照射して当該積層体２０を加熱することで、液晶のアニール操作を行う。液晶層１２に対してアニールを完成した後、赤外線吸収層１４を積層体２０から剥離することができる。

本発明の液晶のアニール方法において、赤外線加熱器２２の設定した加熱温度に対して、使用者は選用した液晶の種類によって適当な数値に調整することができる。具体的には、加熱温度は、７０〜１００℃が好ましく、７５〜９０℃がより好ましい。本発明において、積層体２０が赤外線加熱器２２を通過する合計加熱時間は、特に限定されないが、使用者は、加熱温度、液晶層の厚さ、液晶層の厚さの差、赤外線吸収層の赤外線光透過度に応じて調整することができる。但し、全体から言えば、本発明の液晶のアニール方法の合計加熱時間を、２０分内に短縮することができ、熱風によって１時間以上も加熱する従来の技術に比べて、顕著な優位性を持っている。

液晶層１２が配向されていない場合、液晶分子は、不均一な方向に沿って配列することが一般的であり、通常、これは光学フィルム領域への適用にとって不利である。そのため、図５（ａ）に示すように、液晶層１２における液晶分子を所望の方向に沿って配列させるために、基材１０のレンズ構造１１に一層の配向層３０を設けることができる。図５（ｂ）を参照し、配向層３２は、赤外線吸収層１４の側面に設けられることもできる。液晶層１２の最も厚い部分が厚い場合、液晶分子に好適な配向効果を持たせるために、前記２つの位置のそれぞれに配向層を同時に設けることもできる。

本発明において、配向層の設置方式と材料の種類は、特に限定されないが、使用者は必要に応じて適当な従来の設置方式と材料の種類を選用することができる。配向層の設置方式としては、例えば、ラビング配向法（ｒｕｂｂｉｎｇａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、光配向法（ｐｈｏｔｏ−ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、イオンビーム配向法（Ｉｏｎｂｅａｍａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、プラズマビーム配向法（ｐｌａｓｍａｂｅａｍａｌｉｇｎｍｅｎｔ）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

[実施例１]
[厚さの異なる液晶層の積層体の調製]
寸法が１０ｃｍ×１０ｃｍであり、厚さが１００μｍであるポリエチレンテレフタレート基材（ＰＥＴ４１００規格、日本の東洋紡績（ＴｏｙｏｂｏＣｏ，Ｌｔｄ．，Ｊａｐａｎ）から購入）を取って、その上にアクリル樹脂層を塗布した。彫刻銅輪を使用して、アクリル樹脂層の上に圧印すると共に、紫外光を照射して、アクリル樹脂層に複数のレンズ構造（アクリル樹脂層の表面から内へ凹んで、幅が２５０μｍであり、深さが４０μｍであるボウル形となる）を形成した。

スピンコート法によって、前記基材のレンズ構造が設けられる側面に厚さ１００ｎｍの光配向層（ＲＯＰ１０３規格であり、ロリック（Ｒｏｌｉｃ）社から購入）を塗布した。その後、光配向装置（ＰＵＶＤＥＥＰ規格であり、株式会社ウシオ（ＵＳＨＩＯ）から購入）によって、前記配向層を予定の方向（膜の走行方向と４５度の角となる）に沿って配向させた。最後、光配向層の上に一層の液晶（ドイツビーエーエスエフ（ＢＡＳＦ）社から購入し、ＬＣ２４２規格であり、総量に対して添加量が１ｗｔ％である光開始剤（ＴＰＯ規格であり、ドイツＢＡＳＦから購入）が混合された紫外線硬化型液晶）を塗布して、レンズ構造を液晶で完全に埋め、液晶層の別の側面を平らにした。これにより、最も薄い所の厚さが１μｍで、最も厚い所の厚さが４１μｍで、厚さの差が４０μｍであり、異なる厚さを同時に有する液晶層を製造することができる。

[赤外線吸収層の調製]
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート基材（ＰＥＴ４１００規格であり、日本の東洋紡（ＴｏｙｏｂｏＣｏ，Ｌｔｄ．，Ｊａｐａｎ）から購入）を取って、Ｎｏ．８ロッド（Ｒ．Ｄ．Ｓ．Ｗｅｂｓｔｅｒ社製）によって、１つの側面に一層の加熱硬化型の黒色インク（固形分含有量が３５ｗｔ％で、主成分がカーボンブラックで、Ａ９２規格で、台湾台箔科学技術（ＴａｉｐｏｌｏＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＣｏ．Ｌｔｄ．，Ｒ．Ｏ．Ｃ．）から購入）を均一に塗布した。均一に塗布した後、インクから溶剤を取り除いて（加熱板（ｈｏｔｐｌａｔｅ）を利用して、７０℃の温度で１分間加熱した）、厚さ０．３μｍのインク層を取得し、分光光度計（Ｕ４１００規格であり、日本の株式会社日立製作所（ＨＩＴＡＣＨＩ）から購入）によって、７５０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における赤外線吸収層を測量すると、前記赤外線吸収層の全体が５７．４％の赤外線透過率を有する。

赤外線吸収層を、インク層のない側面が液晶層と接触するように、前記積層体に貼り付けた。その後、それをロールツーロールの赤外線加熱器（自分で組み立て、１１０Ｖ／３００Ｗの加熱器に、７５０〜１５００ｎｍ波長を放出できる赤外線ランプが設けられた）に送り込み、加熱温度を８０℃（感応温度の熱電対が加熱された物の表面とおよそ１センチメートル離れている）に設定し、機械の速度を０．２センチメートル／分にし、合計加熱時間を５分にした。最後、加熱を完成した後、室温の環境で静かに置き、室温まで降温させることで、液晶のアニール工程を完成した。

液晶層に対してアニールを完成した後、偏光顕微鏡（ＸＰ２０１規格であり、勤友企業株式会社から購入）によって、液晶の配向状況を測定した。測定した結果を、下記のように表し、表１に合わせて示した。

（１）液晶配向が好適で、つまり、液晶層において、レンズ構造の所在に対応する領域内に、如何なる液晶の配向異常の領域もないことを「○」で表す。
（２）液晶配向が無難で、つまり、液晶層において、レンズ構造の所在に対応する領域内に、液晶の配向異常の領域は１〜３箇所しかない（領域全体に対する比率で表せば、わりに明確であろう）ことを「Δ」で表す。
（３）液晶配向が悪く、つまり、液晶層において、レンズ構造の所在に対応する領域内に、液晶の配向異常の領域は３箇所を超えたことを「×」で表す。

測定の結果において、「○」と「Δ」で表すものは、何れも品質が容認可能な範囲に該当することを表すが、「○」で表すものは、品質が最も好適である。

赤外線加熱器に送り込まれた膜層は、多種の材料からなる複合層構造であるため、各層の材料が不均一に加熱されることで昇温速度が不均一となる場合、各層の熱膨張係数が異なっているので、膜の表面全体が変形となり、液晶が配向される場合にその影響を受けて配向異常になる。また、液晶配向異常の時にディスクリネーションライン（ｄｉｓｃｌｉｎａｔｉｏｎｌｉｎｅ）がでる場合があり、つまり、前記ディスクリネーションラインの周囲の領域において、液晶の配向方向は、不規則な状態となる。そのため、光線がこの領域を通過する場合、液晶漏光の状況になって、製造された液晶ディスプレイの画像表示の品質に影響を与えることがある。

［実施例２］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、インクの塗布厚さを０．９μｍに変更した以外、実施例１と同様にし、分光光度計によって７５０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における赤外線吸収層を測定すると、前記赤外線吸収層の全体が２０．３％の赤外線透過率を有し、測定した結果を表１に合わせて示した。

［実施例３］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、実施例１と同様にし、インクの塗布厚さが１．６μｍに変更され、分光光度計によって７５０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における赤外線吸収層を測定すると、前記赤外線吸収層の全体全体が１０．６％の赤外線透過率を有し、測定した結果を表１に合わせて示した。

［実施例４］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、インクの塗布厚さを２．３μｍに変更した以外、実施例１と同様にし、分光光度計によって７５０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における赤外線吸収層を測定すると、前記赤外線吸収層の全体が０．４％の赤外線透過率を有し、測定した結果を表１に合わせて示した。

［比較例１］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、ポリエチレンテレフタレート基材にインク（インクの厚さが０μｍである）を塗布しないこと以外、実施例１と同様にし、分光光度計によって７５０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における赤外線吸収層を測定すると、前記赤外線吸収層の全体が８９％の赤外線透過率を有し、測定した結果を表１に合わせて示した。

［実施例５］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例１と同様にし、測定した結果を表２に合わせて示した。

［実施例６］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例２と同様にし、測定した結果を表２に合わせて示した。

［実施例７］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例３と同様にし、測定した結果を表２に合わせて示した。

［実施例８］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例４と同様にし、測定した結果を表２に合わせて示した。

［比較例２］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、比較例１と同様にし、測定した結果を表２に合わせて示した。

［実施例９］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例１と同様にし、測定した結果を表３に合わせて示した。

［実施例１０］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例２と同様にし、測定した結果を表３に合わせて示した。

［実施例１１］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例３と同様にし、測定した結果を表３に合わせて示した。

［実施例１２］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例４と同様にし、測定した結果を表３に合わせて示した。

［比較例３］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、加熱時間の全体を１５分に変更した以外、比較例１と同様にし、測定した結果を表３に合わせて示した。

［実施例１３］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を８５μｍに変更した以外、実施例１と同様にし、測定した結果を表４に合わせて示した。

［実施例１４］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を８５μｍに変更した以外、実施例２と同様にし、測定した結果を表４に合わせて示した。

［実施例１５］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を８５μｍに変更した以外、実施例３と同様にし、測定した結果を表４に合わせて示した。

［実施例１６］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を８５μｍに変更した以外、実施例４と同様にし、測定した結果を表４に合わせて示した。

［比較例４］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を８５μｍに変更した以外、比較例１と同様にし、測定した結果を表４に合わせて示した。

［実施例１７］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例１３と同様にし、測定した結果を表５に合わせて示した。

［実施例１８］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例１４と同様にし、測定した結果を表５に合わせて示した。

［実施例１９］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例１５と同様にし、測定した結果を表５に合わせて示した。

［実施例２０］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例１６と同様にし、測定した結果を表５に合わせて示した。

［比較例５］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、比較例４と同様にし、測定した結果を表５に合わせて示した。

［実施例２１］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例１３と同様にし、測定した結果を表６に合わせて示した。

［実施例２２］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例１４と同様にし、測定した結果を表６に合わせて示した。

［実施例２３］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例１５と同様にし、測定した結果を表６に合わせて示した。

［実施例２４］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例１６と同様にし、測定した結果を表６に合わせて示した。

［比較例６］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、比較例４と同様にし、測定した結果を表６に合わせて示した。

［実施例２５］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を１１３μｍに変更した以外、実施例１と同様にし、測定した結果を表７に合わせて示した。

［実施例２６］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を１１３μｍに変更した以外、実施例２と同様にし、測定した結果を表７に合わせて示した。

［実施例２７］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を１１３μｍに変更した以外、実施例３と同様にし、測定した結果を表７に合わせて示した。

［実施例２８］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を１１３μｍに変更した以外、実施例４と同様にし、測定した結果を表７に合わせて示した。

［比較例７］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、液晶の厚さの差を１１３μｍに変更した以外、比較例１と同様にし、測定した結果を表７に合わせて示した。

［実施例２９］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例２５と同様にし、測定した結果を表８に合わせて示した。

［実施例３０］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例２６と同様にし、測定した結果を表８に合わせて示した。

［実施例３１］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例２７と同様にし、測定した結果を表８に合わせて示した。

［実施例３２］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、実施例２８と同様にし、測定した結果を表８に合わせて示した。

［比較例８］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１０分に変更した以外、比較例７と同様にし、測定した結果を表８に合わせて示した。

［実施例３３］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例２５と同様にし、測定した結果を表９に合わせて示した。

［実施例３４］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例２６と同様にし、測定した結果を表９に合わせて示した。

［実施例３５］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例２７と同様にし、測定した結果を表９に合わせて示した。

［実施例３６］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、実施例２８と同様にし、測定した結果を表９に合わせて示した。

［比較例９］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、合計加熱時間を１５分に変更した以外、比較例７と同様にし、測定した結果を表９に合わせて示した。

［比較例１０］
測定材料の調製と関連実験の操作方式・条件としては、加熱方式を熱風オーブンによる加熱に変えると共に、加熱時間と液晶層の厚さの差を変えた以外、比較例１と同様にし、測定した結果を表１０に合わせて示した。

測定の結果から、本発明の液晶のアニール方法は、熱風法に比べ、合計加熱時間を効果的に短縮することができ、また、赤外線加熱器のみによって加熱する方法（液晶層に本発明の赤外線吸収層を覆いていないもの）に比べ、液晶層をよりに均一に加熱することができることが判明した。単に赤外線加熱器を利用して直接に加熱すれば、液晶を快速的に加熱することができるが、液晶層が不均一に加熱されて変形することがある。しかしながら、単に赤外線加熱器を利用して直接に加熱することに比べ、本発明の方法は、長い加熱時間（それでも、熱風法に比べ、遥かに短縮された）を必要とするが、液晶層の加熱状況がより均一になり、液晶の快速なアニールの目的を確実で効果的に達成した。

本発明では好適な実施形態を前述の通り開示したが、これは本発明を限定するものではなく、当業者であれば、本発明の精神と領域から逸脱しない限り、多様の変動や修正を加えることができる。従って、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。

１０基材
１１レンズ構造
１２液晶層
１４赤外線吸収層
１６赤外線
１８支持基材
２０積層体
２２赤外線加熱器
２４赤外線ランプ
２６走行方向
２８遊動輪
３０、３２配向層
ｄ１、ｄ２厚さ

Claims

基材の上に配置される液晶層を有し、前記基材と前記液晶層との接触面にレンズ構造を有し、前記液晶層が前記レンズ構造を埋めて平らにして、且つ前記液晶層の最も厚い所と最も薄い所との厚さの差が１０〜１５０マイクロメートル（μｍ）である基材を提供するステップと、
５〜７０％の赤外線光透過率を有する赤外線吸収層を前記液晶層に覆うステップと、
前記赤外線吸収層に赤外線を照射するステップと、
を含む液晶のアニール方法。
前記赤外線吸収層は、その上に、赤外線を吸収して熱エネルギーに転化することができる一層のインクが塗布される可撓式基材である請求項１に記載の方法。
前記インクは、０．１〜２．０μｍの厚さを有する請求項２に記載の方法。
前記インクは、０．２〜１．８μｍの厚さを有する請求項２に記載の方法。
前記インクは、二液反応型インク、加熱硬化型インクまたは紫外線硬化型インクである請求項２に記載の方法。
前記可撓式基材は、材料がポリエチレンテレフタレート、三酢酸セルロースまたはポリカーボネートである請求項２に記載の方法。
前記赤外線吸収層は、赤外線を吸収して熱エネルギーに転化することができる顔料を含む可撓式基材である請求項１に記載の方法。
前記液晶層は、最も厚い所と最も薄い所との厚さの差が２０〜１３０μｍである請求項１に記載の方法。
前記液晶層は、最も厚い所と最も薄い所との厚さの差が３５〜１２０μｍである請求項１に記載の方法。
前記赤外線吸収層は、１０〜６０％の赤外線透過率を有する請求項１に記載の方法。
前記赤外線を照射するステップは、赤外線加熱器によって実行される請求項１に記載の方法。
前記赤外線加熱器は、加熱温度が７０〜１００℃である請求項１１に記載の方法。
前記赤外線加熱器は、合計加熱時間が２０分以下である請求項１１に記載の方法。
前記レンズ構造は、断面が方形、台形、アーチ形、半円形、ボウル形またはこれらの組み合わせである請求項１に記載の方法。
前記基材は、材料がアクリル樹脂または三酢酸セルロースである請求項１に記載の方法。
前記基材は、下方側に支持基材がさらに貼り付けられる請求項１に記載の方法。
前記支持基材は、材料がポリエチレンテレフタレート、三酢酸セルロースまたはポリカーボネートである請求項１に記載の方法。
前記基材と前記液晶層との間に、配向層をさらに含む請求項１に記載の方法。
前記赤外線吸収層と前記液晶層との接触する面に、配向層がさらに設けられる請求項１に記載の方法。