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JP2014007020A - Light-emitting panel and light-emitting panel manufacturing method - Google Patents

Light-emitting panel and light-emitting panel manufacturing method Download PDF

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JP2014007020A JP2012140743A JP2012140743A JP2014007020A JP 2014007020 A JP2014007020 A JP 2014007020A JP 2012140743 A JP2012140743 A JP 2012140743A JP 2012140743 A JP2012140743 A JP 2012140743A JP 2014007020 A JP2014007020 A JP 2014007020A
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light emitting
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emitting panel
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Osamu Tsuzaki
修 津崎
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Harison Toshiba Lighting Corp
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Abstract

【課題】製造工程で量産性に優れた製法の共通化が図れる構成の発光パネルを実現する。
【解決手段】光を放出する光放出部10bと、し外部光L3・L4を透過させる光透過部10aを備えた発光パネルである。透過発光領域10は、光を放出する光放出部と、光を透過させる光透過部と、を有する。光放出部は、光を放出する発光部と、光を遮光するとともに反射する導電性の反射層13と、を有する。発光部は、反射層13の一面に電気的に接続される導電性で透光性の第1電極層12と、この第1電極層12と対向配置された導電性で透光性の第2電極層15と、この第2電極層15と前記第1電極層12との間に介在される有機EL層14と、を有する。光透過部は、反射層13の位置しない第1電極層12と、第2電極層15と、有機EL層14と、を有する。光透過部10aの第1電極層12と有機EL層14との空間には樹脂層(絶縁性光透過層)18を充填する。
【選択図】図7
A light-emitting panel having a structure capable of sharing a manufacturing method excellent in mass productivity in a manufacturing process is realized.
The light emitting panel includes a light emitting portion that emits light and a light transmitting portion that transmits external light. The transmissive light emitting region 10 includes a light emitting part that emits light and a light transmissive part that transmits light. The light emitting unit includes a light emitting unit that emits light, and a conductive reflective layer 13 that blocks and reflects light. The light emitting portion includes a conductive and translucent first electrode layer 12 electrically connected to one surface of the reflective layer 13, and a conductive and translucent second electrode disposed opposite to the first electrode layer 12. An electrode layer 15 and an organic EL layer 14 interposed between the second electrode layer 15 and the first electrode layer 12 are included. The light transmission part includes the first electrode layer 12, the second electrode layer 15, and the organic EL layer 14 where the reflective layer 13 is not located. A space between the first electrode layer 12 and the organic EL layer 14 of the light transmitting portion 10a is filled with a resin layer (insulating light transmitting layer) 18.
[Selection] Figure 7

Description

この発明の実施形態は、発光パネルおよび発光パネル製造方法に関する。   Embodiments described herein relate generally to a light emitting panel and a light emitting panel manufacturing method.

有機EL(Electro-Luminescence)素子の複数の発光部と複数の光透過部が構成された発光パネルが知られている。この発光パネルは、発光部が非点灯状態のときは透けて見え、発光部が点灯状態のときは照明に利用することができる。これにより、昼は明り取りの窓とし、夜は照明装置とする利用等が知られている。   A light emitting panel in which a plurality of light emitting units and a plurality of light transmitting units of an organic EL (Electro-Luminescence) element are configured is known. This light-emitting panel can be seen through when the light-emitting unit is not lit, and can be used for illumination when the light-emitting unit is lit. As a result, it is known to use a lighted window at daytime and a lighting device at night.

このような発光パネルは、発光部周辺の光透過部分は空間となっている。この空間があるために、上透明電極は下透明電極を成膜するのに用いたスピンコート法と同成膜方法が取れない、という課題がある。また、部分的に発光部を形成する必要があり、この点でも異なる製造方法が用いられる場合は、製造上の煩雑さを増し量産性を損ねる、という課題がある。   In such a light emitting panel, the light transmitting portion around the light emitting portion is a space. Because of this space, there is a problem that the upper transparent electrode cannot take the same film forming method as the spin coating method used to form the lower transparent electrode. In addition, it is necessary to partially form the light-emitting portion. In this respect, when a different manufacturing method is used, there is a problem that the manufacturing complexity is increased and the mass productivity is impaired.

特開2011−249541号公報JP 2011-249541 A

この実施形態では、量産性に優れた製造方法を用いることのできる構造の発光パネルと、この発光パネル製造方法を提供することにある。   In this embodiment, it is providing the light emitting panel of the structure which can use the manufacturing method excellent in mass-productivity, and this light emitting panel manufacturing method.

実施形態の発光パネルは、光を放出し光を透過させる透過発光領域を備えた発光パネルであって、前記透過発光領域は、光を放出する光放出部と、光を透過させる光透過部と、を有し、前記光放出部は、光を放出する発光部と、光を遮光するとともに反射する導電性の反射層と、を有し、前記発光部は、前記反射層の一面に電気的に接続される導電性で透光性の第1電極層と、該第1電極層と対向配置された導電性で透光性の第2電極層と、該第2電極層と前記第1電極層との間に介在される有機EL層と、を有し、前記光透過部は、前記反射層の位置しない前記第1電極層と、前記第2電極層と、前記有機EL層と、を有し、前記光透過部の前記第1電極層と前記有機EL層との空間に充填した樹脂層と、からなる。   The light-emitting panel according to the embodiment is a light-emitting panel that includes a transmissive light-emitting region that emits light and transmits light, and the transmissive light-emitting region includes a light emitting unit that emits light, and a light transmissive unit that transmits light. The light emitting unit includes a light emitting unit that emits light, and a conductive reflective layer that blocks and reflects light, and the light emitting unit is electrically connected to one surface of the reflective layer. A conductive and translucent first electrode layer connected to the first electrode layer; a conductive and translucent second electrode layer disposed opposite to the first electrode layer; the second electrode layer and the first electrode; An organic EL layer interposed between the first electrode layer, the second electrode layer, and the organic EL layer. And a resin layer filled in a space between the first electrode layer and the organic EL layer of the light transmission portion.

また、実施形態の発光パネル製造方法は、光を放出し光を透過させる透過発光領域を備えた発光パネルの製造方法であって、非透湿の透光性基板の表面に、透光性で導電性の第1電極層を成膜し、前記第1電極層上に導電性の反射層を成膜し、前記反射層上に有機EL層を成膜し、前記有機EL層上に透光性で導電性の第2電極層を成膜し、前記反射層の位置する以外の前記第1電極層と前記有機EL層間に樹脂を充填して樹脂層を形成し、前記反射層以外は、スピンコートで成膜し、マスクを用いて必要部分をフォトリソグラフィ法で形成した。   In addition, the light emitting panel manufacturing method of the embodiment is a method for manufacturing a light emitting panel having a transmissive light emitting region that emits light and transmits light, and is light-transmitting on the surface of a non-moisture transmissive substrate. A conductive first electrode layer is formed, a conductive reflective layer is formed on the first electrode layer, an organic EL layer is formed on the reflective layer, and light is transmitted on the organic EL layer. A conductive and conductive second electrode layer is formed, and a resin layer is formed by filling a resin between the first electrode layer and the organic EL layer other than the position of the reflective layer. A film was formed by spin coating, and a necessary portion was formed by photolithography using a mask.

この実施形態で使用される発光パネルの平面構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the planar structure of the light emission panel used by this embodiment. 図1のIa−Ib線断面の一例を表す模式図である。It is a schematic diagram showing an example of the Ia-Ib line cross section of FIG. 図1のIa−Ib線断面の他の一例を表す模式図である。It is a schematic diagram showing another example of the cross section of the Ia-Ib line of FIG. 発光パネルに関する第1の実施形態について説明するための平面構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the plane structure for demonstrating 1st Embodiment regarding a light emission panel. 図4のIIa−IIb線断面図である。It is the IIa-IIb sectional view taken on the line of FIG. 図4のIIc−IId線断面図である。It is the IIc-IId sectional view taken on the line of FIG. 図4のIIe−IIf線断面図である。It is the IIe-IIf sectional view taken on the line of FIG. 図7の一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of FIG. 発光パネルに関する第2の実施形態について説明するための平面構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the plane structure for describing 2nd Embodiment regarding a light emission panel. 図9の一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of FIG. 発光パネルに関する第3の実施形態について説明するための平面構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the plane structure for demonstrating 3rd Embodiment regarding a light emission panel. 図11の一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of FIG.

以下、実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下で説明する図面で、同一機能を有するものは同一符号を付け、その説明の繰り返しは省略する。   Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings described below, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.

図1〜図3を参照し、この実施形態で使用される発光パネルの原理について説明する。図1は、平面構成を示す概念図である。図2は、図1のIa−Ib線断面の一例を表す模式図であり、図3は、図1Ia−Ib線断面の他の一例を表す模式図である。   The principle of the light-emitting panel used in this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a conceptual diagram showing a planar configuration. FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a cross section taken along line Ia-Ib in FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic diagram illustrating another example of a cross section taken along line Ia-Ib in FIG.

図1に表した平面型の発光パネル100は、透過発光領域10と、その周囲に設けられた周辺領域20と、を有する。透過発光領域10は、後に詳述するように、光を放出し、また第1主面100Aと第2主面100Bとの間を光が透過可能な領域である。   A planar light emitting panel 100 illustrated in FIG. 1 includes a transmissive light emitting region 10 and a peripheral region 20 provided around the transmissive light emitting region 10. As will be described later in detail, the transmissive light emitting region 10 emits light and allows light to pass between the first main surface 100A and the second main surface 100B.

発光パネル100は、図2に表したように、その両側の第1主面100Aと第2主面100Bがそれぞれ平面状の板状の形態を有するものとすることができる。あるいは、第1主面100Aと第2主面100Bは、非平面であってもよい。   As shown in FIG. 2, the first main surface 100 </ b> A and the second main surface 100 </ b> B on both sides of the light emitting panel 100 may have a planar plate shape. Alternatively, the first main surface 100A and the second main surface 100B may be non-planar.

例えば、図3に例示したように、第1主面100Aと第2主面100Bのいずれか一方が曲面状であってもよい。あるいは、第1主面100Aと第2主面100Bの両方が曲面であってもよい。また、曲面は、図3に表したように凸状曲面でよく、あるいは凹状曲面でもよい。またさらに、第1主面100Aと第2主面100Bのいずか一方、あるいは両方が凹凸を有するものであってもよい。   For example, as illustrated in FIG. 3, one of the first main surface 100A and the second main surface 100B may be curved. Alternatively, both the first main surface 100A and the second main surface 100B may be curved surfaces. The curved surface may be a convex curved surface as shown in FIG. 3 or a concave curved surface. Furthermore, one or both of the first main surface 100A and the second main surface 100B may be uneven.

そして、この実施形態においては、透過発光領域10は、第1主面100Aと第2主面100Bのうちで、いずれか一方のみから光を放出する。例えば、図2および図3に矢印L1で例示したように、第1主面100Aの側からは光を放出するが、第2主面100Bの側からは光は実質的に放出しない。あるいは、これらとは逆に、第1主面100Aからは実質的に光を放出せず、第2主面100Bから光を放出するものとしてもよい。   In this embodiment, the transmissive light emitting region 10 emits light from only one of the first main surface 100A and the second main surface 100B. For example, as illustrated by the arrow L1 in FIGS. 2 and 3, light is emitted from the first main surface 100A side, but light is not substantially emitted from the second main surface 100B side. Alternatively, conversely, light may not be emitted substantially from the first main surface 100A, and light may be emitted from the second main surface 100B.

またさらに、透過発光領域10の一部は、光を透過する。例えば、図2および図3に矢印L4で表したように、第1主面100Aの側から第2主面100Bの側に光が透過可能であり、また、矢印L3で表したように、第2主面100Bの側から第1主面100Aの側に光が透過可能とされている。   Furthermore, a part of the transmissive light emitting region 10 transmits light. For example, light can be transmitted from the first main surface 100A side to the second main surface 100B side as represented by an arrow L4 in FIGS. 2 and 3, and as represented by an arrow L3, The light can be transmitted from the second main surface 100B side to the first main surface 100A side.

一方、周辺領域20は、例えば、電極パッドや駆動回路、その他、各種の周辺回路や周辺機器などが適宜設けられる領域である。なお、この実施形態においては、周辺領域20は必ずしも必須ではなく、適宜省略することも可能である。   On the other hand, the peripheral region 20 is a region where, for example, electrode pads, drive circuits, and other various peripheral circuits and peripheral devices are appropriately provided. In this embodiment, the peripheral region 20 is not always essential and can be omitted as appropriate.

図1においては、発光パネル100の平面形状として略四角形のものを例示したが、この実施形態はこれには限定されない。すなわち、発光パネル100の平面形状は、多角形、円形、楕円形、あるいはそれら以外の各種の形状とすることができる。また、透過発光領域10の平面形状も、図1に例示したように、略四角形には限定されず、多角形、円形、楕円形、あるいはそれら以外の各種の形状とすることができる。   In FIG. 1, although the substantially square thing was illustrated as the planar shape of the light emission panel 100, this embodiment is not limited to this. That is, the planar shape of the light emitting panel 100 can be a polygon, a circle, an ellipse, or various other shapes. Further, the planar shape of the transmissive light emitting region 10 is not limited to a substantially square shape as illustrated in FIG. 1, and may be a polygon, a circle, an ellipse, or various other shapes.

(第1の実施形態)
次に、図4〜図8を参照し、発光パネルの第1の実施形態について説明する。図4は、有機EL素子を光源としたトップエミッション型の発光パネルの平面構成を示す概念図である。図5は、図4のIIa−IIb線断面図である。図6は、図4のIIc−IId線断面図である。図7は、図4のIIe−IIf線断面図である。図8は、図7の一部を拡大して示す断面図である。
(First embodiment)
Next, a first embodiment of the light-emitting panel will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a conceptual diagram showing a planar configuration of a top emission type light emitting panel using an organic EL element as a light source. 5 is a cross-sectional view taken along line IIa-IIb in FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line IIc-IId in FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line IIe-IIf in FIG. FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a part of FIG.

発光パネル100は、透過発光領域10は、光透過部10aと光放出部10bとを有する。そして、透過発光領域10は、光透過部10aと光放出部10bとがストライプ状に交互に設けられた部分を有する。図4に表した具体例の場合、例えば、図7で図4のIIe−IIf線上の部分をみると、光透過部10aと光放出部10bとが交互に設けられている。   In the light emitting panel 100, the transmissive light emitting region 10 includes a light transmitting portion 10a and a light emitting portion 10b. The transmissive light emitting region 10 includes portions where the light transmissive portions 10a and the light emitting portions 10b are alternately provided in a stripe shape. In the case of the specific example shown in FIG. 4, for example, when viewing the portion on the line IIe-IIf in FIG. 4 in FIG. 7, the light transmitting portions 10a and the light emitting portions 10b are alternately provided.

発光パネル100は、非透湿の透光性基板11の上に、透明性の第1電極層12、遮光層として反射層13、発光部としての有機EL層14、透明性の第2電極層15を積層する。さらに非透湿性の保護キャップ16により封止した構造を有する。反射層13は、導電性のアルミで形成されている。従って、反射層13の一面と第1電極層12は電気的に接続されている。   The light emitting panel 100 includes a transparent first electrode layer 12, a reflective layer 13 as a light shielding layer, an organic EL layer 14 as a light emitting unit, and a transparent second electrode layer on a non-moisture transmissive substrate 11. 15 are stacked. Furthermore, it has a structure sealed with a moisture-impermeable protective cap 16. The reflective layer 13 is made of conductive aluminum. Accordingly, one surface of the reflective layer 13 and the first electrode layer 12 are electrically connected.

反射層13は、図4および図7に示すように、光放出部10bに相当する位置に配置される。反射層13の長手方向一端と第2電極層15とは、第1絶縁層171により電気的に絶縁されている。反射層13の長手方向他端と第2電極層15とは、第2絶縁層172により電気的に絶縁されている。   As shown in FIGS. 4 and 7, the reflective layer 13 is disposed at a position corresponding to the light emitting portion 10b. One end in the longitudinal direction of the reflective layer 13 and the second electrode layer 15 are electrically insulated by the first insulating layer 171. The other end in the longitudinal direction of the reflective layer 13 and the second electrode layer 15 are electrically insulated by the second insulating layer 172.

図4に表した平面構成において、第1および第2絶縁層171,172により挟まれた略四角形の領域は、透過発光領域10に相当し、第1および第2絶縁層171,172の外側の領域は、周辺領域20に相当する(図1参照)。   In the planar configuration shown in FIG. 4, a substantially rectangular region sandwiched between the first and second insulating layers 171 and 172 corresponds to the transmissive light emitting region 10, and is outside the first and second insulating layers 171 and 172. The region corresponds to the peripheral region 20 (see FIG. 1).

図6〜図8に示すように、反射層13側面の第1電極層12と有機EL層14に挟まれて形成される空間には、透明な樹脂層(絶縁性光透過層)18が設けられ充填されている。並び方向の両端に位置する反射層13の側面側にも透光性基板11の側面まで樹脂層(絶縁性光透過層)18が設けられ充填されている。樹脂層(絶縁性光透過層)18は、例えば、透明なポリイミドを充填し硬化させることで形成できる。   As shown in FIGS. 6 to 8, a transparent resin layer (insulating light transmission layer) 18 is provided in a space formed between the first electrode layer 12 and the organic EL layer 14 on the side surface of the reflective layer 13. Filled. Resin layers (insulating light transmission layers) 18 are provided and filled on the side surfaces of the reflective layers 13 located at both ends in the arrangement direction up to the side surfaces of the translucent substrate 11. The resin layer (insulating light transmission layer) 18 can be formed by filling and curing transparent polyimide, for example.

図7に示すように、複数の反射層13の並び方向の両側の第1電極層12と第2電極層15との間は、絶縁層18が介在している。この部分の絶縁層18は、図6に示す反射層13の長手方向の両端の形成した第1および第2絶縁層171,172と同様の絶縁の働をする。このため、第1および第2絶縁層171,172に相当する絶縁層の形成を絶縁層18で兼用することができる。   As shown in FIG. 7, an insulating layer 18 is interposed between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 on both sides in the arrangement direction of the plurality of reflective layers 13. The insulating layer 18 in this portion performs the same insulating action as the first and second insulating layers 171 and 172 formed at both ends in the longitudinal direction of the reflective layer 13 shown in FIG. For this reason, the insulating layer 18 can also be used to form insulating layers corresponding to the first and second insulating layers 171 and 172.

第1電極層12は、例えばITO(Indium Tin Oxide)を、厚さ150nm成膜したものである。また第1電極層12は、スズの酸化物や、インジウムとスズの酸化物などによっても形成することができる。第1電極層12は、保護キャップ16の外側まで配置し、電力が供給される一方の第1電極パッド191となる。   The first electrode layer 12 is formed by depositing, for example, ITO (Indium Tin Oxide) with a thickness of 150 nm. The first electrode layer 12 can also be formed of tin oxide, indium and tin oxide, or the like. The first electrode layer 12 is disposed to the outside of the protective cap 16 and serves as one first electrode pad 191 to which power is supplied.

有機EL層14上に積層された第2電極層15は、一端が第1絶縁層171の上面に他端が第2絶縁層172の上面、側面さらに透光性基板11に沿い、保護キャップ16の外側まで配置される。保護キャップ16の外側に配置された第2電極層15は、電力が供給される他方の第2電極パッド192となる。   The second electrode layer 15 laminated on the organic EL layer 14 has one end on the top surface of the first insulating layer 171 and the other end on the top surface and side surfaces of the second insulating layer 172 and along the translucent substrate 11. It is arranged to the outside of. The second electrode layer 15 disposed outside the protective cap 16 serves as the other second electrode pad 192 to which power is supplied.

なお、第1および第2電極パッド191,192は、いずれか一方を相手側に引き回すことで、発光パネル100の共通の側に電力供給用の電極を備えることができる。この場合、配線の引き回しを少なくすることができる。   The first and second electrode pads 191 and 192 can be provided with electrodes for power supply on the common side of the light emitting panel 100 by drawing one of them to the other side. In this case, wiring routing can be reduced.

透光性基板11は、例えば、ガラス、石英、プラスチック、樹脂類などの各種の材料により形成することができる。また、透光性基板11は、光の透過率がゼロでなければよく、無色透明、有色透明、半透明、不透明であってもよい。   The translucent substrate 11 can be formed of various materials such as glass, quartz, plastic, and resins. Further, the light-transmitting substrate 11 is not required to have zero light transmittance, and may be colorless and transparent, colored and transparent, translucent, or opaque.

発光部としては、有機EL層14に限らず、例えばLED(Light Emitting Diode)、LD(Laser Diode)などであっても構わない。   The light emitting unit is not limited to the organic EL layer 14 and may be, for example, an LED (Light Emitting Diode) or an LD (Laser Diode).

図7に示した構成によれば、第1電極パッド191と第2電極パッド192に給電すると、有機EL層14に発光を生じさせることが可能となる。図5に示すように、第1電極パッド191に供給された電力は、第1電極層12、反射層13を介して有機EL層14の一方の面に供給される。第2電極パッド192に供給された電力は、第2電極層15を介して有機EL層14の他方の面に供給される。これにより、反射層13と第2電極層15に位置する有機EL層14を発光させ発光部を中心に光を360度全周方向に放出することが可能となる。発光する有機EL層14は、光放出部10bに相当する。   According to the configuration shown in FIG. 7, when the first electrode pad 191 and the second electrode pad 192 are supplied with power, the organic EL layer 14 can emit light. As shown in FIG. 5, the power supplied to the first electrode pad 191 is supplied to one surface of the organic EL layer 14 via the first electrode layer 12 and the reflective layer 13. The power supplied to the second electrode pad 192 is supplied to the other surface of the organic EL layer 14 via the second electrode layer 15. As a result, the organic EL layer 14 positioned on the reflective layer 13 and the second electrode layer 15 can emit light, and light can be emitted 360 degrees around the light emitting portion. The organic EL layer 14 that emits light corresponds to the light emitting portion 10b.

そして、図7に示したように、有機EL層14で発光され発光パネルの第1主面100Aの側に向かう光は、第1主面100Aから放出される。一方、有機EL層14で発光され発光パネルの第2主面100Bの側に向かう光は、遮光層である反射層13が設けられている。このために、有機EL層14で発光された光は、矢印L2の方向には放出されない。矢印L2方向に向かった光L1aは、反射層13に反射されて矢印L1,L1a方向に合成され、照度向上の役割を果たす。   Then, as shown in FIG. 7, the light emitted from the organic EL layer 14 and traveling toward the first main surface 100 </ b> A of the light-emitting panel is emitted from the first main surface 100 </ b> A. On the other hand, the light emitted from the organic EL layer 14 and traveling toward the second main surface 100B side of the light emitting panel is provided with a reflective layer 13 that is a light shielding layer. For this reason, the light emitted from the organic EL layer 14 is not emitted in the direction of the arrow L2. The light L1a directed in the direction of the arrow L2 is reflected by the reflective layer 13 and is combined in the directions of the arrows L1 and L1a to play a role of improving illuminance.

一方、光透過部10aにおいては、反射層13が設けられていない。このため、図6および図7に示すように、透光性基板11、第1電極層12、樹脂層18、有機EL層14、第2電極層15を介して矢印L3の方向に光は透過可能とされる。また、矢印L3とは逆の矢印L4の方向にも、光は透過可能とされる。   On the other hand, the reflection layer 13 is not provided in the light transmission part 10a. Therefore, as shown in FIGS. 6 and 7, light is transmitted in the direction of the arrow L3 through the translucent substrate 11, the first electrode layer 12, the resin layer 18, the organic EL layer 14, and the second electrode layer 15. It is possible. Also, light can be transmitted in the direction of the arrow L4 opposite to the arrow L3.

この実施形態は、図4〜図8に示した具体例には限定されない。例えば、光放出部10b(あるいは光透光部10a)がストライプ状に形成され交互に配列したものには限定されず、縦横が等ピッチのマトリクス状であってもよい。千鳥格子状や、非周期的な各種の配置パターンであってもよい。   This embodiment is not limited to the specific examples shown in FIGS. For example, the light emitting portions 10b (or the light transmissive portions 10a) are not limited to those formed in stripes and alternately arranged, and may be in a matrix shape with equal pitches in the vertical and horizontal directions. It may be a staggered pattern or various non-periodic arrangement patterns.

また、複数の光放出部10b(あるいは、光透過部10a)の平面形状や平面サイズは、同一である必要はなく、異なる平面形状や平面サイズを有する光放出部10bを含んでもよい。   Further, the planar shape and the planar size of the plurality of light emitting portions 10b (or the light transmitting portions 10a) are not necessarily the same, and may include the light emitting portions 10b having different planar shapes and planar sizes.

また、光透過部10aと光放出部10bの面積の比率についても、図4や図7に例示したものには限定されない。光透過部10aの面積の比率を高くすれば、発光パネル100を透過する光の量を増やすことができる。反対に、光放出部10bの面積の比率を高くすれば、発光パネル100から放出される光の量を増やすことができる。従って、これら面積の比率は、発光パネル100の用途や要求される仕様、性能などに応じて適宜調整することができる。   Further, the ratio of the area of the light transmitting portion 10a and the light emitting portion 10b is not limited to that illustrated in FIGS. If the area ratio of the light transmission part 10a is increased, the amount of light transmitted through the light emitting panel 100 can be increased. On the contrary, if the ratio of the area of the light emitting portion 10b is increased, the amount of light emitted from the light emitting panel 100 can be increased. Therefore, the ratio of these areas can be appropriately adjusted according to the use of the light-emitting panel 100, required specifications, performance, and the like.

このように、導電性の反射層13を第1電極層12上に形成したことから、反射層13を独立したパターンとしても第1電極層12からの給電が可能で、任意のパターンでの点灯が可能となる。また、反射層13の側面は、樹脂層18を充填し、反射層13の上面と樹脂層18の上面を同一面とすることができる。   Since the conductive reflective layer 13 is formed on the first electrode layer 12 in this way, power can be supplied from the first electrode layer 12 even when the reflective layer 13 is an independent pattern, and lighting in an arbitrary pattern is possible. Is possible. Further, the side surface of the reflective layer 13 is filled with the resin layer 18 so that the upper surface of the reflective layer 13 and the upper surface of the resin layer 18 can be flush with each other.

これにより第2電極層15は、反射層13と樹脂層18上にスピンコートで成膜し、マスクを用いて必要部分をフォトリソグラフィ法で残す方法で形成することができる。   Thus, the second electrode layer 15 can be formed by a method of forming a film on the reflective layer 13 and the resin layer 18 by spin coating and leaving a necessary portion by a photolithography method using a mask.

樹脂層18の充填は、同様にスピンコート法を用いて、ポリイミドを並べられた反射層13間を含めて成膜しポリイミド膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングし、光透過部10aが残る形状に加工した。   Similarly, the resin layer 18 is filled by using a spin coat method to form a film including the space between the reflective layers 13 on which the polyimide is arranged, and patterning the polyimide film by a photolithography method so that the light transmitting portion 10a remains. did.

この実施形態では、第2電極層までの構成のうち反射層以外は、スピンコートで成膜し、マスクを用いて必要部分をフォトリソグラフィ法で残す製造が可能な構成の発光パネルを実現することができる。   In this embodiment, a light-emitting panel having a configuration in which a part other than the reflective layer out of the configuration up to the second electrode layer can be formed by spin coating and a necessary portion can be left by photolithography using a mask is realized. Can do.

ここで、第1の実施形態で説明した発光パネル100の製造方法を説明しながらさらに詳しく説明する。   Here, the manufacturing method of the light emitting panel 100 described in the first embodiment will be described in further detail.

非透湿の透光性基板11として、ソーダライムガラス基板(縦横100mm×100mm、厚さ=0.7mm)を用いた。透光性基板11の表面に、第1電極層12としてITOを、スパッタリング法を用いて、厚さ150nmで成膜した。   A soda-lime glass substrate (vertical and horizontal 100 mm × 100 mm, thickness = 0.7 mm) was used as the non-moisture transmissive substrate 11. An ITO film having a thickness of 150 nm was formed on the surface of the light-transmitting substrate 11 by sputtering as the first electrode layer 12.

続いて、反射層13として、反射性を有する膜を、真空蒸着法を用いて第1電極層12上に成膜した。   Subsequently, a reflective film was formed as the reflective layer 13 on the first electrode layer 12 using a vacuum deposition method.

ここで、透過発光領域10の透過率を決定するため、例えば、光透過部10aの面積比が85%の発光パネルを作成する場合には、蒸着マスクの窓部分を合計した面積がマスク全体面積の15%となるように、等間隔、且つ周期的に配列した蒸着マスクを用いて、遮光層32を形成した。反射層13としては、Al(アルミニウム)を膜厚400nm成膜した。   Here, in order to determine the transmittance of the transmissive light emitting region 10, for example, when a light emitting panel having an area ratio of the light transmissive portion 10a of 85% is created, the total area of the mask portions is the total area of the mask of the vapor deposition mask. The light shielding layer 32 was formed using vapor deposition masks arranged at regular intervals and periodically so as to be 15%. As the reflective layer 13, an Al (aluminum) film having a thickness of 400 nm was formed.

なお、反射層13は、図4に示される並びのアルミニウム製のドナーシートから熱転写する方法によっても成膜することができる。   The reflective layer 13 can also be formed by a method of thermal transfer from the aluminum donor sheets arranged in the array shown in FIG.

次に、第1電極層12であるITO膜と、後工程の第2電極層15であるITO膜との接触不良を防止する目的の第1および第2絶縁層171,172を成膜する。第1および第2絶縁層171,172は、ポリイミドを、スピンコート法を用いて、厚さ1.5μm程度の成膜で実現する。第1および第2絶縁層171,172は、光透過部10aおよび光放射部10bの長手方向両端にこれらを挟む形状に加工した。   Next, first and second insulating layers 171 and 172 are formed for the purpose of preventing poor contact between the ITO film as the first electrode layer 12 and the ITO film as the second electrode layer 15 in a later step. The first and second insulating layers 171 and 172 are realized by forming a polyimide film with a thickness of about 1.5 μm using a spin coating method. The first and second insulating layers 171 and 172 were processed into a shape sandwiching them at both ends in the longitudinal direction of the light transmitting portion 10a and the light emitting portion 10b.

次に、2波長白色発光となる有機EL層14を、真空蒸着法を用いて、ITO膜上に成膜する。有機EL層14として、まず始めに、ホール輸送層として、α−NPDを厚さ60nm成膜する。続いて青色発光層として、ホスト材料をα−NPD(ジフェニルナフチルジアミン)、ドーパント材料をペリレンとし、ドーパント濃度が1wt%となるように、厚さ20nm成膜する。次に、赤色発光層として、ホスト材料をAlq3[トリス(8−キノリノラト)アルミニウム]、ドーパント材料をDCM1とし、ドーパント濃度が1wt%となるように、厚さ40nm成膜する。最後に、エレクトロン輸送層として、Alq3を厚さ20nm成膜する。   Next, the organic EL layer 14 that emits two-wavelength white light is formed on the ITO film by vacuum evaporation. As the organic EL layer 14, first, α-NPD is deposited to a thickness of 60 nm as a hole transport layer. Subsequently, as a blue light-emitting layer, α-NPD (diphenylnaphthyldiamine) is used as the host material, perylene is used as the dopant material, and a 20 nm thick film is formed so that the dopant concentration is 1 wt%. Next, as a red light emitting layer, Alq3 [tris (8-quinolinolato) aluminum] is used as the host material, DCM1 is used as the dopant material, and a 40 nm thick film is formed so that the dopant concentration is 1 wt%. Finally, Alq3 is deposited to a thickness of 20 nm as an electron transport layer.

続いて、第2電極層15としてITOを、フォトリソグラフィ法を用いて、厚さ150nmで成膜した。   Subsequently, ITO was formed as the second electrode layer 15 with a thickness of 150 nm by using a photolithography method.

このようにして作成された有機EL素子は、外気の水分に対して非常に脆弱である。そこで、非透湿性の保護キャップ16により、有機EL層14を覆うように気密に封止した。この実施形態では、光透過部10aにおいて光透過性が必要であるため、非透湿性の保護キャップ16も光透過性を有する。   The organic EL element produced in this way is very fragile to moisture in the outside air. Therefore, the organic EL layer 14 was hermetically sealed with a non-moisture permeable protective cap 16. In this embodiment, since light transmission is required in the light transmission part 10a, the moisture-impermeable protective cap 16 also has light transmission.

非透湿性の保護キャップ16は、ソーダライムガラス基板を用いた。気密封止方法としては、ソーダライムガラス基板の縁部にUV硬化型の接着剤を塗布し、透過発光領域10を覆うように保護キャップ16を貼り合わせる。その後、有機EL層14にUVが照射されないように遮光した状態で接着剤塗布部にUVを照射し接着剤を硬化させて気密に接合する。   A soda-lime glass substrate was used as the moisture-impermeable protective cap 16. As an airtight sealing method, a UV curable adhesive is applied to the edge of the soda lime glass substrate, and the protective cap 16 is bonded so as to cover the transmissive light emitting region 10. Then, UV is irradiated to an adhesive application part in the state which shielded light so that UV may not be irradiated to the organic electroluminescent layer 14, an adhesive agent is hardened, and it joins airtightly.

この発光パネルの製造方法では、第1および第2電極層で挟まれる反射層のない空間に樹脂層を充填した。このため、第2電極層を形成するときに、スピンコートで成膜し、マスクを用いて必要部分をフォトリソグラフィ法で残す工程とすることができる。これは第1電極層の形成と同じフォトリソグラフィ法の工程を利用できることであり、製造システムの共通化を実現することができる。   In this method for manufacturing a light-emitting panel, a resin layer is filled in a space without a reflective layer sandwiched between first and second electrode layers. For this reason, when the second electrode layer is formed, a film can be formed by spin coating, and a necessary portion can be left by a photolithography method using a mask. This is because the same photolithography process as that for forming the first electrode layer can be used, and a common manufacturing system can be realized.

(第2の実施形態)
図9および図10を参照し、発光パネルに関する第2の実施形態について説明する。図9は、平面構成を示す概念図である。図10は、図9の一部を拡大して示す断面図である。
(Second Embodiment)
With reference to FIG. 9 and FIG. 10, a second embodiment relating to the light-emitting panel will be described. FIG. 9 is a conceptual diagram showing a planar configuration. FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of a part of FIG.

有機EL層14の厚みはせいぜい150μm程度である。このため、反射層13と樹脂層18の境界付近で第2電極層15が垂れてくる可能性がある。この場合は、第2電極層15と導電性の反射層13とがショートする可能性がある。この実施形態では、第2電極層15と反射層13のショートを防止したものである。   The thickness of the organic EL layer 14 is about 150 μm at most. For this reason, there is a possibility that the second electrode layer 15 hangs down near the boundary between the reflective layer 13 and the resin layer 18. In this case, the second electrode layer 15 and the conductive reflective layer 13 may be short-circuited. In this embodiment, a short circuit between the second electrode layer 15 and the reflective layer 13 is prevented.

すなわち、図10に示すように、反射層13上面と樹脂層18上面との間にギャップXを形成した。このギャップXは、反射層13の厚みBから樹脂層18の厚みCを引いた(X=B−C)である。そして、ギャップXは、有機EL層14の厚みAとの関係を、X<Aとした。   That is, as shown in FIG. 10, a gap X was formed between the upper surface of the reflective layer 13 and the upper surface of the resin layer 18. The gap X is obtained by subtracting the thickness C of the resin layer 18 from the thickness B of the reflective layer 13 (X = B−C). The relationship between the gap X and the thickness A of the organic EL layer 14 is X <A.

ギャップXと有機EL層14の厚みAがX<Aの関係の場合は、第2電極層15が垂れたときにも、反射層13と第2電極層15がショートしない十分な距離を確保することができる。このために、ショートした部分の有機EL層14の不点灯の不具合を防止することができる。   When the gap X and the thickness A of the organic EL layer 14 satisfy the relationship X <A, a sufficient distance is secured so that the reflective layer 13 and the second electrode layer 15 do not short-circuit even when the second electrode layer 15 hangs down. be able to. For this reason, the malfunction of the non-lighting of the organic EL layer 14 in the short-circuited portion can be prevented.

この実施形態では、第2電極層の垂れにともなう反射層とのショートを防止することで、有機EL層の不点灯防止に寄与する。   In this embodiment, the short-circuit with the reflective layer due to the sagging of the second electrode layer is prevented, thereby contributing to prevention of non-lighting of the organic EL layer.

(第3の実施形態)
図11および図12を参照し、発光パネルに関する第3の実施形態について説明する。図11は、平面構成を示す概念図である。図12は、図11の一部を拡大して示す断面図である。この実施形態は、第2の実施形態と同じように、第2電極層15と反射層13のショートを防止するものである。
(Third embodiment)
With reference to FIGS. 11 and 12, a third embodiment relating to a light-emitting panel will be described. FIG. 11 is a conceptual diagram showing a planar configuration. 12 is an enlarged cross-sectional view of a part of FIG. In this embodiment, as in the second embodiment, a short circuit between the second electrode layer 15 and the reflective layer 13 is prevented.

この実施形態は、図12に示すように、絶縁層18の上面の高さを反射層13の上面よりも、Yだけ高く形成したものである。   In this embodiment, as shown in FIG. 12, the height of the upper surface of the insulating layer 18 is formed higher than the upper surface of the reflective layer 13 by Y.

絶縁層18が反射層13よりも高くなった関係から、第2電極層15の垂れの発生を防止している。加えて、第2の電極層15と反射層13の間隔が広くなり、結果これらのショートの防止に寄与する。   Since the insulating layer 18 is higher than the reflective layer 13, the second electrode layer 15 is prevented from sagging. In addition, the distance between the second electrode layer 15 and the reflective layer 13 is widened, which contributes to prevention of these short circuits.

この実施形態では、第2電極層の垂れを防止し、反射層とのショートを防止することで、有機EL層の不点灯防止に寄与する。   In this embodiment, the second electrode layer is prevented from sagging and a short circuit with the reflective layer is prevented, thereby contributing to prevention of non-lighting of the organic EL layer.

上記した実施形態に限定されるものではない。例えば光透過部10aのなかに複数の光放出部10bを点在させた場合に、それぞれの光放出部10bを個別に点灯させるようにしてもよい。これは、例えば、TFT(Thin Film transistor)などのスイッチング素子を用いて実現できる。このようにすれば、透過発光領域10の一部のみを点灯させたり、また文字や図形や画像データなどを表示させたりすることも可能となる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, when a plurality of light emitting portions 10b are interspersed in the light transmitting portion 10a, each light emitting portion 10b may be individually turned on. This can be realized by using a switching element such as a TFT (Thin Film Transistor). In this way, only a part of the transmissive light emitting area 10 can be turned on, and characters, figures, image data, etc. can be displayed.

また、例えば、赤色(R)に発光する光放出部10bと、緑色(G)に発光する光放出部10bと、青色(B)に発光する光放出部10bと、を隣接して配置して画素とし、この画素を透過発光領域10に周期的に配列させることもできる。この場合、それぞれの画素の赤色と緑色と青色の発光強度を制御すれば、カラー表示も可能となる。   Further, for example, a light emitting unit 10b that emits red (R), a light emitting unit 10b that emits green (G), and a light emitting unit 10b that emits blue (B) are arranged adjacent to each other. It is also possible to form a pixel and periodically arrange the pixel in the transmissive light emitting region 10. In this case, color display is also possible by controlling the emission intensity of red, green and blue of each pixel.

上記した透過型の発光パネルは、車載分野、住宅分野、広告分野などで有機EL照明の展開にて、非常に有用となる。例えば、自動車ウインドウにこの実施形態の透過型の発光パネルをヘッドアップディスプレイとして用いた場合、発光パネルを通して、外光を取り入れることができる。   The above-described transmissive light emitting panel is very useful in the development of organic EL lighting in the in-vehicle field, the housing field, the advertising field, and the like. For example, when the transmissive light emitting panel of this embodiment is used as a head-up display in an automobile window, external light can be taken in through the light emitting panel.

また、車内を明るくしたい場合、発光パネルを点灯させることで、照明として機能させることができる。結果、外光をうまく利用することで省エネとなり、またウインドウと一体化されているため、デザイン的、空間的にも、他の車載光源では真似することができない利点を持つことができる。   In addition, when it is desired to brighten the interior of the vehicle, the lighting panel can be turned on to function as illumination. As a result, energy can be saved by making good use of outside light, and since it is integrated with the window, it can have an advantage that cannot be imitated by other in-vehicle light sources in terms of design and space.

いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、組み合わせ、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   Although several embodiments have been described, these embodiments have been presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, combinations, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

100 発光パネル
100A 第1主面
100B 第2主面
10 透過発光領域
20 周辺領域
10a 光透過部
10b 光放出部
11 透光性基板
12 第1電極層
13 反射層
14 有機EL層
15 第2電極層
16 保護キャップ
171 第1絶縁層
172 第2絶縁層
18 樹脂層
191 第1電極パッド
192 第2電極パッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Light emission panel 100A 1st main surface 100B 2nd main surface 10 Transmission light emission area | region 20 Peripheral area | region 10a Light transmission part 10b Light emission part 11 Translucent board | substrate 12 1st electrode layer 13 Reflective layer 14 Organic EL layer 15 2nd electrode layer 16 Protective cap 171 First insulating layer 172 Second insulating layer 18 Resin layer 191 First electrode pad 192 Second electrode pad

Claims (7)

光を放出し光を透過させる透過発光領域を備えた発光パネルであって、
前記透過発光領域は、光を放出する光放出部と、光を透過させる光透過部と、を有し、
前記光放出部は、光を放出する発光部と、光を遮光するとともに反射する導電性の反射層と、を有し、
前記発光部は、前記反射層の一面に電気的に接続される導電性で透光性の第1電極層と、該第1電極層と対向配置された導電性で透光性の第2電極層と、該第2電極層と前記第1電極層との間に介在される有機EL層と、を有し、
前記光透過部は、前記反射層の位置しない前記第1電極層と、前記第2電極層と、前記有機EL層と、を有し、
前記光透過部の前記第1電極層と前記有機EL層との空間に充填した樹脂層(絶縁性光透過層)と、からなる発光パネル。
A light-emitting panel having a transmissive light-emitting region that emits light and transmits light,
The transmissive light emitting region has a light emitting part that emits light and a light transmissive part that transmits light,
The light emitting portion includes a light emitting portion that emits light, and a conductive reflective layer that blocks and reflects light.
The light emitting unit includes a conductive and translucent first electrode layer electrically connected to one surface of the reflective layer, and a conductive and translucent second electrode disposed to face the first electrode layer. A layer, and an organic EL layer interposed between the second electrode layer and the first electrode layer,
The light transmission portion includes the first electrode layer where the reflective layer is not located, the second electrode layer, and the organic EL layer,
A light emitting panel comprising: a resin layer (insulating light transmitting layer) filled in a space between the first electrode layer and the organic EL layer of the light transmitting portion.
前記発光部から前記発光パネルの第1主面の側に向かう光は、該第1主面から放出し、前記発光部から前記発光パネルの第2主面の側に向かう光は、前記反射層により遮蔽した、請求項1記載の発光パネル。   Light traveling from the light emitting unit toward the first main surface of the light emitting panel is emitted from the first main surface, and light traveling from the light emitting unit toward the second main surface of the light emitting panel is reflected from the reflective layer. The light-emitting panel according to claim 1, wherein the light-emitting panel is shielded by. 前記有機EL層は、トップエミッション型の発光構造を有している請求項1または2記載の発光パネル。   The light emitting panel according to claim 1, wherein the organic EL layer has a top emission type light emitting structure. 前記反射層の上面の高さは、前記樹脂層(絶縁性光透過層)の上面より低くした、請求項1〜3の何れか1項記載の発光パネル。   The light emitting panel according to claim 1, wherein a height of an upper surface of the reflective layer is lower than an upper surface of the resin layer (insulating light transmission layer). 前記反射層の上面の高さは、前記樹脂層(絶縁性光透過層)の上面より高くした、請求項1〜3の何れか1項記載の発光パネル。   The light emitting panel according to any one of claims 1 to 3, wherein a height of an upper surface of the reflective layer is higher than an upper surface of the resin layer (insulating light transmitting layer). 光を放出し光を透過させる透過発光領域を備えた発光パネルの製造方法であって、
非透湿の透光性基板の表面に、透光性で導電性の第1電極層を成膜し、
前記第1電極層上に導電性の反射層を成膜し、
前記反射層上に有機EL層を成膜し、
前記有機EL層上に透光性で導電性の第2電極層を成膜し、
前記反射層の位置する以外の前記第1電極層と前記有機EL層間に樹脂を充填して樹脂層(絶縁性光透過層)を形成し、
前記反射層以外は、スピンコートで成膜し、マスクを用いて必要部分をフォトリソグラフィ法で形成した、発光パネルの製造方法。
A method of manufacturing a light-emitting panel having a light-emitting region that emits light and transmits light,
A light-transmitting and conductive first electrode layer is formed on the surface of the moisture-impermeable light-transmitting substrate,
Forming a conductive reflective layer on the first electrode layer;
Forming an organic EL layer on the reflective layer;
Forming a translucent and conductive second electrode layer on the organic EL layer;
Filling the resin between the first electrode layer other than the reflective layer and the organic EL layer to form a resin layer (insulating light transmission layer),
A method for manufacturing a light-emitting panel, except that the reflective layer is formed by spin coating, and necessary portions are formed by photolithography using a mask.
前記反射層は、スパッタリング法または熱転写法により形成した、請求6記載の発光パネル製造方法。   The light emitting panel manufacturing method according to claim 6, wherein the reflective layer is formed by a sputtering method or a thermal transfer method.
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