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JP2014063638A - 透明導電性基材 - Google Patents

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Reiko Iwata
玲子 岩田
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

【課題】表面抵抗値が低く耐久性が良好な透明導電性基材を提供する。
【解決手段】透明導電性基材15は、透明基材11と、透明基材11の片側または両面に設けられた導電層12と、導電層12の透明基材11とは反対側に積層されて導電性物質を含有する透明樹脂層13とを備えている。
【選択図】図1

Description

本発明は、タッチパネルに用いられる透明導電性基材に関するものである。
透明導電性基材は、タッチパネル、有機EL、太陽電池、プラズマディスプレイ(PDP)、液晶ディスプレイ等の電子デバイスの電極や電磁波シールド材として好適に用いられている。透明導電性基材は例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)を基材としてその片側または両側の表面にドライ方式またはウェット方式で導電層を形成することで得られる。ドライ方式の代表例としてはITO(酸化インジウムスズ)を真空蒸着法で成膜する方法が挙げられる。しかし、ITOの主成分であるインジウムは希少金属であり安定供給が懸念され、また、屈曲性に欠けるという問題もある。さらにその製造方式も高価な真空成膜機を必要とするという問題がある。
近年、上記の問題を鑑みて、ITO代替材料が台頭しており、導電性高分子、カーボンナノチューブ、金属を繊維状またはメッシュ状に加工して導電層を形成することが行われている。これらのITO代替材料は、水や有機溶媒中に分散させることが可能である。ITO代替材料を分散させた分散液は、ウェット方式にて基材表面に塗布することが可能である。このウェット方式により、大量生産、コストダウンが期待されている。中でも金属を繊維状またはメッシュ状にして導電層を形成した基材は、ITOと同等の抵抗値、光学特性が得られる点で、ITOを用いた基材の代替として有力視されている。しかし、金属の導電層のみでは、各種電子デバイスが必要とする環境試験の条件に対する耐久性が低いという問題点がある。
そこで、金属の導電層を被覆するような透明樹脂層を設けることで、透明導電性基材の耐久性を向上させることが考えられる。しかし、透明樹脂層の厚みを増やすと耐久性はより向上するが、金属が被覆される量も増えてしまい、表面抵抗値とトレードオフの関係にあることは免れない。また、特にタッチパネルに透明樹脂層が積層された透明導電性基材を使用する場合には、入力信号を伝達するために基材表面に配線を施す必要があるが、この場合、配線材料と透明導電性基材の表面の接触抵抗が上昇し、動作に不具合が生じるおそれがある。
特許文献1には、基材上に設けられた透明導電層が繊維状金属を含み、透明導電層上に樹脂層が積層された透明導電膜付き基材が記載されている。また、特許文献2には、透明樹脂層に加水分解性のシラン化合物を含有して透明樹脂層による表面抵抗値が上昇することを防止している透明導電膜付き基材が記載されている。
特開2011−029036号公報 特開2011−204649号公報
しかし、特許文献1に記載された基材では、樹脂層が光吸収層としての役割を果たすだけで、上記の耐久性と表面抵抗値の問題を解決できない。また、特許文献1と特許文献2は、いずれも配線材料と透明導電性基材との接触抵抗の上昇の問題について言及していない。
本発明は、上記問題を鑑みてなされたものであり、表面抵抗値が低く耐久性が良好な透明導電性基材を提供することを目的とする。さらに、配線との接触抵抗が低い透明導電性基材を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために第1の発明は、透明基材と、透明基材の片側または両面に設けられた導電層と、導電層の透明基材とは反対側に積層されて導電性物質を含有する透明樹脂層とを備えている透明導電性基材である。
また、第2の発明は、第1の発明において、透明樹脂層に含有される導電性物質が、導電性高分子である。
また、第3の発明は、第1の発明において、導電層が、金属が分散した層である。
また、第4の発明は、第1乃至第3の何れか1つの発明において、導電層に対して配線が施されている。
また、第5の発明は、第4の発明において、配線には、透明樹脂層に含有される導電性高分子と同一の導電性高分子が含有されている。
また、第6の発明は、第1乃至第5の何れか1つの透明導電性基材を備えたタッチパネルである。
本発明では、透明樹脂層に導電性物質を含有させているため、導電層が透明樹脂層に被覆されているにもかかわらず低抵抗を保ち、なおかつ透明樹脂層が積層されているために耐久性が良好な透明導電性基材が得られる。さらに、本発明では、配線に透明樹脂層に含有されている導電性物質と同一の導電性物質が含有されているために、透明導電性基材と配線との接触抵抗を低下させることが可能で、良好な操作性を有するタッチパネルを得ることが可能である。
本発明の実施の形態における透明導電性基材の断面図 本発明の実施の形態における透明導電性基材のパターニング後の断面図 本発明の実施の形態における透明導電性基材の配線実施後の透明樹脂層と配線を示す平面図 本発明の実施の形態における透明導電性基材の配線実施後の断面図
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
実施の形態における透明導電性基材15は、図1に示すように、基材11(透明基材)と導電層12(透明導電層)と透明樹脂層13とを備えている。基材11の片側または両面に、導電層12が積層されている。図1では、基材11の片側だけに導電層12が積層されているが、基材11の両側に導電層12が積層されていてもよい。導電層12の基材11とは反対側の面に、透明樹脂層13が積層されている。基材11の導電層12との反対側、または、基材11と金属の導電層12の間に、機能性を持たせるために樹脂層14を設けてもよい。図1では、基材11の導電層12との反対側の面だけに、樹脂層14が設けられているが、基材11と金属の導電層12の間に樹脂層14を設けてもよい。図1には、基材11の片面に導電層12、及び透明樹脂層13が積層されて、基材11の導電層12とは反対側の面に樹脂層14が積層された透明導電性基材15を示す。
タッチパネルの電極として透明導電性基材15を用いる場合は、図2に示すように、導電層12と透明樹脂層13がパターニングされる。導電層12と透明樹脂層13のパターニングは、フォトリソグラフィー、スクリーン印刷、レーザーによるパターニングなどの方法を用いることができる。例えば、レジスト塗布、露光、エッチング、レジスト剥離という工程を経て、導電層12と透明樹脂層13をパターニングにすることにより、基材11上に、導電性パターン部21と非導電性パターン部22が形成される。導電層12(電極)及び透明樹脂層13のパターニング例として、図3に導電層12及び透明樹脂層13を菱形状にパターニングした透明導電性基材15を上から見た図を示す。
パターニング後は、図3に示すように、パターニングを施した導電層12および透明樹脂層13の上に配線16が施される。導電層12及び透明樹脂層13が菱形状にパターニングされた基材11において、導電層12及び透明樹脂層13の端部に配線16を施した場合の平面図を図3に示し、断面図を図4に示す。
基材11としては、透明なガラスおよびプラスチックフィルムを用いることができる。プラスチックフィルムとしては、成膜工程および後工程に対して十分な強度があり、表面が平滑なものであれば特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリイミドフィルムなどを用いることができる。これらから使用材料を選択した基材11には、酸化防止剤、帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤、易接着剤などの添加剤を含ませてもよい。また、密着性を良くする為に、基材11の表面にコロナ処理、低温プラズマ処理を施してもよい。
導電層12に用いる導電性材料としては、金、銀、銅、コバルトなど任意の金属を用いることができる。導電層12の形成方法には、特に制限はなく公知の製造方法を用いることができる。導電層12には、例えば、エッチング、印刷、写真銀塩法により細線メッシュパターンを形成する方法や、金、銀、銅の分散液を基材11に塗布して繊維状で網目状の構造を形成する方法を用いることができる。特に溶液に繊維状にして分散させることが可能な導電性材料は、コーターを用いてウェット方式により基材11上に簡便に塗布することができる。そのような場合に、基材11にフィルムを用いれば、ロールtoロール(ロール・ツー・ロール方式)で大量に透明導電性基材15を得ることができるため、好適である。
透明樹脂層13の形成では、樹脂成分として主成分にアクリレートモノマー、オリゴマー、バインダー等を含有した樹脂溶液を塗布し、樹脂溶液に含有される重合開始剤より熱硬化、またはUV硬化によりポリマー化することにより、適度な透明性と強度を有する透明樹脂層13が形成される。本発明では、樹脂溶液中に導電性材料をさらに含有していることを特徴としている。以下、透明樹脂層13に含有される導電性材料について記載する。
透明樹脂層13に含有される導電性材料としては、導電性高分子が好適に用いられる。導電性高分子としては、主にπ共役系高分子が用いられ、例えばポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリフェニレンスルフィド、ポリピリジルビニレン、及びポリアジン等を用いることができる。これらの導電性高分子は、1種のみを用いてもよく、また、目的に応じて2種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記記載のπ共役系高分子では、それ単独では導電性が発現せず、ドーパントを添加することによりプラスまたはマイナスの電荷がπ共役系高分子に付与されて導電性を持つ場合もある。従って、ドーパントを加えてもよい。例えば、π共役系高分子がポリジオキシチオフェンの場合は、ポリスチレンスルホン酸をドーパントとして添加することができる。
また、透明樹脂層13の形成のための樹脂溶液には、導電性高分子の分散性をよくするために分散剤や界面活性剤等の添加剤を加えてよいし、膜強度を強くするために添加剤を加えたり、膜硬化を促進するための硬化剤を加えたりしてもよい。
樹脂層14としては、透明性と適度な硬度および強度があれば特に限定されるものではない。望ましくは、基材11と屈折率が同等もしくは近似しているものを選択する。また、樹脂層14としては、UV硬化樹脂だけでなく、熱硬化樹脂等も使用することが可能である。
導電層12、透明樹脂層13、及び樹脂層14を基材11に積層する方法として、スピンコート法、ローラコート法、バーコート法、ディップコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、ニーダーコート法等の塗布法や、スクリーン印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法等の印刷法コート等によるコーティングを行うことにより、これらの層が基材11上に塗布される。
導電層12と透明樹脂層13は、別の層として積層されていてもよいし、導電層12の金属の一部が透明樹脂層13中にはみ出していてもよい。
本発明では、配線16の配線材料にも透明樹脂層13に含有される導電性高分子と同一の導電性高分子が含有されることを特徴としている。この配線材料中には、上記導電性高分子の他に、ペースト状にするためにエポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、導電性を発揮するために金、銀、銅等が用いられるが、これに限定されるものではない。配線を施す方法としては、スクリーン印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷などの方法を用いることができる。以上の構成によれば、タッチパネルに用いた場合に、低抵抗と耐久性を両立させ、なおかつ接触抵抗の低い透明導電性基材15を得ることができる。
<実施例>
以下に本発明の実施例を示すが、本発明の技術的範囲は実施例に限られるものではない。
PET基材(125μm)上に、樹脂層14の材料としてUV硬化樹脂を塗布し、その上にグラビア印刷法にて銅をメッシュ状に形成することにより導電層12を形成した。導電層12の上に、ドーパントとしてポリスチレンスルホン酸を含むポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)を含有したアクリルモノマーを主成分とする溶液をマイクログラビアコート法にて塗布して、UV照射にて硬化させて、導電性物質を含有する透明樹脂層13が導電層12上に形成された透明導電性基材15を得た。フォトリソグラフィー法でレジストを塗布し、UV照射による硬化後、塩酸(0.1%)によるエッチング、水酸化ナトリウム溶液(1%)によりレジスト剥離を行い、導電層12と透明樹脂層13のパターニングを行った。これにドーパントとしてポリスチレンスルホン酸を含むポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)を含有したエポキシ樹脂および銀をベースとした導電性ペーストを用いてスクリーン印刷法にて配線16を施した。
この実施例の透明導電性基材15について、導電層12のみの場合の表面抵抗値、透明樹脂層13を積層した後の表面抵抗値(環境試験前の表面抵抗値)、及び環境試験(温度85℃、湿度85%、時間240時間)後の表面抵抗値を測定して、環境試験の前と後の表面抵抗値を用いて、環境試験の前後の表面抵抗値の変化率を算出した。さらに、配線16の印刷後の透明導電性基材15と配線16との接触抵抗を測定した。表面抵抗値は、非接触式表面抵抗測定器(ナプソン株式会社製 EC-80)を用いて測定した。接触抵抗は、ハンディタイプのデジタルマルチメーター(フルーク社製 Fluke179)を用いて測定した。
<比較例>
PET基材(125μm)上に、樹脂層の材料としてUV硬化樹脂を塗布し、その上にグラビア印刷法にて銅をメッシュ状に形成することにより導電層を形成した。導電層の上に、アクリルモノマーを主成分とする溶液をマイクログラビアコート法にて塗布して、UV照射にて硬化させて、導電性物質を含有しない透明樹脂層が導電層上に形成された透明導電性基材を得た。フォトリソグラフィー法でレジストを塗布し、UV照射による硬化後、塩酸(0.1%)によるエッチング、水酸化ナトリウム溶液(1%)によりレジスト剥離を行い、導電層と透明樹脂層のパターニングを行った。これにエポキシ樹脂および銀をベースとした導電性ペーストを用いてスクリーン印刷法にて配線を施した。この比較例の透明導電性基材について、導電層のみの場合の表面抵抗値、透明樹脂層13を積層した後の表面抵抗値(環境試験前の表面抵抗値)、及び環境試験(温度85℃、湿度85%、時間240時間)後の表面抵抗値をそれぞれ測定し、環境試験の前後の表面抵抗値の変化率を算出した。さらに、配線印刷後の透明導電性基材と配線との接触抵抗を測定した。
実施例と比較例における測定結果を表1に示す。実施例では、透明樹脂層を積層した後の透明導電性基材15の表面抵抗値が、導電層のみの表面抵抗値とほぼ変わらず、また、環境試験の前後の表面抵抗値の変化率が小さい。一方、比較例では、透明樹脂層を積層した後の表面抵抗値が、導電層のみの表面抵抗値より上昇しており、環境試験の前後の表面抵抗値の変化率が実施例より大きい。また、透明導電性基材と配線との接触抵抗も、実施例は小さな値であるが、比較例では大きな値となっている。
本発明は、タッチパネルに用いられる透明導電性基材などに有用である。
11 基材
12 導電層
13 透明樹脂層
14 樹脂層
15 透明導電性基材
16 配線

Claims (6)

  1. 透明基材と、
    前記透明基材の片側または両面に設けられた導電層と、
    前記導電層の前記透明基材とは反対側に積層されて、導電性物質を含有する透明樹脂層とを備えている透明導電性基材。
  2. 前記透明樹脂層に含有される導電性物質は、導電性高分子であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電性基材。
  3. 前記導電層は、金属が分散した層であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電性基材。
  4. 前記導電層に対して配線が施されていることを特徴とする、請求項1乃至3の何れか1つに記載の透明導電性積層体。
  5. 前記配線には、前記透明樹脂層に含有される導電性高分子と同一の導電性高分子が含有されていることを特徴とする、請求項4に記載の透明導電性積層体。
  6. 請求項1乃至請求項5の何れか1つに記載の透明導電性基材を備えたタッチパネル。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015219690A (ja) * 2014-05-16 2015-12-07 コニカミノルタ株式会社 透明導電デバイス、及び、タッチパネル
JP2016160115A (ja) * 2015-02-27 2016-09-05 コニカミノルタ株式会社 透明導電部材の選別方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009060717A1 (ja) * 2007-11-07 2009-05-14 Konica Minolta Holdings, Inc. 透明電極及び透明電極の製造方法
JP2009146678A (ja) * 2007-12-13 2009-07-02 Konica Minolta Holdings Inc 透明導電膜、及び透明導電膜の製造方法
WO2011065213A1 (ja) * 2009-11-27 2011-06-03 コニカミノルタホールディングス株式会社 分散液、透明電極、および有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2012164807A (ja) * 2011-02-07 2012-08-30 Shin Etsu Polymer Co Ltd 導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009060717A1 (ja) * 2007-11-07 2009-05-14 Konica Minolta Holdings, Inc. 透明電極及び透明電極の製造方法
JP2009146678A (ja) * 2007-12-13 2009-07-02 Konica Minolta Holdings Inc 透明導電膜、及び透明導電膜の製造方法
WO2011065213A1 (ja) * 2009-11-27 2011-06-03 コニカミノルタホールディングス株式会社 分散液、透明電極、および有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2012164807A (ja) * 2011-02-07 2012-08-30 Shin Etsu Polymer Co Ltd 導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015219690A (ja) * 2014-05-16 2015-12-07 コニカミノルタ株式会社 透明導電デバイス、及び、タッチパネル
JP2016160115A (ja) * 2015-02-27 2016-09-05 コニカミノルタ株式会社 透明導電部材の選別方法

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