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JP2014094935A - 化合物、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

化合物、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 Download PDF

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JP2014094935A
JP2014094935A JP2013211350A JP2013211350A JP2014094935A JP 2014094935 A JP2014094935 A JP 2014094935A JP 2013211350 A JP2013211350 A JP 2013211350A JP 2013211350 A JP2013211350 A JP 2013211350A JP 2014094935 A JP2014094935 A JP 2014094935A
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JP2013211350A
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Kei Yoshida
圭 吉田
Hideaki Nagashima
英明 長島
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

【課題】有機EL素子の駆動電圧を低くできる新規な化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される化合物。
Figure 2014094935

【選択図】なし

Description

本発明は、新規な化合物、並びにそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子には、蛍光型及び燐光型があり、それぞれの発光メカニズムに応じ、最適な素子設計が検討されている。燐光型の有機EL素子については、その発光特性から、蛍光素子技術の単純な転用では高性能な素子が得られないことが知られている。
燐光発光は、三重項励起子を利用した発光であるため、発光層に用いる化合物のエネルギーギャップが大きくなくてはならない。何故なら、ある化合物のエネルギーギャップ(以下、一重項エネルギーともいう。)の値は、通常、その化合物の三重項エネルギー(本発明では、最低励起三重項状態と基底状態とのエネルギー差をいう。)の値よりも大きいからである。
燐光型の有機EL素子の材料として、本出願人はカルバゾール環とジベンゾフラン環(ジベンゾチオフェン環)をともに含有する有機EL素子用材料を開発している(例えば、特許文献1参照。)。本材料は、発光効率が高く、画素欠陥がない等の特徴を有している。
国際公開第WO2009−008100号
本発明者らは、さらに研究を進めた結果、カルバゾール環とジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環をともに含有する化合物であって、カルバゾール環の所定位置に置換基を有する化合物を使用した有機EL素子では、駆動電圧が低下することを見出した。
本発明の目的は、有機EL素子の駆動電圧を低くできる新規な化合物を提供することである。
本発明によれば、以下の化合物等が提供される。
1.下記式(1)で表される化合物。
Figure 2014094935
[式(1)中、
Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、
及びAはそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表す。
及びAはそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表す。
但し、A〜Aの少なくとも1つは、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である。
〜Rはそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
〜R12はそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
及びRはそれぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
o、pはそれぞれ、0〜3の整数を表し、
が複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよく、Rが複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよく、
、Lはそれぞれ、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環を表し、
m、nはそれぞれ、0〜3の整数を表し、m+n≧1であり、
が複数ある場合、複数のLは互いに同一でも異なっていてもよく、Lが複数ある場合、複数のLは互いに同一でも異なっていてもよい。]
2.下記式(1a)で表される1に記載の化合物。
Figure 2014094935
[式(1a)中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、L、m、n、o、pは、それぞれ、前記式(1)と同様である。]
3.下記式(1b)で表される1又は2に記載の化合物。
Figure 2014094935
[式(1b)中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、L、m、n、o、pは、それぞれ、前記式(1)と同様である。]
4.下記式(2)で表される1〜3のいずれかに記載の化合物。
Figure 2014094935
[式(2)中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、o及びpは、それぞれ、前記式(1)と同様であり、
nは、0〜3の整数を表し、
は、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
qは、0〜4の整数を表し、
が複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよい。]
5.前記A及びAの少なくとも一方が、それぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である、1〜4のいずれかに記載の化合物。
6.前記A及びAの少なくとも一方が、それぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である、1〜4のいずれかに記載の化合物。
7.前記A及びAが、それぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である、1〜4のいずれかに記載の化合物。
8.前記Lが、置換もしくは無置換のメタフェニレン基、置換もしくは無置換の3,3’−ビフェニリレン基、置換もしくは無置換のメタターフェニリレン基であり、nが0又は1である1〜7のいずれかに記載の化合物。
9.前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、又は、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環である5に記載の化合物。
10.前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、又は、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環である6に記載の化合物。
11.前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環、又は置換もしくは無置換のカルバゾール環である9に記載の化合物。
12.前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環、又は置換もしくは無置換のカルバゾール環である10に記載の化合物。
13.前記A及びAの少なくとも1つが、置換又は無置換のベンゼン環である11に記載の化合物。
14.前記A及びAの少なくとも1つが、置換又は無置換のベンゼン環である12に記載の化合物。
15.1〜14のいずれかに記載の化合物を含む有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
16.陰極と陽極との間に、発光層を含む一層以上の有機薄膜層を有し、前記有機薄膜層の少なくとも一層が、1〜14のいずれかに記載の化合物を含有する有機エレクトロルミネッセンス素子。
17.前記発光層が前記化合物を含む16に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
18.前記発光層が燐光発光材料を含有し、該燐光発光材料がイリジウム(Ir),オスミウム(Os)及び白金(Pt)から選択される金属原子のオルトメタル化錯体である16又は17に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
19.前記陰極と前記有機薄膜層との界面領域に電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくとも一方を添加してある16〜18のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
本発明によれば、有機EL素子の駆動電圧を低くできる新規な化合物、及び駆動電圧の低い有機EL素子を提供できる。
本発明の有機EL素子の一実施形態の層構成を示す概略図である。
本発明の化合物は、下記式(1)で表される。
Figure 2014094935
本発明の化合物は、式(1)のA〜Aの少なくとも1つが、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、及びシアノ基からなる群(以下、群Aという。)より選択される基であることを特徴とする。カルバゾール環の適切な位置に群Aから選択される基を導入することで、化合物の三重項エネルギーを青色燐光発光に必要な大きさに保ちながら、一重項エネルギーをわずかに小さくできる。その結果、化合物のキャリア注入性が向上するため、本化合物を適用した有機EL素子は、駆動電圧が低くなる。
上記式(1)において、Xは酸素原子又は硫黄原子を表わす。
及びAはそれぞれ、水素原子、又は、上記群Aから選択される基を表す。同様に、A及びAはそれぞれ、水素原子、又は、上記群Aから選択される基を表す。但し、上述したとおり、A〜Aの少なくとも1つは、群Aから選択される基である。
〜Rはそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表わす。
〜R12はそれぞれ、R〜Rと同様な基を表す。
及びRはそれぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表わす。
o、pはそれぞれ、0〜3の整数を表わす。
尚、Rが複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよく、Rが複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよい。
、Lはそれぞれ、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環を表わす。
m及びnはそれぞれ、0〜3の整数を表わす。但し、m+nは1以上である。
尚、Lが複数ある場合、複数のLは互いに同一でも異なっていてもよく、Lが複数ある場合、複数のLは互いに同一でも異なっていてもよい。
上記式(1)のうち、下記式(1a)が好ましく、式(1b)で表される化合物がより好ましい。
Figure 2014094935
[式中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、L、m、n、o、pは、それぞれ、式(1)と同様である。]
特に下記式(2)で表される化合物が好ましい。
Figure 2014094935
式(2)中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、o及びpは、それぞれ、式(1)と同様である。
nは、0〜3の整数を表わす。
は、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表わす。
qは、0〜4の整数を表す。
尚、Rが複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよい。
上記式(1)、(1a)、(1b)及び(2)において、A及びAの少なくとも1つ、又は、A及びAの少なくとも1つは、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、又は、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環であることが好ましく、さらに、置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環、又は置換もしくは無置換のカルバゾール環であることが好ましい。なかでも、置換又は無置換のベンゼン環であることが好ましい。
〜Aに結合する上記群Aから選択される基の数が多いほど、化合物の三重項エネルギーは小さくなる傾向がある。そのため、例えば、青色発光の有機EL素子の発光層の材料として使用する場合には、A〜Aのうちの2つが上記群Aから選択される基であり、他の2つが水素原子であることが好ましく、特に、A〜Aのうちの1つが群Aから選択される基であり、他の3つが水素原子であることが好ましい。
なかでも、A及びAが、それぞれ、群Aから選択される基である化合物が好ましく、特に、A又はAが群Aから選択される基である化合物が好ましい。
上記式(1)、(1a)、(1b)及び(2)において、Lは、置換もしくは無置換のメタフェニレン基、置換もしくは無置換の3,3’−ビフェニリレン基、置換もしくは無置換のメタターフェニリレン基であり、nが0又は1であることが好ましい。これにより、三重項エネルギーを青燐光発光に必要な大きさに保つことができる。
以下、上述した式(1)、(1a)、(1b)及び(2)の各基の例について説明する。
本明細書において、芳香族炭化水素環は、単環の芳香族炭化水素環基及び複数の炭化水素環が縮合した縮合芳香族炭化水素環基を含み、ヘテロ芳香族環は、単環のヘテロ芳香族環基、並びに複数のヘテロ芳香族環が縮合したヘテロ縮合芳香族環基、及び芳香族炭化水素環とヘテロ芳香族環とが縮合したヘテロ縮合芳香族環基を含む。
本発明において、「置換もしくは無置換の・・・」の「無置換」とは、水素原子が結合していることを意味する。また、水素原子とは、中性子数が異なる同位体、即ち、軽水素(protium)、重水素(deuterium)、三重水素(tritium)を包含する。
炭素数1〜20のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、ネオペンチル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1−ペンチルヘキシル基、1−ブチルペンチル基、1−ヘプチルオクチル基、3−メチルペンチル基等が挙げられ、このうち炭素数1〜6のものが好ましい。
環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環(アリール基)の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、o−ビフェニリル基、m−ビフェニリル基、p−ビフェニリル基、o−ターフェニリル基、m−ターフェニリル基、p−ターフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、トリフェニレン基等が挙げられる。中でもフェニル基、m−ビフェニリル基、m−ターフェニリル基が好ましい。
2価以上の芳香族炭化水素基の例は、上記アリール基から水素原子を除くことにより導かれる二価以上の基が挙げられる。
環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環(ヘテロアリール基)の具体例としては、ピロリル基、ピラジニル基、ピリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、インドリル基、イソインドリル基、フリル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、カルバゾリル基、アザカルバゾリル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、フェナントロリニル基、チエニル基、ピロリジニル基、ジオキサニル基、ピペリジニル基、モルフォリニル基、ピペラジニル基、カルバゾリル基、チオフェニル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、トリアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラニル基、ベンゾ[c]ジベンゾフラニル基、アザカルバゾリル基、アザジベンゾフラニル基、アザジベンゾチオフェニル基等が挙げられ、このうち環形成原子数6〜14のものが好ましい。
尚、「環形成原子」とは飽和環、不飽和環、又は芳香環を構成する原子を意味する。
2価以上のヘテロ芳香族環の例は、上記ヘテロアリール基から水素原子を除くことにより導かれる二価以上の基が挙げられる。
炭素数1〜20のフルオロアルキル基としては、上述した炭素数1〜20のアルキル基に1つ以上のフッ素原子が置換した基が挙げられ、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基等が好ましい。
環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられ、このうち環形成炭素数5又は6のものが好ましい。
尚、「環形成炭素」とは飽和環、不飽和環、又は芳香環を構成する炭素原子を意味する。
炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、炭素数が3以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有するものでもよく、このうち炭素数1〜6のものが好ましい。
環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基としては、シクロペントキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられ、このうち環形成炭素数5又は6のものが好ましい。
環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられ、フェノキシ基が好ましい。
置換アミノ基は、−N(R)(R)と表され、(R)及び(R)の例としては、上述したアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基が挙げられる。具体的には、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジビフェニルアミノ基、フェニルジベンゾフラニルアミノ基、ジベンゾフラニルビフェニルアミノ基、ジ(N−フェニル)カルバゾリルアミノ基等がある。
上記各式で表される化合物の、各基の「置換若しくは無置換の・・・」の置換基としては、上記のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基や、その他にハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。)、シリル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基、フルオロアルコキシ基、ジアリールホスフィノ基、ジアリールホスフィンオキシド基、ジアリールホスフィノアリール基、N−アリールカルバゾリル基等が挙げられる。
本発明の化合物の具体例を以下に示す。
Figure 2014094935
Figure 2014094935
Figure 2014094935
Figure 2014094935
Figure 2014094935
Figure 2014094935
Figure 2014094935
Figure 2014094935
本発明の化合物の合成は、例えば、WO2009/008100等を参照することにより実施できる。
本発明の有機EL素子用材料(以下、本発明の材料ということがある)は、上記本発明の化合物を含むことを特徴とする。
本発明の有機EL素子用材料は、有機EL素子を構成する有機薄膜層の材料として好適に使用できる。
続いて、本発明の有機EL素子について説明する。
本発明の有機EL素子は、陰極と陽極の間に発光層を含有する有機薄膜層を有し、この有機薄膜層のうちの少なくとも1層が前述した本発明の有機EL素子用材料を含む。これにより、有機EL素子の駆動電圧を低下できる。
本発明の有機EL素子用材料が含まれる有機薄膜層の例としては、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、スペース層、及び障壁層等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。本発明の有機EL素子用材料は、発光層に含まれることが好ましく、特に、発光層のホスト材料として用いられることが好ましい。また、発光層は蛍光発光材料や燐光発光材料を含有することが好ましく、特に燐光発光材料を含有することが好ましい。
また、本発明の有機EL素子においては、陰極と発光層の間である電子輸送帯域に有機薄膜層を有し、該有機薄膜層の少なくとも1層が本発明の有機EL素子用材料を含むことが好ましい(以下、電子輸送帯域にあり、本発明の有機EL素子用材料を含む有機薄膜層を有機薄膜層Aという。)。有機薄膜層Aとしては、電子注入層、電子輸送層、正孔阻止層等がある。有機薄膜層Aと発光層は、隣接していることが好ましい。
本発明の有機EL素子は、蛍光又は燐光発光型の単色発光素子であっても、蛍光/燐光ハイブリッド型の白色発光素子であってもよいし、単独の発光ユニットを有するシンプル型であっても、複数の発光ユニットを有するタンデム型であってもよく、中でも、燐光発光型であることが好ましい。ここで、「発光ユニット」とは、一層以上の有機層を含み、そのうちの一層が発光層であり、注入された正孔と電子が再結合することにより発光することができる最小単位をいう。
従って、シンプル型有機EL素子の代表的な素子構成としては、以下の素子構成を挙げることができる。
(1)陽極/発光ユニット/陰極
また、上記発光ユニットは、燐光発光層や蛍光発光層を複数有する積層型であってもよく、その場合、各発光層の間に、燐光発光層で生成された励起子が蛍光発光層に拡散することを防ぐ目的で、スペース層を有していてもよい。発光ユニットの代表的な層構成を以下に示す。
(a)正孔輸送層/発光層(/電子輸送層)
(b)正孔輸送層/第一燐光発光層/第二燐光発光層(/電子輸送層)
(c)正孔輸送層/燐光発光層/スペース層/蛍光発光層(/電子輸送層)
(d)正孔輸送層/第一燐光発光層/第二燐光発光層/スペース層/蛍光発光層(/電子輸送層)
(e)正孔輸送層/第一燐光発光層/スペース層/第二燐光発光層/スペース層/蛍光発光層(/電子輸送層)
(f)正孔輸送層/燐光発光層/スペース層/第一蛍光発光層/第二蛍光発光層(/電子輸送層)
(g)正孔輸送層/電子障壁層/発光層(/電子輸送層)
(h)正孔輸送層/発光層/正孔障壁層(/電子輸送層)
(i)正孔輸送層/蛍光発光層/トリプレット障壁層(/電子輸送層)
上記各燐光又は蛍光発光層は、それぞれ互いに異なる発光色を示すものとすることができる。具体的には、上記積層発光層(d)において、正孔輸送層/第一燐光発光層(赤色発光)/第二燐光発光層(緑色発光)/スペース層/蛍光発光層(青色発光)/電子輸送層といった層構成等が挙げられる。
尚、各発光層と正孔輸送層あるいはスペース層との間には、適宜、電子障壁層を設けてもよい。また、各発光層と電子輸送層との間には、適宜、正孔障壁層を設けてもよい。電子障壁層や正孔障壁層を設けることで、電子又は正孔を発光層内に閉じ込めて、発光層における電荷の再結合確率を高め、寿命を向上させることができる。
タンデム型有機EL素子の代表的な素子構成としては、以下の素子構成を挙げることができる。
(2)陽極/第一発光ユニット/中間層/第二発光ユニット/陰極
ここで、上記第一発光ユニット及び第二発光ユニットとしては、例えば、それぞれ独立に上述の発光ユニットと同様のものを選択することができる。
上記中間層は、一般的に、中間電極、中間導電層、電荷発生層、電子引抜層、接続層、中間絶縁層とも呼ばれ、第一発光ユニットに電子を、第二発光ユニットに正孔を供給する、公知の材料構成を用いることができる。
図1は、本発明の有機EL素子の一実施形態の層構成を示す概略図である。
有機EL素子1は、基板10上に、陽極20、正孔輸送帯域30、発光層40、電子輸送帯域50及び陰極60を、この順で積層した構成を有する。正孔輸送帯域30は、陽極20と発光層40に挟まれた層をいい、例えば正孔輸送層、正孔注入層、電子障壁層等を意味する。同様に、電子輸送帯域50は、陰極60と発光層40に挟まれた層をいい、例えば電子輸送層、電子注入層、正孔障壁層等を意味する。障壁層は、電子や正孔を発光層40に閉じ込めて、発光層40における励起子の生成確率を高めることができる。これらは形成しなくともよいが、好ましくは1層以上形成する。この素子において有機薄膜層は、正孔輸送帯域30に設けられる各有機層、発光層40及び電子輸送帯域50に設けられる各有機層である。これら有機薄膜層のうち、少なくとも1層が本発明の有機EL素子用材料を含有する。本発明の有機EL素子用材料を含有する有機薄膜層1層に対するこの材料の含有量は、好ましくは1〜100重量%である。
尚、本明細書において、蛍光ドーパントと組み合わされたホストを蛍光ホストと称し、燐光ドーパントと組み合わされたホストを燐光ホストと称する。蛍光ホストと燐光ホストは分子構造のみにより区分されるものではない。即ち、燐光ホストとは、燐光ドーパントを含有する燐光発光層を構成する材料を意味し、蛍光発光層を構成する材料として利用できないことを意味しているわけではない。蛍光ホストについても同様である。
本発明の有機EL素子では、上述した本発明の有機EL素子用材料を使用した層以外の構成については、特に限定されず、公知の材料等を使用できる。以下、有機EL素子の構成部材について簡単に説明するが、本発明の有機EL素子に適用される材料は以下に限定されない。
(基板)
本発明の有機EL素子は、透光性基板上に作製する。透光性基板は有機EL素子を支持する基板であり、400nm〜700nmの可視領域の光の透過率が50%以上で平滑な基板が好ましい。具体的には、ガラス板、ポリマー板等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を原料として用いてなるものを挙げられる。またポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を原料として用いてなるものを挙げることができる。
(陽極)
有機EL素子の陽極は、正孔を正孔輸送層又は発光層に注入する役割を担うものであり、4.5eV以上の仕事関数を有するものを用いることが効果的である。陽極材料の具体例としては、酸化インジウム錫合金(ITO)、酸化錫(NESA)、酸化インジウム亜鉛酸化物、金、銀、白金、銅等が挙げられる。陽極はこれらの電極物質を蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることにより作製することができる。発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の可視領域の光の透過率を10%より大きくすることが好ましい。また、陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下が好ましい。陽極の膜厚は、材料にもよるが、通常10nm〜1μm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選択される。
(陰極)
陰極は電子注入層、電子輸送層又は発光層に電子を注入する役割を担うものであり、仕事関数の小さい材料により形成するのが好ましい。陰極材料は特に限定されないが、具体的にはインジウム、アルミニウム、マグネシウム、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、アルミニウム−リチウム合金、アルミニウム−スカンジウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が使用できる。陰極も、陽極と同様に、蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることにより作製することができる。また、必要に応じて、陰極側から発光を取り出してもよい。
(発光層)
発光機能を有する有機層であって、ドーピングシステムを採用する場合、ホスト材料とドーパント材料を含んでいる。このとき、ホスト材料は、主に電子と正孔の再結合を促し、励起子を発光層内に閉じ込める機能を有し、ドーパント材料は、再結合で得られた励起子を効率的に発光させる機能を有する。
燐光素子の場合、ホスト材料は主にドーパントで生成された励起子を発光層内に閉じ込める機能を有する。
ここで、上記発光層は、例えば、電子輸送性のホストと正孔輸送性のホストを組み合わせる等して、発光層内のキャリアバランスを調整するダブルホスト(ホスト・コホストともいう)を採用してもよく、発光層が第1ホスト材料と第2ホスト材料とを含有し、前記第1ホスト材料が本発明の有機EL素子用材料であると好ましい。
また、量子収率の高いドーパント材料を二種類以上入れることによって、それぞれのドーパントが発光するダブルドーパントを採用してもよい。具体的には、ホスト、赤色ドーパント及び緑色ドーパントを共蒸着することによって、発光層を共通化して黄色発光を実現する態様が挙げられる。
上記発光層は、複数の発光層を積層した積層体とすることで、発光層界面に電子と正孔を蓄積させて、再結合領域を発光層界面に集中させて、量子効率を向上させることができる。
発光層への正孔の注入し易さと電子の注入し易さは異なっていてもよく、また、発光層中での正孔と電子の移動度で表される正孔輸送能と電子輸送能が異なっていてもよい。
発光層は、例えば蒸着法、スピンコート法、LB法(Langmuir Blodgett法)等の公知の方法により形成することができる。また、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かした溶液をスピンコート法等により薄膜化することによっても、発光層を形成することができる。
発光層は、分子堆積膜であることが好ましい。分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態又は液相状態の材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。
ドーパント材料としては、公知の蛍光型発光を示す蛍光ドーパント又は燐光型発光を示す燐光ドーパントから選ばれる。
蛍光ドーパントとしては、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、アリールアセチレン誘導体、フルオレン誘導体、硼素錯体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アントラセン誘導体、クリセン誘導体等から選ばれる。好ましくは、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、硼素錯体が挙げられる。
発光層を形成する燐光ドーパント(燐光発光材料)は三重項励状態から発光することのできる化合物であり、三重項励状態から発光する限り特に限定されないが、Ir,Pt,Os,Au,Cu,Re及びRuから選択される少なくとも一つの金属と配位子とを含む有機金属錯体であることが好ましい。前記配位子は、オルトメタル結合を有することが好ましい。燐光量子収率が高く、発光素子の外部量子効率をより向上させることができるという点で、Ir,Os及びPtから選ばれる金属原子を含有する金属錯体が好ましく、イリジウム錯体、オスミウム錯体、白金錯体等の金属錯体、特にオルトメタル化錯体がより好ましく、イリジウム錯体及び白金錯体がさらに好ましく、オルトメタル化イリジウム錯体が特に好ましい。
燐光ドーパントの発光層における含有量は特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、0.1〜70質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましい。燐光ドーパントの含有量が0.1質量%以上であると十分な発光が得られ、70質量%以下であると濃度消光を避けることができる。
燐光ホストは、燐光ドーパントの三重項エネルギーを効率的に発光層内に閉じ込めることにより、燐光ドーパントを効率的に発光させる機能を有する化合物である。本発明の有機EL素子用材料は燐光ホストとして好適である。発光層は、本発明の有機EL素子用材料を1種含有していてもよく、本発明の有機EL素子用材料を2種以上含有していてもよい。
本発明の有機EL素子において、本発明の有機EL素子用材料以外の化合物も、燐光ホストとして、上記目的に応じて適宜選択することができる。
本発明の有機EL素子用材料とそれ以外の化合物を同一の発光層内の燐光ホスト材料として併用してもよいし、複数の発光層がある場合には、そのうちの一つの発光層の燐光ホスト材料として本発明の有機EL素子用材料を用い、別の一つの発光層の燐光ホスト材料として本発明の有機EL素子用材料以外の化合物を用いてもよい。また、本発明の有機EL素子用材料は発光層以外の有機層にも使用しうるものであり、その場合には発光層の燐光ホストとして、本発明の有機EL素子用材料以外の化合物を用いてもよい。
本発明の有機EL素子用材料以外の化合物で、燐光ホストとして好適な化合物の具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン系化合物、ポルフィリン系化合物、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体ポリシラン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール)誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等が挙げられる。燐光ホストは単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。具体例としては、以下のような化合物が挙げられる。
Figure 2014094935
発光層が、第1ホスト材料と第2ホスト材料とを含有する場合、第1ホスト材料として本発明の有機EL素子用材料を用い、第2ホスト材料として本発明の有機EL素子用材料以外の化合物を用いてもよい。尚、本発明における「第1ホスト材料」及び「第2ホスト材料」という用語は、発光層に含有されている複数のホスト材料が、互いに構造が異なるという意味であり、発光層中の各ホスト材料の含有量で規定されるものではない。
前記第2ホスト材料としては、特に限定されず、本発明の有機EL素子用材料以外の化合物であり、かつ燐光ホストとして好適な化合物として前記した化合物と同じものが挙げられる。第2ホスト材料としては、シアノ基を有さない化合物が好ましい。また、第2ホストとしては、カルバゾール誘導体、アリールアミン誘導体、フルオレノン誘導体、芳香族第三アミン化合物が好ましい。
発光層の膜厚は、好ましくは5〜50nm、より好ましくは7〜50nm、さらに好ましくは10〜50nmである。5nm以上であると発光層の形成が容易であり、50nm以下であると駆動電圧の上昇が避けられる。
(電子輸送層)
電子輸送層は、発光層と陰極との間に形成される有機層であって、電子を陰極から発光層へ輸送する機能を有する。電子輸送層が複数層で構成される場合、陰極に近い有機層を電子注入層と定義することがある。電子注入層は、陰極から電子を効率的に有機層ユニットに注入する機能を有する。
電子輸送層に用いる電子輸送性材料としては、分子内にヘテロ原子を1個以上含有する芳香族ヘテロ環化合物が好ましく用いられ、特に含窒素環誘導体が好ましい。また、含窒素環誘導体としては、含窒素6員環もしくは5員環骨格を有する芳香族環、又は含窒素6員環もしくは5員環骨格を有する縮合芳香族環化合物が好ましい。
電子輸送層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは1nm〜100nmである。
また、電子輸送層に隣接して設けることができる電子注入層の構成成分として、含窒素環誘導体の他に無機化合物として、絶縁体又は半導体を使用することが好ましい。電子注入層が絶縁体や半導体で構成されていれば、電流のリークを有効に防止して、電子注入性を向上させることができる。
このような絶縁体としては、アルカリ金属カルコゲニド、アルカリ土類金属カルコゲニド、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物からなる群から選択される少なくとも一つの金属化合物を使用するのが好ましい。電子注入層がこれらのアルカリ金属カルコゲニド等で構成されていれば、電子注入性をさらに向上させることができる点で好ましい。具体的に、好ましいアルカリ金属カルコゲニドとしては、例えば、LiO、KO、NaS、NaSe及びNaOが挙げられ、好ましいアルカリ土類金属カルコゲニドとしては、例えば、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS及びCaSeが挙げられる。また、好ましいアルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、LiF、NaF、KF、LiCl、KCl及びNaCl等が挙げられる。また、好ましいアルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、CaF、BaF、SrF、MgF及びBeF等のフッ化物や、フッ化物以外のハロゲン化物が挙げられる。
また、半導体としては、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Li、Na、Cd、Mg、Si、Ta、Sb及びZnの少なくとも一つの元素を含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、電子注入層を構成する無機化合物が、微結晶又は非晶質の絶縁性薄膜であることが好ましい。電子注入層がこれらの絶縁性薄膜で構成されていれば、より均質な薄膜が形成されるために、ダークスポット等の画素欠陥を減少させることができる。尚、このような無機化合物としては、アルカリ金属カルコゲニド、アルカリ土類金属カルコゲニド、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられる。
このような絶縁体又は半導体を使用する場合、その層の好ましい厚みは、0.1nm〜15nm程度である。また、本発明における電子注入層は、前述の電子供与性ドーパントを含有していても好ましい。
(正孔輸送層)
発光層と陽極との間に形成される有機層であって、正孔を陽極から発光層へ輸送する機能を有する。正孔輸送層が複数層で構成される場合、陽極に近い有機層を正孔注入層と定義することがある。正孔注入層は、陽極から正孔を効率的に有機層ユニットに注入する機能を有する。
正孔輸送層を形成する他の材料としては、芳香族アミン化合物、例えば、下記式(H)で表される芳香族アミン誘導体が好適に用いられる。
Figure 2014094935
前記式(H)において、Ar〜Arは置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50の芳香族炭化水素基又は縮合芳香族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜50の芳香族複素環基又は縮合芳香族複素環基、又は、それら芳香族炭化水素基又は縮合芳香族炭化水素基と芳香族複素環基又は縮合芳香族複素環基が結合した基を表す。
また、前記式(H)において、Lは置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50の芳香族炭化水素基又は縮合芳香族炭化水素基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜50の芳香族複素環基又は縮合芳香族複素環基を表す。
本発明の有機EL素子の正孔輸送層は第1正孔輸送層(陽極側)と第2正孔輸送層(陰極側)の2層構造にしてもよい。
正孔輸送層の膜厚は特に限定されないが、10〜200nmであるのが好ましい。
本発明の有機EL素子では、正孔輸送層又は第1正孔輸送層の陽極側にアクセプター材料を含有する層を接合してもよい。これにより駆動電圧の低下及び製造コストの低減が期待される。
前記アクセプター材料としては下記式(K)で表される化合物が好ましい。
Figure 2014094935
(上記式(K)中、R21〜R26は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立にシアノ基、−CONH、カルボキシル基、又は−COOR27(R27は炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数3〜20のシクロアルキル基を表す)を表す。ただし、R21及びR22、R23及びR24、並びにR25及びR26の1又は2以上の対が一緒になって−CO−O−CO−で示される基を形成してもよい。)
27としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
アクセプター材料を含有する層の膜厚は特に限定されないが、5〜20nmであるのが好ましい。
(n/pドーピング)
上述の正孔輸送層や電子輸送層においては、特許第3695714号明細書に記載されているように、ドナー性材料のドーピング(n)やアクセプター性材料のドーピング(p)により、キャリア注入能を調整することができる。
nドーピングの代表例としては、電子輸送材料にLiやCs等の金属をドーピングする方法が挙げられ、pドーピングの代表例としては、正孔輸送材料にFTCNQ(2,3,5,6−Tetrafluoro−7,7,8,8−tetracyanoquinodimethane)等のアクセプター材料をドーピングする方法が挙げられる。
(スペース層)
上記スペース層とは、例えば、蛍光発光層と燐光発光層とを積層する場合に、燐光発光層で生成する励起子を蛍光発光層に拡散させない、あるいは、キャリアバランスを調整する目的で、蛍光発光層と燐光発光層との間に設けられる層である。また、スペース層は、複数の燐光発光層の間に設けることもできる。
スペース層は発光層間に設けられるため、電子輸送性と正孔輸送性を兼ね備える材料であることが好ましい。また、隣接する燐光発光層内の三重項エネルギーの拡散を防ぐため、三重項エネルギーが2.6eV以上であることが好ましい。スペース層に用いられる材料としては、上述の正孔輸送層に用いられるものと同様のものが挙げられる。
(障壁層)
本発明の有機EL素子は、発光層に隣接する部分に、電子障壁層、正孔障壁層、トリプレット障壁層といった障壁層を有することが好ましい。ここで、電子障壁層とは、発光層から正孔輸送層へ電子が漏れることを防ぐ層であり、正孔障壁層とは、発光層から電子輸送層へ正孔が漏れることを防ぐ層である。
トリプレット障壁層は、発光層で生成する三重項励起子が、周辺の層へ拡散することを防止し、三重項励起子を発光層内に閉じ込めることによって三重項励起子の発光ドーパント以外の電子輸送層の分子上でのエネルギー失活を抑制する機能を有する。
トリプレット障壁層を設ける場合、燐光素子においては、発光層中の燐光発光性ドーパントの三重項エネルギーをE 、トリプレット障壁層として用いる化合物の三重項エネルギーをE TBとすると、E <E TBのエネルギー大小関係であれば、エネルギー関係上、燐光発光性ドーパントの三重項励起子が閉じ込められ(他分子へ移動できなくなり)、該ドーパント上で発光する以外のエネルギー失活経路が断たれ、高効率に発光することができると推測される。ただし、E <E TBの関係が成り立つ場合であってもこのエネルギー差ΔE=E TB−E が小さい場合には、実際の素子駆動環境である室温程度の環境下では、周辺の熱エネルギーにより吸熱的にこのエネルギー差ΔEを乗り越えて三重項励起子が他分子へ移動することが可能であると考えられる。特に燐光発光の場合は蛍光発光に比べて励起子寿命が長いため、相対的に吸熱的励起子移動過程の影響が現れやすくなる。室温の熱エネルギーに対してこのエネルギー差ΔEは大きい程好ましく、0.1eV以上であるとさらに好ましく、0.2eV以上であると特に好ましい。一方、蛍光素子においては、国際公開WO2010/134350A1に記載するTTF素子構成のトリプレット障壁層として、本発明の有機EL素子用材料を用いることもできる。
また、トリプレット障壁層を構成する材料の電子移動度は、電界強度0.04〜0.5MV/cmの範囲において、10−6cm/Vs以上であることが望ましい。有機材料の電子移動度の測定方法としては、Time of Flight法等幾つかの方法が知られているが、ここではインピーダンス分光法で決定される電子移動度をいう。
電子注入層は、電界強度0.04〜0.5MV/cmの範囲において、10−6cm/Vs以上であることが望ましい。これにより陰極からの電子輸送層への電子注入が促進され、ひいては隣接する障壁層、発光層への電子注入も促進し、より低電圧での駆動を可能にするためである。
本発明の有機EL素子は、陰極と有機薄膜層との界面領域に電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくともいずれかを添加してあることが好ましい。このような構成によれば、有機EL素子における発光輝度の向上や長寿命化が図られる。
電子供与性ドーパントとしては、アルカリ金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属化合物、希土類金属、及び希土類金属化合物等から選ばれた少なくとも一種類が挙げられる。
有機金属錯体としては、アルカリ金属を含む有機金属錯体、アルカリ土類金属を含む有機金属錯体、及び希土類金属を含む有機金属錯体等から選ばれた少なくとも一種類が挙げられる。
アルカリ金属としては、リチウム(Li)(仕事関数:2.93eV)、ナトリウム(Na)(仕事関数:2.36eV)、カリウム(K)(仕事関数:2.28eV)、ルビジウム(Rb)(仕事関数:2.16eV)、セシウム(Cs)(仕事関数:1.95eV)等が挙げられ、仕事関数が2.9eV以下のものが特に好ましい。これらのうち好ましくはK、Rb、Cs、さらに好ましくはRb又はCsであり、最も好ましくはCsである。
アルカリ土類金属としては、カルシウム(Ca)(仕事関数:2.9eV)、ストロンチウム(Sr)(仕事関数:2.0eV以上2.5eV以下)、バリウム(Ba)(仕事関数:2.52eV)等が挙げられ、仕事関数が2.9eV以下のものが特に好ましい。
希土類金属としては、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、セリウム(Ce)、テルビウム(Tb)、イッテルビウム(Yb)等が挙げられ、仕事関数が2.9eV以下のものが特に好ましい。
以上の金属のうち好ましい金属は、特に還元能力が高く、電子注入域への比較的少量の添加により、有機EL素子における発光輝度の向上や長寿命化が可能である。
アルカリ金属化合物としては、酸化リチウム(LiO)、酸化セシウム(CsO)、酸化カリウム(K2O)等のアルカリ酸化物、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カリウム(KF)等のアルカリハロゲン化物等が挙げられ、フッ化リチウム(LiF)、酸化リチウム(LiO)、フッ化ナトリウム(NaF)が好ましい。
アルカリ土類金属化合物としては、酸化バリウム(BaO)、酸化ストロンチウム(SrO)、酸化カルシウム(CaO)及びこれらを混合したストロンチウム酸バリウム(BaxSr1-xO)(0<x<1)、カルシウム酸バリウム(BaxCa1-xO)(0<x<1)等が挙げられ、BaO、SrO、CaOが好ましい。
希土類金属化合物としては、フッ化イッテルビウム(YbF)、フッ化スカンジウム(ScF)、酸化スカンジウム(ScO)、酸化イットリウム(Y)、酸化セリウム(Ce)、フッ化ガドリニウム(GdF)、フッ化テルビウム(TbF)等が挙げられ、YbF、ScF、TbFが好ましい。
有機金属錯体としては、上記の通り、それぞれ金属イオンとしてアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、希土類金属イオンの少なくとも一つ含有するものであれば特に限定はない。また、配位子にはキノリノール、ベンゾキノリノール、アクリジノール、フェナントリジノール、ヒドロキシフェニルオキサゾール、ヒドロキシフェニルチアゾール、ヒドロキシジアリールオキサジアゾール、ヒドロキシジアリールチアジアゾール、ヒドロキシフェニルピリジン、ヒドロキシフェニルベンゾイミダゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシフルボラン、ビピリジル、フェナントロリン、フタロシアニン、ポルフィリン、シクロペンタジエン、β−ジケトン類、アゾメチン類、及びそれらの誘導体等が好ましいが、これらに限定されるものではない。
電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の添加形態としては、界面領域に層状又は島状に形成することが好ましい。形成方法としては、抵抗加熱蒸着法により電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくともいずれかを蒸着しながら、界面領域を形成する発光材料や電子注入材料である有機物を同時に蒸着させ、有機物中に電子供与性ドーパント及び有機金属錯体還元ドーパントの少なくともいずれかを分散する方法が好ましい。分散濃度は通常、モル比で有機物:電子供与性ドーパント及び/又は有機金属錯体=100:1〜1:100であり、好ましくは5:1〜1:5である。
電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくともいずれかを層状に形成する場合は、界面の有機層である発光材料や電子注入材料を層状に形成した後に、電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくともいずれかを単独で抵抗加熱蒸着法により蒸着し、好ましくは層の厚み0.1nm以上15nm以下で形成する。
電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくともいずれかを島状に形成する場合は、界面の有機層である発光材料や電子注入材料を島状に形成した後に、電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくともいずれかを単独で抵抗加熱蒸着法により蒸着し、好ましくは島の厚み0.05nm以上1nm以下で形成する。
また、本発明の有機EL素子における、主成分(発光材料又は電子注入材料)と、電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくともいずれかの割合としては、モル比で、主成分:電子供与性ドーパント及び/又は有機金属錯体=5:1〜1:5であると好ましく、2:1〜1:2であるとさらに好ましい。
本発明の有機EL素子の各層の形成は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティング等の乾式成膜法やスピンコーティング、ディッピング、フローコーティング等の湿式成膜法等の公知の方法を適用することができる。
各層の膜厚は特に限定されるものではないが、適切な膜厚に設定する必要がある。膜厚が厚すぎると、一定の光出力を得るために大きな印加電圧が必要になり効率が悪くなる。膜厚が薄すぎるとピンホール等が発生して、電界を印加しても充分な発光輝度が得られない。通常の膜厚は5nm〜10μmの範囲が適しているが、10nm〜0.2μmの範囲がさらに好ましい。
[本発明の化合物]
合成例1[化合物Aの合成]
(1)中間体Aの合成
以下の工程により中間体Aを合成した。
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、3−ブロモカルバゾール24.6g(100mmol)、フェニルボロン酸13.4g(110mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液150ml、1,2−ジメトキシエタン400mlを加え、次いで、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム2.3g(2mmol)を加えて、18時間加熱還流撹拌した。室温に戻して、トルエン500ml、水200mlを加えて、不溶物を濾別した後、有機相を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=1/2)で精製することにより、中間体A(8.5g:収率35%)を白色固体として得た。
(2)中間体Bの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、WO2009−008100号公報に記載の方法で合成した2,8−ジブロモジベンゾフラン13g(40mmol)、3−(N−カルバゾリル)フェニルボロン酸11.5g(40mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液50ml、1,2−ジメトキシエタン200mlを加え、次いで、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム1.4g(1.2mmol)を加えて、24時間加熱還流撹拌した。トルエン1000ml、水200mlを加えて、有機相を分別した後、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=4/1)で精製することにより、中間体B(5.9g:収率30%)を白色固体として得た。
(3)化合物Aの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、中間体A2.4g(10mmol)、中間体B4.9g(10mmol)、ヨウ化銅1.9g(10mmol)、trans−1,2−シクロヘキサンジアミン1.1g(10mmol)、リン酸三カリウム4.2g(20mmol)を脱水1,4−ジオキサン30mlに加えて、48時間加熱還流撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮して得られた残渣に、トルエン100mlを加えて120℃に加熱し、不溶物を濾別した。濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)で精製することにより、化合物A(2.9g:収率45%)を白色固体として得た。
FD−MS分析の結果、分子量650に対してm/e=650であった。
また、H−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz、CDCl)δ7.26−7.49(13H、m)、7.55−7.57(1H、m)、7.63−7.81(9H、m)、7.86−7.87(1H、m)、8.13−8.21(5H、m)、8.37(1H、d、J=1.2Hz)
合成例2[化合物Bの合成]
(1)中間体Cの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、3,6−ジブロモカルバゾール24.6g(100mmol)、フェニルボロン酸13.4g(110mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液150ml、1,2−ジメトキシエタン400mlを加え、次いで、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム2.3g(2mmol)を加えて、18時間加熱還流撹拌した。室温に戻して、トルエン500ml、水200mlを加えて、不溶物を濾別した後、有機相を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=1/2)で精製することにより、中間体C(8.5g:収率35%)を白色固体として得た。
(2)化合物Bの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、中間体C3.2g(10mmol)、中間体B4.9g(10mmol)、ヨウ化銅1.9g(10mmol)、trans−1,2−シクロヘキサンジアミン1.1g(10mmol)、リン酸三カリウム4.2g(20mmol)を脱水1,4−ジオキサン30mlに加えて、24時間加熱還流撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮して得られた残渣に、トルエン100mlを加えて120℃に加熱し、不溶物を濾別した。濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)で精製することにより、化合物B(4.0g:収率55%)を白色固体として得た。
FD−MS分析の結果、分子量726に対してm/e=726であった。
また、H−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz、CDCl)δ7.24−7.50(14H、m)、7.55−7.58(1H、m)、7.66−7.78(10H、m)、7.80−7.83(2H、m)、7.87−7.88(1H、m)、8.14(2H、d、J=7.2Hz)、8.20(2H、m)、8.42(2H、d、J=1.6Hz)
合成例3[化合物Cの合成]
(1)中間体Dの合成
Figure 2014094935
2−ブロモジベンゾフラン10.0g(40.4mmol)、オルト過ヨウ素酸1.96g(8.60mmol)、ヨウ素4.08g(16.1mmol)、希硫酸8mL、酢酸40mLを三口フラスコに入れ、70℃で3時間撹拌した。反応器を室温まで冷却した後、反応液を氷水中に加えて析出した固体を集めた。得られた固体をメタノールで洗浄することにより、中間体D(6.8g:収率45%)を白色固体として得た。
(2)中間体Eの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、中間体D9.72g(26.1mmol)、3−ブロモフェニルボロン酸6.02g(30.0mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液45ml、1,2−ジメトキシエタン90mlを加え、次いで、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム1.51g(1.31mmol)を加えて、12時間加熱還流撹拌した。室温に戻して、酢酸エチル500ml、水200mlを加えて、不溶物を濾別した後、有機相を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ジクロロメタン=50/1)で精製することにより、中間体E(3.6g:収率35%)を白色固体として得た。
(3)化合物Cの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、中間体A2.5g(10.3mmol)、中間体E2.0g(5mmol)、ヨウ化銅1.9g(10mmol)、trans−1,2−シクロヘキサンジアミン1.1g(10mmol)、リン酸三カリウム4.2g(20mmol)を脱水1,4−ジオキサン25mlに加えて、48時間加熱還流撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮して得られた残渣に、トルエン100mlを加えて120℃に加熱し、不溶物を濾別した。濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)で2回精製することにより、化合物C(1.4g:収率38%)を白色固体として得た。
FD−MS分析の結果、分子量726に対してm/e=726であった。
また、H−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz、CDCl)δ7.31−7.35(4H、m)、7.41−7.55(10H、m)、7.58−7.61(1H、m)、7.64−7.84(12H、m)、7.89−7.90(1H、m)、8.18−8.22(4H、m)、8.36(2H、dd、J=1.2Hz、7.6Hz)
合成例4[化合物Dの合成]
(1)中間体Gの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、WO2009−008100号公報に記載の方法で合成した中間体F4.12g(10mmol)、3−クロロフェニルボロン酸1.88g(12mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液15ml、1,2−ジメトキシエタン50mlを加え、次いで、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.23g(0.2mmol)を加えて、18時間加熱還流撹拌した。室温に戻して、トルエン500ml、水200mlを加えて、不溶物を濾別した後、有機相を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=4/1)で精製することにより、中間体G3.8g(収率85%)を白色固体として得た。
(2)化合物Dの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、中間体G2.22g(5mmol)、WO2011−132683号公報に記載の方法で合成した中間体H2.04g(5mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム0.26g(0.28mmol)、トリ−t−ブチルホスホニウムテトラフルオロほう酸塩0.33g(1.12mmol)、t−ブトキシナトリウム0.94g(9.8mmol)、脱水キシレン50mlを順次加えて24時間加熱還流撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=1/1)で精製することにより、化合物D1.83g(収率45%)を白色固体として得た。
FD−MS分析の結果、分子量815に対してm/e=815であった。
また、H−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz、CDCl)δ7.25−7.53(14H、m)、7.56−7.65(7H、m)、7.68−7.83(7H、m)、7.91(1H、t)、8.15−8.18(3H、m)、8.20−8.23(3H、m)、8.45(2H、dd)
合成例5[化合物Eの合成]
(1)中間体Iの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、3−ブロモカルバゾール2.5g(10mmol)、ジベンゾフラン−2−イルボロン酸2.1g(12mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液15ml、1,2−ジメトキシエタン50mlを加え、次いで、Pd(dppf)Cl0.15g(0.2mmol)を加えて、15時間加熱還流撹拌した。室温に戻して、析出した固体を濾集した。この固体をトルエンに加熱溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ジクロロメタン=1/1)で精製することにより、中間体I1.7g(収率50%)を白色固体として得た。
(2)化合物Eの合成
Figure 2014094935
アルゴン雰囲気下、中間体G2.22g(5mmol)、中間体I1.67g(5mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム0.26g(0.28mmol)、トリ−t−ブチルホスホニウムテトラフルオロほう酸塩0.33g(1.12mmol)、t−ブトキシナトリウム0.94g(9.8mmol)、脱水キシレン50mlを順次加えて48時間加熱還流撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=2/1)で精製することにより、化合物E1.4g(収率38%)を白色固体として得た。
FD−MS分析の結果、分子量740に対してm/e=740であった。
また、H−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz、CDCl)δ7.27−7.65(16H、m)、7.69−7.83(7H、m)、7.90(1H、t)、8.01−8.03(1H、m)、8.14−8.23(6H、m)、8.41(1H、d)
合成例6[化合物Fの合成]
Figure 2014094935
中間体Iの代わりに中間体Aを用いた以外は、合成例5(2)に記載の方法に従って、化合物Fを合成した。
FD−MS分析の結果、分子量650に対してm/e=650であった。
また、H−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz、CDCl)δ7.27−7.53(13H、m)、7.58−7.72(7H、m)、7.75−7.82(3H、m)、7.88(1H、t)、8.14−8.19(5H、m)、8.35(1H、d)
[有機EL素子]
実施例1
25mm×75mm×1.1mmのITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)に、イソプロピルアルコール中での5分間の超音波洗浄を施し、さらに、30分間のUV(Ultraviolet)オゾン洗浄を施した。
このようにして洗浄した透明電極付きガラス基板を、真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず、ガラス基板の透明電極ラインが形成されている側の面上に、透明電極を覆うようにして、化合物Iを厚さ20nmで蒸着し、正孔注入層を得た。次いで、この膜上に、化合物IIを厚さ60nmで蒸着し、正孔輸送層を得た。
この正孔輸送層上に、燐光ホスト材料として化合物Aと燐光発光材料である化合物D−1とを厚さ40nmで共蒸着し、燐光発光層を得た。燐光発光層内における化合物Aの濃度は80質量%、化合物D−1の濃度は20質量%であった。
続いて、この燐光発光層上に化合物H−2を厚さ5nmで蒸着し、電子輸送層1を得た。さらに、化合物IIIを厚さ25nmで蒸着して電子輸送層2を得た後、厚さ1nmのLiF、厚さ80nmの金属Alを順次積層し、陰極を得た。尚、電子注入性電極であるLiFについては、1Å/minの速度で形成した。
以下に、実施例及び比較例で使用した化合物を示す。
Figure 2014094935
作製した有機EL素子を直流電流駆動により発光させ、輝度、電流密度を測定し、電流密度1mA/cmにおける電圧及び発光効率(外部量子効率)を求めた。結果を表1に示す。
実施例2
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物Bを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表1に示す。
実施例3
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物Cを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表1に示す。
実施例4
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物Dを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
実施例5
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物Eを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
実施例6
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物Fを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
比較例1
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物H−1を用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表1に示す。
Figure 2014094935
実施例1〜6の結果より、本発明の化合物を燐光ホスト材料として発光層に用いた場合、比較例化合物より低電圧化する素子が得られることが分かる。
実施例7
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物H−1を用い、電子輸送層1の材料として化合物H−2の代わりに化合物Aを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
実施例8
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物H−1を用い、電子輸送層1の材料として化合物H−2の代わりに化合物Bを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
実施例9
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物H−1を用い、電子輸送層1の材料として化合物H−2の代わりに化合物Cを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
実施例10
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物H−1を用い、電子輸送層1の材料として化合物H−2の代わりに化合物Eを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
実施例11
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物H−1を用い、電子輸送層1の材料として化合物H−2の代わりに化合物Fを用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表2に示す。
比較例2
燐光ホスト材料として化合物Aの代わりに化合物H−1を用い、電子輸送層1の材料として化合物H−2の代わりに化合物H−1を用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表3に示す。
Figure 2014094935
実施例7〜11の結果より、本発明の化合物を発光層に隣接する電子輸送層材料として用いた場合、比較例化合物より低電圧化、高効率化する素子が得られることが分かる。
本発明の化合物は、有機EL素子用材料、例えば発光層のホスト材料、電子輸送層材料、正孔阻止層材料に好適である。また、青色燐光発光素子にも使用できる
本発明の有機EL素子用材料は、有機EL素子の他、有機半導体、有機太陽電池等に利用できる。
本発明の有機EL素子は、壁掛けテレビのフラットパネルディスプレイ等の平面発光体、複写機、プリンター、液晶ディスプレイのバックライト又は計器類等の光源、表示板、標識灯、照明装置等に利用できる。
1 有機EL素子
10 基板
20 陽極
30 正孔輸送帯域
40 発光層
50 電子輸送帯域
60 陰極

Claims (19)

  1. 下記式(1)で表される化合物。
    Figure 2014094935
    [式(1)中、
    Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、
    及びAはそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表す。
    及びAはそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表す。
    但し、A〜Aの少なくとも1つは、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である。
    〜Rはそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
    〜R12はそれぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
    及びRはそれぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
    o、pはそれぞれ、0〜3の整数を表し、
    が複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよく、Rが複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよく、
    、Lはそれぞれ、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環を表し、
    m、nはそれぞれ、0〜3の整数を表し、m+n≧1であり、
    が複数ある場合、複数のLは互いに同一でも異なっていてもよく、Lが複数ある場合、複数のLは互いに同一でも異なっていてもよい。]
  2. 下記式(1a)で表される請求項1に記載の化合物。
    Figure 2014094935
    [式(1a)中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、L、m、n、o、pは、それぞれ、前記式(1)と同様である。]
  3. 下記式(1b)で表される請求項1又は2に記載の化合物。
    Figure 2014094935
    [式(1b)中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、L、m、n、o、pは、それぞれ、前記式(1)と同様である。]
  4. 下記式(2)で表される請求項1〜3のいずれかに記載の化合物。
    Figure 2014094935
    [式(2)中、X、A〜A、R〜R12、R、R、L、o及びpは、それぞれ、前記式(1)と同様であり、
    nは、0〜3の整数を表し、
    は、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、置換もしくは無置換のアミノ基、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基を表し、
    qは、0〜4の整数を表し、
    が複数ある場合、複数のRは互いに同一でも異なっていてもよい。]
  5. 前記A及びAの少なくとも一方が、それぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である、請求項1〜4のいずれかに記載の化合物。
  6. 前記A及びAの少なくとも一方が、それぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である、請求項1〜4のいずれかに記載の化合物。
  7. 前記A及びAが、それぞれ、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環、フッ素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のフルオロアルキル基、又はシアノ基である、請求項1〜4のいずれかに記載の化合物。
  8. 前記Lが、置換もしくは無置換のメタフェニレン基、置換もしくは無置換の3,3’−ビフェニリレン基、置換もしくは無置換のメタターフェニリレン基であり、nが0又は1である請求項1〜7のいずれかに記載の化合物。
  9. 前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、又は、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環である請求項5に記載の化合物。
  10. 前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜18の芳香族炭化水素環、又は、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜18のヘテロ芳香族環である請求項6に記載の化合物。
  11. 前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環、又は置換もしくは無置換のカルバゾール環である請求項9に記載の化合物。
  12. 前記A及びAの少なくとも1つが、置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環、又は置換もしくは無置換のカルバゾール環である請求項10に記載の化合物。
  13. 前記A及びAの少なくとも1つが、置換又は無置換のベンゼン環である請求項11に記載の化合物。
  14. 前記A及びAの少なくとも1つが、置換又は無置換のベンゼン環である請求項12に記載の化合物。
  15. 請求項1〜14のいずれかに記載の化合物を含む有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
  16. 陰極と陽極との間に、発光層を含む一層以上の有機薄膜層を有し、前記有機薄膜層の少なくとも一層が、請求項1〜14のいずれかに記載の化合物を含有する有機エレクトロルミネッセンス素子。
  17. 前記発光層が前記化合物を含む請求項16に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  18. 前記発光層が燐光発光材料を含有し、該燐光発光材料がイリジウム(Ir),オスミウム(Os)及び白金(Pt)から選択される金属原子のオルトメタル化錯体である請求項16又は17に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  19. 前記陰極と前記有機薄膜層との界面領域に電子供与性ドーパント及び有機金属錯体の少なくとも一方を添加してある請求項16〜18のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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