JP2014047151A - Hair cosmetic - Google Patents
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Abstract
【課題】水系の毛髪化粧料において、塗布後の髪垂れを抑制し、高湿度下においても長時間セット力を保持し得るものとすること。
【解決手段】次の成分(A)〜(D)を含有する毛髪化粧料。
(A) 皮膜形成樹脂
(B) シクロデキストリン
(C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物
〔Rは水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する2つのRが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Xは酸素原子又は窒素原子を示し、Xが酸素原子である場合Yは水素原子を、Xが窒素原子である場合YはXに結合するカルボニル基を示す。Z+は1価のカチオンを示す。〕
(D) 水 50〜95質量%
【選択図】なしIn a water-based hair cosmetic composition, it is possible to suppress dripping after application and to maintain a setting force for a long time even under high humidity.
A hair cosmetic comprising the following components (A) to (D).
(A) Film-forming resin
(B) Cyclodextrin
(C) an aromatic sulfone compound represented by the general formula (1)
[R represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, or two adjacent Rs together form a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group. X represents an oxygen atom or a nitrogen atom, Y represents a hydrogen atom when X is an oxygen atom, and Y represents a carbonyl group bonded to X when X is a nitrogen atom. Z + represents a monovalent cation. ]
(D) Water 50-95 mass%
[Selection figure] None
Description
本発明は、毛髪化粧料に関する。 The present invention relates to a hair cosmetic.
整髪用化粧料としては、例えば、霧状整髪剤、泡状整髪剤、ヘアジェル、ヘアクリーム、ヘアワックス等の頭髪用化粧料、マスカラ等の睫毛用化粧料がある。これら整髪用化粧料には、整髪性を付与するために皮膜形成樹脂が配合される。被膜形成樹脂には様々なものがあるが、通常、被膜形成樹脂はエタノールのような溶媒に溶解させることで、整髪用化粧料中に安定に配合されている。 Examples of hairdressing cosmetics include mist-like hairdressing agents, foamy hairdressing agents, hair gels, hair creams, hair waxes and other hair cosmetics, and mascara and other eyelash cosmetics. In these hairdressing cosmetics, a film-forming resin is blended to impart hairstyling properties. There are various types of film-forming resins. Usually, film-forming resins are stably blended in hairdressing cosmetics by dissolving them in a solvent such as ethanol.
昨今、環境問題等の理由から、エタノールのような有機溶媒の使用を低減させることが要望されている。
特許文献1には、有機溶媒の使用を低減させた水系整髪組成物において、整髪用ポリマーの溶解性を向上させるためにシクロデキストリンを使用することが提案されている。
Recently, there is a demand for reducing the use of organic solvents such as ethanol for reasons such as environmental problems.
Patent Document 1 proposes the use of cyclodextrin in an aqueous hair styling composition in which the use of an organic solvent is reduced in order to improve the solubility of the hair styling polymer.
しかしながら、水系毛髪化粧料には、毛髪への塗布時に水が髪に浸透することで髪垂れ(髪のへたり)を生じ、セットがくずれてしまうという問題がある。更に、毛髪のセット後に、高湿度下ではセット力を長時間保持できず、セット力が低下してしまうという問題がある。 However, water-based hair cosmetics have a problem in that when water is applied to the hair, the water penetrates into the hair, which causes dripping (sagging of the hair) and the set is broken. Furthermore, after setting the hair, there is a problem that the setting force cannot be maintained for a long time under high humidity, and the setting force is reduced.
本発明の課題は、水系の毛髪化粧料において、塗布後の髪垂れを抑制し、高湿度下においても長時間セット力を保持し得るものとすることにある。 An object of the present invention is to suppress hair sag after application in a water-based hair cosmetic composition and maintain a setting force for a long time even under high humidity.
本発明は、次の成分(A)〜(D)を含有する毛髪化粧料を提供するものである。
(A) 皮膜形成樹脂
(B) シクロデキストリン
(C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物
The present invention provides a hair cosmetic containing the following components (A) to (D).
(A) Film-forming resin
(B) Cyclodextrin
(C) an aromatic sulfone compound represented by the general formula (1)
〔式中、Rは同一若しくは異なって水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する2つのRが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Xは酸素原子又は窒素原子を示し、Xが酸素原子である場合Yは水素原子を、Xが窒素原子である場合YはXに結合するカルボニル基を示す。Z+は1価のカチオンを示す。〕
(D) 水 50〜95質量%
[Wherein, Rs are the same or different and each represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, or two adjacent Rs together form a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group. X represents an oxygen atom or a nitrogen atom, Y represents a hydrogen atom when X is an oxygen atom, and Y represents a carbonyl group bonded to X when X is a nitrogen atom. Z + represents a monovalent cation. ]
(D) Water 50-95 mass%
本発明の毛髪化粧料は、塗布後の髪垂れを抑制し、高湿度下においても長時間セット力を保持することができる。 The hair cosmetic composition of the present invention can suppress dripping after application and can maintain a setting force for a long time even under high humidity.
〔(A):皮膜形成樹脂〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(A)として、皮膜形成樹脂を含有する。
[(A): Film-forming resin]
The hair cosmetic composition of the present invention contains a film-forming resin as component (A).
成分(A)の皮膜形成樹脂としては、アニオン性ビニルポリマー、カチオン性ビニルポリマー、両性ビニルポリマー、ノニオン性ビニルポリマー、ウレタン系ポリマー、多糖類系ポリマーを用いることができる。具体例としては、以下の皮膜形成樹脂を挙げることができ、いずれかを単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the film-forming resin of component (A), anionic vinyl polymers, cationic vinyl polymers, amphoteric vinyl polymers, nonionic vinyl polymers, urethane polymers, and polysaccharide polymers can be used. Specific examples include the following film-forming resins, which can be used alone or in combination of two or more.
<アニオン性ビニルポリマー>
アニオン性ビニルポリマーとしては、以下のものが挙げられる。
<Anionic vinyl polymer>
Examples of the anionic vinyl polymer include the following.
〔クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、イタコン酸のいずれか由来の構成単位を含むアニオン性ビニルポリマー〕
クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、イタコン酸のいずれか由来の構成単位を含んでいれば特に限定されないが、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルアルコール類の1種以上と共重合されているものが好ましく、メチルビニルエーテル/マレイン酸アルキル共重合体(ISP社製ガントレッツES-225,同ES-425,同SP-215等)、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体(ナショナル・スターチ社製レジン28-1310等)、酢酸ビニル/クロトン酸/ネオデカン酸ビニル共重合体(ナショナル・スターチ社製レジン28-2930等)、酢酸ビニル/クロトン酸/プロピオン酸ビニル共重合体(BASF社製ルビセットCAP等)、ビニルアルコール/イタコン酸共重合体(クラレ社製KM-118等)がより好ましく、メチルビニルエーテル/マレイン酸アルキル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸/ネオデカン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸/プロピオン酸ビニル共重合体が更に好ましい。
[Anionic vinyl polymer containing structural units derived from crotonic acid, maleic acid, maleic acid monoester, or itaconic acid]
Although it will not specifically limit if it contains the structural unit derived from any of crotonic acid, maleic acid, maleic acid monoester, and itaconic acid, it is copolymerized with 1 or more types of vinyl ethers, vinyl esters, and vinyl alcohol. Preferred are methyl vinyl ether / alkyl maleate copolymer (ISP Gantrez ES-225, ES-425, SP-215, etc.), vinyl acetate / crotonic acid copolymer (National Starch Resin 28) -1310), vinyl acetate / crotonic acid / vinyl neodecanoate copolymer (National Starch Resin 28-2930, etc.), vinyl acetate / crotonic acid / vinyl propionate copolymer (BASF Rubiset CAP, etc.) Vinyl alcohol / itaconic acid copolymer (KM-118 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) is more preferable, and methyl vinyl ether / alkyl maleate copolymer Body, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, vinyl acetate / crotonic acid / vinyl neodecanoate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid / vinyl propionate copolymer is more preferable.
〔(メタ)アクリル酸由来の構成単位を含むアニオン性ビニルポリマー〕
(メタ)アクリル酸由来の構成単位を含むビニルポリマーであれば特に限定されないが、(メタ)アクリル酸アルキルエステルあるいはN-アルキル(メタ)アクリルアミドの1種以上との共重合体が好ましい。
より好ましくは、アクリル酸/エチルアクリレート/N-t-ブチルアクリルアミド共重合体(BASF社製ウルトラホールド8,ウルトラホールド・ストロング等)、オクチルアクリルアミド/アクリル酸共重合体(アクゾノーベル社製アンフォーマーHC等)、アクリレート/メタクリレート/アクリル酸/メタクリル酸共重合体(ユニオンカーバイド社製アマホールドDR25等)、アクリレーツ/ジアセトンアクリルアミド共重合体(互応化学工業社製プラスサイズL-9540B(当該共重合体の2-アミノ-2-メチル-1-プロピルアルコール中和物)等)、アクリレーツ/C1-18アルキルアクリレーツ/C1-8アルキルアクリルアミド共重合体(互応化学工業社製プラスサイズL-9909B(当該共重合体の2-アミノ-2-メチル-1-プロピルアルコール中和物)等)が挙げられ、アクリレート/メタクリレート/アクリル酸/メタクリル酸共重合体、アクリレーツ/ジアセトンアクリルアミド共重合体、アクリレーツ/C1-18アルキルアクリレーツ/C1-8アルキルアクリルアミド共重合体がより好ましい。
[Anionic vinyl polymer containing structural units derived from (meth) acrylic acid]
Although it will not specifically limit if it is a vinyl polymer containing the structural unit derived from (meth) acrylic acid, The copolymer with 1 or more types of (meth) acrylic-acid alkylester or N-alkyl (meth) acrylamide is preferable.
More preferably, acrylic acid / ethyl acrylate / Nt-butylacrylamide copolymer (BASF Ultrahold 8, Ultrahold Strong, etc.), octylacrylamide / acrylic acid copolymer (Akzo Nobel Anformer HC, etc.) ), Acrylate / methacrylate / acrylic acid / methacrylic acid copolymers (Amahold DR25, etc., manufactured by Union Carbide), acrylates / diacetone acrylamide copolymer (plus size L-9540B, manufactured by Kyoyo Chemical Co., Ltd.) 2-amino-2-methyl-1-propyl alcohol neutralized product)), acrylates / C1-18 alkyl acrylates / C1-8 alkyl acrylamide copolymer (plus size L-9909B manufactured by Kyoyo Chemical Co., Ltd.) Polymer 2-amino-2-methyl-1-propyl alcohol neutralized product)) and the like. More preferred are acrylate / methacrylate / acrylic acid / methacrylic acid copolymers, acrylates / diacetone acrylamide copolymers, and acrylates / C1-18 alkyl acrylates / C1-8 alkyl acrylamide copolymers.
<両性ビニルポリマー>
両性ビニルポリマーとしては、アクリル酸オクチルアミド/アクリル酸ヒドロキシプロピルプロピル/メタクリル酸ブチルアミノエチル共重合体(アクゾノーベル社製AMPHOMER SH30、AMPHOMER LV-71、AMPHOMER 28-4910)、メタクリロイルオキシエチルカルボキシベタイン/メタクリル酸アルキル共重合体(三菱化学社製ユカフォーマーR205、ユカフォーマー301、ユカフォーマーSM、ユカフォーマーM-75、ユカフォーマー104D等、大阪有機化学工業社製RAMレジン-1000、RAMレジン-2000、RAMレジン-3000、RAMレジン-4000)、塩化ジメチルジアリルアンモニウム/アクリル酸共重合体(ナルコ社製マーコート280、マーコート295)、塩化ジメチルジアリルアンモニウム/アクリルアミド/アクリル酸共重合体(ナルコ社製マーコートプラス3330、マーコートプラス3331)等が挙げられる。
<Amotropic vinyl polymer>
Amphoteric vinyl polymers include octylamide acrylate / hydroxypropylpropyl acrylate / butylaminoethyl methacrylate copolymer (AMPHOMER SH30, AMPHOMER LV-71, AMPHOMER 28-4910 manufactured by Akzo Nobel), methacryloyloxyethyl carboxybetaine / Alkyl methacrylate copolymer (Mitsubishi Chemical Corporation Yuka Former R205, Yuka Former 301, Yuka Former SM, Yuka Former M-75, Yuka Former 104D, etc., Osaka Organic Chemical Industries RAM Resin-1000, RAM Resin-2000, RAM Resin-3000, RAM Resin-4000), Dimethyldiallylammonium chloride / acrylic acid copolymer (Narco's Marcote 280, Marcote 295), Dimethyldiallylammonium chloride / acrylamide / acrylic acid copolymer (Narco's Marcote Plus 3330, Marcote Plus 3331) ) Etc. It is done.
<カチオン性ビニルポリマー>
カチオン性ビニルポリマーとしては、ビニルピロリドン/メタクリル酸ジメチルアミノエチル共重合体ジエチル硫酸塩(大阪有機化学工業社製H.C.ポリマー1S(M)、H.C.ポリマー2、ISP社製ガフコート755N)、ビニルピロリドン/ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド/ラウリルジメチルアミノプロピルメタクリルアミド共重合体(ISP社製スタイリーゼW-20)、ビニルピロリドン/メタクリル酸N,N-ジメチルアミノエチル/アクリル酸アルキル/ジアクリル酸トリプロピレングリコール共重合体(大阪有機化学工業社製コスカットGA467,コスカットGA468)、ポリ塩化ジメチルメチレンピペリジニウム(ナルコ社製マーコート100)、塩化ジメチルジアリルアンモニウム/アクリルアミド共重合体(ナルコ社製マーコート550)、塩化トリメチルアンモニオプロピルアクリルアミド/ジメチルアクリルアミド共重合体、アルキルアクリルアミド/アクリレート/アルキルアミノアルキルアクリルアミド/ポリエチレングリコールメタクリレート共重合体(特開平2-180911号公報参照)、t-ブチルアクリルアミド/ジメチルアクリルアミド/ジメチルアミノプロピルアクリルアミド/メトキシポリエチレングリコール(PEG400)メタクリレート共重合体(特開平8-291206号公報参照)等が挙げられる。
<Cationic vinyl polymer>
Examples of cationic vinyl polymers include vinyl pyrrolidone / dimethylaminoethyl methacrylate copolymer diethyl sulfate (HC polymer 1S (M), HC polymer 2, ISP Gaff Coat 755N, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry), vinyl pyrrolidone / dimethyl. Aminopropyl methacrylamide / lauryl dimethylaminopropyl methacrylamide copolymer (ISP's Stylize W-20), vinylpyrrolidone / N, N-dimethylaminoethyl methacrylate / alkyl acrylate / tripropylene glycol diacrylate copolymer ( Koskat GA467, Koskat GA468 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., polydimethylmethylenepiperidinium chloride (Marcote 100 manufactured by Nalco), dimethyldiallylammonium chloride / acrylamide copolymer (Marcote 550 manufactured by Nalco), trimethylammoniop chloride Propylacrylamide / dimethylacrylamide copolymer, alkylacrylamide / acrylate / alkylaminoalkylacrylamide / polyethylene glycol methacrylate copolymer (see JP-A-2-180911), t-butylacrylamide / dimethylacrylamide / dimethylaminopropylacrylamide / Examples thereof include methoxypolyethylene glycol (PEG400) methacrylate copolymer (see JP-A-8-291206).
<ノニオン性ビニルポリマー>
ノニオン性ビニルポリマーとしては、ポリビニルピロリドン(BASF社製ルビスコールK17、ルビスコールK30、ルビスコールK90、ISP社製PVP K)、ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体(ISP社製PVP/VA S-630、PVP/VA E-735、PVP/VA E-335、BASF社製ルビスコールVA73W、ルビスコール37E、大阪有機化学工業社製PVA-6450)、ビニルピロリドン/メタクリルアミド/ビニルイミダゾール共重合体(BASF社製ルビセットクリア)、ポリビニルカプロラクタム(ルビスコールプラス(BASF社製))等が挙げられる。
<Nonionic vinyl polymer>
Nonionic vinyl polymers include polyvinylpyrrolidone (BASF's Rubiscol K17, Rubiscol K30, Rubiscol K90, ISP PVP K), vinylpyrrolidone / vinyl acetate copolymer (ISP PVP / VA S-630) , PVP / VA E-735, PVP / VA E-335, Rubiscol VA73W, Rubiscol 37E manufactured by BASF, PVA-6450 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), vinylpyrrolidone / methacrylamide / vinylimidazole copolymer (BASF) Rubiset Clear, manufactured by the company), polyvinyl caprolactam (rubiscol plus (manufactured by BASF)), and the like.
<ウレタン系ポリマー>
ウレタン系ポリマーとしては、ヨドゾールPUD(アクゾノーベル社製)、ルビセットP.U.R.(BASF社製)、特開2006-213706号公報に記載されたポリマー等、アクリル−ウレタン系として、DynamX(アクゾノーベル社製)、特願2006-183144号公報に記載されたポリマー等が挙げられる。
<Urethane polymer>
Examples of urethane-based polymers include Yodosol PUD (manufactured by Akzo Nobel), Ruby Set PUR (manufactured by BASF), polymers described in JP 2006-213706, etc., acrylic-urethane, Dynax (manufactured by Akzo Nobel) And polymers described in Japanese Patent Application No. 2006-183144.
<多糖類系ポリマー>
多糖類系ポリマーとしては、アラビアガム、グルカン、サクシノグリカン、カラギーナン、カラヤガム、トラガカントガム、グアガム、ローカストビーンガム、ガラクトマンナンガム、キサンタンガム、デンプン、キャロブガム、クインスシード(マルメロ)、カゼイン、デキストリン、ゼラチン、ペクチン酸ナトリウム、アラギン酸ナトリウム、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、結晶セルロース、塩化O-[2-ヒドロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)プロピル]ヒドロキシエチルセルロース、塩化O-[2-ヒドロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)プロピル]グアガム、塩化O-[2-ヒドロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)プロピル]ローカストビーンガム、塩化ヒドロキシプロピルトリモニウムでんぷん等が挙げられる。
<Polysaccharide polymer>
Examples of polysaccharide polymers include gum arabic, glucan, succinoglycan, carrageenan, caraya gum, gum tragacanth, guar gum, locust bean gum, galactomannan gum, xanthan gum, starch, carob gum, quince seed (malmello), casein, dextrin, gelatin, Sodium pectate, sodium alginate, methylcellulose, ethylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, crystalline cellulose, O- [2-hydroxy-3- (trimethylammonio) propyl] hydroxyethylcellulose, O- [2 chloride -Hydroxy-3- (trimethylammonio) propyl] guagum, O- [2-hydroxy-3- (trimethylammonio) propyl] locust bean gum, hydride chloride Propyl trimonium starch, and the like.
上記の皮膜形成樹脂の中でも、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも1種の構成単位を含む重合体又は共重合体を好適に使用し得る。これらの中でも、一般式(2)で表される構成単位及び一般式(3)で表される構成単位を含む共重合体が、高い整髪力とごわつきのなさとを両立させる観点から好ましい。 Among the above film-forming resins, a polymer or copolymer containing at least one structural unit represented by the general formula (2) or (3) can be suitably used. Among these, a copolymer containing the structural unit represented by the general formula (2) and the structural unit represented by the general formula (3) is preferable from the viewpoint of achieving both high hair styling power and no stiffness.
〔式中、R1及びR3は水素原子又はメチル基を示し、R2は炭素数1〜24のアルキル基、又は-(AO)nR5で表される置換基(AOはエチレンオキサイド基及び/又はプロピレンオキサイド基、nは平均値で1〜15の数、R5は水素原子又はメチル基)を示し、R4は炭素数1〜12のアルキル基、又はアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基若しくはトリメチルアミノ基を有する炭素数1〜12のアルキル基を示す。〕 [Wherein R 1 and R 3 represent a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, or a substituent represented by — (AO) n R 5 (AO represents an ethylene oxide group) And / or a propylene oxide group, n represents an average value of 1 to 15, R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an amino group, a methylamino group, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms having a dimethylamino group or a trimethylamino group is shown. ]
なお、皮膜形成樹脂の一分子中における一般式(2)又は(3)で表される各構成単位は、それぞれ1種の構成単位であってもよいし、置換基が異なる2種以上の構成単位を含んでいてもよい。 In addition, each structural unit represented by the general formula (2) or (3) in one molecule of the film-forming resin may be one structural unit or two or more structural units having different substituents. Units may be included.
R2は、好ましくは炭素数1〜22のアルキル基、更に好ましくは1〜20のアルキル基である。
R4は、好ましくは炭素数1〜10のアルキル基、更に好ましくは1〜8のアルキル基である。
R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
成分(A)の皮膜形成樹脂は、一般式(2)又は(3)で表される構成単位以外に、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸モノエステル等由来の構成単位を含有してもよいが、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点から、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも1種の構成単位を、皮膜形成樹脂の一分子中に40〜100質量%含有することが好ましく、更には50〜100質量%、更には60〜100質量%、更には70〜100質量%、更には80〜100質量%、更には90〜100質量%含有することが好ましい。 Component (A) film-forming resin includes (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid monoester, in addition to the structural unit represented by general formula (2) or (3) From the viewpoint of suppressing hair sag after application and maintaining the setability of the hair, at least one kind represented by the general formula (2) or (3) may be contained. The structural unit is preferably contained in 40 to 100% by mass in one molecule of the film-forming resin, more preferably 50 to 100% by mass, further 60 to 100% by mass, further 70 to 100% by mass, and further 80 It is preferable to contain -100 mass%, Furthermore, 90-100 mass%.
皮膜形成樹脂の重量平均分子量(ゲルろ過クロマトグラフィー(ポリエチレングリコール換算)による)は、重合条件を選択すれば1,000〜1,000,000に制御でき、本発明においては、重量平均分子量10,000〜500,000、更には20,000〜200,000のものが好ましい。 The weight average molecular weight (according to gel filtration chromatography (polyethylene glycol equivalent)) of the film-forming resin can be controlled to 1,000 to 1,000,000 by selecting the polymerization conditions. In the present invention, the weight average molecular weight is 10,000 to 500,000, and further 20,000 to 200,000 is preferred.
成分(A)の皮膜形成樹脂は、高い整髪力とごわつきのなさとを両立させる観点から、毛髪化粧料中に好ましくは0.01〜20質量%、更に好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.5〜7質量%含有する。 The film-forming resin of component (A) is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and still more preferably 0.5% in the hair cosmetic composition from the viewpoint of achieving both high hair styling power and no stiffness. Contains ~ 7% by mass.
〔(B):シクロデキストリン〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(B)として、シクロデキストリンを含有する。シクロデキストリンは、室温で水100mL中0.1g以上の溶解度を有することが好ましく、更には5g以上、更には10g以上の溶解度を有することが好ましい。シクロデキストリンとしては、置換又は非置換のα-シクロデキストリン、置換又は非置換のβ-シクロデキストリン、置換又は非置換のγ-シクロデキストリンが好ましく、なかでも、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点及び水溶性の観点から、置換又は非置換のα−シクロデキストリンがより好ましい。
[(B): cyclodextrin]
The hair cosmetic composition of the present invention contains cyclodextrin as component (B). The cyclodextrin preferably has a solubility of 0.1 g or more in 100 mL of water at room temperature, more preferably 5 g or more, and even more preferably 10 g or more. The cyclodextrin is preferably a substituted or unsubstituted α-cyclodextrin, a substituted or unsubstituted β-cyclodextrin, or a substituted or unsubstituted γ-cyclodextrin, and particularly suppresses drooping of the hair after application, From the viewpoint of maintaining hair setting properties and water solubility, a substituted or unsubstituted α-cyclodextrin is more preferable.
成分(B)のシクロデキストリンは、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点から、毛髪化粧料中に好ましくは0.1〜15質量%、更に好ましくは1〜10質量%、更に好ましくは2〜6質量%含有する。 The cyclodextrin of component (B) is preferably 0.1 to 15% by mass, more preferably 1 to 10% by mass in the hair cosmetic composition from the viewpoint of suppressing hair sag after application and maintaining hair setting properties. More preferably, the content is 2 to 6% by mass.
〔(C):一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(C)として、一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物を含有する。
[(C): aromatic sulfone compound represented by general formula (1)]
The hair cosmetic composition of the present invention contains an aromatic sulfone compound represented by the general formula (1) as the component (C).
〔式中、Rは同一若しくは異なって水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する2つのRが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Xは酸素原子又は窒素原子を示し、Xが酸素原子である場合Yは水素原子を、Xが窒素原子である場合YはXに結合するカルボニル基を示す。Z+は1価のカチオンを示す。〕 [Wherein, Rs are the same or different and each represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, or two adjacent Rs together form a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group. X represents an oxygen atom or a nitrogen atom, Y represents a hydrogen atom when X is an oxygen atom, and Y represents a carbonyl group bonded to X when X is a nitrogen atom. Z + represents a monovalent cation. ]
Rのうち一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基が挙げられ、炭素数1〜8(好ましくは1〜4)のアルキル基、炭素数6〜10(好ましくは6〜8)のアリール基又はアラルキル基が好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられる。 Examples of the monovalent hydrocarbon group in R include an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, an alkyl group having 1 to 8 (preferably 1 to 4) carbon atoms, and 6 to 10 (preferably 6 to 6) carbon atoms. The aryl group or aralkyl group of 8) is preferred, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a t-butyl group, a phenyl group, and a benzyl group.
隣接する2つのRが一緒になって形成される飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルキリデン基が挙げられ、炭素数2〜6(好ましくは2〜4)のアルキレン基又はアルキリデン基が好ましく、例えば、エチレン基、エチリデン基、ビニレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、1-プロペニレン基、テトラメチレン基、2-メチルトリメチレン基、1-メチルトリメチレン基、2-プロペニレン基、2-ブテニレン基、ブタ-1,3-ジエン-1,4-ジイル等が挙げられる。具体的には、隣接する2つのRが一緒になってブタ-1,3-ジエン-1,4-ジイル、テトラメチレン基、1-プロペニレン基、2-プロペニレン基、トリメチレン基を形成する場合、芳香族スルホン化合物として、それぞれナフタレンスルホン酸、テトラヒドロナフタレンスルホン酸、インデンスルホン酸、インダンスルホン酸が形成されるが、中でもナフタレンスルホン酸が好ましい。 Examples of the saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group formed by combining two adjacent Rs together include an alkylene group and an alkylidene group, and an alkylene having 2 to 6 (preferably 2 to 4) carbon atoms. Group or alkylidene group is preferable, for example, ethylene group, ethylidene group, vinylene group, trimethylene group, isopropylidene group, 1-propenylene group, tetramethylene group, 2-methyltrimethylene group, 1-methyltrimethylene group, 2- Examples include propenylene group, 2-butenylene group, buta-1,3-diene-1,4-diyl and the like. Specifically, when two adjacent R's together form buta-1,3-diene-1,4-diyl, tetramethylene group, 1-propenylene group, 2-propenylene group, trimethylene group, As the aromatic sulfone compound, naphthalene sulfonic acid, tetrahydronaphthalene sulfonic acid, indene sulfonic acid, and indane sulfonic acid are formed, respectively. Among them, naphthalene sulfonic acid is preferable.
Xが酸素原子である場合、Yは水素原子を示すが、Rはアルキル基であるか、隣接する2つのRが一緒になってアルキリデン基を形成するのが好ましい。他方Xが窒素原子である場合、YはXに結合するカルボニル基を示すが、Rの全ては水素原子であるのが好ましい。 When X is an oxygen atom, Y represents a hydrogen atom, but R is preferably an alkyl group or two adjacent Rs together form an alkylidene group. On the other hand, when X is a nitrogen atom, Y represents a carbonyl group bonded to X, but all of R are preferably hydrogen atoms.
また、成分(C)の芳香族スルホン化合物は、カウンターカチオンとして任意の1価カチオンZ+を有することができるが、Z+としてはプロトン、アルカリ金属イオン(例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン)、アンモニウムイオンが好ましい。 The aromatic sulfone compound of component (C) can have an arbitrary monovalent cation Z + as a counter cation, where Z + can be a proton, an alkali metal ion (for example, sodium ion, potassium ion), ammonium Ions are preferred.
成分(C)の芳香族スルホン化合物のより好ましい例としては、ベンゼンスルホン酸又はその塩、パラトルエンスルホン酸又はその塩、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸又はその塩、2,5-ジメチルベンゼンスルホン酸又はその塩、ナフタレンスルホン酸又はその塩、サッカリン又はその塩等が挙げられる。中でも、パラトルエンスルホン酸又はその塩、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸又はその塩、ナフタレンスルホン酸又はその塩、サッカリン又はその塩がより好ましい。これらは単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。 More preferable examples of the aromatic sulfone compound of component (C) include benzenesulfonic acid or a salt thereof, paratoluenesulfonic acid or a salt thereof, 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid or a salt thereof, and 2,5-dimethylbenzenesulfone. Examples thereof include acid or a salt thereof, naphthalenesulfonic acid or a salt thereof, saccharin or a salt thereof. Of these, p-toluenesulfonic acid or a salt thereof, 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid or a salt thereof, naphthalenesulfonic acid or a salt thereof, or saccharin or a salt thereof is more preferable. These can be used alone or in combination of two or more.
成分(C)の芳香族スルホン化合物は、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点、及び毛髪化粧料の粘度を調整し、噴霧性を良好にする観点から、毛髪化粧料中に好ましくは0.1〜20質量%、更に好ましくは0.5〜10質量%、更に好ましくは1〜7質量%含有する。 The aromatic sulfone compound of component (C) suppresses the sag of the hair after application, maintains the setting property of the hair, and adjusts the viscosity of the hair cosmetic to improve the sprayability. The cosmetic preferably contains 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and still more preferably 1 to 7% by mass.
〔(D):水〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(D)として、水を50〜95質量%含有する。成分(D)の水は、有機溶媒の使用を低減させる観点から、毛髪化粧料中に好ましくは60〜95質量%、更に好ましくは70〜95質量%、更に好ましくは80〜95質量%含有する。
[(D): Water]
The hair cosmetic composition of the present invention contains 50 to 95% by mass of water as component (D). From the viewpoint of reducing the use of an organic solvent, water of component (D) is preferably contained in the hair cosmetic composition in an amount of 60 to 95% by mass, more preferably 70 to 95% by mass, and further preferably 80 to 95% by mass. .
〔溶媒〕
溶媒としては、低級アルコール(エタノール、イソプロパノール等)、ラクトン類等の水以外の溶媒を含有してもよいが、水以外の溶媒は、毛髪化粧料に含まれる各成分の溶解性を向上させる観点から、毛髪化粧料中に好ましくは0〜45質量%、更に好ましくは0〜30質量%、更に好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜15質量%、更に好ましくは0〜10質量%である。
〔solvent〕
The solvent may contain a solvent other than water, such as lower alcohol (ethanol, isopropanol, etc.), lactones, etc., but the solvent other than water is a viewpoint that improves the solubility of each component contained in the hair cosmetic. From 0 to 45% by weight, preferably 0 to 30% by weight, more preferably 0 to 20% by weight, still more preferably 0 to 15% by weight, and still more preferably 0 to 10% by weight in the hair cosmetic composition. It is.
〔任意成分〕
本発明の毛髪化粧料中には、上記成分のほかに、本発明の効果を妨げない限度内で、化粧料用油剤を添加することができ、毛髪化粧料中における含有量は好ましくは0.1〜10質量%である。このような化粧料用油剤としては、ヒマシ油、カカオ油、ミンク油、アボカド油、オリーブ油等のグリセライド類;ミツロウ、鯨ロウ、ラノリン、カルナウバロウ等のロウ類;セチルアルコール、オレイルアルコール、ヘキサデシルアルコール、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、2-オクチルドデカノール等の高級アルコール類;ミリスチン酸イソプロピル、ラウリン酸ヘキシル、乳酸セチル、モノステアリン酸プロピレングリコール、オレイン酸オレイル、2-エチルヘキサン酸ヘキサデシル、ミリスチン酸オクチルドデシル酸のエステル類;流動パラフィン、ワセリン、スクワラン、水添ポリイソブテン等の炭化水素油類;ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル等のシリコーン誘導体;ポリプロピレングリコールなどが挙げられる。更にこれらの化粧料用油剤を乳化安定化するために乳化剤を添加することができる。乳化剤としてはアニオン性、両性、カチオン性、非イオン性のいずれの界面活性剤も使用することができる。
[Optional ingredients]
In the hair cosmetic composition of the present invention, in addition to the above components, a cosmetic oil agent can be added within the limits that do not interfere with the effects of the present invention, and the content in the hair cosmetic composition is preferably 0.1 to 10% by mass. Such cosmetic oils include glycerides such as castor oil, cacao oil, mink oil, avocado oil, olive oil; waxes such as beeswax, whale wax, lanolin, carnauba wax; cetyl alcohol, oleyl alcohol, hexadecyl alcohol Higher alcohols such as lauryl alcohol, stearyl alcohol, isostearyl alcohol, 2-octyldodecanol; isopropyl myristate, hexyl laurate, cetyl lactate, propylene glycol monostearate, oleyl oleate, hexadecyl 2-ethylhexanoate, Esters of myristic acid octyldodecyl acid; liquid oils such as liquid paraffin, petrolatum, squalane, hydrogenated polyisobutene; dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, polyether modified Examples include silicone derivatives such as silicone oil, epoxy-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, and alkyl-modified silicone oil; polypropylene glycol and the like. Furthermore, an emulsifier can be added in order to stabilize the emulsification of these cosmetic oils. As the emulsifier, any of anionic, amphoteric, cationic and nonionic surfactants can be used.
更に、本発明の毛髪化粧料には、商品価値を高めるために香料や色素、毛髪化粧料の経日的変質防止のために防腐剤や酸化防止剤を添加することができ、また、更に必要に応じて、グリセリン、プロピレングリコール等の調湿剤、硬化剤、帯電防止剤、界面活性剤、消泡剤、分散剤、増粘剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤、有色染料、染料定着剤、噴射剤等を添加することもできる。 Further, the hair cosmetic composition of the present invention can be added with a fragrance, a pigment, and a preservative and an antioxidant to prevent daily deterioration of the hair cosmetic composition in order to increase commercial value. Depending on the humidity control agent such as glycerin and propylene glycol, curing agent, antistatic agent, surfactant, antifoaming agent, dispersant, thickener, ultraviolet absorber, antioxidant, preservative, colored dye, Dye fixing agents, propellants and the like can also be added.
〔剤型〕
本発明の毛髪化粧料の剤型としては、特に制限はなく、透明液状、ローション状、乳液状、霧状(ヘアミスト、ヘアスプレー)、泡状(ヘアムース)などが可能であるが、なかでも霧状の形態で塗布する剤型とすることが好ましい。
なお、本発明の毛髪化粧料を、エアゾール原液と噴射剤からなるエアゾール式毛髪化粧料として用いる場合、各成分の含有量は、噴射剤を含まないエアゾール原液の全組成中の含有量をいうものとする。
(Drug type)
The dosage form of the hair cosmetic composition of the present invention is not particularly limited, and can be transparent liquid, lotion, emulsion, mist (hair mist, hair spray), foam (hair mousse), etc. It is preferable that the dosage form is applied in a shape.
When the hair cosmetic composition of the present invention is used as an aerosol-type hair cosmetic composition composed of an aerosol stock solution and a propellant, the content of each component refers to the content in the entire composition of the aerosol stock solution that does not contain a propellant. And
〔粘度〕
本発明の毛髪化粧料は、毛髪への塗布時に適度な粘着性を生じさせるために、粘度が0.1mPa・s以上100mPa・s以下であることが好ましく、更には20mPa・s以下、更には10mPa・s以下であることが好ましい。霧状の形態として用いる場合、粘度を0.1mPa・s以上100mPa・s以下、更には20mPa・s以下、更には10mPa・s以下とすることで、毛髪化粧料を良好な霧状で噴霧することが可能となり、更に例えば噴霧装置のノズルに詰まる等の問題を低減させることができる。
粘度は、25℃、東機産業株式会社製B型回転粘度計(モデルTVB-10H)で、ローターNo.19(L/Adp)を用い、30rpmで1分間回転させた後の値とする。なお、測定は25℃の恒温槽において測定する。
〔viscosity〕
The hair cosmetic composition of the present invention preferably has a viscosity of 0.1 mPa · s or more and 100 mPa · s or less, more preferably 20 mPa · s or less, and further 10 mPa · s, in order to produce appropriate tackiness when applied to the hair. -It is preferable that it is below s. When used as a mist form, the hair cosmetic is sprayed in a good mist form by setting the viscosity to 0.1 mPa · s or more and 100 mPa · s or less, further 20 mPa · s or less, and further 10 mPa · s or less. In addition, problems such as clogging of the nozzles of the spraying device can be reduced.
The viscosity is the value after rotating for 1 minute at 30 rpm using a rotor No. 19 (L / Adp) with a B-type rotational viscometer (model TVB-10H) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. The measurement is performed in a constant temperature bath at 25 ° C.
〔pH〕
本発明の毛髪化粧料のpHは、ガラス電極式水素イオン濃度計F-14(株式会社堀場製作所製)を用いて、サンプルの温度を25℃に調整し、直接電極をサンプルに入れて測定する。本発明の毛髪化粧料のpHは、2〜9が好ましく、更には3〜8が好ましい。
[PH]
The pH of the hair cosmetic of the present invention is measured by adjusting the temperature of the sample to 25 ° C. using a glass electrode type hydrogen ion concentration meter F-14 (manufactured by Horiba, Ltd.) and directly putting the electrode into the sample. . 2-9 are preferable and, as for pH of the hair cosmetics of this invention, 3-8 are more preferable.
以上述べた本発明の実施形態について、以下に総括して示す。 The embodiments of the present invention described above are summarized below.
<1>
次の成分(A)〜(D)を含有する毛髪化粧料。
(A) 皮膜形成樹脂
(B) シクロデキストリン
(C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物
<1>
A hair cosmetic containing the following components (A) to (D).
(A) Film-forming resin
(B) Cyclodextrin
(C) an aromatic sulfone compound represented by the general formula (1)
〔式中、Rは同一若しくは異なって水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する2つのRが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Xは酸素原子又は窒素原子を示し、Xが酸素原子である場合Yは水素原子を、Xが窒素原子である場合YはXに結合するカルボニル基を示す。Z+は1価のカチオンを示す。〕
(D) 水 50〜95質量%
[Wherein, Rs are the same or different and each represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, or two adjacent Rs together form a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group. X represents an oxygen atom or a nitrogen atom, Y represents a hydrogen atom when X is an oxygen atom, and Y represents a carbonyl group bonded to X when X is a nitrogen atom. Z + represents a monovalent cation. ]
(D) Water 50-95 mass%
<2>
成分(A)が、アニオン性ビニルポリマー、カチオン性ビニルポリマー、両性ビニルポリマー、ノニオン性ビニルポリマー、ウレタン系ポリマー、多糖類系ポリマーから選ばれる少なくとも1種のポリマーである<1>に記載の毛髪化粧料。
<2>
The hair according to <1>, wherein the component (A) is at least one polymer selected from an anionic vinyl polymer, a cationic vinyl polymer, an amphoteric vinyl polymer, a nonionic vinyl polymer, a urethane polymer, and a polysaccharide polymer. Cosmetics.
<3>
成分(A)が、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも1種の構成単位を含む重合体又は共重合体である<1>又は<2>に記載の毛髪化粧料。
<3>
The hair cosmetic according to <1> or <2>, wherein the component (A) is a polymer or copolymer containing at least one structural unit represented by the general formula (2) or (3).
〔式中、R1及びR3は水素原子又はメチル基を示し、R2は炭素数1〜24のアルキル基、又は-(AO)nR5で表される置換基(AOはエチレンオキサイド基及び/又はプロピレンオキサイド基、nは平均値で1〜15の数、R5は水素原子又はメチル基)を示し、R4は炭素数1〜12のアルキル基、又はアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基若しくはトリメチルアミノ基を有する炭素数1〜12のアルキル基を示す。〕 [Wherein R 1 and R 3 represent a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, or a substituent represented by — (AO) n R 5 (AO represents an ethylene oxide group) And / or a propylene oxide group, n represents an average value of 1 to 15, R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an amino group, a methylamino group, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms having a dimethylamino group or a trimethylamino group is shown. ]
<4>
成分(A)が、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも1種の構成単位を、一分子中に40〜100質量%、好ましくは50〜100質量%、更に好ましくは60〜100質量%、更に好ましくは70〜100質量%、更に好ましくは80〜100質量%、更に好ましくは90〜100質量%含有する<3>に記載の毛髪化粧料。
<4>
Component (A) contains at least one structural unit represented by the general formula (2) or (3) in a molecule of 40 to 100% by mass, preferably 50 to 100% by mass, more preferably 60 to The hair cosmetic composition according to <3>, containing 100% by mass, more preferably 70 to 100% by mass, still more preferably 80 to 100% by mass, and still more preferably 90 to 100% by mass.
<5>
R2が炭素数1〜22のアルキル基であり、R4が炭素数1〜10のアルキル基である、<3>又は<4>に記載の毛髪化粧料。
<5>
Hair cosmetics according to <3> or <4>, wherein R 2 is an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
<6>
成分(A)の重量平均分子量が、10,000〜500,000、好ましくは20,000〜200,000である<1>〜<5>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<6>
The hair cosmetic composition according to any one of <1> to <5>, wherein the component (A) has a weight average molecular weight of 10,000 to 500,000, preferably 20,000 to 200,000.
<7>
成分(A)の含有量が、毛髪化粧料中の0.01〜20質量%、好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.5〜7質量%である、<1>〜<6>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<7>
<1> to <6>, wherein the content of the component (A) is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 7% by mass in the hair cosmetic composition. The hair cosmetic composition described.
<8>
成分(B)が、α-シクロデキストリンである、<1>〜<7>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<8>
Hair cosmetic according to any one of <1> to <7>, wherein component (B) is α-cyclodextrin.
<9>
成分(B)の含有量が、毛髪化粧料中の0.1〜15質量%、好ましくは1〜10質量%、更に好ましくは2〜6質量%である<1>〜<8>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<9>
The content of the component (B) is 0.1 to 15% by mass, preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 2 to 6% by mass in the hair cosmetic composition, according to any one of <1> to <8>. Hair cosmetics.
<10>
成分(C)が、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸、2,5-ジメチルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、サッカリン及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも1種である<1>〜<9>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<10>
Component (C) is at least selected from the group consisting of benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, saccharin, and salts thereof. The hair cosmetic composition according to any one of <1> to <9>, which is one type.
<11>
成分(C)が、パラトルエンスルホン酸、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、サッカリン及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも1種である<1>〜<9>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<11>
Any of <1> to <9>, wherein the component (C) is at least one selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid, 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, saccharin, and salts thereof. Hair cosmetics according to crab.
<12>
成分(C)の含有量が、毛髪化粧料中の0.1〜20質量%、好ましくは0.5〜10質量%、更に好ましくは1〜7質量%である<1>〜<11>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<12>
The content of the component (C) is 0.1 to 20% by mass, preferably 0.5 to 10% by mass, more preferably 1 to 7% by mass in the hair cosmetic composition, and any one of <1> to <11> Hair cosmetics.
<13>
成分(D)の含有量が、60〜95質量%、より好ましくは70〜95質量%、更に好ましくは80〜95質量%である<1>〜<12>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<13>
The hair cosmetic according to any one of <1> to <12>, wherein the content of the component (D) is 60 to 95% by mass, more preferably 70 to 95% by mass, and still more preferably 80 to 95% by mass. .
<14>
霧状の形態で塗布される剤型である<1>〜<13>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<14>
The hair cosmetic according to any one of <1> to <13>, which is a dosage form applied in a mist form.
<15>
毛髪化粧料の粘度が、0.1mPa・s以上100mPa・s以下、好ましくは20mPa・s以下、更に好ましくは10mPa・s以下である<1>〜<14>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<15>
The hair cosmetic according to any one of <1> to <14>, wherein the viscosity of the hair cosmetic is 0.1 mPa · s or more and 100 mPa · s or less, preferably 20 mPa · s or less, more preferably 10 mPa · s or less.
<16>
毛髪化粧料のpHが、2〜9、好ましくは3〜8である<1>〜<15>のいずれかに記載の毛髪化粧料。
<16>
The hair cosmetic according to any one of <1> to <15>, wherein the pH of the hair cosmetic is 2 to 9, preferably 3 to 8.
実施例1〜7及び比較例1〜6
表1に示す毛髪化粧料(ヘアミスト)を常法に従い調製し、以下の方法に従って、「塗布後の髪垂れ抑制効果」、「セット保持力(高湿度下)」及び「噴霧性」の評価を行った。
Examples 1-7 and Comparative Examples 1-6
Prepare hair cosmetics (hair mist) shown in Table 1 in accordance with conventional methods, and evaluate the “dripping effect after application”, “set retention (under high humidity)” and “sprayability” according to the following methods. went.
<塗布後の髪垂れ抑制効果>
長さ25.5cm、重さ3gの毛束を水で濡らし、直径2.2cmのロッド(管)に巻き、自然乾燥(24時間以上の室温放置)させた。乾燥後、ロッドを取り外し、毛束の見かけの長さ(L)を測定した。次いで、この毛束に各試料0.6gを吉野工業所製のトリガー付きスプレイヤー(PT-200噴口径:φ0.3mm)を用いて均一に塗布した後、常温常湿下に毛束を吊るし、30分後に再び毛束の見かけの長さ(L0)を測定した。
これらの測定値から髪垂れ抑制率を次式にて求めた。
髪垂れ抑制率(%)=〔(25.5−L0)÷(25.5−L)〕×100
この数値が100に近いほど髪垂れ抑制効果が高いことを示す。
<Hair sag suppression effect after application>
A hair bundle having a length of 25.5 cm and a weight of 3 g was wetted with water, wound around a rod (tube) having a diameter of 2.2 cm, and naturally dried (left at room temperature for 24 hours or more). After drying, the rod was removed and the apparent length (L) of the hair bundle was measured. Next, 0.6 g of each sample was uniformly applied to this hair bundle using a sprayer with a trigger (PT-200 nozzle diameter: φ0.3 mm) manufactured by Yoshino Kogyo, and then the hair bundle was suspended at room temperature and humidity. After 30 minutes, the apparent length (L 0 ) of the hair bundle was measured again.
From these measured values, the hair sag suppression rate was determined by the following equation.
Hair sag inhibition rate (%) = [(25.5−L 0 ) ÷ (25.5−L)] × 100
The closer this value is to 100, the higher the effect of suppressing hair sag.
<セット保持力(高湿度下)>
長さ26cm、重さ1gの毛束に各試料0.75gをスポイトで均一に塗布し、直径2.2cmのロッド(管)に巻き、40℃の恒温室内に6時間放置して完全に乾燥させた。乾燥後、ロッドを取り外し、毛束の見かけの長さ(L)を測定した。次いで、温度25℃、湿度90%の恒温恒湿室に毛束を吊るし、2時間後に取り出し、再び毛束の見かけの長さ(L0)を測定した。これらの測定値からセット保持力を次式にて求めた。
セット保持力(%)=〔(26−L0)÷(26−L)〕×100
この数値が100に近いほどセット保持力が強いことを示す。
<Set holding power (under high humidity)>
0.75g of each sample was uniformly applied with a dropper to a hair bundle of 26cm in length and 1g in weight, wound around a 2.2cm diameter rod (tube), and left in a constant temperature room at 40 ° C for 6 hours to dry completely. . After drying, the rod was removed and the apparent length (L) of the hair bundle was measured. Next, the hair bundle was hung in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 90%, taken out after 2 hours, and the apparent length (L 0 ) of the hair bundle was measured again. From these measured values, the set holding force was obtained by the following equation.
Set holding force (%) = [(26−L 0 ) ÷ (26−L)] × 100
The closer this value is to 100, the stronger the set holding power.
<噴霧性>
吉野工業所製のトリガー付きスプレイヤー(PT-200噴口径:φ0.3mm)に各試料を封入し、噴霧したときの噴霧状態を観察した。
○:霧状に噴霧された(噴霧良好)
×:霧状にならず直線状に吐出した。あるいは、吐出しなかった(噴霧不良)
<Sprayability>
Each sample was sealed in a sprayer with a trigger (PT-200 nozzle diameter: φ0.3 mm) manufactured by Yoshino Kogyo, and the sprayed state was observed.
○: Sprayed in a mist form (good spraying)
X: It discharged in linear form, without becoming foggy. Or did not discharge (spray failure)
実施例8
以下に示すヘアミスト剤を常法により製造した。
(質量%)
ガントレッツES-225(ISP社製;50質量%水溶液) 10
α-シクロデキストリン 3.5
β-ナフタレンスルホン酸Na 1.5
アミノメチルプロパノール 0.4
精製水 バランス
Example 8
The hair mist agent shown below was produced by a conventional method.
(mass%)
GANTREZ ES-225 (ISP, 50% by weight aqueous solution) 10
α-Cyclodextrin 3.5
β-Naphthalenesulfonic acid Na 1.5
Aminomethylpropanol 0.4
Purified water balance
実施例9
以下に示すヘアスプレー剤を常法により製造した。
(質量%)
ユカフォーマーM-75(三菱油化社製;30質量%エタノール液) 16.7
α-シクロデキストリン 3.5
β-ナフタレンスルホン酸Na 1.5
精製水 バランス
ジメチルエーテル(DME) 10.0
Example 9
The hair spray shown below was produced by a conventional method.
(mass%)
Yuka Former M-75 (Mitsubishi Oil Chemical Co., Ltd .; 30% ethanol solution) 16.7
α-Cyclodextrin 3.5
β-Naphthalenesulfonic acid Na 1.5
Purified water Balance Dimethyl ether (DME) 10.0
Claims (10)
(A) 皮膜形成樹脂
(B) シクロデキストリン
(C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物
(D) 水 50〜95質量% A hair cosmetic containing the following components (A) to (D).
(A) Film-forming resin
(B) Cyclodextrin
(C) an aromatic sulfone compound represented by the general formula (1)
(D) Water 50-95 mass%
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018140966A (en) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 株式会社シンコー・サイエンス・コーポレーション | Carbon dioxide pack agent preparation kit |
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2012
- 2012-08-30 JP JP2012190226A patent/JP2014047151A/en active Pending
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