JP2014019810A - Cleaning agents and cleaning methods - Google Patents
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Abstract
【課題】水が含まれない場合のみならず、工業用洗浄用途に有用である二塩基酸エステルを含む洗浄剤の欠点である、洗浄剤に水が含まれる場合にも、洗浄後に洗浄物に顕著に発生するシミ、変色を無くし、優れた洗浄力を発揮、維持しつつ、高度な仕上がりを安定して継続できる洗浄剤、及びそれを用いた洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】二塩基酸エステルを含み、イオウ含有量が12ppm以下である、洗浄剤。
【選択図】なし[PROBLEMS] To not only contain water but also a disadvantage of a detergent containing a dibasic acid ester that is useful for industrial cleaning applications. It is an object of the present invention to provide a cleaning agent that eliminates noticeable stains and discoloration, exhibits and maintains excellent cleaning power, and can stably continue a high degree of finish, and a cleaning method using the same.
A cleaning agent comprising a dibasic acid ester and having a sulfur content of 12 ppm or less.
[Selection figure] None
Description
本発明は、洗浄剤及び洗浄方法に関する。 The present invention relates to a cleaning agent and a cleaning method.
二塩基酸エステルは、多種の汚れ(樹脂、インキ、ペースト、フラックス、ロジン、油等)に対する適度な溶解力を持ち、幅広い用途の洗浄剤の成分として有用である。 The dibasic acid ester has an appropriate dissolving power for various types of dirt (resin, ink, paste, flux, rosin, oil, etc.), and is useful as a component of a wide range of cleaning agents.
二塩基酸エステルを含む洗浄剤としては、二塩基酸エステル単独だけでなく、二塩基酸エステル以外の溶剤成分や、水を含む組成物が提案されている。 As a detergent containing a dibasic acid ester, not only the dibasic acid ester alone but also a solvent component other than the dibasic acid ester and a composition containing water have been proposed.
例えば、特許文献1においては、二塩基酸エステルと、特定の環状エステルとの組み合わせによるスクリーン版洗浄剤が記載されている。また、特許文献2においては、二塩基酸エステルと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンと、水との組み合わせによるスクリーン版用洗浄剤が記載されている。さらに、特許文献3においては、二塩基酸エステルと、グリコールエーテルとの組み合わせによる洗浄剤が記載されている。またさらに、特許文献4においては、二塩基酸エステルと、アセトフェノンとの組み合わせによるインキ洗浄用組成物が記載されている。さらにまた、特許文献5においては、二塩基酸エステルと、グリコールエーテルと、炭化水素との組み合わせによる洗浄剤組成物が記載されている。加えて、特許文献6においては、二塩基酸エステルのみによるミキシングノズル用洗浄剤組成物が記載されている。また、特許文献7においては、二塩基酸エステルと、グリコールエーテルとの組み合わせによるシール剤吐出ノズル部品の洗浄方法が記載されている。 For example, Patent Document 1 describes a screen plate cleaning agent using a combination of a dibasic acid ester and a specific cyclic ester. Further, Patent Document 2 describes a screen plate cleaning agent comprising a combination of a dibasic acid ester, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and water. Furthermore, in patent document 3, the cleaning agent by the combination of dibasic acid ester and glycol ether is described. Furthermore, Patent Document 4 describes an ink cleaning composition using a combination of a dibasic acid ester and acetophenone. Furthermore, Patent Document 5 describes a cleaning composition comprising a combination of a dibasic acid ester, a glycol ether, and a hydrocarbon. In addition, Patent Document 6 describes a cleaning composition for a mixing nozzle using only a dibasic acid ester. Moreover, in patent document 7, the cleaning method of the sealing agent discharge nozzle components by the combination of dibasic acid ester and glycol ether is described.
工業用洗浄分野においては、洗浄対象物の材質、汚れが多種多様であり、また技術進歩による洗浄対象物の材質や汚れの変化もある。また、洗浄後の仕上がり状態に対する要求度はますます高まっており、単に汚れを除去するだけではなく、洗浄後の洗浄対象物表面のシミや変色のような変化を起こさない安定な仕上がりが継続することが求められている。 In the industrial cleaning field, there are a wide variety of materials and dirt on the object to be cleaned, and there are also changes in the material and dirt on the object to be cleaned due to technological advances. In addition, there is an increasing demand for the finished state after cleaning, not just removing dirt, but a stable finish that does not cause changes such as stains or discoloration on the surface of the cleaned object continues. It is demanded.
例えば、スクリーン印刷においては、印刷線幅の高精細化に伴い、印刷に用いるスクリーンメッシュが細かくなり、スクリーンメッシュ表面に生じるシミ、変色がより問題となる。また、スクリーンメッシュのゆがみを少なくするために、樹脂製のポリエステルメッシュからステンレス製メッシュ、さらにはニッケルメッキが施されたステンレスメッシュへとスクリーンメッシュの材質が変化している。ステンレスメッシュ表面のシミ、変色や、ニッケルメッキの変色は、インキ、ペーストの濡れ性を微妙に変化させ、印刷不良につながる。 For example, in screen printing, as the printing line width increases, the screen mesh used for printing becomes finer, and spots and discoloration that occur on the surface of the screen mesh become more problematic. Further, in order to reduce the distortion of the screen mesh, the material of the screen mesh is changed from a polyester mesh made of resin to a stainless steel mesh and further to a stainless steel mesh plated with nickel. Stain, discoloration on the surface of the stainless steel mesh, and discoloration of the nickel plating slightly change the wettability of the ink and paste, leading to poor printing.
しかしながら、二塩基酸エステルを含む洗浄剤で、高精細化したスクリーン版のインキ、ペーストを洗浄した場合、特に、水を含有する洗浄剤において、スクリーン版にシミや変色を引き起こすという問題がある。また、フラックスの洗浄やディスペンサーの洗浄等においても同様の問題がある。 However, when a high-definition screen plate ink or paste is washed with a detergent containing a dibasic acid ester, there is a problem in that a stain or discoloration is caused on the screen plate, particularly in a detergent containing water. There are also similar problems in flux cleaning and dispenser cleaning.
また、洗浄剤の使用開始時にはシミや変色が発生していなくとも、使用継続中にシミや変色が発生することがある。これは、初期には水を含有していない場合でも、洗浄後のリンス工程で使用されるリンス水の混入、外気の湿気の混入等により、使用前及び使用中に洗浄剤の中に水が混入する場合があるためである。そのため、洗浄条件によって安定な仕上がりを継続できないという観点でも問題がある。 Even if no stain or discoloration occurs at the start of use of the cleaning agent, the stain or discoloration may occur during continued use. Even if it does not contain water in the initial stage, water may be contained in the cleaning agent before and during use due to contamination of rinsing water used in the rinsing process after washing, moisture in the outside air, etc. This is because it may be mixed. Therefore, there is also a problem from the viewpoint that a stable finish cannot be continued depending on the cleaning conditions.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、水が含まれない場合のみならず、工業用洗浄用途に有用である二塩基酸エステルを含む洗浄剤の欠点である、洗浄剤に水が含まれる場合にも、洗浄後に洗浄物に顕著に発生するシミ、変色を無くし、優れた洗浄力を発揮、維持しつつ、高度な仕上がりを安定して継続できる洗浄剤、及びそれを用いた洗浄方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and is a cleaning agent that is a defect of a cleaning agent containing a dibasic acid ester that is useful not only when water is not included but also for industrial cleaning applications. Even when water is contained, a cleaning agent that eliminates stains and discoloration that are noticeably generated on the cleaning object after cleaning, exhibits and maintains excellent cleaning power, and can stably maintain a high level of finish. The purpose is to provide a cleaning method.
本発明者は、上記課題を達成するため鋭意検討を重ねた結果、二塩基酸エステルを含み、イオウ含有量が一定濃度以下の洗浄剤を用いることにより上記問題が解決されることを見出した。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventor has found that the above problem can be solved by using a detergent containing a dibasic acid ester and having a sulfur content of a certain concentration or less.
That is, the present invention is as follows.
〔1〕
二塩基酸エステルを含み、イオウ含有量が12ppm以下である、洗浄剤。
〔2〕
水をさらに含む、前項〔1〕に記載の洗浄剤。
〔3〕
式(1)で表されるグリコールエーテルをさらに含む、前項〔1〕又は〔2〕に記載の洗浄剤。
R1O−(R2O)n−R3 (1)
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、R2は炭素数2〜5のアルキレン基であり、R3は水素、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、nは1〜4の整数を示す。)
〔4〕
前記二塩基酸エステルが、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、及びコハク酸ジメチルからなる群から選ばれる1種以上である、前項〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔5〕
前記二塩基酸エステルが、下記(a)、(b)、及び(c)の混合物を含む、前項〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
(a)アジピン酸ジメチル 1〜60質量%
(b)グルタル酸ジメチル 10〜80質量%
(c)コハク酸ジメチル 5〜40質量%
〔6〕
前記二塩基酸エステルの含有量が、4.99〜95質量%である、前項〔1〕〜〔5〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔7〕
前記水の含有量が、0.01〜30質量%である、前項〔2〕〜〔6〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔8〕
前記グリコールエーテルの含有量が、4.99〜95質量%である、前項〔3〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔9〕
インキ、ペーストの洗浄用である、前項〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔10〕
フラックスの洗浄用である、前項〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔11〕
ディスペンサーの洗浄用である、前項〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔12〕
前項〔1〕〜〔11〕のいずれか1項に記載の洗浄剤を用いる、洗浄方法。
[1]
A cleaning agent comprising a dibasic acid ester and having a sulfur content of 12 ppm or less.
[2]
The cleaning agent according to item [1], further comprising water.
[3]
The cleaning agent according to [1] or [2] above, further comprising a glycol ether represented by the formula (1).
R 1 O— (R 2 O) n —R 3 (1)
(In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, R 2 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, R 3 is hydrogen, and 1 carbon atom. -6 alkyl group or a C3-C6 cycloalkyl group, n shows the integer of 1-4.)
[4]
The cleaning agent according to any one of [1] to [3], wherein the dibasic acid ester is one or more selected from the group consisting of dimethyl adipate, dimethyl glutarate, and dimethyl succinate.
[5]
The cleaning agent according to any one of [1] to [4], wherein the dibasic acid ester includes a mixture of the following (a), (b), and (c).
(A) Dimethyl adipate 1-60 mass%
(B) Dimethyl glutarate 10-80% by mass
(C) Dimethyl succinate 5-40% by mass
[6]
The cleaning agent according to any one of [1] to [5], wherein the content of the dibasic acid ester is 4.99 to 95% by mass.
[7]
The cleaning agent according to any one of [2] to [6], wherein the water content is 0.01 to 30% by mass.
[8]
The cleaning agent according to any one of [3] to [7], wherein the glycol ether content is 4.99 to 95% by mass.
[9]
The cleaning agent according to any one of [1] to [8], which is used for cleaning ink and paste.
[10]
The cleaning agent according to any one of [1] to [8], wherein the cleaning agent is for flux cleaning.
[11]
The cleaning agent according to any one of [1] to [8], which is used for cleaning a dispenser.
[12]
A cleaning method using the cleaning agent according to any one of [1] to [11].
本発明により、水が含まれない場合のみならず、工業用洗浄用途に有用である二塩基酸エステルを含む洗浄剤の欠点である、水が含まれる場合にも、洗浄後に洗浄物に顕著に発生するシミ、変色を無くし、優れた洗浄力を発揮、維持しつつ、高度な仕上がりを安定して継続できる洗浄剤、及びそれを用いて簡便で安定した洗浄方法を実現することができる。 According to the present invention, not only when water is not contained, but also when water is included, which is a disadvantage of a detergent containing a dibasic acid ester that is useful for industrial cleaning applications, It is possible to realize a cleaning agent that eliminates stains and discoloration that occurs, exhibits and maintains excellent cleaning power, and can stably maintain a high degree of finish, and a simple and stable cleaning method using the same.
以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. However, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made without departing from the gist thereof. Is possible.
〔洗浄剤〕
本実施形態の洗浄剤は、二塩基酸エステルを含み、イオウ含有量が12ppm以下である。
〔Washing soap〕
The cleaning agent of this embodiment contains a dibasic acid ester and has a sulfur content of 12 ppm or less.
〔イオウ含有量〕
イオウ含有量が12ppm以下であることにより、洗浄物のシミ、発生を抑制できる。二塩基酸エステルを含む洗浄剤中のイオウ含有量は、好ましくは6ppm以下、より好ましくは2ppm以下である。また、イオウ含有量の下限値は特に制限されないが、少ないほど好ましく、より好ましくは0.01ppmである。なお、洗浄剤中のイオウ含有量は、燃焼−イオンクロマトグラフィーによって硫酸イオンとして検出し、測定できる。より詳細には、実施例に記載の方法により測定することができる。
[Sulfur content]
When the sulfur content is 12 ppm or less, it is possible to suppress stains and generation of the washed product. The sulfur content in the detergent containing the dibasic acid ester is preferably 6 ppm or less, more preferably 2 ppm or less. The lower limit of the sulfur content is not particularly limited, but it is preferably as low as possible, more preferably 0.01 ppm. The sulfur content in the cleaning agent can be detected and measured as sulfate ion by combustion-ion chromatography. In more detail, it can measure by the method as described in an Example.
洗浄剤中のイオウ含有量を12ppm以下に制御する方法としては、不純物として含まれるイオウ化合物が除去された二塩基酸エステルを用いることが挙げられる。 As a method for controlling the sulfur content in the cleaning agent to 12 ppm or less, use of a dibasic acid ester from which a sulfur compound contained as an impurity is removed can be mentioned.
〔二塩基酸エステル〕
本実施形態に用いる二塩基酸エステルとしては、特に限定されないが、具体的には、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸等の二塩基酸のアルキルエステルであることが好ましい。アルキル基の具体例としては、特に限定されないが、具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。このなかでも、炭素数4以下のアルキル基が好ましく、メチル基がさらに好ましい。二塩基酸エステルとしてはアジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、及びコハク酸ジメチルからなる群から選ばれる1種以上であることがより好ましい。このような二塩基酸エステルであれば、より優れた洗浄力を有する洗浄剤となる。
[Dibasic acid ester]
Although it does not specifically limit as dibasic acid ester used for this embodiment, Specifically, it is preferable that it is alkyl ester of dibasic acids, such as adipic acid, glutaric acid, and succinic acid. Although it does not specifically limit as a specific example of an alkyl group, Specifically, C1-C6 alkyl, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, etc. Groups. Among these, an alkyl group having 4 or less carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable. The dibasic acid ester is more preferably at least one selected from the group consisting of dimethyl adipate, dimethyl glutarate, and dimethyl succinate. If it is such a dibasic acid ester, it will become the cleaning agent which has the more outstanding cleaning power.
(二塩基酸エステルのイオウ含有量)
本実施形態の洗浄剤中のイオウ含有量が、二塩基酸エステルに不純物として含まれるイオウ化合物に由来している場合、二塩基酸エステルに含まれるイオウ含有量は、好ましくは20ppm以下、より好ましくは15ppm以下、さらに好ましくは10ppm以下である。
(Sulfur content of dibasic acid ester)
When the sulfur content in the cleaning agent of the present embodiment is derived from a sulfur compound contained as an impurity in the dibasic acid ester, the sulfur content contained in the dibasic acid ester is preferably 20 ppm or less, more preferably Is 15 ppm or less, more preferably 10 ppm or less.
(精製方法)
二塩基酸エステル中に不純物としてイオウ化合物が含まれる場合、公知の精製法を用いて精製することにより、二塩基酸エステル中のイオウ含有量を20ppm以下に調整することができる。例えば、二塩基酸エステルと水を混合、攪拌した後、分層して有機層を取り出し、有機層を蒸留することにより、二塩基酸エステル中のイオウ含有量を20ppm以下に調整することができる。二塩基酸エステルのイオウ含有量は、燃焼−イオンクロマトグラフィーによって硫酸イオンとして検出し、測定できる。
(Purification method)
When a sulfur compound is contained as an impurity in the dibasic acid ester, the sulfur content in the dibasic acid ester can be adjusted to 20 ppm or less by purification using a known purification method. For example, after mixing and stirring a dibasic acid ester and water, the layers are separated and the organic layer is taken out, and the organic layer is distilled, whereby the sulfur content in the dibasic acid ester can be adjusted to 20 ppm or less. . The sulfur content of the dibasic acid ester can be detected and measured as sulfate ion by combustion-ion chromatography.
なお、二塩基酸エステルが複数の二塩基酸エステルの混合物である場合、上記の精製操作により混合物の組成が変化した場合は、イオウ含有量の少ない二塩基酸エステル単体を添加することにより組成を調整可能である。 In addition, when the dibasic acid ester is a mixture of a plurality of dibasic acid esters, and the composition of the mixture is changed by the above purification operation, the dibasic acid ester is added by adding a simple dibasic acid ester having a low sulfur content. It can be adjusted.
二塩基酸エステルは単独で用いても混合物で用いてもよいが、混合物で用いることがより好ましい。具体的には、二塩基酸エステルが、(a)アジピン酸ジメチル、(b)グルタル酸ジメチル、及び(c)コハク酸ジメチルの混合物を含むことが好ましい。この場合の(a)〜(c)の含有率としては、
(a)アジピン酸ジメチル 1〜60質量%
(b)グルタル酸ジメチル 10〜80質量%
(c)コハク酸ジメチル 5〜40質量%
が好ましく、
(a)アジピン酸ジメチル 5〜50質量%
(b)グルタル酸ジメチル 20〜75質量%
(c)コハク酸ジメチル 10〜30質量%
がより好ましく、
(a)アジピン酸ジメチル 10〜40質量%
(b)グルタル酸ジメチル 40〜65質量%
(c)コハク酸ジメチル 15〜25質量%
がさらに好ましい。このような混合物であることにより、より優れた洗浄力を有する洗浄剤となる。
The dibasic acid ester may be used alone or in a mixture, but is more preferably used in a mixture. Specifically, the dibasic acid ester preferably contains a mixture of (a) dimethyl adipate, (b) dimethyl glutarate, and (c) dimethyl succinate. In this case, the contents of (a) to (c) are as follows:
(A) Dimethyl adipate 1-60 mass%
(B) Dimethyl glutarate 10-80% by mass
(C) Dimethyl succinate 5-40% by mass
Is preferred,
(A) Dimethyl adipate 5-50 mass%
(B) Dimethyl glutarate 20-75 mass%
(C) Dimethyl succinate 10-30% by mass
Is more preferred,
(A) Dimethyl adipate 10-40% by mass
(B) Dimethyl glutarate 40-65 mass%
(C) Dimethyl succinate 15-25% by mass
Is more preferable. By being such a mixture, it becomes a cleaning agent having more excellent cleaning power.
洗浄剤中の二塩基酸エステルの含有量は、洗浄用途によって調整されるが、好ましくは4.99〜95質量%であり、より好ましくは10〜80質量%であり、さらに好ましくは30〜60質量%である。上記好ましい範囲であることにより、より優れた洗浄力を有する洗浄剤となる。 The content of the dibasic acid ester in the cleaning agent is adjusted depending on the cleaning use, but is preferably 4.99 to 95% by mass, more preferably 10 to 80% by mass, and further preferably 30 to 60%. % By mass. By being the said preferable range, it becomes a cleaning agent which has the more outstanding cleaning power.
〔水〕
本実施形態の洗浄剤は、水溶性汚れの溶解性向上、引火点を無くすため等の目的で水を含むことが好ましい。水の含有量としては、洗浄用途によって調整されるが好ましくは0.01〜30質量%であり、より好ましくは1〜25質量%であり、さらに好ましくは5〜15質量%である。上記好ましい範囲であることにより、水溶性汚れに対しより優れた洗浄力を有し、また、引火点が高い若しくは引火点を有さない洗浄剤となる。また、このように水が含まれたとしても、本実施形態の洗浄剤は、洗浄物にシミ、変色が発生しない高度な仕上がりを可能とする。
〔water〕
The cleaning agent of this embodiment preferably contains water for the purpose of improving the solubility of water-soluble soil and eliminating the flash point. The water content is adjusted depending on the cleaning application, but is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 1 to 25% by mass, and further preferably 5 to 15% by mass. By being the said preferable range, it has the cleaning power which was more excellent with respect to water-soluble stain | pollution | contamination, and also becomes a cleaning agent with a high flash point or a flash point. Even if water is contained in this way, the cleaning agent of the present embodiment enables a high-quality finish that does not cause stains or discoloration on the cleaning object.
〔グリコールエーテル〕
また、本実施形態の洗浄剤は、汚れに対する洗浄性向上のため、式(1)のグリコールエーテルを含むことが好ましい。
R1O−(R2O)n−R3 (1)
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、R2は炭素数2〜5のアルキレン基であり、R3は水素、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、nは1〜4の整数を示す。)
[Glycol ether]
Moreover, it is preferable that the cleaning agent of this embodiment contains the glycol ether of Formula (1) in order to improve the detergency against dirt.
R 1 O— (R 2 O) n —R 3 (1)
(In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, R 2 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, R 3 is hydrogen, and 1 carbon atom. -6 alkyl group or a C3-C6 cycloalkyl group, n shows the integer of 1-4.)
式(1)中、R1は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 In formula (1), R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, Examples include pentyl group, hexyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.
R2は炭素数2〜5のアルキレン基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。 R 2 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and specific examples include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and a pentylene group.
R3は、水素又は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、具体的には、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 3 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, specifically, hydrogen, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, pentyl Group, hexyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.
式(1)のグリコールエーテルとしては、特に限定されないが、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール及びトリプロピレングリコールの、モノアルキルエーテル、ジアルキルエーテル、モノシクロアルキルエーテル、及びシクロアルキルアルキルジエーテル等が挙げられる。なお、グリコールエーテルは単独で用いても2種以上で用いてもよい。 Although it does not specifically limit as glycol ether of Formula (1), Specifically, monoalkyl ether, dialkyl ether, monocyclo of ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol and tripropylene glycol is used. Examples thereof include alkyl ethers and cycloalkylalkyl diethers. In addition, glycol ether may be used independently or may be used by 2 or more types.
より具体的には、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキシ−1−ブタノール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。このなかでも、好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルが用いられる。 More specifically, diethylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-methoxy-1-butanol, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene Examples include glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol dimethyl ether. Of these, diethylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, dipropylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monopropyl ether are preferably used.
洗浄剤中のグリコールエーテルの含有量は、洗浄用途によって適宜調整されるが、好ましくは4.99〜95質量%、より好ましくは20〜90質量%であり、さらに好ましくは30〜60質量%である。上記好ましい範囲であることにより、より優れた洗浄力を有する洗浄剤となる。 The content of glycol ether in the cleaning agent is appropriately adjusted depending on the cleaning application, but is preferably 4.99 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and further preferably 30 to 60% by mass. is there. By being the said preferable range, it becomes a cleaning agent which has the more outstanding cleaning power.
〔その他の成分〕
本洗浄剤には、その他公知の添加剤として、界面活性剤、防錆剤、安定剤、酸化防止剤等を、必要に応じて添加することも可能である。界面活性剤としては、公知の界面活性剤を使用できる。このような界面活性剤としては、特に限定されないが、具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキルエーテル等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
[Other ingredients]
As the other known additives, surfactants, rust inhibitors, stabilizers, antioxidants, and the like can be added to the cleaning agent as necessary. A known surfactant can be used as the surfactant. Such surfactant is not particularly limited, and specific examples include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene-polyoxypropylene alkyl ether, and the like. It is not limited to.
防錆剤としては、特に限定されないが、具体的には、脂肪酸、金属石けん、アミン類、ジシクロヘキシルアンモニウム亜硝酸塩、ジイソプロピルアミン亜硝酸塩、ジシクロヘキシルアミンカプレート、ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。 Although it does not specifically limit as a rust preventive agent, Specifically, a fatty acid, metal soap, amines, dicyclohexylammonium nitrite, diisopropylamine nitrite, dicyclohexylamine caprate, benzotriazole, etc. can be mentioned.
安定剤としては、特に限定されないが、具体的には、2,5−t−ブチルハイドロキノン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4,4’−チオビス−(6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)ブロピオネート、及び4,4’−チオビス−(6−t−ブチルフェノール)等の酸化防止剤;ラウリン酸塩、ミリスチン酸塩、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩、イソステアリン酸塩、オレイン酸塩、リシノール酸塩、2−エチル−ヘキシル酸塩、イソデカン酸塩、ネオデカン酸塩、及び安息香酸カルシウム等の熱安定剤を挙げることができる。 The stabilizer is not particularly limited. Specifically, 2,5-t-butylhydroquinone, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4′-thiobis- (6-t- Butylphenol), 2,2′-methylene-bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), octadecyl-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) bropionate, and Antioxidants such as 4,4′-thiobis- (6-t-butylphenol); laurate, myristate, palmitate, stearate, isostearate, oleate, ricinoleate, 2- Mention may be made of heat stabilizers such as ethyl-hexylate, isodecanoate, neodecanoate and calcium benzoate.
酸化防止剤としては、特に限定されないが、具体的には、ヒンダードフェノール系化合物、リン系化合物等を挙げることができる。 Although it does not specifically limit as antioxidant, Specifically, a hindered phenol type compound, a phosphorus type compound, etc. can be mentioned.
〔洗浄剤の製造方法〕
本実施形態の洗浄剤は、上記各成分を公知の方法により混合することにより製造することができる。
[Production method of cleaning agent]
The cleaning agent of this embodiment can be produced by mixing the above components by a known method.
〔用途〕
本実施形態の洗浄剤は、スクリーン版印刷等に付着したインキ、ペースト除去用の洗浄剤に用いることができる。本実施形態の洗浄剤は、インキ、ペーストに含まれる樹脂成分、溶剤成分を溶解、分散し、効率良くインキ、ペースト汚れを除去することができる。インキ、ペースト用の洗浄剤は、必要に応じて、水、グリコールエーテル、及びモノエステルからなる群から選ばれる少なくとも1種以上を含んでもよい。この場合水の好ましい割合としては、0.01〜30質量%、グリコールエーテルの好ましい割合としては4.99〜95質量%、モノエステルの好ましい割合としては40〜70質量%である。モノエステルとしては、特に限定されないが、具体的には、γ−ブチロラクトン、3−メトキシ−3−メチルアセテート、グリコールエーテルアセテート、酢酸アルキルエステル、乳酸アルキルエステル等が挙げられる。
[Use]
The cleaning agent of this embodiment can be used as a cleaning agent for removing ink and paste adhered to screen printing or the like. The cleaning agent of this embodiment can dissolve and disperse the resin component and solvent component contained in the ink and paste, and can efficiently remove ink and paste stains. The cleaning agent for ink and paste may contain at least one selected from the group consisting of water, glycol ether, and monoester, if necessary. In this case, the preferable ratio of water is 0.01 to 30% by mass, the preferable ratio of glycol ether is 4.99 to 95% by mass, and the preferable ratio of monoester is 40 to 70% by mass. The monoester is not particularly limited, and specific examples include γ-butyrolactone, 3-methoxy-3-methyl acetate, glycol ether acetate, acetic acid alkyl ester, and lactate alkyl ester.
本実施形態の洗浄剤は、電子部品に付着したハンダ付けに用いられるフラックス除去用の洗浄剤に用いることができる。本実施形態の洗浄剤は、フラックスに含まれるロジン成分を溶解、分散し、効率良くフラックスの汚れを除去することができる。フラックス用の洗浄剤は、必要に応じて、水、グリコールエーテル、及びモノエステルからなる群から選ばれる少なくとも1種以上を含んでもよい。この場合、水の好ましい割合としては、0.01〜30質量%、グリコールエーテルの好ましい割合としては4,99〜95質量%、モノエステルの好ましい割合としては40〜70質量%である。モノエステルとしては、前記同様のものが挙げられる。 The cleaning agent of the present embodiment can be used as a cleaning agent for removing flux used for soldering attached to an electronic component. The cleaning agent of this embodiment can dissolve and disperse the rosin component contained in the flux, and can efficiently remove the dirt on the flux. The cleaning agent for flux may contain at least one selected from the group consisting of water, glycol ethers, and monoesters as necessary. In this case, the preferable ratio of water is 0.01 to 30% by mass, the preferable ratio of glycol ether is 4,99 to 95% by mass, and the preferable ratio of monoester is 40 to 70% by mass. Examples of the monoester include those described above.
本実施形態の洗浄剤は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等の液状樹脂を混合吐出するディスペンサーに付着した樹脂除去用の洗浄剤に用いることができる。本実施形態の洗浄剤は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等の液状樹脂を溶解、分散し、効率よく樹脂汚れを除去することができる。ディスペンサー用の洗浄剤は、必要に応じて、グリコールエーテル、モノエステル、炭化水素、及びアミド化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種以上を含んでもよい。この場合、グリコールエーテルの好ましい割合としては4.99〜95質量%、モノエステルの好ましい割合としては40〜70質量%、炭化水素の好ましい割合としては、10〜40質量%、アミド化合物の好ましい割合としては、10〜40質量%である。モノエステルの例としては、前記同様のものが挙げられる。炭化水素としては、特に限定されないが、具体的には、デカン、ドデカン、テトラデカン等の飽和炭化水素;1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン等の不飽和炭化水素が挙げられる。また、アミド化合物としては、特に限定されないが、具体的には、1−メチル−2−ピロリドン、1−エチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N,N−ジアルキル−3−メトシキプロピオンアミド、N,N−ジアルキル−3−ブトキシキプロピオンアミド等が挙げられる。 The cleaning agent of this embodiment can be used as a cleaning agent for removing a resin attached to a dispenser that mixes and discharges a liquid resin such as an epoxy resin, a urethane resin, or a silicon resin. The cleaning agent of this embodiment can dissolve and disperse a liquid resin such as an epoxy resin, a urethane resin, and a silicone resin, and can efficiently remove resin stains. The cleaning agent for the dispenser may contain at least one selected from the group consisting of glycol ethers, monoesters, hydrocarbons, and amide compounds, if necessary. In this case, the preferred proportion of glycol ether is 4.99 to 95 mass%, the preferred proportion of monoester is 40 to 70 mass%, the preferred proportion of hydrocarbon is 10 to 40 mass%, the preferred proportion of amide compound As, it is 10-40 mass%. Examples of the monoester include the same ones as described above. Although it does not specifically limit as hydrocarbon, Specifically, unsaturated hydrocarbons, such as decane, dodecane, and tetradecane; Unsaturated hydrocarbons, such as 1-decene, 1-dodecene, and 1-tetradecene, are mentioned. Further, the amide compound is not particularly limited, and specifically, 1-methyl-2-pyrrolidone, 1-ethyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N, N-dialkyl -3-methoxypropionamide, N, N-dialkyl-3-butoxypropionamide and the like.
〔洗浄方法〕
本実施形態の洗浄方法は、上記洗浄剤を用いる。以下に本実施形態の洗浄剤を用いる洗浄方法について説明する。なお、本実施形態の洗浄剤を用いる洗浄方法は、公知の洗浄用の用具、洗浄機を用いて行うことができる。
[Cleaning method]
The cleaning method of this embodiment uses the above cleaning agent. A cleaning method using the cleaning agent of this embodiment will be described below. In addition, the washing | cleaning method using the cleaning agent of this embodiment can be performed using the well-known cleaning tool and washing machine.
例えば、超音波発振子を備えた洗浄槽に洗浄液を満たし、スクリーン版、メタルマスク版、電子部品、ディスペンサー部品を浸漬して、超音波洗浄し、洗浄後、エアブローや熱風で乾燥する方法が挙げられる。必要に応じて、洗浄と乾燥の間に、超音波発振子を設けたリンス槽で水リンスを加えることも挙げられる。 For example, a cleaning tank equipped with an ultrasonic oscillator is filled with a cleaning solution, a screen plate, a metal mask plate, an electronic component, a dispenser component are immersed, ultrasonically cleaned, and after cleaning, dried by air blow or hot air. It is done. If necessary, water rinsing may be added in a rinsing tank provided with an ultrasonic oscillator between washing and drying.
また、超音波洗浄の代わりに、洗浄液をポンプで汲み上げ、スクリーン版、メタルマスク版、電子部品、ディスペンサー部品に吹き付けて洗浄するスプレー洗浄も挙げられる。
ディスペンサー洗浄の場合は、樹脂混合タンク内に洗浄液を注入し、ディスペンサー自身の攪拌翼で攪拌して樹脂混合タンク内を洗浄し、洗浄後、洗浄液を樹脂混合タンク内から排液する方法も挙げられる。
Further, instead of ultrasonic cleaning, there is also spray cleaning in which cleaning liquid is pumped up and sprayed onto a screen plate, a metal mask plate, an electronic component, or a dispenser component.
In the case of dispenser cleaning, there is a method in which a cleaning liquid is injected into the resin mixing tank, and the resin mixing tank is cleaned by stirring with a stirring blade of the dispenser itself, and after cleaning, the cleaning liquid is discharged from the resin mixing tank. .
以下、本発明を実施例、比較例に基づいて具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited at all by the following examples.
[実施例1〜36及び比較例1〜36]
表1に示す二塩基酸エステル1〜36を調製した。表1中、アジピン酸ジメチル(インビスタジャパン株式会社製;DBE−6)をDMA、グルタル酸ジメチル(インビスタジャパン株式会社製;DBE−5)をDMG、コハク酸ジメチル(インビスタジャパン株式会社製;DBE−4)をDMSと略する。調整はDMA、DMG、DMSの単体及びDMA、DMG、DMSの混合物(インビスタジャパン株式会社製;DBE)を適宜測量して行った。表1中の各成分の数値は、二塩基酸エステル全体に対する質量%を示した。
[Examples 1-36 and Comparative Examples 1-36]
Dibasic acid esters 1-36 shown in Table 1 were prepared. In Table 1, dimethyl adipate (Invista Japan Co., Ltd .; DBE-6) is DMA, dimethyl glutarate (Invista Japan Co., Ltd .; DBE-5) is DMG, dimethyl succinate (Invista Japan Co., Ltd .; DBE-) 4) is abbreviated as DMS. Adjustment was carried out by appropriately measuring DMA, DMG and DMS alone and a mixture of DMA, DMG and DMS (manufactured by Invista Japan Co., Ltd .; DBE). The numerical value of each component in Table 1 indicates mass% with respect to the entire dibasic acid ester.
二塩基酸エステル1〜36を用いて、表2に示す洗浄剤A1〜X1、表3に示す洗浄剤A2〜X2、表4に示す洗浄剤A3〜X3を調製した。 Using dibasic acid esters 1 to 36, cleaning agents A1 to X1 shown in Table 2, cleaning agents A2 to X2 shown in Table 3, and cleaning agents A3 to X3 shown in Table 4 were prepared.
表2中、ジエチレングリコールブチルエーテル(日本乳化剤株式会社製;BDG)をBDGと略した。表2中の各成分の数値のうち、イオウ含有量は洗浄剤全体に対する含有量(ppm)を示し、その他の成分の値は洗浄剤全体に対する質量%を示した。 In Table 2, diethylene glycol butyl ether (Nippon Emulsifier Co., Ltd .; BDG) was abbreviated as BDG. Among the numerical values of each component in Table 2, the sulfur content indicates the content (ppm) with respect to the entire cleaning agent, and the values of the other components indicate mass% with respect to the entire cleaning agent.
表3中、ジプロピレングリコールメチルエーテル(ダウケミカル日本株式会社製;ダワノールDPM)をDPMと略した。表3中の各成分の数値のうち、イオウ含有量は洗浄剤全体に対する含有量(ppm)を示し、その他の成分の値は洗浄剤全体に対する質量%を示した。 In Table 3, dipropylene glycol methyl ether (Dow Chemical Japan Co., Ltd .; Dawanol DPM) was abbreviated as DPM. Among the numerical values of each component in Table 3, the sulfur content indicates the content (ppm) with respect to the entire cleaning agent, and the values of the other components indicate mass% with respect to the entire cleaning agent.
表4中、ジプロピレングリコールプロピルエーテル(ダウケミカル日本株式会社製;ダワノールDPnP)をDPPと略した。表4中の各成分の数値のうち、イオウ含有量は洗浄剤全体に対する含有量(ppm)を示し、その他の成分の値は洗浄剤中全体に対する質量%を示した。 In Table 4, dipropylene glycol propyl ether (Dow Chemical Japan Co., Ltd .; Dawanol DPnP) was abbreviated as DPP. Among the numerical values of each component in Table 4, the sulfur content indicates the content (ppm) with respect to the entire cleaning agent, and the values of the other components indicate mass% with respect to the entire cleaning agent.
洗浄剤A1〜X1を用いて下記試験(1)、(2)を行い、結果を表5にまとめた。洗浄剤A2〜X2を用いて下記試験(1)、(3)を行い、結果を表6にまとめた。洗浄剤A3〜X3を用いて下記試験(1)、(4)を行い、結果を表7にまとめた。 The following tests (1) and (2) were performed using the cleaning agents A1 to X1, and the results are summarized in Table 5. The following tests (1) and (3) were performed using cleaning agents A2 to X2, and the results are summarized in Table 6. The following tests (1) and (4) were performed using cleaning agents A3 to X3, and the results are summarized in Table 7.
〔イオウ含有量の測定方法〕
洗浄剤中、及び二塩基酸エステル中のイオウ含有量は、燃焼−イオンクロマトグラフィーによって硫酸イオンとして検出し、測定した。
[Measurement method of sulfur content]
The sulfur content in the detergent and in the dibasic acid ester was detected and measured as sulfate ion by combustion-ion chromatography.
(1)シミ、変色試験
400メッシュのスクリーン版用ステンレス製ニッケルメッキメッシュに表2、表3、表4に示す洗浄剤を塗布し、80℃で熱風乾燥した。乾燥後のメッシュ表面を目視観察し、メッシュ表面の外観変化を下記基準で判定した。シミ、変色の区別は、外観変化部分をエタノールで拭き取り、消失した場合をシミ、残留した場合を変色と判断した。
◎:シミ無し ◎:変色無し
○:ほとんどシミ無し ○:ほとんど変色無し
×:明らかにシミ有り ×:明らかに変色有り
(1) Stain, Discoloration Test The cleaning agents shown in Table 2, Table 3, and Table 4 were applied to a 400-mesh stainless steel nickel plating mesh for screen plates, and dried with hot air at 80 ° C. The mesh surface after drying was visually observed, and the appearance change of the mesh surface was determined according to the following criteria. The distinction between spots and discoloration was determined by wiping the appearance-changing portion with ethanol and erasing it when it disappeared, and when it remained as discoloration.
◎: No stain ◎: No discoloration ○: Almost no discoloration ○: Almost no discoloration ×: Obvious discoloration ×: Clear discoloration
(2)洗浄性;フラックス洗浄試験
フラックス成分であるロジン(和光純薬工業株式会社製;ロジン)約0.1gを溶融塗布したガラスエポキシ製基板を表2の洗浄剤に浸漬した。浸漬中、5分間、周波数40kHz、温度50℃の条件で超音波洗浄を行い、次いで1分間超音波仕上げ洗浄を行った。その後に、エアブローで液を切り、乾燥後の基板表面のロジン残渣を目視観察し、下記基準で洗浄性を判定した。
◎:ロジン残渣無し
○:ほとんどロジン残渣無し
×:明らかにロジン残渣有り
(2) Detergency; flux cleaning test A glass epoxy substrate on which about 0.1 g of rosin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .; rosin), which is a flux component, was melt-coated was immersed in the cleaning agent shown in Table 2. During immersion, ultrasonic cleaning was performed for 5 minutes under conditions of a frequency of 40 kHz and a temperature of 50 ° C., and then ultrasonic finishing cleaning was performed for 1 minute. Thereafter, the liquid was cut off by air blow, the rosin residue on the substrate surface after drying was visually observed, and the cleaning property was determined according to the following criteria.
◎: No rosin residue ○: Almost no rosin residue ×: Clearly rosin residue
(3)洗浄性;インキ、ペースト洗浄試験
インキ(太陽インキ製;S−100Y)約0.1gを200メッシュのステンレス製メッシュに付着させ、表3の洗浄剤に浸漬した。浸漬中、5分間、周波数40kHz、温度35℃の条件で超音波洗浄を行い、次いで1分間超音波仕上げ洗浄を行った。その後に、エアブローで液を切り、80℃の温風で10分間乾燥後のメッシュ表面のインキ残渣を目視観察し、下記基準で洗浄性を判定した。
◎:インキ残渣無し
○:ほとんどインキ残渣無し
×:明らかにインキ残渣有り
(3) Detergency: Ink and paste cleaning test About 0.1 g of ink (manufactured by Taiyo Ink; S-100Y) was attached to a 200 mesh stainless steel mesh and immersed in the cleaning agents shown in Table 3. During immersion, ultrasonic cleaning was performed for 5 minutes under the conditions of a frequency of 40 kHz and a temperature of 35 ° C., followed by ultrasonic finishing cleaning for 1 minute. Thereafter, the liquid was cut by air blow, and the ink residue on the mesh surface after drying for 10 minutes with hot air at 80 ° C. was visually observed, and the detergency was determined according to the following criteria.
◎: No ink residue ○: Almost no ink residue ×: Clearly ink residue
(4)洗浄性;ディスペンサー洗浄試験
内径0.3mmのディスペンサーノズルに、シール剤(協立化学産業株式会社製;熱硬化型シール剤ワールドロック780P)を塗布し、表4の洗浄剤に浸漬した。浸漬中、周波数28kHz、温度30〜40℃の条件で30分間超音波洗浄を行い、次いで30分間超音波仕上げ洗浄を行った後に、エアブローで液を切り、乾燥後のノズルのシール剤残渣を目視観察し、下記基準で洗浄性を判定した。
◎:シール剤残渣無し
○:ほとんどシール剤残渣無し
×:明らかにシール剤残渣有り
(4) Detergency: Dispenser cleaning test A sealant (manufactured by Kyoritsu Chemical Industry Co., Ltd .; thermosetting sealant Worldlock 780P) was applied to a dispenser nozzle having an inner diameter of 0.3 mm and immersed in the cleaning agents shown in Table 4. . During immersion, ultrasonic cleaning is performed for 30 minutes at a frequency of 28 kHz and a temperature of 30 to 40 ° C., and then ultrasonic finishing cleaning is performed for 30 minutes. Then, the liquid is cut off by air blow, and the sealant residue of the nozzle after drying is visually observed. Observing and judging the cleaning properties according to the following criteria.
◎: No sealant residue ○: Almost no sealant residue ×: Clearly sealant residue
本発明の洗浄剤、洗浄方法は、金属製部品、プラスチック製部品、ガラス製部品、スクリーン版、メタルマスク、樹脂液吐出ディスペンサー部品、電子部品、電子回路基板等の工業用洗浄に用いられる洗浄剤、洗浄方法として好適である。 The cleaning agent and cleaning method of the present invention are used for industrial cleaning of metal parts, plastic parts, glass parts, screen plates, metal masks, resin liquid discharge dispenser parts, electronic parts, electronic circuit boards and the like. It is suitable as a cleaning method.
Claims (12)
R1O−(R2O)n−R3 (1)
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、R2は炭素数2〜5のアルキレン基であり、R3は水素、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、nは1〜4の整数を示す。) The cleaning agent according to claim 1 or 2, further comprising a glycol ether represented by the formula (1).
R 1 O— (R 2 O) n —R 3 (1)
(In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, R 2 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, R 3 is hydrogen, and 1 carbon atom. -6 alkyl group or a C3-C6 cycloalkyl group, n shows the integer of 1-4.)
(a)アジピン酸ジメチル 1〜60質量%
(b)グルタル酸ジメチル 10〜80質量%
(c)コハク酸ジメチル 5〜40質量% The cleaning agent according to any one of claims 1 to 4, wherein the dibasic acid ester comprises a mixture of the following (a), (b), and (c).
(A) Dimethyl adipate 1-60 mass%
(B) Dimethyl glutarate 10-80% by mass
(C) Dimethyl succinate 5-40% by mass
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2012160679A JP6199013B2 (en) | 2012-07-19 | 2012-07-19 | Cleaning agent and cleaning method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2014019810A true JP2014019810A (en) | 2014-02-03 |
| JP6199013B2 JP6199013B2 (en) | 2017-09-20 |
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ID=50195083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012160679A Active JP6199013B2 (en) | 2012-07-19 | 2012-07-19 | Cleaning agent and cleaning method |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP6199013B2 (en) |
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| JP6199013B2 (en) | 2017-09-20 |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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