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JP2013223164A - Imaging module - Google Patents

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JP2013223164A
JP2013223164A JP2012094595A JP2012094595A JP2013223164A JP 2013223164 A JP2013223164 A JP 2013223164A JP 2012094595 A JP2012094595 A JP 2012094595A JP 2012094595 A JP2012094595 A JP 2012094595A JP 2013223164 A JP2013223164 A JP 2013223164A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solid
state imaging
chip
imaging module
module according
Prior art date
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Pending
Application number
JP2012094595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junpei Ishikawa
純平 石川
Daikichi Morohashi
大吉 師橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Priority to JP2012094595A priority Critical patent/JP2013223164A/en
Publication of JP2013223164A publication Critical patent/JP2013223164A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H10W72/01515
    • H10W72/075
    • H10W72/884

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  • Studio Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができる撮像モジュールを提供すること。
【解決手段】受光した光を光電変換処理する固体撮像素子チップ20と、固体撮像素子チップ20を搭載する配線基板30と、固体撮像素子チップ20の受光面側に配置されるレンズ10aと、配線基板30に保持されるとともに、レンズ10aを保持する鏡枠10と、少なくとも固体撮像素子チップ20の側面、鏡枠10および配線基板30に連結する熱伝導性樹脂40と、を備えた。
【選択図】図1
An imaging module capable of ensuring a desired light collection efficiency and improving heat dissipation efficiency.
A solid-state image sensor chip 20 that photoelectrically converts received light, a wiring board 30 on which the solid-state image sensor chip 20 is mounted, a lens 10a disposed on the light-receiving surface side of the solid-state image sensor chip 20, and wiring A lens frame 10 that is held by the substrate 30 and holds the lens 10 a, and at least a side surface of the solid-state imaging device chip 20, a thermal conductive resin 40 that is connected to the lens frame 10 and the wiring substrate 30 are provided.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、撮像用の複数の画素から光電変換後の電気信号を画像情報として出力可能である撮像モジュールに関する。   The present invention relates to an imaging module capable of outputting an electrical signal after photoelectric conversion from a plurality of pixels for imaging as image information.

近年、ビデオカメラ等の撮像装置における動画像の撮影において、高精細化、高フレームレート化が進んでいる。この撮像装置が備える撮像モジュールは、例えば、光透過性を有するレンズを保持する鏡枠と、撮像用の複数の画素を有し、この画素がレンズを介して受光して光電変換処理した電気信号を映像信号として出力する撮像素子(固体撮像素子チップ)と、鏡枠を保持し、固体撮像素子チップを実装する配線基板と、からなる。撮像モジュールにおいて、固体撮像素子チップは、レンズを保持する鏡枠と配線基板とによってパッケージングされている。また、レンズに代えて、固体撮像素子チップをカバーするカバーガラスを用いる場合もある。この場合、カバーガラスはカバーガラスホルダーに保持される。   2. Description of the Related Art In recent years, high-definition and high frame rates have been advanced in moving image shooting in an imaging apparatus such as a video camera. The imaging module included in the imaging apparatus includes, for example, a lens frame that holds a light-transmitting lens and a plurality of pixels for imaging, and the electrical signals that are received by the pixels through the lens and subjected to photoelectric conversion processing Is output as a video signal, and a wiring board that holds a mirror frame and mounts the solid-state image sensor chip. In an imaging module, a solid-state imaging device chip is packaged by a lens frame that holds a lens and a wiring board. Moreover, it may replace with a lens and the cover glass which covers a solid-state image sensor chip | tip may be used. In this case, the cover glass is held by the cover glass holder.

ここで、固体撮像素子チップには、光を受光する受光面上に複数のマイクロレンズが設けられ、このマイクロレンズによって光を集光することによって撮像素子の感度を向上させている。また、撮像モジュールにおいて、固体撮像素子チップとレンズとの間の空間や、カバーガラスを保持するカバーガラスホルダーに代えて、マイクロレンズの上面を透明樹脂などによって覆うことで固体撮像素子チップのパッケージングを行うものがある(例えば、特許文献1参照)。固体撮像素子チップを透明樹脂などによってパッケージングすることによって、撮像モジュールの軽量化を図ることができる。   Here, the solid-state imaging device chip is provided with a plurality of microlenses on a light receiving surface that receives light, and the sensitivity of the imaging device is improved by condensing the light by the microlenses. In addition, in the imaging module, instead of the space between the solid-state imaging device chip and the lens and the cover glass holder that holds the cover glass, the top surface of the microlens is covered with a transparent resin or the like to package the solid-state imaging device chip. (For example, refer to Patent Document 1). By packaging the solid-state imaging device chip with a transparent resin or the like, the imaging module can be reduced in weight.

ところで、近年、撮像モジュール内の固体撮像素子チップが、信号に対してA/D変換処理を施すA/D変換器や、A/D変換器によってA/D変換されたデジタル信号に対して処理を施すデジタル信号処理部も備えるようになり、高集積化が進むことによって固体撮像素子チップの発熱量が増えている。この発熱による熱雑音によってノイズが増大して取得する画像の画質が低下するため、このノイズを抑制するという観点から固体撮像素子チップに対して、より高い放熱性能が求められている。   By the way, in recent years, a solid-state imaging device chip in an imaging module has processed an A / D converter that performs A / D conversion processing on a signal, and a digital signal that has been A / D converted by the A / D converter. The digital signal processing unit for applying the above is also provided, and the amount of heat generated by the solid-state imaging device chip is increased as the degree of integration increases. Since the noise increases due to the heat noise due to the heat generation and the image quality of the acquired image is lowered, higher heat dissipation performance is required for the solid-state imaging device chip from the viewpoint of suppressing the noise.

これに対し、撮像モジュールなどで発生した熱の放熱を効率的に行う技術として、例えば、半導体チップの背面に金属体(半田)を配設し、半導体チップで発生した熱を直接金属体が熱伝導して放熱する技術が開示されている(例えば、特許文献2参照)。   On the other hand, as a technique for efficiently radiating heat generated in an imaging module or the like, for example, a metal body (solder) is disposed on the back surface of the semiconductor chip, and the heat generated in the semiconductor chip is directly heated by the metal body. A technique for conducting and dissipating heat is disclosed (for example, see Patent Document 2).

特開平5−206430号公報JP-A-5-206430 特開2006−324540号公報JP 2006-324540 A

しかしながら、特許文献1が開示する技術では、透明樹脂によってマイクロレンズアレイでの屈折率の差が確保できずに集光効率が低下し、固体撮像素子チップの受光部が受光する光量が低下してしまうという欠点があった。   However, in the technique disclosed in Patent Literature 1, the difference in refractive index between the microlens arrays cannot be ensured by the transparent resin, the light collection efficiency is reduced, and the amount of light received by the light receiving unit of the solid-state imaging device chip is reduced. There was a drawback of end.

また、特許文献2が開示する技術は、撮像モジュールとこの撮像モジュールを保持する基板との間で熱を伝達するものであり、撮像モジュール内において固体撮像素子チップで発生した熱を積極的に外部に放熱する構成を有しておらず、撮像モジュールの内部における放熱に関しては考慮されていなかった。   The technique disclosed in Patent Document 2 is for transferring heat between an imaging module and a substrate holding the imaging module, and actively generates heat generated by the solid-state imaging device chip in the imaging module. However, the heat dissipation inside the imaging module was not taken into consideration.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができる撮像モジュールを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and it is an object of the present invention to provide an imaging module capable of ensuring desired light collection efficiency and realizing efficient heat dissipation.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる撮像モジュールは、受光した光を光電変換処理する固体撮像素子チップと、前記固体撮像素子チップを搭載する基板と、前記固体撮像素子チップの受光面側に配置される光透過部材と、前記基板に保持されるとともに、前記光透過部材を保持する鏡枠と、少なくとも前記固体撮像素子チップの側面、前記鏡枠および前記基板に接触する熱伝導性部材と、を備えたことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, an imaging module according to the present invention includes a solid-state imaging device chip that photoelectrically converts received light, a substrate on which the solid-state imaging device chip is mounted, and the solid-state imaging A light transmitting member disposed on the light receiving surface side of the element chip, a lens frame that is held by the substrate and holds the light transmitting member, and at least a side surface of the solid-state imaging element chip, the lens frame, and the substrate And a thermally conductive member in contact therewith.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記熱伝導性部材は、熱伝導性樹脂であって、前記熱伝導性樹脂は、前記固体撮像素子チップの側面と前記鏡枠の壁面との間に充填されることを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention, in the above invention, the thermally conductive member is a thermally conductive resin, and the thermally conductive resin includes a side surface of the solid-state imaging element chip and a wall surface of the lens frame. It is filled with between.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記基板は、前記固体撮像素子チップの搭載面上に電子素子または導電部材をさらに有し、前記熱伝導性樹脂は、前記電子素子または前記導電部材を包埋することを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention, in the above invention, the substrate further includes an electronic element or a conductive member on a mounting surface of the solid-state imaging element chip, and the thermally conductive resin is the electronic element or The conductive member is embedded.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記熱伝導性部材の厚さは、前記固体撮像素子チップの厚さよりも厚いことを特徴とする。   Moreover, the imaging module according to the present invention is characterized in that, in the above invention, the thickness of the thermal conductive member is larger than the thickness of the solid-state imaging device chip.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記固体撮像素子チップは、略板状をなし、前記固体撮像素子チップの有効画素領域の外側に、該固体撮像素子チップの板厚方向に延出した壁構造を有することを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention, in the above invention, the solid-state imaging element chip has a substantially plate shape, and the solid-state imaging element chip has a thickness direction outside the effective pixel area of the solid-state imaging element chip. It has the wall structure extended in this.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記壁構造は、前記固体撮像素子チップと別体に形成された部材を、前記固体撮像素子チップの受光面に配置したものであることを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention, in the above invention, the wall structure is configured such that a member formed separately from the solid-state imaging element chip is disposed on a light receiving surface of the solid-state imaging element chip. It is characterized by.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記壁構造は、前記固体撮像素子チップの上面に熱、空気、または紫外線により硬化する高分子材料を配置したものであることを特徴とする。   The imaging module according to the present invention is characterized in that, in the above invention, the wall structure is one in which a polymer material that is cured by heat, air, or ultraviolet rays is disposed on the upper surface of the solid-state imaging device chip. To do.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記壁構造は、前記固体撮像素子チップを製造する工程において形成されることを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention, the wall structure is formed in a process of manufacturing the solid-state imaging device chip.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記壁構造は、前記固体撮像素子チップの前記有効画素領域の形成面から外側に向かって傾斜した傾斜面を有することを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention as set forth in the invention described above, the wall structure has an inclined surface inclined outward from a surface on which the effective pixel region of the solid-state imaging device chip is formed.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記熱伝導性部材は、光線不透過性を有することを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention as set forth in the invention described above, the thermal conductive member has light-opacity.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記熱伝導性部材は、前記基板に形成された貫通孔の開口を塞ぐことを特徴とする。   The imaging module according to the present invention is characterized in that, in the above invention, the thermally conductive member blocks an opening of a through hole formed in the substrate.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記熱伝導性部材は、前記固体撮像素子チップの受光面のうち、有効画素領域を除く領域に接触することを特徴とする。   In the imaging module according to the present invention as set forth in the invention described above, the thermal conductive member is in contact with a region excluding an effective pixel region on a light receiving surface of the solid-state imaging device chip.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記熱伝導性部材に接触する伝熱部材をさらに有し、前記基板、前記光透過部材、前記鏡枠および前記伝熱部材によって空間を形成し、前記伝熱部材は、前記空間から外側に延出することを特徴とする。   The imaging module according to the present invention further includes a heat transfer member in contact with the heat conductive member in the above invention, and a space is formed by the substrate, the light transmission member, the lens frame, and the heat transfer member. The heat transfer member is formed and extends outward from the space.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記基板、前記光透過部材および前記鏡枠によって形成される空間の外側の前記鏡枠の側面に当接する伝熱部材をさらに有することを特徴とする。   The imaging module according to the present invention further includes a heat transfer member that contacts the side surface of the lens frame outside the space formed by the substrate, the light transmission member, and the lens frame in the above invention. Features.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、上記の発明において、前記固体撮像素子チップは、光電変換素子部と周辺回路部とが積層されてなる積層構造であり、前記熱伝導性部材は、前記固体撮像素子チップの前記周辺回路部に当接することを特徴とする。   Further, in the imaging module according to the present invention, in the above invention, the solid-state imaging device chip has a laminated structure in which a photoelectric conversion element portion and a peripheral circuit portion are laminated, and the thermal conductive member is the solid-state element. It is in contact with the peripheral circuit portion of the imaging element chip.

また、本発明にかかる撮像モジュールは、受光した光を光電変換処理する固体撮像素子チップと、前記固体撮像素子チップを搭載する基板と、前記基板に保持される保持部材と、前記保持部材に保持されるとともに、前記固体撮像素子チップの受光面に配置されて光を透過するカバーガラスと、少なくとも前記固体撮像素子チップの側面、前記保持部材および前記基板に連結する熱伝導性部材と、前記基板に保持されるとともに、レンズを保持し、前記固体撮像チップ、前記保持部材および前記カバーガラスを、前記基板、前記レンズとによって形成する内部空間内に内包する鏡枠と、を備えたことを特徴とする。   The imaging module according to the present invention includes a solid-state imaging device chip that performs photoelectric conversion processing on received light, a substrate on which the solid-state imaging device chip is mounted, a holding member that is held by the substrate, and held by the holding member. And a cover glass that is disposed on the light receiving surface of the solid-state image sensor chip and transmits light, at least a side surface of the solid-state image sensor chip, a heat conductive member connected to the holding member and the substrate, and the substrate And a lens frame that holds the lens and encloses the solid-state imaging chip, the holding member, and the cover glass in an internal space formed by the substrate and the lens. And

本発明によれば、撮像モジュール内において、固体撮像素子チップ、鏡枠および基板の間に熱伝導性樹脂を配設して、固体撮像素子チップにおいて発生した熱を、熱伝導性樹脂を介して鏡枠または基板に伝達して外部に放熱するようにしたので、所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができるという効果を奏する。   According to the present invention, in the imaging module, a heat conductive resin is disposed between the solid-state image sensor chip, the lens frame, and the substrate, and the heat generated in the solid-state image sensor chip is passed through the heat conductive resin. Since the heat is transmitted to the lens frame or the substrate and radiated to the outside, the desired condensing efficiency can be ensured and the efficiency of heat radiation can be improved.

図1は、本発明の実施の形態1にかかる撮像モジュールの概略構成を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of the imaging module according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の実施の形態1の変形例1−1にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to Modification 1-1 of Embodiment 1 of the present invention. 図3は、本発明の実施の形態1の変形例1−2にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to Modification 1-2 of Embodiment 1 of the present invention. 図4は、本発明の実施の形態1の変形例1−3にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to Modification 1-3 of Embodiment 1 of the present invention. 図5は、本発明の実施の形態2にかかる撮像モジュールの概略構成を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of the imaging module according to the second embodiment of the present invention. 図6は、本発明の実施の形態2にかかる撮像モジュールの製造方法を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a method for manufacturing the imaging module according to the second embodiment of the present invention. 図7は、本発明の実施の形態2の変形例2−1にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to Modification 2-1 of Embodiment 2 of the present invention. 図8は、本発明の実施の形態2の変形例2−2にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to Modification 2-2 of Embodiment 2 of the present invention. 図9は、本発明の実施の形態2の変形例2−3にかかる撮像モジュールの要部の構成を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram illustrating a configuration of a main part of an imaging module according to Modification 2-3 of Embodiment 2 of the present invention. 図10は、図9のA−A線断面に応じた撮像モジュールの要部の構成を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a configuration of a main part of the imaging module corresponding to the cross section taken along the line AA in FIG. 9. 図11は、本発明の実施の形態2の変形例2−4にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to Modification 2-4 of Embodiment 2 of the present invention. 図12は、本発明の実施の形態3にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 12 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to the third embodiment of the present invention. 図13は、本発明の実施の形態4にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to the fourth embodiment of the present invention.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「実施の形態」という)として、撮像用の複数の画素から光電変換後の電気信号を画像情報として出力可能である撮像モジュールについて説明する。また、この実施の形態により、この発明が限定されるものではない。さらに、図面の記載において、同一部分には同一の符号を付している。さらにまた、図面は、模式的なものであり、各部材の厚みと幅との関係、各部材の比率等は、現実と異なることに留意する必要がある。また、図面の相互間においても、互いの寸法や比率が異なる部分が含まれている。   Hereinafter, as an embodiment for implementing the present invention (hereinafter referred to as “embodiment”), an imaging module capable of outputting an electrical signal after photoelectric conversion from a plurality of imaging pixels as image information will be described. Moreover, this invention is not limited by this embodiment. Furthermore, the same code | symbol is attached | subjected to the same part in description of drawing. Furthermore, the drawings are schematic, and it should be noted that the relationship between the thickness and width of each member, the ratio of each member, and the like are different from the actual ones. Moreover, the part from which a mutual dimension and ratio differ also in between drawings.

(実施の形態1)
図1は、本実施の形態1にかかる撮像モジュール1の概略構成を示す模式図である。図1に示すように、撮像モジュール1は、レンズ10a(光透過部材)を保持する鏡枠10と、撮像用の複数の画素を有し、この画素がそれぞれ光電変換処理した後の信号を映像信号として出力する固体撮像素子チップ20と、固体撮像素子チップ20が実装され、固体撮像素子チップ20と外部の回路との間を電気的に接続する配線基板30と、少なくとも空気と比して高い熱伝導性を有する熱伝導性樹脂40(熱伝導性部材)と、を備える。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of the imaging module 1 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the imaging module 1 includes a lens frame 10 that holds a lens 10a (light transmission member) and a plurality of pixels for imaging, and each pixel outputs a signal after photoelectric conversion processing. A solid-state image sensor chip 20 that outputs signals and a solid-state image sensor chip 20 mounted thereon, and a wiring board 30 that electrically connects the solid-state image sensor chip 20 and an external circuit, at least higher than air Thermally conductive resin 40 (thermally conductive member) having thermal conductivity.

ここで、撮像モジュール1は、鏡枠10と配線基板30とによって形成される内部空間に固体撮像素子チップ20が入れ込まれて接合された構造をなす。なお、固体撮像素子チップ20は、受光面側がレンズ10a側に向くように設けられている。   Here, the imaging module 1 has a structure in which the solid-state imaging device chip 20 is inserted into and joined to an internal space formed by the lens frame 10 and the wiring board 30. The solid-state imaging device chip 20 is provided so that the light receiving surface side faces the lens 10a side.

固体撮像素子チップ20は、略板状をなし、光学系からの光を光電変換して信号を映像信号として出力する。具体的には、固体撮像素子チップ20は、光量に応じた電荷を蓄積するフォトダイオードおよびフォトダイオードが蓄積した電荷を増幅する増幅器をそれぞれ有する複数の画素が2次元マトリックス状に配設された受光部および垂直走査回路を有する光電変換部と、光電変換部から出力された信号をアナログ/デジタル変換(A/D変換回路)して、所定の信号処理を行うデジタル信号処理部と、からなる。   The solid-state image sensor chip 20 has a substantially plate shape, photoelectrically converts light from the optical system, and outputs a signal as a video signal. Specifically, the solid-state imaging device chip 20 is a light receiving device in which a plurality of pixels each having a photodiode that accumulates electric charge according to the amount of light and an amplifier that amplifies the electric charge accumulated by the photodiode are arranged in a two-dimensional matrix. And a photoelectric conversion unit having a vertical scanning circuit, and a digital signal processing unit that performs analog / digital conversion (A / D conversion circuit) on a signal output from the photoelectric conversion unit and performs predetermined signal processing.

また、固体撮像素子チップ20は、受光側の表面であって、画素上に設けられ、外部の光を集光するマイクロレンズMLを有する。受光部において配設される画素のうち、実際の撮像する際に用いられる画素を有効画素、有効画素の周囲に設けられ、ノイズ補正用であって、遮光された画素を遮光画素としたとき、有効画素が配設される領域を有効画素領域Re、有効画素領域Reの周囲に設けられ、遮光画素が配設される領域をオプティカルブラック領域OBとする。マイクロレンズMLは、少なくとも有効画素領域Reの画素上に設けられている。   The solid-state imaging device chip 20 has a microlens ML that is provided on the pixel on the light receiving side surface and collects external light. Among the pixels arranged in the light receiving unit, pixels used for actual imaging are effective pixels, provided around the effective pixels, for noise correction, and when the light-shielded pixels are light-shielded pixels, An area where the effective pixels are arranged is an effective pixel area Re, and an area where the light shielding pixels are arranged is an optical black area OB. The microlens ML is provided at least on the pixels in the effective pixel region Re.

配線基板30は、略板状をなし、少なくとも固体撮像素子チップ20を実装し、鏡枠10を保持する。また、配線基板30の表面には、コンデンサ(電子素子)や、固体撮像素子チップ20と信号の入出力を行なうためのボンディングパッド(図示せず)が設けられている。また、配線基板30には、撮像モジュール1の外部との通信を行うインターフェイスであるI/Fコネクタが設けられるものであってもよい。このとき、配線基板30は、上述したボンディングパッドに接続されるワイヤーW1,W2(導電部材)によって固体撮像素子チップ20と電気的に接続している。   The wiring board 30 has a substantially plate shape, mounts at least the solid-state imaging element chip 20, and holds the lens frame 10. Further, a capacitor (electronic element) and a bonding pad (not shown) for inputting / outputting signals to / from the solid-state imaging device chip 20 are provided on the surface of the wiring board 30. Further, the wiring board 30 may be provided with an I / F connector which is an interface for performing communication with the outside of the imaging module 1. At this time, the wiring board 30 is electrically connected to the solid-state imaging device chip 20 by wires W1 and W2 (conductive members) connected to the bonding pads described above.

熱伝導性樹脂40は、鏡枠10、固体撮像素子チップ20および配線基板30が形成する内部空間であって、固体撮像素子チップ20の側面側の空間に充填されて略環状をなして設けられ、鏡枠10、固体撮像素子チップ20および配線基板30と接触している。熱伝導性樹脂40は、固体撮像素子チップ20で発生した熱を、鏡枠10または配線基板30側へ伝達する。熱伝導性樹脂40は、絶縁性の樹脂にダイヤモンドフィラーが添加されたものが挙げられる。熱伝導樹脂40は、絶縁性を有するとともに、8W/mK以上の熱伝導率であることが好ましい。また、絶縁性の樹脂としては、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂が挙げられる。熱伝導性樹脂40として、具体的には、TCA4105(シーマ電子株式会社製)、ジーマ・イナス(住友大阪セメント株式会社製)などが挙げられる。   The thermally conductive resin 40 is an internal space formed by the lens frame 10, the solid-state image sensor chip 20, and the wiring substrate 30, and is provided in a substantially annular shape by filling the space on the side surface side of the solid-state image sensor chip 20. The lens frame 10, the solid-state imaging device chip 20, and the wiring substrate 30 are in contact with each other. The thermally conductive resin 40 transmits heat generated in the solid-state imaging device chip 20 to the lens frame 10 or the wiring board 30 side. Examples of the heat conductive resin 40 include a resin obtained by adding a diamond filler to an insulating resin. The thermal conductive resin 40 preferably has an insulating property and a thermal conductivity of 8 W / mK or more. Examples of the insulating resin include silicon resin, epoxy resin, and urethane resin. Specific examples of the thermally conductive resin 40 include TCA4105 (manufactured by Cima Electronics Co., Ltd.) and Zima Inus (manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.).

このとき、熱伝導樹脂40は、固体撮像素子チップ20で発生した熱を吸熱するとともに、鏡枠10側に伝達する。鏡枠10は、熱伝導樹脂40から伝達された熱を、外部に放出する。また、熱伝導性樹脂40のダイヤモンドフィラーの添加位置を調節することによって伝達経路を調整することも可能である。なお、固体撮像素子チップ20の受光に影響を考慮し、熱伝導性樹脂40は、遮光する(光線不透過性)もの、例えば黒色であることが好ましい。これにより、後述するスルーホールTH1(貫通孔)を介して鏡枠10内に固体撮像素子チップ20が受光する光以外の光の進入を防止することができる。このとき、熱伝導性樹脂40は、スルーホールTH1の開口を塞いでいる。   At this time, the heat conductive resin 40 absorbs the heat generated in the solid-state image sensor chip 20 and transmits it to the lens frame 10 side. The lens frame 10 releases the heat transmitted from the heat conductive resin 40 to the outside. It is also possible to adjust the transmission path by adjusting the addition position of the diamond filler in the heat conductive resin 40. In consideration of the influence on the light reception of the solid-state image pickup device chip 20, the heat conductive resin 40 is preferably light-shielding (light opaque), for example, black. Thereby, it is possible to prevent the light other than the light received by the solid-state imaging device chip 20 from entering the lens frame 10 through a through-hole TH1 (through hole) described later. At this time, the thermally conductive resin 40 closes the opening of the through hole TH1.

また、配線基板30には、熱伝導樹脂40の配設位置に応じて設けられ、板厚方向に貫通する貫通孔であるスルーホールTH1が複数形成されている。これにより、熱伝導性樹脂40が固体撮像素子チップ20から伝達した熱を、スルーホールTH1または配線基板30を介して外部に放熱する。   In addition, the wiring board 30 is provided with a plurality of through holes TH1 which are provided according to the arrangement positions of the heat conductive resin 40 and are through holes penetrating in the plate thickness direction. Thereby, the heat transferred from the solid-state image sensor chip 20 by the heat conductive resin 40 is radiated to the outside through the through hole TH1 or the wiring board 30.

ここで、レンズ10aと固体撮像素子チップ20(受光部)の間は、空気層からなる空間領域が形成されている。これにより、透明樹脂を介して受光する場合と比して、マイクロレンズMLが集光する集光効率を高い水準のものとして確保することができる。   Here, a space region formed of an air layer is formed between the lens 10a and the solid-state imaging device chip 20 (light receiving unit). Thereby, compared with the case where it receives through a transparent resin, the condensing efficiency which the micro lens ML condenses can be ensured as a high level thing.

以上説明した本実施の形態1によれば、撮像モジュール内において、固体撮像素子チップと鏡枠との間に熱伝導性樹脂を配設して、固体撮像素子チップにおいて発生した熱を、熱伝導性樹脂を介して鏡枠に伝達して外部に放熱するようにしたので、所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができる。   According to the first embodiment described above, in the imaging module, a heat conductive resin is disposed between the solid-state imaging device chip and the lens frame so that the heat generated in the solid-state imaging device chip is transferred to the heat. Since heat is transmitted to the lens frame via the heat-resistant resin and radiated to the outside, desired light collection efficiency can be ensured and heat radiation efficiency can be improved.

図2は、本実施の形態1の変形例1−1にかかる撮像モジュール1aの構成を示す模式図である。上述した実施の形態1では、固体撮像素子チップ20で発生した熱を、熱伝導性樹脂40によって鏡枠10および配線基板30に伝達し、外部に放熱するものとして説明したが、配線基板30と同様の形状をなす配線基板30aの固体撮像素子チップ20の実装面と反対側(外部側)の面に放熱部材41を設けて、配線基板30aの熱を放熱部材41から放出するものであってもよい。   FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration of the imaging module 1a according to the modified example 1-1 of the first embodiment. In the first embodiment described above, the heat generated in the solid-state imaging device chip 20 has been described as being transmitted to the lens frame 10 and the wiring board 30 by the heat conductive resin 40 and radiated to the outside. A heat dissipating member 41 is provided on a surface opposite to the mounting surface of the solid-state imaging device chip 20 (external side) of the wiring substrate 30a having the same shape, and the heat of the wiring substrate 30a is released from the heat dissipating member 41. Also good.

放熱部材41は、固体撮像素子チップ20で発生した熱を、配線基板30aを介して外部側へ放熱する。放熱部材41は、金属材料からなる板状部材である。なお、金属材料は、配線基板30aを構成する材料と比して、熱伝導率の大きいものであれば適用可能である。   The heat radiating member 41 radiates the heat generated in the solid-state image sensor chip 20 to the outside via the wiring board 30a. The heat dissipation member 41 is a plate-like member made of a metal material. The metal material is applicable as long as it has a higher thermal conductivity than the material constituting the wiring board 30a.

このとき、配線基板30aには、上述した熱伝導性樹脂40の配設位置に応じた位置に設けられるスルーホールTH1のほか、放熱部材41の配設位置に、板厚方向に貫通するスルーホールTH2が設けられている。このスルーホールTH2によって、固体撮像素子チップ20と配線基板30aとの間の熱効率を向上させることができる。   At this time, in the wiring board 30a, in addition to the through hole TH1 provided at a position corresponding to the arrangement position of the above-described heat conductive resin 40, a through hole penetrating in the thickness direction at the arrangement position of the heat radiation member 41 is provided. TH2 is provided. The through hole TH2 can improve the thermal efficiency between the solid-state image sensor chip 20 and the wiring board 30a.

なお、配線基板30aと放熱部材41との間に熱伝導性ペーストを配設し、この熱伝導性ペーストによって両者が固着されていることが好ましい。熱伝導ペーストは、配線基板30aを構成する材料と比して熱伝導率の大きい金属または樹脂、若しくは、熱伝導率の大きい金属粉を含む樹脂等であれば適用可能である。   In addition, it is preferable that a heat conductive paste is disposed between the wiring board 30a and the heat dissipation member 41, and the both are fixed by the heat conductive paste. The heat conductive paste can be applied as long as it is a metal or resin having a higher thermal conductivity than the material constituting the wiring substrate 30a, or a resin containing a metal powder having a higher thermal conductivity.

ここで、近年では、撮像モジュール1が組み込まれる機器の小型化に対する市場要求と半導体の微細化の進化によって固体撮像素子チップ20上の回路間隔も狭められ、上述した光電変換部と、光電変換部からのアナログ信号をデジタル変換するA/D変換回路を含むデジタル信号処理部との境界領域の距離もとても小さくなってきている。このため、撮像モジュール1の組立て加工処理の精度もこれに合わせて高めていくことが一段と困難となる一方で、放熱経路を分離し熱的なショートを回避することも必要となってくる。熱的にショートしてしまうと、光電変換部と比して相対的に発熱量(単位時間当たりの発熱量)の多いデジタル信号処理部から、光電変換部に熱が伝達される。このため、固体撮像素子チップ20の光電変換部のデジタル信号処理部側の温度が上がり、配列された画素中のデジタル信号処理部側の画素において熱雑音によって画質が低下し、その結果、高画質で利用できる画面領域(画素領域)が小さくなってしまう。上述した問題に対して、デジタル信号処理部の熱が光電変換部に伝達しないような構成が望まれている。   Here, in recent years, the circuit interval on the solid-state imaging device chip 20 has been narrowed due to the market demand for miniaturization of the device in which the imaging module 1 is incorporated and the miniaturization of the semiconductor, and the photoelectric conversion unit and the photoelectric conversion unit described above are reduced. The distance of the boundary region with the digital signal processing unit including the A / D conversion circuit that converts the analog signal from the digital signal into a digital signal is also becoming very small. For this reason, it becomes more difficult to increase the accuracy of the assembly processing of the imaging module 1, and it is also necessary to separate the heat dissipation path and avoid a thermal short circuit. When a short circuit occurs, heat is transferred from the digital signal processing unit having a relatively large amount of heat generation (a heat generation amount per unit time) to the photoelectric conversion unit as compared with the photoelectric conversion unit. For this reason, the temperature on the digital signal processing unit side of the photoelectric conversion unit of the solid-state imaging device chip 20 is increased, and the image quality is deteriorated due to thermal noise in the pixels on the digital signal processing unit side in the arranged pixels. The screen area (pixel area) that can be used in the above becomes smaller. In order to solve the above-described problem, a configuration is desired in which the heat of the digital signal processing unit is not transferred to the photoelectric conversion unit.

この問題に対して、上述した実施の形態1や変形例1−1の構成において、固体撮像素子チップ20のデジタル信号処理部に近い方の側面の熱伝導性樹脂40または放熱部材41の厚みを厚くするなどして対応することが可能である。   With respect to this problem, in the configuration of the first embodiment and the modified example 1-1 described above, the thickness of the heat conductive resin 40 or the heat radiation member 41 on the side surface closer to the digital signal processing unit of the solid-state imaging device chip 20 is set. It is possible to cope with this by increasing the thickness.

図3は、本実施の形態1の変形例1−2にかかる撮像モジュール1bの構成を示す模式図である。上述した実施の形態1では、固体撮像素子チップ20が1部品でなるものとして説明したが、光電変換部とデジタル信号処理部とが別部品で分離され、この部品が積層されてなる積層構造である固体撮像素子チップ20aであってもよい。   FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module 1b according to Modification 1-2 of the first embodiment. In the first embodiment described above, the solid-state imaging device chip 20 has been described as a single component. However, the photoelectric conversion unit and the digital signal processing unit are separated as separate components, and a stacked structure in which these components are stacked. A certain solid-state image sensor chip 20a may be used.

固体撮像素子チップ20aは、略矩形をなし、光電変換部を有する第1部材20b(光電変換素子部)と、略矩形をなし、デジタル信号処理部を有する第2部材20c(周辺回路部)とを有し、第1部材20bおよび第2部材20cが積層されてなる。固体撮像素子チップ20aは、第1部材20bの受光面側が外部に露出するように、上述した配線基板30に実装される。第1部材20bおよび第2部材20cは、例えば、半田等によって電気的に接続されるとともに、樹脂(接着剤)等の固定部材(図示せず)によって固定される。   The solid-state imaging device chip 20a has a substantially rectangular first member 20b (photoelectric conversion element portion) having a photoelectric conversion unit, and a second member 20c (peripheral circuit unit) having a substantially rectangular shape and having a digital signal processing unit. The first member 20b and the second member 20c are laminated. The solid-state imaging device chip 20a is mounted on the wiring board 30 described above so that the light receiving surface side of the first member 20b is exposed to the outside. The first member 20b and the second member 20c are electrically connected by, for example, solder or the like, and fixed by a fixing member (not shown) such as a resin (adhesive).

このとき、鏡枠10、固体撮像素子チップ20aおよび配線基板30が形成する内部空間であって、固体撮像素子チップ20の側面側の空間に充填される熱伝導性樹脂42は、少なくとも相対的に発熱量の多い第2部材20cの側面を覆って接触するように設けられる。これにより、第2部材20cで発生した熱を第1部材20b側ではなく、外部側(鏡枠10および配線基板30側)に伝達することができるため、第1部材20b(光電変換部)への熱伝達を抑制し、熱雑音が少なく、高い品質を維持して画像取得を行うことが可能となる。   At this time, the heat conductive resin 42 that is an internal space formed by the lens frame 10, the solid-state image sensor chip 20 a, and the wiring substrate 30 and that is filled in the space on the side surface side of the solid-state image sensor chip 20 is at least relatively. It is provided so as to cover and contact the side surface of the second member 20c that generates a large amount of heat. Thereby, since the heat generated in the second member 20c can be transmitted to the outside (the lens frame 10 and the wiring board 30 side) instead of the first member 20b side, to the first member 20b (photoelectric conversion unit). It is possible to suppress image heat transfer, reduce thermal noise, and perform image acquisition while maintaining high quality.

換言すれば、上述した変形例1−2によれば、熱伝導性樹脂42によって、高集積化されて多機能になり発熱量が増大した固体撮像素子チップ20aに対して光電変換部やアナログ信号処理部での温度を、発熱量がより大きな部分から分離して熱の回り込みを抑えて暗電流を低減することにより、ノイズの少ない高画質な画像を得ることができる。   In other words, according to the above-described modified example 1-2, the photoelectric conversion unit and the analog signal are obtained with respect to the solid-state imaging device chip 20a that is highly integrated and multi-functionalized and generates a large amount of heat by the heat conductive resin 42. By separating the temperature at the processing unit from the part where the heat generation amount is larger and suppressing the wraparound of heat to reduce the dark current, a high-quality image with less noise can be obtained.

図4は、本実施の形態1の変形例1−3にかかる撮像モジュール1cの構成を示す模式図である。上述した実施の形態1では、レンズ10aと固体撮像素子チップ20との間が空気層であるものとして説明したが、レンズ10aと固体撮像素子チップ20との間にカバーガラス10bを配設した撮像モジュール1cであってもよい。   FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module 1c according to Modification 1-3 of the first embodiment. In the first embodiment described above, it is described that the space between the lens 10a and the solid-state image sensor chip 20 is an air layer. However, the image is obtained by disposing the cover glass 10b between the lens 10a and the solid-state image sensor chip 20. The module 1c may be used.

上述した変形例1−3によれば、上述した実施の形態1にかかる効果に加え、レンズ10aの損傷などによる外部の損傷が発生し、レンズ10aの欠片が飛散した場合であっても、カバーガラス10bによって固体撮像素子チップ20の損傷を防止することができる。   According to Modification 1-3 described above, in addition to the effects according to the first embodiment described above, even when external damage due to damage to the lens 10a occurs and the fragments of the lens 10a are scattered, the cover is covered. Damage to the solid-state image sensor chip 20 can be prevented by the glass 10b.

(実施の形態2)
図5は、本実施の形態2にかかる撮像モジュール2の概略構成を示す模式図である。なお、図1等で説明した構成と同一の構成要素には、同一の符号が付してある。上述した実施の形態1では、固体撮像素子チップ20の側面の一部を覆うように熱伝導性樹脂40が設けられるものとして説明したが、本実施の形態2にかかる撮像モジュール2では、固体撮像素子チップ20に流入防止部材51(壁構造)を設けて、固体撮像素子チップ20の上面外縁側においても熱伝導性樹脂を配設するものとして説明する。
(Embodiment 2)
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of the imaging module 2 according to the second embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the structure demonstrated in FIG. In the first embodiment described above, it has been described that the heat conductive resin 40 is provided so as to cover a part of the side surface of the solid-state imaging element chip 20, but in the imaging module 2 according to the second embodiment, the solid-state imaging is performed. In the following description, it is assumed that an inflow preventing member 51 (wall structure) is provided on the element chip 20 and a thermally conductive resin is disposed on the outer edge side of the upper surface of the solid-state imaging element chip 20.

流入防止部材51は、略筒状をなし、固体撮像素子チップ20の有効画素領域Re以外の領域(本実施の形態2ではオプティカルブラック領域OB)であって、固体撮像素子チップ20の上面で、有効画素領域Reを囲繞するように設けられる。このとき、流入防止部材51は、固体撮像素子チップ20の板厚方向に延出している。また、流入防止部材51は、固体撮像素子チップ20に対して接着剤で固定されるか、またはマイクロレンズML形成時に形成される。接着剤によって固定する場合は、固体撮像素子チップ20および流入防止部材51の対向する側の面に接着剤を塗布する、または固体撮像素子チップ20に載置された流入防止部材51に対して、接触箇所近傍の側面に接着剤を配設する。   The inflow prevention member 51 has a substantially cylindrical shape, and is an area other than the effective pixel area Re of the solid-state image sensor chip 20 (optical black area OB in the second embodiment). It is provided so as to surround the effective pixel region Re. At this time, the inflow preventing member 51 extends in the plate thickness direction of the solid-state imaging element chip 20. The inflow preventing member 51 is fixed to the solid-state image sensor chip 20 with an adhesive, or is formed when the microlens ML is formed. When fixing with an adhesive, the adhesive is applied to the opposing surfaces of the solid-state imaging element chip 20 and the inflow prevention member 51, or the inflow prevention member 51 placed on the solid-state imaging element chip 20 An adhesive is disposed on the side surface near the contact location.

ここで、流入防止部材51は、少なくとも外表面が、光を反射しないように黒色などとすることが好ましい。流入防止部材51の外表面が遮光性を有することによって、流入防止部材51からの光の反射による固体撮像素子チップ20の受光への影響を防止することができる。   Here, the inflow preventing member 51 is preferably black or the like so that at least the outer surface does not reflect light. Since the outer surface of the inflow preventing member 51 has a light shielding property, it is possible to prevent the light reflected from the inflow preventing member 51 from affecting the light reception of the solid-state imaging device chip 20.

図6は、本実施の形態2にかかる撮像モジュールの製造方法を示す模式図であって、固体撮像素子チップ20に対して流入防止部材51を配設する場合の配設方法を説明する図である。図6では、マイクロレンズML形成時(撮像素子製造時)に流入防止部材51も形成される場合を説明する。まず、固体撮像素子チップ20の受光面側にマイクロレンズMLに用いられるレンズ材料500を形成する(図6(a))。その後、このレンズ材料500に対してフォトリソグラフィ(露光)、エッチングを施して、流入防止部材51の芯となる基部501を形成する(図6(b))。   FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a method of manufacturing the imaging module according to the second embodiment, and is a diagram for explaining an arrangement method when the inflow preventing member 51 is arranged with respect to the solid-state imaging element chip 20. is there. FIG. 6 illustrates a case where the inflow prevention member 51 is also formed when the microlens ML is formed (when the image sensor is manufactured). First, the lens material 500 used for the microlens ML is formed on the light receiving surface side of the solid-state imaging device chip 20 (FIG. 6A). Thereafter, the lens material 500 is subjected to photolithography (exposure) and etching to form a base 501 serving as a core of the inflow preventing member 51 (FIG. 6B).

基部501を形成後、再びレンズ材料510を固体撮像素子チップ20および基部501上に形成する(図6(c))。その後、このレンズ材料510に対してフォトリソグラフィ(露光)、エッチングを施して、基部501を覆う被覆部510aおよびマイクロレンズMLのもととなるレンズ加工部510bを形成する(図6(d))。   After the base portion 501 is formed, the lens material 510 is formed again on the solid-state imaging device chip 20 and the base portion 501 (FIG. 6C). Thereafter, the lens material 510 is subjected to photolithography (exposure) and etching to form a covering portion 510a that covers the base portion 501 and a lens processing portion 510b that is the basis of the microlens ML (FIG. 6D). .

被覆部510aおよびレンズ加工部510bの形成後、熱処理によって、マイクロレンズMLの形成を行う。また、被覆部510aにおいても、熱処理によって変形し、処理後被覆部510cが形成される。このとき、基部501と、処理後被覆部510cとが、流入防止部材51をなす(図6(e))。   After the formation of the covering portion 510a and the lens processing portion 510b, the microlens ML is formed by heat treatment. In addition, the covering portion 510a is also deformed by the heat treatment to form a post-processing covering portion 510c. At this time, the base portion 501 and the post-treatment covering portion 510c form the inflow preventing member 51 (FIG. 6E).

なお、上述したレンズ材料501,510は、同一種類であってもよいし、異なる種類であってもよい。このとき、レンズ材料510においては、マイクロレンズMLを形成する材料となる。また、流入防止部材51は、上述したように、固体撮像素子チップ20を製造する工程において形成されるものであってよいし、固体撮像素子チップ20の製造と別体に形成された部材を固体撮像素子チップ20の受光面側の面に配置したものであってもよい。   The lens materials 501 and 510 described above may be of the same type or different types. At this time, the lens material 510 is a material for forming the microlens ML. Further, as described above, the inflow prevention member 51 may be formed in the process of manufacturing the solid-state image sensor chip 20, or a member formed separately from the manufacture of the solid-state image sensor chip 20 is a solid. It may be arranged on the light receiving surface side of the imaging element chip 20.

また、基部501と、処理後被覆部510cとからなる流入防止部材51は、表面が黒色の塗料、樹脂によって覆われることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the inflow preventing member 51 including the base portion 501 and the post-treatment covering portion 510c is covered with a black paint or resin.

上述したように形成される流入防止部材51によって、固体撮像素子チップ20の側面側から熱伝導性樹脂43を流し入れて固化させる際、固体撮像素子チップ20の上面より高い位置まで熱伝導性樹脂43を流入させた場合であっても、有効画素領域Reに熱伝導性樹脂43が流れ込むことがない。ここで、配設した熱伝導性樹脂43の厚さは、固体撮像素子チップ20の厚さよりも厚い。これにより、熱伝導性樹脂43を、固体撮像素子チップ20の上面側まで配設するとともに、固体撮像素子チップ20の受光面のうち、有効画素領域を除く領域に接触することができ、一段と効率のよい熱伝達を実現することが可能となる。   When the heat-conductive resin 43 is poured from the side surface side of the solid-state image sensor chip 20 and solidified by the inflow preventing member 51 formed as described above, the heat-conductive resin 43 reaches a position higher than the upper surface of the solid-state image sensor chip 20. Even in the case of flowing in, the heat conductive resin 43 does not flow into the effective pixel region Re. Here, the thickness of the disposed heat conductive resin 43 is thicker than the thickness of the solid-state imaging element chip 20. As a result, the heat conductive resin 43 can be disposed up to the upper surface side of the solid-state image sensor chip 20, and can be in contact with the area of the solid-state image sensor chip 20 except for the effective pixel area, which is more efficient. It is possible to realize good heat transfer.

以上説明した本実施の形態2によれば、上述した実施の形態1と同様、撮像モジュール内において、固体撮像素子チップと鏡枠との間に熱伝導性樹脂を配設して、固体撮像素子チップにおいて発生した熱を、熱伝導性樹脂を介して鏡枠に伝達して外部に放熱するようにしたので、所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができる。   According to the second embodiment described above, similarly to the first embodiment described above, in the imaging module, a thermally conductive resin is disposed between the solid-state imaging device chip and the lens frame, so that the solid-state imaging device. Since the heat generated in the chip is transmitted to the lens frame via the heat conductive resin and radiated to the outside, desired light collection efficiency can be ensured and heat radiation efficiency can be improved.

また、本実施の形態2によれば、熱伝導性樹脂43が、配線基板30上のコンデンサや、ワイヤーW1,W2を包埋し、熱伝導性樹脂43によってワイヤーW1,W2を固定することができるため、撮像モジュール2で発生する振動などによってワイヤーW1,W2の断線が起こることはなく、固体撮像素子チップ20と配線基板30との安定した接続状態を維持することができる。   Further, according to the second embodiment, the heat conductive resin 43 embeds the capacitors on the wiring board 30 and the wires W1 and W2 and fixes the wires W1 and W2 with the heat conductive resin 43. Therefore, the wires W1 and W2 are not disconnected by vibration generated in the imaging module 2, and a stable connection state between the solid-state imaging element chip 20 and the wiring board 30 can be maintained.

図7は、本実施の形態2の変形例2−1にかかる撮像モジュール2aの構成を示す模式図である。上述した実施の形態2では、筒状をなす流入防止部材51が、固体撮像素子チップ20の主面に対して直交する方向に延びているものとして説明したが、レンズ10aから入射する光、特に、有効画素領域Reの外側から有効画素領域Reに入射する光を、有効画素領域Reにおいて確実に受光するため、固体撮像素子チップ20側からカバーガラス10a側に向けて拡径した内部空間を形成する筒状の流入防止部材52を用いるものであってもよい。   FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a configuration of the imaging module 2a according to the modified example 2-1 of the second embodiment. In the second embodiment described above, the cylindrical inflow preventing member 51 has been described as extending in a direction orthogonal to the main surface of the solid-state imaging device chip 20, but light incident from the lens 10a, particularly In order to reliably receive light incident on the effective pixel region Re from the outside of the effective pixel region Re in the effective pixel region Re, an internal space whose diameter is increased from the solid-state image sensor chip 20 side toward the cover glass 10a side is formed. A cylindrical inflow prevention member 52 may be used.

流入防止部材52は、上述したように、固体撮像素子チップ20側からレンズ10a側に向けて拡径した内部空間であって、固体撮像素子チップ20側の端部の内径は、有効画素領域Reよりも大きい。これにより、流入防止部材52は、固体撮像素子チップ20の有効画素領域Re形成面から外側(レンズ10a側)に向かって傾斜した傾斜面を有する。   As described above, the inflow prevention member 52 is an internal space whose diameter is increased from the solid-state image sensor chip 20 side toward the lens 10a side, and the inner diameter of the end portion on the solid-state image sensor chip 20 side is the effective pixel region Re. Bigger than. Thereby, the inflow prevention member 52 has an inclined surface inclined toward the outer side (the lens 10a side) from the effective pixel region Re forming surface of the solid-state imaging element chip 20.

上述した流入防止部材52によって、固体撮像素子チップ20の側面側から熱伝導性樹脂44を流し入れて固化させる際、固体撮像素子チップ20の上面より高い位置まで熱伝導性樹脂44を流入させた場合であっても、有効画素領域Reに熱伝導性樹脂44が流れ込むことがない。また、レンズ10aから固体撮像素子チップ20に入射する光の受光可能範囲を一段と大きくすることができる。これにより、熱伝導性樹脂44を、固体撮像素子チップ20の上面側まで配設することができ、一段と効率のよい熱伝達および受光処理を実現することができる。   When the thermal conductive resin 44 is poured from the side surface side of the solid-state image sensor chip 20 and solidified by the inflow prevention member 52 described above, the thermal conductive resin 44 is caused to flow to a position higher than the upper surface of the solid-state image sensor chip 20. Even so, the thermal conductive resin 44 does not flow into the effective pixel region Re. In addition, the receivable range of light incident on the solid-state image sensor chip 20 from the lens 10a can be further increased. Thereby, the heat conductive resin 44 can be arrange | positioned to the upper surface side of the solid-state image sensor chip | tip 20, and a more efficient heat transfer and light-receiving process can be implement | achieved.

図8は、本実施の形態2の変形例2−2にかかる撮像モジュール2bの構成を示す模式図である。変形例2−2では、上述した実施の形態2の流入防止部材51に代えて、配設する熱伝導樹脂45と比して粘性の高い流入防止部材53を用いる。   FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module 2b according to Modification 2-2 of the second embodiment. In Modification 2-2, instead of the inflow preventing member 51 of the second embodiment described above, an inflow preventing member 53 having a higher viscosity than the heat conductive resin 45 to be disposed is used.

流入防止部材53は、例えば、熱伝導性樹脂45と比して粘性の高い樹脂からなる。また、流入防止部材53は、使用する樹脂として、熱、空気または紫外線により硬化する高分子材料が挙げられる。これにより、固化前の熱伝導性樹脂45を流し入れた際、固体撮像素子チップ20の高さを越えた場合であっても、熱伝導性樹脂45の有効画素領域Reへの流入を防止することができる。   The inflow preventing member 53 is made of, for example, a resin having higher viscosity than the heat conductive resin 45. The inflow preventing member 53 includes a polymer material that is cured by heat, air, or ultraviolet rays as a resin to be used. This prevents the heat conductive resin 45 from flowing into the effective pixel region Re even when the height of the solid-state imaging device chip 20 is exceeded when the heat conductive resin 45 before solidification is poured. Can do.

図9は、本実施の形態2の変形例2−3にかかる撮像モジュールの要部の構成を示す模式図である。図10は、図9のA−A線断面に応じた撮像モジュール2cの要部の構成を示す模式図である。上述した実施の形態2では、熱伝導性樹脂43によって、固体撮像素子チップ20で発生した熱を放熱するものとして説明したが、さらに、放熱部材46(伝熱部材)を配設して、この放熱部材46を介して外部に放熱するものであってもよい。   FIG. 9 is a schematic diagram illustrating a configuration of a main part of an imaging module according to Modification 2-3 of the second embodiment. FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a configuration of a main part of the imaging module 2c corresponding to the cross section taken along the line AA of FIG. In Embodiment 2 described above, the heat conductive resin 43 has been described as dissipating the heat generated in the solid-state imaging element chip 20, but a heat dissipating member 46 (heat transfer member) is further provided, The heat radiating member 46 may radiate heat to the outside.

放熱部材46は、配線基板30の固体撮像素子チップ20の実装面に所定のパターンを形成してなる略板状の部材である。放熱部材46は、金属などの熱伝導性の高い材料を用いて形成される。なお、ワイヤーW1〜W4は、配線基板30上に形成されるボンディングパッドBP、および固体撮像素子チップ20に設けられる入出力パッドIPと両端において接続している。また、ボンディングパッドBPは、上述したスルーホールTH1の形成領域と異なる箇所に設けられることが好ましい。   The heat radiating member 46 is a substantially plate-like member formed by forming a predetermined pattern on the mounting surface of the solid-state imaging device chip 20 of the wiring board 30. The heat radiating member 46 is formed using a material having high thermal conductivity such as metal. The wires W1 to W4 are connected to the bonding pad BP formed on the wiring substrate 30 and the input / output pad IP provided on the solid-state imaging device chip 20 at both ends. Moreover, it is preferable that the bonding pad BP is provided at a location different from the formation region of the through hole TH1 described above.

放熱部材46の形成パターンは、ワイヤーW2などと電気的に接続するボンディングパッドBPの形成領域を除く配線基板30上に形成され、外周形状は、鏡枠10の外周形状よりも大きいことが好ましい。これにより、放熱部材46を、鏡枠10の内部から外部に延びるものとすることができる。また、放熱部材46は、ワイヤーW1〜W4および入出力パッドIPの配設領域と異なる領域、例えば、固体撮像素子チップ20の角部にも設けられている。   The formation pattern of the heat radiating member 46 is formed on the wiring substrate 30 excluding the formation region of the bonding pad BP that is electrically connected to the wire W <b> 2 or the like, and the outer peripheral shape is preferably larger than the outer peripheral shape of the lens frame 10. Thereby, the heat radiating member 46 can be extended from the inside of the lens frame 10 to the outside. Further, the heat radiating member 46 is also provided in a region different from the region where the wires W1 to W4 and the input / output pad IP are disposed, for example, in a corner portion of the solid-state image sensor chip 20.

上述した放熱部材46は、配線基板30上に配設されるとともに、反対側の面において、鏡枠10が載置される。このとき、放熱部材46と鏡枠10とは、接着剤などによって固定される。また、放熱部材46は、熱伝導性樹脂47と接触し、鏡枠10、レンズ10a、配線基板30および放熱部材46によって形成された空間において、内部から外部に延出している。熱伝導性樹脂47は、上述したように、固体撮像素子チップ20の側面から上面の一部に配設されている。   The heat dissipating member 46 described above is disposed on the wiring board 30 and the lens frame 10 is placed on the opposite surface. At this time, the heat radiating member 46 and the lens frame 10 are fixed by an adhesive or the like. Further, the heat radiating member 46 is in contact with the heat conductive resin 47 and extends from the inside to the outside in the space formed by the lens frame 10, the lens 10 a, the wiring substrate 30 and the heat radiating member 46. As described above, the thermal conductive resin 47 is disposed on a part of the upper surface from the side surface of the solid-state imaging device chip 20.

以上説明した変形例2―3によれば、上述した実施の形態2と同様、固体撮像素子内において、撮像素子と鏡枠との間に熱伝導性樹脂を配設して、撮像素子において発生した熱を、熱伝導性樹脂を介して鏡枠に伝達して外部に放熱するようにしたので、所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができる。また、鏡枠の内部から外部に延びる放熱部材を設けることによって、放熱の効率化を一段と優れたものとすることができる。なお、本変形例2−3では、流入防止部材51を有するものとして説明したが、実施の形態1のように、流入防止部材51を有さない構成であっても適用可能である。   According to the modified example 2-3 described above, as in the above-described second embodiment, in the solid-state imaging device, the heat conductive resin is disposed between the imaging device and the lens frame, and thus generated in the imaging device. Since the heat transmitted to the lens frame via the heat conductive resin is radiated to the outside, the desired light collection efficiency can be ensured and the heat radiation can be made more efficient. Further, by providing a heat radiating member extending from the inside of the lens frame to the outside, it is possible to further improve the efficiency of heat radiation. In addition, although this modification 2-3 demonstrated as what has the inflow prevention member 51, even if it is the structure which does not have the inflow prevention member 51 like Embodiment 1, it is applicable.

図11は、本実施の形態2の変形例2−4にかかる撮像モジュール2dの構成を示す模式図である。上述した変形例2−3では、放熱部材46が鏡枠10の内部から外部に延びているものとして説明したが、この放熱部材46に代えて、実施の形態2の鏡枠10の外周に設けられる放熱部材48(伝熱部材)を用いるものであってもよい。   FIG. 11 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module 2d according to Modification 2-4 of the second embodiment. In the modified example 2-3 described above, the heat radiating member 46 is described as extending from the inside of the lens frame 10 to the outside. However, instead of the heat radiating member 46, the heat radiating member 46 is provided on the outer periphery of the lens frame 10 of the second embodiment. The heat dissipation member 48 (heat transfer member) to be used may be used.

放熱部材48は、板状をなし、鏡枠10の外周側面および配線基板30の鏡枠10の外部の側面にそれぞれ当接するように配設されている。これにより、上述した熱伝導樹脂43が鏡枠10および配線基板30に伝達した熱を、放熱部材48によって効率よく外部に放熱することができる。   The heat radiating member 48 has a plate shape and is disposed so as to abut on the outer peripheral side surface of the lens frame 10 and the outer side surface of the circuit board 10 of the wiring board 30. Thereby, the heat transmitted to the lens frame 10 and the wiring board 30 by the heat conductive resin 43 described above can be efficiently radiated to the outside by the heat radiating member 48.

なお、上述した熱伝導性樹脂42〜45,47は、実施の形態1にかかる熱伝導性樹脂40として挙げた材料と同様である。   In addition, the thermally conductive resins 42 to 45 and 47 described above are the same as the materials cited as the thermally conductive resin 40 according to the first embodiment.

(実施の形態3)
図12は、本発明の実施の形態3にかかる撮像モジュールの構成を示す模式図である。なお、図1等で説明した構成と同一の構成要素には、同一の符号が付してある。本実施の形態3では、固体撮像素子チップ20を撮像モジュールとしての固体撮像素子3に適用するものとして説明する。
(Embodiment 3)
FIG. 12 is a schematic diagram illustrating a configuration of an imaging module according to the third embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the structure demonstrated in FIG. In the third embodiment, description will be made assuming that the solid-state image sensor chip 20 is applied to the solid-state image sensor 3 as an imaging module.

固体撮像素子3は、カバーガラス11a(光透過部材)を保持するカバーガラスホルダー11(鏡枠もしくは保持部材)と、上述した固体撮像素子チップ20と、固体撮像素子チップ20が実装され、固体撮像素子チップ20と外部の回路との間を電気的に接続する配線基板30bと、少なくとも空気と比して高い熱伝導性を有する熱伝導性樹脂60と、を備える。   The solid-state imaging device 3 is mounted with the cover glass holder 11 (mirror frame or holding member) that holds the cover glass 11a (light transmission member), the above-described solid-state imaging device chip 20, and the solid-state imaging device chip 20 mounted thereon. A wiring board 30b that electrically connects the element chip 20 and an external circuit is provided, and a heat conductive resin 60 that has at least high heat conductivity compared to air.

配線基板30bは、略板状をなし、少なくとも固体撮像素子チップ20を実装し、鏡枠11を保持する。また、配線基板30bの表面には、固体撮像素子チップ20と信号の入出力を行なうためのボンディングパッド(図示せず)が設けられている。また、配線基板30bには、撮像モジュール3の外部との通信を行うインターフェイスであるI/Fコネクタが設けられるものであってもよい。このとき、配線基板30bは、上述したボンディングパッドに接続されるワイヤーW5,W6によって固体撮像素子チップ20と電気的に接続している。   The wiring board 30b has a substantially plate shape, mounts at least the solid-state imaging element chip 20, and holds the lens frame 11. In addition, bonding pads (not shown) for inputting / outputting signals to / from the solid-state imaging element chip 20 are provided on the surface of the wiring board 30b. Further, the wiring board 30b may be provided with an I / F connector which is an interface for performing communication with the outside of the imaging module 3. At this time, the wiring board 30b is electrically connected to the solid-state imaging device chip 20 by the wires W5 and W6 connected to the bonding pads described above.

熱伝導性樹脂60は、カバーガラスホルダー11、固体撮像素子チップ20および配線基板30bが形成する内部空間であって、固体撮像素子チップ20の側面側の空間に充填され、略環状をなして設けられている。また、熱伝導性樹脂60は、上述した流入防止部材51によって固化前の熱伝導性樹脂60の流入が防止され、固化後、固体撮像素子チップ20の上面の一部を覆うように設けられる。熱伝導性樹脂60は、固体撮像素子チップ20で発生した熱を、カバーガラスホルダー11または配線基板30b側へ伝達する。なお、熱伝導性樹脂60は、上述した熱伝導性樹脂40と同様、絶縁性の樹脂にダイヤモンドフィラーが添加されたものが挙げられる。   The heat conductive resin 60 is an internal space formed by the cover glass holder 11, the solid-state image sensor chip 20, and the wiring board 30 b, and is filled in a space on the side surface side of the solid-state image sensor chip 20 and provided in a substantially annular shape. It has been. Further, the heat conductive resin 60 is provided so as to prevent the inflow of the heat conductive resin 60 before solidification by the inflow prevention member 51 described above, and to cover a part of the upper surface of the solid-state imaging device chip 20 after solidification. The heat conductive resin 60 transfers heat generated in the solid-state image sensor chip 20 to the cover glass holder 11 or the wiring board 30b side. In addition, the heat conductive resin 60 can be obtained by adding a diamond filler to an insulating resin, like the heat conductive resin 40 described above.

以上説明した本実施の形態3によれば、上述した実施の形態1と同様、固体撮像素子内において、固体撮像素子チップと鏡枠との間に熱伝導性樹脂を配設して、固体撮像素子チップにおいて発生した熱を、熱伝導性樹脂を介して鏡枠に伝達して外部に放熱するようにしたので、所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができる。   According to the third embodiment described above, as in the first embodiment described above, in the solid-state image pickup device, the heat conductive resin is disposed between the solid-state image pickup device chip and the lens frame, so that the solid-state image pickup is performed. The heat generated in the element chip is transmitted to the lens frame through the heat conductive resin to be radiated to the outside, so that it is possible to secure the desired light collection efficiency and to realize the efficiency of heat radiation. .

(実施の形態4)
図13は、本発明の実施の形態4にかかる撮像モジュール4の構成を示す模式図である。なお、図1等で説明した構成と同一の構成要素には、同一の符号が付してある。本実施の形態4では、上述した実施の形態1および実施の形態3を組み合わせた撮像モジュールとして説明する。
(Embodiment 4)
FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a configuration of the imaging module 4 according to the fourth embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the structure demonstrated in FIG. In the fourth embodiment, an imaging module that combines the above-described first and third embodiments will be described.

図13に示す撮像モジュール4は、上述した実施の形態1の鏡枠10において、その内部に、上述した実施の形態3にかかる固体撮像素子3の構成のようなカバーガラスホルダー11を設ける。すなわち、配線基板30cに保持されるとともに、レンズ10aを保持する鏡枠10は、固体撮像素子チップ20、カバーガラスホルダー11およびカバーガラス11aを、配線基板30c、レンズ10aとによって形成する内部空間内に内包する。固体撮像素子3と鏡枠10とは、配線基板30cに配設された放熱部材49とそれぞれ接触している。なお、放熱部材49は、上述した放熱部材41,46,48と同様の材料からなる。   The imaging module 4 shown in FIG. 13 is provided with a cover glass holder 11 like the configuration of the solid-state imaging device 3 according to the third embodiment described above in the lens frame 10 of the first embodiment described above. In other words, the lens frame 10 that is held by the wiring board 30c and that holds the lens 10a has an internal space in which the solid-state imaging device chip 20, the cover glass holder 11, and the cover glass 11a are formed by the wiring board 30c and the lens 10a. Included. The solid-state imaging device 3 and the lens frame 10 are in contact with the heat radiating member 49 disposed on the wiring board 30c. The heat radiating member 49 is made of the same material as the heat radiating members 41, 46 and 48 described above.

また、撮像モジュール4は、配線基板30cに形成されたスルーホールTH3によって放熱部材49の熱を外部に放出することができる。また、撮像モジュール4は、配線基板30cに形成されたスルーホールTH4によって熱伝導性樹脂60の熱を外部に放出することができる。   In addition, the imaging module 4 can release the heat of the heat dissipation member 49 to the outside through the through hole TH3 formed in the wiring board 30c. In addition, the imaging module 4 can release the heat of the heat conductive resin 60 to the outside through the through hole TH4 formed in the wiring board 30c.

これにより、上述した固体撮像素子3の構成を内包する撮像モジュール4においても、固体撮像素子チップにおいて発生した熱を、熱伝導性樹脂および放熱部材を介して鏡枠10に伝達して外部に放熱するようにしたので、所望の集光効率を確保するとともに、放熱の効率化を実現することができる。   Thereby, also in the imaging module 4 including the configuration of the solid-state imaging device 3 described above, the heat generated in the solid-state imaging device chip is transmitted to the lens frame 10 via the heat conductive resin and the heat radiating member to be radiated to the outside. As a result, it is possible to ensure the desired light collection efficiency and increase the efficiency of heat dissipation.

なお、上述した実施の形態では、固体撮像素子や撮像モジュールを対象として説明したが、これらの構成は固体撮像素子に限らず、電子回路を内部で保持する情報処理装置などの電子装置に対して、その電子回路から発生する熱を放熱することに適用可能である。すなわち、上述した実施の形態1〜4に限らず、電子回路などを備え、発熱部分を有するものであって、発生した熱を放熱するものであれば、適用可能である。   In the above-described embodiments, the solid-state imaging device and the imaging module have been described. However, these configurations are not limited to the solid-state imaging device, and the electronic device such as an information processing apparatus that holds an electronic circuit therein is used. It is applicable to radiating heat generated from the electronic circuit. That is, the present invention is not limited to Embodiments 1 to 4 described above, and may be applied as long as it includes an electronic circuit and the like, has a heat generating portion, and dissipates generated heat.

1,1a,1b,1c,2,2a,2b,2c,2d,4 撮像モジュール
3 固体撮像素子
10 鏡枠
10a レンズ
10b,11a カバーガラス
11 カバーガラスホルダー
20,20a 固体撮像素子チップ
20b 第1部材
20c 第2部材
30,30a,30b 配線基板
40,42〜45,47,60 熱伝導性樹脂
41,46,48,49 放熱部材
1, 1a, 1b, 1c, 2, 2a, 2b, 2c, 2d, 4 Imaging module 3 Solid-state imaging device 10 Mirror frame 10a Lens 10b, 11a Cover glass 11 Cover glass holder 20, 20a Solid-state imaging device chip 20b First member 20c 2nd member 30,30a, 30b Wiring board 40,42-45,47,60 Thermal conductive resin 41,46,48,49 Heat dissipation member

Claims (16)

受光した光を光電変換処理する固体撮像素子チップと、
前記固体撮像素子チップを搭載する基板と、
前記固体撮像素子チップの受光面側に配置される光透過部材と、
前記基板に保持されるとともに、前記光透過部材を保持する鏡枠と、
少なくとも前記固体撮像素子チップの側面、前記鏡枠および前記基板に接触する熱伝導性部材と、
を備えたことを特徴とする撮像モジュール。
A solid-state image sensor chip that photoelectrically converts received light; and
A substrate on which the solid-state image sensor chip is mounted;
A light transmissive member disposed on the light receiving surface side of the solid-state imaging element chip;
A lens frame that is held by the substrate and holds the light transmission member;
A thermally conductive member that contacts at least the side surface of the solid-state imaging device chip, the lens frame, and the substrate;
An imaging module comprising:
前記熱伝導性部材は、熱伝導性樹脂であって、
前記熱伝導性樹脂は、前記固体撮像素子チップの側面と前記鏡枠の壁面との間に充填されることを特徴とする請求項1に記載の撮像モジュール。
The thermally conductive member is a thermally conductive resin,
The imaging module according to claim 1, wherein the thermally conductive resin is filled between a side surface of the solid-state imaging element chip and a wall surface of the lens frame.
前記基板は、前記固体撮像素子チップの搭載面上に電子素子または導電部材をさらに有し、
前記熱伝導性樹脂は、前記電子素子または前記導電部材を包埋することを特徴とする請求項2に記載の撮像モジュール。
The substrate further includes an electronic element or a conductive member on a mounting surface of the solid-state imaging element chip,
The imaging module according to claim 2, wherein the thermal conductive resin embeds the electronic element or the conductive member.
前記熱伝導性部材の厚さは、前記固体撮像素子チップの厚さよりも厚いことを特徴とする請求項1に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 1, wherein a thickness of the thermal conductive member is larger than a thickness of the solid-state imaging device chip. 前記固体撮像素子チップは、略板状をなし、
前記固体撮像素子チップの有効画素領域の外側に、該固体撮像素子チップの板厚方向に延出した壁構造を有することを特徴とする請求項1に記載の撮像モジュール。
The solid-state image sensor chip is substantially plate-shaped,
2. The imaging module according to claim 1, further comprising a wall structure extending in a plate thickness direction of the solid-state imaging device chip outside the effective pixel region of the solid-state imaging device chip.
前記壁構造は、前記固体撮像素子チップと別体に形成された部材を、前記固体撮像素子チップの受光面に配置したものであることを特徴とする請求項5に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 5, wherein the wall structure is a member formed separately from the solid-state imaging device chip and disposed on a light receiving surface of the solid-state imaging device chip. 前記壁構造は、前記固体撮像素子チップの上面に熱、空気、または紫外線により硬化する高分子材料を配置したものであることを特徴とする請求項5に記載の撮像モジュール。   6. The imaging module according to claim 5, wherein the wall structure is formed by arranging a polymer material that is cured by heat, air, or ultraviolet rays on the upper surface of the solid-state imaging element chip. 前記壁構造は、前記固体撮像素子チップを製造する工程において形成されることを特徴とする請求項5に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 5, wherein the wall structure is formed in a process of manufacturing the solid-state imaging element chip. 前記壁構造は、前記固体撮像素子チップの前記有効画素領域の形成面から外側に向かって傾斜した傾斜面を有することを特徴とする請求項5に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 5, wherein the wall structure has an inclined surface that is inclined outward from a surface on which the effective pixel region of the solid-state imaging element chip is formed. 前記熱伝導性部材は、光線不透過性を有することを特徴とする請求項1に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 1, wherein the heat conductive member is light-opaque. 前記熱伝導性部材は、前記基板に形成された貫通孔の開口を塞ぐことを特徴とする請求項10に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 10, wherein the thermally conductive member closes an opening of a through hole formed in the substrate. 前記熱伝導性部材は、前記固体撮像素子チップの受光面のうち、有効画素領域を除く領域に接触することを特徴とする請求項10に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 10, wherein the thermal conductive member is in contact with a region excluding an effective pixel region in a light receiving surface of the solid-state imaging device chip. 前記熱伝導性部材に接触する伝熱部材をさらに有し、
前記基板、前記光透過部材、前記鏡枠および前記伝熱部材によって空間を形成し、
前記伝熱部材は、前記空間から外側に延出することを特徴とする請求項1に記載の撮像モジュール。
A heat transfer member in contact with the heat conductive member;
A space is formed by the substrate, the light transmission member, the lens frame and the heat transfer member,
The imaging module according to claim 1, wherein the heat transfer member extends outward from the space.
前記基板、前記光透過部材および前記鏡枠によって形成される空間の外側の前記鏡枠の側面に当接する伝熱部材をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の撮像モジュール。   The imaging module according to claim 1, further comprising a heat transfer member that contacts a side surface of the lens frame outside a space formed by the substrate, the light transmission member, and the lens frame. 前記固体撮像素子チップは、光電変換素子部と周辺回路部とが積層されてなる積層構造であり、
前記熱伝導性部材は、前記固体撮像素子チップの前記周辺回路部に接触することを特徴とする請求項1に記載の撮像モジュール。
The solid-state imaging device chip has a laminated structure in which a photoelectric conversion element portion and a peripheral circuit portion are laminated,
The imaging module according to claim 1, wherein the thermally conductive member is in contact with the peripheral circuit portion of the solid-state imaging device chip.
受光した光を光電変換処理する固体撮像素子チップと、
前記固体撮像素子チップを搭載する基板と、
前記基板に保持される保持部材と、
前記保持部材に保持されるとともに、前記固体撮像素子チップの受光面に配置されて光を透過するカバーガラスと、
少なくとも前記固体撮像素子チップの側面、前記保持部材および前記基板に連結する熱伝導性部材と、
前記基板に保持されるとともに、レンズを保持し、前記固体撮像チップ、前記保持部材および前記カバーガラスを、前記基板、前記レンズとによって形成する内部空間内に内包する鏡枠と、
を備えたことを特徴とする撮像モジュール。
A solid-state image sensor chip that photoelectrically converts received light; and
A substrate on which the solid-state image sensor chip is mounted;
A holding member held by the substrate;
A cover glass that is held by the holding member and is disposed on the light receiving surface of the solid-state image sensor chip and transmits light;
A thermally conductive member connected to at least a side surface of the solid-state imaging device chip, the holding member, and the substrate;
A lens frame that is held by the substrate and holds the lens, and encloses the solid-state imaging chip, the holding member, and the cover glass in an internal space formed by the substrate and the lens,
An imaging module comprising:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014143626A (en) * 2013-01-25 2014-08-07 Xacti Corp Heat radiation structure of heating element and electronic apparatus including the same
JP2018107564A (en) * 2016-12-26 2018-07-05 京セラ株式会社 Imaging device

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