JP2013174020A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 基板を載置可能であり、かつ第１回転軸回りに回転可能な第１ステージと、前記第１ステージの前記第１回転軸とずらして設けられた第２回転軸回りに回転可能な第２ステージと、前記第１ステージを前記第１回転軸回りに回転させる自転運動手段と、前記第２ステージを前記第２回転軸回りに回転させることにより、前記第１ステージを前記第２回転軸回りに公転させる公転運動手段と、を有する基板ホルダと、
   前記基板に対して、特定の方向の磁界を供給するための、前記第２ステージの周りに設置された磁界供給手段と、
   前記基板に成膜するためのターゲットを載置するターゲット載置台と、を備えたスパッタ装置であって、
   前記自転運動手段は、前記公転運動手段の回転に対して逆方向に前記第１ステージを回転させ、
   前記第１ステージの回転速度は前記公転運動手段の回転速度と等しく、
   前記磁界供給手段から前記基板に対して供給される磁界の前記特定の方向が維持されることを特徴とするスパッタ装置。
2. 前記自転運動手段の回転角度の情報を検出するための第１検出機構と、
   前記公転運動手段の回転角度の情報を検出するための第２検出機構と、
   前記第１検出機構および前記第２検出機構のそれぞれによって検出された前記回転角度の情報に基づいて、前記自転運動手段の回転運動及び前記公転運動手段の回転運動を制御する制御手段と、
   を更に備えることを特徴とする請求項１に記載のスパッタ装置。
3. 前記自転運動手段は、
   第１端部が固定されている固定軸と、
   前記固定軸の第２端部に設けられている第１ギアと、
   前記第１回転軸に設けられ、前記第１ギアと接続された第２ギアと、を備え、
   前記第１ギアと前記第２ギアとの歯数比は、１：１であることを特徴とする請求項１に記載のスパッタ装置。
4. 前記ターゲット載置台は、前記基板に対して、ターゲット粒子が斜めに入射するように配置されていることを特徴とする請求項１に記載のスパッタ装置。
5. 前記第２ステージは、当該第２ステージの面内に、前記第１ステージを嵌め込むための窪みが設けられていることを特徴とする請求項１に記載のスパッタ装置。
6. 前記公転運動手段は、
   駆動伝達軸と、
   前記駆動伝達軸と噛み合い、前記駆動伝達軸の回転運動を前記第２ステージに伝達するための第３ギアを外周部に有する部材と、
   を備えることを特徴とする請求項３に記載のスパッタ装置。
7. 前記部材は、ベアリングを介して、前記固定軸の回りを回転可能に支持されていることを特徴とする請求項６に記載のスパッタ装置。
8. 前記磁界供給手段は、電磁石であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のスパッタ装置。
9. 前記磁界供給手段は、前記第２ステージの全面にわたって磁界を供給するものであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のスパッタ装置。
10. 前記ターゲット載置台は、前記第１ステージの前記基板が載置される面に対して非平行に配置されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のスパッタ装置。