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JP2013197564A - 複合モジュールおよび複合モジュールの製造方法 - Google Patents

複合モジュールおよび複合モジュールの製造方法 Download PDF

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】実装部品の接合信頼性、耐衝撃特性、放熱特性それぞれに優れ、配線基板の反りを防止することができ、かつ、安価な複合モジュールを提供するとともに、この複合モジュールを容易に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板3上に平面視矩形状の実装部品4が実装された複合モジュール1において、配線基板3と実装部品4との隙間に樹脂が充填されて形成された第1の樹脂層6と、実装部品4の少なくとも一の角部の外側面および当該一の角部の隙間からはみ出した第1の樹脂層6を被覆して形成された第2の樹脂層7とを備えることにより、実装部品4の接合信頼性、耐衝撃特性、放熱特性それぞれに優れ、配線基板3の反りを防止することができ、かつ、安価な複合モジュール1を提供することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、配線基板上に実装された電子部品を被覆する樹脂層を備える複合モジュールおよびこの複合モジュールの製造方法に関する。
配線基板上にチップ等の実装部品を実装する方法として、部品トレイから吸着保持したチップの実装面を下にして、チップを配線基板上の電極に直接接続するフリップチップ実装方式が知られている。この方式は、配線基板との接続のためにワイヤを引き回すワイヤボンディング方式のように、チップと配線基板との間にワイヤを引き回す必要がないため、チップの実装面積を小さくできるという利点がある。また、この方式は、チップと配線基板との接続配線を短くでき、チップが実装された後の配線基板の電気的特性も優れているため、小型・薄型化が要求されるとともに、優れた電気的特性(高周波特性)が要求される携帯電話などの携帯端末装置に搭載される配線基板に実装されるチップの実装方法に適している。
ところで、フリップチップ実装方式で配線基板にチップが実装されている場合、外部から応力が加わると、その応力が配線基板とチップとの接続部(バンプ形成部)に集中し、接合信頼性が低下するおそれがあるため、チップと配線基板との隙間に樹脂を充填(アンダーフィル)してバンプ部にかかる応力の緩和が図られている。
このように、チップと配線基板との間にアンダーフィルを行う場合、その樹脂量が少なすぎると矩形状のチップの四隅を覆う樹脂量が少なくなり、四隅付近に配置されたバンプの接合信頼性が低下する。一方、樹脂量が多すぎると、チップの周辺にある樹脂塗布禁止領域にまで樹脂が広がり、製品が不良になるおそれがある。
そこで従来では、図8に示すように、配線基板200上に形成される配線パターン201の保護用の絶縁保護膜202において、チップ205の実装位置と対応する位置に、チップ205の外形よりわずかに大きな開口部203を形成し、さらにその開口部203の四隅部204を居所的に広く開口形成する技術が提案されている(特許文献1参照)。絶縁保護膜202にこのような開口部203を形成することにより、チップ205下に樹脂を充填する際、樹脂がチップ205を囲む開口部203の周縁を伝ってチップ205の隅角部が配置されている開口部203の四隅に形成された開口が広い部分(開口部203の四隅部204)に流れ込むため、樹脂量が少なくても、チップ205の隅角部まで確実に樹脂のフィレットを形成することが可能になる。
また、フリップチップ実装方式の接合信頼性をさらに向上するために、上記したアンダーフィルに加えて、チップ全体および配線基板の実装面を樹脂によりオーバーコートする技術も提案されている。このように構成すると、外部からの応力が接続部に集中するのがオーバーコート樹脂によりさらに緩和されるため、フリップチップ実装方式の接合信頼性をさらに向上することができる。また、チップ全体が樹脂により覆われているため、外部から衝撃が加わったときに生じるチップのかけ(チッピング)を防止することもできる。
特開2005−175113号(段落0023〜0025、図1等参照)
しかしながら、特許文献1に記載の発明では、アンダーフィルの樹脂量が少量であっても、チップ隅角部まで樹脂のフィレットを形成することができるが、チップの四隅に形成されるフィレットは、他の部分に形成されるフィレットと比較すると十分でないという問題があった。特に、外部からの応力は、チップの四隅付近に配置されたバンプに集中するため、チップの接合信頼性を確保するためにさらに技術の改善が求められている。
また、チップ全体を樹脂によりオーバーコートすればチップの配線基板に対する接合信頼性は向上するが、工数の増加や材料費の増加により、配線基板にチップが実装されることにより構成される、例えば、携帯端末装置に搭載される複合モジュールの製造コストが増加する。また、チップのオーバーコート用の樹脂が硬化するときの熱収縮による配線基板の反りや、チップを覆う樹脂の影響でチップの放熱特性が劣化するという問題も生じる。
本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、配線基板と実装部品との接合信頼性、実装部品の耐衝撃特性および放熱特性それぞれに優れ、配線基板の反りを防止することができ、かつ、安価な複合モジュールを提供するとともに、この複合モジュールを容易に製造することができる製造方法を提供することを目的とする。
上記した目的を達成するために、本発明の複合モジュールは、配線基板上に平面視矩形状の実装部品が実装された複合モジュールにおいて、前記配線基板と前記実装部品との隙間に樹脂が充填されて形成された第1の樹脂層と、前記実装部品の少なくとも一の角部の外側面および前記一の角部の前記隙間からはみ出した前記第1の樹脂層を被覆して形成された第2の樹脂層とを備えることを特徴としている。
このようにすることで、実装部品の少なくとも一の角部における実装部品と配線基板との隙間からはみ出した第1の樹脂層が第2の樹脂層により補強されているため、実装部品の角部においてアンダーフィル用の樹脂により形成されるフィレットの樹脂量が少ない従来の複合モジュールと比較して、実装部品の接合信頼性を向上することができる。
また、実装部品の少なくとも一の角部の外側面が第2の樹脂層により被覆されているため、複合モジュールが落下した場合など、外部から衝撃が加わった場合のチッピングを防止することができ、複合モジュールの耐衝撃特性を向上することができる。
また、従来のチップがオーバーコートされる構成のように、実装部品と配線基板の実装面全体を樹脂により覆う構成ではないため、使用する樹脂量が少なく、複合モジュールの製造にかかるコストを抑制しつつ、実装部品の接合信頼性および耐衝撃性を確保することができる。また、実装部品と配線基板の実装面がオーバーコートされる構成と比較すると、樹脂の量を少なくできるため、樹脂硬化時の熱収縮による配線基板の反りを抑制するとともに、実装部品の放熱特性が劣化するのを防止することもできる。
また、第2の樹脂層を、実装部品の外側面および前記隙間からはみ出した前記第1の樹脂層を被覆して形成してもよい。このようにすることで、実装部品の全周に渡って前記隙間からはみ出した第1の樹脂層が第2の樹脂層により補強されるため、さらに実装部品の接合信頼性が向上する。また、実装部品の全ての外側面も保護されるため、さらに耐衝撃特性を向上することができる。
また、前記実装部品の上面と前記第2の樹脂層の上面とで平坦な面を形成していてもよい。この場合、第2の樹脂層の上面と第2の樹脂層の上面とが、いわゆる面一状態となるため、複合モジュールの低背化を図ることができる。
複合モジュールの製造方法は、平面視において矩形状の実装部品を配線基板上に実装する実装工程と、前記配線基板と前記実装部品との隙間に樹脂を充填して第1の樹脂層を形成する第1樹脂層形成工程と、矩形状の前記実装部品の少なくとも一の角部において、前記実装部品の上面側から樹脂を塗布して当該角部の外側面および前記隙間からはみ出した前記第1の樹脂層を被覆する第2の樹脂層を形成する第2樹脂層形成工程とを備えることを特徴としている。
このように複合モジュールを製造することにより、矩形状の実装部品の少なくとも一の角部において、実装部品の上面側から樹脂を塗布するだけで、当該角部の外側面および前記隙間からはみ出した第1の樹脂層を被覆する第2の樹脂層を形成することができるので、実装部品の接続信頼性および耐衝撃特性の優れた複合モジュールを容易に製造することができる。
また、前記第2樹脂層形成工程において、前記実装部品の上面側から樹脂を塗布することにより、前記実装部品の上面も被覆して前記第2の樹脂層を形成し、前記実装部品の上面に形成された前記第2の樹脂層とともに、前記実装部品の上面を研磨または研削する研磨・研削工程をさらに備えるようにしてもよい。
このように、第2の樹脂層とともに実装部品の上面を研磨または研削することで、実装部品の接合信頼性および耐衝撃特性の優れた複合モジュールの低背化を図ることができる。
また、前記第2の樹脂層を形成する樹脂が、前記第1の樹脂層を形成する樹脂よりも高い粘度を有することが好ましい。このようにすることで、粘度の低い樹脂により前記隙間への充填性を高めつつ、確実に実装部品の角部に第2の樹脂層を形成することができるため、さらに実装部品の接合信頼性および耐衝撃特性を向上することができる。
本発明によれば、実装部品の角部の外側面、および、角部において実装部品と配線基板との隙間からはみ出した第1の樹脂層が第2の樹脂層により被覆されているため、外部応力の集中しやすい実装部品の角部を補強でき、実装部品の接合信頼性および耐衝撃特性の優れた複合モジュールを提供することができる。
本発明の第1実施形態にかかる複合モジュールの断面図である。 図1の複合モジュールの製造方法の説明図である。 図2の第2樹脂層形成工程における樹脂塗布方法の説明図である。 本発明の第2実施形態にかかる複合モジュールの断面図である。 本発明の第3実施形態にかかる複合モジュールの平面図である。 本発明の第4実施形態にかかる複合モジュールの断面図である。 図6の第2樹脂層形成工程の説明図である。 従来技術の複合モジュールの配線基板の平面図である。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態にかかる複合モジュールについて、図1を参照して説明する。図1は本発明の一実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。
この実施形態における複合モジュール1は、表面および内部に配線パターン2などが形成された配線基板3と、配線基板3の実装面にフリップチップ実装されるとともに各種回路が形成された平面視矩形状のIC4や、整合回路の一部を形成するチップ部品(図示せず)と、そのIC4の能動面(半田バンプ5形成面)と配線基板3との隙間に充填された第1の樹脂層6と、IC4の外側面の全ておよび上記した隙間(IC4と配線基板3との隙間)からはみ出した第1の樹脂層を被覆する第2の樹脂層7とを備えるモジュールであり、その例として、Bluetooth(登録商標)モジュール、無線LANモジュールおよびアンテナ直下に配置されるアンテナスイッチモジュールなどが挙げられる。
配線基板3は、ガラスエポキシ樹脂基板、低温同時焼成セラミック基板(LTCC基板)、ガラス基板などで形成される。なお、これらの基板は単層基板、多層基板のいずれを使用してもよく、要求される実装密度などを考慮して適宜選択すればよい。
配線基板3の製造方法は、例えば、LTCC多層基板の場合、アルミナおよびガラスなどの混合粉末が有機バインダおよび溶剤などと一緒に混合されたスラリーがシート化されたセラミックグリーンシートを形成し、このセラミックグリーンシートの所定位置に、レーザー加工などによりビアホールが形成され、形成されたビアホールにAgやCuなどを含む導体ペーストが充填されて、層間接続用のビア導体が形成され、導体ペーストによる印刷により種々の電極パターンが形成される。その後、各セラミックグリーンシートを積層、圧着することによりセラミック積層体を形成して、約1000℃前後の低い温度で焼成する、所謂、低温焼成して製造される。
IC4は、各種回路が形成された半導体素子の能動面の電極上に略球状の半田(または、Au)バンプが形成されたフリップチップ実装部品であり、Bluetooth(登録商標)モジュールや無線LANモジュールの配線基板上に実装されるRF−ICや、アンテナスイッチモジュールの配線基板上に実装されるスイッチIC、SAWフィルタ、SAWデュプレクサなどがこれに当たる。なお、IC4は、平面視矩形状である一般的なチップ形状を有する。
IC4は、周知のフリップチップ実装方式を使用して実装する。例えば、半田バンプ5の場合、配線基板3の実装面の所定位置にフラックスを転写または塗布し、その位置にIC4の能動面(バンプ形成面)を下にして、ダイマウンタなどを使用してIC4を搭載する。そして、リフロー炉で半田を溶融して配線基板3上に形成された実装電極8と接合させることにより実装する。
この実装方式は、実装エリアがIC4のチップサイズと同等であるため、実装面積が小さくできること、IC4と配線基板3との接続配線の長さが短いため、IC4が実装された後の配線基板3の電気的特性が優れていること、複数の電極8の一括接続が可能であるため製造方法が簡易であり、複合モジュール1の製造コストが低減できるなどの利点を有する。
第1の樹脂層6は、IC4の回路面(能動面)およびIC4と配線基板3との接続部を保護するためのもので、エポキシ樹脂やシアネートなどの周知の封止樹脂で形成される。なお、第1の樹脂層6を形成する樹脂は、IC4と配線基板3との隙間への充填性を考慮して、粘度の低い樹脂を使用するのが好ましい。
第2の樹脂層7は、IC4の外側面の保護、および、IC4と配線基板3との接続部を保護する第1の樹脂層6を補強するためのもので、図1に示すように、IC4の外側面およびIC4と配線基板3との隙間からはみ出した第1の樹脂層6を被覆して形成される。なお、第2の樹脂層7は、第1の樹脂層6を形成する樹脂と同様に、エポキシ樹脂やシアネートなどの周知の封止樹脂で形成される。この場合、第2の樹脂層7をIC4の外側面に確実に形成するために、第2の樹脂層は、第1の樹脂層を形成する樹脂よりも粘度の高い樹脂を使用してもよい。
また、図1では、第2の樹脂層7が上記した隙間からはみ出した第1の樹脂層6の一部のみを被覆した状態で形成されているが、当該隙間からはみ出した第1の樹脂層6の全体を被覆するように第2の樹脂層7を形成してもよい。このようにすることで、IC4と配線基板3との接続部をより確実に保護することができる。また、図1では、第2の樹脂層7がIC4の上面の一部を被覆した状態で形成されているが、第2の樹脂層7は必ずしもIC4の上面を被覆した状態で形成しなくてもよい。
(製造方法)
この実施形態にかかる複合モジュール1の製造方法について、図2を参照して説明する。
図2(a)に示すように、まず、配線基板3の実装面に平面視において矩形状のIC4を所定の位置に実装する(実装工程)。なお、IC4は、上記したフリップチップ実装方式により実装する。
次に、図2(b)に示すように、IC4と配線基板3との隙間に樹脂を充填することにより、第1の樹脂層6を形成する(第1樹脂層形成工程)。この場合、ディスペンス方式などを使用して、IC4の側面に沿うように樹脂を塗布することにより、IC4の一側面側から樹脂を流し込み、当該隙間全体に樹脂を充填する。なお、第1の樹脂層6を形成する樹脂の粘度が高い場合など、樹脂を充填しにくい場合は、配線基板3に熱を与えて樹脂の粘度を下げて充填すればよい。
次に、図2(c)に示すように、IC4の外側面および配線基板3とIC4との隙間からはみ出した第1の樹脂層6を被覆する第2の樹脂層7を形成する(第2樹脂層形成工程)。この場合、IC4の上面とディスペンサのノズルの先端との間にある程度のクリアランスを確保した状態で、図3に示すように、IC4の上面側から、IC4の各辺に沿うようにディスペンサを移動(図中の矢印参照)しながら樹脂を塗布する。なお、IC4の外側面にも樹脂が流れるようするために、例えば、ディスペンサの押圧によりノズルから押し出された樹脂の一部が、平面視でIC4の各辺の外側に位置するように、ディスペンサのノズルの先端位置を調整して塗布する。
最後に、第1の樹脂層6および第2の樹脂層7を形成する樹脂を同時に硬化させて複合モジュール1を製造する。なお、樹脂の硬化は、それぞれ個別に行ってもよい。この場合、第1樹脂層形成工程および第2樹脂層形成工程それぞれの後に、樹脂硬化工程を加えることになる。
したがって、上記した実施形態によれば、IC4の全周に渡って配線基板3とIC4との隙間からはみ出した第1の樹脂層6が第2の樹脂層7により補強されるため、IC4の角部において第1の樹脂層により形成されるフィレットの樹脂量が少ない従来の複合モジュールと比較して、IC4と配線基板3との接合信頼性を向上することができる。
また、IC4の外側面の全体が第2の樹脂層7により被覆されているため、複合モジュール1が落下した場合など、外部から衝撃が加わった場合のチッピングを防止することができ、複合モジュール1の耐衝撃特性を向上することができる。
また、従来のIC4および配線基板3の実装面がオーバーコートされる構成のように、IC4と配線基板3の実装面全体を樹脂により覆う構成ではないため、使用する樹脂量が少なく、複合モジュール1の製造にかかるコストを抑制しつつ、IC4の接合信頼性および耐衝撃性を確保することができる。また、IC4と配線基板3の実装面がオーバーコートされる構成と比較すると、配線基板3の実装面およびIC4の上側に形成される樹脂の量を少なくできるため、樹脂硬化時の熱収縮による配線基板3の反りを抑制するとともに、IC4の放熱特性が劣化するのを防止することもできる。
また、IC4の上面側から樹脂を塗布するだけで、IC4の外側面および配線基板3とIC4との隙間からはみ出した第1の樹脂層6を被覆する第2の樹脂層7を形成することができるので、IC4の接続信頼性および耐衝撃特性の優れた複合モジュール1を容易に製造することができる。
また、第2の樹脂層7を、第1の樹脂層6を形成する樹脂よりも粘度の高い樹脂で形成する場合、第1の樹脂層6においては、粘度の低い樹脂により配線基板3とIC4との隙間への充填性を確保できるとともに、第2の樹脂層7においては、粘度の高い樹脂により確実にIC4の外側面に第2の樹脂層を形成することができるため、さらにIC4の接合信頼性および耐衝撃特性を向上することができる。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態にかかる複合モジュール1aについて、図4を参照して説明する。なお、図4は複合モジュール1aの断面図である。
この実施形態にかかる複合モジュール1aが、図1を参照して説明した第1実施形態の複合モジュール1と異なるところは、図4に示すように、IC4の上面に第2の樹脂層7が形成されていない点と、第2の樹脂層7の上面とIC4の上面とで平坦な面を形成する、いわゆる、面一状態になっている点である。その他の構成は、第1実施形態と同じであるので、同一符号を付すことにより説明を省略する。
この場合、図2を参照して説明した複合モジュール1の製造方法において、第1および第2の樹脂層6,7の樹脂を硬化した後(図2(c)参照)、さらに、IC4の上面に形成された第2の樹脂層7とともに、IC4の上面を研磨または研削することにより(研磨・研削工程)、複合モジュール1aを製造する。
このように、第2の樹脂層7とともに、IC4の上面を研磨または研削することで、IC4の接合信頼性および耐衝撃特性の優れた複合モジュール1aの低背化を図ることができる。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態にかかる複合モジュール1bについて、図5を参照して説明する。なお、図5は複合モジュール1bの平面図である。
この実施形態にかかる複合モジュール1bが、図1を参照して説明した第1実施形態の複合モジュール1と異なるところは、図5に示すように、第2の樹脂層7がIC4の外側面全体を被覆する構成ではなく、IC4の四つの角部のみを被覆している点である。その他の構成は、第1実施形態と同じであるので、同一符号を付すことにより説明を省略する。
この場合、第2樹脂層形成工程で、IC4の各角部それぞれにおいて、IC4の上面側から、ディスペンサの押圧によりノズルから押し出された樹脂の一部がIC4の各角部の外側面に流れる位置にディスペンサのノズルの先端位置を調整して樹脂を塗布することにより、各角部それぞれのIC4の上面および外側面、配線基板3とIC4との隙間からはみ出したIC4の各角部の第1の樹脂層を被覆する。なお、この実施形態でも、図4を参照して説明した第2実施形態のように、第2の樹脂層7を硬化させた後、IC4の上面の第2の樹脂層7およびIC4の上面を研磨または研削して複合モジュール1bの低背化を図ってもよい。
このように構成することにより、外部からの応力が集中しやすいIC4の各角部が第2の樹脂層7により保護されるため、効果的にIC4の接合信頼性および耐衝撃特性を向上することができる。
また、第1実施形態にかかる複合モジュール1のように、IC4の外側面全体を第2の樹脂層により被覆していないため、第2の樹脂層7を形成する樹脂の総量を減らすことができ、複合モジュール1bの製造コストの低減を図ることができる。また、第2の樹脂層の形成が、IC4の四つの角部のみの樹脂の塗布で済むため、複合モジュール1bの製造時間の短縮を図ることもできる。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態にかかる複合モジュール1cについて、図6を参照して説明する。なお、図6は複合モジュール1cの断面図である。
この実施形態にかかる複合モジュール1cが、図1を参照して説明した第1実施形態の複合モジュール1と異なるところは、図6に示すように、第2の樹脂層7がIC4の外側面全体のみならずIC4の上面も被覆している点である。その他の構成は、第1実施形態と同じであるので、同一符号を付すことにより説明を省略する。
第2の樹脂層7に粘度の低い樹脂を使用する場合には、第2樹脂層形成工程において、図7(a)に示すように、まず、IC4の上面側からIC4の中心付近に樹脂を塗布すると、ディスペンサの押圧によりIC4の上面から外側面に渡って樹脂が広がり、第2の樹脂層が形成され、図7(b)に示すように、IC4の上面および外側面、配線基板3とIC4との隙間からはみ出した第1の樹脂層6が第2の樹脂層7により被覆される。
なお、この実施形態でも、第2実施形態のように、第2の樹脂層7を硬化させた後、IC4の上面の第2の樹脂層7およびIC4の上面を研磨または研削して複合モジュール1cの低背化を図ってもよい。
このように、第2の樹脂層7を形成すると、樹脂の塗布がIC4の上面の中心一点のみで済むため、複合モジュール1cの製造時間の短縮を図ることができる。
なお、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。
例えば、上記した各実施形態において、配線基板3に実装された実装部品および実装面をシールドする金属ケースをさらに備えるようにしてもよい。このようにすることで、IC4の耐衝撃特性を向上することができるとともに、外部ノイズを遮断することができる。
1,1a,1b,1c 複合モジュール
3 配線基板
4 IC(実装部品)
6 第1の樹脂層
7 第2の樹脂層

Claims (6)

  1. 配線基板上に平面視矩形状の実装部品が実装された複合モジュールにおいて、
    前記配線基板と前記実装部品との隙間に樹脂が充填されて形成された第1の樹脂層と、
    前記実装部品の少なくとも一の角部の外側面および前記一の角部の前記隙間からはみ出した前記第1の樹脂層を被覆して形成された第2の樹脂層と
    を備えることを特徴とする複合モジュール。
  2. 前記第2の樹脂層は、前記実装部品の外側面および前記隙間からはみ出した前記第1の樹脂層を被覆して形成されることを特徴とする請求項1に記載の複合モジュール。
  3. 前記実装部品の上面と前記第2の樹脂層の上面とで平坦な面を形成していることを特徴とする請求項1または2に記載の複合モジュール。
  4. 平面視において矩形状の実装部品を配線基板上に実装する実装工程と、
    前記配線基板と前記実装部品との隙間に樹脂を充填して第1の樹脂層を形成する第1樹脂層形成工程と、
    矩形状の前記実装部品の少なくとも一の角部において、前記実装部品の上面側から樹脂を塗布して当該角部の外側面および前記隙間からはみ出した前記第1の樹脂層を被覆する第2の樹脂層を形成する第2樹脂層形成工程と、
    を備えることを特徴とする複合モジュールの製造方法。
  5. 前記第2樹脂層形成工程において、前記実装部品の上面側から樹脂を塗布することにより、前記実装部品の上面も被覆して前記第2の樹脂層を形成し、
    前記実装部品の上面に形成された前記第2の樹脂層とともに、前記実装部品の上面を研磨または研削する研磨・研削工程をさらに備える
    ことを特徴する請求項4に記載の複合モジュールの製造方法。
  6. 前記第2の樹脂層を形成する樹脂が、前記第1の樹脂層を形成する樹脂よりも高い粘度を有することを特徴とする請求項4または5に記載の複合モジュールの製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018038134A1 (ja) * 2016-08-23 2018-03-01 株式会社村田製作所 回路モジュール

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001118968A (ja) * 1999-10-19 2001-04-27 Citizen Watch Co Ltd 半導体装置
JP2002184796A (ja) * 2000-12-14 2002-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2004281899A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Seiko Epson Corp 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
JP2010177388A (ja) * 2009-01-29 2010-08-12 Panasonic Corp 半導体装置及びその製造方法
JP2011210759A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd 半導体装置及び半導体装置の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001118968A (ja) * 1999-10-19 2001-04-27 Citizen Watch Co Ltd 半導体装置
JP2002184796A (ja) * 2000-12-14 2002-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2004281899A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Seiko Epson Corp 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
JP2010177388A (ja) * 2009-01-29 2010-08-12 Panasonic Corp 半導体装置及びその製造方法
JP2011210759A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd 半導体装置及び半導体装置の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018038134A1 (ja) * 2016-08-23 2018-03-01 株式会社村田製作所 回路モジュール
US11049821B2 (en) 2016-08-23 2021-06-29 Murata Manufacturing Co., Ltd. Circuit module

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