JP2014076935A - 中空シリカナノ粒子の製造方法及び中空シリカナノ粒子 - Google Patents
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【解決手段】 (1)一級アミノ基および/または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖と疎水性有機セグメントとを有する共重合体を水性媒体と混合し、疎水性有機セグメントを主成分とするコア層と脂肪族ポリアミン鎖を主成分とするシェル層とからなる会合体を形成する工程、(2)(1)の工程で得られた会合体を含む水性媒体にシリカソースを加え、ゾルゲル反応を行い、コア−シェル型シリカナノ粒子を得る工程、(3)(2)の工程で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子から、共重合体を除去する工程、を有することを特徴とする中空シリカナノ粒子の製造方法、及び該製法で得られる中空シリカナノ粒子。
【選択図】 図1
Description
(1)一級アミノ基および/または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖(a1)と疎水性有機セグメント(a2)とを有する共重合体(A)を水性媒体と混合し、疎水性有機セグメント(a2)を主成分とするコア層と脂肪族ポリアミン鎖(a1)を主成分とするシェル層とからなる会合体を形成する工程、
(2)(1)の工程で得られた会合体を含む水性媒体にシリカソース(b)を加え、該会合体をテンプレートとして当該シリカソースのゾルゲル反応を行い、シリカ(B)を析出させることでコア−シェル型シリカナノ粒子を得る工程、
(3)(2)の工程で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子から、共重合体(A)を除去する工程、を有することを特徴とする。
焼成は、(株)アサヒ理化製作所製セラミック電気管状炉ARF−100K型にAMF−2P型温度コントローラ付きの焼成炉装置にて行った。
中空シリカナノ粒子粉末を用いて、固体29Si CP/MAS−NMR(日本電子株式会社製、JNM−ECA600、600Hz)測定を行い、シリカの縮合度(Q4,Q3,Q2)を評価した。
合成した中空シリカナノ粒子をエタノール溶液に分散し、それを炭素蒸着された銅グリッドに乗せ、サンプルを日本電子株式会社製、JEM−2200FSにて観察を行った。
比表面積はマイクロメリティクス社製Tris star 3000型装置にて、窒素ガス吸着/脱着法で測定した。また、ポアサイズ分布はポア体積分率対ポアサイズのプロットから見積もった。
分岐状ポリエチレンイミン(SP200、日本触媒社製、平均分子量10,000)の1.5gとグリシジルヘキサデシルエーテル(Aldrich社試薬)の0.5gとをエタノールの40mLに溶解させた。反応を75℃にて24時間行った。エタノールを除去し、60℃で真空乾燥を経て、ポリマー(A−1)を得た。1H−NMR測定によって、エーテル酸素に隣接するプロトン由来のシグナル(3.0−4.0ppm)はブロードになったことから、共重合体(A−1)の形成が確認できた。
上記方法で合成した共重合体(A−1)の0.05gと水の5mLとの混合溶液を80度で一晩攪拌することで、会合体を得た。この会合体の分散溶液にMS51(メトキシシランの4量体)の0.50mLをシリカソースとして加えた。得られた分散溶液を室温にて4時間攪拌した後、エタノールでの洗浄、乾燥を経て、コア−シェル型シリカナノ粒子を得た。収量は0.32gであった。
上記方法で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子の0.1gをアルミナ坩堝に加え、それを電気炉内にて焼成した。炉内温度は、5時間かけて600℃まで上げ、その温度にて3時間保持した。これを自然冷却し、共重合体(A−1)成分を除去した。収量は0.083gであった。TEM観察により、得られたシリカナノ粒子が中空構造を有することが確認出来た(図1)。中心部の空洞は3.5nmであり、シェル層の厚みは4nmであった。また、得られた中空シリカナノ粒子は単分散性に優れた球状であり、平均粒径が〜11nmであった。
実施例1で合成した共重合体(A−1)の0.10gと水の10mLとの混合溶液を80℃で24時間攪拌することで、会合体を得た。この会合体の分散溶液にMS51(メトキシシランの4量体)の0.8mLをシリカソースとして加えた。得られた分散溶液を室温にて4時間攪拌した後、トリメチルメトキシシランの0.2mLを加えた。得られた溶液を室温にて24時間攪拌して、エタノールでの洗浄、乾燥を経て、ポリシルセスキオキサンを有するコア−シェル型シリカナノ粒子を得た。
上記方法で得られたポリシルセスキオキサン含有コア−シェル型シリカナノ粒子をアルミナ坩堝に加え、それを電気炉内にて焼成した。炉内温度は、2時間かけて400℃まで上げ、その温度にて1時間保持した。これを自然冷却し、共重合体(A−1)成分を除去したポリシルセスキオキサン含有の中空シリカナノ粒子を得た。TEM観察により、得られたナノ粒子の粒径が〜11nmであり、3.5nmの中空構造を有することを確認した。
分岐状ポリエチレンイミン(SP006、日本触媒社製、平均分子量600)の1.5gとグリシジルヘキサデシルエーテル(Aldrich社試薬)の0.5gとをエタノールの40mLに溶解させた。反応を75℃にて24時間行った。エタノールを除去し、60℃で真空乾燥を経て、共重合体(A−2)を得た。1H−NMR測定によって、エーテル酸素に隣接するプロトン有来のシグナル(3.0−4.0ppm)はブロードになったことから、共重合体(A−2)の形成が確認できた。
上記方法で合成した共重合体(A−2)の0.05gと水の5mLとの混合溶液を80℃で56時間攪拌することで、会合体を得た。この会合体の分散溶液にMS51(メトキシシランの4量体)の0.50mLをシリカソースとして加えた。得られた分散溶液を室温にて4時間攪拌した後、エタノールでの洗浄、乾燥を経て、コア−シェル型シリカナノ粒子を得た。収量は0.26gであった。
上記方法で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子の0.1gを実施例1に示した方法で焼成した。収量は0.081gであった。TEM観察により、得られたシリカナノ粒子が中空構造を有することが確認出来た(図4)。粒子の外径が〜50nmであり、中心部に複数の3.5nmの空洞が存在することも確認した。
分岐状ポリエチレンイミン(SP200、日本触媒社製、平均分子量10,000)の1.0gとグリシジルヘキサデシルエーテル(Aldrich社試薬)の1.0gとをエタノールの40mLに溶解させた。反応を75℃にて24時間行った。エタノールを除去し、60℃で真空乾燥を経て、共重合体(A−3)を得た。1H−NMR測定によって、エーテル酸素に隣接するプロトン由来のシグナル(3.0−4.0ppm)はブロードになったことから、共重合体(A−3)の形成が確認できた。
上記方法で合成した共重合体(A−3)の0.05gと水の5mLとの混合溶液を80℃で24時間攪拌することで、会合体を得た。この会合体の分散溶液にMS51(メトキシシランの4量体)の0.50mLをシリカソースとして加えた。得られた分散溶液を室温にて4時間攪拌した後、エタノールでの洗浄、乾燥を経て、コア−シェル型シリカナノ粒子を得た。収量は0.18gであった。
上記方法で得られた紐状のコア−シェル型シリカナノ粒子の0.1gを実施例1に示した方法で焼成した。収量は0.07gであった。TEM観察により、得られたシリカナノ粒子の形状が紐状であり、外径が15nmであり、空洞が4.0nmであることが確認出来た(図7)。
Claims (10)
- (1)一級アミノ基および/または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖(a1)と疎水性有機セグメント(a2)とを有する共重合体(A)を水性媒体と混合し、疎水性有機セグメント(a2)を主成分とするコア層と脂肪族ポリアミン鎖(a1)を主成分とするシェル層とからなる会合体を形成する工程、
(2)(1)の工程で得られた会合体を含む水性媒体にシリカソース(b)を加え、該会合体をテンプレートとして当該シリカソースのゾルゲル反応を行い、シリカ(B)を析出させることでコア−シェル型シリカナノ粒子を得る工程、
(3)(2)の工程で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子から、共重合体(A)を除去する工程、
を有することを特徴とする中空シリカナノ粒子の製造方法。 - 前記工程(2)の後に、有機シラン(c)のゾルゲル反応を行い、ポリシルセスキオキサン(C)を更に含有するコア−シェル型シリカナノ粒子とする工程を有する請求項1記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 前記脂肪族ポリアミン鎖(a1)が分岐状ポリエチレンイミン鎖又はポリアリルアミン鎖である請求項1又は2記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 前記疎水性有機セグメント(a2)が、重合度が5以上のポリスチレン、ポリアクリレート、ポリウレタン、および炭素数5以上のアルキレン鎖を有する化合物からなる群から選ばれる1種以上の疎水性有機セグメントである請求項1〜3の何れか1項記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 前記工程(3)における共重合体(A)を除去する工程が、焼成によるものである請求項1〜4の何れか1項記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 焼成温度が300〜1000℃の範囲である請求項5記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 平均の外径が5〜20nmであり、内径が1〜10nmであり、且つ単分散性であることを特徴とする単分散性の中空シリカナノ粒子。
- ポリシルセスキオキサンを含有する請求項7記載の中空シリカナノ粒子。
- 請求項1〜6の何れか1項記載の製造方法で得られたものである請求項7記載の中空シリカナノ粒子。
- 請求項2〜6の何れか1項記載の製造方法で得られたものである請求項8記載の中空シリカナノ粒子。
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