JP2014079960A - 平版印刷版用組成物及び平版印刷版原版 - Google Patents
平版印刷版用組成物及び平版印刷版原版 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014079960A JP2014079960A JP2012229633A JP2012229633A JP2014079960A JP 2014079960 A JP2014079960 A JP 2014079960A JP 2012229633 A JP2012229633 A JP 2012229633A JP 2012229633 A JP2012229633 A JP 2012229633A JP 2014079960 A JP2014079960 A JP 2014079960A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lithographic printing
- printing plate
- group
- image forming
- forming layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 125
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 73
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 28
- 125000006162 fluoroaliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 119
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 47
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 34
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 16
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 46
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 45
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 58
- -1 fluoroalkyl alcohol Chemical compound 0.000 description 52
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 42
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 42
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 32
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 28
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 28
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 28
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 15
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 description 13
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 11
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 8
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 230000003254 anti-foaming effect Effects 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 5
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003975 dentin desensitizing agent Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000003113 alkalizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical class C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 3
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical group I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- DLJMSHXCPBXOKX-UHFFFAOYSA-N n,n-dibutylprop-2-enamide Chemical compound CCCCN(C(=O)C=C)CCCC DLJMSHXCPBXOKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920001983 poloxamer Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical group CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N propoxycarbonyloxy propyl carbonate Chemical group CCCOC(=O)OOC(=O)OCCC YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- PVCVRLMCLUQGBT-UHFFFAOYSA-N (1-tert-butylcyclohexyl) (1-tert-butylcyclohexyl)oxycarbonyloxy carbonate Chemical group C1CCCCC1(C(C)(C)C)OC(=O)OOC(=O)OC1(C(C)(C)C)CCCCC1 PVCVRLMCLUQGBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C=C MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylcyclohexyl) (4-tert-butylcyclohexyl)oxycarbonyloxy carbonate Chemical compound C1CC(C(C)(C)C)CCC1OC(=O)OOC(=O)OC1CCC(C(C)(C)C)CC1 NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)C(F)C(F)(F)C(F)(F)F RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1 SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC(Cl)=C1Cl AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRFHAESXJQAGRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-4-(2,4-dichloro-3-ethenylphenoxy)-2-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=C(C=C)C(Cl)=CC=C1OC1=CC=C(Cl)C(C=C)=C1Cl IRFHAESXJQAGRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloropropane Chemical compound ClCCCCl YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 1-(2-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSZOCHFYWWVSAI-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-ethenylbenzene Chemical class BrC1=CC=CC=C1C=C SSZOCHFYWWVSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxybutane Chemical group CCCCOOCCCC PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCN1C(=O)C=CC1=O JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1Cl XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWJXFPSRAUGLN-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OC=C RPWJXFPSRAUGLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCLMKDWXUGDKL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOC=C HWCLMKDWXUGDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methoxyethane Chemical compound COCCOC=C GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC=C LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical compound CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHSFPBQPZFLOKE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC=C)=CC=CC2=C1 OHSFPBQPZFLOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZFIGURLAJSLIR-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2h-pyridine Chemical compound C=CN1CC=CC=C1 OZFIGURLAJSLIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEWDRCQPGANDRS-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C=C)C=C1 CEWDRCQPGANDRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHVCCCZZVQMAMT-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(O)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 HHVCCCZZVQMAMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoxyethanol Chemical compound CC(O)OCC=C FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCN1C(=O)C=CC1=O DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWESSVUYESFKBH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxyethenylbenzene Chemical compound COC(OC)=CC1=CC=CC=C1 PWESSVUYESFKBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHCVYAHUIMOIGE-NSCUHMNNSA-N 2,3-dihydroxypropyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(O)CO YHCVYAHUIMOIGE-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- BUZAXYQQRMDUTM-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpentan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)OC(=O)C=C BUZAXYQQRMDUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethenoxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCOC=C WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C=C FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCO OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOCCOC(=O)C=C RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C(C)=C DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRPXBHSHSWJFGR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=CC=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LRPXBHSHSWJFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUSRIAANRCPGF-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxolane Chemical compound C=COCC1CCCO1 UIUSRIAANRCPGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSBILYQLVXLJG-UHFFFAOYSA-N 2-Propenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCC=C RCSBILYQLVXLJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZGMUSDNQDCNAG-UHFFFAOYSA-N 2-Propenyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCC=C PZGMUSDNQDCNAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXHZNLCKXHJYNX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C TXHZNLCKXHJYNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C=C PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylethenylbenzene Chemical compound C1CCCCC1C=CC1=CC=CC=C1 MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-diethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CCOC=C PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOC=C JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CCC(CC)=CC1=CC=CC=C1 DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethenylbenzene Chemical compound IC=CC1=CC=CC=C1 OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODKQUWPWXBWQOM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n,n-diphenylprop-2-enamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C(=O)C(=C)C)C1=CC=CC=C1 ODKQUWPWXBWQOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAYSXEMBWUMDIZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n,n-dipropylprop-2-enamide Chemical compound CCCN(CCC)C(=O)C(C)=C AAYSXEMBWUMDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTRVLELMDKQITQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-naphthalen-1-ylprop-2-enamide Chemical compound C1=CC=C2C(NC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 PTRVLELMDKQITQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJSVVICYGLOZHA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1 IJSVVICYGLOZHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCIDRBFZPRURMU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propylprop-2-enamide Chemical compound CCCNC(=O)C(C)=C CCIDRBFZPRURMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1O ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWIIFBPIDORBCY-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;propane-1,2,3-triol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(=C)C(O)=O.OCC(O)CO NWIIFBPIDORBCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-enylbenzene Chemical compound FC(F)(F)C=CC1=CC=CC=C1 HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDGNEDMGRQQNNI-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)pentane Chemical compound CCC(CC)COC=C WDGNEDMGRQQNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropyl carbamimidothioate;dihydrobromide Chemical class Br.Br.NCCCSC(N)=N JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLGYSGTHHKRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxy-2,2-dimethylbutane Chemical compound CC(C)(C)C(C)OC=C FWLGYSGTHHKRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCC(CC)OC=C BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CC1CCCCNC1=O MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYDIDJFXXIUCY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxyprop-1-enylbenzene Chemical compound CCOCC=CC1=CC=CC=C1 VCYDIDJFXXIUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)C=CC1=CC=CC=C1 CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEWMYILWXCRHZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylbutyric acid Chemical compound OC(=O)CC(C)C1=CC=CC=C1 ZZEWMYILWXCRHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIMDYNJRXHEXEL-UHFFFAOYSA-N 3-phenylprop-1-enylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC=CC1=CC=CC=C1 AIMDYNJRXHEXEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAVKUZZRBQNSGV-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoylamino)benzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KAVKUZZRBQNSGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMOIDWXRUSAWHV-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-1-fluoro-2-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=CC=C(C=C)C=C1C(F)(F)F JMOIDWXRUSAWHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGQXTJQMNTHJX-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-1-methoxy-2-methylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1C GVGQXTJQMNTHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGTVWCBFJAVSMS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxypentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCO YGTVWCBFJAVSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INRQKLGGIVSJRR-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxypentyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCCOC(=O)C=C INRQKLGGIVSJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZBCCAZHJQZKLL-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-12-methyl-11h-indolo[2,3-a]carbazole-6-carbonitrile Chemical compound N1C2=C3N(C)C4=CC=C[CH]C4=C3C(OC)=C(C#N)C2=C2[C]1C=CC=C2 RZBCCAZHJQZKLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical class CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N Butyl levulinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(C)=O ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGRPEBYUVHSYDR-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(O)=O.OCC(O)COOC(=O)C=C Chemical compound CC(=C)C(O)=O.OCC(O)COOC(=O)C=C QGRPEBYUVHSYDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N Hexyl crotonate Chemical compound CCCCCCOC(=O)\C=C\C MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethyl-succinimide Natural products CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)CO APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQVUUGHMHQPVSI-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(Cl)C1=CC=CC=C1 DQVUUGHMHQPVSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CXSXCWXUCMJUGI-UHFFFAOYSA-N [methoxy(phenyl)methyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(OC)C1=CC=CC=C1 CXSXCWXUCMJUGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000693 bioaccumulation Toxicity 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006367 bivalent amino carbonyl group Chemical group [H]N([*:1])C([*:2])=O 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CCCCOC(C)=O HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005460 butyl levulinate Drugs 0.000 description 1
- UDHMTPILEWBIQI-UHFFFAOYSA-N butyl naphthalene-1-sulfonate;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OCCCC)=CC=CC2=C1 UDHMTPILEWBIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJSDHUCWMSHDCR-UHFFFAOYSA-N cinnamyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC=CC1=CC=CC=C1 WJSDHUCWMSHDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCSHDIVRCWTZOX-DVTGEIKXSA-N clobetasol Chemical compound C1CC2=CC(=O)C=C[C@]2(C)[C@]2(F)[C@@H]1[C@@H]1C[C@H](C)[C@@](C(=O)CCl)(O)[C@@]1(C)C[C@@H]2O FCSHDIVRCWTZOX-DVTGEIKXSA-N 0.000 description 1
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N dibutyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N dibutyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCCCC OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCC ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N diethyl 3,5-dimethyl-1h-pyrrole-2,4-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1NC(C)=C(C(=O)OCC)C=1C XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(=O)OC ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEMDBIASTFOJAF-UHFFFAOYSA-N dioxido(4,4,4-triphenylbutoxy)borane;tetrabutylazanium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(CCCOB([O-])[O-])C1=CC=CC=C1 VEMDBIASTFOJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDCYKCDXXPQIK-UHFFFAOYSA-N ethenoxymethylbenzene Chemical compound C=COCC1=CC=CC=C1 AZDCYKCDXXPQIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMQHXFNDANLQTI-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,3,4,5-tetrachlorobenzoate Chemical compound ClC1=CC(C(=O)OC=C)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl YMQHXFNDANLQTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical class ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJIHUSWGELHYBJ-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chlorobenzoate Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)OC=C ZJIHUSWGELHYBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC=C CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxypropanoate Chemical class CC(O)C(=O)OC=C MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methoxyacetate Chemical class COCC(=O)OC=C AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(=O)OC=C WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEYMDLYHRCTNEE-UHFFFAOYSA-N ethenyl 3-oxobutanoate Chemical class CC(=O)CC(=O)OC=C ZEYMDLYHRCTNEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZRGFKQYQJKGAK-UHFFFAOYSA-N ethenyl cyclohexanecarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1CCCCC1 JZRGFKQYQJKGAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N ethenyl hexanoate Chemical class CCCCCC(=O)OC=C LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGVWGPMAGMJLBU-UHFFFAOYSA-N ethenyl naphthalene-1-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)OC=C)=CC=CC2=C1 BGVWGPMAGMJLBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBDADGJLZNIRFQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OC=C QBDADGJLZNIRFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N ethenyl pentanoate Chemical class CCCCC(=O)OC=C BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- DWXAVNJYFLGAEF-UHFFFAOYSA-N furan-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CO1 DWXAVNJYFLGAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWVBGCWRHHXMRM-UHFFFAOYSA-N hexadecoxycarbonyloxy hexadecyl carbonate Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)OOC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCC QWVBGCWRHHXMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVCFYNPCDYAEMH-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate;pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C.CCCCCCOC(=O)C(C)=C JVCFYNPCDYAEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005027 hydroxyaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L magnesium;sulfite Chemical compound [Mg+2].[O-]S([O-])=O JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013372 meat Nutrition 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N mofebutazone Chemical group O=C1C(CCCC)C(=O)NN1C1=CC=CC=C1 REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGCYBCHJTSUDRE-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)N(C)C1=CC=CC=C1 LGCYBCHJTSUDRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSVCCLIDMUQFT-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(2-methylpropyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(C)CN(CC(C)C)C(=O)C=C BPSVCCLIDMUQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMQMUZCPILQGI-UHFFFAOYSA-N n,n-dibutyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCN(C(=O)C(C)=C)CCCC LZMQMUZCPILQGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAEXFKSTXQREHP-UHFFFAOYSA-N n,n-dicyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C1CCCCC1N(C(=O)C=C)C1CCCCC1 SAEXFKSTXQREHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOWLAXQNIPQMAS-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-2-methylideneoctanamide Chemical compound CCCCCCC(=C)C(=O)N(CC)CC KOWLAXQNIPQMAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMCVCHBBHPFWBF-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C(C)=C JMCVCHBBHPFWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C=C OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICRMQJKSNVCQBG-UHFFFAOYSA-N n-(2-acetamidoethyl)-n-acetylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NCCN(C(C)=O)C(=O)C=C ICRMQJKSNVCQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPUPLVNNJOGFHX-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCOC=C IPUPLVNNJOGFHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCO BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJWDFJXMZXZWTC-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound OCCN(C)C(=O)C(C)=C KJWDFJXMZXZWTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHUMZYFJVMWRC-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-n-methylprop-2-enamide Chemical compound OCCN(C)C(=O)C=C VYHUMZYFJVMWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RULNGIPWAOXQFQ-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC1=CC=CC=C1NC(=O)C=C RULNGIPWAOXQFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C=C UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C=C ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical group CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLHOLGYGRKZMU-UHFFFAOYSA-N n-benzylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCC1=CC=CC=C1 OHLHOLGYGRKZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)=C VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRVUCYWJQFRCOB-UHFFFAOYSA-N n-butylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C=C YRVUCYWJQFRCOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1CCCCC1 JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIRIUIGSENVXCN-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)N(CC)C1=CC=CC=C1 NIRIUIGSENVXCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C(C)=C ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABUMECXPQVMMIN-UHFFFAOYSA-N n-heptylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCCNC(=O)C=C ABUMECXPQVMMIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- IZXGMKHVTNJFAA-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)N(C)C1=CC=CC=C1 IZXGMKHVTNJFAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDUBLLPBLXPNJ-UHFFFAOYSA-N n-naphthalen-1-ylprop-2-enamide Chemical compound C1=CC=C2C(NC(=O)C=C)=CC=CC2=C1 MQDUBLLPBLXPNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWGZKFQMWZYCHF-UHFFFAOYSA-N n-octylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCCCNC(=O)C=C AWGZKFQMWZYCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDFKEEALECCKTJ-UHFFFAOYSA-N n-propylprop-2-enamide Chemical compound CCCNC(=O)C=C WDFKEEALECCKTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZXAODFGRZKJT-UHFFFAOYSA-N n-tert-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(C)(C)C QQZXAODFGRZKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001005 nitro dye Substances 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N oct-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012934 organic peroxide initiator Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 1
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005553 polystyrene-acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- YOSXAXYCARLZTR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl isocyanate Chemical compound C=CC(=O)N=C=O YOSXAXYCARLZTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(=O)C=C ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYFIHPJVHCCGTF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CC(O)C(=O)OCC=C CYFIHPJVHCCGTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCC=C AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQMAPKVSTSACQB-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCC=C ZQMAPKVSTSACQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAFZJTKIBGEQKT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC=C HAFZJTKIBGEQKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPCIWDZYMSZAEZ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC=C HPCIWDZYMSZAEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical group [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- FGXAXWOAJVOILP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-[methyl(pentadecyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCN(C)CC([O-])=O FGXAXWOAJVOILP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FGDMJJQHQDFUCP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=CC2=C(S([O-])(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 FGDMJJQHQDFUCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002130 sulfonic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N tetradec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000001016 thiazine dye Substances 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003170 water-soluble synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/36—Amides or imides
- C08F222/40—Imides, e.g. cyclic imides
- C08F222/402—Alkyl substituted imides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
- C08F220/285—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety
- C08F220/286—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety and containing polyethylene oxide in the alcohol moiety, e.g. methoxy polyethylene glycol (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
- C08F220/285—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety
- C08F220/287—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety and containing polypropylene oxide in the alcohol moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
- C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F267/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated polycarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F22/00
- C08F267/10—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated polycarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F22/00 on to polymers of amides or imides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【課題】優れたインキ着肉性及び均一性を備える画像形成層を提供するのみならず、組成物を含有する塗布液が良好な消泡性を有し、高速で効率的に画像形成層等を形成することができる平版印刷版用組成物を提供すること。また、高速で製造可能であり、製造効率に優れた平版印刷版原版又はダミー版を提供すること。
【解決手段】特定の化学構造を有するフルオロ脂肪族基含有共重合体を含む平版印刷版用組成物。また、前記組成物を含む層を備える平版印刷版原版又はダミー版。
【選択図】なし
【解決手段】特定の化学構造を有するフルオロ脂肪族基含有共重合体を含む平版印刷版用組成物。また、前記組成物を含む層を備える平版印刷版原版又はダミー版。
【選択図】なし
Description
本発明は、平版印刷版用組成物に関し、特に、デジタル信号に基づいて固体レーザー又は半導体レーザーから赤外線を照射することにより直接画像を形成できる、いわゆるコンピューター・トゥ・プレート(CTP)版として用いられる赤外線感受性又は感熱性の平版印刷版原版に好適に使用される組成物に関する。
近年、コンピュータ画像処理技術の進歩に伴い、デジタル信号に対応した輻射線照射により直接感光層に画像を書き込む方法が開発されている。この方法を平版印刷版に利用し、銀塩マスクフィルムへの出力を行わずに、直接、平版印刷版原版に画像を形成するコンピューター・トゥ・プレート(CTP)システムが注目されている。輻射線照射の光源として、近赤外線又は赤外線領域に最大強度を有する高出力レーザーを用いるCTPシステムは、短時間の露光で高解像度の画像が得られること、そのシステムに用いる平版印刷版原版が明室での取り扱いが可能であること、等の利点を有している。特に、波長760nm〜1200nmの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーは、高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになってきている。
ところで、このような固体レーザー又は半導体レーザーを用いて画像を形成することが可能な平版印刷版原版として、基体上に、画像記録層を備え、且つ、当該画像記録層にパーフルオロアルキル基を有する特定のポリマーを配合したものが、特開2002−296774号公報、特開2002−311577号公報、及び、特開2007−17948号公報に開示されている。
特開2002−296774号公報、特開2002−311577号公報、及び、特開2007−17948号公報に記載されるようなパーフルオロアルキル基を有するポリマーを画像記録層中に配合した平版印刷版原版は、当該ポリマーを配合しない場合に比べて、優れたインキ着肉性を発揮することができ、また、画像形成層の均一性を向上することも可能である。
しかし、このようなパーフルオロアルキル基を有するポリマーを含む組成物は消泡性に劣るために当該組成物を使用して画像形成層を基体上に形成する際に、当該層中又は当該層上に気泡が残存しやすい。この傾向は、製造効率を高めるために前記組成物を高速で基体上に塗布して画像形成層を得る場合に顕著である。そして、残存する気泡は様々な問題をもたらす。例えば、画像形成層中又は画像形成層上の気泡は画像中に筋むら、ハキジ(白点)等の欠陥を形成しうる。
そして、気泡を抑制するために組成物塗布速度を上げることができず、これにより製造効率が低下する問題は、画像形成層を形成する場合に限らず、例えば、画像形成層上に非感光性保護層を形成する場合、並びに、印刷装置の版胴の印刷を必要としない部分に取り付けられるダミー版の基体上に非感光性保護層を形成する場合にも当てはまる。
本発明は、前記現状に鑑みて為されたものであり、優れたインキ着肉性及び均一性を備える画像形成層を提供するのみならず、良好な消泡性を有し、高速で効率的に画像形成層等を形成することができる平版印刷版用組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、高速で製造可能であり、製造効率に優れた平版印刷版原版及びダミー版を提供することもその目的とする。
本発明の目的は、一般式:
(式中、
Rは水素原子又はメチル基であり、
nは1〜6の整数であり、
aは1〜4の整数であり、
bは1〜3の整数であり、
cは1〜3の整数である)で表される単位を少なくとも有するフルオロ脂肪族基含有共重合体を含む平版印刷版用組成物によって達成される。
Rは水素原子又はメチル基であり、
nは1〜6の整数であり、
aは1〜4の整数であり、
bは1〜3の整数であり、
cは1〜3の整数である)で表される単位を少なくとも有するフルオロ脂肪族基含有共重合体を含む平版印刷版用組成物によって達成される。
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び/又はポリ(オキシアルキレン)メタクリレートに相当する単位を更に有することが好ましい。
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、酸性水素原子を有する単位を更に有してもよい。
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、側鎖にエチレン性不飽和基を有する単位を更に有してもよい。
本発明の平版印刷版用組成物は、感光性又は非感光性であることができる。
また、本発明は、基体上に上記平版印刷版用組成物を含む画像形成層を備える平版印刷版原版にも関する。前記画像形成層は複数の層から構成されていてもよい。
本発明の平版印刷版原版の画像形成層は、光熱変換物質を含むことができる。
本発明の平版印刷版原版の画像形成層は、光熱変換物質に加えて、水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂を更に含むことができる。また、この場合、酸発生剤を更に含んでもよい。
本発明の平版印刷版原版の画像形成層は、光熱変換物質に加えて、重合開始剤及びラジカル重合性化合物を更に含むことができる。
本発明の平版印刷版原版の画像形成層は、光熱変換物質の有無に関わらず、光重合開始剤及びエチレン性不飽和結合含有化合物を含むことができる。
本発明の平版印刷版用組成物が非感光性の場合、本発明の平版印刷版原版は、画像形成層上に当該平版印刷版用非感光性組成物を含む保護層を備えていてもよい。
そして、本発明は、基体上に、本発明の平版印刷版用非感光性組成物を含む保護層を備える、ダミー版にも関する。
本発明の平版印刷版用組成物は、優れたインキ着肉性及び均一性を備える画像形成層を提供するのみならず、良好な消泡性を有し、高速で効率的に画像形成層等を形成することができる。
また、本発明の平版印刷版用組成物を使用して得られた画像形成層は、従来のパーフルオロアルキル基を有するポリマーを含む組成物を使用して得られた画像形成層よりも優れたインキ着肉性を発揮することができる。
そして、本発明の平版印刷版原版及びダミー版は、基体上における各層の形成速度を早めることができるので、高速で製造可能であり、製造効率に優れている。
本発明の平版印刷版用組成物は、一般式:
(式中、
Rは水素原子又はメチル基であり、
nは1〜6の整数であり、好ましくは2〜4の整数であり、
aは1〜4の整数であり、好ましくは1〜2の整数であり、
bは1〜3の整数であり、好ましくは1〜2の整数であり、
cは1〜3の整数である)で表される単位を少なくとも有するフルオロ脂肪族基含有共重合体を少なくとも含む。
Rは水素原子又はメチル基であり、
nは1〜6の整数であり、好ましくは2〜4の整数であり、
aは1〜4の整数であり、好ましくは1〜2の整数であり、
bは1〜3の整数であり、好ましくは1〜2の整数であり、
cは1〜3の整数である)で表される単位を少なくとも有するフルオロ脂肪族基含有共重合体を少なくとも含む。
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、下記一般式(I):
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)b(CH2CH2)cOCOCR=CH2 (I)
(式中、R、n、a、b及びcは上記のとおりである)で表されるモノマー及び他のラジカル重合性モノマーと共に共重合することによって製造することができる。したがって、前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、上記一般式(I)で表されるモノマーに相当する単位及び他のラジカル重合性モノマーに相当する単位を含む。
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)b(CH2CH2)cOCOCR=CH2 (I)
(式中、R、n、a、b及びcは上記のとおりである)で表されるモノマー及び他のラジカル重合性モノマーと共に共重合することによって製造することができる。したがって、前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、上記一般式(I)で表されるモノマーに相当する単位及び他のラジカル重合性モノマーに相当する単位を含む。
上記一般式(I)で表されるモノマーは生体蓄積性の低い炭素数6以下のパーフルオロアルキル基を有しているために、人体への毒性が低い。また、分子中のCH2CF2部位が容易に脱HFして二重結合を形成し、それがオゾンにより分解され易いため、環境汚染性が低い。したがって、上記一般式(I)で表されるモノマーの使用は使用者及び環境の両者に優しい。
上記一般式(I)で表されるモノマーは、一般式(II):
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)b(CH2CH2)cOH (II)
(式中、n、a、b及びcは上記のとおりである)で表されるフルオロアルキルアルコールを(メタ)アクリル酸とエステル化反応させることにより製造することができる。ここで、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を示している。一般式(II)のフルオロアルキルアルコールは、例えば、これに対応するフルオロアルキルヨウ化物から製造される。
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)b(CH2CH2)cOH (II)
(式中、n、a、b及びcは上記のとおりである)で表されるフルオロアルキルアルコールを(メタ)アクリル酸とエステル化反応させることにより製造することができる。ここで、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を示している。一般式(II)のフルオロアルキルアルコールは、例えば、これに対応するフルオロアルキルヨウ化物から製造される。
一般式(II)のフルオロアルキルアルコール合成の出発原料となるフルオロアルキルヨウ化物は、一般式(III):
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)b(CH2CH2)cI (III)
(式中、n、a、b及びcは上記のとおりである)で表される。
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)b(CH2CH2)cI (III)
(式中、n、a、b及びcは上記のとおりである)で表される。
一般式(III)のフルオロアルキルヨウ化物は、一般式(IV):
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)bI (IV)
(式中、n、a及びbは上記のとおりである)で表される末端ヨウ化物にエチレンを付加反応させることにより製造することができる。エチレンの付加反応は、上記一般式(IV)の化合物に過酸化物開始剤の存在下で加圧エチレンを付加させることにより行われ、その付加数は反応条件にもよるが、1以上、好ましくは1〜3、さらに好ましくは1である。なお、この付加反応は、用いられる開始剤の分解温度にも関係するが、一般に約80〜120℃の反応温度で行われ、低温で分解する過酸化物開始剤を用いた場合には80℃以下での反応が可能である。過酸化物開始剤としては、第3ブチルパーオキサイド、ジ(第3ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジセチルパーオキシジカーボネート、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ第2ブチルパーオキシジカーボネート等が挙げられ、反応の進行性及び制御性の点から、上記一般式(IV)の化合物に対して約1〜5モル%の割合で用いることが好ましい。
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)bI (IV)
(式中、n、a及びbは上記のとおりである)で表される末端ヨウ化物にエチレンを付加反応させることにより製造することができる。エチレンの付加反応は、上記一般式(IV)の化合物に過酸化物開始剤の存在下で加圧エチレンを付加させることにより行われ、その付加数は反応条件にもよるが、1以上、好ましくは1〜3、さらに好ましくは1である。なお、この付加反応は、用いられる開始剤の分解温度にも関係するが、一般に約80〜120℃の反応温度で行われ、低温で分解する過酸化物開始剤を用いた場合には80℃以下での反応が可能である。過酸化物開始剤としては、第3ブチルパーオキサイド、ジ(第3ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジセチルパーオキシジカーボネート、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ第2ブチルパーオキシジカーボネート等が挙げられ、反応の進行性及び制御性の点から、上記一般式(IV)の化合物に対して約1〜5モル%の割合で用いることが好ましい。
なお、上記一般式(IV)の化合物は、次のような一連の工程を経て合成することができる。
(i) 一般式(V):
CnF2n+1I (V)
(式中、nは上記のとおりである) で表されるパーフルオロアルキルヨウ化物を、上記の如き過酸化物開始剤(原料化合物に対し約0.1〜0.5モル%の使用量)の存在下でフッ化ビニリデンと反応させ、一般式(VI):
CnF2n+1(CH2CF2)aI (VI)
(式中、n及びaは上記のとおりである) で表される化合物(b=0)を得る。
(ii) 更に、必要に応じて、上記一般式(VI)で表される化合物に、過酸化物開始剤の存在下でテトラフルオロエチレンを反応させる。これにより、前記一般式(IV)で表される末端ヨウ化物を得ることができる。工程(ii)の反応に用いられる過酸化物開始剤としては、上記の如き有機過酸化物開始剤が好ましく、工程(i)の場合と同様の割合で用いることが好ましい。
(i) 一般式(V):
CnF2n+1I (V)
(式中、nは上記のとおりである) で表されるパーフルオロアルキルヨウ化物を、上記の如き過酸化物開始剤(原料化合物に対し約0.1〜0.5モル%の使用量)の存在下でフッ化ビニリデンと反応させ、一般式(VI):
CnF2n+1(CH2CF2)aI (VI)
(式中、n及びaは上記のとおりである) で表される化合物(b=0)を得る。
(ii) 更に、必要に応じて、上記一般式(VI)で表される化合物に、過酸化物開始剤の存在下でテトラフルオロエチレンを反応させる。これにより、前記一般式(IV)で表される末端ヨウ化物を得ることができる。工程(ii)の反応に用いられる過酸化物開始剤としては、上記の如き有機過酸化物開始剤が好ましく、工程(i)の場合と同様の割合で用いることが好ましい。
フッ化ビニリデン(及び、必要に応じてテトラフルオロエチレン)付加反応の反応温度は、用いられる開始剤の分解温度にも依存するが、低温で分解する過酸化物開始剤を用いることにより、低圧条件下でも80℃以下での反応が可能である。反応は、一般式(V)又は(VI)の化合物をオートクレーブ内に入れ、その内温を昇温させて約10〜60℃、例えば50℃としたら、そこに一般式(V)又は(VI)の化合物に溶解した過酸化物系開始剤を加え、内温が例えば55℃になったら、フッ化ビニリデン又はテトラフルオロエチレンを約0.1〜1.0MPaの圧力を保ちながら分添し、所望量を分添した後、例えば約55〜80℃の間の温度で約1時間程度エージングすることにより行われる。その添加量によって、反応によって付加したフッ化ビニリデン又はテトラフルオロエチレン骨格の数a又はbが左右される。一般には、種々のa値及びb値の混合物として形成される。
これらの反応を比較的低温で実施することにより、エネルギーの使用量を減少させることが可能となるばかりではなく、設備内でのフッ酸等による腐食を抑制し、設備の更新頻度を減らすことができる。さらに、より廉価な材料の使用が可能となることから、更新頻度の減少と併せて、設備投資費用を廉価に抑えることができる。
エチレンが付加される具体的な化合物(IV)としては、次のような化合物が例示される。この化合物は、種々のa値及びb値を有するオリゴマーの混合物であり、特定のa値及びb値を有するオリゴマーは混合物を蒸留することにより単離することができる。なお、所定のa値及びb値を有しないオリゴマーは、それを単離して又は混合物のまま、再度フッ化ビニリデン又はテトラフルオロエチレンとのオリゴマー数増加反応に用いることができる。
CF3(CH2CF2)I
C2F5(CH2CF2)I
C2F5(CH2CF2)2I
C3F7(CH2CF2)I
C3F7(CH2CF2)2I
C4F9(CH2CF2)I
C4F9(CH2CF2)2I
C2F5(CH2CF2)(CF2CF2)I
C2F5(CH2CF2)(CF2CF2)2I
C2F5(CH2CF2)2(CF2CF2)I
C2F5(CH2CF2)2(CF2CF2)2I
C4F9(CH2CF2)(CF2CF2)I
C4F9(CH2CF2)2(CF2CF2)I
C4F9(CH2CF2)(CF2CF2)2I
C4F9(CH2CF2)2(CF2CF2)2I
CF3(CH2CF2)I
C2F5(CH2CF2)I
C2F5(CH2CF2)2I
C3F7(CH2CF2)I
C3F7(CH2CF2)2I
C4F9(CH2CF2)I
C4F9(CH2CF2)2I
C2F5(CH2CF2)(CF2CF2)I
C2F5(CH2CF2)(CF2CF2)2I
C2F5(CH2CF2)2(CF2CF2)I
C2F5(CH2CF2)2(CF2CF2)2I
C4F9(CH2CF2)(CF2CF2)I
C4F9(CH2CF2)2(CF2CF2)I
C4F9(CH2CF2)(CF2CF2)2I
C4F9(CH2CF2)2(CF2CF2)2I
一般式(II)で表されるフルオロアルキルアルコールは、一般式(III)のフルオロアルキルヨウ化物をまずN-メチルホルムアミドHCONH(CH3)と反応させ、フルオロアルキルアルコールとそのギ酸エステルとの混合物とした後、酸触媒の存在下でそれを加水分解反応することにより製造される。この反応に際しては、フルオロアルキルヨウ化物中に結合されているフッ化ビニリデン由来のCH2CF2が脱HFを起こし、収率を低下させることを防止するために、好ましくは5〜10倍モル量程度のN-メチルホルムアミドを用い、また酸触媒としてp-トルエンスルホン酸の水溶液を用いることが好ましい。N-メチルホルムアミドとの反応は、約140〜160℃の温度で約4〜5時間程度行われ、次いで行われる加水分解反応は、約70〜90℃の温度で約7〜8時間程度行われることが好ましい。
得られた一般式(II)のフルオロアルキルアルコールは、これを(メタ)アクリル酸でエステル化反応させて一般式(I)のモノマーとすることができる。エステル化反応に際しては、まず一般式(II)のフルオロアルキルアルコールにトルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、p-トルエンスルホン酸等の触媒及び重合禁止剤としてのハイドロキノンを加え、約90〜100℃に加熱した後、そこに約1〜2倍モル量の(メタ)アクリル酸を加え、約110〜120℃で約2〜5時間程度加熱し、脱水反応させて、エステル化反応を行うことが好ましい。
上記他のラジカル重合性モノマーとしては、フッ素原子含有重合性モノマー又はフッ素原子非含有重合性モノマーのいずれのモノマーをも使用することができる。フッ素原子含有重合性モノマーが用いられる場合には、それが有するポリフルオロアルキル基、好ましくはパーフルオロアルキル基の炭素数は1〜6が好ましく、2〜4がより好ましい。
フッ素原子含有重合性モノマーとしては、例えば、一般式:
CH2=CRCOOR1-(NR2SO2)m-Rf
(式中、Rは、水素原子又はメチル基を表し、
R1は、2価の有機基、好ましくは炭素数1〜4のアルキレン基又はポリフルオロアルキレン基を表し、
R2は、炭素数1〜5の低級アルキル基を表し、
Rfは、炭素数1〜6、好ましくは2〜4のポリフルオロアルキル基、好ましくはパーフルオロアルキル基を表し、
mは、0又は1を表す)で表されるものを用いることができ、例えば、次のようなポリフルオロアルキル基含有(メタ)アクリレート単量体が示される。なお、末端ポリフルオロアルキル基の炭素数nは1〜6が好ましく、R1基がポリフルオロアルキレン基で、m=0の場合には、末端ポリフルオロアルキル基との合計炭素数が1〜6であることが好ましい。
CH2=CRCOOR1-(NR2SO2)m-Rf
(式中、Rは、水素原子又はメチル基を表し、
R1は、2価の有機基、好ましくは炭素数1〜4のアルキレン基又はポリフルオロアルキレン基を表し、
R2は、炭素数1〜5の低級アルキル基を表し、
Rfは、炭素数1〜6、好ましくは2〜4のポリフルオロアルキル基、好ましくはパーフルオロアルキル基を表し、
mは、0又は1を表す)で表されるものを用いることができ、例えば、次のようなポリフルオロアルキル基含有(メタ)アクリレート単量体が示される。なお、末端ポリフルオロアルキル基の炭素数nは1〜6が好ましく、R1基がポリフルオロアルキレン基で、m=0の場合には、末端ポリフルオロアルキル基との合計炭素数が1〜6であることが好ましい。
CH2=CHCOOCH2CnF2nH
CH2=C(CH3)COOCH2CnF2nH
CH2=CHCOOCH2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOCH2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4CnF2n+1
CH2=CHCOOC3H6CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC3H6CnF2n+1
CH2=CHCOOC4H8CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC4H8CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4N(CH3)SO2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4N(CH3)SO2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4N(C2H5)SO2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4N(C2H5)SO2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4N(C3H7)SO2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4N(C3H7)SO2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4CnF2nCF(CF3)2
CH2=C(CH3)COOC2H4CnF2nCF(CF3)2
(式中、nは上記のとおりである)
CH2=C(CH3)COOCH2CnF2nH
CH2=CHCOOCH2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOCH2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4CnF2n+1
CH2=CHCOOC3H6CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC3H6CnF2n+1
CH2=CHCOOC4H8CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC4H8CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4N(CH3)SO2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4N(CH3)SO2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4N(C2H5)SO2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4N(C2H5)SO2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4N(C3H7)SO2CnF2n+1
CH2=C(CH3)COOC2H4N(C3H7)SO2CnF2n+1
CH2=CHCOOC2H4CnF2nCF(CF3)2
CH2=C(CH3)COOC2H4CnF2nCF(CF3)2
(式中、nは上記のとおりである)
また、フッ素原子非含有重合性モノマーとしては、例えば、一般式:
R3OCOCR=CH2
(式中
Rは、水素原子又はメチル基を表し、
R3は、アルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す)で表される(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。このような(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、n-ヘキシル、2-エチルヘキシル、n-オクチル、ラウリル、ステアリル等のアルキル基、メトキシメチル、2-メトキシエチル、2-エトキシエチル、2-ブトキシエチル、3-エトキシプロピル等のアルコキシアルキル基、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル等のアリール基、ベンジル等のアラルキル基でエステル化されたアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル等が挙げられ、この他、フマル酸又はマレイン酸のモノメチル、ジメチル、モノエチル、ジエチル、モノプロピル、ジプロピル、モノブチル、ジブチル、モノ2-エチルヘキシル、ジ2-エチルヘキシル、モノオクチル、ジオクチル等のモノアルキルエステル又はジアルキルエステル、酢酸ビニル、カプリル酸ビニル等のビニルエステル等も使用可能である。炭素数8以上の長鎖アルキル基、例えば2-エチルヘキシル、n-オクチル、ラウリル、ステアリル等のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、ベンジル等のアラルキル基等でエステル化されたアクリル酸エステル、特に好ましくはステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートが好ましい。ここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを示している。
R3OCOCR=CH2
(式中
Rは、水素原子又はメチル基を表し、
R3は、アルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す)で表される(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。このような(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、n-ヘキシル、2-エチルヘキシル、n-オクチル、ラウリル、ステアリル等のアルキル基、メトキシメチル、2-メトキシエチル、2-エトキシエチル、2-ブトキシエチル、3-エトキシプロピル等のアルコキシアルキル基、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル等のアリール基、ベンジル等のアラルキル基でエステル化されたアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル等が挙げられ、この他、フマル酸又はマレイン酸のモノメチル、ジメチル、モノエチル、ジエチル、モノプロピル、ジプロピル、モノブチル、ジブチル、モノ2-エチルヘキシル、ジ2-エチルヘキシル、モノオクチル、ジオクチル等のモノアルキルエステル又はジアルキルエステル、酢酸ビニル、カプリル酸ビニル等のビニルエステル等も使用可能である。炭素数8以上の長鎖アルキル基、例えば2-エチルヘキシル、n-オクチル、ラウリル、ステアリル等のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、ベンジル等のアラルキル基等でエステル化されたアクリル酸エステル、特に好ましくはステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートが好ましい。ここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを示している。
また、上記フッ素原子非含有重合性モノマーとして、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び/又はポリ(オキシアルキレン)メタクリレートを使用することもできる。
ポリオキシアルキレン基は(OR’)xで表すことができ、R’は2〜4の炭素原子を有するアルキレン基であり、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH(CH3)CH2-、-CH2CH2CH2CH2-又は-CH(CH3)CH(CH3)-であることが好ましい。xは正の整数である。前記のポリ(オキシアルキレン)基中のオキシアルキレン単位はポリ(オキシプロピレン)におけるように同一のオキシアルキレン単位のみで構成されてもよく、また、オキシプロピレン単位とオキシエチレン単位とが連結したもののように、異なる2種以上のオキシアルキレン単位が規則的又は不規則に連結したものであっても良い。
ポリ(オキシアルキレン)鎖の末端に結合する原子又は基は、水素原子であっても他の任意の基であっても良いが、水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20)、アリル基(好ましくは炭素数1〜20)、アリール基(例えば炭素数6〜10)であることが好ましい。アリール基は、アルキル基(例えば炭素数1〜10)、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。ポリ(オキシアルキレン)鎖は1つ又はそれ以上の連鎖結合(例えば-CONH-Ph-NHCO-、−S−等:Phはフェニレン基を表す)で連結されることができる。分岐鎖状のオキシアルキレン単位を供するため、連鎖結合部位に3又はそれ以上の原子価を有することができる。ポリ(オキシアルキレン)基の分子量は、連鎖結合部を含め250〜3000が好ましい。
ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ(オキシアルキレン)材料、例えば商品名“プルロニック”[Pluronic(旭電化工業(株)製)、アデカポリエーテル(旭電化工業(株)製)“カルボワックス[Carbowax(グリコ・プロダクス)]、”トリトン“[Toriton(ローム・アンド・ハース(Rohm and Haas製))及びP.E.G(第一工業製薬(株)製)として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート等を用いることもできる。
市販品のモノマーとしては、日本油脂株式会社製の水酸基末端ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレートとしてブレンマーPE-90、ブレンマーPE-200、ブレンマーPE-350、ブレンマーAE-90、ブレンマーAE-200、ブレンマーAE-400、ブレンマーPP-1000、ブレンマーPP-500、ブレンマーPP-800、ブレンマーAP-150、ブレンマーAP-400、ブレンマーAP-550、ブレンマーAP-800、ブレンマー50PEP-300、ブレンマー70PEP-350B、ブレンマーAEPシリーズ、ブレンマー55PET-400、ブレンマー30PET-800、ブレンマー55PET-800、ブレンマーAETシリーズ、ブレンマー30PPT-800、ブレンマー50PPT-800、ブレンマー70PPT-800、ブレンマーAPTシリーズ、ブレンマー10PPB-500B、ブレンマー10APB-500B等が挙げられる。同様に日本油脂株式会社製のアルキル末端ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレートとしてブレンマーPME-100、ブレンマーPME-200、ブレンマーPME-400、ブレンマーPME-1000、ブレンマーPME-4000、ブレンマーAME-400、ブレンマー50POEP-800B、ブレンマー50AOEP-800B、ブレンマーPLE-200、ブレンマーALE-200、ブレンマーALE-800、ブレンマーPSE-400、ブレンマーPSE-1300、ブレンマーASEPシリーズ、ブレンマーPKEPシリーズ、ブレンマーAKEPシリーズ、ブレンマーANE-300、ブレンマーANE-1300、ブレンマーPNEPシリーズ、ブレンマーPNPEシリーズ、ブレンマー43ANEP-500、ブレンマー70ANEP-550等、また共栄社化学株式会社製ライトエステルMC、ライトエステル130MA、ライトエステル041MA、ライトアクリレートBO-A、ライトアクリレートEC-A、ライトアクリレートMTG-A、ライトアクリレート130A、ライトアクリレートDPM-A、ライトアクリレートP-200A、ライトアクリレートNP-4EA、ライトアクリレートNP-8EA等が挙げられる。
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、酸性水素原子を有する単位を更に有してもよい。酸性水素原子は、フェノール性水酸基、カルボキシル基、−SO2NH2、−SO2NH−、−CONHCO−、−COCH2CO−、−SO2NHCO−、−CONHSO2NH−、−SO2NHSO2−、−SO3H等が挙げられるが、特に、フェノール性水酸基、カルボキシル基に由来する酸性水素原子が好ましい。
酸性水素原子を有する単位は、酸性水素原子を有する重合性モノマーの共重合によって前記フルオロ脂肪族基含有共重合体に導入することができる。酸性水素原子を有する重合性モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、(メタ)アクリル酸、フェノール性水酸基を有する付加重合性不飽和化合物、CH2=C(R)−CO−X1−R4−SO2NH−R5、CH2=C(R)−CO−X2−R6−NHSO2−R7等の化合物が挙げられる。ここで、Rは上記のとおりであり、X1、X2はそれぞれ−O−又は−NR8−であり、R4、R6は、それぞれ置換基を有してもよいC1−C12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基であり、R5は、水素原子、置換基を有してもよいC1−C12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基であり、R7は、置換基を有してもよいC1−C12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基であり、R8は、水素原子、置換基を有してもよいC1−C12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基である。
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、側鎖にエチレン性不飽和基を有する単位を更に有してもよい。側鎖にエチレン系不飽和基を導入する具体的な方法としては、例えば、一般式(I)で表されるモノマーと、水酸基を有する(メタ)アクリレート若しくは(メタ)アクリル酸、又は、グリシジル基を有する(メタ)アクリレートと、必要に応じて後述するような他の付加重合性不飽和化合物とを共重合し、得られたポリマーの側鎖の水酸基に(メタ)アクリロイルイソシアネートを、若しくはカルボキシル基にグリシジル(メタ)アクリレートを、又はグリシジル基に(メタ)アクリル酸を反応させる方法、一般式(I)で表されるモノマーと無水マレイン酸とを共重合し、得られたポリマーに水酸基を有する(メタ)アクリレート、アリルアルコール等を反応させる方法等が挙げられる。また、ポリマーの側鎖のカルボキシル基にアリルクロライド、アリルグリシジルエーテル等を反応させる方法も挙げられる。ここで、水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては例えば上記のものが挙げられ、また、グリシジル基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記フッ素原子非含有重合性モノマーとして、エチレン、スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレン、ビニルナフタレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、イソプレン、ペンタジエン、ブタジエン、クロロプレン、ビニルアルキルエーテル、ハロゲン化アルキルビニルエーテル、ビニルアルキルケトン、アジリジニルエチル(メタ)アクリレート、アジリジニル(メタ)アクリレート、ポリシロキサン含有(メタ)アクリレート、トリアリル(イソ)シアヌレート、アリルグリシジルエーテル、酢酸アリル、N-ビニルカルバゾール、マレイミド;N-メチルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等のN-アルキルマレイミド;N-フェニルマレイミド等のN-アリールマレイミド;(2-ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、側鎖シリコン含有(メタ)アクリレート、ウレタン結合含有(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等も挙げられる。
また、必要に応じて、上記フッ素原子非含有重合性モノマーとして、多官能性単量体又はオリゴマーを使用することもできる。かかる多官能性単量体又はオリゴマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA・エチレンオキサイド付加物ジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、グリセリンメタクリレートアクリレート、3-アクリロイルオキシグリセリンモノメタクリレート等が挙げられる。
上記フッ素原子非含有重合性モノマーとして、架橋性基含有単量体、例えば(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メトキシメチルアクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、メチロール化ジアセトン(メタ)アクリルアミド、グリシジル(メタ)アクリレート等を使用することもできる。これらの架橋性基含有単量体を共重合させると、平版印刷版原版の例えば画像形成層の耐久性を高めることができる。ここで、(メタ)アクリルアミドとは、アクリルアミド又はメタクリルアミドを示している。
本発明で使用されるフルオロ脂肪族基含有共重合体を得るためには、一般式(I)で表されるモノマーを、全モノマーの重量を基準にして、5重量%以上、好ましくは10重量%以上、より好ましくは15重量%以上、更により好ましくは20重量%以上、更により好ましくは25重量%以上、更により好ましくは30重量%以上となるような割合で共重合させることが好ましい。なお、上記他のラジカル重合性モノマーは、全モノマーの重量を基準にして、95重量%以下、好ましくは90重量%以下、より好ましくは85重量%以下、更により好ましくは80重量%以下、更により好ましくは75重量%以下、更により好ましくは70重量%以下となる割合で共重合させることが好ましい。
一般式(I)で表されるモノマー及び他のラジカル重合性モノマーと共に共重合することによって本発明で使用されるフルオロ脂肪族基含有共重合体を製造するにあたっては、当該技術分野において従来既知のラジカル重合を実施することが好ましい。
ラジカル重合反応は、1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,1,1,2,2-ペンタフルオロ-3,3-ジクロロプロパン、1,1,2,2,3-ペンタフルオロ-1,3-ジクロロプロパン、1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタン、パーフルオロヘキサン等の含フッ素有機溶媒、及び/又は、メチルイソブチルケトン、酢酸エステル等の非フッ素系有機溶媒中、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、ビス(4-第3ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等の有機過酸化物等をラジカル重合開始剤として重合性単量体に対して1〜20重量%、好ましくは2〜10重量%の割合で存在させた上で、一般式(I)で表されるモノマー及び他のラジカル重合性モノマーを約40〜100℃で1〜10時間程度反応させることにより実施することが好ましい。
一般式(I)で表されるモノマー及び他のラジカル重合性モノマーの共重合反応は、上記の如き溶液重合法に限定されず、例えば水を分散媒とし、ノニオン界面活性剤及び/又はカチオン界面活性剤を使用する乳化重合法、或いは、懸濁重合法も使用することができる。
このようにして得られるフルオロ脂肪族基含有共重合体は、蒸発乾固する方法、無機塩等の凝集剤を添加して凝集させる方法等により反応系から分離され、溶媒等で洗浄する方法により精製可能である。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは、高速液体クロマトグラフィー法によって測定可能であり、重合条件により、その値は約2,000〜200,000の範囲となりうる。
溶液重合により得られたフルオロ脂肪族基含有共重合体は、例えば、上記各種の有機溶媒、好ましくは重合反応に用いられたものと同じ有機溶媒、によってその固形分濃度が約0.01〜50重量%、好ましくは約0.05〜25重量%に希釈されて使用されることが好ましい。一方、乳化重合法、懸濁重合法等によって得られた共重合体については、そのまま、又は、水で固形分濃度を例えば約0.1〜50重量%に希釈した上で水性分散液として、或いは、重合反応液に凝集剤を添加して共重合体を凝集させ、水若しくは有機溶媒で洗浄して分離された共重合体を水に分散若しくは有機溶媒に溶解させることにより、その水性分散液若しくは有機溶媒溶液として使用されることもできる。水性分散液としては、好ましくは界面活性剤及び水溶性有機溶媒を20重量%以下含有させたものが用いられる。
本発明の組成物は、このようにして得られたフルオロ脂肪族基含有共重合体を含む。フルオロ脂肪族基含有共重合体の含有量は特に限定されるものではないが、組成物の全重量を基準にして0.0001〜50重量%とすることができ、0.001〜30重量%が好ましく、0.01〜20重量%がより好ましく、0.1〜10重量%が更により好ましい。
本発明の平版印刷用組成物は感光性又は非感光性のいずれでもよい。
本発明の平版印刷用組成物は平版印刷版原版(感光性平版印刷版)の画像形成層(感光層)の形成に使用することができる。したがって、本発明の平版印刷版原版は、基体上に、本発明の平版印刷用組成物を含む画像形成層を備えることができる。
本発明の平版印刷版原版としては、例えば、画像形成層が赤外線感受性を有するもの、例えば、最大吸収波長が760nm〜1200nmの領域にあるものが挙げられ、具体的には、以下に例示する、サーマルポジタイプ、サーマルネガタイプ、フォトポリマータイプ、無処理タイプが好適である。したがって、本発明の平版印刷用組成物は、これらの各タイプに応じて、画像形成層を構成する成分を含むことができる。
以下、これらの好適な平版印刷版原版について説明する。
(サーマルポジタイプ)
サーマルポジタイプの画像形成層は、好ましくは、水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂及び光熱変換物質を含有する。
サーマルポジタイプの画像形成層は、好ましくは、水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂及び光熱変換物質を含有する。
アルカリ性水溶液に可溶性又は分散可能であるために、前記樹脂は少なくとも、フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、イミド基、アミド基等の官能基を有することが好ましい。したがって、水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂は、フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、イミド基、アミド基及びその組合せ等の官能基を有するエチレン性不飽和モノマーを1つ以上含むモノマー混合物を重合することによって好適に生成することができる。
前記エチレン性不飽和モノマーは下式:
(式中、R4は、水素原子、C1-22の直鎖状、分枝状若しくは環状アルキル基、C1-22の直鎖状、分枝状若しくは環状置換アルキル基、又は、C6-24のアリール基若しくは置換アリール基であって、置換基はC1-4アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ケト基、エステル基、アルコキシ基又はシアノ基から選択され;Xは、O、S又はNR5であり、R5は、水素、C1-22の直鎖状、分枝状若しくは環状アルキル基、C1-22の直鎖状、分枝状若しくは環状置換アルキル基、又は、C6-24のアリール基若しくは置換アリール基であって、置換基はC1-4アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ケト基、エステル基、アルコキシ基又はシアノ基から選択され;Yは、単結合、或いは、C1-22の直鎖状、分枝状若しくは環状アルキレン、アルキレンオキシアルキレン、ポリ(アルキレンオキシ)アルキレン、又は、アルキレン−NHCONH−であり;Zは水素原子、ヒドロキシ基、カルボン酸、−C6H4−SO2NH2、−C6H3−SO2NH2(−OH)、又は下式
若しくは
で表される基である)で表される化合物又はその混合物とすることができる。
前記エチレン性不飽和モノマーの例には、アクリル酸、メタクリル酸の他に、下式で表される化合物及びその混合物が含まれる。
前記モノマー混合物は、その他のエチレン性不飽和コモノマーを含むことができる。その他のエチレン性不飽和コモノマーとしては、例えば、以下のモノマーが挙げられる。
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸-t-オクチル、クロロエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、テトラヒドロアクリレート等の、アクリル酸エステル類;
フェニルアクリレート、フルフリルアクリレート等の、アリールアクリレート類;
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、アミルメタクリレートヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等の、メタクリル酸エステル類;
フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート等の、アリールメタクリレート類;
N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N−ヘプチルアクリルアミド、N−オクチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド等の、N−アルキルアクリルアミド類;
N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−ナフチルアクリルアミド、N−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等の、N−アリールアクリルアミド類;
N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、N,N−ジイソブチルアクリルアミド、N,N−ジエチルヘキシルアクリルアミド、N,N−ジシクロヘキシルアクリルアミド等の、N,N−ジアルキルアクリルアミド類;
N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミド等の、N,N−アリールアクリルアミド類;
N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−t−ブチルメタクリルアミド、N−エチルヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドリキシエチルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド等の、N−アルキルメタクリルアミド類;
N−フェニルメタクリルアミド、N−ナフチルメタクリルアミド等の、N−アリールメタクリルアミド類;
N,N−ジエチルメタクリルアミド、N,N−ジプロピルメタクリルアミド、N,N−ジブチルメタクリルアミド等の、N,N−ジアルキルメタクリルアミド類;
N,N−ジフェニルメタクリルアミド等の、N,N−ジアリールメタクリルアミド類;
N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリルアミド等の、メタクリルアミド誘導体;
酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルチミン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、アリルオキシエタノール等の、アリル化合物類;
ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等の、ビニルエーテル類;
ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等の、ビニルエステル類;
スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ドデシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレン等の、スチレン類;
クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、クロトン酸、グリセリンモノクロトネート等の、クロトン酸エステル類;
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等の、イタコン酸ジアルキル類;
ジメチルマレート、ジブチルフマレート等の、マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類;
N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−2−メチルフェニルマレイミド、N−2,6−ジエチルフェニルマレイミド、N−2−クロロフェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ラウリルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド等の、マレイミド類;
N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の、その他の窒素原子含有モノマー。
これらの他のエチレン性不飽和コモノマー単量体のうち、好適に使用されるのは、例えば(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、マレイミド類、(メタ)アクリロニトリル類である。
水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂の重量平均分子量は、2000〜100000の範囲が好ましく、5000〜50000の範囲がより好ましく、12000〜40000の範囲が更により好ましい。重量平均分子量が20000未満では、耐溶剤性又は耐摩耗性が劣る傾向にある。一方、重量平均分子量が100000を超えると、アルカリ現像性が劣る傾向にある。
水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂の量は、画像形成層(固形分)の総質量(重量)を基準として1%〜90%が好ましく、3〜80%がより好ましく、5〜70%がより好ましい。必要に応じて、2種以上の、水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂を併用してもよい。
本明細書において「光熱変換物質」とは電磁波を熱エネルギーに変換することのできる任意の物質を意味しており、最大吸収波長が近赤外線から赤外線領域にある物質、具体的には最大吸収波長が760nm〜1200nmの領域にある物質である。このような物質としては、例えば、種々の顔料又は染料が挙げられる。
本発明で使用される顔料としては、市販の顔料、及び、カラーインデックス便覧「最新顔料便覧日本顔料技術協会編、1977年刊」、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)等に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、その他ポリマー結合染料等が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染め付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの中でも、特に、近赤外線から赤外線領域の輻射線を効率よく吸収し、しかも経済的に優れた物質として、カーボンブラックが好ましく用いられる。また、このようなカーボンブラックとしては、種々の官能基を有する分散性のよいグラフト化カーボンブラックが市販されており、例えば、「カーボンブラック便覧第3版」(カーボンブラック協会編、1995年)の167ページ、「カーボンブラックの特性と最適配合及び利用技術」(技術情報協会、1997年)の111ページ等に記載されているものが挙げられ、いずれも本発明に好適に使用される。
これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、また公知の表面処理を施して用いてもよい。公知の表面処理方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等の、反応性物質を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。これらの表面処理方法については、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)に記載されている。本発明で使用される顔料の粒径は、0.01〜15マイクロメートルの範囲にあることが好ましく、0.01〜5マイクロメートルの範囲にあることが更に好ましい。
本発明で使用される染料としては、公知慣用のものが使用でき、例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編、昭和45年刊)、「色材工学ハンドブック」(色材協会編、朝倉書店、1989年刊)、「工業用染料の技術と市場」(シーエムシー、1983年刊)、「化学便覧応用化学編」(日本化学会編、丸善書店、1986年刊)に記載されているものが挙げられる。より具体的には、アゾ染料、金属鎖塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、インジゴ染料、キノリン染料、ニトロ系染料、キサンテン系染料、チアジン系染料、アジン染料、オキサジン染料等の染料が挙げられる。
また、近赤外線又は赤外線を効率よく吸収する染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム染料、ピリリウム塩、金属チオレート錯体(例えば、ニッケルチオレート錯体)等の染料を用いることができる。中でも、シアニン染料が好ましく、特開2001−305722号公報の一般式(I)で示されたシアニン染料、特開2002−079772号の[0096]〜[0103]で示されている化合物を挙げることができる。
光熱変換物質としては、特に、下記式:
を有する染料が好ましい。
光熱変換物質は、画像形成層(固形分)に対し0.001〜20質量(重量)%、好ましくは0.01〜10質量(重量)%、特に好ましくは0.1〜6質量(重量)%の割合で存在することができる。添加量が0.001質量(重量)%未満であると感度が過度に低くなり、また6質量(重量)%を超えると印刷時非画像部に汚れが発生するおそれがある。これらの光熱変換物質は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
画像形成層は単層でもよいし、複数の層から構成されていてもよい。画像形成層が複数の層から構成される場合は、本発明の組成物は当該複数の層のいずれか1つ以上に含まれることができる。
(サーマルネガタイプ)
サーマルネガタイプの画像形成層は、好ましくは、赤外線レーザー照射部が硬化して画像部を形成するネガ型の感光層である。このようなサーマルネガタイプの感光層の一つとして、重合型の層(以下、「重合層」という)が好適に挙げられる。重合層は、好ましくは、(A)赤外線吸収剤と、(B)ラジカル発生剤(ラジカル重合開始剤)と、発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する(C)ラジカル重合性化合物と、(D)バインダーポリマーとを含有する。
サーマルネガタイプの画像形成層は、好ましくは、赤外線レーザー照射部が硬化して画像部を形成するネガ型の感光層である。このようなサーマルネガタイプの感光層の一つとして、重合型の層(以下、「重合層」という)が好適に挙げられる。重合層は、好ましくは、(A)赤外線吸収剤と、(B)ラジカル発生剤(ラジカル重合開始剤)と、発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する(C)ラジカル重合性化合物と、(D)バインダーポリマーとを含有する。
重合層においては、赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジカルが発生する。ラジカル重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を有する化合物から選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が生起し、硬化する。
(A)赤外線吸収剤としては、例えば、前述したサーマルポジタイプの感光層に含有される前記光熱変換物質が挙げられるが、特にシアニン色素の具体例としては特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]に記載されたものを挙げることができる。
(B)ラジカル発生剤としては、オニウム塩が挙げられ、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0030]〜[0033]に記載されたものを挙げることができる。
(C)ラジカル重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。
(D)バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーを用いることが好ましく、水又は弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。特にこれらの中で、ベンジル基又はアリル基と、カルボキシ基とを側鎖に有する(メタ)アクリル樹脂が、膜強度、感度及び現像性のバランスに優れており、好適である。
(C)ラジカル重合性化合物及び(D)バインダーポリマーに関しては同公報[0036]〜[0060]に詳しく記載された物が使用できる。その他の添加物としては、同公報[0061]〜[0068]で示されている添加剤(例えば塗布性を良化するための界面活性剤)を加えることも好ましい。
また、重合型のほかに、サーマルネガタイプの感光層の一つとして、酸架橋型の層(以下、「酸架橋層」という)が好適に挙げられる。酸架橋層は、好ましくは、(E)光又は熱により酸を発生する化合物(以下「酸発生剤」という。)と、(F)発生した酸により架橋する化合物(以下「架橋剤」という。)とを含有し、更に、酸の存在下で架橋剤と反応しうる(G)アルカリ可溶性高分子化合物を含有する。また、赤外線レーザーのエネルギーを効率よく使用するため、酸架橋層には(A)赤外線吸収剤が配合される。
(E)酸発生剤としては、光重合の光開始剤、色素類の光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている酸発生剤等の、熱分解して酸を発生しうる任意の化合物(例えば、3−ジアゾ−4−メトキシジフェニルアミントリフルオロメタンスルホネート)が挙げられる。
(F)架橋剤としては、(i)ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物、(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基又はN−アシルオキシメチル基を有する化合物、又は(iii)エポキシ化合物が挙げられる。
(G)アルカリ可溶性高分子化合物としては、ノボラック樹脂、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー等が挙げられる。
画像形成層は単層でもよいし、複数の層から構成されていてもよい。画像形成層が複数の層から構成される場合は、本発明の組成物は当該複数の層のいずれか1つ以上に含まれることができる。
(フォトポリマータイプ)
フォトポリマータイプの画像形成層は光重合型感光性組成物(以下「光重合性組成物」という)から形成され、当該光重合性組成物は付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物(以下、単に「エチレン性不飽和結合含有化合物」という)と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを必須成分として含有し、必要に応じて、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物を含有する。
フォトポリマータイプの画像形成層は光重合型感光性組成物(以下「光重合性組成物」という)から形成され、当該光重合性組成物は付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物(以下、単に「エチレン性不飽和結合含有化合物」という)と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを必須成分として含有し、必要に応じて、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物を含有する。
前記エチレン性不飽和結合含有化合物は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた場合に、光重合開始剤の作用により付加重合し、架橋し硬化するようなエチレン性不飽和結合を有する化合物である。エチレン性不飽和結合含有化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物の中から任意に選択することができ、例えば、モノマー、プレポリマー(即ち、2量体、3量体及びオリゴマー)、これらの混合物、これらの共重合体等の化学的形態を有する。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドが挙げられる。またウレタン系付加重合性化合物も好適である。
前記光重合開始剤としては、使用する赤外光源の波長により、種々の光重合開始剤又は2種以上の光重合開始剤の併用系(光開始系)を適宜選択して用いることができ、例えば、特開2001−22079号公報[0021]〜[0023]で示されている開始系が好ましい。
前記高分子結合剤としては、光重合性組成物の皮膜形成剤として機能するだけでなく、感光層をアルカリ現像液に溶解させる必要があるため、アルカリ水に可溶性又は膨潤性である有機高分子重合体が使用される。上記高分子としては特開2001−22079号公報で示されている物が有用である。その他光重合性組成物には、同公報[0079]〜[0088]で示されている添加剤(例えば塗布性を良化するための界面活性剤)を加えることも好ましい。
また、上記感光層の上に、酸素の重合禁止作用を防止するために酸素遮断性保護層を設けることが好ましい。酸素遮断性保護層に含有される重合体としては、ポリビニルアルコール又はその共重合体が挙げられる。
(無処理タイプ)
無処理タイプの画像形成層は、上記のフォトポリマー型の他に、熱可塑性微粒子ポリマー型、マイクロカプセル型、及び、スルホン酸発生ポリマー含有型等のタイプがあり、本発明は特に印刷機上で現像する無処理タイプのものに適している。
無処理タイプの画像形成層は、上記のフォトポリマー型の他に、熱可塑性微粒子ポリマー型、マイクロカプセル型、及び、スルホン酸発生ポリマー含有型等のタイプがあり、本発明は特に印刷機上で現像する無処理タイプのものに適している。
−熱可塑性微粒子ポリマー型−
熱可塑性微粒子ポリマー型は、(H)疎水性熱溶融性樹脂微粒子が(J)親水性高分子マトリックス中に分散され、赤外線露光部の熱により疎水性のポリマーが溶融し、互いに融着してポリマーによる疎水性領域、即ち、画像部を形成する。(H)疎水性熱溶融性樹脂微粒子(以下「微粒子ポリマー」という)は、微粒子ポリマー同士が熱により溶融合体するものが好ましく、表面が親水性で、湿し水等の親水性成分に分散するものがより好ましい。
熱可塑性微粒子ポリマー型は、(H)疎水性熱溶融性樹脂微粒子が(J)親水性高分子マトリックス中に分散され、赤外線露光部の熱により疎水性のポリマーが溶融し、互いに融着してポリマーによる疎水性領域、即ち、画像部を形成する。(H)疎水性熱溶融性樹脂微粒子(以下「微粒子ポリマー」という)は、微粒子ポリマー同士が熱により溶融合体するものが好ましく、表面が親水性で、湿し水等の親水性成分に分散するものがより好ましい。
微粒子ポリマーとしては、Reseach Disclosure No.33303(1992年1月)、特開平9−123387号、同9−131850号、同9−171249号、同9−171250号の各公報、欧州特許出願公開第931,647号明細書等に記載されている熱可塑性微粒子ポリマーを好適なものとして挙げることができる。具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール等のモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。中でも、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルを用いるのが好ましい。
親水性表面を有する微粒子ポリマーは、微粒子を構成するポリマー自体が親水性であるもの、ポリマーの主鎖又は側鎖に、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、硫酸アニオン、ホスホン酸アニオン、リン酸アニオン等のアニオン性基等の親水性基を導入して親水性を付与したもの等のポリマー自体が親水性であるもの;ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール等の親水性ポリマー、親水性オリゴマー又は親水性低分子化合物を、微粒子ポリマー表面に吸着させて表面を親水性化したものを包含する。さらに微粒子ポリマーとして、反応性官能基を有する微粒子ポリマーがより好ましい。上記したような微粒子ポリマーは、(J)親水性高分子マトリックス中に分散させることで、機上現像する場合には機上現像性が良好となり、更に感光層自体の皮膜強度も向上する。
−マイクロカプセル型−
マイクロカプセル型としては、特開2000−118160号公報に示されたタイプや、特開2001−277740号公報に示されたような熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル型が好ましく挙げられる。
マイクロカプセル型としては、特開2000−118160号公報に示されたタイプや、特開2001−277740号公報に示されたような熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル型が好ましく挙げられる。
−スルホン酸発生ポリマー含有型−
スルホン酸発生ポリマーとしては、例えば、特開平10−282672号公報に記載されているスルホン酸エステル基、ジスルホン基又はsec−若しくはtert−スルホンアミド基を側鎖に有するポリマー等を挙げることができる。
スルホン酸発生ポリマーとしては、例えば、特開平10−282672号公報に記載されているスルホン酸エステル基、ジスルホン基又はsec−若しくはtert−スルホンアミド基を側鎖に有するポリマー等を挙げることができる。
無処理タイプの感光層に親水性樹脂を含有させることにより、機上現像性が良好となるばかりか、感光層自体の皮膜強度も向上する。また、親水性樹脂を架橋硬化させて、現像処理不要の平版印刷版原版を得ることができる。
親水性樹脂としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するものや、親水性のゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。親水性樹脂の具体的としては、フォトポリマータイプの感光層に用いられる(J)親水性高分子マトリックスとして用いられる親水性樹脂として列挙したものが挙げられる。無処理タイプの感光層においては、親水性樹脂の中でも、ゾルゲル変換系結着樹脂を用いるのが好ましい。
無処理タイプの感光層には、光熱変換物質を添加することが必要である。光熱変換物質は、波長700nm以上の光を吸収する物質であればよく、前記したサーマルポジタイプに用いられた赤外線を吸収する染料と同様の染料が特に好ましい。
本発明の平版印刷版原版の画像形成層は、基体又は当該基体上に任意に設けられる下地層上に、本発明の平版印刷版用組成物を塗布することにより形成することができる。
本発明の平版印刷版用組成物は、塗布する際には種々の溶媒に溶解して使用に供される。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を、また、水溶性の感光層を用いる場合には、水、或いはアルコール類等の水性溶媒を挙げることができるがこれに限定されるものではなく、画像形成層の物性にあわせて適宜選択すればよい。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷版原版についていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光層の皮膜特性は低下する。支持体上に塗布された本発明の組成物の乾燥は、通常、加熱により行われる。短時間で乾燥させるために、30〜150℃で10秒〜10分間、温風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥を行ってもよい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、ロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオフセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレーコーティング等の方法が用いられる。
<その他の層>
本発明の平版印刷版原版には、画像形成層の他、目的に応じて、下地層、オーバーコート層、バックコート層等の他の層を適宜設けることもできる。バックコート層としては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等の珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
本発明の平版印刷版原版には、画像形成層の他、目的に応じて、下地層、オーバーコート層、バックコート層等の他の層を適宜設けることもできる。バックコート層としては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等の珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
<支持体>
支持体は、感光性平版印刷版への使用に必要な強度、耐久性、可撓性等の特性を有するものであれば、任意のものを使用することができる。
支持体は、感光性平版印刷版への使用に必要な強度、耐久性、可撓性等の特性を有するものであれば、任意のものを使用することができる。
支持体としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ステンレス、鉄等の金属板;ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエチレン等のプラスチックフィルム;合成樹脂を溶融塗布あるいは合成樹脂溶液を塗布した紙、プラスチックフィルムに金属層を真空蒸着、ラミネート等の技術により設けた複合材料;その他印刷版の支持体として使用されている材料が挙げられる。これらのうち、特にアルミニウム及びアルミニウムが被覆された複合支持体の使用が好ましい。
アルミニウム支持体の表面は、保水性を高め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理されていることが望ましい。そのような表面処理としては、例えば、ブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等の粗面化処理、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの中でも、特に電解エッチングの使用を含む粗面化処理が好ましい。
電解エッチングの際に用いられる電解浴としては、酸、アルカリ又はそれらの塩を含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられる。これらの中でも、特に、塩酸、硝酸、又はそれらの塩を含む電解液が好ましい。
さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム支持体は、必要に応じて酸又はアルカリの水溶液にてデスマット処理される。このようにして得られたアルミニウム支持体は、陽極酸化処理されることが望ましい。特に、硫酸又はリン酸を含む浴で処理する陽極酸化処理が望ましい。
また、粗面化処理(砂目立て処理)及び陽極酸化処理後、親水化処理が施されたアルミニウム支持体も好ましい。親水化処理としては、熱水、及び無機塩又は有機塩を含む熱水溶液へのアルミニウム支持体の浸漬、又は水蒸気浴等による封孔処理、ケイ酸塩処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、フッ化ジルコニウム酸カリウム処理、ホスホモリブデート処理、アルキルチタネート処理、ポリアクリル酸処理、ポリビニルスルホン酸処理、ポリビニルホスホン酸処理、フィチン酸処理、親水性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、スルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗りによる親水化処理、酸性染料による着色処理、シリケート電着等の処理を行うことができる。
以上のようにして、本発明の平版印刷版原版を作製することができる。
<露光・現像>
本発明の平版印刷版原版は、画像形成層の特性に応じて、画像様露光を受ける。具体的な露光手段としては、例えば、赤外線レーザー、紫外線レーザー、紫外線ランプ、可視光線等による光照射、γ 線等の電子線照射、サーマルヘッド、ヒートロール、非接触式ヒータや熱風等を用いた加熱ゾーンの利用等による熱的なエネルギー付与等が適用可能である。特に、本発明が対象とする感光性平版印刷版は、コンピュータ等からのデジタル画像情報を基に、レーザーを使用して直接版上に画像書き込みができる、いわゆるコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)版として使用できる。その他、デジタル画像書き込み手段としてのGLV(Grafting Light Valve)やDMD(Digital Mirror Device)等の技術を用いた方法により、画像書き込みを行うこともできる。
本発明の平版印刷版原版は、画像形成層の特性に応じて、画像様露光を受ける。具体的な露光手段としては、例えば、赤外線レーザー、紫外線レーザー、紫外線ランプ、可視光線等による光照射、γ 線等の電子線照射、サーマルヘッド、ヒートロール、非接触式ヒータや熱風等を用いた加熱ゾーンの利用等による熱的なエネルギー付与等が適用可能である。特に、本発明が対象とする感光性平版印刷版は、コンピュータ等からのデジタル画像情報を基に、レーザーを使用して直接版上に画像書き込みができる、いわゆるコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)版として使用できる。その他、デジタル画像書き込み手段としてのGLV(Grafting Light Valve)やDMD(Digital Mirror Device)等の技術を用いた方法により、画像書き込みを行うこともできる。
感光性平版印刷版の露光用レーザーの光源としては、近赤外から赤外領域に最大強度を有する高出力レーザーが最も好ましく用いられる。このような近赤外から赤外領域に最大強度を有する高出力レーザーとしては、760nm〜3000nm、特に760nm〜11200nmの近赤外から赤外領域に最大強度を有する各種レーザー、例えば、半導体レーザー、YAGレーザー等が挙げられる。また、必要に応じ感光層にレーザーで画像書き込みを行った後、ヒートオーブン等により加熱処理を行ってから現像処理をしてもよい。
感光性平版印刷版は、例えば、感光層にレーザー光を用いて画像を書き込んだ後、これを現像処理して非画像部が湿式法により除去されることによって、画線部が形成された平版印刷版となる。現像処理に使用される現像液としては、水、又は水性アルカリ現像液を使用できる。
ここで、水性アルカリ現像液とは、通常は、pH8以上のアルカリ性水溶液が使用される。
現像液に用いられるアルカリ化剤としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第三リン酸のナトリウム、カリウム又はアンモニウム塩、メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機のアルカリ化合物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン等の有機のアルカリ化合物が挙げられる。
現像液中のアルカリ化剤の含有量は、0.005〜10質量%の範囲が好ましく、0.05〜5質量%の範囲が特に好ましい。現像液中のアルカリ化剤の含有量が0.005質量%より少ない場合、現像が不良となる傾向にあり、また、10質量%より多い場合、現像時に画像部を浸食する等の悪影響を及ぼす傾向にあるので好ましくない。
現像液には有機溶剤を添加することもできる。現像液に添加することができる有機溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチル、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビトール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール、キシレン、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロロベンゼン、等が挙げられる。現像液に有機溶媒を添加する場合の有機溶媒の添加量は、20質量%以下が好ましく、10質量%以下が特に好ましい。
さらにまた、上記現像液中には必要に応じて、亜硫酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸マグネシウム等の水溶性亜硫酸塩;アルカリ可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール化合物、メチルレゾルシン等のヒドロキシ芳香族化合物;ポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類等の硬水軟化剤;イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等のアニオン性界面活性剤やノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等の各種界面活性剤や各種消泡剤を添加することができる。更に、着色剤、可塑剤、キレート剤、安定向上剤等を含有していてもよい。
現像液としては、実用上は、市販されているネガ型PS版用又はポジ型PS版用の現像液を用いることができる。具体的には、市販されている濃縮型のネガ型PS版用、あるいはポジ型PS版用の現像液を1〜1000倍に希釈したものを、本発明における現像液として使用することができる。
また、無処理タイプの感光性平版印刷版の場合には、感光層の特性に応じて水で現像可能なことから、感光層にレーザー光を用いて画像を書き込んだ後、通常の強アルカリ性現像液による現像処理をすることなくそのまま印刷機に装着し、印刷機上で平版印刷版に湿し水を供給して、この湿し水で現像処理することも可能である。
現像液の温度は、5〜90℃の範囲が好ましく、10〜50℃の範囲が特に好ましい。浸漬時間は1秒〜5分の範囲が好ましい。必要に応じて、現像中に軽く表面を擦ることもできる。
現像を終えた平版印刷版は、水洗及び/又は水系の不感脂化剤による処理が施される。水系の不感脂化剤としては、例えば、アラビアゴム、デキストリン、カルボキシメチルセルロースの如き水溶性天然高分子;ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸の如き水溶性合成高分子、等の水溶液が挙げられる。必要に応じて、これらの水系の不感脂化剤に、酸や界面活性剤等が加えられる。不感脂化剤による処理が施された後、平版印刷版は乾燥され、印刷刷版として印刷に使用される。
また、現像後、加熱処理を行うことで、強固な画像を得ることができる。加熱処理は、通常70℃〜300℃の範囲が好ましく、好適な加熱時間は、加熱温度との兼ね合いで決まるが、10秒〜30分程度である。
このように、本発明の平版印刷版原版は、デジタル信号に基づいた走査露光による画像記録が可能であり、画像記録したものは水又は水性現像液で現像でき、あるいは現像処理することなくそのまま印刷機に装着して印刷が可能である。
ところで、本発明の組成物が非感光性の場合は、本発明の組成物は、フォトポリマータイプの画像形成層を備える平版印刷版原版において、画像形成層上に設けうる保護層に配合されてもよい。したがって、本発明の平版印刷版原版の一態様は、画像形成層上に当該非感光性組成物を含む保護層を備えていてもよい。
また、本発明の組成物が非感光性の場合は、本発明の組成物は、印刷装置の版胴の印刷を必要としない部分に取り付けられるダミー版の非画像形成層に配合されてもよい。したがって、本発明のダミー版は、基体上に、本発明の平版印刷版用非感光性組成物を含む非画像形成層を備えることができる。
本発明のダミー版は、平版印刷版原版と同様の工程を経て製造することができる。そして、ダミー版は、例えば、オフセット印刷機において、印刷を必要としない部分に取り付けられて、印刷を必要とする部分に取り付けられる平版印刷版と共に使用される。
以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるものではない。なお、実施例中の「%」は、重量%を示す。
[ポジ型CTP版]
<フッ素基含有共重合体の合成>
表1及び表2に示したモノマーを表3及び表4に示した組成比にてそれぞれ用い、以下の各合成例に示した方法によってフッ素基含有共重合体を合成した。
<フッ素基含有共重合体の合成>
表1及び表2に示したモノマーを表3及び表4に示した組成比にてそれぞれ用い、以下の各合成例に示した方法によってフッ素基含有共重合体を合成した。
(合成例1〜4、比較合成例1)
冷却管、温度計、窒素導入管及び攪拌機を備えた容量300mlの丸底4つ口フラスコ内に、窒素気流下、メチルイソブチルケトン93.33gを仕込んだ。そこに、各モノマー(総量40.0g)及びアゾビスイソブチロニトリル0.4gを入れ、撹拌しながら90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、更に90℃で3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、メチルイソブチルケトン 26.67gを加えた後、反応物を取り出してフッ素基含有共重合体の25%溶液を得た。
冷却管、温度計、窒素導入管及び攪拌機を備えた容量300mlの丸底4つ口フラスコ内に、窒素気流下、メチルイソブチルケトン93.33gを仕込んだ。そこに、各モノマー(総量40.0g)及びアゾビスイソブチロニトリル0.4gを入れ、撹拌しながら90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、更に90℃で3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、メチルイソブチルケトン 26.67gを加えた後、反応物を取り出してフッ素基含有共重合体の25%溶液を得た。
(合成例5〜10)
冷却管、温度計、窒素導入管及び攪拌機を備えた容量300mlの丸底4つ口フラスコ内に、窒素気流下、メチルイソブチルケトン110.8gを仕込んだ。そこに、各モノマー(総量35.0g)を入れ、撹拌しながら50℃まで昇温した。モノマー溶解後、アゾビスイソブチロニトリル0.32gを入れ更に90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、アゾビスイソブチロニトリル0.32gを添加し、更に90℃で3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、メチルエチルケトン29.2gを加えた後、反応物を取り出してフッ素基含有共重合体の20%溶液を得た。
冷却管、温度計、窒素導入管及び攪拌機を備えた容量300mlの丸底4つ口フラスコ内に、窒素気流下、メチルイソブチルケトン110.8gを仕込んだ。そこに、各モノマー(総量35.0g)を入れ、撹拌しながら50℃まで昇温した。モノマー溶解後、アゾビスイソブチロニトリル0.32gを入れ更に90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、アゾビスイソブチロニトリル0.32gを添加し、更に90℃で3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、メチルエチルケトン29.2gを加えた後、反応物を取り出してフッ素基含有共重合体の20%溶液を得た。
[ポジ型CTP版]
{画像形成層が単層の例}
<アルミニウム支持体1の作製>
厚さ0.24mmのアルミニウム板を水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂し、これを2%塩酸浴中で、電解研磨処理して中心線平均粗さ(Ra)0.5μmの砂目板を得た。ついで、この砂目板を、20%硫酸浴中、電流密度2A/dm2 で陽極酸化処理して、 2.7g/m2 の酸化皮膜を形成した。陽極酸化された板を、70℃のケイ酸ナトリウム2.5重量%水溶液中に30秒間浸漬した後、水洗後乾燥し、アルミニウム支持体1を得た。
{画像形成層が単層の例}
<アルミニウム支持体1の作製>
厚さ0.24mmのアルミニウム板を水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂し、これを2%塩酸浴中で、電解研磨処理して中心線平均粗さ(Ra)0.5μmの砂目板を得た。ついで、この砂目板を、20%硫酸浴中、電流密度2A/dm2 で陽極酸化処理して、 2.7g/m2 の酸化皮膜を形成した。陽極酸化された板を、70℃のケイ酸ナトリウム2.5重量%水溶液中に30秒間浸漬した後、水洗後乾燥し、アルミニウム支持体1を得た。
<画像形成層>
上記のようにして得られたアルミニウム支持体1上に表5に示す塗布液1をバーコーターにて低速塗布し、135℃で40秒間乾燥した後、ゆっくりと20から26℃まで冷却して、感光性平版印刷版を得た。この時の、乾燥塗膜量は1.2g/m2であった。
上記のようにして得られたアルミニウム支持体1上に表5に示す塗布液1をバーコーターにて低速塗布し、135℃で40秒間乾燥した後、ゆっくりと20から26℃まで冷却して、感光性平版印刷版を得た。この時の、乾燥塗膜量は1.2g/m2であった。
(実施例1〜10)
実施例1〜10では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」として、それぞれ合成例1〜10のフッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
実施例1〜10では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」として、それぞれ合成例1〜10のフッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
(実施例11)
実施例11では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」として、合成例1と合成例6のフッ素基含有共重合体を1:1に混ぜて用いた感光液組成物を使用した。
実施例11では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」として、合成例1と合成例6のフッ素基含有共重合体を1:1に混ぜて用いた感光液組成物を使用した。
(比較例1及び2)
比較例1では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」を用いない感光液組成物を使用した。また、比較例2では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」として、比較合成例1で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
比較例1では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」を用いない感光液組成物を使用した。また、比較例2では、表5の塗布液1中の「フッ素基含有共重合体」として、比較合成例1で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
{画像形成層が2層の例}
<アルミニウム支持体2の作製>
厚さ0.24mmのアルミニウム板を水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂し、これを2%塩酸浴中で、電解研磨処理して中心線平均粗さ(Ra)0.5μmの砂目板を得た。ついで、この砂目板を、20%硫酸浴中、電流密度2A/dm2 で陽極酸化処理して、 2.7g/m2 の酸化皮膜を形成した。陽極酸化された板を、60℃の0.55g/LのPVPA水溶液に10秒間浸漬した後、水洗後乾燥し、アルミニウム支持体2を得た。
<アルミニウム支持体2の作製>
厚さ0.24mmのアルミニウム板を水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂し、これを2%塩酸浴中で、電解研磨処理して中心線平均粗さ(Ra)0.5μmの砂目板を得た。ついで、この砂目板を、20%硫酸浴中、電流密度2A/dm2 で陽極酸化処理して、 2.7g/m2 の酸化皮膜を形成した。陽極酸化された板を、60℃の0.55g/LのPVPA水溶液に10秒間浸漬した後、水洗後乾燥し、アルミニウム支持体2を得た。
<画像形成層>
上記のようにして得られたアルミニウム支持体2に表6に示す下層塗布液2をバーコーターにて低速塗布し、130℃で40秒間乾燥した後、35℃まで冷却した。この時の、乾燥塗膜量は1.3g/m2であった。その後、表7に示す上層塗布液3をバーコーターにて低速塗布し、130℃で40秒間乾燥後、ゆっくりと20から26℃まで冷却して、感光性平版印刷版を得た。この時の、乾燥塗膜量は0.6g/m2であった。
上記のようにして得られたアルミニウム支持体2に表6に示す下層塗布液2をバーコーターにて低速塗布し、130℃で40秒間乾燥した後、35℃まで冷却した。この時の、乾燥塗膜量は1.3g/m2であった。その後、表7に示す上層塗布液3をバーコーターにて低速塗布し、130℃で40秒間乾燥後、ゆっくりと20から26℃まで冷却して、感光性平版印刷版を得た。この時の、乾燥塗膜量は0.6g/m2であった。
(実施例12〜21)
実施例12〜21では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」として、それぞれ合成例1〜10のフッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
実施例12〜21では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」として、それぞれ合成例1〜10のフッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
(実施例22)
実施例22では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」として、合成例1と合成例6のフッ素基含有共重合体を1:1に混ぜて用いた感光液組成物を使用した。
実施例22では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」として、合成例1と合成例6のフッ素基含有共重合体を1:1に混ぜて用いた感光液組成物を使用した。
(比較例3、4)
比較例3では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」を用いない感光液組成物を使用した。比較例4では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」として、比較合成例1で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
比較例3では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」を用いない感光液組成物を使用した。比較例4では、表7の上層塗布液3中の「フッ素基含有共重合体」として、比較合成例1で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物を使用した。
<画像形成層が単層の場合>
得られた感光性平版印刷版を大日本スクリーン製造(株)製プレートセッター(PT−R4300)に取り付け120mJ/cm2のエネルギーで露光した。その後、コダック(株)製プロセッサーPK−910II、コダック(株)製現像液PD1(1+8)を用い、露光された感光性平版印刷版を30℃で15秒現像処理し、コダック(株)製ガムPF2(1+1.5)を塗布した。得られた平版印刷版をローランドR−201印刷機に搭載し、インキ着肉性を評価した。その結果を表8に示す。
得られた感光性平版印刷版を大日本スクリーン製造(株)製プレートセッター(PT−R4300)に取り付け120mJ/cm2のエネルギーで露光した。その後、コダック(株)製プロセッサーPK−910II、コダック(株)製現像液PD1(1+8)を用い、露光された感光性平版印刷版を30℃で15秒現像処理し、コダック(株)製ガムPF2(1+1.5)を塗布した。得られた平版印刷版をローランドR−201印刷機に搭載し、インキ着肉性を評価した。その結果を表8に示す。
<画像形成層が2層の場合>
得られた感光性平版印刷版を大日本スクリーン製造(株)製プレートセッター(PT−R4300)に取り付け120mJ/cm2のエネルギーで露光した。その後、コダック(株)製プロセッサーP−940X、コダック(株)製現像液SW−D1(1+4)を用い、露光された感光性平版印刷版を30℃で15秒現像処理し、コダック(株)製ガムPF2(1+1.5)を塗布した。得られた平版印刷版をローランドR−201印刷機に搭載し、インキ着肉性を評価した。その結果を表9に示す。
得られた感光性平版印刷版を大日本スクリーン製造(株)製プレートセッター(PT−R4300)に取り付け120mJ/cm2のエネルギーで露光した。その後、コダック(株)製プロセッサーP−940X、コダック(株)製現像液SW−D1(1+4)を用い、露光された感光性平版印刷版を30℃で15秒現像処理し、コダック(株)製ガムPF2(1+1.5)を塗布した。得られた平版印刷版をローランドR−201印刷機に搭載し、インキ着肉性を評価した。その結果を表9に示す。
<評価方法>
(インキ着肉性)
ガム引き後、平版印刷版を1週間ほど放置した後に、実際の印刷を行い、印刷の刷り出し時に、インキが完全に印刷用紙に転写するまでの印刷枚数を調べ、この印刷枚数によって評価した。
(塗膜の均一性)
乾燥風等による濃淡ムラや、塗布時及び乾燥時に発生する筋ムラ等について目視判定を行い、○(塗布ムラなし)、△(部分的に塗布ムラあり)、×(全面塗布ムラあり)の3段階で評価した。
(高速塗布性)
70m/分相当の高速速度でバーコーター塗布した時に、フッ素基共重合体によって発生する泡起因の筋ムラやハジキ等について目視判定を行い、○(欠陥なし)、△(部分的に欠陥あり)、×(全面に欠陥あり)の3段階で評価した。
(消泡性)
各フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物25mlを、50mlの密栓付きサンプル瓶に入れ、3往復激しく振り混ぜた。その後、静置させ、発生した泡が完全に消えるまでの時間を計測した。
(インキ着肉性)
ガム引き後、平版印刷版を1週間ほど放置した後に、実際の印刷を行い、印刷の刷り出し時に、インキが完全に印刷用紙に転写するまでの印刷枚数を調べ、この印刷枚数によって評価した。
(塗膜の均一性)
乾燥風等による濃淡ムラや、塗布時及び乾燥時に発生する筋ムラ等について目視判定を行い、○(塗布ムラなし)、△(部分的に塗布ムラあり)、×(全面塗布ムラあり)の3段階で評価した。
(高速塗布性)
70m/分相当の高速速度でバーコーター塗布した時に、フッ素基共重合体によって発生する泡起因の筋ムラやハジキ等について目視判定を行い、○(欠陥なし)、△(部分的に欠陥あり)、×(全面に欠陥あり)の3段階で評価した。
(消泡性)
各フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物25mlを、50mlの密栓付きサンプル瓶に入れ、3往復激しく振り混ぜた。その後、静置させ、発生した泡が完全に消えるまでの時間を計測した。
これらの実施例及び比較例から明らかなように、特定のフッ素基含有共重合体を用いた本発明の感光性平版印刷版の高速塗布性は、フッ素基含有共重合体を用いなかった感光性平版印刷版(比較例1、3)と同等レベルで、比較合成例1からなる従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光性平版印刷版(比較例2、4)と比べるとはるかに良好な結果を示した。また、比較例1、3では、フッ素基共重合体を用いていないため、塗膜の均一性に問題がある一方、本発明の感光性平版印刷版は、比較合成例1からなる従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光性平版印刷版(比較例2、4)と同等の塗膜の均一性を示し、更に、インキ着肉性おいては向上が見られた。特に、合成例1と合成例6のフッ素基含有共重合体を混合して用いた実施例11、22の平版印刷版は、塗膜の均一性・高速塗布性において両立して優れ、インキ着肉性も良好な結果を示した。
また、実施例1〜22のように、特定の位置に水素原子を有するフルオロアルキル基含有共重合体を用いた感光液組成物は、泡が消滅しやすく、高速塗布時に泡起因による筋ムラやハジキが発生しにくいのに対し、比較例2のように、比較合成例1で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物は、泡が消滅しにくく、高速塗布時に泡起因による筋ムラやハジキが多発することが確認された。
[ネガ型CTP版]
<フッ素基含有共重合体の合成>
表1及び表2に示したモノマーを表10に示した組成比にてそれぞれ用い、以下の合成例に示した方法によってフッ素基含有共重合体を合成した。
<フッ素基含有共重合体の合成>
表1及び表2に示したモノマーを表10に示した組成比にてそれぞれ用い、以下の合成例に示した方法によってフッ素基含有共重合体を合成した。
(合成例 11〜19及び比較合成例2)
冷却管、温度計、窒素導入管及び撹拌機を備えた容量300mlの丸底4つ口フラスコ内に、窒素気流下、メチルイソブチルケトン128.8gを仕込んだ。そこに、モノマーA15.05 g、モノマーG17.90 g及びモノマーM7.73 gを加え、50℃に加熱した。モノマー溶解後、アゾビスイソブチロニトリル0.37 g を加え、撹拌しながら90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、アゾビスイソブチロニトリル0.37 gを添加し、更に90℃で3時間撹拌した。室温まで冷却し窒素の供給を停止した後、系中に空気を吹き込んだ。反応溶液にヒドロキノンモノメチルエーテルを加えて70℃まで昇温し、2−イソシアナトエチルメタクリレート(「MOI」昭和電工(株)製) 9.01 g, ジブチルチンジラウレート0.150 g及びメチルイソブチルケトン20.26 gを添加し、更に90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、室温まで冷却しフッ素基含有共重合体の25%溶液を得た。
冷却管、温度計、窒素導入管及び撹拌機を備えた容量300mlの丸底4つ口フラスコ内に、窒素気流下、メチルイソブチルケトン128.8gを仕込んだ。そこに、モノマーA15.05 g、モノマーG17.90 g及びモノマーM7.73 gを加え、50℃に加熱した。モノマー溶解後、アゾビスイソブチロニトリル0.37 g を加え、撹拌しながら90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、アゾビスイソブチロニトリル0.37 gを添加し、更に90℃で3時間撹拌した。室温まで冷却し窒素の供給を停止した後、系中に空気を吹き込んだ。反応溶液にヒドロキノンモノメチルエーテルを加えて70℃まで昇温し、2−イソシアナトエチルメタクリレート(「MOI」昭和電工(株)製) 9.01 g, ジブチルチンジラウレート0.150 g及びメチルイソブチルケトン20.26 gを添加し、更に90℃まで昇温した。温度を90℃に保ち3時間撹拌後、室温まで冷却しフッ素基含有共重合体の25%溶液を得た。
<画像形成層>
アルミニウム支持体2に表11に示す下層塗布液4をバーコーターにて低速塗布し、110℃で40秒間乾燥した後、35℃まで冷却した。この時の、乾燥塗膜量は1.4g/m2であった。その後、表12に示す上層塗布液5をバーコーターにて低速塗布し、110℃で40秒間乾燥後、ゆっくりと20から26℃まで冷却して、感光性平版印刷版を得た。この時の、乾燥塗膜量は0.6g/m2であった。
表11中のフッ素基含有共重合体は、それらの特性を比較するために、表3、4及び10に示した様々な共重合体と置き換え評価した。
アルミニウム支持体2に表11に示す下層塗布液4をバーコーターにて低速塗布し、110℃で40秒間乾燥した後、35℃まで冷却した。この時の、乾燥塗膜量は1.4g/m2であった。その後、表12に示す上層塗布液5をバーコーターにて低速塗布し、110℃で40秒間乾燥後、ゆっくりと20から26℃まで冷却して、感光性平版印刷版を得た。この時の、乾燥塗膜量は0.6g/m2であった。
表11中のフッ素基含有共重合体は、それらの特性を比較するために、表3、4及び10に示した様々な共重合体と置き換え評価した。
NPP−33: アリルメタクリレート(40重量%)、アクリロニトリル(30重量%)及びp-(N-メタクリロイルアミノ)安息香酸(30重量%) からなる高分子
ACA 230AA: 一部3,4−エポキシ-シクロヘキシルメタクリレートで修飾されたカルボキシル基を持つ高分子(下記化学式参照)
DPHA: ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(下記化学式参照)
Dye B: 下記化学式で表される青色染料
MDP: 下記化学式で表されるヒンダードフェノールタイプ重合禁止剤
TAZ−104:下記化学式で表される2-(メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン
P3B: テトラブチルアンモニウムトリフェニルブチルボレート
ACA 230AA: 一部3,4−エポキシ-シクロヘキシルメタクリレートで修飾されたカルボキシル基を持つ高分子(下記化学式参照)
PVA−203: ポリビニルアルコール (ケン化度 88%、重合度 300)
LUVITEC VPC55K65W: N-ビニルピロリドンとビニルカプロラクタムの共重合体 (BASF社製)
ニューコール 2305/2320: ノニオン界面活性剤(C=12及びC=13の混合物)(下記化学式参照).
ニューコール2305: n=5、ニューコール2320: n=20
TECHPOLYMER SSX−105: 単分散高架橋ポリメチルメタクリレート粒子 (粒径 5μm)
LUVITEC VPC55K65W: N-ビニルピロリドンとビニルカプロラクタムの共重合体 (BASF社製)
ニューコール 2305/2320: ノニオン界面活性剤(C=12及びC=13の混合物)(下記化学式参照).
TECHPOLYMER SSX−105: 単分散高架橋ポリメチルメタクリレート粒子 (粒径 5μm)
得られた感光性平版印刷版をコダック(株)製プレートセッター(Magnus800)に取り付け90mJ/cm2のエネルギーで露光した。その後、コダック(株)製プロセッサーPK−1310NEWS、コダック(株)製現像液TN−D1(1+3.5)を用い、露光された感光性平版印刷版を30℃で13秒現像処理し、コダック(株)製ガムLNF−11(1+1)を塗布した。得られた平版印刷版をローランドR−201印刷機に搭載し、インキ着肉性を評価した。その結果を表13に示す。
これらの実施例及び比較例から明らかなように、特定のフッ素基含有共重合体を用いた本発明の感光性平版印刷版の高速塗布性は、フッ素基含有共重合体を用いなかった感光性平版印刷版(比較例5)と同等レベルであり、比較合成例1及び2で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光性平版印刷版(比較例6、7)と比べるとはるかに良好な結果を示した。また、比較例5では、フッ素基共重合体を用いていないため、塗膜の均一性に問題がある一方、本発明の感光性平版印刷版は、比較合成例1及び2で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光性平版印刷版(比較例6、7)と同等の塗膜の均一性を示し、更に、インキ着肉性おいては向上が見られた。
また、実施例23〜41のように、特定の位置に水素原子を有するフルオロアルキル基含有共重合体を用いた感光液組成物は、泡が消滅しやすく、高速塗布時に泡起因による筋ムラやハジキが発生しにくいのに対し、比較例6〜7のように、比較合成例1又は2で得られた従来型フッ素基含有共重合体を用いた感光液組成物は、泡が消滅しにくく、高速塗布時に泡起因による筋ムラやハジキが多発することが確認された。
なお、ネガ型CTP版では、フタージェントシリーズ(ネオス社製)、Zonyl Capstone シリーズ(Du Pont社製)、メガファックシリーズ(DIC社製)等のフッ素基含有高分子及びフッ素系界面活性剤が汎用されている。しかしながら、これらのフッ素基含有高分子及びフッ素系界面活性剤は、合成例1〜19に示した共重合体と比較して、十分な高速塗布性、消泡性及び塗膜均一性を示さない。
例えば、合成例1〜19のフッ素基含有共重合体を使用する本発明の感光性平版印刷版は新聞用ダミー版として用いることもでき、良好な高速塗布性、消泡性及び塗膜均一性を示す。一方、比較合成例1及び比較合成例2で得られたフッ素基含有共重合体、並びに、上記の従来汎用されるフッ素基含有高分子及び界面活性剤も新聞用ダミー版に用いることができるものの、これらを使用する感光性平版印刷版は合成例1〜19で示したフッ素基含有共重合体を使用する本発明の感光性平版印刷版よりも高速塗布性、消泡性及び塗膜均一性等の特性が劣る。
Claims (15)
- 一般式:
(式中、
Rは水素原子又はメチル基であり、
nは1〜6の整数であり、
aは1〜4の整数であり、
bは1〜3の整数であり、
cは1〜3の整数である)で表される単位を少なくとも有するフルオロ脂肪族基含有共重合体を含む平版印刷版用組成物。 - 前記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び/又はポリ(オキシアルキレン)メタクリレートに相当する単位を更に有する、請求項1記載の平版印刷版用組成物。
- 前記フルオロ脂肪族基含有共重合体が酸性水素原子を有する単位を更に有する、請求項1又は2記載の平版印刷版用組成物。
- 前記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、側鎖にエチレン性不飽和基を有する単位を更に有する、請求項1又は2記載の平版印刷版用組成物。
- 感光性である、請求項1乃至4のいずれかに記載の平版印刷版用組成物。
- 基体上に
請求項1乃至5のいずれかに記載の平版印刷版用組成物を含む画像形成層
を備える、平版印刷版原版。 - 前記画像形成層が、光熱変換物質を含む、請求項6記載の平版印刷版原版。
- 前記画像形成層が、水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂を更に含む、請求項7記載の平版印刷版原版。
- 前記画像形成層が、酸発生剤を更に含む請求項8記載の平版印刷版原版。
- 前記画像形成層が、重合開始剤及びラジカル重合性化合物を更に含む請求項7記載の平版印刷版原版。
- 前記画像形成層が、光重合開始剤及びエチレン性不飽和結合含有化合物を含む、請求項6記載の平版印刷版原版。
- 前記画像形成層が複数の層からなり、1層又は複数層が光熱変換物質を含む、請求項6乃至11のいずれかに記載の平版印刷版原版。
- 非感光性である、請求項1乃至4のいずれかに記載の平版印刷版用組成物。
- 前記画像形成層上に請求項13記載の平版印刷版用組成物を含む保護層を備える請求項11又は12記載の平版印刷版原版。
- 基体上に
請求項13記載の平版印刷版用組成物を含む保護層を備える、ダミー版。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012229633A JP2014079960A (ja) | 2012-10-17 | 2012-10-17 | 平版印刷版用組成物及び平版印刷版原版 |
| CN201380066055.6A CN105051606B (zh) | 2012-10-17 | 2013-09-27 | 用于平版印版和平版印版前体的组合物 |
| PCT/JP2013/077019 WO2014061463A1 (en) | 2012-10-17 | 2013-09-27 | Composition for lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| EP13780224.5A EP2909676B1 (en) | 2012-10-17 | 2013-09-27 | Composition for lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| US14/422,221 US9470977B2 (en) | 2012-10-17 | 2013-09-27 | Composition for lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012229633A JP2014079960A (ja) | 2012-10-17 | 2012-10-17 | 平版印刷版用組成物及び平版印刷版原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014079960A true JP2014079960A (ja) | 2014-05-08 |
Family
ID=49474663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012229633A Pending JP2014079960A (ja) | 2012-10-17 | 2012-10-17 | 平版印刷版用組成物及び平版印刷版原版 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9470977B2 (ja) |
| EP (1) | EP2909676B1 (ja) |
| JP (1) | JP2014079960A (ja) |
| CN (1) | CN105051606B (ja) |
| WO (1) | WO2014061463A1 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015122296A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 日産化学工業株式会社 | フッ素含有界面活性剤を含む膜形成組成物 |
| WO2018084086A1 (ja) * | 2016-11-01 | 2018-05-11 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素重合体およびこれを有効成分とする防錆剤 |
| JP2020059800A (ja) * | 2018-10-10 | 2020-04-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素重合体および表面処理剤 |
| WO2020262696A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020262695A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020262686A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020262685A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020262693A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| KR20230131105A (ko) * | 2022-03-04 | 2023-09-12 | 창원대학교 산학협력단 | 디지털 프린팅장치를 이용한 고종횡비의 나노패턴 제조장치 및 그 제조방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5541272B2 (ja) * | 2011-12-12 | 2014-07-09 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素共重合体およびそれを有効成分とする撥水撥油剤 |
| CN114683675B (zh) * | 2020-12-28 | 2023-11-14 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种表面自带纹理的平顶网点的柔性树脂版及其制版方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU660882B1 (en) * | 1994-01-25 | 1995-07-06 | Morton International, Inc. | Waterborne photoresists having non-ionic fluorocarbon surfactants |
| JP2002072474A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP3856298B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2006-12-13 | 富士フイルムホールディングス株式会社 | 平版印刷版原版 |
| US6740470B2 (en) * | 2001-02-08 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
| JP2002296774A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
| JP4216494B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2009-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP5111299B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2013-01-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
| JP2012068357A (ja) * | 2010-09-22 | 2012-04-05 | Eastman Kodak Co | 平版印刷版原版 |
| JP2012194500A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Eastman Kodak Co | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
-
2012
- 2012-10-17 JP JP2012229633A patent/JP2014079960A/ja active Pending
-
2013
- 2013-09-27 EP EP13780224.5A patent/EP2909676B1/en not_active Not-in-force
- 2013-09-27 CN CN201380066055.6A patent/CN105051606B/zh active Active
- 2013-09-27 US US14/422,221 patent/US9470977B2/en active Active
- 2013-09-27 WO PCT/JP2013/077019 patent/WO2014061463A1/en not_active Ceased
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015122296A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 日産化学工業株式会社 | フッ素含有界面活性剤を含む膜形成組成物 |
| JPWO2015122296A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2017-03-30 | 日産化学工業株式会社 | フッ素含有界面活性剤を含む膜形成組成物 |
| US11479627B2 (en) | 2014-02-12 | 2022-10-25 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Film forming composition containing fluorine-containing surfactant |
| US11459414B2 (en) | 2014-02-12 | 2022-10-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Film forming composition containing fluorine-containing surfactant |
| WO2018084086A1 (ja) * | 2016-11-01 | 2018-05-11 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素重合体およびこれを有効成分とする防錆剤 |
| JPWO2018084086A1 (ja) * | 2016-11-01 | 2019-07-25 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素重合体およびこれを有効成分とする防錆剤 |
| JP2020059800A (ja) * | 2018-10-10 | 2020-04-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素重合体および表面処理剤 |
| WO2020075766A1 (ja) * | 2018-10-10 | 2020-04-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素重合体および表面処理剤 |
| US12195619B2 (en) | 2018-10-10 | 2025-01-14 | Daikin Industries, Ltd. | Fluorine-containing polymer and surface treatment agent |
| KR102650932B1 (ko) * | 2018-10-10 | 2024-03-26 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 불소 함유 중합체 및 표면 처리제 |
| JP7397270B2 (ja) | 2018-10-10 | 2023-12-13 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素重合体および表面処理剤 |
| KR20210055748A (ko) * | 2018-10-10 | 2021-05-17 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 불소 함유 중합체 및 표면 처리제 |
| CN114051459A (zh) * | 2019-06-28 | 2022-02-15 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| CN114051454A (zh) * | 2019-06-28 | 2022-02-15 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| WO2020262693A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020262685A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020262686A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| CN114051454B (zh) * | 2019-06-28 | 2023-12-15 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| WO2020262695A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| CN114051459B (zh) * | 2019-06-28 | 2024-07-23 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| US12117729B2 (en) | 2019-06-28 | 2024-10-15 | Fujifilm Corporation | On-press development type lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method |
| WO2020262696A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| KR20230131105A (ko) * | 2022-03-04 | 2023-09-12 | 창원대학교 산학협력단 | 디지털 프린팅장치를 이용한 고종횡비의 나노패턴 제조장치 및 그 제조방법 |
| KR102850065B1 (ko) | 2022-03-04 | 2025-08-25 | 국립창원대학교 산학협력단 | 디지털 프린팅장치를 이용한 고종횡비의 나노패턴 제조장치 및 그 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2909676A1 (en) | 2015-08-26 |
| CN105051606A (zh) | 2015-11-11 |
| EP2909676B1 (en) | 2016-08-24 |
| WO2014061463A1 (en) | 2014-04-24 |
| CN105051606B (zh) | 2019-09-10 |
| US20150198884A1 (en) | 2015-07-16 |
| US9470977B2 (en) | 2016-10-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2014079960A (ja) | 平版印刷版用組成物及び平版印刷版原版 | |
| CN101925863B (zh) | 制备平版印刷版的方法 | |
| JP5319097B2 (ja) | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| JP2007017913A (ja) | 平版印刷版原版及びそれを用いた画像形成方法 | |
| US8835099B2 (en) | Lithographic printing plate precursor | |
| KR20120064090A (ko) | 평판 인쇄판 코팅 조성물용 갈로탄닉 화합물 | |
| WO2013084882A1 (ja) | 平版印刷版用版面保護液組成物及びそれを用いた平版印刷版の処理方法 | |
| JP5260095B2 (ja) | 平版印刷原版の製版方法 | |
| JP4499507B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| EP2566900B1 (en) | Copolymers for near-infrared radiation-sensitive coating compositions for positive-working thermal lithographic printing plates | |
| WO2005116766A1 (ja) | ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 | |
| CN116655829B (zh) | 一种改性环糊精及包含其的免处理热敏版前体和免处理热敏版及应用 | |
| JP5866179B2 (ja) | 平版印刷版前駆体及び平版印刷版の作製方法 | |
| JP2009265262A (ja) | 平版印刷原版 | |
| JP2001075277A (ja) | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 | |
| JP4895893B2 (ja) | 現像液組成物 | |
| JP2010139551A (ja) | 感光性平版印刷用アルカリ現像液および平版印刷版の製版方法 | |
| JP4567379B2 (ja) | 感光性組成物表面の皮膜形成防止方法 | |
| JP2007168140A (ja) | 平版印刷用原版 | |
| JP2007187982A (ja) | ポジ型平版印刷版原版およびその製造方法 | |
| US20140116277A1 (en) | Positive lithographic printing plate precursor and method for producing the same | |
| HK1176368B (en) | Copolymers for near-infrared radiation-sensitive coating compositions for positive-working thermal lithographic printing plates |