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JP2014071380A - Transfer body for optical film, optical film, image display device, and production method of optical film - Google Patents

Transfer body for optical film, optical film, image display device, and production method of optical film Download PDF

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JP2014071380A
JP2014071380A JP2012218756A JP2012218756A JP2014071380A JP 2014071380 A JP2014071380 A JP 2014071380A JP 2012218756 A JP2012218756 A JP 2012218756A JP 2012218756 A JP2012218756 A JP 2012218756A JP 2014071380 A JP2014071380 A JP 2014071380A
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JP
Japan
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layer
optical film
liquid crystal
polarizing plate
retardation layer
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Application number
JP2012218756A
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Inventor
Kei Kato
圭 加藤
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわない光学フィルムを提供する。
【解決手段】透明フィルム基材132と光学機能層131からなる直線偏光板103と、1/4波長板用位相差層101、粘着層121b、及び1/2波長板用位相差層102からなる円偏光板104とが積層された光学フィルム1であって、1/4波長板用位相差層101あるいは1/2波長板用位相差層102は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層からなる光学フィルムである。
【選択図】図1
An optical film that reduces the reflection of extraneous light by controlling the plane of polarization is provided that does not impair the flexibility of an object to be placed.
A linear polarizing plate 103 comprising a transparent film substrate 132 and an optical functional layer 131, a quarter-wave plate retardation layer 101, an adhesive layer 121b, and a half-wave plate retardation layer 102 are provided. The optical film 1 is formed by laminating a circularly polarizing plate 104, and the quarter-wave plate retardation layer 101 or the half-wave plate retardation layer 102 has a plurality of linear shapes extending in a certain direction. It is an optical film consisting of a liquid crystal layer with irregularities formed on the surface.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、例えば画像表示パネルに配置して、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関するものである。   The present invention relates to an optical film that is disposed on, for example, an image display panel and reduces reflection of extraneous light by controlling a polarization plane.

従来、画像表示パネル等に関して、画像表示パネルの出射面に光学フィルムを配置し、この光学フィルムによる偏光面の制御により外来光の反射を低減する方法が提案されている。この光学フィルムは、直線偏光板、円偏光板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く円偏光板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。   Conventionally, with respect to an image display panel or the like, a method has been proposed in which an optical film is disposed on the exit surface of the image display panel and the reflection of extraneous light is reduced by controlling the polarization plane with the optical film. This optical film is composed of a linearly polarizing plate and a circularly polarizing plate, and converts external light directed to the panel surface of the image display panel into linearly polarized light by the linearly polarizing plate and then converts it to circularly polarized light by the subsequent circularly polarizing plate. Here, the extraneous light by the circularly polarized light is reflected by the surface of the image display panel or the like, but the rotation direction of the polarization plane is reversed during the reflection. As a result, the reflected light is converted from the circularly polarizing plate to linearly polarized light in the direction shielded by the linearly polarizing plate, and then shielded by the subsequent linearly polarizing plate. Is significantly suppressed.

この光学フィルムに関して、特許文献1等には、1/2位相差板、1/4位相差板を組み合わせて円偏光板を構成することにより、この光学フィルムを負の分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、負の分散特性により光学フィルムを構成することができる。   With regard to this optical film, Patent Document 1 and the like describe a method of configuring this optical film with negative dispersion characteristics by configuring a circularly polarizing plate by combining a 1/2 retardation plate and a 1/4 retardation plate. Proposed. In the case of this method, an optical film can be formed with negative dispersion characteristics in a wide wavelength band used for displaying a color image.

ところで有機ELパネルを使用した画像表示装置においては、近年、可撓性を有するシート形状によるものが提供されつつある。このような可撓性を有するシート形状による画像表示装置では、例えば全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で、画像を表示することができ、従来に比して一段と画像表示装置の適用分野を拡大し得ると考えられる。   By the way, in an image display apparatus using an organic EL panel, a flexible sheet shape is being provided in recent years. In such an image display device having a flexible sheet shape, for example, an image can be displayed in a state where the entire image is bent outward or bent in the opposite direction. It is considered that the application field of image display devices can be expanded.

ただし、全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で画像表示する場合には、従来に比して格段的に外来光の反射を低減することが必要になる。これにより、可撓性を有するシート形状による画像表示装置においては、上述の光学フィルムを配置することにより、外来光による影響を有効に回避することが必要であると考えられる。特に有機ELパネルでは、内部電極による外来光の反射が著しいことにより、この種の光学フィルムを適用することが望まれる。   However, when displaying an image in a state where the entire image is bent outward or bent in the opposite direction, it is necessary to significantly reduce the reflection of external light as compared with the conventional case. Thereby, in the image display apparatus by the sheet | seat shape which has flexibility, it is thought that it is necessary to avoid the influence by external light effectively by arrange | positioning the above-mentioned optical film. In particular, in an organic EL panel, the reflection of extraneous light by the internal electrodes is remarkable, so that it is desirable to apply this type of optical film.

しかしながら、従来の光学フィルムを単純に可撓性を有するシート形状の画像表示パネルに適用したのでは、画像表示パネルの可撓性を著しく損なう問題がある。   However, when a conventional optical film is simply applied to a flexible sheet-shaped image display panel, there is a problem that the flexibility of the image display panel is significantly impaired.

特開平10−68816号公報JP-A-10-68816

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすること目的とする。   This invention is made | formed in view of such a condition, It aims at keeping the flexibility of an arrangement | positioning target object with respect to the optical film which reduces reflection of external light by control of a polarization plane.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、転写の手法を適用して光学フィルムを作成することにより、全体の厚みを薄くする、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
(1) 透明フィルムによる基材と、
前記透明フィルムによる基材上に形成され、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成されて透過光に位相差を付与する液晶層と、を含む
位相差を付与する
光学フィルム用転写体である。
(1)によれば、液晶層だけで位相差層を形成することができるので、液晶層と共に配向層を有する公知の光学フィルムよりも薄く、配置対象物の可撓性を損なわないことに有利な光学フィルムの光学フィルム用転写体を提供することができる。
(2) 透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項1から請求項3のいずれかに記載の光学フィルム用転写体の前記液晶層を含む
光学フィルムである。
(2)によれば、光学機能層が液晶層だけで形成された位相差層となるため、液晶層と共に配向層を有する公知の位相差層を光学機能層とする光学フィルムよりも薄く、配置対象物の可撓性を損なわないことに有利な光学フィルムを提供することができる。
(3) 前記液晶層は、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層の
光学フィルムである。
(3)によれば、1/2波長板用位相差層を液晶層だけで形成することができるため、液晶層と共に配向層を有する公知の1/2波長板用位相差層を含む光学フィルムよりも薄く、配置対象物の可撓性を損なわないことに有利な光学フィルムを提供することができる。
(4) 前記液晶層は、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層の
光学フィルムである。
(4)によれば、1/4波長板用位相差層を液晶層だけで形成することができるため、液晶層と共に配向層を有する公知の1/4波長板用位相差層を含む構成よりも薄く、配置対象物の可撓性を損なわないことに有利な光学フィルムを提供することができる。
(5) 複数の光学膜を積層して構成された積層体と、
前記積層体に転写された円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層と、
を備え、
前記円偏光板の光学機能層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成され、透過光に位相差を付与する液晶層の
光学フィルムである。
(5)によれば、積層体に含まれる円偏光板の位相差層を液晶層だけで形成することができるため、液晶層と共に配向層を有する公知の位相差層を含む構成よりも薄く、配置対象物の可撓性を損なわないことに有利な光学フィルムを提供することができる。
(6) 上記(2)から上記(5)のいずれか1つに記載の光学フィルムを配置した
画像表示装置。
(6)によれば、薄膜化された光学フィルムを配置することにより、表示画面の可撓性が損なわれることがない画像表示装置を提供することができる。
(7) 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透明基材に液晶材料を直接塗布する塗布工程と、
前記塗布工程において塗布された前記液晶材料を乾燥させる乾燥工程と、
前記乾燥工程において乾燥された前記液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記結晶材料を配向させた状態で固化して位相差層を形成する位相差層形成工程と、を含む
光学フィルムの製造方法である。
(7)によれば、液晶材料表面を配向させたことによって位相差層が形成できるので、液晶層と共に配向層を形成する公知の光学フィルムの製造方法よりも少ない工程で光学フィルムを製造することができる。このため、公知の光学フィルムよりも薄く、配置対象物の可撓性を損なわないことに有利な光学フィルムの製造工程を簡易化し、製造コストを低減し、生産効率を高めることができる。
(8) 前記位相差層が透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層または透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層の光学フィルムの製造方法である。
(8)によれば、1/4波長板用位相差層、1/2波長板用位相差層を含む光学フィルムの製造工程を簡易化し、製造コストを低減し、生産効率を高めることができる。
The present inventor has intensively studied to solve the above-mentioned problems, and has arrived at the idea of reducing the overall thickness by creating an optical film by applying a transfer technique, thereby completing the present invention. It came to.
(1) a substrate made of a transparent film;
A liquid crystal layer that is formed on a substrate made of the transparent film and that has a plurality of line-shaped irregularities extending in a certain direction on the surface to impart a phase difference to transmitted light. For transfer.
According to (1), since the retardation layer can be formed only by the liquid crystal layer, it is thinner than a known optical film having an alignment layer together with the liquid crystal layer, and is advantageous in not impairing the flexibility of the object to be arranged. An optical film transfer body for an optical film can be provided.
(2) a substrate made of a transparent film;
An optical functional layer of a linearly polarizing plate that functions as a linearly polarizing plate;
The optical functional layer of the circularly polarizing plate that functions as a circularly polarizing plate is laminated,
The optical functional layer of the circularly polarizing plate includes the liquid crystal layer of the optical film transfer body according to any one of claims 1 to 3 on the optical functional layer of the linearly polarizing plate. .
According to (2), since the optical functional layer is a retardation layer formed only of a liquid crystal layer, the optical functional layer is thinner than an optical film having a known retardation layer having an alignment layer together with the liquid crystal layer as an optical functional layer. An optical film advantageous in that the flexibility of the object is not impaired can be provided.
(3) The liquid crystal layer is an optical film of a retardation layer for a half-wave plate that imparts a retardation of a half wavelength to transmitted light.
According to (3), since the retardation layer for a half-wave plate can be formed only by a liquid crystal layer, an optical film including a known retardation layer for a half-wave plate having an alignment layer together with the liquid crystal layer It is possible to provide an optical film that is thinner than that and advantageous in that the flexibility of the object to be placed is not impaired.
(4) The liquid crystal layer is an optical film of a retardation layer for a quarter wavelength plate that imparts a retardation for a quarter wavelength to transmitted light.
According to (4), since the retardation layer for a quarter wavelength plate can be formed only by the liquid crystal layer, the configuration includes a known retardation layer for a quarter wavelength plate having an alignment layer together with the liquid crystal layer. It is possible to provide an optical film that is advantageous in that it is thin and does not impair the flexibility of the object to be arranged.
(5) a laminate configured by laminating a plurality of optical films;
An optical functional layer of a circularly polarizing plate serving as a circularly polarizing plate transferred to the laminate,
With
The optical functional layer of the circularly polarizing plate is an optical film of a liquid crystal layer in which a plurality of line-shaped irregularities extending in a certain direction are formed on the surface and a phase difference is imparted to transmitted light.
According to (5), since the retardation layer of the circularly polarizing plate contained in the laminate can be formed only by the liquid crystal layer, it is thinner than the configuration including a known retardation layer having an alignment layer together with the liquid crystal layer, It is possible to provide an optical film that is advantageous in that the flexibility of the object to be placed is not impaired.
(6) The image display apparatus which has arrange | positioned the optical film as described in any one of said (2) to said (5).
According to (6), it is possible to provide an image display device in which the flexibility of the display screen is not impaired by disposing the thinned optical film.
(7) In the method of manufacturing an optical film that reduces reflection of extraneous light by controlling the polarization plane,
An application process for directly applying a liquid crystal material to a transparent substrate;
A drying step of drying the liquid crystal material applied in the application step;
The surface of the liquid crystal material dried in the drying step is subjected to a shaping treatment, and the crystalline material is solidified in a state of being oriented by the orientation regulating force by the shaping mold according to the shaping treatment to form a retardation layer. A retardation layer forming step of forming an optical film.
According to (7), since the phase difference layer can be formed by aligning the surface of the liquid crystal material, the optical film is manufactured with fewer steps than the known optical film manufacturing method for forming the alignment layer together with the liquid crystal layer. Can do. For this reason, the manufacturing process of an optical film which is thinner than a well-known optical film and is advantageous in not sacrificing the flexibility of an arrangement | positioning target object can be simplified, manufacturing cost can be reduced, and production efficiency can be improved.
(8) The quarter-wave plate retardation layer for imparting a phase difference of ¼ wavelength to the transmitted light or the ½ wavelength for imparting a phase difference of ½ wavelength to the transmitted light It is a manufacturing method of the optical film of the phase difference layer for plates.
According to (8), the manufacturing process of the optical film including the retardation layer for a quarter-wave plate and the retardation layer for a half-wave plate can be simplified, the manufacturing cost can be reduced, and the production efficiency can be increased. .

偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすることができる。   With respect to the optical film that reduces the reflection of extraneous light by controlling the polarization plane, the flexibility of the object to be arranged can be maintained.

本発明の一実施形態の光学フィルムと、光学フィルムが配置された画像表示装置を示す図である。It is a figure which shows the image display apparatus by which the optical film and optical film of one Embodiment of this invention are arrange | positioned. 図1に示した1/4波長板用位相差層、1/2波長板用位相差層、直線偏光板の遅層軸を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the slow layer axis | shaft of the phase difference layer for 1/4 wavelength plates shown in FIG. 1, the phase difference layer for 1/2 wavelength plates, and a linearly-polarizing plate. 本発明の一実施形態の転写体である転写フィルムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the transfer film which is a transfer body of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態の光学フィルムの製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the optical film of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態の転写フィルムの製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the transfer film of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態の転写フィルムが適用される反射防止膜を例示した図である。It is the figure which illustrated the antireflection film to which the transfer film of one embodiment of the present invention is applied. 本発明の他の実施形態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating other embodiment of this invention.

以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
[光学フィルム及び画像表示装置]
図1は、本実施形態の光学フィルム1と、光学フィルム1が配置された画像表示装置100を示す図である。光学フィルム1は、画像表示装置100のディスプレイの表面(画像表示パネル面)に配置される。画像表示パネル5は、可撓性を有するシート形状による有機ELパネルである。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Optical film and image display device]
FIG. 1 is a diagram showing an optical film 1 of the present embodiment and an image display device 100 on which the optical film 1 is arranged. The optical film 1 is disposed on the display surface (image display panel surface) of the image display device 100. The image display panel 5 is an organic EL panel having a flexible sheet shape.

光学フィルム1は、偏光面の制御により、画像表示パネル5に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムであり、直線偏光板103、円偏光板104を積層して構成される。直線偏光板103と円偏光板104とは、粘着層121aによって貼り合わされている。また、円偏光板104は、1/4波長板用位相差層101と1/2波長板用位相差層102とを、粘着層121bによって張り合わせて構成されている。   The optical film 1 is an optical film that suppresses reflection of extraneous light arriving at the image display panel 5 by controlling the polarization plane, and is configured by laminating a linearly polarizing plate 103 and a circularly polarizing plate 104. The linearly polarizing plate 103 and the circularly polarizing plate 104 are bonded together by an adhesive layer 121a. Further, the circularly polarizing plate 104 is configured by bonding a quarter-wave plate retardation layer 101 and a half-wave plate retardation layer 102 with an adhesive layer 121b.

さらに、円偏光板104の画像表示パネル5と接する面(裏面)には粘着層121cが設けられている。粘着層121cから図示しないセパレータフィルムを剥離して粘着層121cを露出させ、画像表示パネル5の表面と接触させることにより、光学フィルム1が画像表示パネル5に貼り付けられる。なお、本実施形態の粘着層121a、121b、121cは、感圧接着剤(PSA)を塗布して形成された層である。   Furthermore, an adhesive layer 121c is provided on the surface (back surface) of the circularly polarizing plate 104 that is in contact with the image display panel 5. The separator film (not shown) is peeled from the adhesive layer 121 c to expose the adhesive layer 121 c and contact the surface of the image display panel 5, whereby the optical film 1 is attached to the image display panel 5. The pressure-sensitive adhesive layers 121a, 121b, and 121c in this embodiment are layers formed by applying a pressure sensitive adhesive (PSA).

1/4波長板用位相差層101は、円偏光板104の、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4位相差板として機能する部位である。1/2波長板用位相差層102は、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2位相差板として機能する部位である。
本実施形態では、画像表示パネル5の表示画面側より、順次、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102、直線偏光板103が配置される。
円偏光板104は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、光学フィルム1は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。
The quarter-wave plate retardation layer 101 is a portion of the circularly polarizing plate 104 that functions as a quarter-phase plate that imparts a quarter-wave phase difference to transmitted light. The half-wave plate retardation layer 102 is a part that functions as a half-phase plate that imparts a half-wave phase difference to transmitted light.
In the present embodiment, a quarter-wave plate retardation layer 101, a half-wave plate retardation layer 102, and a linear polarizing plate 103 are sequentially arranged from the display screen side of the image display panel 5.
The circularly polarizing plate 104 ensures positive dispersion characteristics in a wide wavelength band used for displaying a color image, and the optical film 1 sufficiently suppresses reflection of extraneous light in a wide wavelength band.

図2は、図1に示した1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102、直線偏光板103の遅層軸を説明するための図である。図2に示したように、矢印により示す直線偏光板103の透過軸に対して、1/4波長板用位相差層101及び1/2波長板用位相差層102の遅相軸(それぞれ矢印により示す)が、それぞれ反時計回りに15度、73度の角度を成すように配置される。   FIG. 2 is a diagram for explaining the slow axis of the quarter-wave plate retardation layer 101, the half-wave plate retardation layer 102, and the linear polarizing plate 103 shown in FIG. As shown in FIG. 2, the slow axes of the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 with respect to the transmission axis of the linearly polarizing plate 103 indicated by arrows (respectively indicated by arrows). Are arranged so as to form angles of 15 degrees and 73 degrees counterclockwise, respectively.

より具体的には、1/4波長板用位相差層101の面内位相差(Re)は110nm以上、150nm以下であり、1/2波長板用位相差層102の面内位相差(Re)は235nm以上、285nm以下である。このような1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102により、光学フィルム1は、直線偏光板103側より入射する可視光域波長域(380〜780nm)の透過光に、楕円率0.8以上の円偏光を施して出射する。   More specifically, the in-plane retardation (Re) of the quarter-wave plate retardation layer 101 is 110 nm or more and 150 nm or less, and the in-plane retardation (Re) of the half-wave plate retardation layer 102. ) Is not less than 235 nm and not more than 285 nm. With such a retardation plate 101 for a quarter wavelength plate and a retardation layer 102 for a half wavelength plate, the optical film 1 has a visible light wavelength range (380 to 780 nm) incident from the linear polarizing plate 103 side. The transmitted light is irradiated with circularly polarized light having an ellipticity of 0.8 or more and emitted.

円偏光板104は、画像表示パネル5側から順に設けられた、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102によって構成されている。1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102は、屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により形成されている。1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102の表面には、賦型処理により表面に微細なライン状の凹凸が形成されている。以降、1/4波長板用位相差層101の凹凸を有する表面を賦型面101a、1/2波長板用位相差層102の凹凸を有する表面を賦型面102aと記す。   The circularly polarizing plate 104 includes a quarter-wave plate retardation layer 101 and a half-wave plate retardation layer 102 provided in this order from the image display panel 5 side. The quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 are formed of a liquid crystal material that is solidified (cured) while maintaining refractive index anisotropy. Fine line-shaped irregularities are formed on the surfaces of the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 by a shaping process. Hereinafter, the surface having the irregularities of the quarter-wave plate retardation layer 101 is referred to as a shaping surface 101a, and the surface having the irregularities of the half-wave plate retardation layer 102 is referred to as a shaping surface 102a.

賦型面101a、賦型面102aの微細な凹凸は、一方向に延長するライン状(線)の凹凸によって形成される。賦型面101aのライン状の凹凸は、ラインが直線偏光板103の吸収軸(遅相軸)に対して反時計回りに73度の角度を成すように作成される。賦型面102aのライン状の凹凸は、ラインが直線偏光板103の吸収軸(遅相軸)に対して反時計回りに15度の角度を成すように作成される。   The fine irregularities of the shaping surface 101a and the shaping surface 102a are formed by linear (line) irregularities extending in one direction. The line-shaped unevenness of the shaping surface 101 a is created so that the line forms an angle of 73 degrees counterclockwise with respect to the absorption axis (slow axis) of the linear polarizing plate 103. The line-shaped unevenness of the shaping surface 102 a is created so that the line forms an angle of 15 degrees counterclockwise with respect to the absorption axis (slow axis) of the linear polarizing plate 103.

直線偏光板103は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材132の下面側が鹸化処理された後、光学機能層131が配置される。なお基材132は、これに代えてポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。   In the linear polarizing plate 103, the optical functional layer 131 is disposed after the lower surface side of the base material 132 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose) is saponified. The base material 132 is replaced with methyl poly (meth) acrylate, poly (meth) butyl acrylate, methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate copolymer, methyl (meth) acrylate- A resin such as an acrylic resin such as a styrene copolymer, a glass such as soda glass, potash glass, lead glass, or quartz glass can be used.

光学機能層131は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール(PVA)によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。
上記した円偏光板104において、1/4波長板用位相差層101の厚さは1μm程度である。1/2波長板用位相差層102の厚さは2μm程度、粘着層121cの厚さは15μm以下となる。このため、本実施形態では、円偏光板104の厚さを18μm以下とすることができる。また、直線偏光板103において、基材132の厚さは30μm程度であり、光学機能層131の厚さは20μm以下、粘着層121aの厚さは15μm以下となる。このため、本実施形態では、直線偏光板103の厚さを、65μm以下とすることができる。
The optical functional layer 131 is a part that bears an optical function as a linear polarizing plate, and is produced, for example, by adsorbing and orienting iodine compound molecules on a film material of polyvinyl alcohol (PVA).
In the circularly polarizing plate 104 described above, the thickness of the quarter-wave plate retardation layer 101 is about 1 μm. The thickness of the half-wave plate retardation layer 102 is about 2 μm, and the thickness of the adhesive layer 121 c is 15 μm or less. For this reason, in this embodiment, the thickness of the circularly polarizing plate 104 can be 18 μm or less. In the linear polarizing plate 103, the thickness of the base material 132 is about 30 μm, the thickness of the optical functional layer 131 is 20 μm or less, and the thickness of the adhesive layer 121a is 15 μm or less. For this reason, in this embodiment, the thickness of the linearly polarizing plate 103 can be set to 65 μm or less.

以上のことから、本実施形態では、全体の厚みが85μm以下の光学フィルム1を提供することができる。このような光学フィルム1は、十分な可撓性を確保することができる。   From the above, in this embodiment, the optical film 1 having an overall thickness of 85 μm or less can be provided. Such an optical film 1 can ensure sufficient flexibility.

[転写体]
図1に示した円偏光板104は、粘着層121aを介して直線偏光板103と一体化され、光学フィルム1となる。円偏光板104と直線偏光板103とを一体化する処理には、転写法が適用される。
この転写法では、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。
[Transfer]
The circularly polarizing plate 104 shown in FIG. 1 is integrated with the linearly polarizing plate 103 through the adhesive layer 121a to form the optical film 1. A transfer method is applied to the process of integrating the circularly polarizing plate 104 and the linearly polarizing plate 103.
In this transfer method, for example, when a desired layer is formed on a base material, the layer is not directly formed on the base material, but can be peeled once on a releasable support. After forming the transfer body by laminating the layers, the layer formed on the support is finally bonded to the substrate (transferred substrate) on which the layer is to be laminated according to the process, demand, etc. In this method, a desired layer is formed on the substrate by laminating and then peeling off and removing the support.

本実施形態では、直線偏光板103に、円偏光板104に係る層構成を転写法により積層する。このとき、被転写基材は直線偏光板103であり、転写に供する層(転写層)は賦型面101aを有する1/4波長板用位相差層101に賦型面102aを有する1/2波長板用位相差層102を転写した円偏光板104になる。
図3は、本実施形態の転写体である転写フィルム3の構成を示す図である。転写フィルム3は、支持体基材301上に設けられた1/4波長板用位相差層101と、図示しない別の基材上に設けられた1/2波長板用位相差層102とを粘着層121bによって接着し、さらにセパレータフィルム302を粘着層121aによって接着することによって構成される。
In this embodiment, the layer configuration related to the circularly polarizing plate 104 is laminated on the linearly polarizing plate 103 by a transfer method. At this time, the substrate to be transferred is the linearly polarizing plate 103, and the layer used for transfer (transfer layer) has a shaping surface 102a on the quarter-wave plate retardation layer 101 having the shaping surface 101a. The circularly polarizing plate 104 to which the wave plate retardation layer 102 is transferred is obtained.
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a transfer film 3 which is a transfer body according to the present embodiment. The transfer film 3 includes a quarter-wave plate retardation layer 101 provided on a support substrate 301 and a half-wave plate retardation layer 102 provided on another substrate (not shown). It is constituted by adhering with the adhesive layer 121b and further adhering the separator film 302 with the adhesive layer 121a.

粘着層121aは、1/2波長板用位相差層102上にセパレータフィルム302を接着するための層である。また、粘着層121bは、転写層と被転写基材とを接着するための層である。粘着層121a、121bの材料としては、転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。本実施形態の粘着層121a、121bには、例えば、アセチルセルロース(酢酸纖維素)、ニトロセルロース(硝酸纖維素又は硝化綿)、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース(纖維素)系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。粘着層121aの厚みは1〜30μm程度である。また、粘着層121bの厚みは、0.1〜50μm程度である。   The adhesive layer 121a is a layer for adhering the separator film 302 onto the retardation layer 102 for a half-wave plate. The adhesive layer 121b is a layer for adhering the transfer layer and the substrate to be transferred. As the material of the adhesive layers 121a and 121b, a material having high adhesiveness is applied to both according to the material of the transfer layer and the material of the substrate to be transferred. The adhesive layers 121a and 121b of the present embodiment include, for example, acetylcellulose (cellulose acetate), nitrocellulose (cellulose nitrate or nitrified cotton), cellulose (fiberglass) resin such as cellulose acetate propionate, poly ( Acrylic resins such as methyl (meth) acrylate, poly (meth) butyl acrylate, (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer, (meth) methyl acrylate-styrene copolymer, urethane resin, Materials such as polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ionomer, natural or synthetic rubber are used. The thickness of the adhesive layer 121a is about 1 to 30 μm. Moreover, the thickness of the adhesion layer 121b is about 0.1-50 micrometers.

賦型面101aは、周側面に微細なライン状の凹凸が形成された賦型用金型(ロール版)を使い、1/4波長板用位相差層101の表面に凹凸を設けることによって作成される。また、賦型面102aは、周側面に微細なライン状の凹凸が形成されたロール版を使い、1/2波長板用位相差層102の表面に凹凸を設けることによって作成される。このような1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102の詳細な製造方法については、後に説明する。   The molding surface 101a is created by using a molding die (roll plate) in which fine line-shaped irregularities are formed on the peripheral side surface and providing irregularities on the surface of the retardation layer 101 for quarter-wave plates. Is done. Further, the shaping surface 102a is created by using a roll plate having fine line-shaped irregularities formed on the peripheral side surface and providing irregularities on the surface of the retardation layer 102 for half-wave plates. The detailed manufacturing method of the retardation layer 101 for quarter wavelength plates and the retardation layer 102 for half wavelength plates will be described later.

セパレータフィルム302は、粘着層121aの表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム302は、粘着層121aが露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。   The separator film 302 is a release sheet that covers the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 121a so that it can be released. The separator film 302 is provided in order to prevent the adhesive layer 121a from being exposed and causing unnecessary adhesion to unnecessary articles, and is peeled off and removed immediately before transfer.

支持体基材301は、転写に供する層(転写層)を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。本実施形態では、支持体基材301に、例えば透明フィルム材であるPET(Polyethylene terephthalate)フィルムが適用される。支持体基材301に透明フィルム材を適用したことによって、転写フィルム3の光学特性の検査が可能になる。
なお、PETフィルムは、後述する離型層との間の密着力を調整するためにコロナ処理される。支持体基材301は、全体の形状をシート形状としてもよい。また支持体基材301は、PETフィルムに限定されるものでなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお支持体基材301の厚みは、20〜100μmである。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、転写層側に剥離を促進する離型層を設けるようにしてもよい。
The support substrate 301 detachably supports a layer (transfer layer) to be transferred, and after the transfer layer is bonded and laminated on the transfer target substrate, the substrate is appropriately peeled off and removed as needed. It is. In the present embodiment, for example, a PET (Polyethylene terephthalate) film, which is a transparent film material, is applied to the support substrate 301. By applying a transparent film material to the support substrate 301, the optical properties of the transfer film 3 can be inspected.
The PET film is subjected to corona treatment in order to adjust the adhesion between the release film and a release layer described later. The support base material 301 may have a sheet shape as a whole. The support substrate 301 is not limited to a PET film, but is a resinous film made of a resin such as a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or polyethylene aphthalate, or a polyolefin resin such as polypropylene or polymethylpentene. Material may be applied. In addition, the thickness of the support base material 301 is 20-100 micrometers. If the peelability from the transfer layer is insufficient, a release layer that promotes peeling may be provided on the transfer layer side.

離型層としては、相対的に、支持体基材301との密着性は高く(剥離性は低く)、転写層との密着性は低い(剥離性は高い)材料を適用することができる。本実施形態では、離型層として、例えば、シリコン樹脂(有機珪素系高分子化合物)、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂(アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等)との混合物が用いられる。   As the release layer, a material having relatively high adhesion to the support substrate 301 (low releasability) and low adhesion to the transfer layer (high releasability) can be applied. In the present embodiment, as the release layer, for example, a silicon resin (organosilicon-based polymer compound), a fluorine-based resin, a melamine resin, an epoxy resin, or other appropriate resin (acrylic resin, cellulose-based resin, A mixture with a polyester resin or the like) is used.

なお、本実施形態では、コロナ処理したPETフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないPETフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。またこれに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないTACフィルムを支持体基材に適用して、離型層を省略してもよい。このようにすると構成を簡略化することができる。   In this embodiment, instead of providing a release layer made of melamine resin on a corona-treated PET film, a PET film that has not been surface-treated at all may be applied to a support substrate to omit the release layer. . Alternatively, a release layer may be omitted by applying a TAC film without a so-called permeation layer called a nonsol to the support substrate. In this way, the configuration can be simplified.

因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材301と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層としては、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く(剥離性は高く)、離型層との密着性が高い(剥離性は低い)材料を適用することができる。より具体的には、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した2種以上の混合物、あるいは以上の中から選択した1種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、1〜10μm程度である。また剥離層は、支持体基材301に設けられるものであっても、離型層に設けられるものであってもよい。   Incidentally, when the peelability by the release layer is insufficient, a release layer may be provided between the support substrate 301 and the release layer, and the release layer may supplement the peelability by the release layer. . As the release layer, a material having relatively low adhesion to the support film (high peelability) and high adhesion to the release layer (low peelability) can be applied. More specifically, the release layer includes an acrylic resin, a cellulose resin, a polyester resin, a urethane resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, or a mixture of two or more selected from the above, or a combination of the above. A mixture of one or more selected from the above and other resins is used. The thickness of the release layer is usually about 1 to 10 μm. Further, the release layer may be provided on the support substrate 301 or may be provided on the release layer.

[光学フィルムの製造工程]
図4は、光学フィルム1の製造工程を説明するための図であって、直線偏光板103と、図3に示した転写フィルム3とを一体化する工程を示している。この工程では、直線偏光板103に係る鹸化処理が施された基材132が供給リール403によって提供される。また、光学機能層131が供給リール404によって提供される。そして、転写フィルム3が供給リール406によって提供される。
[Manufacturing process of optical film]
FIG. 4 is a view for explaining a manufacturing process of the optical film 1 and shows a process of integrating the linearly polarizing plate 103 and the transfer film 3 shown in FIG. In this step, the base material 132 that has been subjected to the saponification treatment related to the linearly polarizing plate 103 is provided by the supply reel 403. An optical functional layer 131 is provided by the supply reel 404. Then, the transfer film 3 is provided by the supply reel 406.

転写フィルム3は、供給リール406から引き出され、剥離ローラ407によってセパレータフィルム302が剥離される。セパレータフィルム302の剥離により、粘着層121aが露出される。なお、剥離したセパレータフィルム302は、巻き取りリール405によって巻き取られる。
また、基材132は供給リール403から引き出され、光学機能層131に係るフィルム部材は供給リール404から引き出される。セパレータフィルム302が剥離された転写フィルム3は、光学機能層131に係るフィルム部材及び基材132と積層され、押圧ローラ402A、402Bによって押圧される。押圧された転写フィルム3(セパレータフィルム302剥離)、フィルム部材、基材132は一体化される。
The transfer film 3 is pulled out from the supply reel 406, and the separator film 302 is peeled off by the peeling roller 407. The pressure-sensitive adhesive layer 121a is exposed by the separation of the separator film 302. The separated separator film 302 is taken up by a take-up reel 405.
Further, the base material 132 is pulled out from the supply reel 403, and the film member related to the optical function layer 131 is pulled out from the supply reel 404. The transfer film 3 from which the separator film 302 has been peeled is laminated with the film member and the base material 132 related to the optical function layer 131 and pressed by the pressure rollers 402A and 402B. The pressed transfer film 3 (separator film 302 peeling), the film member, and the base material 132 are integrated.

続いて、フィルム部材、基材132と一体化された転写フィルム3(セパレータフィルム302剥離)から支持体基材301が剥離ローラ408によって剥離される。剥離された支持体基材301は、巻き取りリール40によって巻き取られる。以上の工程により、図1に示した光学フィルム1が製造される。
光学フィルム1の支持体基材301が剥離された面には、後に粘着層121cとなる粘着剤が塗付される(図示せず)。粘着剤上に供給リール411から供給されたセパレータフィルム303が貼り付けられた後、光学フィルム1は加圧ローラ409A、409Bによって加圧され、巻き取りリール401によって巻き取られる。
Subsequently, the support base material 301 is peeled off by the peeling roller 408 from the transfer film 3 (separator film 302 peeling) integrated with the film member and the base material 132. The peeled support substrate 301 is taken up by the take-up reel 40. Through the above steps, the optical film 1 shown in FIG. 1 is manufactured.
An adhesive that will later become the adhesive layer 121c is applied to the surface of the optical film 1 from which the support substrate 301 has been peeled off (not shown). After the separator film 303 supplied from the supply reel 411 is attached on the adhesive, the optical film 1 is pressed by the pressure rollers 409A and 409B and taken up by the take-up reel 401.

[転写体の製造工程]
次に、図3、4に示した転写フィルム3の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、1/2波長板用位相差層102、1/4波長板用位相差層101を同じラインで製造するものとして説明している。ただし、1/2波長板用位相差層102、1/4波長板用位相差層101は異なるラインで製造されるものであってもよい。
図5(a)、(b)は、転写フィルム3の製造工程を説明するための図である。図5(a)は、1/4波長板用位相差層101の製造工程を示し、図5(b)は、1/2波長板用位相差層102の製造工程を示している。図5(a)に示したように、本実施形態では、先ず、支持体基材301が供給リール501から引き出される。支持体基材301表面には、工程Aにおいて紫外線硬化型の液晶材料521が塗布される。
[Transfer manufacturing process]
Next, the manufacturing method of the transfer film 3 shown in FIGS. In the following description, the half-wave plate retardation layer 102 and the quarter-wave plate retardation layer 101 are described as being manufactured on the same line. However, the half-wave plate retardation layer 102 and the quarter-wave plate retardation layer 101 may be manufactured on different lines.
FIGS. 5A and 5B are diagrams for explaining the manufacturing process of the transfer film 3. FIG. 5A shows a manufacturing process of the quarter-wave plate retardation layer 101, and FIG. 5B shows a manufacturing process of the half-wave plate retardation layer 102. As shown in FIG. 5A, in the present embodiment, first, the support base material 301 is pulled out from the supply reel 501. In step A, an ultraviolet curable liquid crystal material 521 is applied to the surface of the support substrate 301.

本実施形態では、液晶材料521の塗布をいわゆるグラビア印刷の手法を応用して行っている。この手法によれば、版胴503を液晶材料に浸漬し、回転させることによって液晶材料を支持体基材301との接触面に塗布する。支持体基材301の版胴503と接触する面の裏面には圧胴502が接触し、支持体基材301表面の液晶材料521の量が調整される。
液晶材料521が塗布された支持体基材301は、工程Bに送られる。工程Bでは、支持体基材301及び液晶材料521が乾燥炉505に送られて乾燥される。
In this embodiment, the liquid crystal material 521 is applied by applying a so-called gravure printing technique. According to this method, the plate cylinder 503 is immersed in the liquid crystal material and rotated to apply the liquid crystal material to the contact surface with the support base material 301. The impression cylinder 502 comes into contact with the back surface of the surface of the support substrate 301 that contacts the plate cylinder 503, and the amount of the liquid crystal material 521 on the surface of the support substrate 301 is adjusted.
The support base material 301 to which the liquid crystal material 521 is applied is sent to the process B. In step B, the support base material 301 and the liquid crystal material 521 are sent to the drying furnace 505 and dried.

以上の工程において、液晶材料521としては、例えば、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、具体的にはメルク社製Aプレート形成材料が考えられる。また、本実施形態では、工程Aから工程Bに向かう支持体基材301及び液晶材料521の搬送速度を0.5m/min〜40m/min、工程Bにおける乾燥の温度を40度〜150度、乾燥時間を10秒〜180秒とする。なお、支持体基材301は150度に加熱されても損なわれることがない。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料521を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。
In the above process, as the liquid crystal material 521, for example, a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, specifically, an A plate forming material manufactured by Merck is considered. Moreover, in this embodiment, the conveyance speed of the support base material 301 and the liquid crystal material 521 heading from the process A to the process B is 0.5 m / min to 40 m / min, the drying temperature in the process B is 40 degrees to 150 degrees, The drying time is 10 seconds to 180 seconds. The support substrate 301 is not damaged even when heated to 150 degrees.
By doing in this way, in this embodiment, the liquid crystal material 521 can be made into a hardness suitable for a subsequent shaping process.

乾燥炉505を出た支持体基材301、液晶材料521は、工程Cに送られる。液晶材料521は、工程Cにおいて、図示しないニップロールに支持体基材301の裏面から押圧されながらロール版507の周面と接触する。ロール版507は、賦型面101aを形成するための微細な凹凸が周側面に形成された(一定方向にラビングされた)賦型用金型である。
ロール版507の周面に乾燥された液晶材料521の表面が接触することにより、液晶材料521の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料521は、工程Cにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線(UV:ultraviolet)照射を受ける。液晶材料521は、紫外線照射によって硬化(固化)して1/4波長板用位相差層101となり、その表面が賦型面101aとなる。
The support base material 301 and the liquid crystal material 521 that have exited the drying furnace 505 are sent to Step C. In Step C, the liquid crystal material 521 comes into contact with the peripheral surface of the roll plate 507 while being pressed from the back surface of the support base material 301 by a nip roll (not shown). The roll plate 507 is a mold for molding in which fine irregularities for forming the molding surface 101a are formed on the peripheral side surface (rubbed in a certain direction).
When the surface of the dried liquid crystal material 521 is brought into contact with the peripheral surface of the roll plate 507, fine irregularities are formed on the surface of the liquid crystal material 521. In Step C, the liquid crystal material 521 is irradiated with ultraviolet (UV) light while the unevenness is formed. The liquid crystal material 521 is cured (solidified) by irradiation with ultraviolet rays to form the quarter-wave plate retardation layer 101, and the surface thereof becomes the shaping surface 101a.

なお、工程Cにおいては、液晶材料521が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらUV照射を行うものとする。温度調整により、液晶材料521がロール版507上で配向し、その状態で硬化する。なお、温度調整は、例えば、液晶材料521が、40度〜150度になるように行われる。
以上の工程により、支持体基材301上に、1/4波長板用位相差層101が直接形成される。支持体基材301及び1/4波長板用位相差層101は、巻き取りリール508によって巻き取られる。
In Step C, UV irradiation is performed while adjusting the temperature so that the liquid crystal material 521 has a temperature equal to or higher than the phase transition temperature. By adjusting the temperature, the liquid crystal material 521 is aligned on the roll plate 507 and cured in that state. The temperature adjustment is performed, for example, so that the liquid crystal material 521 has a temperature of 40 degrees to 150 degrees.
Through the above steps, the quarter-wave plate retardation layer 101 is directly formed on the support substrate 301. The support substrate 301 and the quarter-wave plate retardation layer 101 are taken up by a take-up reel 508.

次に、図5(b)に示した1/2波長板用位相差層102の製造工程を説明する。本実施形態では、工程Dにおいて、巻き取りリール508に巻き取られた支持体基材511が引き出される。引き出された支持体基材511上には、版胴503及び圧胴502によって液晶材料522が塗布される。なお、液晶材料522の塗布は、工程Aにおける液晶材料521の塗布と同様に行われるものとする。   Next, a manufacturing process of the half-wave plate retardation layer 102 shown in FIG. 5B will be described. In the present embodiment, in the process D, the support base material 511 taken up by the take-up reel 508 is drawn out. A liquid crystal material 522 is applied on the drawn support base material 511 by a plate cylinder 503 and an impression cylinder 502. Note that the application of the liquid crystal material 522 is performed in the same manner as the application of the liquid crystal material 521 in Step A.

液晶材料522が塗布された支持体基材511は、工程Eに送られる。工程Eでは、支持体基材511、液晶材料522(以下、液晶材料522等とも記す)が乾燥炉505に送られて乾燥される。
以上の工程において、液晶材料522としては、例えば、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、具体的にはメルク社製Aプレート形成材料が考えられる。また、本実施形態では、工程Dから工程Eに向かう液晶材料522等の搬送速度を0.5m/min〜40m/min、工程Eにおける乾燥の温度を40度〜150度、乾燥時間を10秒〜180秒とする。なお、支持体基材301は150度に加熱されても損なわれることがない。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料522を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。
The support base material 511 to which the liquid crystal material 522 is applied is sent to the process E. In step E, the support substrate 511 and the liquid crystal material 522 (hereinafter also referred to as the liquid crystal material 522 and the like) are sent to the drying furnace 505 and dried.
In the above process, as the liquid crystal material 522, for example, a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, specifically, an A plate forming material manufactured by Merck is considered. In the present embodiment, the transport speed of the liquid crystal material 522 and the like from the process D to the process E is 0.5 m / min to 40 m / min, the drying temperature in the process E is 40 to 150 degrees, and the drying time is 10 seconds. ˜180 seconds. The support substrate 301 is not damaged even when heated to 150 degrees.
By doing in this way, in this embodiment, the liquid crystal material 522 can be made into a hardness suitable for the subsequent shaping process.

乾燥炉505を出た液晶材料522等は、工程Fに送られる。工程Fでは、ロール版507が、周面がロール版507とは異なる方向にラビングされているロール版517に交換されている。なお、ロール版507の交換は、1/4波長板用位相差層101と1/2波長板用位相差層102とを同じラインを使って製造する場合に行われる。
液晶材料522等は、工程Fにおいて、図示しないニップロールに裏面から押圧されながらロール版517の周面と接触する。ロール版517は、賦型面102aを形成するための微細な凹凸が周側面に形成された(一定方向にラビングされた)賦型用金型である。
ロール版517の周面に乾燥された液晶材料522の表面が接触することにより、液晶材料522の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料522は、工程Fにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線照射を受ける。液晶材料522は、紫外線照射によって硬化(固化)して1/2波長板用位相差層102となり、その表面が賦型面102aとなる。
The liquid crystal material 522 and the like exiting the drying furnace 505 are sent to the process F. In step F, the roll plate 507 is replaced with a roll plate 517 whose peripheral surface is rubbed in a direction different from that of the roll plate 507. The roll plate 507 is replaced when the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 are manufactured using the same line.
In Step F, the liquid crystal material 522 and the like come into contact with the peripheral surface of the roll plate 517 while being pressed from the back by a nip roll (not shown). The roll plate 517 is a mold for molding in which fine irregularities for forming the molding surface 102a are formed on the peripheral side surface (rubbed in a certain direction).
When the surface of the dried liquid crystal material 522 comes into contact with the peripheral surface of the roll plate 517, fine irregularities are formed on the surface of the liquid crystal material 522. In the process F, the liquid crystal material 522 is irradiated with ultraviolet rays while the unevenness is formed. The liquid crystal material 522 is cured (solidified) by ultraviolet irradiation to form the half-wave plate retardation layer 102, and the surface thereof becomes the shaping surface 102a.

なお、工程Cにおいては、液晶材料521が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらUV照射を行うものとする。温度調整により、液晶材料521がロール版507上で配向し、その状態で硬化する。なお、温度調整は、例えば、液晶材料521が、40度〜150度になるように行われる。
以上の工程により、支持体基材301上に、1/2波長板用位相差層102が直接形成される。支持体基材301及び1/2波長板用位相差層102は、巻き取りリール508によって巻き取られる。
In Step C, UV irradiation is performed while adjusting the temperature so that the liquid crystal material 521 has a temperature equal to or higher than the phase transition temperature. By adjusting the temperature, the liquid crystal material 521 is aligned on the roll plate 507 and cured in that state. The temperature adjustment is performed, for example, so that the liquid crystal material 521 has a temperature of 40 degrees to 150 degrees.
The half-wave plate retardation layer 102 is directly formed on the support substrate 301 through the above steps. The support substrate 301 and the half-wave plate retardation layer 102 are taken up by a take-up reel 508.

ロール版517周面と液晶材料522の表面とが接触することによって液晶材料522の表面に賦型面102aが形成される。また、液晶材料522は、工程Fにおいて紫外線(UV:ultraviolet)照射を受けて硬化する。賦型面102aの形成及び硬化により、液晶材料522が1/4波長板用位相差層101となる。
本実施形態では、工程Fにおいて、工程Cと同様に、液晶材料522が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらUV照射を行うものとする。この際の温度調整は、例えば、液晶材料522が、40度〜150度になるように行われる。
When the peripheral surface of the roll plate 517 and the surface of the liquid crystal material 522 are in contact with each other, the shaping surface 102 a is formed on the surface of the liquid crystal material 522. Further, the liquid crystal material 522 is cured by receiving ultraviolet (UV) irradiation in the process F. By the formation and curing of the shaping surface 102a, the liquid crystal material 522 becomes the quarter-wave plate retardation layer 101.
In the present embodiment, in step F, as in step C, UV irradiation is performed while adjusting the temperature so that the liquid crystal material 522 has a temperature equal to or higher than the phase transition temperature. The temperature adjustment at this time is performed, for example, so that the liquid crystal material 522 has a temperature of 40 degrees to 150 degrees.

図5(b)の工程で製造された1/2波長板用位相差層102は、図5(a)の工程で製造された1/4波長板用位相差層101に粘着層121bを介して貼り合わせられる。1/4波長板用位相差層101が貼り合わされた後、支持基材511は剥離される。以上の工程により、円偏光板104が形成される。図示しない次の工程において、円偏光板104上には粘着層121aが形成される。粘着層121a上には、セパレータフィルム302が配置され、図3に示した転写フィルム3が完成する。   The retardation layer 102 for half-wave plates manufactured in the process of FIG. 5B passes through the adhesive layer 121b to the retardation layer 101 for quarter-wave plates manufactured in the process of FIG. And pasted together. After the quarter-wave plate retardation layer 101 is bonded, the support substrate 511 is peeled off. Through the above steps, the circularly polarizing plate 104 is formed. In the next step (not shown), an adhesive layer 121 a is formed on the circularly polarizing plate 104. A separator film 302 is disposed on the adhesive layer 121a, and the transfer film 3 shown in FIG. 3 is completed.

以上説明した本実施形態によれば、液晶層を配向させることにより、配向層のない1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成することができる。このため、構成を簡略化し、さらには全体形状を薄型化して十分な可撓性を確保することができる。   According to the present embodiment described above, the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 without the alignment layer can be formed by aligning the liquid crystal layer. For this reason, the configuration can be simplified, and the overall shape can be reduced to ensure sufficient flexibility.

[適用例]
図6(a)、(b)は、以上説明した本実施形態の転写フィルム3が適用される反射防止膜を例示した図である。図6(a)に示した反射防止膜は、図3に示した転写フィルム(セパレータフィルム302、粘着層121a剥離)の支持体基材301のうち、円偏光板104が設けられていない面に感圧接着剤(PSA)601、TAC(トリアセチルセルロース)602、ポリビニルアルコール(PVA)603、TAC604、ハードコート材(HC)605を積層して構成されている。
[Application example]
6A and 6B are diagrams illustrating an antireflection film to which the transfer film 3 of the present embodiment described above is applied. The antireflection film shown in FIG. 6A is provided on the surface of the support substrate 301 of the transfer film (separator film 302, adhesive layer 121a peeling) shown in FIG. 3 where the circularly polarizing plate 104 is not provided. A pressure-sensitive adhesive (PSA) 601, TAC (triacetyl cellulose) 602, polyvinyl alcohol (PVA) 603, TAC 604, and hard coat material (HC) 605 are laminated.

なお、図6(a)の反射防止膜において、感圧接着剤601は紫外線硬化型の接着剤であってもよい。また、TAC602は、アクリル樹脂性のフィルム、あるいはZero Retardation TAC(Z−TAC)であってもよい。
また、図6(a)に示した反射防止膜において、TAC602を設けないように構成することも可能である。
図6(b)に示した反射防止膜は、図3に示した転写フィルム(セパレータフィルム302、粘着層121a剥離)を、感圧接着剤601、TAC602、ポリビニルアルコール603、TAC604、ハードコート材605の積層体に転写して構成されたものである。図6(b)に示した反射防止膜は、支持体基材301がないため、図6(a)に示した反射防止膜よりも膜の薄膜化に有利である。
In the antireflection film of FIG. 6A, the pressure-sensitive adhesive 601 may be an ultraviolet curable adhesive. The TAC 602 may be an acrylic resin film or a Zero Retention TAC (Z-TAC).
In addition, the antireflection film shown in FIG. 6A can be configured not to include the TAC 602.
The antireflection film shown in FIG. 6B is the same as the transfer film (separator film 302, adhesive layer 121a peeled off) shown in FIG. 3 except for the pressure sensitive adhesive 601, TAC602, polyvinyl alcohol 603, TAC604, and hard coat material 605. It is constituted by being transferred to the laminate. The antireflection film shown in FIG. 6B is advantageous in reducing the thickness of the film than the antireflection film shown in FIG.

[効果]
以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、樹脂材料の表面を直接賦型処理して1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成することができる。
このため、本実施形態は、より薄膜化に有利であり、配置対象物の可撓性を損なわない光学フィルム、光学フィルム用転写体を提供することができる。また、本実施形態は、このような光学フィルムが配置された画像表示装置を提供することができる。
[effect]
According to the manufacturing method of the optical film of the present embodiment described above, the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 are formed by directly shaping the surface of the resin material. can do.
For this reason, this embodiment is more advantageous for reducing the thickness, and can provide an optical film and an optical film transfer body that do not impair the flexibility of the object to be arranged. Moreover, this embodiment can provide the image display apparatus by which such an optical film is arrange | positioned.

さらに、以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、例えば、1/4波長板用位相差層、1/2波長板用位相差層等の位相差相が、例えば液晶層と配向層とを、液晶層と配向層とを積層して構成する公知の技術よりも少ない工程で光学フィルムを製造することができる。
このため、本実施形態は、光学フィルム、光学フィルム用転写体の生産性を高め、製造にかかるコストをも低減することができる。
Furthermore, according to the manufacturing method of the optical film of this embodiment described above, for example, a phase difference phase such as a phase difference layer for a quarter wavelength plate, a phase difference layer for a half wavelength plate, An optical film can be manufactured in fewer steps than a known technique in which an alignment layer is formed by laminating a liquid crystal layer and an alignment layer.
For this reason, this embodiment can raise the productivity of the optical film and the transfer body for optical films, and can also reduce the cost concerning manufacture.

[実験例]
本発明の発明者らは、本実施形態の反射防止フィルムの効果を以下の実験によって検証した。以下、実験の条件を具体的に説明する。
実験では、TAC基材上に1/2波長板用位相差層を形成した。1/2波長板用位相差層の形成は、以下の手順で行われた。
TAC原反の片面にミヤバー液晶(メルク社RMM899)を塗工し、80℃、1分間のオーブン乾燥によって乾燥させ、室温冷却させた。さらに、表面が45度ラビングされたバラード版(表面温度65℃〜67度にプレヒート済み)にハンドローラでラミネートし、TAC原反の側から紫外線照射をし、液晶層をTAC原反から剥離した。
[Experimental example]
The inventors of the present invention verified the effect of the antireflection film of this embodiment by the following experiment. The experimental conditions will be specifically described below.
In the experiment, a half-wave plate retardation layer was formed on the TAC substrate. The half-wave plate retardation layer was formed by the following procedure.
A Miyabar liquid crystal (Merck RMM899) was applied to one side of the TAC original fabric, dried by oven drying at 80 ° C. for 1 minute, and cooled to room temperature. Furthermore, it is laminated with a hand roller on a ballad plate whose surface is rubbed at 45 ° (preheated to a surface temperature of 65 ° C. to 67 ° C.), irradiated with ultraviolet rays from the TAC original fabric side, and the liquid crystal layer is peeled from the TAC original fabric. .

上記した実験によって作成された液晶層は、1/2波長板用位相差層として機能した。また、上記実験において、TAC基材をPETに変更しても、同様の1/2波長板用位相差層を得ることができた。さらに、PETから液晶層を剥離したことにより、単品の転写品である1/2波長板用位相差層を得ることができた。   The liquid crystal layer prepared by the above experiment functioned as a retardation layer for a half-wave plate. Moreover, in the said experiment, even if it changed the TAC base material into PET, the same retardation layer for 1/2 wavelength plates was able to be obtained. Furthermore, by separating the liquid crystal layer from PET, a retardation layer for a half-wave plate, which was a single transfer product, could be obtained.

[他の実施形態]
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
すなわち、上述の実施形態では、1/4波長板用位相差層101と1/2波長板用位相差層102とを粘着層121bによって貼り合わせた円偏光板104について説明している。しかし、本発明はこれに限らず、1/4波長板用位相差層101と1/2波長板用位相差層102とを、それぞれ単品の光学膜として使用することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention is not limited to the scope of the present invention, and various combinations of the above-described embodiments, and further the configuration of the above-described embodiments. Can be variously changed.
That is, in the above-described embodiment, the circularly polarizing plate 104 in which the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 are bonded together by the adhesive layer 121b is described. However, the present invention is not limited to this, and the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 can each be used as a single optical film.

また、本実施形態の1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102は、支持基材上に形成される光学フィルムに限定されるものではない。本実施形態の1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102は、他の光学フィルムの積層品に転写された後、支持基材から剥離される転写品としても構成できる。
図7(a)は、単品の光学膜として構成された1/4波長板用位相差層101を示す図、図7(b)は、1/2波長板用位相差層102を示す図である。図7(c)は、転写品として構成された単品の1/4波長板用位相差層101を示し、図7(d)は、転写品として構成された単品の1/2波長板用位相差層102を示す。
Further, the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 of the present embodiment are not limited to optical films formed on a support substrate. The quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 of the present embodiment are transferred products that are transferred to a laminated product of another optical film and then peeled off from the support substrate. Can also be configured.
FIG. 7A is a diagram showing a quarter-wave plate retardation layer 101 configured as a single optical film, and FIG. 7B is a diagram showing a half-wave plate retardation layer 102. is there. FIG. 7 (c) shows a single quarter-wave plate retardation layer 101 configured as a transfer product, and FIG. 7 (d) shows a single product for a half-wave plate configured as a transfer product. The phase difference layer 102 is shown.

また、上述の実施形態では、転写層側に粘着層を設け、この粘着層によって直線偏光板と転写層とを一体化している。しかし、本発明はこれに限らず、粘着層を直線偏光板側に設けるようにしてもよい。   In the above-described embodiment, an adhesive layer is provided on the transfer layer side, and the linearly polarizing plate and the transfer layer are integrated by this adhesive layer. However, the present invention is not limited to this, and the adhesive layer may be provided on the linearly polarizing plate side.

また、上述の実施形態では、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102となる液晶材料をグラビア印刷の手法で塗布している。しかし、本発明はこれに限らず、ダイコーター、マイクログラビア、コンマコーターを使って液晶材料を基材に塗布するものであってもよい。
また上述の実施形態では、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102に紫外線硬化性樹脂を適用しているが、本発明はこれに限らず、熱硬化樹脂を使って1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を製造することもできる。
Further, in the above-described embodiment, the liquid crystal materials to be the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 are applied by a gravure printing technique. However, the present invention is not limited to this, and a liquid crystal material may be applied to a substrate using a die coater, a micro gravure, or a comma coater.
In the above-described embodiment, the ultraviolet curable resin is applied to the retardation layer 101 for quarter-wave plate and the retardation layer 102 for half-wave plate. However, the present invention is not limited to this, and thermosetting is performed. The quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 can also be manufactured using a resin.

また上述の実施形態では、ロール版により1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。
また上述の実施形態では、賦型処理により1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102の表面を配向膜としているが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。なお、この場合、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102のいずれか一方のみを光配向膜により作成してもよく、双方を光配向膜により作成してもよい。
In the above-described embodiment, the case where the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 are subjected to a shaping process using a roll plate is described, but the present invention is not limited thereto. The present invention can also be widely applied to the case where the forming process is performed using a flat plate.
Further, in the above-described embodiment, the surface of the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 is used as an alignment film by the shaping process, but the present invention is not limited to this, and the light The present invention can be widely applied to the case where an alignment film is formed by an alignment method. In this case, only one of the quarter-wave plate retardation layer 101 and the half-wave plate retardation layer 102 may be formed of a photo-alignment film, or both may be formed of a photo-alignment film. May be.

また上述の実施形態では、ロール材の連続した処理により粘着層121c、セパレータフィルム303を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状に切り出した後、転写フィルム3上に配置するようにしてもよい。
また上述の実施形態では、可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに光学フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶表示パネル等による一般の画像表示装置に適用することができる。さらには、各種の部材に配置して反射防止を図る場合に広く適用することができる。
Moreover, in the above-described embodiment, the case where the adhesive layer 121c and the separator film 303 are arranged by continuous processing of the roll material has been described, but the present invention is not limited thereto, and after separately cutting the optical film into a sheet shape, It may be arranged on the transfer film 3.
In the above-described embodiment, the case where the optical film is arranged on the image display panel having a flexible sheet shape is described. can do. Furthermore, it can be widely applied when it is arranged on various members to prevent reflection.

1 光学フィルム
3 転写フィルム
5 画像表示パネル
100 画像表示装置
101 1/4波長板用位相差層
101a,102a 賦型面
102 1/2波長板用位相差層
103 直線偏光板
104 円偏光板
121a、121b、121c 粘着層
131 光学機能層
132 基材
301 支持体基材
302,303 セパレータフィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical film 3 Transfer film 5 Image display panel 100 Image display apparatus 101 1/4 wavelength plate phase difference layer 101a, 102a Molding surface 102 1/2 wavelength plate phase difference layer 103 Linearly polarizing plate 104 Circularly polarizing plate 121a, 121b, 121c Adhesive layer 131 Optical functional layer 132 Base material 301 Support base material 302, 303 Separator film

Claims (8)

透明フィルムによる基材と、
前記透明フィルムによる基材上に形成され、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成されて透過光に位相差を付与する液晶層と、を含む
光学フィルム用転写体。
A substrate made of a transparent film;
A transfer body for an optical film, comprising: a liquid crystal layer formed on a substrate made of the transparent film, wherein a plurality of line-shaped irregularities extending in a certain direction are formed on a surface to impart a retardation to transmitted light.
透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、請求項1に記載の光学フィルム用転写体の前記液晶層を含む
光学フィルム。
A substrate made of a transparent film;
An optical functional layer of a linearly polarizing plate that functions as a linearly polarizing plate;
The optical functional layer of the circularly polarizing plate that functions as a circularly polarizing plate is laminated,
The optical functional layer of the circularly polarizing plate includes the liquid crystal layer of the optical film transfer body according to claim 1.
前記液晶層は、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層である
請求項2に記載の光学フィルム。
The optical film according to claim 2, wherein the liquid crystal layer is a retardation layer for a ½ wavelength plate that imparts a retardation of ½ wavelength to transmitted light.
前記液晶層は、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層である
請求項2に記載の光学フィルム。
The optical film according to claim 2, wherein the liquid crystal layer is a quarter-wave plate retardation layer that imparts a phase difference of ¼ wavelength to transmitted light.
複数の光学膜を積層して構成された積層体と、
前記積層体に転写された円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層と、
を備え、
前記円偏光板の光学機能層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成され、透過光に位相差を付与する液晶層である
光学フィルム。
A laminate formed by laminating a plurality of optical films;
An optical functional layer of a circularly polarizing plate serving as a circularly polarizing plate transferred to the laminate,
With
The optical functional layer of the circularly polarizing plate is a liquid crystal layer in which a plurality of line-shaped irregularities extending in a certain direction are formed on the surface, and a phase difference is imparted to transmitted light.
請求項2から5のいずれか1項に記載の光学フィルムを配置した
画像表示装置。
An image display device comprising the optical film according to any one of claims 2 to 5.
偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透明基材に液晶材料を直接塗布する塗布工程と、
前記塗布工程において塗布された前記液晶材料を乾燥させる乾燥工程と、
前記乾燥工程において乾燥された前記液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記結晶材料を配向させた状態で固化して位相差層を形成する位相差層形成工程と、を含む
光学フィルムの製造方法。
In the method of manufacturing an optical film that reduces the reflection of extraneous light by controlling the polarization plane,
An application process for directly applying a liquid crystal material to a transparent substrate;
A drying step of drying the liquid crystal material applied in the application step;
The surface of the liquid crystal material dried in the drying step is subjected to a shaping treatment, and the crystalline material is solidified in a state of being oriented by the orientation regulating force by the shaping mold according to the shaping treatment to form a retardation layer. A retardation layer forming step of forming an optical film.
前記位相差層が透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層または透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層である
請求項7に記載の光学フィルムの製造方法。
A phase difference layer for a quarter-wave plate in which the retardation layer imparts a phase difference of ¼ wavelength to transmitted light, or a position for a half-wave plate in which a phase difference of ½ wavelength is imparted to transmitted light It is a phase difference layer, The manufacturing method of the optical film of Claim 7.
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