JP2014051640A - Printed circuit board composition, and printed circuit board containing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、熱的特性に優れた印刷回路基板用組成物及びこれを含む印刷回路基板に関する。 The present invention relates to a composition for a printed circuit board excellent in thermal characteristics and a printed circuit board containing the composition.
コンピュータ、半導体、ディスプレイ、通信機器などの様々な電子製品には特定の電子回路が印刷された基板が使用されている。基板上には信号伝達のための配線(signal lines)、配線間の短絡などを防止するための絶縁膜(insulating layers)、スイッチング素子(switching element)などが形成されることができる。 Various electronic products such as computers, semiconductors, displays, and communication devices use a substrate on which a specific electronic circuit is printed. On the substrate, signal lines (signal lines), insulating layers for preventing a short circuit between the wires, a switching element, and the like can be formed.
最近では、小型化、高周波化、デジタル化する電子機器の発達により部品及び基板の高集積化と高密度化が要求されている。 Recently, with the development of electronic devices that are miniaturized, increased in frequency, and digitized, higher integration and higher density of components and substrates are required.
印刷回路基板は、ガラス繊維(glass cloth)にエポキシ樹脂を含浸させて半硬化させたプリプレグを回路が形成された内層回路基板上に積層する方式で形成することができる。 The printed circuit board may be formed by laminating a prepreg obtained by impregnating a glass fiber with an epoxy resin and semi-curing the prepreg on the inner circuit board on which the circuit is formed.
または、回路が形成された内層回路基板の回路パターン上に絶縁層を交互に積層して基板を製造するビルドアップ(build−up)工法で製造することができる。ビルドアップ工法は、ビアホール(via hole)を形成して配線密度を増加させ、レーザー加工などで回路を形成し、印刷回路基板の高密度化及び薄板化することができる。 Alternatively, it can be manufactured by a build-up method in which a substrate is manufactured by alternately laminating insulating layers on a circuit pattern of an inner layer circuit board on which a circuit is formed. In the build-up method, a via hole is formed to increase the wiring density, a circuit is formed by laser processing or the like, and the printed circuit board can be densified and thinned.
最近、低重量化、薄板化及び小型化する電子機器の発達により、このような印刷回路基板も高集積化及び高密度化している。これにより電子機器の安定性及び信頼性のために印刷回路基板の電気的、熱的、機械的安定性が重要な要素となっている。 Recently, with the development of electronic devices that are reduced in weight, thickness, and size, such printed circuit boards have also been highly integrated and densified. Accordingly, the electrical, thermal and mechanical stability of the printed circuit board is an important factor for the stability and reliability of the electronic equipment.
本発明は、熱的特性に優れた印刷回路基板用組成物及びこれを含む印刷回路基板を提供する。 The present invention provides a composition for a printed circuit board having excellent thermal characteristics and a printed circuit board including the composition.
本発明の一実施形態は、下記化学式1の構造単位、下記化学式2の構造単位及び下記化学式Dの構造単位を含み、少なくとも一つの末端に下記化学式Eの作用基を含む液晶オリゴマー5〜49wt%と、エポキシ樹脂5〜42wt%と、フィラー30〜90wt%と、を含む印刷回路基板用組成物を提供する。 One embodiment of the present invention includes a structural unit of the following chemical formula 1, a structural unit of the following chemical formula 2, and a structural unit of the following chemical formula D, and a liquid crystal oligomer having a functional group of the following chemical formula E at at least one terminal. And a composition for a printed circuit board comprising 5 to 42 wt% of an epoxy resin and 30 to 90 wt% of a filler.
(化1)
上記化学式1、2、D及びEにおいて、
X1〜X4は互いに同一または異なり、C(=O)O、O、C(=O)NR、NR’またはCO(ここで、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、または置換または非置換のC6〜C30のアリール基である)であり、
Z1及びZ2はそれぞれ独立してヒドロキシ基、置換または非置換のC3〜C30の脂環族基であり、Z3及びZ4は置換または非置換のC3〜C30のヘテロ原子−含有脂環族基であり、
上記n1〜n4はそれぞれ独立して0〜3の整数で、n1+n2+n3+n4は1以上であることができ、
上記化学式1におけるA1は、下記化学式4−1〜4−7で表される作用基のうち一つである。
In the above chemical formulas 1, 2, D and E,
X 1 to X 4 are the same or different from each other, and C (═O) O, O, C (═O) NR, NR ′, or CO (wherein R and R ′ are the same or different from each other, hydrogen, substituted or non-substituted A substituted C1-C20 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group).
Z 1 and Z 2 are each independently a hydroxy group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic group, and Z 3 and Z 4 are substituted or unsubstituted C3-C30 heteroatom-containing alicyclic rings. Family group,
N 1 to n 4 are each independently an integer of 0 to 3, and n 1 + n 2 + n 3 + n 4 may be 1 or more,
A 1 in Formula 1 is one of the functional group represented by the following chemical formula 4-1 to 4-7.
(化4−1)
上記化学式4−7において、L1は2価の有機作用基であり、上記化学式4−1〜化学式4−7において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素は、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(Z1は上記化学式1での定義と同様である)で置換されることができ、
上記化学式2におけるA2は、下記化学式5−1〜5−6で表される作用基のうち一つまたは下記化学式6の作用基を有するC2〜C20のアルキレン基である。
In Chemical Formula 4-7, L 1 is a divalent organic functional group. In Chemical Formula 4-1 to Chemical Formula 4-7, at least one hydrogen of each aromatic ring is halogen, substituted or unsubstituted. C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C7 -C30 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group or Z 1 (Z 1 is as defined in Chemical Formula 1 above),
A 2 in the chemical formula 2 is a C2 to C20 alkylene group having one of the functional groups represented by the following chemical formulas 5-1 to 5-6 or the functional group of the following chemical formula 6.
(化5−1)
上記化学式5−1において、Y1〜Y3は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、但し、Y1〜Y3の少なくとも一つは下記化学式6の作用基で、p1は0〜4の整数であり、m1及びm2は同一または異なり、0〜3の整数であり、p1、m1及びm2は同時に0ではなく、R及びR’は水素またはC1〜C10のアルキル基である。 In the chemical formula 5-1, Y 1 to Y 3 are the same or different and are hydrogen, a C1 to C10 alkyl group, or a functional group of the following chemical formula 6, provided that at least one of Y 1 to Y 3 is represented by the following chemical formula 6 P1 is an integer of 0 to 4, m1 and m2 are the same or different, and are an integer of 0 to 3, p1, m1 and m2 are not simultaneously 0 and R and R ′ are hydrogen or C1 Is a C10 alkyl group.
(化5−2)
上記化学式5−2において、Y4及びY5は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y4及びY5の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であり、p2及びp3は0〜3の整数で、同時に0ではない。 In the above chemical formula 5-2, Y 4 and Y 5 are the same or different and are hydrogen, a C1-C10 alkyl group or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 4 and Y 5 is a function of the following chemical formula 6 P2 and p3 are integers of 0 to 3, and are not 0 at the same time.
(化5−3)
上記化学式5−3において、Y6〜Y8は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y6〜Y8の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であり、p4及びp6は0〜3の整数で、p5は0〜2の整数であり、p4、p5及びp6は同時に0ではない。 In the above chemical formula 5-3, Y 6 to Y 8 are the same or different and are hydrogen, a C1 to C10 alkyl group, or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 6 to Y 8 is a function of the following chemical formula 6 P4 and p6 are integers of 0 to 3, p5 is an integer of 0 to 2, and p4, p5 and p6 are not 0 at the same time.
(化5−4)
上記化学式5−4において、Y9及びY10は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y9及びY10の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であり、p7及びp8は0〜2の整数で、同時に0ではない。 In the above chemical formula 5-4, Y 9 and Y 10 are the same or different and are hydrogen, a C1-C10 alkyl group or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 9 and Y 10 is the function of the following chemical formula 6 P7 and p8 are integers of 0 to 2 and are not 0 at the same time.
(化5−5)
(化5−6)
上記化学式5−6において、Y13及びY14は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y13及びY14の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であり、p11及びp12は0〜4の整数であり、L2はエーテル基、スルファイド基、ケトン基、アミド基、スルホキシド、スルホン基、アゾ基、シアニド基、置換または非置換のC1〜C20のアルキレン基、置換または非置換のC2〜C20のアルケニレン基、置換または非置換のC6〜C30のアリーレン基、少なくとも一つの下記化学式6の作用基で置換または置換されない2価の有機作用基、または下記化学式7−1〜7−3の2価の有機作用基であり、L2が下記化学式6の作用基で置換されない場合、p11及びp12は全て0ではなく、
上記化学式5−1〜5−6において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素は、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(Z1は化学式1での定義と同様である)で置換されることができる。
In the above chemical formula 5-6, Y 13 and Y 14 are the same or different and are hydrogen, a C1-C10 alkyl group or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 13 and Y 14 is the functional formula of the following chemical formula 6. a group, pi 1 and p12 is an integer from 0 to 4, L 2 is an ether group, sulfide group, ketone group, an amide group, a sulfoxide, a sulfone group, an azo group, cyanide group, a substituted or unsubstituted C1~C20 An alkylene group, a substituted or unsubstituted C2-C20 alkenylene group, a substituted or unsubstituted C6-C30 arylene group, a divalent organic functional group that is not substituted or substituted with at least one functional group of the following chemical formula 6, or a divalent organic functional groups of the following formula 7-1 to 7-3, when L 2 is not substituted with a functional group of the following formula 6, pi 1 and p12 All instead of 0,
In the above chemical formulas 5-1 to 5-6, at least one hydrogen of each aromatic ring is a halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted Or an unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, or Z 1 (Z 1 is the same as defined in Chemical Formula 1) can be substituted.
(化6)
上記化学式6において、Ar1及びAr2はC4〜C30の置換または非置換の芳香族環基であり、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、C1〜C20のアルキル基またはC6〜C30のアリール基であり、mは0〜3の整数である。 In Formula 6, Ar 1 and Ar 2 are C4-C30 substituted or unsubstituted aromatic ring groups, and R and R ′ are the same or different from each other, and are hydrogen, C1-C20 alkyl group, or C6-C30 An aryl group, m is an integer of 0 to 3;
(化7−1)
上記化学式7−1において、Rは水素、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、または置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基である。 In Formula 7-1, R is hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, A substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group.
(化7−2)
上記化学式7−2において、Rは水素、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基または置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基である。 In the above chemical formula 7-2, R is hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, A substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group.
(化7−3)
本発明の一実施形態によると、上記化学式4−7のL1は、エーテル基、スルファイド基、ケトン基、スルホキシド、スルホン基、アゾ基、シアニド基、置換または非置換のC1〜C20のアルキレン基、置換または非置換のC2〜C20のアルケニレン基、置換または非置換のC6〜C30のアリーレン基であることができる。 According to one embodiment of the present invention, L 1 in Formula 4-7 is an ether group, a sulfide group, a ketone group, a sulfoxide, a sulfone group, an azo group, a cyanide group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkylene group. A substituted or unsubstituted C2-C20 alkenylene group or a substituted or unsubstituted C6-C30 arylene group.
また、上記化学式5−6のL2は、エーテル基、スルファイド基、ケトン基、アミド基、スルホキシド、スルホン基、アゾ基、シアニド基、置換または非置換のC1〜C20のアルキレン基、置換または非置換のC2〜C20のアルケニレン基、置換または非置換のC6〜C30のアリーレン基、少なくとも一つの上記化学式6の作用基で置換または置換されない2価の有機作用基、または上記化学式7−1〜7−3の2価の有機作用基であることができる。 In addition, L 2 in Formula 5-6 is an ether group, a sulfide group, a ketone group, an amide group, a sulfoxide, a sulfone group, an azo group, a cyanide group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkylene group, a substituted or non-substituted group A substituted C2-C20 alkenylene group, a substituted or unsubstituted C6-C30 arylene group, a divalent organic functional group that is not substituted or substituted with at least one functional group of Formula 6, or the above Formulas 7-1-7 -3, a divalent organic functional group.
上記化学式6は、下記化学式11で表されることができる。 Formula 6 may be represented by Formula 11 below.
(化11)
上記化学式11において、R1及びR2は同一または異なり、水素、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(上記化学式1での定義と同様である)であり、p1及びp2は0〜4の整数であり、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、C1〜C20のアルキル基またはC6〜C30のアリール基であり、mは0〜3の整数である。 In Formula 11, R 1 and R 2 are the same or different and are hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C3- C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6~C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7~C30 arylalkyl group, an aryloxy group, or Z 1 of C6~C30 substituted or unsubstituted (formula 1 P1 and p2 are integers of 0 to 4, and R and R ′ are the same or different from each other, and are hydrogen, a C1 to C20 alkyl group or a C6 to C30 aryl group. , M is an integer of 0-3.
本発明の一実施形態によると、上記液晶オリゴマーは、下記化学式12で表されることができる。 According to an embodiment of the present invention, the liquid crystal oligomer may be represented by the following Formula 12.
(化12)
上記化学式12において、a、b、c、d及びeの構造単位はモル比を意味し、上記液晶オリゴマーの数平均分子量内で決定されることができる。 In the chemical formula 12, the structural units of a, b, c, d and e mean molar ratios, and can be determined within the number average molecular weight of the liquid crystal oligomer.
本発明の一実施形態によると、上記液晶オリゴマーは、下記化学式13で表されることができる。
According to an exemplary embodiment of the present invention, the liquid crystal oligomer may be represented by the following
(化13)
上記化学式13において、a、b、c、d及びeの構造単位はモル比を意味し、上記液晶オリゴマーの数平均分子量内で決定されることができる。
In the
上記液晶オリゴマーと上記エポキシ樹脂の比率(液晶オリゴマー/エポキシ樹脂)は、0.66以上2.33以下であることができる。 The ratio of the liquid crystal oligomer and the epoxy resin (liquid crystal oligomer / epoxy resin) may be 0.66 or more and 2.33 or less.
また、上記化学式Dの構造単位及び上記化学式Eの作用基は、液晶オリゴマー総量に対して5〜40モル%含まれることができる。 In addition, the structural unit of the chemical formula D and the functional group of the chemical formula E may be included in an amount of 5 to 40 mol% with respect to the total amount of the liquid crystal oligomer.
上記エポキシ樹脂は、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール変性ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニル型エポキシ樹脂などのフェノール系グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を有するジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するナフタレン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゾピラン型エポキシ樹脂、ジアミノフェニルメタンなどのポリアミンを原料にしたグリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一つ以上であることができる。 The above epoxy resins are phenolic novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, naphthol modified novolak type epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, triphenyl type epoxy resins, etc. Glycidyl ether type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins having a dicyclopentadiene skeleton, naphthalene type epoxy resins having a naphthalene skeleton, dihydroxybenzopyran type epoxy resins, glycidyl amine type epoxy resins made from polyamines such as diaminophenylmethane , One or more selected from the group consisting of a triphenolmethane type epoxy resin and a tetraphenylethane type epoxy resin.
上記フィラーは、無機フィラー、有機フィラーまたはこれらの混合物であることができる。 The filler can be an inorganic filler, an organic filler, or a mixture thereof.
上記無機フィラーは、特に制限されないが、例えば、アルミナ、アルミニウムナイトライド、ボロンナイトライド、溶融シリカ、シリコンナイトライド、テフロンからなる群より選ばれる一つ以上であることができる。 The inorganic filler is not particularly limited, and may be one or more selected from the group consisting of alumina, aluminum nitride, boron nitride, fused silica, silicon nitride, and Teflon, for example.
上記有機フィラーは、特に制限されないが、例えば、熱可塑性液晶高分子樹脂、セルロース、炭素ナノチューブ、グラフェン、グラファイトからなる群より選ばれる一つ以上であることができる。 The organic filler is not particularly limited, and may be, for example, one or more selected from the group consisting of thermoplastic liquid crystal polymer resin, cellulose, carbon nanotube, graphene, and graphite.
本発明の印刷回路基板用組成物は、硬化剤0.1〜0.5wt%をさらに含むことができる。 The composition for a printed circuit board according to the present invention may further include 0.1 to 0.5 wt% of a curing agent.
本発明のさらに他の実施形態は、絶縁層と、上記絶縁層に形成された回路パターンとを含み、上記絶縁層は下記化学式1の構造単位、下記化学式2の構造単位及び下記化学式Dの構造単位を含み、少なくとも一つの末端に下記化学式Eの作用基を含む液晶オリゴマー5〜49wt%と、エポキシ樹脂5〜42wt%と、フィラー14〜90wt%とを含む組成物からなる印刷回路基板を提供することができる。 Still another embodiment of the present invention includes an insulating layer and a circuit pattern formed on the insulating layer, and the insulating layer includes a structural unit represented by the following chemical formula 1, a structural unit represented by the following chemical formula 2, and a structure represented by the following chemical formula D. Provided is a printed circuit board comprising a composition containing 5 to 49 wt% of a liquid crystal oligomer containing a unit and having a functional group of the following chemical formula E at at least one end, 5 to 42 wt% of an epoxy resin, and 14 to 90 wt% of a filler can do.
(化1)
本発明の他の実施形態は、下記化学式1の構造単位、下記化学式2の構造単位及び下記化学式Dの構造単位を含み、少なくとも一つの末端に下記化学式Eの作用基を含む液晶オリゴマー5〜49wt%と、エポキシ樹脂5〜42wt%と、を含むシート状フィルムを提供することができる。 In another embodiment of the present invention, a liquid crystal oligomer having a structural unit represented by the following chemical formula 1, a structural unit represented by the following chemical formula 2, and a structural unit represented by the following chemical formula D and having a functional group represented by the following chemical formula E at at least one end: % And an epoxy resin of 5 to 42 wt% can be provided.
本発明によると、低い熱膨張係数を有し、高耐熱性を有する印刷回路基板用組成物及びこれを適用した印刷回路基板を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composition for printed circuit boards which has a low thermal expansion coefficient and has high heat resistance, and the printed circuit board which applied this can be provided.
以下、添付の図面を参照し、本発明の好ましい実施形態を説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
しかし、本発明の実施形態は、様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されるものではない。 However, the embodiments of the present invention can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below.
また、本発明の実施形態は、当技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。 In addition, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art.
従って、図面における要素の形状及びサイズなどは、より明確な説明のために誇張されることがあり、図面上に同じ符号で示される要素は同じ要素である。 Accordingly, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for a clearer description, and elements denoted by the same reference numerals in the drawings are the same elements.
また、類似する機能及び作用をする部分に対しては図面全体にわたって同じ符号を使用する。 In addition, the same reference numerals are used throughout the drawings for parts having similar functions and operations.
さらに、全明細書において、ある構成要素を「含む」とは、特に反対する記載がない限り、他の構成要素を除くのではなく、他の構成要素をさらに含むことができるということを意味する。 Further, in all the specifications, “comprising” a certain component means that the component can further include other components rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary. .
本明細書において特に言及しない限り、「置換」とは、化合物または作用基中の水素原子がハロゲン(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバミル基、チオール基、エステル基、カルボキシル基またはその塩、スルホン酸基またはその塩、リン酸またはその塩、C1〜C20のアルキル基、C2〜C16のアルキニル基、C6〜C20のアリール基、C7〜C13のアリールアルキル基、C1〜C4のオキシアルキル基、C1〜C20のヘテロアルキル基、C3〜C20のヘテロアリールアルキル基、C3〜C20のシクロアルキル基、C3〜C15のシクロアルケニル基、C6〜C15のシクロアルキニル基、ヘテロシクロアルキル基またはこれらの組み合わせの置換基で置換されたことを意味する。 Unless otherwise specified herein, “substituted” means that a hydrogen atom in a compound or a functional group is halogen (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group, Azido group, amidino group, hydrazino group, hydrazono group, carbonyl group, carbamyl group, thiol group, ester group, carboxyl group or salt thereof, sulfonic acid group or salt thereof, phosphoric acid or salt thereof, C1-C20 alkyl group, C2-C16 alkynyl group, C6-C20 aryl group, C7-C13 arylalkyl group, C1-C4 oxyalkyl group, C1-C20 heteroalkyl group, C3-C20 heteroarylalkyl group, C3-C20 A cycloalkyl group, a C3-C15 cycloalkenyl group, a C6-C15 cycloalkynyl group, B means that has been substituted with a cycloalkyl group or a combination of substituents thereof.
本明細書において特に言及しない限り、「ヘテロ」とは、環内にN、O、S、SiまたはPのヘテロ原子が1〜3個存在することを意味する。 Unless otherwise specified herein, “hetero” means that 1 to 3 hetero atoms of N, O, S, Si, or P are present in the ring.
本明細書において特に言及しない限り、「脂環族基」とは、C3〜C30のシクロアルキル基、C3〜C30のシクロアルケニル基、C3〜C30のシクロアルキニル基、C3〜C30のヘテロシクロアルキル基、C3〜C30のヘテロシクロアルケニル基、C3〜C30のヘテロシクロアルキニル基などを意味する。 Unless otherwise specified in this specification, the “alicyclic group” means a C3-C30 cycloalkyl group, a C3-C30 cycloalkenyl group, a C3-C30 cycloalkynyl group, a C3-C30 heterocycloalkyl group. , C3-C30 heterocycloalkenyl group, C3-C30 heterocycloalkynyl group and the like.
本明細書において特に言及しない限り、「芳香族環基」とは、不飽和結合(unsaturated bonds)、非共有電子対(lone pairs)などが混合された環構造を有し、電子が非局在化(delocalization)したり、共鳴(resonance)構造となる形態の作用基のことで、C6〜C30のアリール基、C2〜C30のヘテロアリール基及びC2〜C30のヘテロシクロアルケニル基を意味する。 Unless otherwise specified in this specification, an “aromatic ring group” means a ring structure in which unsaturated bonds, unpaired electron pairs, etc. are mixed, and electrons are non-localized. A functional group in the form of delocalization or resonance structure means a C6-C30 aryl group, a C2-C30 heteroaryl group and a C2-C30 heterocycloalkenyl group.
図1は、本発明一実施形態による印刷回路基板を概略的に示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
図1を参照すると、本実施形態による印刷回路基板は、第1〜第3絶縁層11、12、13と、第1〜第3絶縁層11、12、13の片面または両面に形成された回路パターンとしての水平配線21と、ビア電極22と、を含むことができる。
Referring to FIG. 1, the printed circuit board according to the present embodiment includes a circuit formed on one side or both sides of first to third insulating
例えば、中間層としての第1絶縁層11を設け、第1絶縁層11の上面及び下面にそれぞれ第2絶縁層12及び第3絶縁層13を積層し、基板の本体を形成することができる。
For example, the first insulating layer 11 as an intermediate layer may be provided, and the second insulating layer 12 and the third insulating
第1〜第3絶縁層11、12、13の片面または両面には少なくとも一つの水平配線21が形成され、ビア電極22は第1〜第3絶縁層11、12、13を垂直に貫通して連結されることで、それぞれの水平配線21を電気的に接続させる役割をする。
At least one
一方、本実施形態では、4層構造の印刷回路基板を図示しているが、本発明はこれに制限されず、積層される絶縁層の数及び形成される回路パターンにより単層または2層以上の多層配線基板に構成してもよい。 On the other hand, in the present embodiment, a printed circuit board having a four-layer structure is illustrated, but the present invention is not limited to this, and a single layer or two or more layers depending on the number of insulating layers to be stacked and a circuit pattern to be formed. A multilayer wiring board may be used.
このような印刷回路基板の第1〜第3絶縁層11、12、13は、以下で詳しく説明する本発明の一実施形態による組成物で形成することができる。
The first to third insulating
このとき、第1〜第3絶縁層11、12、13は、本発明の一実施形態による組成物に補強材を含浸したプリプレグ(Prepreg)で構成してもよい。
At this time, the first to third insulating
上記のように本実施形態による組成物で印刷回路基板を構成する場合、印刷回路基板が低重量化、薄板化及び小型化しても電気的、熱的及び機械的安定性が確保できるという効果が基待できる。 As described above, when the printed circuit board is composed of the composition according to the present embodiment, the electrical, thermal and mechanical stability can be ensured even if the printed circuit board is reduced in weight, thickness and size. I can look forward to it.
以下、本発明の一実施形態による印刷回路基板用組成物の構成成分とこれによる特性をより具体的に説明する。 Hereinafter, the components of the composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention and the characteristics thereof will be described more specifically.
本発明の一実施形態による印刷回路基板用組成物は(A)液晶オリゴマーと、(B)エポキシ樹脂と、(C)フィラーとを含むことができる。 The composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may include (A) a liquid crystal oligomer, (B) an epoxy resin, and (C) a filler.
(A)液晶オリゴマー
本実施形態による印刷回路基板用組成物に含まれる液晶オリゴマーは、下記化学式1の構造単位、下記化学式2の構造単位及び下記化学式Dの構造単位を含み、少なくとも一つの末端に下記化学式Eの作用基を含むことができる。
(A) Liquid Crystal Oligomer The liquid crystal oligomer contained in the composition for a printed circuit board according to the present embodiment includes a structural unit represented by the following chemical formula 1, a structural unit represented by the following chemical formula 2, and a structural unit represented by the following chemical formula D. The functional group of the following chemical formula E can be included.
(化1)
上記化学式1、2、D及びEにおいて、
X1〜X4は互いに同一または異なり、C(=O)O、O、C(=O)NR、NR’またはCO(ここで、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基または置換または非置換のC6〜C30のアリール基である)であることができる。
In the above chemical formulas 1, 2, D and E,
X 1 to X 4 are the same or different from each other, and C (═O) O, O, C (═O) NR, NR ′, or CO (wherein R and R ′ are the same or different from each other, hydrogen, substituted or non-substituted A substituted C1-C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group).
Z1及びZ2はそれぞれ独立してヒドロキシ基、置換または非置換のC3〜C30の脂環族基であり、Z3及びZ4は置換または非置換のC3〜C30のヘテロ原子−含有脂環族基であることができる。 Z 1 and Z 2 are each independently a hydroxy group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic group, and Z 3 and Z 4 are substituted or unsubstituted C3-C30 heteroatom-containing alicyclic rings. It can be a group.
上記n1〜n4はそれぞれ独立して0〜3の整数で、n1+n2+n3+n4は1以上であることができる。 N 1 to n 4 are each independently an integer of 0 to 3, and n 1 + n 2 + n 3 + n 4 may be 1 or more.
上記化学式1におけるA1は、下記化学式4−1〜4−7で表される作用基のうち一つであることができる。 A 1 in Formula 1 can be one of the functional group represented by the following chemical formula 4-1 to 4-7.
上記A1は、主鎖に結合される芳香族環の両方結合基がオルト(ortho)またはメタ(meta)位置にあることができる。 In the above A 1 , both bonding groups of the aromatic ring bonded to the main chain may be in the ortho or meta position.
このようなねじれ(kink)構造を有する芳香族構造単位は、液晶オリゴマーの主鎖に繰り返して導入されることができる。 An aromatic structural unit having such a kink structure can be repeatedly introduced into the main chain of the liquid crystal oligomer.
即ち、ねじれ構造の導入により液晶オリゴマーの主鎖は線形性が減少する。これにより主鎖間の相互作用と結晶性が減少し、溶媒に対する溶解度が向上することができる。 That is, the linearity of the main chain of the liquid crystal oligomer decreases due to the introduction of the twisted structure. Thereby, the interaction between the main chains and the crystallinity are reduced, and the solubility in the solvent can be improved.
(化4−1)
上記化学式4−7において、L1は2価の有機作用基であり、上記化学式4−1〜化学式4−7において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素は、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(Z1は上記化学式1での定義と同様である)で置換されることができる。 In Chemical Formula 4-7, L 1 is a divalent organic functional group. In Chemical Formula 4-1 to Chemical Formula 4-7, at least one hydrogen of each aromatic ring is halogen, substituted or unsubstituted. C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C7 It can be substituted with a -C30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group or Z 1 (Z 1 is as defined in Chemical Formula 1 above).
上記化学式2において、A2は下記化学式5−1〜5−6で表される作用基のうち一つまたは下記化学式6の作用基を有するC2〜C20のアルキレン基であることができる。 In the chemical formula 2, A 2 may be one of the functional groups represented by the following chemical formulas 5-1 to 5-6 or a C2 to C20 alkylene group having the functional group of the following chemical formula 6.
(化5−1)
上記化学式5−1において、Y1〜Y3は同一または異なってもよく、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基である。但し、Y1〜Y3の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であり、p1は0〜4の整数であり、m1及びm2は同一または異なり、0〜3の整数であり、p1、m1及びm2は同時に0ではなく、R及びR’は水素またはC1〜C10のアルキル基であることができる。 In the chemical formula 5-1, Y 1 to Y 3 may be the same or different, and are hydrogen, a C1 to C10 alkyl group, or a functional group of the following chemical formula 6. However, at least one of Y 1 to Y 3 is a functional group of the following chemical formula 6, p1 is an integer of 0 to 4, m1 and m2 are the same or different, and are an integer of 0 to 3, p1, m1 And m2 are not simultaneously 0 and R and R ′ can be hydrogen or a C1-C10 alkyl group.
(化5−2)
上記化学式5−2において、Y4及びY5は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y4及びY5の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であることができる。p2及びp3は0〜3の整数で、同時に0ではない。 In the above chemical formula 5-2, Y 4 and Y 5 are the same or different and are hydrogen, a C1-C10 alkyl group or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 4 and Y 5 is a function of the following chemical formula 6 Can be a group. p2 and p3 are integers of 0 to 3, and are not 0 at the same time.
(化5−3)
上記化学式5−3において、Y6〜Y8は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y6〜Y8の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であることができる。p4及びp6は0〜3の整数であり、p5は0〜2の整数であり、p4、p5及びp6は同時に0ではない。 In the above chemical formula 5-3, Y 6 to Y 8 are the same or different and are hydrogen, a C1 to C10 alkyl group, or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 6 to Y 8 is a function of the following chemical formula 6 Can be a group. p4 and p6 are integers of 0 to 3, p5 is an integer of 0 to 2, and p4, p5 and p6 are not 0 at the same time.
(化5−4)
上記化学式5−4において、Y9及びY10は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y9及びY10の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であることができる。p7及びp8は0〜2の整数で、同時に0ではない。 In the above chemical formula 5-4, Y 9 and Y 10 are the same or different and are hydrogen, a C1-C10 alkyl group or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 9 and Y 10 is the function of the following chemical formula 6 Can be a group. p7 and p8 are integers of 0 to 2, and are not 0 at the same time.
(化5−5)
上記化学式5−5において、Y11及びY12は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y11及びY12の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であることができる。p9及びp10は0〜4の整数で、同時に0ではない。 In Formula 5-5, Y 11 and Y 12 are the same or different and are hydrogen, a C1-C10 alkyl group, or a functional group of the following Chemical Formula 6, and at least one of Y 11 and Y 12 is the function of Chemical Formula 6 below. Can be a group. p9 and p10 are integers of 0 to 4, and are not 0 at the same time.
(化5−6)
上記化学式5−6において、Y13及びY14は同一または異なり、水素、C1〜C10のアルキル基または下記化学式6の作用基であり、Y13及びY14の少なくとも一つは下記化学式6の作用基であり、p11及びp12は0〜4の整数であり、L2はエーテル基、スルファイド基、ケトン基、アミド基、スルホキシド、スルホン基、アゾ基、シアニド基、置換または非置換のC1〜C20のアルキレン基、置換または非置換のC2〜C20のアルケニレン基、置換または非置換のC6〜C30のアリーレン基、少なくとも一つの下記化学式6の作用基で置換または置換されない2価の有機作用基、または下記化学式7−1〜7−3の2価の有機作用基であることができる。上記L2が下記化学式6の作用基で置換されない場合、p11及びp12は全て0ではない。 In the above chemical formula 5-6, Y 13 and Y 14 are the same or different and are hydrogen, a C1-C10 alkyl group or a functional group of the following chemical formula 6, and at least one of Y 13 and Y 14 is the functional formula of the following chemical formula 6. a group, pi 1 and p12 is an integer from 0 to 4, L 2 is an ether group, sulfide group, ketone group, an amide group, a sulfoxide, a sulfone group, an azo group, cyanide group, a substituted or unsubstituted C1~C20 An alkylene group, a substituted or unsubstituted C2-C20 alkenylene group, a substituted or unsubstituted C6-C30 arylene group, a divalent organic functional group that is not substituted or substituted with at least one functional group of the following chemical formula 6, or It can be a divalent organic functional group of the following chemical formulas 7-1 to 7-3. When L 2 is not substituted with the functional group of the following chemical formula 6, p11 and p12 are not all 0.
上記化学式5−1〜5−6において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素は、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(Z1は化学式1での定義と同様である)で置換されることができる。 In the above chemical formulas 5-1 to 5-6, at least one hydrogen of each aromatic ring is a halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted Or an unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, or Z 1 (Z 1 is the same as defined in Chemical Formula 1) can be substituted.
(化6)
上記化学式6において、Ar1及びAr2はC4〜C30の置換または非置換の芳香族環基であり、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、C1〜C20のアルキル基またはC6〜C30のアリール基であることができ、mは0〜3の整数である。 In Formula 6, Ar 1 and Ar 2 are C4-C30 substituted or unsubstituted aromatic ring groups, and R and R ′ are the same or different from each other, and are hydrogen, C1-C20 alkyl group, or C6-C30 It can be an aryl group, and m is an integer of 0-3.
(化7−1)
上記化学式7−1において、Rは水素、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、または置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基であることができる。 In Formula 7-1, R is hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, It can be a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group.
(化7−2)
上記化学式7−2において、Rは水素、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、または置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基であることができる。 In the above chemical formula 7-2, R is hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, It can be a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group.
(化7−3)
上記化学式7−3は本発明のさらに他の実施形態であって、Rがなくてもよい。 Formula 7-3 is still another embodiment of the present invention, and R may not be present.
上記液晶オリゴマーの数平均分子量は500〜約10,000g/molであることができる。上記液晶オリゴマーが上記範囲の数平均分子量を有する場合、適切な架橋密度を有し、溶媒に対する溶解度特性に優れ、プリプレグ製造のために網状構造に含浸したとき、固形分の含量が十分となり、優れた物性を確保することができる。 The number average molecular weight of the liquid crystal oligomer may be 500 to about 10,000 g / mol. When the liquid crystal oligomer has a number average molecular weight in the above range, it has an appropriate crosslinking density, excellent solubility characteristics in a solvent, and when impregnated into a network structure for prepreg production, the solid content is sufficient and excellent The physical properties can be secured.
上記化学式Dの構造単位及び化学式Eの作用基は、液晶オリゴマー総量に対し、5〜40モル%含まれることができる。5モル%未満含まれる場合、熱膨張係数の減少効果が明らかではなく、5モル%から40モル%まで熱膨脹係数が減少する傾向を示す。40モル%を超えて含まれる場合、熱膨張係数が減少する傾向が現われず、液晶オリゴマーの機械的物性が低下することがある。 The structural unit of the chemical formula D and the functional group of the chemical formula E may be included in an amount of 5 to 40 mol% with respect to the total amount of the liquid crystal oligomer. When the content is less than 5 mol%, the effect of reducing the thermal expansion coefficient is not clear, and the thermal expansion coefficient tends to decrease from 5 mol% to 40 mol%. When it exceeds 40 mol%, the tendency for the thermal expansion coefficient to decrease does not appear, and the mechanical properties of the liquid crystal oligomer may decrease.
上記化学式4−7のL1はエーテル基、スルファイド基、ケトン基、スルホキシド、スルホン基、アゾ基、シアニド基、置換または非置換のC1〜C20のアルキレン基、置換または非置換のC2〜C20のアルケニレン基、置換または非置換のC6〜C30のアリーレン基などであることができる。L1は、具体的には、下記化学式9−1〜9−10で表されるものの何れか一つであることができる。 L 1 in Formula 4-7 is an ether group, a sulfide group, a ketone group, a sulfoxide, a sulfone group, an azo group, a cyanide group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a substituted or unsubstituted C2 to C20. It may be an alkenylene group, a substituted or unsubstituted C6-C30 arylene group, and the like. Specifically, L 1 may be any one of those represented by the following chemical formulas 9-1 to 9-10.
(化9−1)
上記化学式9−2において、Ra及びRbはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基、C1〜C5のハロアルキル基またはZ1(上記化学式1での定義と同様である)であることができる。 In the chemical formula 9-2, R a and R b are each independently hydrogen, halogen, a C1-C5 alkyl group, a C1-C5 haloalkyl group, or Z 1 (same as defined in the chemical formula 1). Can be.
(化9−3)
上記化学式9−5において、Raは水素、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基、C1〜C5のハロアルキル基またはZ1(Z1は化学式1での定義と同様である)である。 In the chemical formula 9-5, R a is hydrogen, halogen, a C1-C5 alkyl group, a C1-C5 haloalkyl group, or Z 1 (Z 1 is the same as defined in the chemical formula 1).
(化9−6)
上記化学式9−6において、Ra及びRbはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基、C1〜C5のハロアルキル基またはZ1(上記化学式1での定義と同様である)である。 In Formula 9-6, R a and R b are each independently hydrogen, halogen, a C1-C5 alkyl group, a C1-C5 haloalkyl group, or Z 1 (same as defined in Formula 1 above). is there.
(化9−7)
上記化学式9−7において、Ra及びRbはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基、C1〜C5のハロアルキル基またはZ1(上記化学式1での定義と同様である)である。 In the chemical formula 9-7, R a and R b are each independently hydrogen, halogen, a C1-C5 alkyl group, a C1-C5 haloalkyl group, or Z 1 (same as defined in the chemical formula 1). is there.
(化9−8)
上記化学式9−8において、E1及びE2は互いに同一または異なり、単一結合、エーテル基、エステル基、ケトン基、スルファイド基、スルホキシド及びスルホン基からなる群より選択される結合基である。 In the chemical formula 9-8, E 1 and E 2 are the same or different from each other and are a linking group selected from the group consisting of a single bond, an ether group, an ester group, a ketone group, a sulfide group, a sulfoxide and a sulfone group.
(化9−9)
上記化学式9−9において、Ra及びRbはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基、C1〜C5のハロアルキル基またはZ1(上記化学式1での定義と同様である)であり、E1及びE2は互いに同一または異なり、単一結合、エーテル基、エステル基、ケトン基、スルファイド基、スルホキシド及びスルホン基からなる群より選択される結合基である。 In Chemical Formula 9-9, R a and R b are each independently hydrogen, halogen, a C1-C5 alkyl group, a C1-C5 haloalkyl group, or Z 1 (same as defined in Chemical Formula 1 above). E 1 and E 2 are the same or different from each other, and are a linking group selected from the group consisting of a single bond, an ether group, an ester group, a ketone group, a sulfide group, a sulfoxide and a sulfone group.
(化9−10)
上記化学式9−10において、E1及びE2はそれぞれ独立して単一結合、エーテル基、エステル基、ケトン基、スルファイド基、スルホキシド及びスルホン基からなる群より選択される結合基である。 In the chemical formulas 9-10, E 1 and E 2 are each independently a linking group selected from the group consisting of a single bond, an ether group, an ester group, a ketone group, a sulfide group, a sulfoxide, and a sulfone group.
上記化学式9−8〜9−10において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素はハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(上記化学式1での定義と同様である)で置換されることができる。 In the above chemical formulas 9-8 to 9-10, at least one hydrogen of each aromatic ring is halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, substituted or Unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group or Z 1 (same as defined in Chemical Formula 1 above).
上記化学式5−6のL2はエーテル基、スルファイド基、ケトン基、アミド基、スルホキシド、スルホン基、アゾ基、シアニド基、置換または非置換のC1〜C20のアルキレン基、置換または非置換のC2〜C20のアルケニレン基、置換または非置換のC6〜C30のアリーレン基、少なくとも一つの上記化学式6の作用基で置換または置換されない2価の有機作用基、または上記化学式7−1〜7−3の2価の有機作用基である。 L 2 in Formula 5-6 is an ether group, a sulfide group, a ketone group, an amide group, a sulfoxide, a sulfone group, an azo group, a cyanide group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkylene group, a substituted or unsubstituted C2 ~ C20 alkenylene group, substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group, divalent organic functional group not substituted or substituted with at least one functional group of Chemical Formula 6 above, or Chemical Formulas 7-1 to 7-3 above It is a divalent organic functional group.
上記L2は、例えば、上記化学式9−1〜9−10で表されるものの何れか一つであることができる。上記化学式9−2、9−5、9−6、9−7及び9−9において、Ra及びRbはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基、C1〜C5のハロアルキル基、Z1(上記化学式1での定義と同様である)または上記化学式6の作用基であり、上記化学式9−8〜9−10において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素はハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基、Z1(上記化学式1での定義と同様である)または上記化学式6の作用基で置換されることができる。 The L 2 may be any one of those represented by the chemical formulas 9-1 to 9-10, for example. In the chemical formulas 9-2, 9-5, 9-6, 9-7 and 9-9, R a and R b are each independently hydrogen, halogen, a C1-C5 alkyl group, or a C1-C5 haloalkyl group. , Z 1 (similar to the definition in Chemical Formula 1 above) or the functional group of Chemical Formula 6 in which at least one hydrogen of each aromatic ring is a halogen atom, a substituted group in Chemical Formulas 9-8 to 9-10 Or an unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted arylalkyl group C7 to C30, substituted or unsubstituted aryloxy group C6 to C30, (which is the same as defined in formula 1) Z 1 or the chemical formula It may be substituted with functional groups.
上記化学式6の具体的な例としては、上記化学式11を挙げることができる。 As a specific example of the chemical formula 6, the chemical formula 11 can be given.
(化11)
上記化学式11において、R1及びR2は同一または異なり、水素、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(上記化学式1での定義と同様である)であり、p1及びp2は0〜4の整数であり、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、C1〜C20のアルキル基またはC6〜C30のアリール基であり、mは0〜3の整数である。 In Formula 11, R 1 and R 2 are the same or different and are hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C3- C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6~C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7~C30 arylalkyl group, an aryloxy group, or Z 1 of C6~C30 substituted or unsubstituted (formula 1 P1 and p2 are integers of 0 to 4, and R and R ′ are the same or different from each other, and are hydrogen, a C1 to C20 alkyl group or a C6 to C30 aryl group. , M is an integer of 0-3.
本発明の一実施形態によると、上記液晶オリゴマーは、測鎖または末端のみではなく、主鎖にも硬化可能な作用基を含むことができる。上記作用基は、ヒドロキシ基、炭素間の二重結合及び炭素間の三重結合を含むことができる。特に、主鎖に硬化可能な作用基を含むことで、液晶オリゴマー間に硬化が起きることがあり、これにより熱膨張係数が低い基板用組成物を提供することができる。 According to an embodiment of the present invention, the liquid crystal oligomer may include a functional group that is curable not only in the chain or terminal but also in the main chain. The functional group can include a hydroxy group, a carbon-carbon double bond, and a carbon-carbon triple bond. In particular, by including a curable functional group in the main chain, curing may occur between the liquid crystal oligomers, thereby providing a composition for a substrate having a low thermal expansion coefficient.
また、液晶オリゴマーの主鎖または測鎖にリンを含む作用基を含む場合、絶縁性樹脂組成物の難燃性をより向上させることができる。 Moreover, the flame retardance of an insulating resin composition can be improved more, when the functional group containing phosphorus is included in the principal chain or measuring chain of a liquid crystal oligomer.
また、本発明の一実施形態による液晶オリゴマーは、下記化学式12で表されることができる。 In addition, the liquid crystal oligomer according to an embodiment of the present invention may be represented by the following chemical formula 12.
(化12)
上記化学式12において、a、b、c、d及びeは構造単位のモル比を意味し、出発物質の含量により決定されることができる。 In the above chemical formula 12, a, b, c, d and e mean the molar ratio of structural units and can be determined by the content of the starting material.
上記化学式12で表される液晶オリゴマーは両末端にヒドロキシ基を含み、測鎖にリンを含む作用基を、主鎖にエチレン構造を有するフェルラ酸群を含む。主鎖に含まれたエチレン構造の二重結合は、組成物内に含まれたオリゴマー間の硬化反応を可能にする。 The liquid crystal oligomer represented by the chemical formula 12 contains a hydroxyl group at both ends, a functional group containing phosphorus in the chain, and a ferulic acid group having an ethylene structure in the main chain. The double bond of the ethylene structure contained in the main chain enables a curing reaction between the oligomers contained in the composition.
本発明のさらに他の一実施形態による液晶オリゴマーは、下記化学式13で表されることができる。
The liquid crystal oligomer according to another embodiment of the present invention may be represented by the following
(化13)」
上記化学式13で表される液晶オリゴマーは両末端にヒドロキシ基を含み、測鎖にリンを含む作用基を、主鎖にアセチレン構造を有するフェルラ酸群を含む。主鎖に含まれたアセチレン構造の三重結合は、組成物内に含まれたオリゴマー間の硬化反応を可能にする。
The liquid crystal oligomer represented by the
上記化学式12または13の液晶オリゴマーは、光硬化により液晶オリゴマー間の硬化が可能であるという特徴を有する。
The liquid crystal oligomer of the
(B)エポキシ樹脂
本実施形態による印刷回路基板用樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含むことができる。
(B) Epoxy Resin The resin composition for a printed circuit board according to the present embodiment can contain an epoxy resin.
上記エポキシ樹脂は、特に制限されないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール変性ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニル型エポキシ樹脂などのフェノール系グリシジルエーテル型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン骨格を有するジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;ナフタレン骨格を有するナフタレン型エポキシ樹脂;ジヒドロキシベンゾピラン型エポキシ樹脂;ジアミノフェニルメタンなどのポリアミンを原料にしたグリシジルアミン型エポキシ樹脂;トリフェノールメタン型エポキシ樹脂;テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂;またはこれらの混合物などを挙げることができる。 The epoxy resin is not particularly limited. For example, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, naphthol modified novolac epoxy resin, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, biphenyl epoxy resin, triphenyl Phenolic glycidyl ether type epoxy resin such as epoxy resin; dicyclopentadiene type epoxy resin having dicyclopentadiene skeleton; naphthalene type epoxy resin having naphthalene skeleton; dihydroxybenzopyran type epoxy resin; polyamine such as diaminophenylmethane Glycidylamine type epoxy resin; triphenolmethane type epoxy resin; tetraphenylethane type epoxy resin; or a mixture thereof. Rukoto can.
より具体的には、上記エポキシ樹脂は、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−メチレンビスベンゼンアミン(N,N,N’,N’−Tetraglycidyl−4,4’−methylenebisbenzenamine)、グリシジルエーテル型o−クレゾール−フォルムアルデヒドノボラック(Polyglycidyl ether of o−cresol−formaldehyde novolac)またはこれらの混合物であることができる。 More specifically, the epoxy resin is N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-methylenebisbenzenamine (N, N, N ′, N′-tetragylcydyl-4,4 ′. -Methylenebisbenzenamine), glycidyl ether type o-cresol-formaldehyde novolac, or a mixture thereof.
上記エポキシ樹脂は、液晶オリゴマーとエポキシ樹脂の比率(液晶オリゴマー/エポキシ樹脂)が0.66以上2.33以下になるよう含まれることができる。エポキシ樹脂が多くなるほど、熱膨張係数は減少するが、液晶オリゴマーとエポキシ樹脂の比率(液晶オリゴマー/エポキシ樹脂)が0.66未満の範囲では、熱膨張係数の減少効果が著しく減少し、誘電率が急激に高くなるため、薄層型基板材料として使用するには適さない。また、液晶オリゴマーとエポキシ樹脂の比率(液晶オリゴマー/エポキシ樹脂)が2.33を超えるようにエポキシ樹脂の含量を減少させると、硬化構造を形成し難いため、熱膨張係数が著しく高くなる。 The epoxy resin may be included such that the ratio of the liquid crystal oligomer to the epoxy resin (liquid crystal oligomer / epoxy resin) is 0.66 or more and 2.33 or less. As the epoxy resin increases, the thermal expansion coefficient decreases. However, when the ratio of the liquid crystal oligomer to the epoxy resin (liquid crystal oligomer / epoxy resin) is less than 0.66, the effect of reducing the thermal expansion coefficient is remarkably reduced, and the dielectric constant. Is not suitable for use as a thin-layer substrate material. Further, if the content of the epoxy resin is reduced so that the ratio of the liquid crystal oligomer to the epoxy resin (liquid crystal oligomer / epoxy resin) exceeds 2.33, it is difficult to form a cured structure, and thus the thermal expansion coefficient is remarkably increased.
(C)フィラー
本発明による印刷回路基板用組成物は無機フィラー、有機フィラーまたはこれらの混合物を含むことができる。
(C) Filler The printed circuit board composition according to the present invention may contain an inorganic filler, an organic filler, or a mixture thereof.
上記無機フィラーは、特に制限されないが、例えば、アルミナ、アルミニウムナイトライド、ボロンナイトライド、溶融シリカ、シリコンナイトライド、テフロンからなる群より選ばれる一つ以上を含むことができる。 The inorganic filler is not particularly limited, but may include one or more selected from the group consisting of alumina, aluminum nitride, boron nitride, fused silica, silicon nitride, and Teflon, for example.
上記無機フィラーは、印刷回路基板用組成物中に30〜90wt%含まれることができる。無機フィラーが30wt%未満含まれると、熱膨張係数の減少効果が少なくて超薄層基板材料用への使用に適さず、無機フィラーが90wt%を超えて含まれると、液晶オリゴマー及びエポキシ樹脂を含む組成物の製造が困難となることがあり、組成物の接着強度が減少して層間接合が困難となることがある。 The inorganic filler may be included in the printed circuit board composition in an amount of 30 to 90 wt%. If the inorganic filler is contained in an amount of less than 30 wt%, the effect of reducing the thermal expansion coefficient is small and is not suitable for use as an ultrathin layer substrate material. If the inorganic filler is contained in an amount exceeding 90 wt%, the liquid crystal oligomer and the epoxy resin are added. In some cases, it may be difficult to produce the composition, and the adhesive strength of the composition may be reduced, making interlayer bonding difficult.
上記有機フィラーは特に制限されないが、例えば、熱可塑性液晶高分子樹脂、セルロース、炭素ナノチューブ、グラフェン、グラファイトからなる群より選ばれる一つ以上または混合フィラーを含むことができる。 The organic filler is not particularly limited, and may include, for example, one or more fillers selected from the group consisting of thermoplastic liquid crystal polymer resins, cellulose, carbon nanotubes, graphene, and graphite, or mixed fillers.
上記有機フィラーは、印刷回路基板用組成物中に30〜90wt%含まれることができる。有機フィラーが30wt%未満含まれると、熱膨張係数の減少効果が少なくて超薄層基板材料用への使用に適さず、有機フィラーが90wt%を超えて含まれると、有機フィラーの高誘電率特徴により絶縁特性が低下することがあり、液晶オリゴマー及びエポキシ樹脂を含む組成物の製造が困難となることがあり、組成物の接着強度が減少して層間接合が困難となることがある。 The organic filler may be included in the printed circuit board composition in an amount of 30 to 90 wt%. If the organic filler is contained in an amount of less than 30 wt%, the effect of reducing the thermal expansion coefficient is small and is not suitable for use in an ultra-thin layer substrate material. If the organic filler is contained in an amount of more than 90 wt%, the organic filler has a high dielectric constant. Depending on the characteristics, the insulating properties may be deteriorated, it may be difficult to produce a composition containing a liquid crystal oligomer and an epoxy resin, and the adhesive strength of the composition may be reduced, making interlayer bonding difficult.
(D)その他補強材
本発明による印刷回路基板用組成物はその他補強材を含むことができる。その他補強材は、特に制限されないが、例えば、ガラス繊維、アラミドなどの熱可塑性液晶高分子繊維、クオーツ繊維などからなる群より選ばれる補強材を含むことができる。
(D) Other Reinforcing Material The printed circuit board composition according to the present invention may contain other reinforcing material. The other reinforcing material is not particularly limited, and can include, for example, a reinforcing material selected from the group consisting of glass fiber, thermoplastic liquid crystal polymer fiber such as aramid, quartz fiber and the like.
上記補強材は、液晶オリゴマーとエポキシ樹脂からなる樹脂組成物100重量部に対して、25〜150重量部含まれることができる。補強材が25重量部未満では、熱膨張係数の減少効果が少なくて印刷回路基板として使用することが困難で、補強材が150重量部を超えると、材料の絶縁特性が低下して基板材料として使用することが困難である。 The reinforcing material may be included in an amount of 25 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition including the liquid crystal oligomer and the epoxy resin. If the reinforcing material is less than 25 parts by weight, the effect of reducing the thermal expansion coefficient is small and it is difficult to use it as a printed circuit board. If the reinforcing material exceeds 150 parts by weight, the insulating properties of the material are lowered and the substrate material is reduced. Difficult to use.
本発明の他の実施形態は、上記化学式1の構造単位、上記化学式2の構造単位及び上記化学式Dの構造単位を含み、少なくとも一つの末端に上記化学式Eの作用基を含む液晶オリゴマー5〜49wt%と、エポキシ樹脂5〜42wt%と、を含むシート状フィルムを提供することができる。 In another embodiment of the present invention, a liquid crystal oligomer having a structural unit of the above chemical formula 1, a structural unit of the above chemical formula 2, and a structural unit of the above chemical formula D and having a functional group of the above chemical formula E at at least one terminal is used. % And an epoxy resin of 5 to 42 wt% can be provided.
実施例1)化学式12の液晶オリゴマー及びこれを適用したフィルムの製造。 Example 1 Production of a liquid crystal oligomer of formula 12 and a film using the same.
(化12)
1Lガラス反応器に4−アミノフェノール21.826g(0.2mol)、イソフタル酸39.871g(0.24mol)、4−ヒドロキシベンゾ酸12.873g(0.09mol)、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸12.495g(0.07mol)、フェルラ酸18.100g(0.09mol)、2−(6−オキシド−6H−ジベンズ[c、e][1,2]オキサホスホリン−6−イル)−1、4−ベンゼンジオル39.871g(0.12mol)アセト酸無水物99.575g(0.975mol)を入れて混合する。 In a 1 L glass reactor, 21.826 g (0.2 mol) of 4-aminophenol, 39.871 g (0.24 mol) of isophthalic acid, 12.873 g (0.09 mol) of 4-hydroxybenzoic acid, 6-hydroxy-2-naphtho Acid 12.495 g (0.07 mol), ferulic acid 18.100 g (0.09 mol), 2- (6-oxide-6H-dibenz [c, e] [1,2] oxaphospholin-6-yl)- Add 1,9.8-benzenediol 39.871 g (0.12 mol) 99.575 g (0.975 mol) of acetic anhydride and mix.
上記ガラス反応器に機械的攪拌機、窒素注入チューブ、温度計及び還流コンデンサーを取り付けて密閉させる。反応器内部を窒素ガスで十分に置換した後、反応器内部の温度を窒素ガスの流れ下で、140℃の温度に上昇させた後、温度を保持させながら3時間還流させる。 The glass reactor is sealed with a mechanical stirrer, nitrogen injection tube, thermometer and reflux condenser. After sufficiently replacing the inside of the reactor with nitrogen gas, the temperature inside the reactor is raised to 140 ° C. under the flow of nitrogen gas, and then refluxed for 3 hours while maintaining the temperature.
次いで、反応器内部の温度を250℃まで上昇させ、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸22.582g(0.12mol)をさらに添加した後、2時間反応させる。 Next, the temperature inside the reactor is increased to 250 ° C., and 22.5822 g (0.12 mol) of 6-hydroxy-2-naphthoic acid is further added, followed by reaction for 2 hours.
反応後、副産物であるアセト酸と未反応アセト酸無水物を除去しながら、300℃まで温度を高めて1時間30分間反応させた後、同一温度の真空状態で30分間副産物をさらに除去し、上記化学式12の液晶オリゴマーを製造する。 After the reaction, while removing the by-product aceto acid and unreacted aceto anhydride, the temperature was raised to 300 ° C. and reacted for 1 hour 30 minutes, and then the by-product was further removed for 30 minutes in a vacuum at the same temperature, The liquid crystal oligomer of the above chemical formula 12 is manufactured.
上記方法で製造されたオリゴマーは、数平均分子量が3000から7000g/molの間で、主鎖にエチレン構造を有するフェルラ酸群を含み、紫外線露出によりオリゴマー間の硬化が可能であるという特徴を有する。 The oligomer produced by the above method has a number average molecular weight of 3000 to 7000 g / mol, includes a ferulic acid group having an ethylene structure in the main chain, and has a characteristic that curing between oligomers is possible by exposure to ultraviolet rays. .
上記化学式12の液晶オリゴマー4.23g、エポキシ樹脂としてAraldite MY−721(Huntsmann社)2.82g、硬化触媒としてジシアンジイミド(DICY)0.03gをN,N’−ジメチルアセトアミド(DMAc)5.77gに添加し混合溶液を製造する。 4.23 g of the liquid crystal oligomer of the above chemical formula 12, 2.82 g of Araldite MY-721 (Huntsmann) as an epoxy resin, 0.03 g of dicyandiimide (DICY) as a curing catalyst, N, N′-dimethylacetamide (DMAc) 5. Add to 77 g to make a mixed solution.
混合溶液を12μm厚さの銅箔に塗布し、ドクターブレード方式を用いて100μm厚さのフィルムを製造する。上記フィルムを常温で2時間乾燥させた後、691.94mJの紫外線光量に0分(実施例1−1)、5分(実施例1−2)、10分(実施例1−3)間露出させてオリゴマー間の硬化を誘導する。 The mixed solution is applied to a copper foil having a thickness of 12 μm, and a film having a thickness of 100 μm is manufactured using a doctor blade method. After the film was dried at room temperature for 2 hours, it was exposed to an ultraviolet light amount of 691.94 mJ for 0 minute (Example 1-1), 5 minutes (Example 1-2), and 10 minutes (Example 1-3). To induce curing between the oligomers.
紫外線露出段階を行った後、80℃で1時間、120℃で1時間エポキシ樹脂とオリゴマー間の硬化反応を進行させて半硬化状態のフィルムを形成する。 After the UV exposure step, a curing reaction between the epoxy resin and the oligomer is allowed to proceed at 80 ° C. for 1 hour and at 120 ° C. for 1 hour to form a semi-cured film.
製造された半硬化状態のフィルムを上下に積層し、真空下で230℃、3MPaで2時間反応させて硬化されたフィルムを製造する。硬化されたフィルムの熱膨張係数は熱機械分析機(Thermomechanical Analyzer;TMA)を通じて分析した。 The produced semi-cured films are laminated one above the other and reacted at 230 ° C. and 3 MPa for 2 hours under vacuum to produce a cured film. The coefficient of thermal expansion of the cured film was analyzed through a thermomechanical analyzer (TMA).
実施例2)化学式12の液晶オリゴマーを利用したプリプレグの製造 Example 2 Production of Prepreg Using Liquid Crystalline Oligomer of Chemical Formula 12
実施例1で得た液晶オリゴマー33.0g、Araldite MY−721(Huntsmann社)22.0g及び硬化触媒としてジシアンジイミド(DICY)0.22gを45.0gのN,N’−ジメチルアセトアミド(DMAc)に添加して混合溶液を製造する。該混合溶液にシリカフィラー55g(Admatech社製造)を混合してスラリーを製造する。ガラス繊維(Baotek社製造1078)に上記スラリーを均一に含浸させた。スラリーが含浸されたガラス繊維は、691.94mJの紫外線光量に10分間露出させた後、200℃のheating zoneを通過させて半硬化させ、プリプレグ(Prepreg)を得る。該プリプレグを真空プレスで2.3Mpaの圧力と230度の温度を加えて2時間硬化させて特性を評価する。 33.0 g of the liquid crystal oligomer obtained in Example 1, 22.0 g of Araldite MY-721 (Huntsmann) and 0.22 g of dicyandiimide (DICY) as a curing catalyst were 45.0 g of N, N′-dimethylacetamide (DMAc). To prepare a mixed solution. A slurry is prepared by mixing 55 g of silica filler (manufactured by Admatech) with the mixed solution. Glass fiber (manufactured by Baotek 1078) was impregnated with the above slurry uniformly. The glass fiber impregnated with the slurry is exposed to an ultraviolet light amount of 691.94 mJ for 10 minutes and then passed through a 200 ° C. heating zone to be semi-cured to obtain a prepreg. The prepreg is cured by applying a pressure of 2.3 Mpa and a temperature of 230 ° C. for 2 hours in a vacuum press to evaluate the properties.
比較例1)主鎖に硬化可能な作用基を有しない液晶オリゴマー(化学式14)を利用したフィルムの製造。 Comparative Example 1) Production of a film using a liquid crystal oligomer (chemical formula 14) having no curable functional group in the main chain.
(化14)
上記化学式14の液晶オリゴマー4.23g、エポキシ樹脂としてAraldite MY−721(Huntsmann社)2.82g及び硬化触媒としてジシアンジイミド(DICY)0.03gをN,N’−ジメチルアセトアミド(DMAc)5.77gに添加して混合溶液を製造する。混合溶液を12μm厚さの銅箔に塗布し、ドクターブレード方式を用いて100μm厚さのフィルムを製造する。 4.23 g of the liquid crystal oligomer of the above chemical formula 14, 2.82 g of Araldite MY-721 (Huntsmann) as the epoxy resin, and 0.03 g of dicyandiimide (DICY) as the curing catalyst, N, N′-dimethylacetamide (DMAc) 5. Add to 77 g to make a mixed solution. The mixed solution is applied to a copper foil having a thickness of 12 μm, and a film having a thickness of 100 μm is manufactured using a doctor blade method.
上記フィルムを常温で2時間乾燥させた後、80℃で1時間、120℃で1時間、エポキシ樹脂とオリゴマー間の硬化反応を進行させて半硬化状態のフィルムを得る。 After the film is dried at room temperature for 2 hours, a curing reaction between the epoxy resin and the oligomer is allowed to proceed at 80 ° C. for 1 hour and 120 ° C. for 1 hour to obtain a semi-cured film.
製造された半硬化状態のフィルムを上下に積層し、真空下で230℃、3MPaで2時間反応させて硬化されたフィルムを製造する。硬化されたフィルムの熱膨張係数は熱機械分析機(Thermomechanical Analyzer;TMA)を通じて分析した。 The produced semi-cured films are laminated one above the other and reacted at 230 ° C. and 3 MPa for 2 hours under vacuum to produce a cured film. The coefficient of thermal expansion of the cured film was analyzed through a thermomechanical analyzer (TMA).
比較例2)化学式14の液晶オリゴマーを利用したプリプレグの製造 Comparative Example 2) Manufacture of prepreg using liquid crystal oligomer of formula 14
上記化学式14の液晶オリゴマー33.0 g、Araldite MY−721(Huntsmann社)22.0g及び硬化触媒としてジシアンジイミド(DICY)0.22gを45.0gのN,N’−ジメチルアセトアミド(DMAc)に添加して混合溶液を製造する。該混合溶液にシリカフィラー55g(Admatech社製造)を混合してスラリーを製造する。ガラス繊維(Baotek社製造1078)に上記スラリーを均一に含浸させた。スラリーが含浸されたガラス繊維は、200℃のheating zoneを通過させて半硬化させ、プリプレグ(Prepreg)を得る。該プリプレグを真空プレスで2.3Mpaの圧力と230度の温度を加えて2時間硬化させて特性を評価する。 45.0 g of N, N′-dimethylacetamide (DMAc) 33.0 g of liquid crystal oligomer of the above chemical formula 14, 22.0 g of Araldite MY-721 (Huntsmann) and 0.22 g of dicyandiimide (DICY) as a curing catalyst To produce a mixed solution. A slurry is prepared by mixing 55 g of silica filler (manufactured by Admatech) with the mixed solution. Glass fiber (manufactured by Baotek 1078) was impregnated with the above slurry uniformly. The glass fiber impregnated with the slurry is passed through a heating zone at 200 ° C. and semi-cured to obtain a prepreg. The prepreg is cured by applying a pressure of 2.3 Mpa and a temperature of 230 ° C. for 2 hours in a vacuum press to evaluate the properties.
[評価]
下記表1には、上記実施例1と上記比較例1の硬化フィルムの熱膨張係数を熱機械分析機を通じて測定したデータを示した。
[Evaluation]
Table 1 below shows data obtained by measuring the thermal expansion coefficients of the cured films of Example 1 and Comparative Example 1 through a thermomechanical analyzer.
上記[表1]を参照すると、比較例1より実施例1の熱膨張係数が、50−100℃で測定したとき、約5ppm/℃−13ppm/℃、200−230℃で測定したとき、約40ppm/℃−80ppm/℃減少したことが分かる。従って、主鎖に硬化可能な作用基(二重結合)を含む場合は、そうでない場合よりさらに低い熱膨張係数を有するフィルムを製造することができる。また、実施例1−1と実施例1−2及び実施例1−3を比べると、紫外線の照射時間によって熱膨張係数がさらに減少することが分かる。二重結合が紫外線の照射による光硬化が可能な作用基であることを考慮すると、熱膨張係数の減少は、主鎖に導入された二重結合から起因したことが分かる。 Referring to Table 1 above, the thermal expansion coefficient of Example 1 from Comparative Example 1 is about 5 ppm / ° C-13 ppm / ° C when measured at 50-100 ° C, and about 200 ppm when measured at 200-230 ° C. It turns out that it decreased by 40 ppm / ° C.-80 ppm / ° C. Therefore, when the main chain contains a curable functional group (double bond), a film having a lower thermal expansion coefficient than that can be produced. Moreover, when Example 1-1 is compared with Example 1-2 and Example 1-3, it turns out that a thermal expansion coefficient further reduces with the irradiation time of an ultraviolet-ray. Considering that the double bond is a functional group capable of photocuring by irradiation with ultraviolet rays, it can be seen that the decrease in the thermal expansion coefficient is caused by the double bond introduced into the main chain.
従って、実施例によるフィルムは、熱膨張係数が低く、高耐熱性を有するため、超薄型印刷回路基板に適用可能である。 Accordingly, the films according to the examples have a low coefficient of thermal expansion and high heat resistance, and therefore can be applied to ultra-thin printed circuit boards.
下記表2には、上記実施例2と上記比較例2のプリプレグの熱膨張係数を熱機械分析機を通じて測定したデータを示した。 Table 2 below shows data obtained by measuring the thermal expansion coefficients of the prepregs of Example 2 and Comparative Example 2 through a thermomechanical analyzer.
上記[表2]を参照すると、比較例2より実施例2の熱膨張係数が、50−100℃で測定したとき、約4ppm/℃、200−230℃で測定したとき、約7ppm/℃減少したことが分かる。従って、主鎖に硬化可能な作用基(二重結合)を含む場合は、そうでない場合よりさらに低い熱膨張係数を有するプリプレグを製造することができる。 Referring to Table 2 above, the thermal expansion coefficient of Example 2 from Comparative Example 2 is about 4 ppm / ° C. when measured at 50-100 ° C. and about 7 ppm / ° C. when measured at 200-230 ° C. I understand that. Therefore, when the main chain contains a curable functional group (double bond), a prepreg having a lower thermal expansion coefficient than that can be produced.
従って、本発明の実施例によるプリプレグは、熱膨張係数が低く、高耐熱性を有するため、超薄層印刷回路基板に適用可能である。 Therefore, since the prepreg according to the embodiment of the present invention has a low thermal expansion coefficient and high heat resistance, it can be applied to an ultrathin printed circuit board.
本発明は上述した実施形態及び添付の図面により限定されるものではなく、添付の請求範囲により限定される。 The present invention is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, but is limited by the appended claims.
従って、請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で当技術分野の通常の知識を有する者により多様な形態の置換、変形及び変更が可能で、これも本発明の範囲に属する。 Accordingly, various forms of substitution, modification, and alteration can be made by persons having ordinary knowledge in the art without departing from the technical idea of the present invention described in the claims. Belongs to a range.
11、12、13 絶縁層
21 水平配線
22 ビア電極
11, 12, 13 Insulating
Claims (14)
エポキシ樹脂5〜42wt%と、
フィラー30〜90wt%と、
を含む印刷回路基板用組成物。
(化1)
X1〜X4は互いに同一または異なり、C(=O)O、O、C(=O)NR、NR’またはCO(ここで、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、または置換または非置換のC6〜C30のアリール基である)であり、
Z1及びZ2はそれぞれ独立してヒドロキシ基、置換または非置換のC3〜C30の脂環族基であり、Z3及びZ4は置換または非置換のC3〜C30のヘテロ原子−含有脂環族基であり、
前記n1〜n4はそれぞれ独立して0〜3の整数で、n1+n2+n3+n4は1以上であることができ、
前記化学式1におけるA1は、下記化学式4−1〜4−7で表される作用基のうち一つである。
(化4−1)
前記化学式2におけるA2は、下記化学式5−1〜5−6で表される作用基のうち一つまたは下記化学式6の作用基を有するC2〜C20のアルキレン基である。
(化5−1)
(化5−2)
(化5−3)
(化5−4)
(化5−5)
(化5−6)
前記化学式5−1〜5−6において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素は、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(Z1は化学式1での定義と同様である)で置換されることができる。
(化6)
(化7−1)
(化7−2)
(化7−3)
5 to 42 wt% epoxy resin,
30-90 wt% filler,
A printed circuit board composition comprising:
(Chemical formula 1)
X 1 to X 4 are the same or different from each other, and C (═O) O, O, C (═O) NR, NR ′, or CO (wherein R and R ′ are the same or different from each other, hydrogen, substituted or non-substituted A substituted C1-C20 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group).
Z 1 and Z 2 are each independently a hydroxy group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic group, and Z 3 and Z 4 are substituted or unsubstituted C3-C30 heteroatom-containing alicyclic rings. Family group,
N 1 to n 4 are each independently an integer of 0 to 3, and n 1 + n 2 + n 3 + n 4 may be 1 or more,
A 1 in Formula 1 is one of the functional group represented by the following chemical formula 4-1 to 4-7.
(Chemical 4-1)
A 2 in the chemical formula 2 is a C2 to C20 alkylene group having one of the functional groups represented by the following chemical formulas 5-1 to 5-6 or the functional group of the following chemical formula 6.
(Chemical 5-1)
(Chemical 5-2)
(Chemical formula 5-3)
(Chemical formula 5-4)
(Chemical 5-5)
(Chemical 5-6)
In the chemical formulas 5-1 to 5-6, at least one hydrogen of each aromatic ring is a halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted group. Or an unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, or Z 1 (Z 1 is the same as defined in Chemical Formula 1) can be substituted.
(Chemical formula 6)
(Chemical 7-1)
(Chemical Formula 7-2)
(Chemical Formula 7-3)
(化11)
(Chemical Formula 11)
(化12)
(Chemical formula 12)
(化13)
(Chemical Formula 13)
エポキシ樹脂5〜42wt%と、
を含む印刷回路基板用組成物。
(化1)
X1〜X4は互いに同一または異なり、C(=O)O、O、C(=O)NR、NR’またはCO(ここで、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、または置換または非置換のC6〜C30のアリール基である)であり、
Z1及びZ2はそれぞれ独立してヒドロキシ基、置換または非置換のC3〜C30の脂環族基であり、Z3及びZ4は置換または非置換のC3〜C30のヘテロ原子−含有脂環族基であり、
前記n1〜n4はそれぞれ独立して0〜3の整数で、n1+n2+n3+n4は1以上であることができ、
前記化学式1におけるA1は、下記化学式4−1〜4−7で表される作用基のうち一つである。
(化4−1)
前記化学式2におけるA2は、下記化学式5−1〜5−6で表される作用基のうち一つまたは下記化学式6の作用基を有するC2〜C20のアルキレン基である。
(化5−1)
(化5−2)
(化5−3)
(化5−4)
(化5−5)
(化5−6)
前記化学式5−1〜5−6において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素は、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(Z1は化学式1での定義と同様である)で置換されることができる。
(化6)
(化7−1)
(化7−2)
(化7−3)
5 to 42 wt% epoxy resin,
A printed circuit board composition comprising:
(Chemical formula 1)
X 1 to X 4 are the same or different from each other, and C (═O) O, O, C (═O) NR, NR ′, or CO (wherein R and R ′ are the same or different from each other, hydrogen, substituted or non-substituted A substituted C1-C20 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group).
Z 1 and Z 2 are each independently a hydroxy group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic group, and Z 3 and Z 4 are substituted or unsubstituted C3-C30 heteroatom-containing alicyclic rings. Family group
N 1 to n 4 are each independently an integer of 0 to 3, and n 1 + n 2 + n 3 + n 4 may be 1 or more,
A 1 in Formula 1 is one of the functional group represented by the following chemical formula 4-1 to 4-7.
(Chemical 4-1)
A 2 in the chemical formula 2 is a C2 to C20 alkylene group having one of the functional groups represented by the following chemical formulas 5-1 to 5-6 or the functional group of the following chemical formula 6.
(Chemical 5-1)
(Chemical 5-2)
(Chemical formula 5-3)
(Chemical formula 5-4)
(Chemical 5-5)
(Chemical 5-6)
In the chemical formulas 5-1 to 5-6, at least one hydrogen of each aromatic ring is a halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted group. Or an unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, or Z 1 (Z 1 is the same as defined in Chemical Formula 1) can be substituted.
(Chemical formula 6)
(Chemical 7-1)
(Chemical Formula 7-2)
(Chemical Formula 7-3)
前記絶縁層に形成された回路パターンと、を含み、
前記絶縁層は下記化学式1の構造単位、下記化学式2の構造単位及び下記化学式Dの構造単位を含み、少なくとも一つの末端に下記化学式Eの作用基を含む液晶オリゴマー5〜49wt%と、エポキシ樹脂5〜42wt%と、フィラー14〜90wt%とを含む組成物からなる印刷回路基板。
(化1)
A circuit pattern formed on the insulating layer,
The insulating layer includes a structural unit of the following chemical formula 1, a structural unit of the following chemical formula 2, and a structural unit of the following chemical formula D, and a liquid crystal oligomer having a functional group of the following chemical formula E at at least one terminal, and an epoxy resin The printed circuit board which consists of a composition containing 5-42 wt% and 14-90 wt% of fillers.
(Chemical formula 1)
エポキシ樹脂5〜42wt%と、
を含むシート状フィルム。
(化1)
X1〜X4は互いに同一または異なり、C(=O)O、O、C(=O)NR、NR’またはCO(ここで、R及びR’は互いに同一または異なり、水素、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、または置換または非置換のC6〜C30のアリール基である)であり、
Z1及びZ2はそれぞれ独立してヒドロキシ基、置換または非置換のC3〜C30の脂環族基であり、Z3及びZ4は置換または非置換のC3〜C30のヘテロ原子−含有脂環族基であり、
前記n1〜n4はそれぞれ独立して0〜3の整数で、n1+n2+n3+n4は1以上であることができ、
前記化学式1におけるA1は、下記化学式4−1〜4−7で表される作用基のうち一つである。
(化4−1)
前記化学式2におけるA2は、下記化学式5−1〜5−6で表される作用基のうち一つまたは下記化学式6の作用基を有するC2〜C20のアルキレン基である。
(化5−1)
(化5−2)
(化5−3)
(化5−4)
(化5−5)
(化5−6)
前記化学式5−1〜5−6において、それぞれの芳香族環の少なくとも一つの水素は、ハロゲン、置換または非置換のC1〜C20のアルキル基、置換または非置換のC1〜C20のアルコキシ基、置換または非置換のC3〜C20のシクロアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリール基、置換または非置換のC7〜C30のアリールアルキル基、置換または非置換のC6〜C30のアリールオキシ基またはZ1(Z1は化学式1での定義と同様である)で置換されることができる。
(化6)
(化7−1)
(化7−2)
(化7−3)
5 to 42 wt% epoxy resin,
A sheet-like film including:
(Chemical formula 1)
X 1 to X 4 are the same or different from each other, and C (═O) O, O, C (═O) NR, NR ′, or CO (wherein R and R ′ are the same or different from each other, hydrogen, substituted or non-substituted A substituted C1-C20 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group).
Z 1 and Z 2 are each independently a hydroxy group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic group, and Z 3 and Z 4 are substituted or unsubstituted C3-C30 heteroatom-containing alicyclic rings. Family group
N 1 to n 4 are each independently an integer of 0 to 3, and n 1 + n 2 + n 3 + n 4 may be 1 or more,
A 1 in Formula 1 is one of the functional group represented by the following chemical formula 4-1 to 4-7.
(Chemical 4-1)
A 2 in the chemical formula 2 is a C2 to C20 alkylene group having one of the functional groups represented by the following chemical formulas 5-1 to 5-6 or the functional group of the following chemical formula 6.
(Chemical 5-1)
(Chemical 5-2)
(Chemical 5-3)
(Chemical formula 5-4)
(Chemical 5-5)
(Chemical 5-6)
In the chemical formulas 5-1 to 5-6, at least one hydrogen of each aromatic ring is a halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a substituted group. Or an unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7-C30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, or Z 1 (Z 1 is the same as defined in Chemical Formula 1) can be substituted.
(Chemical formula 6)
(Chemical 7-1)
(Chemical Formula 7-2)
(Chemical Formula 7-3)
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